DE2159980A1 - Magnetic bubble area system - Google Patents
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Description
PATENTANWALT DIPL-ING.PATENT ADVOCATE DIPL-ING.
HELMi'T OÖRTZ , 3o. November 1971 6 Fr31WUr; am Mein 70 « /„HELMi'T OÖRTZ, 3o. November 1971 6 Fr 31 WUr; am Mein 70 "/"
SdfeAfe π Gzs/Ha.SdfeAfe π Gzs / Ha.
North American Rockwell Corporation, El Segundp, California, USANorth American Rockwell Corporation, El Segundp, California, USA
KagnetulasenbereichssystemMagnetulase area system
Die Erfindung bezieht sich auf Magnetblasenbereiche und mehr im einzelnen auf ein System mit vorherbestimmten Stellungen für Magnetblasenbereiche in einem Streifen oder Kanal von Magnetbereichsinaterial. The invention relates to magnetic bubble areas and, more particularly, to a system with predetermined positions for Magnetic bubble areas in a strip or channel of magnetic area material.
Magnetbereiche und die Fortführung dieser Bereiche in einem magnetischen Medium sind wohlbekannt und wurden in den US-Patenten Nr. 3 46o 116, 3 47o 546, 3 5o8 225 und anderen beschrieben. Im allgemeinen beschreiben diese Patente die Bewegung eines Blasenbereichs mit einer einzigen Wand in einem Schieberegister unter Verwendung von schmalen Metallmustern, um die Stellung der Blasen zu steuern. Die in diesen Patenten beschriebenen Verfahren versuchen, die abstoßenden oder gegenseitig wirkenden Kräfte zwischen den einzelnen Blasen möglichst klein zu machen, indem die Magnetic areas and the continuation of these areas in a magnetic Medium are well known and are described in U.S. Patent Nos. 3,460,116, 3,470,546, 3,5o8,225, and others. in the generally, these patents describe the movement of a region of the bladder with a single wall in a shift register using narrow metal patterns to indicate the position of the bubbles to control. The methods described in these patents attempt to minimize the repulsive or reciprocal forces between the individual bubbles by the
.werden,, einzelnen Blasen voneinander durch einen Abstand getroint der ungefähr 3 oder mehr Blasenbereichsdurchmesser beträgt. Diese Verfahren versuchen, die Wechselwirkungskräfte zwischen den Blasen im wesentlichen so weit als möglich zu eliminieren oder " zu verkleinern..be dried, individual bubbles from each other by a distance the is about 3 or more bubble area diameters. These procedures try to reduce the forces of interaction between the To essentially eliminate or "shrink" bubbles as much as possible.
In der Parallelanmeldung zu dieser Anmeldung wird ein Magnetblasenbereichssystem offenbart, das aus einem oder mehreren- Kanälen oder Streifen von magnetischen Blasenbereichsmaterial aufIn the parallel application to this application, a magnetic bubble range system disclosed comprised of one or more channels or strips of magnetic bubble region material
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einem Stützsubstrat besteht. Jede beliebige Anzahl von einzelnen Magnetblasenbereichskanälen können miteinander verbunden oder mit einem Hauptkanal verbunden werden. Die Bewegung von Blasen-' " bereichen entlang einem Kanal oder Streifen wird durch die Abstoß- oder Reaktionskräfte zwischen den Blasenbereichen beeinflußt, die. in einem Kanal vorhanden sind, wenn ein Blasc.obereich gebildet oder in die Nähe eines anderen Blasüribereiches vorschoben wird. Die Bewegung von Blasen von einem gegebenen Kanal in einen von mehreren möglichen angrenzenden Kanälen, um eine logische Funktion zu bilden, kann durch die Anwesenheit oder Abwesenheit von Blasen in einem oder mehreren verbundenen p[anälen. gesteuert werden.a support substrate. Any number of individual bladder region channels can be interconnected or connected to a main channel. The movement of bubbles'"areas along a channel or strip is affected by the repelling or reaction forces between the bubble areas. Available in a channel, if a Blasc.obereich formed vorschoben or in the vicinity of another Blasüribereiches. The Movement of bubbles from a given channel into one of several possible adjacent channels to form a logic function can be controlled by the presence or absence of bubbles in one or more connected channels.
Eine andere 'Patentanmeldung beschreibt ein Verfahren, das die Anwesenheit von Blasenbereichen in der Nähe dor Kante von einem magnetischen Film in einer Filmsubstratstruktur steuert. Der magnetische Film wird geätzt, um eine glatte, wohldefinierte Kante zu erreichen. Die neu geformte Kante des Films stößt den Blasenbereich ab und verursacht damit, daß der Blasenbereich im wesentlichen innerhalb des Zentrums des Streifens oder Films oder in dem Zentrum einer Filrascheibe verbleibt.Another patent application describes a method that eliminates the presence of areas of bubbles near the edge of one magnetic film in a film substrate structure. The magnetic film is etched to make it smooth, well-defined To reach edge. The newly formed edge of the film repels the blister area, causing the blister area to appear in the remains substantially within the center of the strip or film or in the center of a filra disk.
Es ist ein Ziel dieser Erfindung, ein verbessertes Magnetblasenbereichssystem zu schaffen.It is an object of this invention to provide an improved magnetic bubble range system to accomplish.
Es ist ein anderes Ziel dieser Erfindung, ein Magnetblasenbereichssystem zu schaffen, das vorherbestimmte Stellungen für Blasenbereiche besitzt.It is another object of this invention to provide a magnetic bubble range system which has predetermined positions for Has bladder areas.
Es ist ein noch anderes Ziel dieser Erfindung, ein Verfahren für die Bildung eines Magnetblasenbereichasystems mit vorherbestimmten Stellungen für die Blasenbereiche zu schaffen.It is yet another object of this invention to provide a method for to create a magnetic bubble area system with predetermined positions for the bubble areas.
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&ÄD ORIGINAL& ÄD ORIGINAL
~ 3 —~ 3 -
Es ist ein noch anderes Ziel dieser Erfindung, die vollständige Abhängigkeit vcn Metallmuttern für die Steuerung der Stellung von Blasenbereichen üu vermeiden.It is still another object of this invention to be complete Dependence on metal nuts for position control Avoid areas of blisters.
Diese und andere Ziele der Erfindung werden von einem Magnetblasenbereichcsystem verwirklicht, bei dem ein Filmstreifen oder Filmkanal aus Blasenbereichsmaterial, das mindestens einen beschränkten und mindestens einen nicht beschränkten Teil hasitzt, vorzugsweise auf eint-m Substrat angeordnet ist. Die Blasenbe.reiche vrerden von den Kanten des beschränkten Teils in einer Ugxpo abgestoßen, daß der Blasenbereich innerhalb des nicht beschränkten Teils angeordnet ist«These and other objects of the invention are achieved by a magnetic bubble range system realized in which a film strip or film channel of bladder region material constraining at least one and has at least an unrestricted part, is preferably arranged on a t-m substrate. The bladder area from the edges of the constrained part in a Ugxpo repelled that the bubble area is within the non-restricted Partly is arranged «
Im nachfolgenden wiitf ein Magnctblasenbereichssystem mit Blasenberoichsn beschrieben, die in gewissen Gleichgewichtsstellungen in einem Streifen oder Kanal aus einem Film von magnetischen Blasenbereichsmaterial mit einem stützenden Substrat angeordnet sind» Im Streifen gibt es mindestens einen beschränkten Bereich, der die Stellung von einem Blasenbereich in einem nicht beschränkten, damit verbundenen Blasenbereich festlegt. Die Stellung oder Anordnung von Blasenbereichen in einem Streifen vors Blasenbereichsfilm wird durch geeignete Abstände zwischen den begrenzenden Streifenteilen festgelegt.In the following a Magnctblasenbereichssystem with Blasenberoichsn wiitf described, which are arranged in certain positions of equilibrium in a strip or channel from a film of magnetic bubble area material with a supporting substrate "In the strip there is at least a limited range that is not limited, the position of a bubble region in a , the associated bubble area. The position or arrangement of bubble areas in a strip in front of the bubble area film is determined by suitable distances between the delimiting strip parts.
Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung ergeben sich aus der beiliegenden Darstellung eines AusfUhrungsbcispielR sowie aus der folgenden Beschreibung.Further advantages, features and possible uses of the invention result from the attached illustration of an exemplary embodiment as well as from the following description.
Es zeigt:It shows:
Fig. 1 in einer Ansicht teilweise im Schnitt und teilweise in Aufsicht eine Struktur in Übereinstimmung mit dieser Erfindung;Fig. 1 in a view partly in section and partly in Plan view of a structure in accordance with this invention;
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Fig. 2 eine Querschnitts--nsicht der Struktur der Figur 1 ,·FIG. 2 is a cross-sectional view of the structure of FIG. 1,
Fig. 3 eine -Querschnittsansicht einer anderen Ausführungsform; undFig. 3 is a cross-sectional view of another embodiment; and
Fig. 4 eine Querschnittsansicht einer zweiten anderen Ausführung,^- form»Fig. 4 is a cross-sectional view of a second alternative embodiment, ^ - shape"
Wie in den Figuren 1 und 2 gezeigt wird, wird ein lnonoki-i stallines Substrat Io einem chemischen Aufdampfprozeß unterworfen, um einen dünnen Film von magnetischem Blasenbereichsmaterial aufzubringen, das nachfolgend geätzt wird, um einen Streifen oder Kanal 12 zu schaffen. Der Ablagerungsschritt wird in Übereinstimmung mit der US-·Anmeldung Nr. 833 268 vom 16. Juni 1969 durchgeführt . As shown in Figures 1 and 2, an inocular substrate Io is subjected to a chemical vapor deposition process to deposit a thin film of magnetic bubble region material which is subsequently etched to create a stripe or channel 12. The deposition step is performed in accordance with U.S. Application No. 833,268 filed June 16, 1969.
Das Substrat 1o ist vorzugsweise ein monokristalliner Granat mit einer J-7Qc-O1 ,^,-Zusammensetzung, wobei der J-Bestandteil der SchichtzusamDiensetzung mindestens aus einem Element zusammengesetzt ist, das aus der folgenden Gruppe ausgev/ählt wurde: Zerium, Praseodym, Neodym, Promethium, Samarium, Europium, Gadolinium, ™ Terbium, Dysprosium, Holmium, Erbium, Thulium, Ytterbium, Lutetium, Lanthan, Yttrium, Kalzium und Wismut. Der Q-Bestandteil der Schiclitzusammensetzung ist mindestens einer der folgenden Elemente: Indium, Gallium, Scandium, Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Rhodium, Zirkon, Hafnium, Niobium, Tantal, Aluminium, Phosphor, Arsen und Antimon.The substrate 10 is preferably a monocrystalline garnet with a J-7Qc-O 1 , ^, - composition, the J component of the layer composition being composed of at least one element selected from the following group: cerium, praseodymium, Neodymium, Promethium, Samarium, Europium, Gadolinium, ™ Terbium, Dysprosium, Holmium, Erbium, Thulium, Ytterbium, Lutetium, Lanthanum, Yttrium, Calcium and Bismuth. The Q component of the Schiclitz composition is at least one of the following elements: indium, gallium, scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese, rhodium, zirconium, hafnium, niobium, tantalum, aluminum, phosphorus, arsenic and antimony.
Beispiele für geeignete Substratmaterialien sind YQ »5, Gd2 55»Examples of suitable substrate materials are Y Q » 5 , Gd 2 55 »
35Ga5Oi2 und 35 Ga 5 O i2 and
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De-r Filmstreifen oder Kanal 12 aus Blasenbereichsmaterial ist vorzugsweise ein Einkristallgranat mit einer J^Qp-CL· ~~Zusammensetzung, wobei der J-Bestandteil der Filmzusammensetzung aus mindestens einem der folgenden Elemente -bestellt: Zerium, Praseodym, Neodym, Promethium, Samarium, Europium, Gadolinium, Terbium, Dysprosium, Holmium, Erbium, Thulium, Ytterbium, Lutetium, Lanthan, Yttrium» Der Q-Bestandteil der Filmzusammensetzung wird aus der Gruppe genommen, die besteht aus: Eisen, Eisen und Aluminium, Eisen und Gallium, Eisen und Indium, Eisen und Scandium, Eisen und Titan, Eisen und Vanadium, Eisen und Chrom, Eisen und Mangan.The filmstrip or channel 12 is of bladder area material preferably a single crystal garnet with a J ^ Qp-CL ~~ composition, wherein the J component of the film composition consists of at least one of the following elements -ordered: zerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbium, Dysprosium, Holmium, Erbium, Thulium, Ytterbium, Lutetium, Lanthanum, Yttrium »The Q component of the film composition becomes taken from the group that consists of: iron, iron and aluminum, iron and gallium, iron and indium, iron and Scandium, iron and titanium, iron and vanadium, iron and chromium, iron and manganese.
Bevorzugte Filmmaterialien sind Eisengranate, wie z.B. Y^Ga.. o Fe3.8°12 und Tb3Fe5°-i2*Preferred film materials are iron grenades, such as Y ^ Ga .. o Fe 3.8 ° 12 and Tb 3 Fe 5 ° -i2 *
Die Filmsubstratstruktur aus einem Eisengranat besitzt einen Film mit einer gegebenen Magnetostriktiven Konstante und einer gegebenen Differenz zwischen der Gitterkonstanten von Film und Substrat. Dieses Erfordernis wird in Einzelheiten in den gleichzeitig eingereichten US-Patentanmeldungen Nr. 7oE158, Nr. 7oE158A und Nr. 7oE158B von Mee et al diskutiert. Währ&nd Granate die vorzuziehenden Materialien für das dünne Filmsubstrat sind, können auch andere Oxydmaterialien für das Substrat verwendet werden, insbesondere, wenn der Film aus einem Orthoferritmaterial gebildet wird.The iron garnet film substrate structure has a film with a given magnetostrictive constant and a given difference between the lattice constants of the film and substrate. This requirement is detailed in the concurrently filed U.S. Patent Applications No. 7oE158, No. 7oE158A and No. 7oE158B by Mee et al. While grenades are the preferable materials for the thin Film substrate, other oxide materials can also be used for the substrate, especially if the film is made of an orthoferrite material is formed.
Der Streifen oder Kanal 12 wird vorzugsweise mittels eines Ätzverfahrens hergestellt, indem entweder ein fotnlithografisches Ätz-The strip or channel 12 is preferably made by means of an etching process produced by either a photographic etching
Ha l D JL e χ τ» e r ~ Ha l D JL e χ τ »er ~
verfahren verwendet wird, das allgemein in der.Industrie verwendet wird, oder indem ein Ätzmittel, wie z.B. heiße Phosphorsäure, zur Bildung der Kanten 14 und 15 auf dem beschränkten Teil 16, sowie die Kanten 15 und 19 auf den nicht beschränkten Teilen 2omethod is used, which is commonly used in the industry or by using an etchant such as hot phosphoric acid to form the edges 14 and 15 on the restricted portion 16, as well as the edges 15 and 19 on the non-restricted portions 2o
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benutzt werden. Während chemische Ätzung die bevorzugte Art zur Bildung des Kanals oder Streifens 12 ist, können auch andere Verfahren verwendet v/erden, wie z.B. Spritzätzen, Laserbearbeitung und dergleichen.to be used. While chemical etching is the preferred way of forming the channel or stripe 12, other methods can be used used such as injection etching, laser machining and the like.
Eine andere Ausführungsform des Kanals 12 würde ähnlich der der in Fig. 1 gezeigten sein, mit Ausnahme, daß die Seiten des Kanals nicht vollständig durch die Filmdicke, hindurch bis zu der Substratoberfläche hindurchgeätzt sind. In diesem Falle würde der Kanal mittels Einschnitten gebildet werden, die in dem Film geätzt werden, wobei die Ätzeinschnitte sich in dem Film über eine Dicke erstrecken, die zwischen ungefähr Io und ungefähr 95 % der Gesamtdicke des Films beträgt.Another embodiment of the channel 12 would be similar to that shown in Figure 1 except that the sides of the channel are not etched completely through the film thickness, to the substrate surface. In this case the channel would be formed by means of cuts which are etched in the film, the etch cuts extending in the film over a thickness which is between about Io and about 95 % of the total thickness of the film.
Die Breite der beschränkten Region 16, d.h. der Abstand zwischen den Kanten 14 und 15, beträgt ungefähr vorzugsweise 1,5 bis 2 mal den Durchmesser des Blasenbereichs in dem Film. In einer vorzugsweisen Ausführungsform beträgt die Breite der begrenzten Region 16 ungefähr o,o15 ■ mm (0,0006 inch) und der Blasendurchmesser ungefähr o,oo76 mm (o,ooo3 inch). Indem die Breite des beschränkten Teils 16 den Blasendurchmesser übertrifft, wird der Blase ermöglicht, von einem nicht begrenzten Teil 18 des Streifens durch eine begrenzte Region 16 zu einem zweiten nicht begrenzten Teil 2o zu wandern.The width of constrained region 16, i.e., the distance between edges 14 and 15, is approximately preferably 1.5 to 2 times the diameter of the bubble area in the film. In a preferred embodiment, the width is the limited Region 16 approximately 0.015 mm (0.0006 inches) and the bubble diameter approximately o, oo76 mm (o, ooo3 inches). By making the restricted portion 16 wider than the bubble diameter, it becomes allows the bladder to pass from one non-delimited portion 18 of the stripe through one delimited region 16 to a second non- limited part 2o to hike.
Die Breite des nicht begrenzten Teils 2o übertrifft die Breite des begrenzten Teils 16. Vorzugsweise beträgt das Verhältnis der Breiten vom nicht begrenzten Teil 2o zu begrenztem Teil 16 größenordnungsmäßig 3 zu 2, obwohl dieses Verhältnis nicht auf diesen Wert beschränkt ist. In einer vorzugsweisen Ausführungsform, bei der der beschränkte Bereich 16 eine Breite von o,o15 mm (o,ooo6 inch) besitzt, betrug die Breite des nicht beschränkten Teils 2o o,o25 mm (o,oo1 inch).The width of the non-delimited part 2o exceeds the width of the delimited part 16. Preferably, the ratio is Widths from the non-limited part 2o to the limited part 16 are of the order of 3 to 2, although this ratio is not this value is limited. In a preferred embodiment in which the restricted area 16 has a width of 0.015 mm (0.06 inches), the width of the unconstrained portion was 0.025 mm (0.01 inches).
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£AD ORIQlMAL£ AD ORIQlMAL
Blas enberei ehe 22 werden, auf herkömmliche Art mittels .Anbr:i η gen von geeigneter] magnetischen Feldern über der In der Zeichnung gezeigten Struktur hergestellt. Im allgemeinen haben die Blasc-n-bereiche eine Größe von, z.B.» bei substituierten Eis engrail ten, ungefähr o,oo76 ru:n (o»ooo3 inch).Blowing area before 22 are produced in a conventional manner by means of attaching suitable magnetic fields over the structure shown in the drawing. In general, the bubble n-areas have a size of, for example, in the case of substituted ice lines, approximately 0.076 ru: n (0.03 inches).
Die Blasenbereiche 22 werden von den Kanten 14, 15, 18 und 19 des FiJmstreifens 12 abgestoßen«. Da die vorzugsweise Breite des begrenzten Teils 16 den Durchmesser des Blasenbereichs um einen kleinen Wert übersteigtr neigen die Blasenbereiche 22 dazu, durch den begrenzten Teil 16 bewegt oder gedrückt zu werden.The blister areas 22 are repelled by the edges 14, 15, 18 and 19 of the film strip 12. Since the preferably width of the limited part 16 exceeds the diameter of the bubble region by a small value r , the bubble regions 22 tend to be moved or pressed by the limited part 16.
von den Kanten 14 und 1b
indem' sie in den breiteren nicht beschränkten Teil 2o gestoßen
werden. Der Abstand von einer nicht restriktiven Zone 2o zwischen zwei restriktiven Zonen 16 ordnet v/irksam eine oder mehrere
Blasenbereiche in der nicht restriktiven Zone 2o an. Die nicht
restriktive Zone hat eine Länge, die ausreicht, um eine oder mehrere Blaseribereiche darin aufzunehmen.from edges 14 and 1b
by thrusting them into the wider unrestricted part 20. The distance from a non-restrictive zone 2o between two restrictive zones 16 effectively arranges one or more bubble regions in the non-restrictive zone 2o. The non-restrictive zone has a length sufficient to accommodate one or more bubble areas therein.
Die Blasen 22 köiroen von einem nicht restriktiven Teil 2o zu einem zweiten oder dritten nicht restriktiven Teil 2o durch geeignete Anordnung von magnetischen Feldgradienten verschoben werden. Dies wird in den US-Anmeldungen Fall Nr. 7oE152, 7oEi53 und 7oE1?9 beschrieben.The bladders 22 close from a non-restrictive part 2o a second or third non-restrictive part 2o displaced by a suitable arrangement of magnetic field gradients will. This is discussed in U.S. filings Case Nos. 7oE152, 7oEi53 and 7oE1-9.
Die in diesem System beschriebene Erfindung mit zwei nicht restriktiven Teilen 2o, die durch einen restriktiven Teil 16 getrennt werden, kann 7\x einem Speicher mit beliebigem Zugriff verwendet werden. Schieberegister mit multiplen Stellungen können hergestellt werden, indem drei oder mehr nicht restriktive Teile verwendet v/erden.The system described in this invention with two non-restrictive parts 2o, which are separated by a restrictive portion 16 may be 7 \ x a random access memory can be used. Multiple position shift registers can be made using three or more non-restrictive parts.
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• BAD ORIGINAL• ORIGINAL BATHROOM
Obvro-bl eine vorzugsweise Ausfiihrtmgsform beschrieben wurde, Können zahlreiche KonfiPiurationen, in Übereinstimmung mit dieser-Erfindung gebildet werden*Although a preferred embodiment has been described, numerous configurations can be made in accordance with this invention *
Während die Erfindung unter Zuhilfenahme von einem Streifen· oder einem Film- von Iiagnetblasenberelelismatemal beschrieben wurde, das auf einem Substrat angeordnet ist;, wie in den Fig. \ und 2: gezeigt* ist diese Erfindung auch auf magnetische Streifen; anwendbar, die in Einset-jlrungen des Substrats angeordnet- sind, wie in Fig. 3 gezeigt ist, oder die von einen» Material unrgefee-n. sein können, das end ere magnetische Eigenschaften besitzt;*" wie in Fig. 4 gezeigt.While the invention has been described with the aid of a strip or film of diagnostic bladder relief mounted on a substrate; as shown in Figures 1 and 2: this invention is also applicable to magnetic strips; applicable, which are arranged in inserts of the substrate, as shown in Fig. 3, or which are unfeeded by a material. which has ender magnetic properties; * "as shown in FIG.
Wie in Fig. 3 steigt. ist e^n Substrat 3o Kit einer· Maske 31 versehen, die eine Öffnung besitzt. Unter Verwendung eines geeigneten Ätzmittel wird das Substrat 3o geätzt, um eine Absenkung oder Öffnung 3?- zu schaffen. Die Einsenkung 32 wird vorzugsweise unter Verwendung von chemischer Dampfablagerung mit dem Streifen 33 aus einem Magnetblas.enstre.tfenmateria.1 gefüllt, wie bei der Diskussion von Fig, 1 beschrieben. Der Streifen 33 besitzt ebenfalls einen restriktiven Bereich, der zwei nicht restriktive Bereiche trenntf wie schon diskutiert.As in Fig. 3 increases. e ^ n substrate 3o kit is provided with a mask 31 which has an opening. Using a suitable etchant, the substrate 3o is etched to create a depression or opening 3? - . The recess 32 is preferably filled with the strip 33 of magnetic blowing material, using chemical vapor deposition, as described in the discussion of FIG. The strip 33 also has a restrictive area which separates two non-restrictive areas f as already discussed.
Wie in Fig. h gezeigt, ist auf einem Substrat Ao eine Schicht angeordnet, die aus einem Teil 41 und einem Teil 42 aus einem Magnetblasenbereichsmaterial besteht. Der Teil 41 hat einen niedrigeren Magnetisierungspegel als der Bereich 42. Die in Fig. 4 gezeigte Struktur kann durch Ablagerung eines Films 41 auf dem Substrat 4o hergestellt werden, wonach eine Öffnung in die Schicht 41 geätzt und daraufhin das Material 42 in der Öffnung abgelagert wird. Ein anderes Verfahren der Bildung des Teils k2. besteht darin, ein Element in den Film 41 einzudiffundieren oder Ionen zu .implantieren, um den Teil 42 zu bilden. ElementeAs shown in Fig. H , a layer consisting of a part 41 and a part 42 of a magnetic bubble region material is arranged on a substrate Ao. The part 41 has a lower magnetization level than the region 42. The structure shown in Fig. 4 can be made by depositing a film 41 on the substrate 40, after which an opening is etched in the layer 41 and then the material 42 is deposited in the opening . Another method of forming the part k2. is to diffuse an element into the film 41 or to .implant ions to form the part 42. elements
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BAD ORSGINALBAD ORSGINAL
wie E»B. Gallii«, Aluminium und dergleichen, können verwendet werden, u.n den iktmieti&iermigsgrad des Teils 41 EU vermindern, der Region, die den For bsohreitunni; kanal umgibt, das.ist der Teil ti2> like E »B. Gallii ", aluminum and the like, can be used to reduce the degree of ictmieti of the part 41 EU, the region which the for bsohreitunni; channel surrounds, that is the part ti2>
öbv/ehl die Fig. 1 und diu Besühreiburg der Erfindung sich hauptsächlich mit. dew restriktiven Bereich in dem Streifen beschäftigt haben, vcr primär in der Breite des Streifens begrenzt iöt, enthält die.oe Erfindung jede geometrische Begrenzung des Streifens gelbst. Die geümetrische BsgrenKuna: kann im Hinblick auf die Tiefe oder Höhe des Films, der Breite des FiImB, oder Kombinationen davon bei'tp.hen» Aus Bequ%m!iehkeitsgründen" zeigt diß vorzugcvsise Ausführun.^ßform eine iJegrenzung in der Streifenbreite» Bei gewissen Anwendungen v/ürde es vorEUEiehen sein, die Begr&nzütiß- dui'Gh Vermine!??rnng d§r Hohe oder Dicke des Films zu erreichent Bei anderen Anwendungen i'önnto eins Kombination von einer verminderten Filmdicke und Pilribreite vorauzieh&n Bein,Fig. 1 and the Besühreiburg of the invention are mainly related. If the restrictive area employed in the stripe is limited primarily in the width of the stripe, the invention contains any geometric delimitation of the stripe yellow. The geometrical size can be used with regard to the depth or height of the film, the width of the film, or combinations thereof certain applications, v / ould it vorEUEiehen be to achieve the Begr & nzütiß- dui'Gh Vermine! ?? rnng d§r High or thickness of the film t In other applications i'önnto one combination of a reduced film thickness and Pilribreite vorauzieh n & leg,
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