DE2242859A1 - GLASS AND METHOD OF MANUFACTURING IT - Google Patents

GLASS AND METHOD OF MANUFACTURING IT

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DE2242859A1
DE2242859A1 DE19722242859 DE2242859A DE2242859A1 DE 2242859 A1 DE2242859 A1 DE 2242859A1 DE 19722242859 DE19722242859 DE 19722242859 DE 2242859 A DE2242859 A DE 2242859A DE 2242859 A1 DE2242859 A1 DE 2242859A1
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors

Description

PATENTANWÄLTEPATENT LAWYERS

. ing. Klaus Westphal. ing. Klaus Westphal

7730 VILLINGEN-SCHWENNINÖEN7730 VILLINGEN-SCHWENNINÖEN

. Stadtbezirk yniiogen, 'Karlsruher Straße 13. City district yniiogen, '' Karlsruher Strasse 13

' ■-"Telefon: 07721-55343 -1^ > Telegr.: Westbuch Villingen'■ - "Telephone: 07721-55343 - 1 ^> Telegr .: Westbuch Villingen

Dr. rer. nat. O 11 ODr. rer. nat. O 11 O

MÜNCHEN 60 (Pasing) ' Floßmannstraße 30 a Telefon: 0811-832446 Telegr.: Westbuch MünchenMUNICH 60 (Pasing) 'Floßmannstraße 30 a Phone: 0811-832446 Telegr .: Westbuch Munich

ffnser Seichen: 818.5Open Seichen: 818.5

Pilkington Brothers LimitedPilkington Brothers Limited

,201-211 Martins Building, Water Street, Liverpool L2 3SR1 Großbritannien, 201-211 Martins Building, Water Street, Liverpool L2 3SR 1 UK

Glas und Verfahren au dessen SerstellungGlass and process for its production

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren sur Oberflächenbehandlung von Soda enthaltenden Gläsern zur Bildung von elektrisch leitenden Schichten auf denselben»The invention relates to a method of surface treatment of soda-containing glasses to form electrically conductive layers on the same »

Durch die Erfindung soll ein Verfahren geschaffen werden, durch das verhältnismäßig dauerhafte Oberflächenschichten mit brauchbarer Leitfähigkeit gebildet ..-werden.The invention is intended to create a method through which relatively permanent surface layers with useful conductivity are formed ..-.

Zu diesem Zweck schafft die. Erfindung ein Verfahren zurTo this end, the creates. Invention a method for

309811/1024309811/1024

Obernichenbeaaadlung eines Soda enthaltenden aiaeee ait einer BiliciuBdioxyd-Basie, dae wenigstene 10 Kol-i6 Hatriumoatyd enthalt, sur IHlflung einer elektrisch leitenden Schicht auf demselben, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasoberfläohe in ein Bad einee geschwollenen BilbersAlsee »ur Übertragung von Silberionen in die Glaeoberfläche eingetaucht wird und sodann die GlasoberflÄche eine» Beduktionssdttsl sus Hedusieren wenigstens eines feile der Silberionen in Silber und soait sur Bildung der leitenden Schicht ausgesetzt wird.Obernichenbeaaadlung an aiaeee ait containing soda a bilicium dioxide base, which contains at least 10 col. 16 of sodium oxide, to fill an electrically conductive one Layer on the same, characterized in that the glass surface in a bath is a swollen bilberry for the transfer of silver ions into the glass surface is immersed and then the glass surface is a "Beduktionssdttsl sus Hedusieren at least one file Silver ions in silver and soait sur formation of the conductive Layer is exposed.

Yorsugsweise enthält dae Glas anfierde» swisohen 1 und 30 Mol-% eines Oxyds Ton Visaut, Antimon oder Blei· Bas SiI-bereal» ist vorzugsweise Silbernitrat und die Glasoberfläche kann in dae Silbernitrat etwa 4 Stunden bei etwa 330° O eingetaucht werden.Yorsugsweise contains dae glass anfierde "swisohen 1 and 30 mol% of an oxide tone Visaut, antimony or lead · Bas SiI-Bereal" is preferably silver nitrate, and the glass surface can in dae silver nitrate for about 4 hours at about 330 ° O are immersed.

Vorzugsweise ist das Reduktionsmittel gasförmig. Beispielsweise kenn es aus Vaeserstoff bestehen, welcher einem nichtreagierenden Trägergas, wie Stickstoff, beigemischt werden kann und veranlaßt wird, über die Glasoberfläche mit erhöhter Temperatur su Strömen· Beispielsweise kann das Reduktionsmittel aus einer Atmosphäre von 10 % Wasserst off und 90 % Stickstoff bestehen und wird reranlaßt, Über die Glasoberfläche alt einer Temperatur von etwa 300° C für eine Zeitdauer -von etwa 10 Stunden su strömen.The reducing agent is preferably gaseous. For example, it can consist of hydrogen, which can be mixed with a non-reacting carrier gas, such as nitrogen, and is made to flow over the glass surface at an elevated temperature.For example, the reducing agent can and will consist of an atmosphere of 10% hydrogen and 90 % nitrogen Let it flow over the glass surface at a temperature of about 300 ° C for a period of about 10 hours.

Das verwendete Glas kann die folgende Zusammensetzung aufweisen, ausgedrückt in Mol-% auf Oxydbasis:The glass used can have the following composition, expressed in mol% on an oxide basis:

SiO2 45 bis 75 Hol-%SiO 2 45 to 75 hol%

30 9811/1024 ~ 3 "30 9811/1024 ~ 3 "

ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

Ha2O 10 bis 40 Hol·*Ha 2 O 10 to 40 Hol *

Bi2O3 oder Bb2O5 0 bie JBi 2 O 3 or Bb 2 O 5 0 at J

RORO

oder R)Oor R) O

wobei der Anteil an Bi2O* oder Sb2O. oder BbO wenigstens Kol-% beträgt, wenn der Anteil an Va2O geringer ist als Hol-*·where the proportion of Bi 2 O * or Sb 2 O. or BbO is at least Kol-% if the proportion of Va 2 O is less than Hol- *

Ein Bereich von Gläsern, der verwendet werden kann, hat die folgende Zusammensetzung:A range of glasses that can be used has the following composition:

SiO2 47 bis 74 Hol-*SiO 2 47 to 74 Hol- *

Fa2O .10 bis 54 Mol-%Fa 2 O. 10 to 54 mol%

Bi2O3 1 bis 17 ttol-# oderBi 2 O 3 1 to 17 ttol- # or SbgO» „ 1 bis 30 Mol-% oderSbgO »„ 1 to 30 mol% or PbO Ä 1 bis 30 MoI-*PbO Ä 1 to 30 MoI- * B2O5 oder Al2O5 0 bis 34 Mol-%,B 2 O 5 or Al 2 O 5 0 to 34 mol%,

wobei der Best, falls vorhanden, aus anderen verträglichen Bestandteilen besteht.the best, if any, of other compatible ones Components.

Venn die Glaszusamensetzung in einen eingeschränkten Bereich fällt, nämlich:When the glass composition falls within a restricted range, namely:

SiO2 58 bis 66 Mol-%SiO 2 58 to 66 mol%

Fa2O 10 bis 18 Hol-%Fa 2 O 10 to 18 Hol-%

Bi2O5 8 bis 17 MoI-*Bi 2 O 5 8 to 17 MoI- *

B2O5 0 bis 20 Hol-*.,B 2 O 5 0 to 20 Hol- *.,

wobei der Best, falls vorhanden, aus anderen verträglichen Bestandteilen besteht, zeigt die leitende Schicht diethe best, if any, of other compatible ones Consists of components, the conductive layer shows the

30 98 1 1/10230 98 1 1/102

Überraschende Eigenschaft» flyB sie durch Anlegen einer Spannung »wischen einem Zustand alt hohes und niedriges Widerstand umgeschaltet werden kann·Surprising property » flyB by applying a voltage» between a state old high and low resistance can be switched ·

Bin anderer Bereich von Gläsern, der anwendbar 1st, hat die folgende Zusaamensetsung:Am other range of glasses that is applicable the following composition:

BiO2 *5 bis 7* Mol-%BiO 2 * 5 to 7 * mol%

O AA bis 30 MoI-J* 2O5 1 bis 18 Mol-% oderO AA to 30 MoI-J * 2 O 5 1 to 18 mol% or

Sb2O5 A bis 30 NoI-* oderSb 2 O 5 A to 30 NoI- * or

PbO 1 bis 30 Hol-*PbO 1 to 30 Hol- *

CaO 0 bis 33 Mol-*,CaO 0 to 33 mol- *,

wobei der Rest, falls vorhanden« aus anderen verträglichen Bestandteilen besteht.with the remainder, if any, consisting of other compatible ingredients.

Die Erfindung besieht sich femer auf ein Soda enthaltende« Glas, das eine durch das oben beschriebene Verfahren gebildete elektrisch leitende Schicht trägt·The invention also relates to a soda-containing " Glass that has an electrically conductive layer formed by the process described above

Nachfolgend werden Aueführungsbei spiele der Erfindung näher erläutert.The following are examples of the invention explained in more detail.

Es wurden einundzwanzig Proben von Soda enthaltenden Gläeern, allgemein aus der Gruppe der Borsilikate oder Aluminiumsilikate, mit den in folgender Tabelle angegebenen Zusammensetzungen, in Mol-% hergestellt:Twenty-one samples of soda-containing glasses, generally from the group of borosilicates or aluminum silicates, were made with those given in the following table Compositions, made in mol%:

309811/1024 - 5 -309811/1024 - 5 -

TABBLLB 1TABBLLB 1

GlasGlass HrMr . 1. 1 22 33 44th 55 66th 77th 88th 99 1010 1111 SiO2 SiO 2 4747 4747 4747 4747 4747 4848 5151 5151 5353 5353 5454 Ha2OHa 2 O 1818th 1818th 1818th 1818th 1818th 2727 2020th 2020th 2222nd 2222nd 1818th B2O5 B 2 O 5 1818th 3434 - 55 55 1818th 2626th 2626th 1818th 1212th 1010 Al2OAl 2 O 55 - - 3030th - - - —.-. - - Bi2OBi 2 O JJ 1717th 11 55 77th - 77th 1313th Sb2OSb 2 O ?? - 3030th - - - 33 - - - PbOPbO - - 3030th - 33 - 1818th

Glas KrGlass Kr .12.12 1313th 1414th 5656 1616 1717th 1818th 1919th 2020th 2121 SiO2 SiO 2 5454 5656 5656 1818th 5555 5656 5656 5656 6060 7474 Ha2OHa 2 O 1818th 2727 3434 1818th 3030th 2727 2727 1818th 2929 1818th B2O5 B 2 O 5 1010 1010 - an»at" - 1010 1010 ■*-i-■ * -i- Al2O5 Al 2 O 5 .—.— - 88th 77th - 1818th ";' 3";'3 - Bi2O5 Bi 2 O 5 - 77th 1010 88th 88th 88th 88th Sb2O3 Sb 2 O 3 1818th —..-—..- - ■.■■«--'■. ■■ «- ' 77th —■- ■ - • ·—• · - PbOPbO - •no• no - - - 77th - -

309811/102A jΓ 309811 / 102A j Γ

-β--β-

Si· Oberfläche £&·» Glases wurde .ait Bilioiuaoarbidsand ■it einer Koragrdfe Toa 0,11 am (120 aeeh) bsw. 0,06 aa (240 mesh) geschliffen und sodann einer iweietufigtn Ober· fliQhenbehaivttung unterioeen, wobei ei· aoerat ia ein Bed T<m gesohaolsenea Silbernitret bei 350° O 4 Stunden lese eingetaucht norde· Ue Silberionen witrdes durch loaeaeuetenxeoh Mit letrlm ia Ale ftleeoberniohe ubertreetn. Ba konnte eine Seapevatur imtexhalb τοη 390° O eagevesidet werden, wenn die Behendlungeaeit ezlidht wurde, Jedoch ▼erlief bei Seaperaturen direkt oberhalb dee Sohaeleponktee τοη Bilbernitrat (212° O) der loaenanatenaoh so lengeea, daß dae Terfehrea uawirteohaftlich wurde. Teaperetnren oberhalb 350° 0 können bei kurieren Behendlungsaeiten angewendet werden, jedoch werden dann Terluete an Silbernitrat infolge τοη Zereetsung und Verdampfung weeentllch.The surface of the glass was made of bilioal carbide sand ■ with a Koragrdfe Toa 0.11 am (120 aeeh) bsw. 0.06 aa (240 mesh) sanded and then a two-step upper FliQhenbehaivttung unterioeen, whereby egg aoerat generally a condition Read T <m gesohaolsenea silver nitrate at 350 ° O for 4 hours immersed north · Ue silver ions witrdes by loaeaeuetenxeoh with letrlm ia Ale ftleeoberniohe overrun. Ba could eagevesidet a Seapevatur imtexhalb τοη 390 ° E if the Behendlungeaeit has been ezlidht, however ▼ ran at sea temperatures directly above the Sohaeleponktee τοη bilber nitrate (212 ° E) of the loaenanatenaoh so lengeea that the Terfehrea was uawirteo-like. Tea parties above 350 ° 0 can with cure treatment times be applied, however, terluete of silver nitrate as a result of τοη Zereetsung and evaporation weeentllch.

lach dieser ersten Behandlungsstufe wurde die Oberfläche je« der Glaeprobe, die in Vom einer rechteckigen Untereuchnmgeprobe ait einer Größe von 2o aa auf 10 a» vorlag, einer rednsierenden Atmosphäre, insbesondere einer Btrdanag aus einer lHeohung von 10 % Vaseeretoff und 90 % Stickstoff bei einer Temperatur τοη 300° C 10 Stunden lang auegesetet, wobei die Streeung alt einer Geschwindigkeit Ton 1100 ca? je Minute über die Glaaoberfläche strich· Silberionen in der Glasoberflache wurden dadurch su Silber reduziert und bildeten eine leitende Schicht mit einer Dioke τοη 1 bis 2 Mikrometer. Vena die Qlassueaaaensetsung Bi2O., Bb2O, oder AO enthielt, wird angenoeaen, daß metallisches Visaut, Antimon bsw. Blei ebenfalls in der Schicht vorhanden waren,After this first stage of treatment, the surface of each "of the glass sample, which was present in Vom a rectangular examination sample with a size of 20 aa to 10 a", a talking atmosphere, in particular a layer of a concentration of 10 % vase oil and 90 % nitrogen in one Temperature τοη 300 ° C for 10 hours, whereby the Streeung alt a speed tone 1100 approx? silver ions in the glass surface were thereby reduced and formed a conductive layer with a diameter of 1 to 2 micrometers. Vena the Qlassueaaaensetsung Bi 2 O., Bb 2 O, or AO contained, it is assumed that metallic visaut, antimony bsw. Lead were also present in the layer,

Viderstandemeaeungen an verschiedenen Punkten auf der Ober» fliehe τοη elf der Proben ergaben Resultate innerhalb der folgenden Bereiche:Resistance measurements at various points on the upper » flee τοη eleven of the samples gave results within the following areas:

309811/1024309811/1024

Glae 1 : 3,2 biß 20,7 Ohm/9,29 m2 (square)Glass 1: 3.2 to 20.7 Ohm / 9.29 m 2 (square)

Glas 6 : 2,7 Me 13,75 M Glass 6: 2.7 Me 13.75 M.

Glas 9 ί 5,5 bis 32 n Glass 9 ί 5.5 to 32 n

Glas 10i 5.2 bis 19,5 w Glass 10i 5.2 to 19.5 w

Glas 13: 5 bis 36 w Glass 13: 5 to 36 w

Glas 14: 0,7 bis 4,4· "Glass 14: 0.7 to 4.4 "

Glas 15« 1,1 bis 13,2 «Glass 15 "1.1 to 13.2"

Glas 16: 0,22 bis 0,27 w Glass 16: 0.22-0.27 w

Glas 17: 0,22 bis 1,0 "Glass 17: 0.22 to 1.0 "

Glas 18: 3,6 bis 8,8 "Glass 18: 3.6 to 8.8 "

Glas 21: 6,3 bis 18 ".Glass 21: 6.3 to 18 ".

Die Leitfähigkeit lag daher in der gleichen Größenordnung wie diejenige, die man gewöhnlich durch Niederschlagen eines metallischen Filme auf eine Glasoberfläche erhält ·The conductivity was therefore of the same order of magnitude like the one usually obtained by depositing a metallic film on a glass surface

Die leitende Schicht war nicht durchsichtig« Ea ist offensichtlich, daß die leitende Schicht über die ganze Glasoberfläche oder durch geeignete Maskierung nur über einen Seil der Oberfläche ausgebildet werden kann. Gläser mit solchen leitenden Oberflächenschichten können bei verschiedenen Anwendungsfällen verwendet werden, wo bisher gewöhnlich niedergeschlagene Metall filme auf nichtleitenden Trägern verwendet wurden, beispielsweise in Bestandteilen für elektronische Schaltungen und Schaltungsplatten·The conductive layer was not transparent. It is obvious that the conductive layer could cover the entire surface of the glass or, by suitable masking, only cover a rope the surface can be formed. Glasses with such conductive surface layers can be used in various applications be used where previously deposited metal films on non-conductive substrates usually used were used, for example, in components for electronic circuits and circuit boards

Vie oben erwähnt, hat sich gezeigt, daß die leitende Schicht, falls die Glaszusammensetzung in einen oben definierten eingeschränkten Bereich fällt, die überraschende Eigenschaft zeigt, daß sie durch Anlegen einer Spannung zwischen einem Zustand hoher und niedriger Leitfähigkeit umgeschaltet werden kann.As mentioned above, it has been shown that the conductive layer, if the glass composition falls within a restricted range defined above, the surprising property shows that by applying a voltage between a state of high and low conductivity can be switched.

3 0 981 t/m?/,3 0 981 t / m? /,

Vier Beispiel« von Gläsern innerhalb dieses eingeschränkten Bereiches wurden mit den folgenden ZueamaensetEungen in Holproeenten hergestellt:Four examples of glasses within this restricted area were made with the following additions made in holproen:

TABSIiLE 2TABLE 2

Glas Rr.Glass rr. 2222nd 2323 2424 2525th GiO2 GiO 2 6464 6464 65,565.5 5858 B2O3 B 2 O 3 1818th 1010 00 2020th Bi2O3 Bi 2 O 3 88th 1616 16,916.9 1010 Na2ONa 2 O 1010 1010 17,617.6 1212th Al2O3 Al 2 O 3 - - - Sb2O3 Sb 2 O 3 - - - - FbOFbO - ---

Jedes Glas wurde sodann der gleichen Behandlung untersogen, wie es oben für die Gläser der Tabelle 1 beschrieben wurde, mit der Ausnahme, daß die gasförmige Reduktionsstufe um 6 Stunden verkürzt wurde.Each glass was then subjected to the same treatment as described above for the glasses in Table 1, with the exception that the gaseous reduction stage is around 6 hours shortened.

Es wurden elektrische ViderStandsmessungen unter Verwendung von Paaren von aufgemalten Metallelektroden mit einer Breite von etwa 10 mm durchgeführt, welche auf die behandelte Glasoberfliehe im Abstand von etwa 1 mm aufgemalt wurden· Anfänglich zeigte die Oberflächenschicht einen hohen Widerstand,Electrical stand measurements were made using carried out by pairs of painted metal electrodes with a width of about 10 mm, which were painted on the treated glass surface at a distance of about 1 mm.Initially the surface layer showed a high resistance,

309811/1Ö?* - 9 -309811 / 1Ö? * - 9 -

welcher sich jedoch beim Anlegen eines Impulses -von 10 Volt für eine Dauer von 10 Millisekunden an die Elektrode?! auf einen wesentlich niedrigeren Wert ändert©. Die Aufgabe eines weiteren Impulses von 50 Volt bei einer Dauer von. 10 Mikrο Sekunden brachte den Widerstand auf den vorigen hohen Wert zurück. Die folgende Tabelle gibt die Werte an, die sich für die Gläser der in Tabelle 2 aufgeführten vier Zusammensetzungen ergaben, wobei der Zustand hohen Widerstandes der Kürze halber als OFF-Sustand und der Zustand miedrigen Widerstands als QN-Zustand bezeichnet wird»which, however, when a pulse of 10 volts to the electrode for a period of 10 milliseconds ?! on changes to a much lower value ©. The task of another pulse of 50 volts with a duration of. 10 microseconds brought the resistance to the previous one high value back. The following table shows the values which resulted for the glasses of the four compositions listed in Table 2, the state of high resistance for the sake of brevity as the OFF state and the state low resistance is called the QN state »

fABELLECHART —1-1 Zusammensetzungcomposition Widerstand in 0hmResistance in 0hm OIE-ZustandOIE state QN-ZustandQN state 22
23
24
25
22nd
23
24
25th
^1O9
~106
~104
~109
^ 1O 9
~ 10 6
~ 10 4
~ 10 9
~105
~103
/-1O2
/~103
~ 10 5
~ 10 3
/ -1O 2
/ ~ 10 3

Es ist ersichtlich, daß aus solchen Gläsern leicht Vorrichtungen mit einer "Speicher"-Schaltwirkung hergestellt werden können.It can be seen that devices with "memory" switching action are readily made from such glasses can.

Ein anderer Bereich von Gläsern, allgemein aus der Soda-Kalk-Kiesel-Gruppe, welche durch das erfindungsgemäße Ver-Another range of glasses, generally from the soda-lime-pebble group, which by the inventive method

309811/1024309811/1024

- 10 -- 10 -

fahren alt elektrisch leitenden Oberflächenechichten versehen werden können, wird in der folgenden Tabelle in fünfzehn ZueammensetZungsbeispielen wiedergegeben:drive old electrically conductive surface coatings can be provided in the following table in fifteen examples of teamwork are given:

!TABELLE!TABEL

Glas Hr.Glass Mr. 2626th 3434 2727 3535 2828 2929 3030th 3131 3232 3333 SiO2 SiO 2 64,064.0 4545 64,064.0 6565 7272 5050 5555 5959 5555 6060 Ha2OHa 2 O 13,013.0 2727 18,018.0 2222nd 13^13 ^ 3030th 2525th 3030th 1111 3030th E2OE 2 O 0,30.3 - 0,30.3 - - - - - - CaOCaO 8,58.5 1010 8,58.5 1010 88th 1010 1010 1010 3333 1010 HgOHgO 5,65.6 - 5,65.6 - - - —.-. - - Al2O3 Al 2 O 3 0,60.6 - 0,60.6 - - - - —;-; Bi2O3 Bi 2 O 3 8,08.0 1818th 3,03.0 - 77th 1010 1010 11 11 - Sb2O3 Sb 2 O 3 - - - 33 •Ml «Mi• Ml «Wed - - - FbOFbO - - - - - - Glas Sr.Glass Sr. 3636 3737 3838 3939 4040 SiO2 SiO 2 5252 5050 6565 5252 5050 Ha2OHa 2 O 2020th 2020th 2222nd 2020th 2020th K2OK 2 O - - - - - CaOCaO 1010 - 1010 1010 MgOMgO - - - - - Al2O3 Al 2 O 3 - - - - Bi2O3 Bi 2 O 3 - - - Bb2O3 Bb 2 O 3 1818th 3030th - PbOPbO - 33 1818th 3030th

309811/1024309811/1024

- 11 -- 11 -

Proben dieser Gläser wurden der gleichen Behandlung unterzogen, wie sie oben für die Gläser gemäß Tabelle 1 beschrie-« ben wurde« Widerstandsmessungen an acht dieser Proben ergäben die folgenden Resultat:Samples of these glasses were subjected to the same treatment as described above for the glasses according to Table 1 ben was «resistance measurements on eight of these samples would result the following results:

Glas 26: 2,5 bis 11,2 Ohm/9,29 m2 (square)Glass 26: 2.5 to 11.2 ohms / 9.29 m 2 (square)

Glas 27: 2,2 bis 5,2 "Glass 27: 2.2 to 5.2 "

Glas 28: 2,7 bis 3*2 "Glass 28: 2.7 to 3 * 2 "

Glas 29: 0,9 bis 1,2 «·Glass 29: 0.9 to 1.2 «·

Glas 30: 0,24 bis 1,6 n Glass 30: 0.24 to 1.6 n

Glas 31: 0,24 bis 0,40 "Glass 31: 0.24 to 0.40 "

Glas 32: 1,0 bis 2,0 "Glass 32: 1.0 to 2.0 "

Glas 33: 0,4 bis 0,56 ".Glass 33: 0.4 to 0.56 ".

309811/1024 309811/1024

Claims (1)

1. Terfahreii tür Oberflächenbehandlung tin·· Soda enthaltenden Glaaee alt einer ßiliciuadioiyd-Baeie, da· wenigsten· 10 Hol-J% !Tatriumoxyd enthalt, zur Bildung einer elektrieoh leitenden Schicht auf denselben * dadurch gekannte i ebne t , daß die Glasoberfl&ohe in ein Bad eines geschmolzenen Silbersalze lur übertragung von Silberionen in die Glasoberfläche eingetaucht wird und sodann die Glasoberflaohe einem Reduktionsmittel sun Redusieren wenigstens eines Teils der Silberionen in Silber und somit tür Bildung der leitenden Schicht ausgesetzt wird.1. Terfahreii for surface treatment tin ·· soda-containing glass old of a ßiliciuadioiyd-Baeie, because · least · Contains 10% of sodium oxide to form an electrical conductive layer on the same level, known by the fact that the glass surface is in a Bath of a molten silver salt for transferring Silver ions are immersed in the glass surface and then the glass surface is exposed to a reducing agent to reduce at least some of the silver ions to silver and thus exposed to the formation of the conductive layer will. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennseichnet , daß ein Glas verwendet wird, das ferner Ewischen 1 und 30 Mol-% eines Oxyds von Vismut, Antimon oder Blei enthält.2. The method according to claim 1, characterized in that a glass is used which further contains Ewischen 1 and 30 mol% of an oxide of vismuth, antimony or lead. 3· Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß als Silbersalz ßilbernitrat verwendet wird.3. Method according to claim 1 or 2, characterized in that silver nitrate is used as the silver salt is used. 4. Verfahren nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet , daß die Glasoberflaohe in das Silbernitrat für etwa 4 Stunden bei einer Temperatur fön etwa 350° C eingetaucht wird.4. The method according to claim 3 »characterized in that the glass surface in the silver nitrate for about 4 hours at a temperature fön about 350 ° C is immersed. - 13 -- 13 - 5. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein gasförmiges Reduktionsmittel verwendet wird.5. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that a gaseous Reducing agent is used. 6. Verfahren nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß als Reduktionsmittel Wasserstoff verwendet wird.6. The method according to claim 5 »characterized in that that hydrogen is used as the reducing agent. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß der Wasserstoff mit einem aichtreagierenden Trägergas, wie Stickstoff, vermischt und veranlaßt wird, über die Glasoberfläche mit erhöhter Temperatur zu strömen.7. The method according to claim 6, characterized that the hydrogen mixes and causes a non-reactive carrier gas such as nitrogen is, over the glass surface with increased temperature to stream. 8. Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet , daß ein Reduktionsmittel verwendet wird, das aus einer Atmosphäre von 10 % Wasserstoff und 90 % Stickstoff besteht und veranlaßt wird, über die Glasoberfläch© mit einer Temperatur von etwa 500° C für eine Zeitdauer von etwa 10 Stunden au strömen.8. The method according to claim 7 »characterized that a reducing agent is used which consists of an atmosphere of 10% hydrogen and 90% nitrogen consists and is caused to pass over the glass surface © with a temperature of about 500 ° C for flow for a period of about 10 hours. 9. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß di® Glasoberfläche vor dem Eintauchen in dae Silbersais mit einem Schleifmittel geschliffen wird.9. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the di® glass surface sanded with an abrasive before dipping in the silver saw. 10. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Glas verwendet wird, welches die folgenden Bestandteile enthält, ausgedrückt in Mol-% auf Oxydbasis:10. The method according to any one of the preceding claims, characterized marked that a glass is used, which contains the following ingredients, expressed in mol% on an oxide basis: SiO2 45 bis 75 Mol-%SiO 2 45 to 75 mol% Na2O 10 bis 40 Mol-%Na 2 O 10 to 40 mol% Bi2O3 oder Sb2O5 , 0 bis 30 Mol-%,Bi 2 O 3 or Sb 2 O 5 , 0 to 30 mol%, oder PbOor PbO 309811/1024 - 14 -309811/1024 - 14 - wobei dar Anteil an Bi2O* oder SbgO. oder SM wenigstens 1 Hol-* beträgt« wann der Anteil an Ia2O geringer ist als 25where the proportion of Bi 2 O * or SbgO. or SM is at least 1 Hol- * when the proportion of Ia 2 O is less than 25 11. Verfahren naoh Anspruch 1O9 dadurch gekenn-» aeiohnet « daB ein Glas verwendet wird« welche« die folgende 8ttieeaenset«ung aufweist t11. The method according to claim 10 9 is characterized by the fact that a glass is used which has the following set of specifications SiO2 4? bis 74 Hol-*SiO 2 4? up to 74 pick-up * Va 0 . 10 bis 34HoI-*Va 0. 10 to 34HoI- * 1 bis 17 MoI-* oder1 to 17 MoI- * or Bifo,Bifo, Sb2O, 1 bis 30 Hol-* oderSb 2 O, 1 to 30 Hol- * or FbO 1 bis 30 MoI-K oderFbO 1 to 30 MoI-K or B^O3 oder Al2O5 O bis 3% HoIHl.B ^ O 3 or Al 2 O 5 O to 3% HoIHl. wobei der Best, falle vorhanden« ans anderen verträglichen Beatandteilen beetent.where the best, if there is, is mixed up with other compatible Beatand parts. 12. Verfahren naoh Anspruch 11, dadurch gekennseiohnet , daB ein (aas verwendet wird, welches die folgende ZusaaaenaetBung aufweist ι12. The method according to claim 11, characterized in that a (aas is used, which the the following addition has ι 81O2 58 bis 66 MoI-*81O 2 58 to 66 MoI- * Va2O 10 bis 18 Hol-*Va 2 O 10 to 18 Hol- * Bi2O9 8 bis 17 Hol-*Bi 2 O 9 8 to 17 Hol- * B2O9 O bis 20 Hol-*«B 2 O 9 O to 20 Hol- * « wobei dar BeSt9 falls vorhanden« aus anderen vertraglichen Bestandteilen besteht« und daß die auf der Glasoberflftche gebildete leitende Schicht wischen Sustlnden hohen und niedrigen Wideretande a uage schaltet werden kann·whereby the BeSt 9, if present, "consists of other contractual components" and that the conductive layer formed on the glass surface can be switched between states of high and low resistance. - 15 -309811/1024- 15 -309811/1024 1j. Terfehren nach den Ansprüchen 7 und 12, dadurch gekennzeichnet v daß ein Reduktionsmittel verwendet wird, welches aue einer Atmosphäre von 10 % Wasserstoff und 90 % Stickstoff bestöfc und veranlaßt wird, fiber die Glasoberflache ndt einer Temperatur von etwa 300 C Über eine Zeitspanne von etwa 6 Stunden tu. strömen.1y. V Terfehren according to claims 7 and 12, characterized in that a reducing agent is used which aue an atmosphere of 10% hydrogen and 90% nitrogen bestöfc and is caused to fiber glass surface ndt a temperature of about 300 C over a period of about 6 Hours do. stream. 14* Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet , daß ein Glas verwendet wird, das bis su 33 MoI-* CaO enthält.14 * The method according to claim 10, characterized in that a glass is used that is up to su contains 33 MoI- * CaO. 15· Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekenn zeichnet , daß ein Glas verwendet wird, welches die folgende Zusammensetzung aufweist:15 · The method according to claim 10, characterized in that a glass is used which has the following composition: SiO2 45 bis 74SiO 2 45 to 74 Ha2O 11 "bis JO Mol-#Ha 2 O 11 "to JO Mol- # JSi2O5 1 bis 18 Mol-# oderJSi 2 O 5 1 to 18 mol # or Sb2O3 1 bis 30 Me>l-# oderSb 2 O 3 1 to 30 Me> l- # or IbO 1 tie 30 Mol-#IbO 1 tie 30 mol- # CaO 0 bis 33 Mol-#,CaO 0 to 33 mol- #, wobei, der Best, falls vorhanden, aus anderen verträglichen Bestandteilen "besteht.whereby, the best, if any, of other compatible ones Components ". 16. Soda enthaltendes Glas, gekennzeichnet16. Glass containing soda, labeled durch eine durch ein Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche hergestellte elektrisch leitende Oberflächenschicht·by an electrically conductive surface layer produced by a method according to one of the preceding claims 17· Soda und Wismut enthaltendes Glas, gekennzeichnet durch eine elektrisch leitende Schicht auf einer Oberfläche desselben, welche zwischen Zustanden hohen und niedrigen Widerstandes umschaltbar und durch ein Verfahren nach den Ansprüchen 12 oder 1J ausgebildet ist.17 · Glass containing soda and bismuth, characterized by an electrically conductive layer a surface thereof, which can be switched between states of high and low resistance and is formed by a method according to claims 12 or 1J. 309811/10?/« 3/mi309811/10? / «3 / mi
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