DE2405429A1 - PROCEDURE FOR DRAWNING AN OBJECT - Google Patents
PROCEDURE FOR DRAWNING AN OBJECTInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 54
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 22
- 238000007710 freezing Methods 0.000 claims description 15
- 230000008014 freezing Effects 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- YACLCMMBHTUQON-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)Cl YACLCMMBHTUQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 3
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N Chlorofluoromethane Chemical compound FCCl XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 11
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical compound FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- SLGOCMATMKJJCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrachloro-2,2-difluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(Cl)(Cl)Cl SLGOCMATMKJJCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGCSPKPEHQEOSR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloro-1,2-difluoroethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)C(F)(Cl)Cl UGCSPKPEHQEOSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100141312 Mus musculus Ripk1 gene Proteins 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000009189 diving Effects 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001007 puffing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G2/00—Details of capacitors not covered by a single one of groups H01G4/00-H01G11/00
- H01G2/12—Protection against corrosion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23D5/00—Coating with enamels or vitreous layers
- C23D5/02—Coating with enamels or vitreous layers by wet methods
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- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/48—Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
- H01J17/49—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current
- H01J17/492—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current with crossed electrodes
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
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- H05K3/284—Applying non-metallic protective coatings for encapsulating mounted components
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05D2401/10—Organic solvent
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/13—Moulding and encapsulation; Deposition techniques; Protective layers
- H05K2203/1333—Deposition techniques, e.g. coating
- H05K2203/1355—Powder coating of insulating material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Dr.-Ing. HVJS RUSCHKE Dip!.-Ing. OLAF RUSCHKE Dip:.-In5.}:.-\NS E. RUSCHKEDr.-Ing. HVJS RUSCHKE Dip! - Ing. OLAF RUSCHKE Dip: .- In5.}: .- \ NS E. RUSCHKE
I OERLlN 33
Auguste-Viktofia-Siraße 65I OERLlN 33
Auguste-Viktofia-Siraße 65
PjT1CFi j rhi tn EIeC+TTn Jr-H1 ip^T^ni C".. Ltd..PjT 1 CFi j rhi tn EIeC + TTn Jr-H 1 ip ^ T ^ ni C ".. Ltd ..
\./pT>F=>h'ppn τι iii1 Ü^pr^iohpn eines\ ./ pT > F => h ' p pn τι iii 1 Ü ^ pr ^ iohpn one
D?.5 ETfinr1unn h^^p.°ht- ^tnh puf p^p. VeTfRhT1Pn zurr Überziehen Bin1?1" "pp1 5 nshpn^priprp pi if ein Verf^bppn ·?ιιγρ Knittgu^h γΙ·πγ7 ff'iT· γΙί r? F'rir3c^annT>n(i! jl-j + i pn, 0PP!!. ΠΠ 1^t ΙΕ?!".D? .5 ETfinr1un n h ^^ p. ° ht- ^ tnh puf p ^ p. PROVIDED 1 Pn to overturn Bin 1 ? 1 "" pp 1 5 nshpn ^ priprp pi if a Verf ^ bppn ·? Ιιγρ Knittgu ^ h γΙ · πγ7 ff'iT · γΙί r? F'rir3c ^ annT> n (i! Jl-j + i pn, 0 PP !!. ΠΠ 1 ^ t ΙΕ ?! ".
yppt-nbrcp z1 'in UbETZ1PPPP v/nn i-!er'P.p.c!t^npp.n nut einem j°nder ei°em GigsnhBrz'.n bekannt. Tn öpt Praxis besteht das üblinhste Verfahren zur Ri.Tdung eines Hprzüberzugs riarip, daß man ein Trägermaterial, das das Überzunsharz enthält, auf einen Gegenstand durch ALfsprühen oder Tauchen aufbringt und den so aufgebrachten Überzug nach dem Trocknen härtet. Ein anderes Verfahren besteht darin, daß man ein pulverförmiges Verfahren zur Bildung eines Glasüherzugs auf einem erwärmten Genenstand anhaften ISBt und härtet. Das "'bliche Verfahren zur Bildunn eines Glasüherzu^s besteht darin, dp?> m-^n den Lherzup mittels einer Bürste oder durch T?uchen pufbringt. Bei der RiIdun" des Hnrzüherzi'^B und des Glasüberzuns sind Probleme dadurch °θΓ·ζΗΓπ} ^r^ der nnch den üblichen Verfahren aufqetrsrene Überzug auf jeden üherzc"-;2n2n Hörpcr von Teil zu Toil eine uno.leichm5Rip.E Dicke hat und außerdem eins ziemlich kleine Dicks aufweist. Bein Übrziehen elektronischer Teile ist es außerdem hei den üblichen Verfahren schuierin, 3ine Verunreinigung von einem Teil der Zuleitung, die an eine elektrische Schaltuno des elektronischen1 Teils angelötet uerrien soll, zu verhindern.yppt-nbrcp z 1 'in UbETZ 1 PPPP v / nn i-! e r ' Pp c ! t ^ npp.n known only to a j ° nder ei ° em GigsnhBrz'.n. Tn practice is ÖPT riarip the üblinhste method for Ri.Tdung a Hprzüberzugs, that one applies a carrier material which contains the Überzunsharz to an article by ALfsprühen or dipping and curing the so applied coating after drying. Another method is to adhere and cure a powdery method of forming a glass draft on a heated gene stand. The usual procedure for forming a glass cover consists in puffing the glass with a brush or cloth. Problems arise with the formation of the heart cover and the glass cover · ζ Η Γπ} ^ r ^ nnch of the usual methods aufqetrsrene coating on each ü h erzc "-; 2n2n Hörpcr from part to Toil a uno.leichm5 R ip.E thickness and has further comprising one fairly small Dicks leg Übrziehen electronic. parts is also hei schuierin the usual procedures 3ine contamination from a part of the supply line that should uerrien soldered to an electrical Schaltuno of the electronic part 1, to prevent it.
509832/0598509832/0598
T- ixr2nt die Auf^nhn ^'^rundG, ^in Verfahren zum Überziehen von cj+rjnHnn τΰΐ g:* ππη dici'nn Hnr^- GC4Gr GJasüberzug mit Gleichmäßiger DickeT- ixr2 n t die Auf ^ nhn ^ '^ rundG, ^ in process of coating cj + rjnHnn τΰΐ g: * π π η dici'nn Hnr ^ - GC 4 Gr GJasüberzug with Uniform Thickness
Dr3T- Ft-fΐPt1VH" lin^J- Fnr-PGr die Ai.'7^? 1^e zugrunde, ein Uerfehren zum L'berziehon ι'ηπ Π^^ππβϊγγΊ^π rnit ρ^πήπ ^^""7— ndGT GlasübErz'jn ohne Lncher hzuj. Po-"πη r-ιΗρτ- B"l ΞΞΕΠ Z'! GCh-T^f ίΠ.Dr 3 T- Ft-fΐPt 1 VH "lin ^ J -Fnr-PGr the Ai. ' 7 ^? 1 ^ e is based on a conviction to the l'berziehon ι'ηπ Π ^^ ππβϊγγΊ ^ π rnit ρ ^ πήπ ^^ "" 7— ndGT Glasüberz'jn without holes added. Po- "πη r-ιΗρτ- B "l ΞΞΕΠ Z '! GCh-T ^ f ίΠ.
rlTrh dar Erfinriun" soll ferner nin V/Grf-nhrRn zum Überziehen vcn GenenBtänrlpn "Drri2r;ch.l.a".ep uerdsn, rinp· hcnnnders für die t-iasscnpraduktian geeignet ist. r lTrh dar Erfinriun "should also nin V / Grf-nhrRn for covering vcn GenenBtänrlpn" Dr ri 2r; ch.la ".ep uerdsn, rinp · hcnnnders is suitable for the t-iasscnpraduktian.
P'ac'i eier Erfindung soll außerdem ein Verfahren zum Überziehen elektronischer Teile nit di^it verbundenen Zuleitunn^n Geschaffen uerrien, durch welches die Zuleitun^Gn nicht durch des Uberzu^snaterial uerunreinipt uerden.P'ac'i eier invention is also intended to provide a method for coating electronic Parts with the connected supply lines are created through which the Do not contaminate the supply line with excess material.
Z':r LnEun^ djeser Ai'fr-nhen nnf--l-'vt die Erfindung ein l/erfahren zum Überziehen einen Gennnstandes nit Üherzursteiünben \ynr, das dadurch nekennzeichnet ist, riaR nan den GG^Rnstand ?iuf eine Temperatur unter dem Gefrierpunkt van Ch]nrfluorGthan, dasr sin NichtlncunGsmitte] für die Überzugsteilchen bildet, (den RenGnGtnnd) ahki'hlt, oine Susncnsion vnn Chlcrfluorethan mit darin disper^ierten HarzüberzurcteilrhGn bildet, den Gegenstand in die Suspension eintaucht, so rian sich eine Snhicht v/on der Suspension auf der Oberfläche όνε GGPenstsnds durch Gefrieren des Chlnrfluoräthans bildet, die Suspension bei einer Tempernitur über den Gefrierpunkt des Chlorfluoräthans hält, den pG^enstand aus d^r Suspensicn herausnimnit, das in der gefrorenen Schicht enthaltende Chlcrflucräthan durch Er'-crmen des Gegenstands auf eine Temperatur über dem Siedepunkt des Chlorfluoräthans entfernt und eine Schicht aus den H?tz der zurückcebliebsnen Teilchen auf der Oberfläche des Gegenstands durch EruSrnen hildet.Z ': r LnEun ^ djeser Ai'fr-n h en nnf - l-'vt the invention a l / learned to cover a property not to be added \ ynr, which is characterized thereby, riaR the GG ^ Rnstand? I on one ria n temperature below freezing van Ch] nrfluorGthan, DASR sin NichtlncunGsmitte] forms for the coating particles, (the RenGnGtnnd) a h ki'hlt, Oine Susncnsion vnn Chlcrfluorethan with disper therein ^ ierten HarzüberzurcteilrhGn forms, dipping the article into the suspension, so A layer of the suspension is formed on the surface of the chlorofluoroethane by freezing the chlorofluoroethane, the suspension is kept at a temperature above the freezing point of the chlorofluoroethane, the result of the suspension being taken out of the chlorofluorethane contained in the frozen layer Er'-crmen of the article to a temperature above the boiling point of Chlorfluoräthans removed and a layer of the H? tz zurückcebliebsnen the particles on the surface of the article by EruSrnen h ildet.
Diese und anders der Erfindung zugrundeliegende Aufgaben und deren Lösung sind der nachfolgenden ausführlichen Beschreibung in Verbindunp mit den Zeichnugen zu entnehmen.These and other objects on which the invention is based and their solution are the following detailed description in connection with the Refer to drawings.
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Ip c!C2D Ζπϊ nhnU^EP Cl ΠΓ1 die F? "^ijrnn 1 ι ·ηΗ 9 τ;γ;·-ο'-'γ'"1"'"."γ!~2 Dt1TT:!"1"!? ί ' Τ-"πη ΓΓ U-1Tr p.hti inn rur DuTcbf'!ihr1 inr dos [Ip c! C2D Ζπϊ nhnU ^ EP Cl ΠΓ 1 the F? "^ ijrnn 1 ι · ηΗ 9 τ; γ; · -ο '-' γ '" 1 "'". "γ! ~ 2 Dt 1 TT :!" 1 "? Ί 'Τ-" πη ΓΓ U 1 Tr p.hti in n rur DuTcbf'! Her 1 inr dos [
ist die Figur 3 ein Dianrarnn, dan dir? fc-iehun^ nunnnhen dor Dicke rtcr? nie Überzug auf .den Genenstand aufgetragenen Schicht und der Temperatur des abgekühlten Gegenstands wiedergibt unais figure 3 a Dianrarnn, dan you? fc-iehun ^ nunnnhen dor thickness rtcr? never Coating on .the Genenstand applied layer and the temperature of the cooled object reproduces una
sind die Figuren k Ca) bis -+ Cc) schEmaux&chs Unrf-:ce .jur~rjr i'r^ vgv. unr^.-is zum L^erz-'-ehen eiiies EleKuruiiibuntiu idils v-.jmi axialbu Typ qu„iLj..; üüp Erfindung. are the figures k Ca) to - + Cc) schEmaux & chs Unrf-: ce .jur ~ rjr i'r ^ vgv. unr ^ .- is zum L ^ ore -'- eiiies EleKuruiiibuntiu idils v-.jmi axialbu type qu "iLj ..; üüp invention.
wach der Erfindung werden Teilchen von einem Überzunsinaterial, Ulis Harz oder Glas, das als Schicht aufgetragen werden snl] , in einem PJichtlnsunnsrnj ttel für diese Teilchen disperniert und uirri einn Susncnsinn vnn r'pn Überzunsteilchen gebildet. LJenn die Suspension bei Einer Temperatur üher dnn GifriErpun!-:t des ueri-jendetsn IMichtlösunnsmittels gehalten wird, befindet sie sich, in einem flüssigen Zustand. Ferner wird die Viskosität rier Suspension dur-nh Repelunn der Konzentration der darin riispErniertEn Harzte!lchen sn Einnestellt, daß die Uisknsität für ein Eintauchen de.? zu überziehenden G^enstands in die Suspension neeignet ist. Für den FpII des Hgrzühsrzu^s betreut die bevorzugte Konzentration rier Teilchen nahezu 1o h:s 5n* Grw.-?ü, hr2zonen auf das Nichtlnsunnsmittel.According to the invention, particles of a coating material, resin or glass, which are applied as a layer, are dispersed in a layer for these particles and a susceptibility is formed by coating particles. LJenn the suspension at one temperature o o he dnn GifriErpun -: t of the Uri-jendetsn IMichtlösunnsmittels is held, it is located in a liquid state. Further, the viscosity rier suspension dur-nh Repelunn the concentration of riispErniertEn it treat with resin! Uring sn Einnestellt is that the Uisknsität for immersion de.? The object to be coated is suitable for the suspension. For the FpII des Hgrzühsrzu ^ s, the preferred concentration of the particles takes care of almost 1o h : s 5n * Grw .-? Ü, h r2zones on the non-absorbent.
Gei einer Konzentration über 5a Gew.-/0 ist die Fließfähigkeit der Suspension für ein Eintauchen des Gegenstands in die Suspension in unerwünschter Weise vermindErt. Für den Glasüberzug ist die bevorzugte Konzentration höher als bei dem Harzüberzug, weil das spezifische Gewicht der Glasteilchsn größer ist als das der Harzteilchen.At a concentration above 5 % by weight, the flowability of the suspension for immersion of the object in the suspension is undesirably reduced. For the glass coating, the preferred concentration is higher than that for the resin coating because the specific gravity of the glass particles is greater than that of the resin particles.
Der zu überziehende Gegenstand wird auf eine Temperatur unter dem Gefrierpunkt des verwendeten Michtlnsunnsmittels abgekühlt und in die Suspensinn getaucht. Dann wird nach dem Gefrieren dss rüichtlfisunnsmittels eine gEfrorsne Schicht aus der Suspension auf der Oberfläche des Gegenstands gebildet. Diese gefrorEne Schicht bEstsht aus einem GEmisch von dem rJichtlösunnsmittel und den Überzunsteilchen.The object to be coated is brought to a temperature below freezing point of the Michtlnsunnsmittel used and cooled in the suspension submerged. Then, after freezing, the air-conditioning agent is frozen Layer formed from the suspension on the surface of the article. This frozen layer consists of a mixture of the rubbing solvent and the superfluous particles.
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BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
Uenn der Gencin^tanri in γΈγ Suspension rehaltpn yjrd, die eine hfiherp. Temperatur pi.Ts der GpfriErnunkt des IM^nhtlosnnr-Rmittels hat, schmilzt die neh: lrietp. Schicht j π der Suspension. Daher wird der Genenstand, auf dessen Oberfläche sich die ^efrorene Schicht gebildet hat, aus der Suspension herausgenommen, und gleichzeitig wird der Gegenstand nrwärmt, um so das IMichtlösunnsmittel zu verdampfen und eins nur ans den ÜbnrzunffeilchEn bestehende Schicht zu hilripn. Dann werden durch weiteres Erwärmen die Überzunsteilchen nehärtet und wird eine gleichmäßige Schicht auf dem Gegenstand gebildet.Uenn der Gencin ^ tanri in γΈγ suspension rehaltpn yjrd, which is a hfiherp. temperature pi.Ts the GpfriErnunkt of the IM ^ nhtlosnnr-R means, melts the neh: lrietp. Layer j π of the suspension. Hence, the genealogy on which The frozen layer has formed on the surface, removed from the suspension, and at the same time the object is heated to remove the insolvent to evaporate and one only existed by the practitioners Layer to hilripn. Then, by further heating, the superfluous particles hardens and a uniform layer is formed on the object.
Das vorstehend beschriebene Überzugsverfahren ist zur Massenproduktion wenen seiner Einfachheit geeignet, und die gebildete Schicht ist durch eine ziemlich große Dicke ausgezeichnet und ueist keine Löcher bzu. Poren auf. Aufgrund des Hühlverfahrens ist es bequem, einen Gegenstand, wie einen Schicht- bzw. Filmkondensator zu überziehen, für den ein Erwärmen ungeeignet ist und bei dem ein solcher Überzug nach herkömmlichen Verfahren schwierig aufzubringen ist. Nach dem l/erfahren der Erfindung kann ferner ein Gegenstand mit irgendeiner Gestalt, wie z.B. ein röhrenförmiger Gegenstand, leicht überzogen werden. Einine Gegenstände mit komplexen Formen können nach dem herkömmlichen Verfahren, wie z.B. nach den Sprühverfahren, nur schwierig überzogen werden.The above-described coating method is intended for mass production suitable for its simplicity, and the layer formed is by a It is quite thick and has no holes. Pores open. Because of the method of enveloping, it is convenient to hold an object such as a To coat a film capacitor for which heating is unsuitable and for which such a coating by conventional methods is difficult is to be raised. After learning the invention, an article easily coated with any shape such as a tubular object. Objects with complex shapes can be used after the conventional method, such as the spray method, is difficult be coated.
Zu als Michtlösunnsmittel für die Harzteilchen geeignetem Material gehört ein Chlorfluoräthansystem mit vorzugsweise einem Gefrierpunkt nahe der Raumtemperatur, Wenn der Gefrierpunkt zu niedrig ist, sind Probleme dadurch gegeben, daß es schwierig und kostspielig ist, den zu überziehenden Gegenstand auf eine Temperatur unter der des Gefrierpunkts abzukühlen. Wenn ferner der Gegenstand durch das in der Luft enthaltene Wasser benetzt uird, werden in ' der gebildeten Schicht kleine Löcher bzw. Poren verursacht. Wenn anderer- ' seits der Gefrierpunkt des Nichtlösungsmittels zu hoch ist, geht durch Erwärmen der Suspension WichtlösungsmjJtel verloren. Wenn ferner der Siedepunkt des IMichtlösungsmittels zu hoch ist, werden die Harzteilchen gelöst, bevor I das IVichtlösungsmittel vollständig verdampft ist, und wird die so gebildete j Schicht uneben, und zwar wegen des darin enthaltenen Gehalts an Nichtlösungs-I mittel. Außerdem ist eine Erhöhungder Temperatur wegen einer Verkürzung der i Topflebensdauer bzw. Gebrauchsdauer der Überzugsteilchen unerwünscht. ObwohlMaterial useful as a light solvent for the resin particles is included a chlorofluoroethane system with preferably a freezing point close to room temperature, if the freezing point is too low, problems arise as a result, that it is difficult and expensive to remove the object to be coated cool to a temperature below freezing point. Furthermore, if the object is wetted by the water contained in the air, in ' causes small holes or pores in the layer formed. If other- ' Since the freezing point of the nonsolvent is too high, heating is possible the suspension lost weight solvers. Further, when the boiling point of the non-solvent is too high, the resin particles will be dissolved before I. the non-solvent is completely evaporated, and the j Layer uneven because of the nonsolvent I content it contains middle. In addition, an increase in temperature because of a shortening of the i Pot life or service life of the coating particles is undesirable. Even though
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verschiedene Chlarfluaräthanarten zur Verfügung stehen, sind vom Standpunkt der praktischen Handhabung, beim Hühlen des Genenstands und Verdampfen dss IMichtlnsunosmittels die bevorzunten Chlnrfluoräthane CClnFCCl0F (nach inter-different types of chlorofluoroethane are available, from the point of view of practical handling, when cooling the genes and evaporating the solvent, the preferred chlorofluoroethanes CCl n FCCl 0 F (according to international
C. C- C. C-
nationaler Kurzbezeichnung 112), CCl-JCClF9 (112a) und CCl FCClF0 (113a), die Gefrierpunkte von 23,5, 4o,6 und 1'f C und Sieriepun'-te von n2,B, ?1,5 und /!5,70C haben. Die Temperatur der Suspensinn wird etwas höher als der Gefrierpunkt des Nichtlösungsmittels gehalten. Wenn sie zu hoch ist, wird die kalte Temperatur des in die Suspension eingetauchten Gegenstands gemildert und keine gefrorene Schicht aus der Suspension gebildet.national abbreviation 112), CCl-JCClF 9 (112a) and CCl FCClF 0 (113a), the freezing points of 23.5, 4o, 6 and 1'f C and Sieriepun'-te of n 2, B,? 1.5 and /! 5.7 ° C. The temperature of the suspension is kept slightly higher than the freezing point of the nonsolvent. If it is too high, the cold temperature of the object immersed in the suspension will be moderated and no frozen layer will be formed from the suspension.
Wenn die Suspension eine niedrige Konzentration von den Überzugsteilchen hat, luird, sobald das IMichtlösunrsmittel von der auf dem Gegenstand gebildeten gefrorenen Schicht aus der Suspension durch Erwärmen verdampft ist, machmal ein Heruntergleiten der Schicht aus den zurückgebliebenen Teilchen bewirkt. In einem solchen Fall enthält die Suspension geeigneterweise ein Bindemittel. Dann gleitet die Schicht nicht herunter und kann dem anschließenden Härtungsprozeß zugeführt werden. Zur Bildung einer gleichmäßigen Schicht soll das Bindemittel in dem IMichtlös-ungsmittel für die als Schicht aufzutragenden Harzteilchen löslich sein. Für den FaI] eines Harzüberzugs gehören zu geeigneten Bindemitteln Polvstyloi (polystylene) und denaturiertes Siliconharz. Letzteres löst sich gut in Epoxyharz, das vorzugsweise als Überzugsmaterial für das Verfahren der Erfindung verwendet uiird. Die bevorzugte Bindemittelkonzentration reicht von o,1 bis 5,ο Gew.-%. Eine zu grosse Bindemittelmenge beeinflußt die Eigenschaften der Harzteilchen in unerwünschter Weise und führt zu einer Unebenheit de-r erhaltenen Schicht.If the suspension has a low concentration of the coating particles, It is activated as soon as the non-solvent of the formed on the object frozen layer is evaporated from the suspension by heating, sometimes causes the layer of remaining particles to slide down. In such a case the suspension suitably contains a binder. Then the layer does not slide down and can be fed to the subsequent hardening process. To form an even layer should be the binder in the non-solvent for the layer to be applied Resin particles be soluble. For the case of a resin coating belong to suitable binders Polvstyloi (polystylene) and denatured Silicone resin. The latter dissolves well in epoxy resin, which is preferably used as a coating material for the method of the invention. The preferred one Binder concentration ranges from 0.1 to 5.0% by weight. Too big one The amount of the binder undesirably affects the properties of the resin particles and leads to unevenness of the obtained layer.
enen
Ausführungsform der Erfindung werden in den nachfolgenden Beispielen ausführlicher erläutert.Embodiments of the invention are described in more detail in the following examples explained.
Widerstünde vom Scheibentyp wurden mit Epoxyharz überzogen, wie nachfolgend ausführlicher unter Bezugnahme auf die Figuren 1 und 2 erläutert wird. In der Figur 1 wurden die mit der Bezugsziffer 1 bezeichneten Widerstände vom Snheibentyp auf eine Temperatur nahe 5DC in einer Kühlkammer 2 abgekühlt.Disk-type resistors have been coated with epoxy resin, as will be explained in more detail below with reference to Figs. In Figure 1 the resistors indicated by the reference number 1 were cooled from Snheibentyp to a temperature close 5 D C in a refrigerating chamber. 2
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Trockne Luft wurde kontinuierlich in die hühlkammer 2 und eine Tauchkammer ·
3 VDn einem Ein J ar. <f aus einoeieiteb. u±e abgekühlten Luiderstünde wurden
in die TsüLjhkami.iar j jenseits einer klärmeschutzwand 5 gebracht und in die
in dem Tauchbehälter 9 enthaltene Suspension 6 eingetaucht.Dry air was continuously poured into the cooling chamber 2 and a diving chamber x 3 VDn a year. <f from einoeieiteb. u ± e cooled Luiderstünde were
in the TsüLjhkami.iar j klärmeschutzwand beyond a 5 and brought into the
The suspension 6 contained in the immersion tank 9 is immersed.
Die Suspension G bestand aus Epaxyharzteilchen mit der nachfolgend angegebenen
Zusammensetzung als Überzugsmaterial und einem Gemisch von 9o Gewichtsteilen
1,2-Difluor-1,1,2,2-tetrachloräthan (CCl2FCCl2F) und 1o Gewichtsteilen
2,2-Difluor-1,1,1,2-tetrachloräthan (CCl3CClF2), das das Nichtläsunqsmittel
der Teilchen war. Ein solches Gemisch ist unter der Handelsbezeichnung
Daiflnn S„ im Handel erhältlich (hergestellt VDn Daikin-kogyo-Cn.,
Japan) und hat einen Gefrierpunkt von 26DC und einen Siedepunkt von
91 bis 93 C. Die Zusammensetzung des verwendeten Epoxyharzes ist folgendermaßen:
The suspension G consisted of epoxy resin particles with the composition given below as a coating material and a mixture of 9o parts by weight of 1,2-difluoro-1,1,2,2-tetrachloroethane (CCl 2 FCCl 2 F) and 1o parts by weight of 2,2-difluoro- 1,1,1,2-tetrachloroethane (CCl 3 CClF 2 ), which was the non-solvent of the particles. Such a mixture is commercially available under the trade name Daiflnn S "(manufactured by VDn Daikin-kogyo-Cn., Japan) and has a freezing point of 26 D C and a boiling point of
91 to 93 C. The composition of the epoxy resin used is as follows:
Grunrizusammensetzung: Bisphenol A-Typ-Epoxyharz, Epikote 1oo7 (Shell Chem.
Co., USA) lon πBase composition: Bisphenol A-type epoxy resin, Epikote 1oo7 (Shell Chem.
Co., USA) lon π
Härter: Aromatisches Amin, '+,it'-Diaminodiphenylsulfon, 3,5 g iHardener: aromatic amine, '+, it'-diaminodiphenyl sulfone, 3.5 g i
Füllstoff: SiD2, 25 π :Filler: SiD 2 , 25 π:
Schmiermittel: Stearinsäure, 1o g
Pigment: ^e?as>
11 SLubricant: stearic acid, 10 g
Pigment: ^ e ? a s> 11 p
Die Masse hatte einen Schmelzbereich von 1oo bis 1190C. Die Honzentration i der Epoxyharzteilchen betrug 1o bis 5o Geu.-%. Die Temperatur des Suspen- jThe composition had a melting range of 1oo to 119 0 C. The Honzentration i of the epoxy resin particles was 1o to 5o Geu .-%. The temperature of the suspen- j
ο ■ο ■
sion wurde kontinuierlich bei nahezug 3o C mittels einer Heizvorrichtung ! 1o und eines Kühlers 11 gehalten. Außerdem wurde die Suspension leicht i mit einem Rührer 12 nerührt, um in der Suspension eine gleichmäßige Konzentration zu schaffen. Ulenn die Widerstände in die Suspension 6 eingetaucht wurden, wurde das Rühren gestoppt.Sion was continuously at almost 3o C by means of a heating device! 1o and a cooler 11 held. In addition, the suspension was easily i stirred with a stirrer 12 in order to achieve a uniform concentration in the suspension to accomplish. When the resistors are immersed in the suspension 6 the stirring was stopped.
Nach dem Eintauchen der Widerstände in die Suspension für 5 Sekunden wurden
die Widerstände herausgenommen. Es hatte sich dann eine gefrorene Schicht
13 aus der Suspension, d.h. dem Gemisch von den Epoxyharzteilohsn und dem
Nichtlösungsmittels Daiflon S2, auf der Oberfläche van jedem Widerstand gebildet.
After immersing the resistors in the suspension for 5 seconds
the resistors removed. It then had a frozen layer
13 from the suspension, ie the mixture of the Epoxyharzteilohsn and the
Non-solvent Daiflon S 2 formed on the surface of each resistor.
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Die aus der Suspension herausgenommenen Widerstände 1 wurden sofort der nächsten Verfahrensstufe zugeführt. D.h., das Pjichtlnnünrjsmittel wurde durch Erwärmen der Widerstände in einer Trockenkammer 14, die in der Figur 2 dargestellt ist, verdampft. Dort wurde eine Schicht 15 gebildet, die nur aus den EpDxyharzteilchen bestand.The resistors 1 removed from the suspension immediately became the supplied to the next process stage. That is, the pjichtlnünrjsmittel was by The resistors are heated in a drying chamber 14, which is shown in FIG is evaporated. A layer 15 consisting only of the Epoxy resin particles was formed there.
Die Schicht 15 glitt herunter, wenn eine gewisse Vihration auf den Widerstand ausgeübt wurde. Außerdem wurde bei einer niedrigen Konzentration der Epoxyharzteilchen das gleiche Problem verursacht. Das Heruntergleiten der Schicht 15 konnte durch Zugabe von Polystylnl in einer Konzentration von 1oo ppm zu der Suspension als Bindemittel verhindert werden. Denaturiertes Siliconharz war ebenfalls zur Verhütung des Hernntergleitens der Schicht 15 geeignet.The layer 15 slipped down when there was some vibration on the resistance was exercised. In addition, when the concentration of the epoxy resin particles was low, the same problem was caused. The sliding down of the Layer 15 could by adding Polystylnl in a concentration of 100 ppm to the suspension as a binder can be prevented. Denatured Silicone resin was also used to prevent the layer from slipping off 15 suitable.
Die trockene Schicht 15 wurde dann bei 13o C, der Härtungstemperatur des Epoxyharzes, für 2o Minuten erwärmt, und es wurde so eine gehärtete Schicht 16 gebildet. Die Dicke der erhaltenen Schicht betrug 1,d bis 1,2 mm.The dry layer 15 was then at 13o C, the curing temperature of the Epoxy resin, heated for 20 minutes, and it became a hardened layer 16 formed. The thickness of the layer obtained was 1, d to 1.2 mm.
Das Transportieren der Widerstände in die und aus den Kammern 2, 3 und 14 wurde kontinuierlich mittels Gleitvorrichtungen durchgeführt. Der Dampf des Wichtlösungsmittels in der Trockenkammer 14 wurde mittels einer Pumpe 18 absorbiert und eines Kühlers 18 kondensiert. Der Dampf konnte in einem Behälter 19 gesammelt werden. Dieses ist zur Verminderung der Überzugskasten erwünscht.Transporting the resistors into and out of chambers 2, 3 and 14 was carried out continuously by means of sliding devices. The steam of the Weight solvent in the drying chamber 14 was pumped 18 absorbed and condensed in a cooler 18. The steam could be collected in a container 19. This is to degrade the plating box he wishes.
Im allgemBinen erhöhte sich die Dicke der gebildeten Schicht mit der Zunahme der Temperaturdifferenz zwischen dem zu überziehenden Gegenstand und der Suspension. Die Figur 3 zeigt eine solche Beziehung zwischen der Temperatur des Gegenstands und der Dicke dererhaltsnen Schicht für die in der Figur angegebenen Bedinungen.In general, the thickness of the layer formed increased with the increase the temperature difference between the object to be coated and the Suspension. Figure 3 shows such a relationship between temperature of the object and the thickness of the layer obtained for those in the figure specified conditions.
j . Beispiel-2j. Example-2
Eine Suspension wurde benutzt, die der des Beispiels 1 entsprach. Die Konzentration der EpoxyharztEilchen betrug 35 bis 45 Geu.-%, und die Tempera-A suspension which corresponded to that of Example 1 was used. The concentration the epoxy resin particles was 35 to 45 Geu .-%, and the temperature
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tür der Suspnnsion wurde bei 27 bis 32 C gehalten. 3 Arten van Widerstän-.den, in der Form eines elektronischen Teils vnm axialen Typ mit zwei Leitungsdrähten längs an den beiden Enden, und zwar mit einem Durchmesser von Β mm und einEr Länge van it ο mm,einem Durchmesser von θ mm und einer Länge von 2o mm und einem Durchmesser von 1,5 mm und einer Länge von 8 mm, wurden auf eine Temperatur von -9 bis -150C abgekühlt und in die Suspension 41 5 bis 1d Sekunden bis zu einer Stelle von 1,5 mm eines Leitungsdrahts 44 von dem Ende des üliderstandskörpers, wie in der Figur 4(a) dargestellt ist, eingetaucht. Die gefrorene Schicht 43 aus der Suspension wurde dann, uiie in der Figur 4(b) dargestellt ist, auf der Oberfläche des Widerstandskörpers 42, dem anderen Leitungsdraht 44' und dem Teil des Leitungsdrahtes 44, der in die Suspension 41 eintaucht, gebildet.The suspension was kept at 27 to 32 ° C. 3 types of resistors, in the form of an electronic part of the axial type with two lead wires lengthways at the two ends, with a diameter of Β mm and a length of ο mm, a diameter of θ mm and a length of 20 mm and a diameter of 1.5 mm and a length of 8 mm, were cooled to a temperature of -9 to -15 0 C and in the suspension 41 for 5 to 1d seconds up to a point of 1.5 mm Conductor 44 is immersed from the end of the resistor body as shown in Figure 4 (a). The frozen layer 43 of the suspension was then formed on the surface of the resistor body 42, the other lead wire 44 'and the portion of the lead wire 44 which is immersed in the suspension 41, as shown in Figure 4 (b).
PJach dem Herausnehmen der Widerstände aus dem Tauchbad tjurde ein Schneidwerkzeug 45 auf die gefrorene Schicht, die sich auf dem Leitungsdraht 44' gebildet hatte,van einer waagerechten Richtung A aus, wie in der Figur 4(c) dargestellt ist, gepreßt, um diese Schicht aufzuschneiden, und dann wurde das Schneidwerkzeug nach unten der Richtung B entsprechend bewegt, wobei es längs des Leitungsdrahts 44' entlangglitt. Dann konnte die auf dem Leitungsdraht 44' gebildete gefrorene Schicht 46 leicht von diesem entfernt werden.After removing the resistors from the immersion bath, a cutting tool was used 45 to the frozen layer formed on the lead wire 44 'from a horizontal direction A, as in Figure 4 (c) is shown, pressed to cut this layer, and then was the cutting tool moves downward in the direction B accordingly, wherein it slid along the lead wire 44 '. Then the one on the lead wire could 44 'formed frozen layer 46 can easily be removed therefrom.
Diese Prozedur des Pressens und Bewegens des Schneidwerkzeugs wurde ausgeführt, während die gebildete Schicht 43 so gehalten wurde, wie sie war. Durch diese Prozedur wurde die auf dem Widerstandskörper gebildete Schicht 43 nicht beschädigt. Es war nicht notwendig, um den gesamten Umfang des Leitungsdrahts herumzuschneiden, und auch durch Einschneiden nur eines Teils der Schicht 46 konnte diese leicht entfernt wurden. Danach blieb die Schicht nur noch auf dem gewünschten Teil zurück., d.h. auf dem Widerstandskörper und auf dem Teil der Leitungsdrähte.This procedure of pressing and moving the cutting tool was carried out, while the formed layer 43 was kept as it was. Through this procedure, the layer formed on the resistor body became 43 not damaged. It wasn't necessary to see the full scope of the Cutting around lead wire, and also by cutting only part of it the layer 46 this could easily be removed. After that the shift stayed only back on the desired part, i.e. on the resistor body and on the part of the lead wires.
Dann wurden die Widerstände, wie in dem Beispiel 1 in den Trockner mit einerί Temperatur von .12o°C gebracht, in dem zunöchst das Nichtlösungemittel ver- ! dampft wurde und die Oberfloche der Epoxyharzteilchen teilweise Bchmalz, wa-Then, as in Example 1, the resistors were placed in the dryer with a Brought to a temperature of .12o ° C, in which the non-solvent is first! was steamed and the surface of the epoxy resin particles was partially pale,
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durch das Herabgleiten der Schicht aufgrund des Erwärmens verhindert werden konnte. Mit einem Erhöhen der Temperatur schmelzen die Epaxyharzteilchen und wurde eine gleichmäßige Schicht hl gebildet, wie in dnr Figur k Cd) dargestellt ist. Die Dicke der erhaltenen Schicht betrug n,fi bin 1,n mm.could be prevented by the sliding of the layer due to the heating. With increasing temperature, the melt Epaxyharzteilchen and formed a uniform layer hl, k as shown in FIG dnr Cd) is shown. The thickness of the layer obtained was n, fi bin 1, n mm.
Eine Suspension wurde mit den gleichen l\iinhtläsunrismittel wie in dem Beispiel 1 hergestellt, und 3d Gew.->u fJylonteilchen 12 und 2 Gew.->o Palystylal ujurüen als Bindemittel in der auspension qsliiRt. Der nleicne lüiüerstand wie in dem Beispiel c wuruu in die duspensiün getauuriü, und die gefrorene Schicht aus der Suspension wurde in gleicher Weise gebildet. Nach dem Abtrennen der Schicht von dem Leitungsdraht 2 wie in dem Beispiel 2 wurde die zurückgebliebene Schicht durch Erwärmen des UlirierstE Es wurde eine gleichmäßige iMylonschicht 12 gebildet.A suspension was prepared by the same l \ iinhtläsun ri agents like in the example 1, and 3d wt .-> u fJylonteilchen 12 and 2 wt .-> o Palystylal ujurüen as binders in the auspension qsliiRt. The small air level as in Example c was thawed into the duspension, and the frozen layer from the suspension was formed in the same way. After the layer was separated from the lead wire 2 as in Example 2, the remaining layer was formed by heating the surface. A uniform iMylon layer 12 was formed.
zurückgebliebene Schicht durch Erwärmen des Widerstands bei 2oo C gehärtet.remaining layer hardened by heating the resistor at 200 ° C.
33 GEW.-/0 won Polyvinylchloridteilchen wurden in den gleichen IMichtlösunnsmittel wie in dem Beispiel 1 dispergiert, und eine abgekühlte Eisenplatte wurde in die erhaltene Suspension getaucht. Die auf der Gberf.lache der Eisenplatte gebildete gefrorene Schicht aus der Suspension wurde bei 12o C gehärtet, und dadurch wurde die Eisenplatte mit einer gleichmäßigen Schicht von Polyvinylchlorid überzogen.33 wt / ow polyvinyl chloride particles were immersed in the same non-solvent dispersed as in Example 1, and a cooled iron plate was immersed in the suspension obtained. The pool of the iron plate on the surface The frozen layer formed from the suspension was kept at 12o C hardened, and thereby the iron plate was coated with a uniform layer of polyvinyl chloride.
Drahtwiderstände wurden mit Glas mit niedrigem Schmelzpunkt unter Anwendung eines Suspensianssystems mit der folgenden Zusammensetzung überzogen:Wirewound resistors have been used with low melting point glass coated with a suspension system with the following composition:
Iod g GlaspulverIodine g glass powder
2,15 g Bindemittel, Äthylcellulose2.15 g binder, ethyl cellulose
193,2 g Nichtläsungsmittel, Daiflon S2 193.2 g non-solvent, Daiflon S 2
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- 1α -- 1α -
Die Glaspulver bestanden aus 88 Gew.-% PbO und 12 Geu.-% BO Und hatten eine mittlere Korngröße wan 1,o ,um. Die Suspension wurde bei 270C gehalten, und die Drahtwiderstände wurden auf -12 C abgekühlt und dann in die Suspension getaucht, so daß sich eine gefrorene Schicht van der Suspension auf der Oberfläche des Widerstands bildete. Nach dem Herausnehmen der Widerstände aus der Suspension wurde zunächst das Nichtlösungsmittel verdampft, und dann wurden die Widerstände 3d Minuten in der Näher von 3od C gehalten, so daß das Bindemittel völlig fortgebrannt wurde. Danach wurde der Widerstand weiter 1o Minuten bei 35a C erwärmt, um das Glaspulver völlig zu schmelzen. Schließlich wurde der Widerstand mit einer Geschwindigkeit von 1o C/Minute auf Raumtemperatur abgekühlt und eine gleichmäßige Glasschicht auf der Oberfläche des Drahtwiderstands gebildet, wobei diese Glasschinht keine Löcher oder Poren aufwies und eine Dicke von o,8 mm hatte. The glass powders consisted of 88% by weight of PbO and 12% by weight of BO and had an average grain size of 1.0 μm. The suspension was kept at 27 ° C. and the wire resistors were cooled to -12 ° C. and then immersed in the suspension so that a frozen layer of the suspension formed on the surface of the resistor. After the resistors had been removed from the suspension, the nonsolvent was first evaporated and then the resistors were kept in the vicinity of 30 ° C. for 3 minutes, so that the binder was completely burned off. Thereafter, the resistor was heated for a further 10 minutes at 35.degree. C. in order to completely melt the glass powder. Finally, the resistor was cooled to room temperature at a rate of 10 ° C./minute and a uniform layer of glass was formed on the surface of the wire resistor, this glass chain having no holes or pores and a thickness of 0.8 mm.
Dr.Ue/HoDr.Ue / Ho
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Claims (1)
beiden Enden dESSElbsn, εϊπεγ der beiden Leitungsdrähte und der nanzE Körper dss elektronischen Teils in die Suspension Eingetaucht tiJErden, und daß man die auf dar QbErfläche des eingetauchten Leitungsdrahts gEbildete
Schicht bus der Suspension mittels eines SchnEiduerkzEugs nach dem Herausnehmen des besagten Teüs aus der Suspension uegschnEidEt.8. The method according to claim 7, characterized in that the electronic part is an axial type with zljei LeitunnsdrähtEn along dsn
both ends of the wire, εϊπεγ of the two lead wires and the nanzE body of the electronic part immersed in the suspension, and that one formed on the surface of the immersed wire
Layer the suspension by means of a cutting tool after removing the said part from the suspension.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7402586A FR2258965B1 (en) | 1974-01-25 | 1974-01-25 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2405429A1 true DE2405429A1 (en) | 1975-08-07 |
DE2405429B2 DE2405429B2 (en) | 1975-11-27 |
DE2405429C3 DE2405429C3 (en) | 1976-07-15 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2405429B2 (en) | 1975-11-27 |
US3914466A (en) | 1975-10-21 |
GB1440148A (en) | 1976-06-23 |
FR2258965B1 (en) | 1976-10-08 |
FR2258965A1 (en) | 1975-08-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EF | Willingness to grant licences |