DE2130283A1 - Photosensitive compns - contg alkali-soluble vinyl polymers and ortho-quinonone diazides developable in alkaline - Google Patents
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Abstract
Description
Vinylpolymere, Verfahren zur Herstellung derselben und diese = Polymeren enthaltende photosensitive Zusammensetzungen Die vorliegende Erfindung betrifft alkalilöslich Vinylpolymere, die phenolische Hydroxylgruppen aufweisen, und photosensitive Zusammensetzungen, die diese Polymeren und o-Chinondiazidverbindungen enthalten, die beim Belichten alkalilöslich werden und mit wässrigen alkalischen Lösungen entwickelt werden könne. Vinyl polymers, processes for making the same and these = polymers Containing Photosensitive Compositions The present invention relates to alkali-soluble vinyl polymers containing phenolic hydroxyl groups and photosensitive Compositions containing these polymers and o-quinonediazide compounds, which become alkali-soluble when exposed to light and developed with aqueous alkaline solutions could be.
Es ist bekannt, dass o-Chinondiazidverbindungen beim Belichten -alkalilöslich werden, und diese Verbindungen werden in photosensitiven Zusammensetzungen verwendet, mit denen Positivbilder von transparenten Positiven gebildet werden. Eine solche typische photosensitive Zusammensetzung enthält eine o-Chinodiazidverbindung, beispielsweise einen Naphthochinon- (1,2) diazid-sulfonsäureester, und ein alkalilösliches Harz, beispielsweise ein Phenol-E'ormaldehyd-Harz vom Novolak-Typ.It is known that o-quinonediazide compounds are soluble in alkali when exposed to light and these compounds are used in photosensitive compositions, with which positive images are formed from transparent positives. Such typical photosensitive composition contains an o-quinodiazide compound, for example a naphthoquinone (1,2) diazide sulfonic acid ester, and an alkali-soluble resin, for example a novolak-type phenol-formaldehyde resin.
Solche Zusammensetzungen haben jedoch Nachteile. Sie führen beispielsweise zu feinen Löchern auf Grund einer partiellen Auflösung unbelichteter Bereiche zum Zeitpunkt der Entzicklung und ergeben ferner schlechte Reproduzierbarkeit, da der Überzug von der Trägerunterlage durch Abrieb oder mechanische Einwirkungen während des Verfahrens der Bildherstellu-Qg und des Ätzens infolge seiner geringen B'exibilität abblättert. However, such compositions have disadvantages. For example, you lead too fine holes due to a partial Resolution unexposed Areas at the time of development and also result in poor reproducibility, because the coating of the carrier base by abrasion or mechanical effects during the process of image formation and etching due to its low B'exibility flakes off.
Die vorliegende Erfindung betrifft nun alkalilösliche Vinylpolymere, die phenolische Hydroxylgruppen aufweiset, und photosensitive Zusammensetzungen, die diese Polymeren und o-Ghiuondiazidverbindungen enthalten, die beim Belichten alkalilöslich werden und mit wässrigen alkalischen Lösungen entwikkelt werden können. Diese alkalilöslichen Vinylpolymeren werden durch Umsetzung von Polyvinylalkohol mit aromatischen darbonsäuren, Sulfonsäuren oder Aldehyden, die phenolische Hydroxylgruppen aufweisen, erhalten. Die erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen haben einen grossen Anwendungsbereich, beispielsweise bei photomechanischen Verfahren, Photofabrikationen und dergleichen.The present invention now relates to alkali-soluble vinyl polymers, which has phenolic hydroxyl groups, and photosensitive compositions, containing these polymers and o-Ghiuondiazidverbindungen that when exposed become alkali-soluble and can be developed with aqueous alkaline solutions. These alkali-soluble vinyl polymers are made by reacting polyvinyl alcohol with aromatic dicarboxylic acids, sulfonic acids or aldehydes, the phenolic hydroxyl groups have received. The photosensitive compositions of the present invention have a wide range of applications, for example in photomechanical processes, Photofabrication and the like.
Erfindungsgemäss werden neue alkalilösliche Vinylpolymere, die sich wiederholende Einheiten der allgemeinen Strukturen aufweisen, in denen R ein Wasserstoffatom, eine Alkoxygruppe oder eine Aminogruppe bedeutet, hergestellt.According to the invention, new alkali-soluble vinyl polymers which have repeating units of the general structures have, in which R represents a hydrogen atom, an alkoxy group or an amino group.
Diese photosensitiven Polymeren werden durch eine der folgenden Reaktionen erhalten 1. Veresterurig von Polyvinylalkohol mit einer aromatischen Carbonsäure oder Sulfonsäure, die eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist; und 2. Acetalisierung von Polyvinylalkohol mit einem aromatischen Aldehyd, der eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist; wobei der «ls Ausgangsmaterial verarendete Polyvinylalkohol ein Pw (Gewichtdurchschnittspolymerisastionsgrad) von 300 P bis 2C00, elne Viskosität von 3 bis 65 cP/25°C und 30 bis 0 Molprozent Acetylgruppen aufweist und wobei die aromatische Carbonsaure aus der Gruppe von Hydroxybenzoesäuren, Salicylsäure und p-Aminosalicylsäure, die Sulfonsäuren aus der Gruppe von Hydroxybenzolsulfonsäuren und die Aldehyde aus der Gruppe von Hydroxybenzaldehyden und Vanillin gewählt sind.These photosensitive polymers are produced by any of the following Reactions obtained 1. Esterification of polyvinyl alcohol with an aromatic carboxylic acid or sulfonic acid having a phenolic hydroxyl group; and 2. acetalization of polyvinyl alcohol with an aromatic aldehyde that has a phenolic hydroxyl group having; where the polyvinyl alcohol processed as the starting material has a Pw (weight average degree of polymerisation) from 300 P to 2C00, a viscosity from 3 to 65 cP / 25 ° C and 30 to 0 mol percent Has acetyl groups and wherein the aromatic carboxylic acid from the group of Hydroxybenzoic acids, salicylic acid, and p-aminosalicylic acid, which are made up of sulfonic acids the group of hydroxybenzene sulfonic acids and the aldehydes from the group of hydroxybenzaldehydes and vanillin are chosen.
Die Veresterung kann in einem orgarischen basischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Pyridin, Picolin oder Dimethylformamid, bei einer Temperatur von 50 bis 600C während 3 bis 4 Stunden vorgerommen werden. Die Acetalisierung kann in einem geeigneten Lösungsmittel, wie beispielsweise Eisessig oder Dioxan, bei eimer Temperatur von 50 bis 600C während etwa 5 Stunden durchgeführt werden. Diese Vinylpolymeren enthalten phenolische Hydroxylgruppen in einer Menge von etwa 5 bis 100 Molprozent der sich wiederholenden Äthyleneinheiten, die den Überzug zur Entwicklung mit einer alkalischen wässrigen Lösung ergeben.The esterification can be carried out in an organic basic solvent, such as pyridine, picoline or dimethylformamide, at one temperature from 50 to 600C for 3 to 4 hours. The acetalization can in a suitable solvent such as glacial acetic acid or dioxane at a temperature of 50 to 600C for about 5 hours. These Vinyl polymers contain phenolic hydroxyl groups in an amount from about 5 to 100 mole percent of the ethylene repeating units that make up the coating for development with an alkaline aqueous solution.
Zu o-Chinondizzidverbindungen, die in den erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen verwendet werden können, gehören Xthyl-, Propyl-, Phenyl- und ß-Naphthylester von Benzochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure ; ß-Naphtholamid von Benzochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure; Benzochinon-(1,2)-dlazid-sulfanilid; Methyl-, Äthyl-, Isobutyl-, Phenyl-, Benzyl-, o- und m-Kresyl- und ß-Naphthylester von Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure,«- und ß-Naphthyl- und Benzylamide von Naphthochinon-( 1 ,2)-diazid-(2)-sulfonsäure; Phenyl-, p-Tolyl-und ß-Naphthyläther von Naphthochinon-(1 ,2)-diazid-(2)-sulfonsäure; Naphthochnnon-(1s2)-diazid-(2)-sulfanilid; Naphthochinon (1 ,2)-diazid-(2)-phenylsulfon-(4); ein Kondensationsprodukt von 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazd-(2)-sulfonsäure und 1 Mol 4,4'-Diaminobenzophenon; ein Kondensationsprodukt von 2 Mol Waphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure und 1 Mol 4,4'-Dihydroxy-1,1'-diphe-nylsulfon; und ein Kondensationsprodukt von liaphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure und Phenolformaldehydkondensat; und dergleichen.To o-quinone dizzide compounds that are present in the photosensitive compounds according to the invention Compositions that can be used include ethyl, propyl, and phenyl β-naphthyl ester of benzoquinone- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid; ß-naphtholamide from Benzoquinone- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid; Benzoquinone- (1,2) -dlazid-sulfanilide; Methyl-, Ethyl, isobutyl, phenyl, benzyl, o- and m-cresyl and ß-naphthyl esters of naphthoquinone- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid, «- and ß-naphthyl- and benzylamides of naphthoquinone- (1, 2) -diazid- (2) -sulfonic acid; Phenyl, p-tolyl and ß-naphthyl ethers of naphthoquinone- (1, 2) -diazid- (2) -sulfonic acid; Naphthochnon- (1s2) -diazide- (2) -sulfanilide; Naphthoquinone (1, 2) -diazid- (2) -phenylsulfon- (4); a condensation product of 2 Mole of naphthoquinone- (1,2) -diazd- (2) -sulfonic acid and 1 mole of 4,4'-diaminobenzophenone; a condensation product of 2 moles of waphthoquinone- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid and 1 mole of 4,4'-dihydroxy-1,1'-diphenyl sulfone; and a condensation product of liaphthoquinone- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid and phenol-formaldehyde condensate; and the same.
Das alkalilösliche Vinylpolymere und die o-Chinondiazidverbindung werden in einem geeigneten Lösungsmittel, beispielsweise Äthylenglykolmonoalkyläther, gelöst, um die zu verwendende photosensitive Zusammensetzung herzustellen. Die erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen bestehen aus etwa 5 bis 30 Teilen, vorzugsweise etwa 20 bis 40 Teilen, Vinylpolymerem, etwa 1/10 bis 2 Teilen, vorzugsweise etwa 1/5 bis 1/3 Teil, o-Ohinondiazidverbindung und etwa 40 bis 100 Teilen, vorzugsweise etwa o0 bis 80 Teilen, Lösungsmittel, auf das Gewicht bezogen. Die Uberzüge aus den erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen, die im wesentlichen aus Vinylpolymerem bestehen, besitzen gute Flexibilität, hohe Abriebfestigkeit und hohes Adhäsionsvermögen an Trägerunterlagen und führen während der Verarbeitung selten zu feinen Löchern oder Kratzern.The alkali-soluble vinyl polymer and the o-quinonediazide compound are in a suitable solvent, for example ethylene glycol monoalkyl ether, dissolved to prepare the photosensitive composition to be used. The inventive Photosensitive compositions consist of about 5 to 30 parts, preferably about 20 to 40 parts, vinyl polymer, about 1/10 to 2 parts, preferably about 1/5 to 1/3 part, o-ohinonediazide compound and about 40 to 100 parts, preferably about 0 to 80 parts, solvent, by weight. The coatings off the inventive photosensitive compositions, which essentially consist of Vinyl polymers are composed of good flexibility, high abrasion resistance and high Adhesiveness to substrates and rarely lead during processing to fine holes or scratches.
Die erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen können auf verschiedenste Trägerunterlagen, die als Druckplatten dienen, wie beispielsweise solche aus Aluminium, Zink, Magnesium und verschiedenen Legierungen von diesen, aufgebracht werden. Vorsensitivierte Platten, die für lange Zeitspannen vor der Verarbeitung gelagert werden können, werden auf die gleiche Weise hergestellt. Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen sind auch zur Herstellung von photosensitiven Filmen auf Kunststoffunterlagen, wie beispielsweise Polyäthylenterephthalatfolien, die zur erstellung gedruckter Schaltungen und dergleichen verwendet werden, geeignet.The photosensitive compositions according to the invention can contain various substrates that serve as printing plates, such as those made of aluminum, zinc, magnesium and various alloys of these, be applied. Presensitized plates that have been used for long periods of time before Processing can be stored in the same way. the Compositions according to the invention are also used for the production of photosensitive Film on plastic substrates such as polyethylene terephthalate foils, used to create printed circuits and the like.
Um eine chemische Reaktion mit der Oberfläche von Metallunterlagen zu vermeiden, ist ein für diese photosensitiven Zusammensetzungen geeigneter Entwickler eine schwach alkalische wässrige Lösung, vorzugsweise eine 1 bis lOprozentige Lösung, beispielsweise von Watriumhydroxyd, eine wässrige Natriummetasilicatlösung oder Natriumtriphosphatlösung und dergleichen.To have a chemical reaction with the surface of metal substrates a suitable developer for these photosensitive compositions is to be avoided a weakly alkaline aqueous solution, preferably a 1 to 10 percent solution, for example of sodium hydroxide, an aqueous sodium metasilicate solution or Sodium triphosphate solution and the like.
Da diese alkalischen Lösungen durch Auflösen der belichteten Bereiche entwickeln können, können sie für Schalen-, Tank- und Sprühentwicklungen verwendet werden, die keine physikalischen Behandlungen, wie beispielsweise Reiben, Schwabbeln und dergleichen, erfordern.As these alkaline solutions dissolve the exposed areas they can be used for peel, tank, and spray developments that do not require physical treatments, such as rubbing, buffing and the like.
Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen, die im wesentlichen Vinylpolymere sind, gute Flexibilität, hohe Abriebfestigkeit und hohes Adhäsionsvermögen an Unterlagen aufweisen und selten wahrend der Verarbeitung zu feinen Löchern oder Kratzern führen.An advantage of the present invention is that the inventive photosensitive compositions that are essentially vinyl polymers work well Have flexibility, high abrasion resistance and high adhesion to substrates and rarely lead to pinholes or scratches during processing.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung besteht darin, dass die unbelichteten Bildbereiche des -Überzugs mit üblichen konzentrierten alkalischen Lösungen oder geeigneten organischen Lösungsmitteln, wie beispielsweise Alkoholen und/oder Alkoholäthern, leicht gelöst und entfernt werden, da phenolische Hydroxylgruppen in diesen Bildbereichen verbleiben.Another advantage of the invention is that the unexposed Image areas of the coating with usual concentrated alkaline solutions or suitable organic solvents, such as alcohols and / or alcohol ethers, can be easily dissolved and removed because of phenolic hydroxyl groups in these image areas remain.
Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.The following examples serve to further illustrate the invention.
3Beispiel 1 Synthesemethode für Polymere mit der Struktur III 22 g Polyvinylakohol (Pw = 800) wurden in 300 ml Eisessig dispergiert, und zu dieser Dispersion wurden 30,5 g p-Hydroxybenzaldehyd und 25 ml wässrige 20prozentige Schwefeisäurelösung zugegeben. Die Acetalisierung wurde dann bei 50°C während 3 Stunden unter Rühren durchgeführt. Nach der Umsetzung wurde das Reaktionsgemisch abgekühlt und in Wasser gegossen, um ein Harz zu ergeben, das getrocknet wurde. Es wurde so ein bräunliches Polymeres erhalten, das in Wasser unlöslich und in einer wässrigen Sprozentigen Natriumhydroxydlösung und in Alkoholen, Ketonen und Alkoholäthern löslich war. 3Example 1 Synthesis method for polymers with structure III 22 g of polyvinyl alcohol (Pw = 800) were dispersed in 300 ml of glacial acetic acid, and to this Dispersion was 30.5 g of p-hydroxybenzaldehyde and 25 ml aqueous 20 percent sulfuric acid solution added. The acetalization was then carried out at 50 ° C carried out for 3 hours with stirring. After the reaction, the reaction mixture became cooled and poured into water to give a resin, which was dried. There was thus obtained a brownish polymer which is insoluble in water and in a aqueous percent sodium hydroxide solution and in alcohols, ketones and alcohol ethers was soluble.
Analyse: Berechnet für 80 molprozentige Acetalisierung, C = 67,29 %, H = 6,54 , 0 = 26,17 y gefunden: C = 66,87 %, H = 6,62 %, 0 = 26,51 %.Analysis: Calculated for 80 mol percent acetalization, C = 67.29 %, H = 6.54, 0 = 26.17 y found: C = 66.87%, H = 6.62%, 0 = 26.51%.
Eine photosensitive Zusammensetzung, die 50 g nach der obigen Methode erhaltenes Vinylpolymeres, 10 g Naphthochinon-(i,2) diazid-(2)-sulfonsäurephenylester, 2 g Methylvioleitund 1000 g Äthylenglykolmonoäthyläther enthielt, wurde auf eine gekörnte Aluminiumblechplatte aufgebracht, um eine dünne Schicht darauf zu bilden. Nach Trocknen wurde die Schicht durch ein transparentes Positiv unter Verwendung einer 100 V, 50 A Kohlenbogenlampe 2 Minuten lang belichtet und dann mit wässriger 5prozentiger Natriumsilicatldsung entwickelt, mit Wasser gewaschen, mit wässriger verdünnter Säurelösung neutralisiert, wieder mit Wasser gewaschen und schliesslich eingefärbt.A photosensitive composition made 50 g by the above method obtained vinyl polymer, 10 g of naphthoquinone (i, 2) diazide (2) sulfonic acid phenyl ester, 2 g of Methylvioleitund 1000 g of ethylene glycol monoethyl ether was added to a grained aluminum sheet plate applied to form a thin layer on top. After drying, the layer was made through a transparent positive using exposed to a 100 V, 50 A carbon arc lamp for 2 minutes and then with aqueous 5% sodium silicate solution developed, washed with water, with aqueous dilute acid solution neutralized, washed again with water and finally colored.
Diese Aluminium-Offset-Druckplatte ist bei langen Druckarbeitsgängen verwendbar. Ausserdem konnte die erfindungsgemässe Beschichtung in einem lichtdichten Behälter mehr als 6 Monate ohne irgendeine Veränderung ihrer Qualität gelagert werden.This aluminum offset printing plate is ideal for long printing runs usable. In addition, the coating according to the invention could be light-tight in one Containers are stored for more than 6 months without any change in their quality.
Beis piel 2 Synthesemethode für Polymere mit der Struktur III Das Vinylpolymere mit phenolischen Hydroxylgruppen wurde wie in Beiapiel 1 unter Verwendung von 22 g Polyvinylakohol (Pw = 1400) und 38 g Vanillin an Stelle der 30,5 g p-Bydroxybenzaldehyd hergestellt. Dieses Polymere war bräunlisch gefärbt und in Wasser unlöslich und in einer wässrigen 5prozentigen Natriumhydroxydlösung und in Alkoholen, Ketonen und Alkoholäthern löslich. Example 2 Synthesis method for polymers with the structure III Das Vinyl polymers having phenolic hydroxyl groups were used as in Example 1 of 22 g of polyvinyl alcohol (Pw = 1400) and 38 g of vanillin instead of the 30.5 g of p-hydroxybenzaldehyde manufactured. This polymer was colored brownish and in water insoluble and in an aqueous 5% sodium hydroxide solution and in alcohols, Soluble ketones and alcohol ethers.
Analyse: Berechnet für 80 molprozentige Acetalisierung C = 63,93 lt = 6,56 0 = 29,51 % gefunden: C = 63,66 lt = 6,63 0 = 29,71 %.Analysis: Calculated for 80 mol percent acetalization C = 63.93 lt = 6.56 0 = 29.51% found: C = 63.66 lt = 6.63 0 = 29.71%.
Eine photosensitive Zusammensetzung, die 50 g des nach der obigen Methode erhaltenen Vinylpolymeren, 10 g KOndensationsprodukt von Waphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure und Phenol-Rormalden-yd-tonuensat und 1000 g Äthylenglykolmonoäthyläther enthielt, wurde auf eie Polyäthylenterephthalatfolie als Schicht aufgebracht und getrocknet. Diese sensitivierte trockne Folie wurde auf die Kupferoberfläche einer gedruckten Schaltung mittels erhitzten Presswalzen laminiert und durch ein transparentes Positiv 2 I;.inuten lang mit einer Eltra-Hochdruck-Quecksilberlampe belichtet. Nach Abziehen des Trägerfilms wurde die exponierte Schicht mit einer wässrigen Sprozentigen Natriummetasilicatlösung entwickelt und dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die freigelegte Kupferoberfläche wurde mit einer Ferrichlorldlösung geätzt, und die Bildschicht wurde mit Methanol entfernt.A photosensitive composition containing 50 g of the above Vinyl polymers obtained method, 10 g condensation product of waphthoquinone- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid and phenol-Rormalden-yd-tonuensat and 1000 g of ethylene glycol monoethyl ether contained, was applied as a layer to a polyethylene terephthalate film and dried. This sensitized dry foil was printed on the copper surface of a Circuit laminated by means of heated press rollers and through a transparent positive Exposed for 2 minutes with an Eltra high-pressure mercury lamp. After peeling of the carrier film, the exposed layer was treated with an aqueous 1% sodium metasilicate solution developed and then washed with water and dried. The exposed copper surface was etched with a Ferrichlorld solution, and the image layer was made with methanol removed.
Der erfindungsgemässe lichtempfindliche Überzug auf der Polyäthylenterephthalatfolis konnte in einer lichtdichten Verpackung mehr als 6 Monate ohne irgendeine Qualitätsänderung gelagert werden.The photosensitive coating according to the invention on the polyethylene terephthalate film could be stored in light-tight packaging for more than 6 months without any change in quality be stored.
'Beispiel 3 Synthesemethode für Polymere mit der Struktur 1 11 g Polyvinylalkohol (Pw = 500 mit einem Gehalt von 20 Molprozent Acetylgruppen) und 100 ml getrocknetes Pyridin wurden bei einer Temperatur von 1C0°C 24 Stunden gerührt. Nach Abkühlen auf 500C wurden zu dieser Lösung 47 g Salicyloylchlorid und 100 ml - Pyridin zugegeben. Das Gemisch wurde weiter bei 500C 4 Stunden zur Veresterung gerührt. Das Reaktionsgemisch wurde mit 1000 ml Aceton verdünnt und filtriert. Das Filtrat wurde in eine grosse Menge Wasser unter kräftigem Rühren gegossen, um das Harz zu isolieren, das mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde. Example 3 Synthesis method for polymers with the structure 1111 g Polyvinyl alcohol (Pw = 500 with a content of 20 mol percent acetyl groups) and 100 ml of dried pyridine were stirred at a temperature of 10 ° C. for 24 hours. After cooling to 50 ° C., 47 g of salicyloyl chloride and 100 ml were added to this solution - Pyridine added. The mixture was continued at 50 ° C 4 hours stirred for esterification. The reaction mixture was diluted with 1000 ml of acetone and filtered. The filtrate was poured into a large amount of water with vigorous stirring poured to isolate the resin, which was washed with water and dried.
Es wurde so ein weisslicnes Polymeres erhalten, das in Wasser unlöslich und in wässriger 20prozentiger Natriümhydroxydlösung und in Alkoholen, Ketonen und Alkoholäthern löslich war.A white polymer which is insoluble in water was obtained in this way and in aqueous 20 percent sodium hydroxide solution and in alcohols, ketones and Was soluble in alcohol ethers.
Analyse: Berechnet für 100 molprozentige Veresterung C = 64,69 K = 5,12 0 = 30,19 ffi gefunden: C = 64,22 H = 5,28 0 = 30,50 fo-Mit dem nach der obigen Arbeitsweise erhaltenen Vinylpolymeren wurde eine photosensitive Zusammensetzung mit Bestandteilen, die denen von Beispiel 1 entsprachen, hergestellt. Diese Zusammensetzung wurde auf eine Drei-Metall-Stahl-Kupfer-Chrom-Platte aufgebracht, um auf dieser eine dünne Uberzugsschicht zu bilden.Analysis: Calculated for 100 mol percent esterification C = 64.69 K = 5.12 0 = 30.19 ffi found: C = 64.22 H = 5.28 0 = 30.50 fo-With the one after the above The vinyl polymer obtained in the procedure became a photosensitive composition with ingredients identical to those of Example 1, prepared. This composition was applied to a three-metal-steel-copper-chrome plate in order to be on top of this to form a thin coating layer.
Nach Trosk-aen wurde diese Schicht durch ein transparentes Mega~ tiv mit einer Xenonlampe 5 Minuten lang belichtet und dann mit einer wässrigen Sprozentigen Natriumhydroxydlösung entwickelt, um den Überzug von den belichteten Bereichen zu entfernen. Dann wurde die Platte mit Wasser gewaschen. Die Chromoberfläche der Platte wurde mit einer Ätzlösung für die Drei-Metall-Platte behandelt, die aus einer gesättigten Lösung von Calciumchlorid und Chlorwasserstoffsäure bestand, um das Kupfer freizulegen.According to Trosk-aen, this layer was replaced by a transparent mega-tive exposed with a xenon lamp for 5 minutes and then with an aqueous percent strength Sodium hydroxide solution designed to coat the exposed areas remove. Then the plate was washed with water. The chrome surface of the plate was treated with an etching solution for the three-metal plate, which consists of a saturated A solution of calcium chloride and hydrochloric acid existed to expose the copper.
Dann wurde die Platte mit Wasser gewaschen. Die zurückgebliebene Überzugs schicht wurde mit einer wässrigen 20prozentigen Natriumhydroxydlösung entfernt, und die Kupferbildbereiche wurde dann aktiviert wad eingefärbt.Then the plate was washed with water. The remaining coating layer was removed with an aqueous 20 percent sodium hydroxide solution, and the copper image areas were then activated wad colored.
Beispiel 4 Synthesemethode für Polymere mit der Struktur 1 Das Vinylpolymere mit phenolischen Hydroxylgruppen wurde wie in Beispiel 3 unter Ver-«terdung von 11 g Polyvinylalkohol (Pw= 800) mit einem Gehalt von 5 Molprozent Acetylgruppen und 43 g p-Aminosalicyloylchlorid an Stelle der 47 g Salicyloylchlorid hergestellt. Dieses Polymere war braun gefärbt und in Wasser unlöslich und in wässriger lprozentiger Natriumhydroxydlösung und in Alkoholen, Ketonen und Alkoholäthern löslich. Example 4 Method of Synthesis for Polymers with Structure 1 The vinyl polymer with phenolic hydroxyl groups was carried out as in Example 3 with earthening 11 g polyvinyl alcohol (Pw = 800) with a content of 5 mol percent acetyl groups and 43 g p-aminosalicyloyl chloride instead of 47 g salicyloyl chloride manufactured. This polymer was brown in color and insoluble in water and in aqueous 1 percent sodium hydroxide solution and soluble in alcohols, ketones and alcohol ethers.
Analyse: Berechnet für 100 molprozentige Veresterung c = 60,22 r = 5,08 0 = 27,07 g = 7,63 % gefunden: C = 59,96 H = 5,26 0 = 27,51 N = 7,27 %.Analysis: Calculated for 100 mol percent esterification c = 60.22 r = 5.08 0 = 27.07 g = 7.63% found: C = 59.96 H = 5.26 0 = 27.51 N = 7.27%.
Eine photosensitive Zusammensetzung, die das nach der obigen Arbeitsweise erhaltene Vinylpolymere und Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäurephenylester enthielt, wurde auf eine mit Kupfer plattierte Epoxyfaserglastafel als Schicht aufgebracht, und die gedruckte Schaltung wurde hergestellt.A photosensitive composition that can be obtained by following the above procedure vinyl polymers obtained and phenyl naphthoquinone (1,2) diazide (2) sulfonate was applied to a copper clad epoxy fiberglass sheet as a layer, and the printed circuit was made.
Beispiel 5 Synthesemethode für Polymere mit der Struktur II Ein Vinylpolymere3 mit phenolischen Hydroxylgruppen wurde wie in Beispiel 3 unter Verwendung von 11 g Polyvinylalkohol (Pw = 500) und 57,9 g p-Hydroxybenzolsulfochlorid an Stelle der 47 g Salicyloylchlorid hergestellt. Dieses Polymere war weiss und in Wasser unlöslich und in wässriger Sprozentiger Natriumhydroxydlösung und in Alkoholen, Ketonen und Alkoholäthern löslich. Example 5 Synthesis method for polymers with the structure II A vinyl polymer 3 with phenolic hydroxyl groups was carried out as in Example 3 using 11 g of polyvinyl alcohol (Pw = 500) and 57.9 g of p-hydroxybenzenesulfonyl chloride in place of the 47 g of salicyloyl chloride prepared. This polymer was white and insoluble in water and in aqueous 1% sodium hydroxide solution and in alcohols, ketones and Soluble in alcohol ethers.
Analyse: Berechnet für 100 molprozentige Veresterung c = 48 H = 4 0 = 32 S = 16 % gefunden: C = 48,34 H = 4,26 0 = 52,23 S = 15,17 ror Eine photosensitive Zusammensetzung, die das nach der obigen Arbeitsweise erhaltene Vinylpolymere und ein Kondensationsprodukt von NaphthochirAon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonssure und Phenol-Formaldehyd-Kondenst hielt, wurde auf eine Aluminiumplatte als Schicht aufgebracht, um eine vorsenßitivierte Aluminium-Offset-Druckplatte herzustellen.Analysis: Calculated for 100 mol percent esterification c = 48 H = 4 0 = 32 S = 16% found: C = 48.34 H = 4.26 0 = 52.23 S = 15.17 ror A photosensitive Composition comprising the vinyl polymer obtained by the above procedure and a condensation product of NaphthochirAon- (1,2) -diazid- (2) -sulfonic acid and phenol-formaldehyde condensate held, was applied to an aluminum plate as a layer to form a presensitized Manufacture aluminum offset printing plate.
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| JP5384770A JPS508658B1 (en) | 1970-06-19 | 1970-06-19 |
Publications (1)
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| DE2130283A1 true DE2130283A1 (en) | 1971-12-23 |
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ID=12954149
Family Applications (1)
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| DE19712130283 Pending DE2130283A1 (en) | 1970-06-19 | 1971-06-18 | Photosensitive compns - contg alkali-soluble vinyl polymers and ortho-quinonone diazides developable in alkaline |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2322230A1 (en) * | 1972-05-05 | 1973-11-22 | Oce Van Der Grinten Nv | LIGHT-SENSITIVE PREPARATIONS |
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| WO2011031508A1 (en) * | 2009-09-08 | 2011-03-17 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
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- 1970-06-19 JP JP5384770A patent/JPS508658B1/ja active Pending
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1971
- 1971-06-18 DE DE19712130283 patent/DE2130283A1/en active Pending
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| EP0594026A2 (en) * | 1992-10-19 | 1994-04-27 | Hoechst Aktiengesellschaft | Polyvinyl acetals capable of forming emulsifier-free aqueous dispersions and redispersible dry powders, process for their manufacture and use |
| EP0594026A3 (en) * | 1992-10-19 | 1994-10-26 | Hoechst Ag | Polyvinyl acetals capable of forming emulsifier-free aqueous dispersions and redispersible dry powders, process for their manufacture and use. |
| WO2010080102A3 (en) * | 2008-12-19 | 2010-10-07 | Eastman Kodak Company | Radiation- sensitive compositions and elements containing poly(vinyl hydroxyaryl carboxylic acid esters) |
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| CN102256792B (en) * | 2008-12-19 | 2014-08-20 | 伊斯曼柯达公司 | Radiation-sensitive compositions and elements containing poly(vinyl hydroxyaryl carboxylic acid ester)s |
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| US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS508658B1 (en) | 1975-04-05 |
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