DE2354141C2 - Optisches Meßverfahren zum Untersuchen von Oberflächen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Optisches Meßverfahren zum Untersuchen von Oberflächen und Einrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| GB1492114A (en) * | 1975-01-31 | 1977-11-16 | Coal Ind | Measurement of flow of particulate material |
| US4215939A (en) * | 1977-12-22 | 1980-08-05 | Owens-Illinois, Inc. | Glue drop detector |
| US4339745A (en) * | 1980-05-14 | 1982-07-13 | General Electric Company | Optical character recognition |
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| US4340300A (en) * | 1980-08-11 | 1982-07-20 | Siemens Corporation | Input sensor unit for a fingerprint identification system |
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| US4547073A (en) * | 1981-02-17 | 1985-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Surface examining apparatus and method |
| JPS6313446Y2 (enExample) * | 1981-02-17 | 1988-04-16 | ||
| US4854708A (en) * | 1987-01-13 | 1989-08-08 | Rotlex Optics Ltd. | Optical examination apparatus particularly useful as a Fizeau interferometer and schlieren device |
| US5075560A (en) * | 1990-09-20 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Moire distance measurements using a grating printed on or attached to a surface |
| US5075562A (en) * | 1990-09-20 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for absolute Moire distance measurements using a grating printed on or attached to a surface |
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| JP3404134B2 (ja) * | 1994-06-21 | 2003-05-06 | 株式会社ニュークリエイション | 検査装置 |
| US5523846A (en) * | 1994-11-21 | 1996-06-04 | New Creation Co., Ltd. | Apparatus for detecting marks formed on a sample surface |
| US5737074A (en) * | 1995-12-05 | 1998-04-07 | New Creation Co., Ltd. | Surface inspection method and apparatus |
| US5686987A (en) | 1995-12-29 | 1997-11-11 | Orfield Associates, Inc. | Methods for assessing visual tasks to establish desirable lighting and viewing conditions for performance of tasks; apparatus; and, applications |
| JP4105256B2 (ja) * | 1997-07-29 | 2008-06-25 | 株式会社ナノシステムソリューションズ | 光照射装置及び表面検査装置 |
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Family Cites Families (4)
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|---|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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