DE2135462C3 - Object with a moiré pattern on the surface and process for its manufacture - Google Patents

Object with a moiré pattern on the surface and process for its manufacture

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DE2135462C3 DE19712135462 DE2135462A DE2135462C3 DE 2135462 C3 DE2135462 C3 DE 2135462C3 DE 19712135462 DE19712135462 DE 19712135462 DE 2135462 A DE2135462 A DE 2135462A DE 2135462 C3 DE2135462 C3 DE 2135462C3
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    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44FSPECIAL DESIGNS OR PICTURES
    • B44F1/00Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
    • B44F1/08Designs or pictures characterised by special or unusual light effects characterised by colour effects
    • B44F1/14Iridescent effects

Description

)i) i

An ebenso wie der Kaschierkleber trans- 3y^reWM.n Just like the laminating adhesive trans- 3y ^ reWM . n

L. *■* * optier Effekt überhaupt zu- ^j"L. * ■ * * optier effect at all- ^ j "

^WeSg sind bei dem erfindungsgemaßen Ge- Beobachters ^^rm^g^* ^ WeSg are in the inventive Ge observer ^^ rm ^ g ^ *

genstand mit einem Moire-Muster auf der Ober- Ze.cbenpap.er j^ggg»£*£J£freches 3object with a moire pattern on the upper part of the Ze.cbenpap.er j ^ ggg »£ * £ J £ cheeky 3

gäche die beiden Muster in Halbtontechnik ausge- des ^£^.^2^» umgebenenthe two patterns would be surrounded by a halftone technique

führt. Ferner haben vorzugswe.se die Einüefungen mit derc'weiteren «gg^ ^ ^n Be. oder erhabenen Punkte solche Abmessungen, daß sie w Bereiches^ ^rf «^^diSei wirken müssen.leads. Furthermore, the introductions with the additional "gg ^ ^ ^ n Be . or raised points of such dimensions that they must act in the range ^ ^ rf «^^ diSei.

se iSÄ SSse iSÄ SS

lsls

Punkten aufweisen. Auch können die beiden einan- Bere,ch3 nur etwa halb_sHave points. Also, the two can only meet each other for about half a second

der überlagernden Musler im wesentlichen identisch .. verformt se», als d*β «α™* h man ω.of the overlying Musler essentially identical .. deformed se », as d * β« α ™ * h man ω .

SiΑ? "" MUSter Um8C' spSeÄlÄÄA mi, einen,SiΑ? "" MUSter Um8C 'spSeÄlÄÄA mi, one,

mi, einem Moire-Mu.le, in de, vorbeschriebenen ArI « pla«e ?»^g"™e;£"SSsJEScaatfili« mitmi, a moire mu.le, in de, previously described ArI « pla « e ? »^ g" ™ e ; £ "SSsJEScaatfili« with

Aufgabe wird erfindungsgemäO dadurch gelös,, daß auf die ™*"a™« '*· ^. ersle Plae The object is achieved according to the invention in that on the ™ * " a ™" * * ^. Ersle pla " e

α sfsssz oSiferhirp 3^sssjräsiBt£α sfsssz oSifer h irp 3 ^ sssjrasiBt £

enthält, um eine Prägplatte herstellen, d.e e.nander ^??«*^™^ ™rite Platte läßt man nicht überlagernde Muster von Eintiefungen oder erhabe- tatfo ^6^«"- "iesJ^^^härte saadem drückt, nen Punkten oder beiden aufweist, und daß man d.e 35 vollständig trocknen ™^rt. ^ erhär Prägeplatte sodann benutzt um die überlagerten Mu- ^^^^^tA^a geprägten Oberster dieser Platte in die Oberfläche eines pragbaren, tete Platte mit.em«»«/; β β κ mU nicht reflektierenden Bogens oder anderen Gegen- {^n^fyo%Slgln^^h^ war, erhält stands einzudrücken. Es wird also lediglich die Pra- einc™.^SS^Smit der gleichen Rasteraufgeplatte selbst in zwei aufeinanderfolgenden Arbeite- 4o nun e.n weiteres Muster«™ ^B dem gangen geprägt. Hierbei wird in die Prägeplatte .m teilung, J^"^ ^nn ^zweite Platte dann verformbaren Zustand das erste Muster und sodann, Jiocknra^Bfc-^gJ^ Moire-Musters solange sie noch verformbar ist, das zwe.te Muster als^ Prägeplatte zur ιrterstβ β det werden. eulgeprägt. Beim zweiten Prägevorgang muß die ^^J^Z^mT^Z^^acnac Plane bereits eine gewisse Härte auhwasen,, dam, 45 ^^^SSTw-eet» Muster gegen-contains, in order to produce an embossing plate, de e.nander ^ ?? «* ^ ™ ^ ™ rite plate one does not leave superimposed patterns of depressions or raised tatfo ^ 6 ^« "-" ies J ^^^ hardness saadem presses , NEN points or both, and that the 35 dry completely ™ ^ rt. ^ he embossing plate is then used around the superimposed mu- ^^^^^ tA ^ a embossed top of this plate in the surface of an embossable, tete plate mit.em «» «/; β β κ mU non-reflective arc or other object- { ^ n ^ f yo % Slgln ^^ h ^ was, receives stand to be depressed. It is therefore only the prac- ac ™. ^ SS ^ Smit marked the same grid Situated board itself in two consecutive Arbeite- 4o now s another pattern "™ ^ B the addressed. Here, in the embossing plate .m division, J ^ "^ ^ nn ^ second plate then deformable state the first pattern and then, Jiocknra ^ Bfc- ^ gJ ^ Moire pattern as long as it is still deformable, the second pattern as ^ embossing plate for ιrterstβ β det who eulgeprägt the.. In the second stamping operation the ^^ J ^ Z ^ mT ^ Z ^^ acnac Plane has already auhwasen a certain hardness ,, dam, 45 ^^^ SSTw-eet "pattern counter

sich als Vorteil erwiesen, die erste und d.e zwe.te 5° sehen denproved to be an advantage, the first and the second 5 ° see the

Platte aus Cellulose-Triacetatfolie herzustellen, in- Mui[f^- ,atte kann auch als umgekehrte HaIbdem Cellulose-Triacetatfolien mit durch ein^ D,C a,S "^Met «in bei der die in der Zeich-Plate made of cellulose triacetate film, in- Mu i [f ^ -, atte can also be used as an inverted Halbdem cellulose triacetate film with a ^ D , C a , S "^ Met" in where the in the drawing

sungsmittel erweichter Oberfläche auf eme Halb- tonplatte -^'"^'^«pgebenen Bereiche Htltt d platten gelegt werden wöbe, nung J^f6JJgJ Sjub bildetSolvent-softened surface on eme semi-clay slab - ^ '"^'^" pgenden areas Htltt the slabs are placed wöbe, nung J ^ f 6 JJgJ Sjub forms

sungsmittel erweichter Oberfläche auf eme Ha p ^^^«pgebenen BereicheMedium softened surface on eme Ha p ^^^ «pgiven areas

ton-Hauptplatte oder -platten gelegt werden, wöbe, nung J^f6JJgJ ^vSjuben ausgebildet die erstte Cellulose-Triac^atfol.e erharten kann, ehe 55 mcht ^Aen"?^ ^ei Hauptplatten benutzt sie auf die zweite gelegt w.rd. werden von denen die eine eine gewöhnliche HaIb-clay main plate or plates are placed, wöbe, nung J ^ f 6 JJgJ ^ vSjuben formed the first cellulose triac ^ atfol.e can harden before 55 mcht ^ Aen "? ^ ^ ei main plates are used they are placed on the second w .rd. of which one is an ordinary

An Hand der Zeichnung, d.e e.nen kle.nen Aus- werde"; ν°"/Χn adere eine umgekehrte Halbtonschnilt der Oberfläche eines Gegenstandes mit e.nem tonplatte und d.e andere eine u g Moire-Muster gemäß der Erfindung darstellt, ist die platt«'^ CeHalose-Triacetatfolie The e / n Χ a "reverse Halbtonschnilt the surface of an object with e.nem audio disk and a de other ug moire pattern according to the invention; to the drawing, de e.nen kle.nen training would" ν ° " represents, is the flat '' ^ CeHalose-triacetate

Erfindung im folgenden näher erläutert. 6» ^^"eiHS Punkte an Stelle von Eintie-Invention explained in more detail below. 6 »^^" eiHS points instead of single

In d*r Zeichnung sind mit 1 die erhabenen Punkte können dan^eAabene Y^ ^ ^ ^ In the drawing, the raised points can be marked with 1 then ^ eAabene Y ^ ^ ^ ^

eines Musters bezeichnet, welches einem in der Auf- ""^"JJhS? wSie mit Eintiefungeo versehen sieht identischen weiteren Muster von Bindungen 2 Punkten. ""^ JJJ teiden platten oder beide überlagert ist, das gegenüber dem ersten Muster ge- ™%£%ί£νΆ** Eintiefungen aufweisen.a pattern indicated that a provided in the up "" ^ "JJhS? WSIE with Eintiefungeo looks identical further pattern of bonds 2 points.""^ JJJ teiden plates od he both superimposed, the overall relative to the first pattern ™% £% ί £ νΆ ** have indentations.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (9)

Überlagerung zweier Netze zu erzeugen. So können Patentansprüche: beispielsweise zwei gewebte Seidenstoffe aufeinan-Generate superposition of two networks. Patent claims: for example, two woven silk fabrics on top of each other 1. Gegenstand mit einen» Moire-Muster auf der dergelegt und gegen eine Lichtquelle betrachtet wer-Oberflacbe, dadurch gekennzeichnet, den. Die sichtbaren bellen und dunklen Bereiche des daß eine Uchtreflektierende Oberfläche mit zwei S sich dabei ergebenden Moire-Musters schimmern einander überlagernden Mustern von Einüefun- eigenartig und bewegen sich abhängig vom Ort des gen (2) und/oder erhabenen Punkten (1) geprägt Beobachters in bezug auf das Moire-Muster. Dieser ist, wobei die Überlappung zwischen den Eintie- Schimmereffekt ist charakteristisch für ein Moirefungen (2) und/oder den erhabenen Punkten (1) Muster, das mit zwei physikalisch voneinander geder beiden Muster sich über die Oberfläche hin- io trennten Netzen erzeugt wird. Auch können (vgl. weg ändert USA.-Patentschrift 3449 158) zwei getrennte Kunst-1. Object with a »moire pattern on the laid and viewed against a light source who-Oberflacbe, characterized by the. The visible barking and dark areas of the ight reflective surface with two resulting moiré patterns shimmer superimposed patterns of Einüefun peculiar and move depending on the location of the genes (2) and / or raised points (1) embossed observer with respect to the moiré pattern. This is, where the overlap between the Eintie shimmer effect is characteristic of a Moirefungen (2) and / or the raised dots (1) pattern that is physically interconnected with two two patterns are generated across the surface. Also can (cf. way changes USA patent specification 3449 158) two separate art 2. Gegenstand nach Anspruch 1, dadurch ge- stoffolien, weiche jeweils ein Muster von unterkennzeichnet, daß die beiden Muster in Halbton- schiedlich voneinander entfernten Eintiefungen auftechnik ausgeführt sind. weisen mit ihrer Rückseite zusammenkaschiert sein.2. The object of claim 1, characterized by fabric films, each soft marked by a pattern of, that the two patterns are created in halftone indentations at different distances from one another are executed. have to be laminated together with their back. 3. Gegenstand nach Anspruch 1 oder 2, da- 15 Auch hier tritt der für ein Moire-Muster typische durch gekennzeichnet, daß die Eintiefungen (2) Schimmer-Effekt auf, bei dem die sichtbaren hellen oder erhabenen Punkte (1) solche Abmessungen und dunkleren Bereiche in Abhängigkeit vom Lichthaben, daß sie beim Betrachten aus einem vorge- einfallswinkel bzw. mit sich änderndem Standort des gebenen Abfand nicht einzeln erkennbar sind. Beobachters »wandern«.3. The object of claim 1 or 2, there also occurs here the typical for a moiré pattern characterized in that the depressions (2) have a shimmer effect in which the visible bright or raised points (1) have such dimensions and darker areas depending on the light, that when viewed from a previous angle of incidence or with the changing location of the given Abfand are not individually recognizable. Observer "wander". 4. Gegenband nach Anspruch I, 2 oder 3, da- ao Es ist ferner bekannt (schweizerische Patentschrift durch gekennzeichnet, daß die beiden überlagern- 206 206) ein moireähnliches Muster durch Drukden Muster praktisch identische, gleichartige Mu- ken von zwei Rasterpunkt-Mustern auf eine ebene ster darstellen, die um einen Winkelbetrag gegen- Oberfläche zu erzeugen. Im Gegensatz zu einem echeinander verdreht sind. ten Moire-Muster ist dieses Muster jedoch gleichblei-4. Counter hinge according to claim 1, 2 or 3, da- ao It is also known (Swiss patent characterized in that the two superimpose a moire-like pattern by printing Patterns practically identical, similar mugs from two grid point patterns on one level represent that generate an angular amount against the surface. In contrast to a disgruntled one are twisted. ten moire pattern, however, this pattern remains the same. 5. Gegenstand nach Anspruch 1, 2 oder 3, da- 35 bend bzw. feststehend, d. h. es ändert oder »bewegt« durch gekennzeichnet, daß die beiden überlagern- sich nicht abhäneig vom Einfallswinkel des Lichtes den Muster gleichartig, aber nicht identisch sind bzw. vom Standort des Betrachters.5. The article of claim 1, 2 or 3, there- 35 bend or fixed, d. H. it changes or "moves" characterized in that the two overlap - not dependent on the angle of incidence of the light the patterns are similar but not identical or from the location of the observer. und unterschiedliche Zwischenräume zwischen Schließlich ist es auch bekannt (britische Patent-and different spaces between Finally it is also known (British patent den Eintief'ingen oder erhabenen Punkten (1) Schriften 486 906 und 528 167), einen optischen Ef-the recessed or raised points (1) writings 486 906 and 528 167), an optical effect aufweisen. 30 fekt dadurch zi» erzeugen, daß man auf einer opakenexhibit. 30 fect by being placed on an opaque 6. Gegenstand nach Anspruch 1, 2 oder 3, da- oder transparenten Folie verschieden orientierte Gitdurch gekennzeichnet, daß die beiden einander termuster an verschiedenen Stellen auf einer Oberüberlagernden Muster im w. entliehen identisch fläche der Folie aufbringt. Weitere Stellen der Ober- und nicht gleichartig sind, sondern daß ein Muster fläche können ein vermindertes Reflexionsvermögen umgekehrt auf das andere gelegt ist. 35 haben bzw. keine Netzprägung, um dort einen mat-6. Article according to claim 1, 2 or 3, there or transparent film differently oriented Gitdurch characterized in that the two term patterns at different points on one superimposed Pattern in the w. Borrowed the same area of the film. Further positions of the senior and are not similar, but that a pattern surface can have a reduced reflectivity reversed on top of the other. 35 have or have no mesh embossing in order to have a mat- 7. Verfahren zum Herstellen eines Gegenstan- ten Hintergrund zu erzeugen. Die Rillen und erhabedes mit einem Moire-Muster auf der Oberfläche nen Linien, welche durch die Netzmuster geprägt nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge- wurden, erzeugen kein echtes kfoire-Muster, da dann, kennzeichnet, daß man eine erste Platte mit wenn der Standort des Beobachters sich längs einer einem Muster aus Eintiefungen oder erhabenen 40 der Orientierungsrichtungen eines Netzmusters än-Punkten auf die Oberfläche einer zweiten prägba- dert, von diesem Netzmuster kein eigenartig sich beren Platte drückt, die ebenfalls ein Muster aus wegendes Schimmern beobachtet werden kann, so Eintiefungen oder erhabenen Punkten enthält, daß zumindestens Teile des Musters gewissermaßen um eine Prägplatte herzustellen, die einander stillstehend sind.7. Method for producing an object to generate a background. The grooves and raised it with a moiré pattern on the surface of the lines, which are shaped by the mesh pattern according to one of claims 1 to 6, thereby generating no real kfoire pattern, since then, indicates that one has a first plate with when the position of the observer is along a a pattern of recesses or raised 40 of the directions of orientation of a mesh pattern än points embossed onto the surface of a second one, nothing strange about this net pattern Plate presses, which can also be observed a pattern of shimmering away, so Depressions or raised points that contain at least parts of the pattern so to speak to produce an embossing plate that are stationary with respect to one another. überlagernde Muster von Eintiefungen oder erha- 45 Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen benen Punkten oder beiden aufweist, und daß Gegenstand mit einem Moire-Muster auf der Oberman die Prägeplatte sodann benutzt, um die fläche zu schaffen, das sich ähnlich »bewegt« bzw. überlagerten Muster dieser Platte in die Ober- schimmert wie ein mit zwei getrennten Rasternetzen fläche eines prägbaren, lichtreflektierenden Bo- erzeugtes Moire-Muster,
gens oder anderen Gegenstands einzudrücken. s« Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge-
Overlapping patterns of recesses or received 45 The object of the invention is to have one or both dots, and that the object with a moiré pattern on the upper man then uses the embossing plate to create the surface that "moves" similarly or superimposed pattern of this plate in the upper shimmers like a moiré pattern created with two separate grid areas of an embossable, light-reflecting Bo-
gens or other object. s «This task is achieved according to the invention
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch ge- löst, daß eine lichtreflektierende Oberfläche mit zwei kennzeichnet, daß die Prägeplatte aus Triacetat- einander überlagernden Mustern von Eintiefungen folie hergestellt wird. und/oder erhabenen Punkten geprägt ist, wobei die8. The method according to claim 7, characterized in that a light-reflecting surface with two indicates that the embossing plate consists of triacetate superimposed patterns of recesses film is produced. and / or raised points is embossed, the 9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch Überlappung zwischen den Eintiefungen und/oder gekennzeichnet, daß die erste und die zweite 55 erhabenen Punkten der beiden Muster sich über die Platte aus Triacetatfolie hergestellt werden, in- Oberfläche hinweg ändert. Im Gegensatz zu einem dem Triacetatfolien mit durch ein Lösungsmittel auf herkömmliche Weise mit zwei getrennten Netzen erweichter Obetfläche auf eine Halbton-Haupt- erzeugten Moire-Muster werden die zwei Verforplatte oder -Platten gelegt werden, wobei die er' mungsmustCF auf ein und derselben Oberfläche ausste Triacetatfolie erhärten kann, ehe sie auf die fo gebildet und beeinflussen steh gegenseitig so, daß das zweite gelegt wird. beobachtbare moireartige Muster ähnlich wie ein9. The method according to claim 7 or 8, thereby overlapping between the recesses and / or characterized in that the first and second 55 raised points of the two patterns extend over the Plate made of triacetate foil, in-surface changes across the board. In contrast to one the triacetate film with solvent in a conventional manner with two separate nets softened surface on a halftone main generated moire pattern are the two Verforplatte or panels are laid, with the design pattern working on one and the same surface Triacetate film can harden before it is formed on the fo and influence each other so that the second is laid. observable moiré-like pattern similar to a m^^mmmm mit zwei getrennten Rastemebten erzeugtes Muster m ^^ mmmm pattern created with two separate grid layers schimmert und sich abhängig vom Beobachtungswin-shimmers and depending on the observation Die Erfindung bezieht sich auf einen Gegenstand kel oder Lichteinfallswinkel »bewegt«. Ein solchesThe invention relates to an object angle or angle of incidence of light "moves". One such mit einem Moire-Muster auf der Oberfläche sowie 6$ nur durch Bearbeiten einer Oberfläche erzeugtes Mu*with a moiré pattern on the surface as well as 6 $ mu created only by processing one surface * auf ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen ster läßt sich billiger herstellen als beispielsweise dasA method for producing such a sterile can be produced more cheaply than, for example, that Gegenstandes. votbekannte Muster, bei dem zwei jeweils auf einerSubject. well-known pattern in which two each on one Es ist bekannt, ein sichtbares Moire-Muster durch Seite mit Prägemustern versehene Einzelfolien mitIt is known to use a visible moiré pattern through individual foils provided with embossed patterns on the side
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