DE2063991A1

DE2063991A1 - Aqueous chrome bath and chrome plating process

Info

Publication number: DE2063991A1
Application number: DE19702063991
Authority: DE
Inventors: John Joseph Bernard Welling Kent Ward (Großbritannien)
Original assignee: International Lead Zinc Research Organization Inc
Current assignee: International Lead Zinc Research Organization Inc
Priority date: 1969-12-29
Filing date: 1970-12-28
Publication date: 1971-07-08
Also published as: GB1333714A; AU2348470A; FR2072091A1; NL7018695A; BE760886A

Description

PATENTANWÄLTEPATENT LAWYERS

XG. AMTHORXG. AMTHOR

DIFL.-ING. WOLFDIFL.-ING. WOLF

D-β !"HANKFUHT A. M., 22. 12,70 mti,»»»* (0811)59 03 08 Wa/'Ü D-β! "HANKFUHT AM, 22.12.70 mti,» »» * (0811) 59 03 08 Wa / 'Ü

ISO 144ISO 144

11 12311 123

International Lead Zinc Besearch Organization Inc., 292 Madison Avenue,International Lead Zinc Besearch Organization Inc., 292 Madison Avenue,

Ijew York, Hew York 10017, Y.£t.A.Ijew York, Hew York 10017, Y. £ t.A.

^T-'ä3sriges Chrombad und Verfahren sum Verchromen ^T- acidic chrome bath and process of chrome plating

Dia Erfindung betrifft wässrige Chromlösungen, insbesondere solche, die aufgelöstes dreiwertiges Ghroia und fmlphationen enthalten. Die Chrombäder gemäß der Erfindung eignen sich besonders für die Herstellung harter, vei-Echleißfester Schichten auf den Lager- und Reibflächen von Stahlteilen und für die Instandsetzung verschlissener oder beschädigter Teile solcher Bauelemente.The invention relates to aqueous chromium solutions, in particular those which contain dissolved trivalent ghroia and fmlphations. The chrome baths according to the invention are particularly suitable for the production of hard, vei wear-resistant layers on the bearing and friction surfaces of steel parts and for the repair of worn or damaged parts of such Components.

• •

Bekann be Galvanobäder, wio sie für die Terchroniung verwendet werden, arbeiten iia allgemeinen mit wässrigen Lösungen von Chromsäuren. Solche Bäder haben swei wesentliche Iiachtöile: einmal ist der Auflagewirkungsgrad gnving, und denixalb ist die Ablag-ei^angageBchirindigkeit niedrig; zweitens int iii<-i .;:-,x-fiufähigkeit beft-ren-.^t, und man trifft auf Schwierigkeiten dab'.i, Ablngi:tmngnn gleichförmig-n* Dicke über erhebllohe Flächen hinweg au erreichen.Be aware of galvanic baths, as they are used for terchronization, generally work with aqueous solutions of chromic acids. Such baths have two main advantages: on the one hand the application efficiency is good, and on the other hand the application efficiency is low; second, int iii <-i .;: -, x-fiuability beft-. ^ t, and one encounters difficulties in achieving uniform-n * thickness over considerable surfaces.

BAD 100828/1729BATH 100828/1729

Dreiwertiges Chrom enthaltende Galvanobäder haben auf der Hand liegende Vorteile, und im Laufe der Jahre sind eine ganze Reihe von Vorschlägen für entsprechende Zusammensetzungen gemacht worden. Es sind Gemische aus Chromsulphat und Ammoniumsulphat untersucht worden, die Bäder haben jedoch eine schlechte Deckfähigkeit, und die Ablagerungen sind ungleichmäßig, haben Risse und weisen eine schlechte, nichtmetallische graue Farbe auf. Verbesserungen im Aussehen der Ablagerung lassen sich durch Zusetzen von Harnstoff oder Glycolsäure erreichen, aber einaal ist die Haftung unbefriedigend, zum anderen ist der Stromwirkungsgrad, den man erreichen kann, unwirtschaftlich gering. Chrom-(III)-Galvanobäder sind bisher noch nicht verwendet worden.Electroplating baths containing trivalent chromium have obvious advantages and a number of proposals for compositions have been made over the years. Mixtures of chromium sulphate and ammonium sulphate have been studied, but the baths have poor hiding power and the deposits are uneven, cracked and poor in non-metallic gray color. Improvements in the appearance of the deposit can be achieved by adding urea or glycolic acid, but on the one hand the adhesion is unsatisfactory and on the other hand the current efficiency that can be achieved is uneconomically low. Chromium (III) electroplating baths have not yet been used.

Bäder der in Frage stehenden Art haben sich als bekannten Bädern überlegen erwiesen, und zwar sowohl hinsichtlich des Ablägeruhgswirkungsgrades als auch hinsichtlich der Streufähigkeit. Die verbesserte Ablagerungsrate, die von dem höheren Wirkungsgrad herrührt, ist von besonderer Bedeutung in der Galvanotechnik für technische Zwecke, da Ablagerungen hier wesentlich größere Dicken haben müssen, als das der Fall ist, wenn die Ablagerungen lediglich zur Verzierung oder als Korrosionsschutz dienen. Eine hohe und konsistenzte Streufähigkeit ist auch von besonderer Bedeutung,"um Ablagerungen mit engen Maßtoleranzen herstellen zu können. ' .Baths of the type in question are superior to known baths proven, both with regard to the depositing efficiency as well as in terms of throwing power. The improved deposition rate, which results from the higher efficiency, is of particular importance in electroplating for technical purposes, because deposits must have much greater thickness here than is the case if the deposits are only used for decoration or as protection against corrosion. A high and consistent throwing power is also of particular importance "around deposits with tight dimensional tolerances to be able to manufacture. '.

Die Erfindung sieht ein wässriges Chroni-Galvanobad mit einem pH-Wert von 1,6 bis 3,0 vor, dasThe invention provides an aqueous Chroni electroplating bath with a pH value from 1.6 to 3.0 before that

BAD ORfGfNALBAD ORfGfNAL

109828/1729 ■109828/1729 ■

Chromionen (als Sulphat)Chromium ions (as sulphate)

Ammoniumionen (als Sulphat) mindestens 1,0 M einen aprotischen Puffer ("aprotic buffer") mindestens 1 ml/l enthält. Borsäure und/oder ein netzmittel sind vorzugsweise ebenfalls vorgesehen. Die obere Konzentrationsgrenze für den Amid-Puffer ist durch die Löslichkeiten der Feststoffbestandteile in der entstehenden Flüssigkeit vorgegeben.Ammonium ions (as sulphate) at least 1.0 M an aprotic buffer ("aprotic buffer") at least 1 ml / l contains. Boric acid and / or a wetting agent are also preferred intended. The upper concentration limit for the amide buffer is due to the solubility of the solid components in the resulting liquid given.

Das Bad enthält vorzugsweise auch ein Stabilisierungsmittel, z.B. Bor- | säure, und ein Netzmittel, z.B. einen langkettigen aliphatischen Alkohol. Der aprotische Puffer ist vorzugsweise ein Amid-Puffer. Die bevorzugten Konzentrationsbereiche für diese Bestandteile sind:The bath preferably also contains a stabilizing agent such as boron | acid, and a wetting agent such as a long chain aliphatic alcohol. The aprotic buffer is preferably an amide buffer. The preferred The concentration ranges for these components are:

Chromion 0,5 H bis 1,5 MChromium ion 0.5 H to 1.5 M.

Ammoniumion 2,0 M bis 5»0 MAmmonium ion 2.0 M to 5 »0 M

Borsäure 0,05 M Mb 0,2 IIBoric acid 0.05 M Mb 0.2 II

Aprotischer Amido-Puffer 10 ml bis 400 Ml/l Netzmittel ' 0,05 M bis 0,1 MAprotic amido buffer 10 ml to 400 ml / l Wetting agents 0.05M to 0.1M

Der pH-Wert des Bades liegt vorzugsweise zwischen 2,2 und 2,6. Wenn der A pH-Wert zu niedrig ist, entwickelt sich an der Kathode Wasserstoff; wennThe pH of the bath is preferably between 2.2 and 2.6. If the A pH is too low, hydrogen will develop at the cathode; if

basischebasic

der pH-Wert zu hoch ist, können sich/Chromverbindungen niederschlagen. ,Der pH-Wert läßt sich zweckmäßigerweise durch Zusetzen von Ammoniak oder Schwefelsäure nach Bedarf einstellen.the pH value is too high, chromium compounds can precipitate. , The pH can expediently be adjusted by adding ammonia or adjust sulfuric acid as required.

Die Chromionen können zweckmäßigerweise von Chromammoniumsulphat stammen - Cr₂ (SO.),. (NH J₂SO.. 24H₂/. Dieses Salz ist eine Quelle relativ einfacher Chromionen, ist im einigermaßen reinen Zustand zu kaufen und hatThe chromium ions can advantageously come from chromium ammonium sulphate - Cr ₂ (SO.) ,. (NH J ₂ SO .. 24H ₂ /. This salt is a source of relatively simple chromium ions, can be bought and has in a reasonably pure state

- 4 1098?8/17?9 - 4 1098? 8/17? 9

-4- 206399Ί-4- 206399Ί

eine konstante Zusammensetzung.a constant composition.

Die Quelle weiteren Ammoniumions bildet vorzugsweise Ammoniumsulphat. Bei hohen Konzentrationen übt ,das Ammoniumion eine Pufferwirkung an der Kathode aus. Entsprechend übt Borsäure, bei der es sich um einen bevorzugten Bestandteil des Bads handelt, eine sehr starke Pufferwirkung bei einem pH-Wert um 2 herum aus. Die Menge an Borsäure, mit der im Bad gearbeitet werden kann, bestimmt sich durch ihre Löslichkeit, die recht niedrig ist.The source of further ammonium ions is preferably ammonium sulphate. At high concentrations, the ammonium ion has a buffering effect the cathode off. Correspondingly, boric acid, which is a preferred component of the bath, has a very strong buffering effect at a pH around 2. The amount of boric acid that can be used in the bath is determined by its solubility, which is quite low.

Zu aprotischen Amido-Puffern gehören beispielsweise Tetramethylharnstoff, DimethyIacetamid und Dimethylformamid. Verbindungen dieser Art üben eine ausgeprägte Pufferwirkung bei einem niedrigen pH-Vert aus, und sie machen auch die galvanischen Ablagerungen heller. Eine meßbare Verbesserung erreicht man schon mit 1 ml/l. Bei mehr als ca. 400 ml/ 1 können die zusätzlichen Kosten des aprotischen Amido-Puffers im Vergleich zu Wasser irgendeine weitere Verbesserung in der Leistung und Stabilität überwiegen. Bei dem bevorzugten aprotischen Amido-Puffer handelt es sich um Dmethylformamid, das einen niedrigen Dampfdruck bei normalen Temperaturen (3,6 mm Hg bei 2,5°C), einen breiten Plüssigkeitsbereich und eine hohe Dielektrizitätskonstante hat und mit Wasser in allen Verhältnissen mischbar ist. Die Vorteile eines aprotischen Puffers im Vergleich zu einem Amid-Puffer, der nicht aprotisch ist, bestehen darin, daß die Tendenz zur Entstehung von Wasserstoff an der. Kathode verringert wird. Dimethylformamid ist außerdem gegenüber derAprotic amido buffers include, for example, tetramethylurea, Dimethylacetamide and dimethylformamide. Connections of this kind have a pronounced buffer effect at a low pH-Vert, and they also make the galvanic deposits lighter. A measurable improvement can be achieved with 1 ml / l. If more than approx. 400 ml / 1 can compare the additional cost of the aprotic amido buffer to water outweigh any further improvement in performance and stability. The preferred amido aprotic buffer it is Dmethylformamid, which has a low vapor pressure normal temperatures (3.6 mm Hg at 2.5 ° C), a wide fluid range and has a high dielectric constant and is miscible with water in all proportions. The benefits of an aprotic buffer compared to an amide buffer which is not aprotic in that the tendency towards the formation of hydrogen at the. Cathode is decreased. Dimethylformamide is also opposite to that

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Hydrolyse stabiler als beispielsweise FoHrmamid.Hydrolysis more stable than, for example, FoHrmamid.

Der aprotische Puffer dient ferner als Komplexierungsmittel, um damit das Zusetzen irgendeines anderen Komplexierungsmitteis zum Galvanobad überflüssig zu machen.The aprotic buffer also serves as a complexing agent to it adding any other complexing agent to the plating bath to make superfluous.

Ein weiterer bevorzugter Bestandteil des Galvanobads ist ein Netzmittel. Eine geeignete Verbindung ist Octan-1-ol. Das Netzmittel erleichtert die Desorption von Wasserstoffgas von der Eathodenoberflache, was die neigung zur Bildung von Gaseinschlüssen verringert, um damit die Porosität und Sprödigkeit zu verringern.Another preferred component of the electroplating bath is a wetting agent. A suitable compound is octan-1-ol. The wetting agent makes it easier the desorption of hydrogen gas from the cathode surface, what the tendency to form gas inclusions is reduced, thus reducing the porosity and reduce brittleness.

Es ist entscheidend, daß die in dem Bad verwendeten Stoffe so rein wie möglich sind, damit die während des Arbeitens mit dem Bad erforderliche Reinigung auf ein Minimum reduziert wird. Das Chromsulphat soll deshalb weniger als 0,5 Teile pro Million Kupfer, 10 Teile pro Million Zinc und 100 Teile pro Million äisen enthalten, Ferner dürfen organische TRestsubstanzen, die in der Herstellung während der chemischen Reduktion eingeführt worden sein können, praktisch überhaupt nicht vorhanden sein. Wenn mit Material geringerer Reinheit gearbeitet werden muß, ist eine Reinigung erforderlich, und dazu wird das folgende Verfahren empfohlen. Die Chrom- und Ammoniumsalze und die Borsäure in das Wasser geben und zur Auflösung kochen. Heiß filtern, Aktivkohle zusetzen, kochen und erneut filtern. Den Amido-Puffer dem abgekühlten Filtrat zusetzen, den pH-V/ert einstellen, durch Galvanische Ablagerung fremde Metallionen, ausscheiden und erneut filtern. Das Bad ist dann für den Gebrauch fer-It is critical that the materials used in the bath are as pure as possible so that the cleaning required while working with the bath is minimized. The chromium sulphate should therefore contain less than 0.5 parts per million copper, 10 parts per million zinc and 100 parts per million iron. Furthermore, organic residue substances, which may have been introduced in the production during the chemical reduction, must practically not be present at all . If less pure material is to be used, cleaning is required and the following procedure is recommended. Add the chromium and ammonium salts and boric acid to the water and boil to dissolve. Filter hot, add activated charcoal, boil and filter again. Add the amido buffer to the cooled filtrate, adjust the pH value, remove foreign metal ions by galvanic deposition and filter again. The bath is then FER for use

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tig. Ausgeprägt schlechte Ergebnisse erhält man, wenn ein solches Reinigungsverfahren nicht befolgt wird, selbst wenn man mit Chromsalzen in Analar-Güte anfängt; der Wirkungsgrad, die Beckfähigkeit und die Streufähigkeit des Bades verringern sich, und die Ablagerungen haben eine schlechte Qualität.tig. Exceptionally bad results are obtained with such a cleaning process is not obeyed, even if one begins with Analar-grade chromium salts; the efficiency, the Beck ability and the Throwing power of the bath will decrease, and the deposits have poor quality.

Die Anode besteht vorzugsweise aus Kohlenstoff, obgleich man auch mit Metallanoden arbeiten kann, z.B. platiniertem Titan. Der Anolyte wird vorzugsweise vom Katholyten mittels einer porösen Membrane getrennt. Das Vorhandensein einer Membrane verhindert, daß Partikel von der Anode, die angegriffen wird, sich an der Kathode ablagern. Darüber hinaus wird verhindert, daß die an der Anode entstehende Schwefelsäure zum Katholyten zurückkehren kann.The anode is preferably made of carbon, although one can also use Metal anodes can work, e.g. platinum-coated titanium. The anolyte will preferably separated from the catholyte by means of a porous membrane. The presence of a membrane prevents particles from reaching the anode, which is attacked, deposit on the cathode. In addition, the sulfuric acid produced at the anode is prevented from becoming the catholyte can return.

Der Chromionengehalt des Bades kann von Zeit zu Zeit aufgefrischt werden, indem man Chromsulphat geeigneter Reinheit verwendet. Alternativ kann man basisches Chromsulphat verwenden, was dabei hilft, den Aufbau von Schwefelsäure im Bad während des Betriebs zu neutralisieren.The chromium ion content of the bath can be refreshed from time to time, using chromium sulphate of suitable purity. Alternatively, you can use basic chromium sulphate, which helps build up to neutralize sulfuric acid in the bath during operation.

Eine Luftumrührung des Bades während des Galvanisierens kann von Vorteil sein, ist aber nicht entscheidend, vorausgesetzt, daß weniger als 3 A h/l durchgeführt wird. Um hohe Wirkungsgrade zu halten, werden vorzugsweise Vorkehrungen für eine kontinuierliche Füfcrierung durch eine geeignete feinporige Piltrieranlage getroffen, um eventuelle Peststoffe in feiner Suspension im Elektrolyten auszuscheiden, besonders Kohlen-It can be advantageous to stir the air in the bath during electroplating but is not critical provided that less than 3 Ah / l is carried out. To keep high efficiencies are preferred Provision for continuous feeding by a suitable fine-pored piling system taken to remove any pesticides to be precipitated in fine suspension in the electrolyte, especially carbon

- 7 10 982 8/1729- 7 10 982 8/1729

stoffpartikel von den Anoden.particles from the anodes.

Das erfindungsgemäße Bad wird zweckmäßigerweise bei einer Temperatur von 25 bis 6O°C, vorzugsweise von 35 bis 45°C, uncL einer Galvano-Stromdichte von 3OO A/m bis 5000 A/m , vorzugsweise von 1000 A/mThe bath according to the invention is expediently at one temperature from 25 to 60 ° C., preferably from 35 to 45 ° C., and a galvano current density from 3OO A / m to 5000 A / m, preferably from 1000 A / m

bis 3000 A/m betrieben. Die Spannung bei einer 10 cm großen Anoden-Kathoden-Entfernung liegt vorzugsweise zwischen 6 und 20 V. Unter diesen Beditgungen lassen sich Stromwirkungsgrade (bezogen auf CrIIl) von 34% oder sogar noch mehr erreichen.operated up to 3000 A / m. The voltage at a 10 cm anode-cathode distance is preferably between 6 and 20 V. Under these conditions, current efficiencies (based on CrIIl) of Reach 34% or even more.

Die Erfindung sieht auch die Verwendung der zuvor beschriebenen Bäder vor, um galvanisch erzeugte Chromablagerungen und mit solchen galvanisch erzeugten Ablagerungen versehene Teile zu erhalten, insbesondere Stahlteile, deren Lager- oder Reibflächen mit solchen galvanisch erzeugten Ablagerungen versehen sind.The invention also provides for the use of the baths described above in order to obtain galvanically produced chromium deposits and parts provided with such galvanically produced deposits, in particular steel parts, whose bearing or friction surfaces are provided with such galvanically generated deposits.

Das folgende Beispiel dient zur Veranschaulichung der Erfindung.The following example serves to illustrate the invention.

480 g hydriertes Chromammoniumsulphat, 198 g Ammoniumsulphat und 3g ä Borsäure wurden 800 ml entionisiertem Wasser zugegeben. Das Gemisch wurde gekocht, bis sich die Peststoffe aufgelöst hatten, und dann erfolgte heiß eine Filtrierung. Dem Filtrat wurden 10 g Aktivkohle zugesetzt, und dann wurde es erneut gekocht und filtriert. Das Filtrat ließ man abkühlen, und dann wurden 100 ml Dimethylformamid zugesetzt. Der pH-Wert wurden auf 2,2 eingestellt, indem man 0,880-Ammoniak ver-480 g of hydrogenated Chromammoniumsulphat, 198 g of ammonium sulfate and 3 g of boric acid were ä 800 ml of deionized water was added. The mixture was boiled until the pests dissolved and then filtered while hot. To the filtrate was added 10 g of activated charcoal, and then it was boiled again and filtered. The filtrate was allowed to cool and then 100 ml of dimethylformamide was added. The pH was adjusted to 2.2 by adding 0.880 ammonia

wendete. Fremde Hetalllionen wurden galvanisch bei 500 a/m abgelagert.turned. Foreign metal ions were deposited galvanically at 500 a / m.

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Die Lösung wurde erneut filtriert, und dem !"iltrat wurde 1 nil Octan-1-ol zugesetzt. Das Bad war dann gebrauchsfertig.The solution was filtered again and the filtrate was added 1 nil octan-1-ol added. The bath was then ready for use.

Die galvanische Ablagerung wurde mit einer Badtemperatur von 45 C beiThe galvanic deposition was carried out with a bath temperature of 45 C

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einer Stromdichte von 2000 Δ/m durchgeführt. Das Bad führte zu harten, halb-glänzenden, festhaftenden Ablagerungen, die in ihrem Aussehen normalem Hartchrom ähnlich waren, iiach dem Durchgang von 5 A- h/l Lösung stieg der pH-Wert nahe an 5»0 und mußte neu eingestellt werden, um die Ablagerung von basischen Verbindungen bei hohen Stromdichten zu verhindern. Die Neueinstellung wurde durch errechnete Zusätze konzentrierter Schwelfeisäure erreicht. Der Chromgehalt des Bades wurde nach Bedarf mit reinem Chromsulphat als Feststoff oder in konzentrierter Lösung eingestellt. Dieses zusätzliche Chromsulphat wurde in kleinen Mengen zugesetzt, und die eingeführten Verunreinigungen worden erfolgreich durch eine kurze galvanische Ausscheidungsablagerung entfernt.2
carried out a current density of 2000 Δ / m. The bath resulted in hard, semi-glossy, firmly adhering deposits which were similar in appearance to normal hard chrome. After 5 Ah / l of solution had passed through, the pH value rose to close to 5 »0 and had to be readjusted to prevent the deposition of basic compounds at high current densities. The readjustment was achieved through the calculated additions of concentrated smoldering acid. The chromium content of the bath was adjusted as required with pure chromium sulphate as a solid or in concentrated solution. This additional chromium sulphate was added in small amounts and the introduced impurities were successfully removed by a brief electrodeposition.

Die Stromwirkungsgrade und die Eigenschaften der Ablagerungen werden in der folgenden Tabelle verglichen, in der es sich bei dem ersten Bad um eine normale Lösung mit sechswertigem Chrom, bei dem zweiten Bad um ein solches aus der Gruppe handelt, zu der auch die Erfindung gehört, außer daß kein Amido-Puffer vorhanden ist, und beim dritten Bad um die Erfindung handelt.The electricity efficiencies and the properties of the deposits will be in the following table compared with the first bath to a normal solution with hexavalent chromium, to the second bath is one from the group to which the invention also belongs, except that no amido buffer is present, and for the third bath around the Invention is.

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Iiö sungs aus ammen-Solution from nursing home Strom- StromElectricity electricity pH-pH BetriebsOperating setzungsettlement dichte Wirkungs·dense effect Wertvalue temperaturtemperature A/m gradA / m grad ⁰C ⁰ C Normales sechsNormal six 6000 166000 16 —»- » 50 bis 6050 to 60 wert ige s Chromvaluable chrome 1M Cr⁺⁺⁺ 4M NH.⁺ 1M Cr ⁺⁺⁺ 4M NH. ⁺ 700 52700 52 22 40 bis 5040 to 50 als Sulphate mitas sulphates with bisuntil bisuntil 5 g/l B(OH)₅ 5 g / l B (OH) ₅ 45004500 2.82.8 1M Cr*⁺⁺ 4M ItEL⁺ 1M Cr * ⁺⁺ 4M ItEL ⁺ 600 33600 33 11 35 bis 5535 to 55 als Sulphate mitas sulphates with bisuntil bisuntil 5 g/l B(OH) und5 g / l B (OH) and 45004500 2.82.8 1Of. v/v³ DMF1Of. v / v ³ DMF LösungszusammenSolution together AblagerungsDeposit Härtehardness GewichtsverWeight reduction setzungsettlement geschwindigkeitspeed VMVM lust bei Yerlust at yer 11 ^mA11 ^m A (Tickers Pyramid(Tickers Pyramid schleißprobewear test Bumber)Bumber) 22,0 kg Last22.0 kg load bei 30⁰Cat 30 ^° C normales sechsnormal six 25 bei 400025 at 4000 0,2 mg bei0.2 mg at wert ige s Chromvaluable chrome A/m² A / m ² 850850 5OOO Umdre5OOO rev hungenhangs "IM Cr⁺⁺⁺ 4M NH₄ ⁺ "IM Cr ⁺⁺⁺ 4M NH ₄ ⁺ 50 bei 150050 at 1500 als Sulphate mitas sulphates with A/m² A / m ² 12001200 0,7 mg0.7 mg 3 g/l B(OH)₅ 3 g / l B (OH) ₅ IM Cr⁺⁺⁺ 414 HH ⁺ IM Cr ⁺⁺⁺ 414 HH ⁺ 55 bei 15OO55 at 15OO als Sulphate mitas sulphates with A/m² A / m ² 10001000 0,7 mg0.7 mg 3 g/l B(OH)₅ und3 g / l B (OH) ₅ and 10$ v/v⁵ DIiF10 $ v / v ⁵ DIiF PatentansprücheClaims

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Claims

Hy Aqueous electrolyte solution for chrome plating, marked

by a liquid mixture of 0.1 to 40 $ of a aprotisehen amido \ buffer, ammonium ions, sulfate ions, trivalent chromium ions and water.

2. Electrolyte solution according to claim 1, characterized in that the concentration of ammonium ions is at least 1.0 M.

3 · Electrolyte solution according to claim 1, characterized in that it additionally contains a wetting agent.

4. Electrolyte solution according to claim 1, characterized in that it additionally contains boric acid.

5. Electrolyte solution according to claim 1, characterized in that it contains 1 to 40 $ of an aprotic amido buffer, trivalent chromium ions in a concentration of 0.5 M to 1.5 M, ammonium ions in a concentration of 2.0 M to 5 * 0 M, boric acid in a concentration of 0.05 M to 0.2 M and a wetting agent in a concentration of 0.05 M to 0.1 M contains.

6. An electrolyte solution according to claim 1, characterized in that the aprotic amido buffer consists of at least one of the compounds from the group consisting of dimethylformamide, dimethylacetamide and tetramethyl urea.

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7. Electroplating bath with einx Elektrolytlöstmg-according to claim 1, - characterized in that it has a pH of 1.6 to 3.0.

8. electroplating bath according to claim 7f, characterized by a pH of 2.2 to 2.6.

9. A method for chrome plating a substrate, characterized in that the substrate is immersed in an electrolyte solution which is formed from 0.1 to 40% of an aprotic amido buffer, ammonium ions, sulfate ions, trivalent chromium ions and water, and that a Electric current is passed through the solution, so that chromium ions are deposited on the substrate.

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