DE2264113A1 - ELECTRON CANNON FOR CATHODE TUBES - Google Patents
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Patentanwalt· i.-ino. π. γ: (CTZ β·η* D'pWr \ .. ι · ..--»!.ECHTPatent attorney i.-ino. π. γ: (CTZ β η * D'pWr \ .. ι · ..-- »!. REAL
Dr.-!:v-·. ,. :-i -:.iV2jr. 81-19.998Ρ(19.999Ρ; 29.Ι2.Ι972Dr .- !: v- ·. ,. : -i - :. iV2jr. 81-19.998Ρ (19.999Ρ; 29.Ι2.Ι972
β *i α η ΰ;. t ιέ i 2, üioinädorfetr. 10β * i α η ΰ ;. t ιέ i 2, üioinädorfetr. 10
Elektronenkanone für KathodenstrahlröhrenElectron gun for cathode ray tubes
Die Erfindung bezieht sich auf eine Elektronenkanone für Kathodenstrahlröhren mit einem Hauptlinsensystem zum Fokussieren von von mindestens einer Kathode emittierten Elektronen auf einem Leuchtschirm.The invention relates to an electron gun for cathode ray tubes with a main lens system for Focusing electrons emitted from at least one cathode on a fluorescent screen.
übliche Elektronenkanonen mit einer Linsenfunktion, wie sie im allgemeinen in Kathodenstrahlröhren zum Einsatz kommen, begreifen sowohl die Unipotentialbauart als auch die Bipotentialbauart in sich ein.conventional electron guns with a lens function, as are generally used in cathode ray tubes come, understand both the unipotential type and the bipotential type in itself.
Bei einer Elektronenkanone der Unipotentialbauart sind drei fokussierende Elektroden längs einer imaginärenIn a unipotential type electron gun, three focusing electrodes are along an imaginary one
Sl-(POS 28l75)-DfBkSl- (POS 28l75) -DfBk
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Achse angeordnet, wobei an den beiden äußeren dieser Elektroden eine hohe Spannung von beispielsweise 25 kV anliegt, während die zentrale Elektrode etwa auf dem Potential Null gehalten wird, so daß sich eine Hauptlinsenanordnung ergibt.Axis arranged, with a high voltage of 25 kV, for example, being applied to the two outer electrodes, while the central electrode is held approximately at zero potential, so that a main lens arrangement results.
Bei einer Elektronenkanone der Bipotentialbauart sind längs einer imaginären Achse zwei fokussierende Elektroden angeordnet, von denen die eine auf einer hohen Spannung von etwa 25 kV liegt, während die andere auf einer mittleren Spannung von 3 bis 6 kV gehalten wird, wodurch sich wiederum eine Hauptlinsenanordnung ergibt.In a bipotential type electron gun, there are two focusing electrodes along an imaginary axis arranged, one of which is at a high voltage of about 25 kV, while the other is at a medium voltage Voltage of 3 to 6 kV is maintained, which in turn results in a main lens assembly.
Bei Elektronenkanonen beider Bauarten sind die entsprechenden Elektroden so angeordnet, daß sich eine Hauptlinse ergibt, und diese eine Hauptlinse fokussiert ein Kreuzungsbild auf einen Leuchtschirm.With electron guns of both types, the corresponding electrodes are arranged in such a way that a main lens results, and this one main lens focuses an intersection image on a phosphor screen.
Von den oben erwähnten Elektronenkanonen können die der Bipotentialbauart eine geringe Aberration und damit gute Eigenschaften hinsichtlich des Leuchtflecks zeigen, sie verlangen Jedoch eine hohe Spannung von beispielsweise 3 bis 6 kV für eine Fokussierungselektrode, woraus sich Schwierigkeiten hinsichtlich der Durchbruchsspannung und hinsichtlich des Einflusses von Änderungen in der Hochspannung ergeben.Of the above-mentioned electron guns, those of the bipotential type can have low aberration and thus good properties show with regard to the light spot, however, they require a high voltage of, for example, 3 to 6 kV for a focusing electrode, which gives rise to difficulties in terms of breakdown voltage and in terms of Influence of changes in the high voltage.
Die Elektronenkanonen der Unipotentialbauart weisen zwar den Vorteil auf, daß sich bei ihnen die Brennpunktseinstellung bei niedriger Spannung vornehmen läßt und nur in geringem Maße durch Änderungen in der Hochspannung beeinflußt wird, jedoch sind sie den Elektronenkanonen der Bipotentialbauart in ihren Eigenschaften hinsichtlich des Leuchtflecks unterlegen. Außerdem zeigen diese Elektronenkanonen der Unipotentialbauart noch weitere Nachteile, indem bei einem Versuch zur VerbesserungThe electron guns of the unipotential type have the advantage that with them the focus adjustment can be made at low voltage and is only slightly influenced by changes in high voltage, however they are inferior to the electron guns of the bipotential type in terms of their properties with regard to the light spot. aside from that These unipotential type electron guns show still other disadvantages by trying to improve
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der Eigenschaften hinsichtlich des Leuchtflecks Haloerscheinungen auftreten können, woraus sich wiederum eine Verschlechterung im Fokussierungsverhalten ergibt.of the properties with regard to the light spot, halos can occur, which in turn results in a Results in deterioration in focusing behavior.
Zur Überwindung dieser Schwierigkeiten ist bereits eine Elektronenkanone in Vorschlag gebracht worden, die eine langgestreckte dritte Fokussierungselektrode aufweist, um die Eigenschaften hinsichtlich des Leuchtflecks zu verbessern. Bei solchen Elektronenkanonen tritt jedoch mit zunehmender Länge der zusätzlichen Elektrode um^so leichter die Erzeugung von Haioerscheinungen auf, und entsprechend verschlechtern sich die Fokussierungseigenschaften in gleichem Maße. Die Erzeugung von Haloerscheinungen läßt sich zwar durch eine Vergrößerung des Abstandes zwischen der ersten und der zweiten fokussierenden Elektrode unterdrücken, jedoch ist dieser Ausweg nur in beschränkten! Umfange gangbar. Weiter ist eine Elektronenkanone vorgeschlagen worden, bei der zur Verringerung der Haloerscheinungen die Apertur der ersten fokussierenden Elektrode verkleinert worden ist, jedoch zeigt eine solche Elektronenkanone den Nachteil, daß ihre Lebensdauer extrem kurz wird. Aus diesen Gründen wird bei den üblichen Elektronenkanonen die Länge der dritten fokussierenden Elektrode für die Bipotentialbauart im allgemeinen zwischen I5 und 20 mm und für die Unipotentialbauart zwischen I3 und 18 mm bemessen, so daß auch die erzielbarenVerbesserungen im Fokussierungsverhalten entsprechend begrenzt werden.To overcome these difficulties, an electron gun has already been proposed that an elongated third focusing electrode to the properties with respect to the light spot to improve. In such electron guns, however, with increasing length of the additional electrode, easier the generation of shark phenomena, and accordingly the focusing properties deteriorate to the same extent. The creation of halos can be done by increasing the distance between the first and the second focusing electrode suppress, but this way out is only limited! Extent feasible. Further, an electron gun has been proposed in which to reduce halos the aperture of the first focusing electrode has been made smaller, however, shows such an electron gun the disadvantage that their life becomes extremely short. For these reasons, the usual electron guns the length of the third focusing electrode for the bipotential type is generally between 15 and 20 mm and for measure the unipotential design between I3 and 18 mm, see above that the achievable improvements in the focusing behavior are limited accordingly.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Elektronenkanone der eingangs erwähnten Art so auszubilden, daß sie gleichzeitig einen sehr geringen Leuchtfleckdurchmesser zu erzielen gestattet und ein gutes Verhalten hinsieht-1 ■> ch Haloerschejnungen und Fokussierung zeigt.The invention is therefore based on the object of a To design electron guns of the type mentioned at the outset in such a way that that they also have a very small spot diameter allowed to achieve and good behavior looks-1 ■> ch shows halo discrepancies and focusing.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Hauptlinsensystem aus mindestens zwei aufeinander ausgerichteten Linsensystemen besteht und daß der Kreuzungspunkt des von der Kathode emittierten Elektronenstrahls etwa mit dem Brennpunkt des kathodenseitigen Linsensystems des Hauptllnsensystems zusammenfällt, so daß der Elektronenstrahl zwischen den beiden Linsensystemen im wesentlichen parallel zu deren Zentralachse verläuft.This object is achieved according to the invention in that the main lens system of at least two aligned There is lens systems and that the point of intersection of the electron beam emitted by the cathode approximately with the focal point of the cathode-side lens system of the main lens system coincides so that the electron beam between the two lens systems is essentially parallel to whose central axis runs.
Die erfindunge.gemäß ausgebildete Elektronenkanone weist mindestens drei fokussierende Elektroden auf, die auf ein und dieselbe von einer Kathode ausgehendem imaginäre Achse ausgerichtet sind, wobei sich zusammen mit einer Anode bei Anlage entsprechender Spannungen entlang dieser imaginären Achse mindestens zwei getrennte Linsen ergeben. Diese beiden getrennten Linsen bilden miteinander eine Einheitslinse mit großer Apertur, wobei der Dingpunkt, d.h. der Strahlkreuzungspunkt, für die von einer ersten und einer zweiten Gitterelektrode gebildete Linse an der Stelle des Brennpunkts des kathodenseitigen Linsensystems liegt und der Weg des von der Kathode emittierten Elektronenstrahls zwischen den beiden Linsensystemen nahezu parallel zur oben erwähnten imaginären Achse wird. Auf diese Weise lassen sich gleichzeitig eine Verringerung im Radius des Leuchtflecks und ejne Verbesserung im Fokussierungsverhalten erreichen.The electron gun designed according to the invention has at least three focusing electrodes on one and the same are aligned with the imaginary axis proceeding from a cathode, being together with an anode at Applying corresponding voltages along this imaginary axis result in at least two separate lenses. These two separate lenses together form a unit lens with a large aperture, whereby the object point, i.e. the beam crossing point, for the lens formed by a first and a second grid electrode at the location of the focal point of the cathode-side lens system and the path of the electron beam emitted by the cathode lies between the two Lens systems is almost parallel to the above-mentioned imaginary axis. In this way, a reduction can be achieved at the same time in the radius of the light spot and achieve an improvement in the focusing behavior.
Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung sind in Unteransprüchen gekennzeichnet.Advantageous further developments and refinements of the invention are characterized in the subclaims.
In der Zeichnung ist die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele veranschaulicht; dabei zeigen in der Zeichnung:In the drawing, the invention is illustrated using preferred exemplary embodiments; show in the Drawing:
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Fig. 1 einen Längsschnitt durch den Hauptteil einer ersten Ausführungsform für eine erfindungsgemäß ausgebildete Elektronenkanone;Fig. 1 is a longitudinal section through the main part of a first embodiment for a device according to the invention trained electron gun;
Fig. 2 eine Schemadarstellung zur Veranschaulichung des Arbeitsprinzips der in Fig. 1 dargestellten Elektronenkanone undFIG. 2 is a schematic illustration to illustrate the operating principle of the one shown in FIG. 1 Electron gun and
Fig. 3 und 4 Querschnitte durch den Hauptteil zweier weiterer Ausführungsformen für erfindungsgemäß ausgebildete Elektronenkanonen.Figures 3 and 4 are cross-sections through the main part of two further embodiments for the invention trained electron guns.
Die in Fig. 1 dargestellte Elektronenkanone besitzt eine Kathode K, erste, zweite, dritte, vierte und fünfte Gitterelektroden G,, G2, G-Tt Gh bzw. Gj. sowie eine Anode Gg. Alle diese verschiedenen Elektroden sind längs ein und derselben imaginären Achse angeordnet. Die axiale Länge der rohrförmig ausgebildeten Viertei^ltterelektrode G2, ist größer gewählt als ihr Durchmesser.The electron gun shown in Fig. 1 has a cathode K, first, second, third, fourth and fifth grid electrodes G 1 , G 2, G-Tt Gh and Gj, respectively. and an anode Gg. All of these different electrodes are arranged along one and the same imaginary axis. The axial length of the tubular four-part electrode G 2 is selected to be greater than its diameter.
Wenn an die verschiedenen Elektroden entsprechende Spannungen angelegt werden, ergeben sich zwei Elektronenlinsen L, und Lp. So sind bei dem dargestellten AusfUhrungsbeispiel an die dritte und fünfte Gitterelektrode G-, bzw. Gt- eine Spannung zwischen 7 und 10 kV und an die vierte Gitterelektrode G2, und die Anode Gg eine Spannung von 20 bis J>0 kV angelegt. Die bei Anlage solcher Spannungen entstehenden Elektronenlinsen L1 und Lp sind in der Schemadarstellung in Fig. 2 veranschaulicht. Wenn nun diesen beiden Linsen L, und Lp von einem als punktförmige Elektronenquelle anzusehenden Dingpunkt bzw. Strahlkreuzungspunkt a, der in einenvihrer Brennweite entsprechenden Abstand vor der ersten Linse L, auf der gemeinsamen imaginären Achse beider Linsen L, und Lp angenommen ist, her Elektronen zugeführt werden, so folgen diese Elektronen vor der erstenWhen corresponding voltages are applied to the various electrodes, two electron lenses L 1 and L p result. In the exemplary embodiment shown, a voltage between 7 and 10 kV is applied to the third and fifth grid electrode G- or Gt- and a voltage of 20 to J> 0 kV is applied to the fourth grid electrode G 2 and the anode Gg. The electron lenses L 1 and Lp produced when such voltages are applied are illustrated in the schematic diagram in FIG. 2. If now these two lenses L, and Lp from a point or beam crossing point to be regarded as a point electron source, which is assumed to be at a distance corresponding to their focal length in front of the first lens L, on the common imaginary axis of both lenses L, and Lp, electrons are supplied, these electrons follow before the first
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Linse L, durch die Spuren 1. und I2 angedeuteten divergenten Bahnen und werden dann durch die erste Linse L, umgelenkt, so daß sie parallel zur gemeinsamen imaginären Achse b beider Linsen L, und L2 verlaufen. Die erste Linse L, ist nämlich so angeordnet, daß sie als Sammellinse wirkt, indem ihr Brennpunkt mit dem Dingpunkt a zusammenfällt. Die von der ersten Linse L, gesammelten Elektronen folgen sodann einem in Fig. 2 durch die Spuren 1, und K angedeuteten und zur imaginären Achse b parallel verlaufenden Weg in Richtung auf die zweite Linse Lp und werden von dieser in der durch die Spuren 1,- und Ig in Fig. 2 angedeuteten Weise umgelenkt und auf einen Punkt c auf der imaginären Achse b fokussiert. In diesem Falle ist von den Punkten a oder c auf der imaginären Achse b aus gesehen die Anordnung der beiden Linsen L, und L2 äquivalent zur Anordnung einer Hauptlinse L von großer Apertur auf der Verbindungslinie zwischen den Kreuzungspunkten tLund e für die Verlängerungen der Spuren 1., lo, I1- und I/-. Auf diese Weise wird die Aberration extrem verkleinert. Hierbei ist einer der wichtigsten Gesichtspunkte der, daß die fokussierenden Elektroden so angeordnet sein sollten, daß die Bahnen der von der ersten Linse L, abgelenkten Elektroden parallel zur imaginären Achse b werden. Dies bedeutet aber, daß der Dingpunkt den» Brennpunkt für die erste Elektronenlinse L, zumindest sehr stark genähert werden muß. In diesem Falle werden außerdem bei zur imaginären Achse b parallelem Verlauf der Spuren 1, und Iu für den Elektronenstrahl die Aberrationserscheinungen selbst dann nicht berührt, wenn die Elektrode langgestreckt und der Leuchtfleck verkleinert wird, und es besteht nicht die Gefahr, daß sich das Verhalten der Elektronenkanone hinsichtlich Haloerscheinungen und Fokussierung verschlechtert.Lens L, divergent paths indicated by tracks 1 and I 2, and are then deflected by the first lens L 1, so that they run parallel to the common imaginary axis b of both lenses L 1 and L 2. Namely, the first lens L i is arranged to act as a converging lens by having its focal point coincident with the thing point a. The electrons collected by the first lens L, then follow a path, indicated in FIG. - and Ig in Fig. 2 indicated manner deflected and focused on a point c on the imaginary axis b. In this case, viewed from points a or c on the imaginary axis b, the arrangement of the two lenses L 1 and L 2 is equivalent to the arrangement of a main lens L of large aperture on the connecting line between the crossing points t L and e for the extensions of the tracks 1 ., l o , I 1 - and I / -. In this way, the aberration is extremely reduced. Here, one of the most important aspects is that the focusing electrodes should be arranged so that the trajectories of the electrodes deflected by the first lens L 1 become parallel to the imaginary axis b. This means, however, that the thing point must at least be very closely approximated to the focal point for the first electron lens L. In this case, in addition, if the tracks 1, and Iu for the electron beam run parallel to the imaginary axis b, the aberration phenomena are not affected even if the electrode is elongated and the luminous spot is made smaller, and there is no risk that the behavior of the Electron gun deteriorated in terms of halos and focusing.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform einer erfindungs-In the above-described embodiment of an invention
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gemäß ausgebildeten Elektronenkanone sind zwei Elektronenlinsen, von dsnen die eine zur Bipotentialbauart und die andere zur Unipotentialbauart gehört, auf einer gemeinsamen imaginären Achse angeordnet, so daß sich eine Linse mit großer Apertur ergibt. Die Erfindung ist jedoch auf eine solche Anordnung nicht beschränkt und läßt sich auf zahlreiche andere Elektronenlinsensysteme anwenden.according to the electron gun designed are two electron lenses, of which one belongs to the bipotential type and the other to the unipotential type, on a common arranged imaginary axis, so that there is a lens with a large aperture. However, the invention is based on such The arrangement is not limited and can be applied to numerous other electron lens systems.
So ist insbesondere eine analoge Anwendung auf Elektronenkanonen möglich, die 44it einer Kombination aus zvjei Elektronenlinsen der Unipotentialbauart oder mit einer Kombination von zwei Elektronenlinsen der Bipotentialbauart versehen sind. Ausführungsbeispiele für diese Fälle sind in Fig. 3 bzw. Fig. 4 veranschaulicht.In particular, an analogous application to electron guns is possible which uses a combination of two electron lenses of the unipotential type or a combination of two electron lenses of the bipotential type. Exemplary embodiments for these cases are illustrated in FIGS. 3 and 4, respectively.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 liegt an der dritten und der fünften Gitterelektrode G, bzw. Gr sowie an der Anode G< eine Spannung von 20 bis 30 kV an, während die vierte Gitterelektrode G,, und eine sechste Gitterelektrode G7 auf einer anderen Spannung von 7 bis 10 kV liegen. Es ergeben sich dann an deiff vierten und sechsten Gitterelektrode G^ bzw. G^ zwei Linsen der Unipotentialbauart, die den Linsen Lj und Lp in Fig. 2 entsprechen.In the embodiment according to FIG. 3, a voltage of 20 to 30 kV is applied to the third and fifth grid electrodes G or G r and to the anode G < , while the fourth grid electrode G 1 and a sixth grid electrode G 7 are applied another voltage of 7 to 10 kV. There are then two lenses of the unipotential type at deiff fourth and sixth grid electrodes G ^ and G ^, which correspond to the lenses Lj and Lp in FIG.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 liegt an der dritten Gitterelektrode G, eine Spannung von 20 bis 25 kV, während die vierte Gitterelektrode G1. eine Spannung von 7 bis 10 kV führt. Die Anode Gg liegt auf einer Spannung von 25 bis 30 kV. In den Spalten zwischen den jeweiligen benachbarten Elektroden bilden sich dann Linsen der Bipotentialbauart aus, die den Linsen L, und Lp in Flg. 2 entsprechen.In the embodiment according to FIG. 3, a voltage of 20 to 25 kV is applied to the third grid electrode G, while the fourth grid electrode G 1 . carries a voltage of 7 to 10 kV. The anode Gg is at a voltage of 25 to 30 kV. In the gaps between the respective adjacent electrodes, lenses of the bipotential type are then formed, which correspond to the lenses L, and Lp in FIG. 2 correspond.
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Sowohl bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 als auch bei dem nach Fj,";. !\ ist die axiale Länge der jeweiligen fünften b/.w. vierten Gi t terelektroden Gt bzw. G1 grb"ßer gewählt als der Durchmesser der diese Elektroden bildenden Rohre.Both in the embodiment according to FIG. 3 and in which, after Fj, ";.! \ .W is the axial length of the respective fifth b /. Terelektroden fourth Gi t G t and G 1 grb" selected SSER than the diameter of tubes forming these electrodes.
Bei den oben beschriebenen Ausführungsbeispielen läßt sich der Zvjeck einer KoIl imation des Elektronenstrahls /wischen den E] e',<i renenl i nsen parallel :--u deren imaginärer Achse d iroh eine Änderung dor nn den jev'ei Ii gen Elektroden anliegenden Spannungen und'Oder der axialen Längen der verschiedene! G* tiere! eitroden erreichen, die diese Elektronenli ηs e η 1> i1deι ■.In the above-described exemplary embodiments, the aim of a collation of the electron beam can be paralleled between the lines: - their imaginary axis is subject to a change in the voltages applied to the respective electrodes and'Or the axial lengths of the different! G * animals! Reach eitroden that these electron li ηs e η 1> i1deι ■.
Außerdem irri. die a>i;ile Läng·; der dritten Gitterelektrode G7 so gevnhit, daß sie etwa gleich der ßrennweite der Elek ■ ronrnli use L1 wivd. In der Praxis wii'd (5ie axiale Länge der dritten Gitterelektrode O7 aus dem Zus^mmenbang mit dem YergröGer'ungr verhalt lii s für die Elektronenlinsen L, und Lp, dem Ab.svand des Brennpunktes, d.h. ac ν Bildebene, an der· Stelle ο von der L] ektronenl inse L^, us-.\t. bestirrimt.Also irri. the a>i; ile length ·; of the third grid electrode G 7 so that it is approximately equal to the nominal width of the electronics L 1 . In practice, the axial length of the third grid electrode O 7 from the combination with the YergröGer'ungr behavior lii s for the electron lenses L, and Lp, the distance of the focal point, i.e. ac ν image plane, at the · Place ο from the electron lens L ^, us -. \ T. Determined.
Wie bereils oben dargelegt, i^ilden die beidun Linsensysteme einer ei-f i ndungsgemäß ausgebildeten Elektronenkanone der eben beschriebenen Avt eine sclieinbare Haup4-linr,c mit großer Apertur. ['H'her läßt si oh in einfacher Weise eine Elektronenkanone realisieren, die einen sehr kleinen Leuchtf leckdurohmesser und ausgebe! cfinete Fokussi eririgsei rensch;· ?- ten zeigt.As already stated above, the two lens systems of an electron gun of the type just described, designed in accordance with the invention, form a closable main 4 -linr, c with a large aperture. ['H'her lets you realize an electron cannon in a simple way that emits a very small luminous leak detector! cfinete focussing eririgsei rensch; · ? - th shows.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHW | Rejection |