DE2426868C3 - Dielectric lead glass of the system PbO-B deep 2 O deep 3 -SiO deep 2 -Al deep 2 O deep 3 as a base for crack-free MgO coatings in gas discharge data display devices - Google Patents

Dielectric lead glass of the system PbO-B deep 2 O deep 3 -SiO deep 2 -Al deep 2 O deep 3 as a base for crack-free MgO coatings in gas discharge data display devices

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DE2426868C3 DE19742426868 DE2426868A DE2426868C3 DE 2426868 C3 DE2426868 C3 DE 2426868C3 DE 19742426868 DE19742426868 DE 19742426868 DE 2426868 A DE2426868 A DE 2426868A DE 2426868 C3 DE2426868 C3 DE 2426868C3
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Thomas Albert West Hurley; Tummala Rao Ramamohana Wappingers Falls; N.Y. Sherk (V.St.A.)
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Description

»it der Bedingung: CaO und/oder MgO mindestens 3.»With the condition: CaO and / or MgO at least 3.

2. Glas nach Anspruch 1, gekennzeichnet ao durch 3,0 bis 8,4 Gewichtsprozent CaO + MgO.2. Glass according to claim 1, characterized by ao 3.0 to 8.4 percent by weight CaO + MgO.

3. Glas nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß bei 7,8 bis 13,6 Gewichtsprozent SiO2 der Anteil des MgO 0,4 Gewichtsprozent beträgt. a53. Glass according to claim 1 or 2, characterized in that at 7.8 to 13.6 percent by weight SiO 2, the proportion of MgO is 0.4 percent by weight. a 5

4. Glas nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch 11,0 bis 13,6 Gewichtsprozent SiO2 und 13,6 bis 18,4 Gewichtsprozent B2O3.4. Glass according to one of claims 1 to 3, characterized by 11.0 to 13.6 percent by weight SiO 2 and 13.6 to 18.4 percent by weight B 2 O 3 .

5. Glas nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch 62,4 bis 66,6 Gewichtsprozent PbO und 0,0 bis 3,0 Gewichtsprozent MgO.5. Glass according to one of claims 1 to 4, characterized by 62.4 to 66.6 percent by weight PbO and 0.0 to 3.0 weight percent MgO.

6. Glas nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Bestandteile in Gewichtsprozent:6. Glass according to claim 1, characterized by the following components in percent by weight:

PbO 62,4 bis 66,0PbO 62.4 to 66.0

B2O3 16,0 bis 18,4B 2 O 3 16.0 to 18.4

SiO2 11,0 bis 13,0SiO 2 11.0 to 13.0

Al2O3 0,2Al 2 O 3 0.2

CaO 2,2 bis 5,4CaO 2.2-5.4

MgO 2,2 bis 3,0MgO 2.2 to 3.0

7. Glas nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch folgende Bestandteile in Gewichtsprozent:7. Glass according to claim 6, characterized by the following components in percent by weight:

4545

PbO 66PbO 66

B2O3 18,4B 2 O 3 18.4

SiO2 11,0SiO 2 11.0

CaO 2,2CaO 2.2

MgO 2,2MgO 2.2

8. Glas nach Anspruch 6,gekennzeichnet durch folgende Bestandteile in Gewichtsprozent:8. Glass according to claim 6, characterized by the following components in percent by weight:

PbO 64,4PbO 64.4

B2O3 17,0B 2 O 3 17.0

SiO2 12,0SiO 2 12.0

CaO 3,4CaO 3.4

MgO 3,0MgO 3.0

9. Glas nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch folgende Bestandteile in Gewichtsprozent:9. Glass according to claim 6, characterized by the following components in percent by weight:

PbO 63,4PbO 63.4

B2O3 17,0B 2 O 3 17.0

SiO2 13,0SiO 2 13.0

CaO 4,4CaO 4.4

MeO 3,0MeO 3.0

10. Glas nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch folgende Bestandteile in Gewichtsprozent:10. Glass according to claim 6, characterized by the following components in percent by weight:

PbO 62,4PbO 62.4

B2O3 16,0B 2 O 3 16.0

SiO2 13,0SiO 2 13.0

CaO 5,4CaO 5.4

MgO 3,0MgO 3.0

Zur Herstellung von Gasentladungs-Datensichtgeräten dienende Glassubstrate können oberhalb der die Elektroden darstellenden Leitungszüge mit einer einen Magnesiumoxidüberzug tragenden dielektrischen Schicht versehen sein. Bei Anwendung bekannter Herstellungsverfahren zum Versiegeln beider Glassubstrate für die Gasentladungsgefäßbildung tritt in der Magnesiumoxidüberzugsschicht die Tendenz auf, rissig zu werden, d. h., es entstehen mikroskopisch feine Risse. Dies ist natürlich unerwünscht, da dieser Effekt zu Änderungen der Gaszusammensetzung innerhalb des Gasentladungsgefäßes führen kann.For the production of gas discharge data display devices serving glass substrates can above the the conductors representing the electrodes with a dielectric bearing a magnesium oxide coating Be provided with a layer. Using known manufacturing processes to seal both Glass substrates for gas discharge vessel formation tends to occur in the magnesia coating layer to crack, d. That is, microscopic cracks appear. This is of course undesirable since this effect leads to changes in the gas composition within the gas discharge vessel can.

In erster Linie besteht deshalb die Aufgabe der Erfindung darin, dielektrische Glassorten bereitzustellen, deren Eigenschaften so ausgebildet sind, daß eine hierauf angebrachte Magnesiumoxidüberzugsschicht nicht zur Rissebildung, auch nicht in mikroskopischer Feinheit, tendiert, wenn derart gestaltete Glassubstrate einem nachfolgenden Aufheizschritt ausgesetzt werden. Im speziellen besteht diese Aufgabe darin, dielektrische Gläser bereitzustellen, bei denen die Temperatur zur Auslösung von Rissebildung höher liegt als die Temperatur, bei die entsprechenden Glassubstrate weiterbehandelt werden sollen.In the first place, therefore, the object of the invention is to provide dielectric types of glass, the properties of which are such that a magnesium oxide coating layer is provided thereon does not tend to form cracks, not even in microscopic fineness, if designed in this way Glass substrates are subjected to a subsequent heating step. In particular, there is this task is to provide dielectric glasses at which temperature is used to initiate cracking is higher than the temperature at which the corresponding glass substrates are further treated should.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß das Glassystem zur Verwendung als Unterlage für rissefreie MgO-Überzüge in Gasentladungs-Datensichtgeräten folgende Zusammensetzung in Gewichtsprozenten aufweist:According to the invention this object is achieved in that the glass system can be used as a base for crack-free MgO coatings in gas discharge data display devices, the following composition in Has weight percent:

PbO 62,4 bis 69,6PbO 62.4 to 69.6

B2O3 13,6 bis 20,0B 2 O 3 13.6 to 20.0

SiO2 5,8 bis 13,6SiO 2 5.8 to 13.6

Al2O3 0,2 bis 1,0Al 2 O 3 0.2 to 1.0

CaO 0,0 bis 6,0CaO 0.0 to 6.0

MgO 0,0 bis 5,0MgO 0.0 to 5.0

mit der Bedingung: CaO und/oder MgO mindestens 3. Neben den gemäß der Aufgabe vorgesehenen Eigenschaften besitzen die erfindungsgemäßen Gläser außerdem noch die folgenden:with the condition: CaO and / or MgO at least 3. In addition to those provided for in the task The glasses according to the invention also have the following properties:

eine Unstetigkeitsstelle in der Viskositäts-Temperaturkurve, so daß das erfindungsgemäße Dielektrikum bis auf eine Temperatur unterhalb der Temperatur der beginnenden Erweichung des Glassubstrats aufgeheizt werden kann,
einen Ausdehnungs-Koeffizienten, der eng an den des Substrates angepaßt ist,
leichte Fließfähigkeit in blasenfreie Filmschichten, die geringe oder überhaupt keine Tendenzen zur Kristallisation aufweisen, und
gute chemische Beständigkeit.
a point of discontinuity in the viscosity-temperature curve, so that the dielectric according to the invention can be heated to a temperature below the temperature at which the glass substrate begins to soften,
an expansion coefficient that is closely matched to that of the substrate,
easy flowability into bubble-free film layers that have little or no tendency to crystallize, and
good chemical resistance.

Wenn das dielektrische Glas gemäß der Erfindung bei Herstellungsverfahren für Gasentladungs-Datensichtgeräten verwendet wird, ist zu berücksichtigen, daß das Glassubstrat, auf welches das dielektrischeWhen the dielectric glass according to the invention is used in manufacturing processes for gas discharge data display devices is used, it must be taken into account that the glass substrate on which the dielectric

\ 24 \ 24

^^ 33

Glas aufgetragen werden soll, in typsicher Weise aus einem Na2O— CaO — SiO2-GIaS mit hinein Ausdehnungs-Koeffizienten von etwa 92 · 10~7/° C beim Erstarrungspunkt des dielektrischen Glases (angenähert 440° C) besteht. Aus diesem Grunde also sollte das dielektrische Glas auch einen Ausdehnungs-Koeffizienten 90 bis 94 bei seinem Erstarrungspunkt besitzen. Dies entspricht dann einem Ausdehnungs-Koeffizienten von angenähert 80 bis 84 im Temperaturbereich von Raumtemperatur (angenähert 22° C) bis 300c C.Glass is to be applied, typically consists of a Na 2 O — CaO — SiO 2 -GIaS with expansion coefficients of about 92 · 10 ~ 7 / ° C at the solidification point of the dielectric glass (approximately 440 ° C). For this reason, the dielectric glass should also have an expansion coefficient of 90 to 94 at its solidification point. This then corresponds to an expansion coefficient of approximately 80 to 84 in the temperature range from room temperature (approximately 22 ° C) to 300 c C.

Besonders vorteilhafte dielektrische Gläser bestehen gemäß einer Weiterbildung der Erfindung aus folgenden wesentlichen Bestandteilen iü Gewichtsprozent: According to a development of the invention, particularly advantageous dielectric glasses consist of the following essential components in percent by weight:

PbO 62,4 bis 66,0PbO 62.4 to 66.0

SiO2 11,0 bis 13,0SiO 2 11.0 to 13.0

B2O3 16,0 bis 18,4B 2 O 3 16.0 to 18.4

Al2O3 0,2Al 2 O 3 0.2

MgO 2,2 bis 3,0MgO 2.2 to 3.0

CaO 2,2 bis 5,4CaO 2.2-5.4

Ein wesentlicher Vorteil der Erfindung besteht darin, daß bei Anwendung dielektrischer Gläser, wie oben beschrieben, eine Magnesiumoxidüberzugsschicht überhaupt nicht zu Rissigkeit neigt, wenn nicht äußerst hohe Temperaturen angewendet werden. Dies ist jedoch bei normalen Herstellungsverfahren ausgeschlossen. Bei Gläsern, deren Bestandteile, wie oben angegeben, gewählt sind, ist die Temperatur zur Auslösung von Rissebildung (485° C und darüber) höher als die Temperatur, die normalerweise angewendet wird, um Glasplatten als Substrate rur Herstellung von Gasentladungs-Datensichtgeräten zu versiegeln (etwa bei ^70 bis 480° C), wobei bekannte Versiegelungsgläser für diesen Herstellungsverfahrensschritt Anwendung finden.A major advantage of the invention is that when using dielectric glasses, such as described above, a magnesia coating layer is not prone to cracking at all, if extremely high temperatures are not used. However, this is with normal manufacturing processes locked out. In the case of glasses, the components of which are selected as indicated above, the Temperature to initiate cracking (485 ° C and above) higher than the temperature that is normally used is applied to glass plates as substrates for the manufacture of gas-discharge data display devices to seal (about at ^ 70 to 480 ° C), whereby known sealing glasses are used for this manufacturing process step.

Zusätzlich ergeben sich bei den erfindungsgemäßen dielektrischen Gläsern noch folgende vorteilhafte Eigenschaften:In addition, the dielectric glasses according to the invention result in the following advantageous ones Characteristics:

Sie lassen sich bis unterhalb der beginnenden Erweichungstemperatur der Substrate aufheizen; ihr Ausdehnungs-Koeffizient liegt zienilich in der Nähe des der Substrate; sie fließen leicht in gleichmäßige blasenfreie Filme aus mit keiner oder nur geringer Tendenz zur Kristallisation, und es ergibt sich außerdem eine gute chemische Beständigkeit, die eine Voraussetzung für die Lebensdauer darstellt.They can be heated to below the starting softening temperature of the substrates; her Expansion coefficient is pretty close to that of the substrates; they flow easily in uniform bubble-free films with little or no tendency to crystallize, and it also results good chemical resistance, which is a prerequisite for service life.

Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen und aus den Patentansprüchen.Further advantages of the invention emerge from the following description of exemplary embodiments and from the claims.

Alle für die Erfindung in Betracht kommenden Glassorten enthalten Bestandteile, die innerhalb der Bereiche liegen, wie sie in der nachstehenden Tabelle genannt sind. Weiterhin ist in jeder Glassorte mindestens 3 Gewichtsprozent CaO und/oder MgO enthalten. All types of glass that can be considered for the invention contain components within the Ranges as listed in the table below. Furthermore, there is at least in every type of glass Contains 3 percent by weight CaO and / or MgO.

GewichtsprozentWeight percent

PbO 62,4 bis 69,6PbO 62.4 to 69.6

SiO2 5,8 bis 13,6SiO 2 5.8 to 13.6

B2O3 13,6 bis 2,0B 2 O 3 13.6 to 2.0

Al2O3 0,2 bis 1,0Al 2 O 3 0.2 to 1.0

MgO O bis 5MgO O to 5

CaO O bis 6 6j CaO O up to 6 6y

In der nachfolgenden Beschreibung von vier Beispielen für dielektrische Gläser ist ihre besondere Eignung zur Auftragung auf Glasiiubstrate von Gas-868 In the following description of four examples of dielectric glasses, their specialty is Suitability for application on glass substrates of Gas-868

entladungs-Datensichtgeräten hervorzuheben, wobei Glassubstrate Verwendung finden, die einen Ausdehnungs-Koeffizienten TK von 82 .· 10-'/° C (20 bis 300° C) besitzen.Discharge data display devices to be emphasized, where glass substrates are used, which have an expansion coefficient TK of 82.10 - '/ ° C (20 to 300 ° C).

Tabelle 1Table 1 Beispielexample

ι H m ivι H m iv

GewichtsprozentWeight percent

PbO 66 64,4 63,4 62,4PbO 66 64.4 63.4 62.4

SiO2 11 12 12 13SiO 2 11 12 12 13

B2O3 18,4 17 17 16B 2 O 3 18.4 17 17 16

AUO3 0,32 0,2 0,2 0,2AUO 3 0.32 0.2 0.2 0.2

MgO 2,2 3 3 3MgO 2.2 3 3 3

CaO 2,2 3,4 4,4 5,4CaO 2.2 3.4 4.4 5.4

TK (20 bis 82 82-7 83 83 300° C)TK (20 to 82 82-7 83 83 300 ° C)

Tmo 485 496 497 505 T mo 485 496 497 505

Triss = Temperatur in 0C bei Auslösung der Rissebildung (Haarrisse). Triss = temperature in 0 C when the formation of cracks (hairline cracks) is triggered.

Es wird darauf hingewiesen, daß die Gläser der Beispiele I bis IV alle einen Ausdehnungs-Koeffizienten aufweisen, der verträglich ist mit dem des Glassubstrats. Es ist außerdem von großer Bedeutung, daß bei Verwendung solcher Glassorten die Temperatur, bei der Risse in der Magnesiumoxidschicht eintreten, zwischen 485 und 505° C liegt. Dies liegt aber weit oberhalb der Temperaturen, die normalerweise Verwendung finden, um Glaspanele zusammenzuschweißen, was nämlich zwischen 470 und 480° C geschieht, so daß keine Risse während des Herstellungsverfahrens auftreten können. Die vier bevorzugten Glassorten enthalten sämtlich Bestandteile, die innerhalb folgender Bereiche liegen:It should be noted that the glasses of Examples I to IV all have a coefficient of expansion have, which is compatible with that of the glass substrate. It is also of great importance that when using such types of glass the temperature at which cracks in the magnesium oxide layer occur, between 485 and 505 ° C. But this is far above the temperatures that normally used to weld glass panels together, namely between 470 and 480 ° C happens so that no cracks can occur during the manufacturing process. The four preferred types of glass all contain ingredients that are within the following ranges:

GewichtsprozentWeight percent

PbO 62,4 bis 66,0PbO 62.4 to 66.0

SiO2 11,0 bis 13,0SiO 2 11.0 to 13.0

B2O3 16,0 bis 18,4B 2 O 3 16.0 to 18.4

Al2O3 0,2Al 2 O 3 0.2

MgO 2,2 bis 3,0MgO 2.2 to 3.0

CaO 2,2 bis 5,4CaO 2.2-5.4

Die Beispiele V bis VII sind drei dielektrische Glassorten, die mannigfache Vorteile bieten:Examples V to VII are three types of dielectric glass that offer many advantages:

Tabelle 2Table 2 Beispielexample VIVI 68,668.6 VIIVII VV (Gewichtsprozent)(Weight percent) 13,613.6 66,666.6 13,613.6 68,668.6 13,613.6 0,20.2 13,613.6 PbOPbO 13,613.6 4,04.0 13,613.6 SiOoSiOo 0,20.2 0,00.0 0,20.2 B2O3 B 2 O 3 0,00.0 81,681.6 0,00.0 Al2O3 Al 2 O 3 6,06.0 472472 4,04.0 MgOMgO 8686 84,884.8 CaOCaO 482482 470470 TK (20 bis 3000C)TK (20 to 300 0 C) TrisSTrisS

Die Glassorten der Beispiele V bis Vli sind etwas weniger wünschenswert beim bevorzugten Herstel-The types of glass of Examples V to Vli are something less desirable in the preferred manufacturing

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lungsverfahren für Gasentladungs-Datensichtgeräte als die Glassorten der Beispiele I bis IV, da der TK zu hoch ist, wie im Beispiel V, und da außerdem die Temperatur zur Einhaltung der kißbüdung zu nahe an der Verarbeitungstemperatur zum Versiegeln von Glassubstraten liegt (Beispiel VI oder VIII. Die Beispiele IV bis VII könnten jedoch von wesentlichem WfJt im Herstellungsverfahren sein, wo das Substrat einen höheren TK besitzt oder wo zu beschichtende. Substrate nicht Temperaturen mit einer Höhe von angenähert 470° C ausgesetzt werden. Die Beispiele I bis VII lassen sich auf dielektrische Glassorten beschränken, die im wesentlichen folgende Bestandteilsanteile enthalten:treatment method for gas discharge data display devices than the types of glass of Examples I to IV, since the TK is too high, as in Example V, and, in addition, the temperature is too close to maintain the Kißbüdung is due to the processing temperature for sealing glass substrates (Example VI or VIII. The Examples IV through VII could, however, be of significant WfJt in the manufacturing process where the Substrate has a higher TK or where to be coated. Substrates do not have temperatures with a Exposed to a height of approximately 470 ° C. Examples I to VII can be applied to types of dielectric glass restrict, which essentially contain the following components:

15 Gewichtsprozent 15 percent by weight

PbO 62,4 bis 68,6PbO 62.4 to 68.6

SiO2 11,0 bis 13,6SiO 2 11.0 to 13.6

B2O3 13,6 bis 18,4B 2 O 3 13.6 to 18.4

Al2O3 0,2 bis 1,0Al 2 O 3 0.2 to 1.0

MgO 0,0 bis 4,0MgO 0.0 to 4.0

CaO 0,0 bis 6,0CaO 0.0 to 6.0

In den Beispielen VIII bis X ergeben sich Temperaturen zur Einleitung der Rißbildung, die unterhalb der Temperatur von 470° C liegen, welche zum Versiegeln von Glassubstraten zu einem Panel dient. Doch könnten solche Glassorten von wesentlichem Wert in einem Herstellungsverfahren sein, bei denen 3" diese Temperaturgrenzen nicht überschritten wird. Es sei weiterhin darauf hingewiesen, daß das Beispiel X einen TK-Wert aufweist, der oberhalb des bevorzugten Bereiches, wie oben beschrieben, liegt. Dieses könnte aber gut auf einem Substrat Anwendung finden, das einen etwas höheren TK-Wert als das oben angegebene Substrat hat.In Examples VIII to X temperatures result to initiate cracking, which are below the temperature of 470 ° C, which for Sealing of glass substrates to a panel is used. But such types of glass could be of essential importance Value in a manufacturing process where 3 " these temperature limits are not exceeded. It should also be noted that the example X has a TK value which is above the preferred range as described above. However, this could well be used on a substrate that has a slightly higher TK value than has the substrate given above.

Tabelle 3Table 3

Beispielexample IXIX 69,069.0 XX VIIIVIII GewichtsprozentWeight percent 7,87.8 69,669.6 20,020.0 69,069.0 PbOPbO 13,613.6 0,20.2 5,85.8 SiO2 SiO 2 13,613.6 3,03.0 20,020.0 BABA 0,20.2 0,00.0 0,20.2 Al2O3 Al 2 O 3 3,03.0 82,682.6 5,05.0 MgOMgO 0,00.0 460460 0,00.0 CaOCaO 82,282.2 8585 TK (O bis 300° C)TK (O to 300 ° C) 465465 455455 TrissTriss

Obgleich einige dieser Beispiele dielektrischer Glassorten, wie oben beschrieben, nicht uneingeschränkt für einen Gebrauch im Herstellungsverfahren geeignet sind, die Glassubstrate mit einem Ausdehnungs-Koeffizienten von etwa 82 (0 bis 300° C) verwenden und wobei das überzogene Substrat einschließlich einer Magnesiumoxidüberzugsschicht einer Versiegelungstemperatur von angenähert 470 bis 480° C ausgesetzt wird, läßt sich jedoch leicht erkennen, daß diese Glassorten von wesentlichem Wert in Prozessen sind, bei denen die beiden letztgenannten Parameter in andere Bereiche fallen. Alle Beispiele der dielektrischen Glassorten, die hierAlthough some of these examples of dielectric glasses, as described above, are not unlimited are suitable for use in the manufacturing process, the glass substrates with a Use expansion coefficients of about 82 (0 to 300 ° C) and be the coated substrate including a magnesia coating layer, a sealing temperature of approx 470 to 480 ° C is exposed, it can easily be seen, however, that these types of glass are essential Are of value in processes where the latter two parameters fall into other areas. All examples of the dielectric glass types that are here

868 I/868 I /

' 6'6

beschrieben sind, besitzen Bestandteile, die innerhalb folgender Bereiche fallen:are described have components that fall within the following areas:

GewichtsprozentWeight percent

PbO 62,4 bis 69,6PbO 62.4 to 69.6

SiO2 5,8 bis 13,6SiO 2 5.8 to 13.6

B.,O3 13,6 bis 20,0B., O 3 13.6 to 20.0

Al2O3 0,2 bis 1,0Al 2 O 3 0.2 to 1.0

MgO 0,0 bis 5,0MgO 0.0 to 5.0

CaO 0,0 bis 6,0CaO 0.0 to 6.0

Alle obengenannten Beispiele für dielektrische Gläser enthalten in Gewichtsanteilen 0,2 Gewichtsprozent Al0On. Gläser mit wenig oder keinem Al,O,-AnteÜ fließen am besten, wenn sie in außergewöhnlich oxidierenden, feuchten Atmosphären aufgeheizt werden. Ein Al2O3-Anteil im Bereich von 0,2 bis 1 Gewichtsprozent" stabilisiert die Gläser, so daß Kristallisationsprobleme weitgehend ausgeschaltet bleiben. Gläser, die einen Anteil von AIgO, besitzen, der höher als 1 Gewichtsprozent ist, erfordern in feuchter Atmosphäre höhere Aufheiztemperaturen.All of the above examples of dielectric glasses contain, in parts by weight, 0.2 percent by weight Al 0 O n . Glasses with little or no Al, O, Ante flow best when heated in exceptionally oxidizing, humid atmospheres. An Al 2 O 3 proportion in the range from 0.2 to 1 percent by weight stabilizes the glasses so that crystallization problems are largely eliminated. Glasses which have a proportion of AlgO that is greater than 1 percent by weight require higher amounts in a humid atmosphere Heating temperatures.

Es ist leicht einzusehen, daß dieser Parameter sich in einem gewissen Bereich variieren läßt, wobei 0,2 Gewichtsprozent in vorteilhafter Weise ein Optimum ergibt.It is easy to see that this parameter can be varied within a certain range, where 0.2 percent by weight advantageously results in an optimum.

Obgleich Glassorten mit einem SiO2-Anteil (z. B. 15 Gewichtsprozent oder mehr) höhere Temperaturen zur Einleitung von Rißbildungen aufweisen, besitzen sie jedoch keinen gleichmäßigen blasenfreien dielektrischen Filmschmelznuß auf Grund der Viskositäts-Temperaturbeziehung in den Oberflächenbereichen. Für eine gegebene Temperatur zur Einleitung von Rißbildungen kann ein Glas mit einem höheren B2O,,-Anteil als SiO2 leichter in oxydierenden Atmosphären zum Fließen gebracht werden (in allen Beispielen ist der B^-Anteil gleich oder höher als der SiO2-Anteil) als bisher. Jedoch besitzen bisherige Glassorten einen hohen BsOs-Anteil bei in typischer Weise relativ niedrigem Temperaturen zur Einleitung der Rißbildungen und niedrigeren chemischen Beständigkeiten.Although types of glass with an SiO 2 content (e.g. 15 percent by weight or more) have higher temperatures to initiate cracking, they do not have a uniform, bubble-free dielectric film nut due to the viscosity-temperature relationship in the surface areas. For a given temperature to initiate cracking, a glass with a higher B 2 O ,, proportion than SiO 2 can be made to flow more easily in oxidizing atmospheres (in all examples the B ^ proportion is equal to or higher than the SiO 2 - Share) than before. However, previous types of glass have a high B s O s content at typically relatively low temperatures to initiate the formation of cracks and lower chemical resistances.

Wie durch die Erfindung gezeigt, läßt sich die MgO-Rißtemperatur in Gläsern mit hohem B2O3-Anteil durch Zusätze von MgO, CaO oder vorzugsweise beidem in die Gläser noch erhöhen. Diese Gläser lassen sich durch Aufheizen in gleichmäßige blasenfreie Filme gießen, da sie eine unstetige. Viskositäts-Temperaturbeziehung aufweisen.As shown by the invention, the MgO crack temperature in glasses with a high B 2 O 3 content can be further increased by adding MgO, CaO or preferably both to the glasses. These glasses can be poured into even, bubble-free films by heating them up, as they have a discontinuous. Have viscosity-temperature relationship.

Mehr als 3 bis 4 Gewichtsprozent MgO führen zu einem dielektrischen Film, der zur Entglasung neigt und dabei gleichzeitig einen relativ hohen TK-Wert aufweist. Beide Eigenschaften, insbesondere die zuerst genannte, ist dabei allgemein unerwünscht. Wird bloß CaO (also ohne MgO) dem dielektrischen Glas zugefügt, und zwar in Beträgen bis zu etwa 6 Gewichtsprozent, läßt sich zwar wesentlich die Temperatur zur Einleitung der Rißbildung verbessern, indem sie angehoben wird, aber allgemein ergibt sich ein hoher TK, wie aus dem Vergleich mit den Beispielen V und VII zu ersehen ist. Die besten Resultate in bezug auf Riß-Temperatur, auf TK-Wert und auf die Fähigkeit, in gleichmäßige freie Schmelzfilme gegossen zu werden, als den bedeutsamsten Parameters, ergeben sich durch entsprechende Zusätze von MgO und CaO zu den anderen Bestandteilen des dielektrischen Glases wie in den Beispielen I bis IV. _More than 3 to 4 percent by weight of MgO results in a dielectric film which tends to devitrify and at the same time has a relatively high TK value. Both properties, especially the first one is generally undesirable. Is just CaO (i.e. without MgO) the dielectric glass added, in amounts of up to about 6 percent by weight, the temperature can be significantly reduced improve crack initiation by lifting it up, but generally results a high TK, as can be seen from the comparison with Examples V and VII. The best results with regard to the crack temperature, the TK value and the ability to form uniform free melt films To be cast, as the most important parameter, result from appropriate additions from MgO and CaO to the other components of the dielectric glass as in the examples I to IV. _

Claims (1)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Dielektrisches Bleiglas des Systems PbO — B2O3—SiO2 — Al2O3, dadurch gekennzeichnet, daß es als Unterlage für rissefreie MgO-Überzüge in Gasentladungs-Datensichtgeräten folgende Zusammensetzung in Gewichtsprozenten aufweist:1. Dielectric lead glass of the PbO - B 2 O 3 --SiO 2 - Al 2 O 3 system , characterized in that it has the following composition in percent by weight as a base for crack-free MgO coatings in gas discharge data display devices: 1010 PbO 62,4 bis 69,6PbO 62.4 to 69.6 B2O3 13,6 bis 20,0B 2 O 3 13.6 to 20.0 SiO2 5,8 bis 13,6SiO 2 5.8 to 13.6 Al2O3 0,2 bis 1,0Al 2 O 3 0.2 to 1.0 CaO 0,0 bis 6,0CaO 0.0 to 6.0 MgO 0,0 bis 5,0MgO 0.0 to 5.0
DE19742426868 1973-06-27 1974-06-04 Dielectric lead glass of the system PbO-B deep 2 O deep 3 -SiO deep 2 -Al deep 2 O deep 3 as a base for crack-free MgO coatings in gas discharge data display devices Expired DE2426868C3 (en)

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US374189A US3923530A (en) 1973-06-27 1973-06-27 Dielectric glass composition
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DE2426868A1 DE2426868A1 (en) 1975-01-09
DE2426868B2 DE2426868B2 (en) 1975-05-28
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