DE2313197A1 - TARGET OR IMPACT ELECTRODE CONSTRUCTION AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF - Google Patents

TARGET OR IMPACT ELECTRODE CONSTRUCTION AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF

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DE2313197A1
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Akimitu Aoyama
Yujiro Koike
Haruo Maeda
Yuji Mogi
Tsutomu Nishino
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • HELECTRICITY
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Description

PATE NTAN WALTS 3Ü R O TlEDTKE - BüHLING - ΚϊΝΝΕPATE NTAN WALTS 3Ü R O TlEDTKE - BüHLING - ΚϊΝΝΕ

TEL. (0811) 5353-56 TELEX: 524845 tipat CABLE ADDRESS: Germaniapatent München TEL. (0811) 53 53-56 TELEX: 524845 tipat CABLE ADDRESS: Germaniapatent Munich

8 0 0 0 M ü η chen 2 / Bavariaring48 0 0 0 M ü η chen 2 / Bavariaring4

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Matsushita Electric Industrial Company, LimitedMatsushita Electric Industrial Company, Limited

Osaka, JapanOsaka, Japan

Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau und Verfahren zu dessen HerstellungTarget or impingement electrode structure and method for its production

Die Erfindung betrifft allgemein einen Targetbzw. Auftreffelektrodenaufbau zur Verwendung bei Ladungsspeicher röhr en, und zwar im einzelnen ein Verfahren zur Herstellung eines Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus, der einen Film aus einer organischen Verbindung aufweist, sowie diesen Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau.The invention relates generally to a target or Impact electrode assembly for use in charge storage tubes, specifically a method for Production of a target or target electrode structure, which has an organic compound film and this target or landing electrode structure.

Die Speicherung von Bildsignalen während einer vorbestimmten Zeitdauer wird in vielfacher Weise bei den Anwendungen der Fernmeldetechnik benutzt, einschließlich der Wiedergabe eines feststehenden Bildes, beispielsweise von Dokumenten, in einem Videofernsprechsystem', der überwachung von Bildnern,die übertragen oder auf einem Faksimile empfangen worden sind, und der Wiedergabe vonThe storage of image signals for a predetermined period of time is in many ways in the Telecommunications applications, including the display of a fixed image, for example of documents, in a video telephony system, the monitoring of images that are broadcast or on a Facsimile received and playback of

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Bildsignalen, die mit Signalen des üblichen Punkfernsehens oder von Systemen des Zivilluftfahrtfernsehens durchsetzt bzw. verbunden sind. Diese Erfordernisse werden von Speicherröhren erfüllt, von denen eine Anzahl verschiedener Arten bekannt sind. Eine bekannte Speicherröhre, ist mit einem Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau versehen, der eine lichtelektrisch leitende Schicht oder eine Photokathode, wie sie üblicherweise bezeichnet wird, umfaßt, welche auf einer Seite des Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus angeordnet und der abzubildenden Szene zugewandt ist, sowie eine Isolierschicht auf der anderen Seite zum Zwecke der Speicherung von Ladungen, die infolge des Lichteinfalls auf die Photokathode entstanden sind, wobei die Ladungsinformation durch Auftreffen eines Elektronenstrahls ausgelesen wird. Bei einer anderen bekannten Speicherröhre wird anstelle einer Photokathode für die Aufbringung von Elektron enladungen auf das Target bzw. die Auftreffelektrode eine Schreibkanone und für die Entladung der Elektronenladungen eine Lesekanone benutzt. Schließlich dient bei einer anderen Art von Speicherröhre eine einzige Elektronenkanone dem zweifachen Zweck des Schreibens und Lesens von binärer Information.Image signals that are interspersed with signals from conventional point television or from systems of civil aviation television or are connected. These needs are met by storage tubes of a number of different types are known. A known storage tube is provided with a target or landing electrode assembly, the one photoelectrically conductive layer or a photocathode, as it is commonly referred to, comprises which on one side of the target or impingement electrode structure is arranged and facing the scene to be imaged, and an insulating layer on the other hand for the purpose of storing charges that arise as a result of the incidence of light on the photocathode, the charge information being read out by the impact of an electron beam. Another known storage tube is instead of a photocathode for applying electron charges to the target or the impingement electrode a write cannon and a read cannon for discharging the electron charges. After all, serve with another Type of storage tube a single electron gun the dual purpose of writing and reading binary Information.

Ein für derartige Fälle verwendeter Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau besteht aus einem Metallschirm bzw. -gitter bzw. -raster o.dgl., auf dem eine anorganische Verbindung wie Calcinmfluorid (CaPp)* Siliciumdioxyd (SiOp) oder eine solche poröse anorganische Verbindung wie Kalium-A target or impingement electrode structure used for such cases consists of a metal screen or grid or grid or the like, on which an inorganic compound such as Calcinmfluorid (CaPp) * silicon dioxide (SiOp) or such a porous inorganic compound as potassium

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chlorid (KCl) abgelagert bzw. niedergeschlagen ist. Ein anderer Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau bekannter Art umfaßt ein Siliciumsubstrat bzw. eine Siliciumunterlage und eine in Form von einem Gitter bzw. Sieb oder Punkten darauf abgelagerte bzw. niedergeschlagene Schicht von Siliciumdioxyd.chloride (KCl) is deposited or precipitated. A Another target or landing electrode structure of known type comprises a silicon substrate or a silicon pad and a layer of deposited thereon in the form of a screen or dots Silicon dioxide.

Die wichtigen Erfordernisse für ein Ladungsspeichertarget bzw. eine Ladungsspeicherauftreffelektrode sind Gleichmäßigkeit des Ladungskontrastes, der Auflösungsfähigkeit, der Bildabstufung und der Schreib- sowie Lesegeschwindigkeiten über die gesamte Oberfläche des Targets bzw. der Auf treff elektrode. TJm diese Erfordernisse zu erfüllen, ist es notwendig, die Gleichförmigkeit der Sekundäremissionseigenschaften, der Filmdicke der Isolatorverbindung und des elektrischen Widerstandes sowie der Kapazität der Isolatorverbindung sicherzustellen.The important requirements for a charge storage target or a charge storage impingement electrode are the uniformity of the charge contrast, the resolution, the image gradation and the writing and reading speeds over the entire surface of the target or the impingement electrode. To meet these requirements, it is necessary to check the uniformity of the secondary emission properties, the film thickness of the insulator connection and the electrical resistance as well as the capacitance of the Ensure isolator connection.

Bei den bekannten Verfahren zur Herstellung eines Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus ist es erforderlich, eine Anzahl komplizierter Verfahrensschritte durchzuführen, welche Vakuumverdampfung, Oxydierung und Photoätzung umfassen. Die Produkte müssen während dieser Verfahrensschritte oft von einer Stelle zur anderen transportiert werden, und es geschieht oft, daß die Produkte der äußeren Umgebung ausgesetzt werden, so daß auf diese V/eise die Wahrscheinlichkeit des Einführens unerwünschter bzw. schädlicher Fremdteilchen in die Produkte und der Verunreinigung der Oberfläche derIn the known methods for producing a target or impingement electrode structure, it is necessary perform a number of complicated process steps which include vacuum evaporation, oxidation and photoetching. The products often have to be transported from one place to another during these process steps, and it it often happens that the products are exposed to the external environment, so that in this way the probability the introduction of undesirable or harmful foreign particles into the products and the contamination of the surface of the

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Produkte mit Staub, Abrieb o.dgl. zunimmt. Die Einführung .von Fremdteilchen hat oftmals eine Ungleichmäßigkeit der Sekundäremissionscharakteristik zur Folge. Darüber Mnaus ist eine lange Herstellungszeit erforderlich, was wiederum zu hohen Produktionskosten'führt.Products with dust, abrasion or the like. increases. The introduction .of foreign particles often has a non-uniformity of the Secondary emission characteristics result. In addition, Mnaus requires a long production time, which in turn leads to high production costs.

Mit der vorliegenden Erfindung wird ein Targetbzw. Auftreffelektrodenaufbau geschaffen, bei dem eine organische Verbindung als Speicherelement benutzt wird.With the present invention, a target or. Creation of an impingement electrode structure in which one organic compound is used as a storage element.

Weiterhin schlägt die Erfindung ein vereinfachtes Verfahren zur Herstellung eines Target- bzw. Auftreffelektrodenauf baus unter niedrigen Kosten vor, welcher eine gleichmäßige Speicherzeit von der einen zu der anderen Probe aufweist.Furthermore, the invention proposes a simplified method for producing a target or impingement electrode structure at low cost, which has a uniform storage time from one sample to the other.

Schließlich wird mit der Erfindung ein verbesserter Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau zur Verfügung gestellt, der eine lange Lebensdauer besitzt.Finally, the invention provides an improved target or impingement electrode structure, which has a long service life.

Die Erfindung wird im folgenden anhand schematischer Zeichnungen an Ausführungsbeispielen näher erläutert.The invention is explained in more detail below with reference to schematic drawings of exemplary embodiments.

Fig. 1 zeigt eine vergrößerte Seitenansicht eines Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus gemäß der Erfindung, wobei man Tropfen einer organischen Verbindung sieht, die auf einem1 shows an enlarged side view of a target or landing electrode assembly according to the invention, wherein one sees drops of an organic compound, which on a

Metallschirm bzw. -gitter abgelagert sind; 309840/0862Metal screen or grids are deposited; 309840/0862

Fig. 2 zeigt eine vergrößerte Seitenansicht desFig. 2 shows an enlarged side view of the

Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus der Fig. 1, bei dem die organische Verbindung Über die Oberfläche' des Schirms bzw. Gitters ausgebreitet ist;Target or impingement electrode structure of FIG. 1, in which the organic compound Spread over the surface of the screen or grid;

Fig. 3 zeigt eine vergrößerte Seitenansicht desFig. 3 shows an enlarged side view of the

Target- bzw. AuftreffelektrodenaufbauB der Fig. 2 in festem Zustand nach einem Erhitzungs- bzw. Brennvorgang; undTarget or impingement electrode structure B of Fig. 2 in the solid state after a heating or burning process; and

Fig. 4 zeigt eine vergrößerte Seitenansicht zweier Target- bzw. Auftreffelektrodenstrukturen der Fig. 3, die miteinander verbunden sind, wobei die Rückseiten aneinander angrenzen.4 shows an enlarged side view of two target or impingement electrode structures 3, which are connected to one another, the rear sides being adjacent to one another.

Eine erste Ausführungsform der Erfindung ist in Fig. dargestellt und umfaßt einen Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau, dem allgemein das Bezugszeichen 10 zugeordnet ist. Der Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau 10 umfaßt einen maschigen bzw. netzartigen Metallschirm bzw. ein entsprechendes ßitterraster ο ..dgl., der bzw. das beispielsweise aus Kupfer ausgebildet ist und eine Dicke von ungefähr 3 Mikron besitzt. Auf dem Schirm o.dgl. 11 sind Tropfen 12 einer organischen Verbindung wie Polyimidemail, -glasur, -lack, -überzug, die unter der Handelsbezeichnung von Dupont als "Polyimide Wire Enamel" (PolyimiddräTtüberzug) bekannt ist, oder von Polyamidimidemail, -glasur, -lack, -überzug abgelagert bzw. nieder-A first embodiment of the invention is shown in FIG. 1 and includes a target assembly, generally designated by the reference numeral 10. The target or impingement electrode structure 10 comprises a meshed or net-like metal screen or a corresponding grid pattern or the like, which is made, for example, of copper and has a thickness of approximately 3 microns. On the screen or the like. 11 drops 12 of an organic compound such as polyimide enamel, glaze, varnish, coating, known under the trade name of Dupont as "Polyimide Wire Enamel", or of polyamide imide enamel, glaze, varnish, coating are deposited or low

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geschlagen war und zwar mittels Sprühen oder Bepinseln, Aufstreichen oder mittels anderer bekannter Verfahren. Der Schirm o.dgl. H0 wird dann in einer Kreiselvorrichtung bzw. einer Schleuder bzw, einer sich schnell drehenden Einrichtung (nicht dargestellt) angeordnet und dann mit hoher Geschwindigkeit rotiert, damit die Tropfen 12 der organischen Verbindung durch die Zentrifugalkraft seitwärts getrieben werden und damit sie weiterhin durch die Schwerkraft nach abwärts in die Lücken, Maschen, Zwischenräume o.dgl. 13 getrieben werden. Wegen der Viskosität des Verbindungsmaterials werden die Tropfen über die gesamte Oberfläche des Schirms ausgebreitet, wie in Fig. 2 dargestellt- ist. Unter dieser Bedingung kann es möglicherweise zur Ausbildung von Unregelmäßigkeiten über die Target- bzw. Auftreffelektrodenoberflache kommen. Als nächstes wird der Schirm 11 in Luft auf eine Temperatur im Bereich von 100°C bis 2000C erhitzt und auf dieser Temperatur während ungefähr drei Stunden gehalten. Während des Erwärmungs- bzw, ErhitzungsVorgangs wird das Lösungsmittel der organischen Verbindung verdampft, was zur Folge hat, daß sich innerhalb der Verbindung eine mechanische Spannung entwickelt. Diese Spannung wirkt in einer solchen Weise, daß die Oberflächenunregelmäßigkeiten zum Verschwinden gebracht werden, so daß auf diese Weise ein Film 14 einer organischen Verbindung erzielt wird, der eine gleichmäßige Dicke über die gesamte Oberfläche des Targets bzw, der Auftreffelektrode besitzt,was beaten by spraying or brushing, brushing or other known methods. The screen or the like. H 0 is then placed in a gyroscopic device or a centrifugal device or a rapidly rotating device (not shown) and then rotated at high speed so that the drops 12 of the organic compound are driven sideways by centrifugal force and so that they continue to be driven by gravity downwards into the gaps, meshes, spaces or the like. 13 are driven. Because of the viscosity of the bonding material, the drops are spread over the entire surface of the screen, as shown in FIG. Under this condition, irregularities can possibly form over the target or impingement electrode surface. Next, the screen 11 is heated in air to a temperature in the range of 100 ° C to 200 0 C and maintained at this temperature for about three hours. During the heating or heating process, the solvent of the organic compound is evaporated, with the result that a mechanical tension develops within the connection. This voltage acts in such a way that the surface irregularities are made to disappear, so that in this way a film 14 of an organic compound is obtained which has a uniform thickness over the entire surface of the target or the impingement electrode,

In Fig. 4 ist eine zweite bevorzugte Ausführungs-In Fig. 4 is a second preferred embodiment

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form der Erfindung veranschaulicht. Der Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau 15 umfaßt ein Paar von Targets bzw. Auftreffelektroden 10, die mittels des vorstehend beschriebenen Verfahrens hergestellt worden sind. Die Targets bzw. Auftreffelektroden 10 sind so miteinander verbunden, daß die Rückseiten einander zugewandt sind bzw. aufeinanderliegen, wobei die Schirmseiten nach auswärts gerichtet sind. Der Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau 15 kann beispielsweise für Zweikanonenspeicherröhren benutzt werden, in denen eine Seite des Aufbaus 15 als Target bzw. Auftreffelektrode für die Schreibkanone und die andere Seite als Target bzw. Auftreff elektrode 'für die Lesekanone dient.illustrated form of the invention. The target or impingement electrode structure 15 comprises a pair of targets or impingement electrodes 10, which by means of the above-described Process have been established. The targets or impingement electrodes 10 are connected to one another so that the The backs face each other or lie on top of each other, with the screen sides facing outwards. The target or impingement electrode assembly 15 can, for example for two cannon storage tubes are used in which one side of the structure 15 as a target or impingement electrode for the write cannon and the other side as a target or impact electrode 'is used for the reading cannon.

In den vorstehend beschriebenen Anordnungen wird die Speicherzeit durch den Widerstand bestimmt, der quer über die Zwischenräume, Lücken o.dgl. 13 gemessen wird. Der Widerstand seinerseits wird durch die Abmessung des Zwischenraums, der Lücke o.dgl. »und die Dicke des sich aus der organischen Verbindung ergebenden Films 14 bestimmt. Beispielsweise ergibt ein Schirm, Gitter, Raster o.dgl. von 500 bis 1500 mesh und ein Film mit einer Dicke von ungefähr 1 Mikron bis 20 Mikron eine Ladungsspeicherzeit im Bereich von 3 bis 60 Minuten.In the arrangements described above, the storage time is determined by the resistance, the transverse about the spaces, gaps or the like. 13 is measured. Of the Resistance in turn is determined by the dimension of the space, the gap or the like. »And the thickness of the organic Connection resulting film 14 is determined. For example results in a screen, grid, grid or the like. from 500 to 1500 mesh and a film about 1 micron thick to 20 microns, a charge storage time in the range of 3 to 60 minutes.

Der Metallschirm o.dgl. 11 kann aus irgendeinem Metall ausgebildet*sein, das im Vakuum stabil ist, wie beispielsweise Kupfer, Aluminium und Silber, oder er kann auf einem Glasschirm von solchem Material ausgebildet bzw. auf-The metal screen or the like. 11 can be formed from any metal * that is stable in vacuum, such as Copper, aluminum and silver, or it can be formed or mounted on a glass screen of such material.

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gebaut sein, welches die Ablagerung von Metall oder leitfähigem Material darauf ermöglicht und die Herstellung einer optisch flachen bzw- ebenen Oberfläche gestattet. Darüber hinaus kann der Schirm 11 aus einer Gitterart bestehen, welche eine Mehrzahl von parallelen Metallstreifen umfaßt. Wenn Metallstreifen in der Anordnung des Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus 15 verwendet werden, dann werden die Targets bzw. Auftreffelektroden 10 derart miteinander verbunden, daß die * Streifen der einen Targetseite senkrecht zur Richtung der Streifen der anderen Targetseite verlaufen.be built to prevent the deposition of metal or conductive Material on it enables and the manufacture of an optically flat or even surface permitted. In addition, the screen 11 may be of a type of grid, which comprises a plurality of parallel metal strips. If metal strips in the arrangement of the target or landing electrode assembly 15 are used, then the targets or impact electrodes 10 are connected to one another in such a way that the * Stripes on one side of the target run perpendicular to the direction of the stripes on the other side of the target.

Ein Test hat gezeigt, daß der erfindungsgemäßeA test has shown that the inventive

Target-, bzw. Auftreffelektrodenaufbau keine Leistungsverschlechterung .aufwies, nachdem er während einer Zeit von 6 Monaten einem aufschlagenden Elektronenstrahl ausgesetzt war, der mittels eines Potentials von 100 eV auf die Oberfläche des Aufbaus beschleunigt wurde.Target or impingement electrode structure no deterioration in performance . exhibited after having been for a period of 6 months was exposed to an impacting electron beam, which by means of a potential of 100 eV onto the surface of the Construction was accelerated.

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Claims (1)

PatentansprücheClaims 1. Verfahren zur Herstellung eines Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbaus für die Verwendung bei Ladungsspeicherröhren, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrensschritte:1. Process for the production of a target or impingement electrode structure for use in charge storage tubes, characterized by the following process steps: Ablagern bzw. Niederschlagen von Tropfen einerDeposition or precipitation of drops of a organischen Verbindung eines Widerstandes von wenigstensorganic compound of a resistance of at least 15
10 Ohm-cm auf einen Metallschirm, in dem sich Zwischenräume, Lücken o.dgl. befinden;
15th
10 ohm-cm on a metal screen in which there are gaps, gaps or the like. are located;
Rotieren des Schirms mit einer Geschwindigkeit, die ausreicht, um die Tropfen seitwärts zu treiben, so daß diese die Zwischenräume, Lücken o.dgl. ausfüllen; undRotating the screen at a speed sufficient to drive the drops sideways so that these the spaces, gaps or the like. to complete; and Erhitzen der organischen Verbindung zum Zwecke des Erzielens einer gleichmäßigen Dicke des Aufbaus.Heating the organic compound to achieve a uniform thickness of the structure. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung auf eine Temperatur von ungefähr 1000C bis etwa 20O0C erhitzt und während etwa drei Stunden auf dieser Temperatur gehalten wird.2. The method according to claim 1, characterized in that the organic compound is heated to a temperature of about 100 0 C to about 20O 0 C and held at this temperature for about three hours. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung aus der aus Polyimid und Polyamidimid bestehenden Gruppe ausgewählt ist.3. The method according to claim 1 or 2, characterized characterized in that the organic compound is selected from the group consisting of polyimide and polyamide-imide is selected. A.!Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau zur Ver- ^ 309 84 0/0 862A.! Target or impact electrode assembly for the ^ 309 84 0/0 862 23131S723131S7 . - 10 -. - 10 - wendung bei Ladungsspeicherrohren, insbesondere nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3 hergestellt, g e k e η η ζ e i c h η e t durch einen Schirm (11), in dem sich Zwischenräume, Lücken o.dgl. (13) befinden und einen Film (14) einer organischen Verbindung mit einem Widerstand von wenigstens 10 ^ Ohm-cm, welcher auf dem Schirm abgelagert ist. . ■ Use in charge storage tubes, in particular produced by the method according to one of claims 1 to 3, geke η η ζ eich η et by a screen (11) in which there are gaps, gaps or the like. (13) and a film (14) of an organic compound having a resistance of at least 10 ^ ohm-cm deposited on the screen . . ■ 5. Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung aus der aus Polyimid und Polyamidimid bestehenden Gruppe ausgewählt ist.5. target or impingement electrode structure according to claim 4, characterized in that the organic Compound of that consisting of polyimide and polyamide-imide Group is selected. 6. Target- bzw. Auftreffelektrodenaufbau nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß der organische Film (14) eine Dicke von höchstens 20 Mikron besitzt.6. target or impingement electrode structure according to claim 4 or 5, characterized in that the organic Film (14) has a thickness of 20 microns or less. 7· Target- bzw, Auftreffelektrodenaufbau nach Anspruch 4, 5 oder 6, dadurch g e k e η η ze i c h η e t, daß der Schirm, das Gitter, das Raster o.dgl. (11) ein solcher bzw, ein solches von 500 bis 1500 mesh ist.7 · Target or impingement electrode structure according to claim 4, 5 or 6, thereby g e k e η η ze i c h η e t that the Screen, the grid, the grid or the like. (11) such or is from 500 to 1500 mesh. 309840/0362309840/0362
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