DE2059491C3 - Image recording material having a photoconductive or photoemissive layer - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 114
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 25
- 230000002209 hydrophobic Effects 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 17
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N Stearic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N Linoleic acid Natural products CCCCC\C=C/C\C=C\CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N 0.000 claims description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 7
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N cu2+ Chemical class [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VUSWCWPCANWBFG-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1 VUSWCWPCANWBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000020778 linoleic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N Fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 5
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (Z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims description 4
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N Oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 4
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N Palmitic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic Effects 0.000 claims description 4
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 claims description 4
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N α-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229960004488 Linolenic Acid Drugs 0.000 claims description 2
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 2
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 26
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N Potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 60-33-3 Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N Butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L Copper(II) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229940069002 Potassium Dichromate Drugs 0.000 description 4
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 4
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004890 Hydrophobing Agent Substances 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N formic acid Chemical compound OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N Bismuth(III) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M Copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L Copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N Gallium nitrate Chemical compound [Ga+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000004940 Nucleus Anatomy 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N Silver nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N Silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 235000012054 meals Nutrition 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethene Chemical compound ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGKPFALCNDRSQD-UHFFFAOYSA-N 2-(4-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(F)C=C1 MGKPFALCNDRSQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-propenoic acid methyl ester Chemical class COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 2qpq Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CMQUGOHGJUTDGZ-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)C(O)(C(F)(F)F)C(F)(F)F CMQUGOHGJUTDGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRFSLWCFASCIS-UHFFFAOYSA-N 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical class CCC1CCC(CCC(O)=O)C1 WVRFSLWCFASCIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N Acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910000951 Aluminide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 Cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 241000283153 Cetacea Species 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N Chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N ClC=CC(C)CCCCl Chemical compound ClC=CC(C)CCCCl PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQMRBJNRFUQADD-UHFFFAOYSA-N Copper(I) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+].[Cu+] AQMRBJNRFUQADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N Malic acid Chemical compound OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N N#B Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene (PE) Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M Silver(I) fluoride Chemical compound [F-].[Ag+] REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N Trimethylamine Chemical class CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 Vinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N al2o3 Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- RHZUVFJBSILHOK-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-ylmethanolate Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C[O-])=CC=CC3=CC2=C1 RHZUVFJBSILHOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003830 anthracite Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000027455 binding Effects 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTIBWOLWHSSZSM-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5].[Cd+2].[Cd+2] HTIBWOLWHSSZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSWSYWBRGQINON-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);hexadecanoate Chemical compound [Co+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O SSWSYWBRGQINON-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M copper(1+);acetate Chemical compound [Cu+].CC([O-])=O RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XYNZKHQSHVOGHB-UHFFFAOYSA-N copper(3+) Chemical compound [Cu+3] XYNZKHQSHVOGHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPTQRFCYZCXJFQ-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride dihydrate Chemical compound O.O.[Cl-].[Cl-].[Cu+2] MPTQRFCYZCXJFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MRYMYQPDGZIGDM-UHFFFAOYSA-L copper;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Cu+2].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 MRYMYQPDGZIGDM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PEVZEFCZINKUCG-UHFFFAOYSA-L copper;octadecanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O PEVZEFCZINKUCG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L copper;oxalate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C([O-])=O QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000005712 crystallization Effects 0.000 description 1
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000994 depressed Effects 0.000 description 1
- MZGNSEAPZQGJRB-UHFFFAOYSA-M dimethyldithiocarbamate Chemical compound CN(C)C([S-])=S MZGNSEAPZQGJRB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 239000004569 hydrophobicizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M isothiocyanate Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 230000004301 light adaptation Effects 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 load Methods 0.000 description 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Substances OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- KREXGRSOTUKPLX-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid;zinc Chemical compound [Zn].CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KREXGRSOTUKPLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N penta-1,3-diene Chemical compound CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002225 poly(styrene-co-butadiene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 235000013533 rum Nutrition 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229940096017 silver fluoride Drugs 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N tin hydride Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Description
Die Erfindung betrifft ein Bildaufzeichnungsmaterial it einer photoleitfähigen oder photoemittierenden hicht, die ein Bindemittel, eine photoleitfähige oder lotoemittierende Verbindung mit Elementen der ruppe II oder IV des periodischen Systems der emente, einen Sensibilisator und eine hydrophobe :rbindung enthält.The invention relates to an image recording material it a photoconductive or photoemissive layer that is a binder, a photoconductive or Loto-emitting compound with elements of group II or IV of the periodic table of contains elements, a sensitizer and a hydrophobic bond.
Ein solches Bildaufzeichnungsmaterial, das allcrngs keinen Sensibilisator enthält, ist aus der DT-AS (46 493 bekannt. Daß solche Bildaufzeichnungsmaterialien einen Sensibilisator enthalten können, ist aus der DT-OS 15 22 621 bekannt. Die Anwendung eines Hydrophobierungsmittels bei dem aus der DT-AS 10 46 493 bekannten Material hat dea Zweck, die Dunkelleitfähigkeit der photoleitfähigen Schichten zu vermindern, die sonst die Bildwiedergabe beeinträchtigt hat.One such image recording material, which does not contain any sensitizer, is from the DT-AS (46 493. It is known that such image recording materials can contain a sensitizer from DT-OS 15 22 621 known. The use of a water repellent for the DT-AS 10 46 493 known material has the purpose of the dark conductivity of the photoconductive layers which would otherwise impair the image reproduction.
Es ist ferner aus der DT-AS 12 73 325 bekannt, daß die photoleitfähige Schicht eines Bildaufzeichnungs-It is also known from DT-AS 12 73 325 that the photoconductive layer of an image recording
materials Zinkstearat oder Kobaltpalmitat enthalten kann. Der Zweck dieser Stoffe besteht darin, Schaden zu vermeiden, wenn das Bildaufzeichnungsmaterial hoher Feuchtigkeit ausgesetzt ist. Einen direkten Einfluß auf das phofographische Verhalten haben diese Zusätze nicht.materials may contain zinc stearate or cobalt palmitate. The purpose of these substances is to cause harm should be avoided when the imaging material is exposed to high humidity. A direct influence These additions have no effect on the photographic behavior.
Allgemein ist eine große Menge verschiedener Materialien zur Bildaufzeichnung auf der Basis von Silberhalogeniden und anderen lichtempfindlichen Stoffen bekannt, die ein sichtbares Bild liefern, wenn sie Photonen ausgesetzt und in geeigneter Weise entwickelt und fixiert werden. Dabei findet im Material eine physikalisch-chemische Verstärkung statt, die einen schnellen Aufbau eines Bildes auch bei einer ziemlich schwachen Photonenquelle ermöglicht. Die meisten dieser Materialien benötigen jedoch eine verhältnismäßig lange Entwicklungszeit oder ein kompliziertes Behandlungsverfahren.In general, there is a wide variety of imaging materials based on Silver halides and other photosensitive substances are known to provide a visible image, though they are exposed to photons and appropriately developed and fixed. This takes place in the material a physico-chemical reinforcement takes place, which a quick build-up of an image even with a allows quite a weak source of photons. Most of these materials, however, require a proportionate amount long development time or a complicated treatment process.
Andere bekannte Bildaufzeichnungsmaterialien sind verhältnismäßig »langsam«, weil sie nicht von einer physikalischen oder chemischen Multiplikation Gebrauch machen, und erfordern daher zur Erzeugung eines brauchbaren Bildes eine sehr viel stärkere Belichtung. Beispielsweise findet bei den bei der Diazotypie und bei den für Photolacke verwendeten Stoffen keine Verstärkung der Belichtung statt, so daß sie lange Belichtungszeiten erfordern.Other known imaging media are relatively "slow" because they are not of a make use of physical or chemical multiplication, and therefore require generation of a usable image a much higher exposure. For example, found in the diazotype and in the case of the substances used for photoresists, no intensification of the exposure takes place, so that they require long exposure times.
Weiterhin ist für die Verwendung von Bildaufzeichnungsmaterialien als Druckformen für lithographische und andere Druckverfahren von Nachteil, daß die meisten dieser Materialien negativ arbeiten, d. h. eine Umkehrung der Tonwerte bewirken, so daß die Herstellung eines Zwischennegativs erforderlich ist, wenn eine positive Wiedergabe erzielt werden soll. Weiterhin haben die bekannten vorsensibilisierten Druckplatten nicht die Fähigkeit, eine Grauskala wiederzugeben, sondern ermöglichen nur eine harte Schwarz-Weiß-Wiedergabe. Diese Eigenschaft erfordert die Verwendung eines Halbtonrasters, wenn eine Grauskala reproduziert werden soll.Furthermore, the use of image recording materials as printing forms for lithographic and other printing methods disadvantage in that most of these materials work negatively, i. H. one Cause inversion of the tonal values so that the production of an intermediate negative is necessary if a positive reproduction is to be achieved. Furthermore, the known presensitized printing plates do not have the ability to reproduce a grayscale, only allow hard black and white reproduction. This property requires the use of a halftone screen if a grayscale should be reproduced.
Demgemäß liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Bildaufzeichnungsmaterial zu schaffen, das eine hohe Empfindlichkeit aufweist, keine komplizierten oder langwierigen Entwicklungsverfahren unterworfen zu werden braucht und so ausgebildet werden kann, daß es unmittelbar Positiv-Wiedergaben liefert.Accordingly, the invention has for its object to provide an image recording material, which has high sensitivity, no complicated or lengthy development processes needs to be subjected and can be so designed that there are immediate positive representations supplies.
Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, daß die photoleitfähige oder photoemittkrende Schicht als hydrophobe Verbindung eine Carbonsäure mit 6 bis 24 Kohlenstoffatomen, ein Silikon, einen polymerisierten Fluorkohlenwasserstoff oder ein Salz einer fluorsubstituierten organischen Säure enthält.This object is achieved according to the invention in that the photoconductive or photoemittrende Layer as a hydrophobic compound a carboxylic acid with 6 to 24 carbon atoms, a silicone, a polymerized fluorocarbon or a salt of a fluorine-substituted organic acid.
Durch die Verwendung der angegebenen hydrophoben Verbindungen in der photoleitfähigen oder photoemittierenden Schicht wird ein neuartiges Bildaufzeichnungsmaterial geschaffen, das bei der selektiven Belichtung ein hydrophiles Bild erzeugt, das von hydrophoben Hintergrundbereichen getragen und um-By using the specified hydrophobic compounds in the photoconductive or photo-emitting Layer, a new type of image recording material is created, which in the selective Exposure creates a hydrophilic image that is supported by hydrophobic background areas and
reben wird. Dieses Bildaufzeichnungsmaterial hat eine hohe Empfindlichkeit und kann mit einem wäßrigen Entwickler sehr schnell entwickelt werden.will vine. This image recording material has a high sensitivity and can be developed very quickly with an aqueous developer.
Als für die Verwendung in dem erfi.idungsgemäßen BUdaufzeichnungsmaterial besonders geeignet haben sich als Carbonsäure mit 6 bis 24 Kohlenstoffatomen eine Naphthensäure oder eine Fettsäure mit 10 bis 24 Kohlenstoffatomen, als Silikon ein polymerisiertes Organosiloxaii, als polymerisierter Fluorkohlenwasserstoff Polytetrafluorethylen, Polychlortrifluoräthylen, ein fluorsubstituiertes Äthylen-Propylen-Mischpolymerisat, Polyvinylidenfluorid oder Polyhexafluorpropylen und als Salz einer fluorsubstituierten organischen Säure das Kupfersalz einer fluorsubstituierten Alkansäure erwiesen.As having been particularly suitable for use in the image recording material according to the invention The carboxylic acid with 6 to 24 carbon atoms is a naphthenic acid or a fatty acid with 10 to 24 carbon atoms, a polymerized organosilicate as silicone, and a polymerized fluorocarbon Polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, a fluorine-substituted ethylene-propylene copolymer, Polyvinylidene fluoride or polyhexafluoropropylene and as a salt of a fluorine-substituted organic Acid the copper salt of a fluorine-substituted alkanoic acid proven.
Weitere Einzelheiten und Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Besch/eibung der in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele. Es zeigtFurther details and refinements of the invention result from the following description of the exemplary embodiments shown in the drawing. It shows
F i g. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Herstellung, Belichtung und Entwicklung eines Bildaufzeichnungsmaterials nach der ErfindungF i g. 1 is a schematic representation of a device for the production, exposure and development of an image recording material according to the invention
F i g. 2 bis 4 schematische Darstellungen zur Veranschaulichung verschiedener Anwendungen des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials.F i g. 2 to 4 are schematic representations to illustrate various applications of the invention Imaging material.
Das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial weist eine Schicht auf, die ein Bindemittel, eine phutoleitfähiee oder photoemittierende Verbindung mit Elementen der Gruppe II oder IV des periodischen Systems der Elemente, einen Sensibilisator und eine hydrophobe Verbindung enthält, die durch Belichten selektiv in eine hydrophobe Verbindung umgewandelt werden kann. Die Bestandteile der Schicht können in dem Bindemittel in Form einer festen Lösung oder einer Dispersion vorliegen. In manchen Fällen ist die Festigkeit des Bindemittels ausreichend, um eine selbsttragende Folie zu bilden. In anderen Fällen wird die Schicht von einem Substrat getragen.The image recording material according to the invention has a layer which contains a binder, a phutoconductive agent or photo-emissive compound with elements of group II or IV of the periodic System of elements that contains a sensitizer and a hydrophobic compound, by exposure to light can be selectively converted into a hydrophobic compound. The components of the layer can be in the binder in the form of a solid solution or a dispersion. In some cases the Strength of the binder sufficient to form a self-supporting film. In other cases the layer is carried by a substrate.
Das Substrat ist ein passives Strukturelement und kann aus fast jedem Material bestehen und fast jede eeometrische Form annehmen. So kann Papier, insbesondere in Form eines Bandes, als geeignetes Substrat dienen. Wegen seiner Biegsamkeit wird Papier häufig besonders bevorzugt. Ebenfalls geeignet ist eine Anzahl synthetischer polymerer Stoffe. Beispielsweise kann das Substrat aus thermoplastischen oder in der Wärme aushärtenden Materialien wie Polyäthylen, Polypropylen oder Styrolpolymeren wie Butadien-Styrol, Polyestern wiePolyäthylen-Terephthalat, Acrylharzeu wie Methylmethacrylat oder cellulose Derivaten wie Celluloseacetat und dergleichen bestehen.The substrate is a passive structural element and can be made of almost any material and almost any take eeometric form. Thus paper, in particular in the form of a tape, can be used as a suitable substrate serve. Paper is often particularly preferred because of its flexibility. A number is also suitable synthetic polymeric fabrics. For example, the substrate made of thermoplastic or in the Thermosetting materials such as polyethylene, polypropylene or styrene polymers such as butadiene-styrene, Polyesters such as polyethylene terephthalate, acrylic resins, and the like such as methyl methacrylate or cellulose derivatives such as cellulose acetate and the like.
Biegsame Substrate erlauben die Verarbeitung von Lieferrollen und die Anpassung des fertig entwickelten Materials an den gekrümmten Umfang von Druckzylindern und dergleichen. Es können jedoch ebensogut starre Substrate für den Plandruck, das Ätzen von gedruckten Schaltungen und dergleichen verwendet werden. Starre Substrate können aus Kunststoffen. Glas. Metall. Keramik, feuerfesten oder imprägnierten Gewebeplatten wie z. B. imprägnierten Phenolharzplatten für gedruckte Schaltungen und dergleichen hergestellt werden.Flexible substrates allow the processing of delivery rolls and the adaptation of the finished product Material to the curved periphery of printing cylinders and the like. However, it can just as well rigid substrates used for plan printing, printed circuit board etching, and the like will. Rigid substrates can be made from plastics. Glass. Metal. Ceramic, refractory or impregnated Fabric panels such as B. impregnated phenolic resin sheets for printed circuits and the like getting produced.
Ein befriedigendes Bindemittel zur Herstellung des Filmes aus lichtempfindlichen Stoffen nach der Erfindung kann von allen bekannten filmbildenden synthetischen organischen Ilarz.cn gebildet werden, insbesondere solchen, die aus Vinyl, Dienmononieren und deren Mischungen bestehen. Die Vinylmonomere können Äthylen, Propylen, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Vinylester wie ButtersäurevinyleUer und vorzugsweise aromatische Vinylverbindungen wie Styrol oder Vinyltoluol sein. Die Dienmonomere können Diene mit 4 bis 10 Kohlenstoffatomen wie Butadien, Isopren, Meihylbutadien. Dimethylbutadien und dergleichen sein. Ein typisches Bindemittel in Form eines Styrol-Butadien-Copolymers enthält 30% Feststoffe in Toluol, ίο Andere befriedigende filmbildende Bindemittel sind Polystyrol, Chlorkautschuk. Polyvinylidenchlorid, Polyvinylbutyral und dergleichen.A satisfactory binder for making the photosensitive material film of the invention can be formed from all known film-forming synthetic organic Ilarz.cn, in particular those consisting of vinyl, diene monomers and their mixtures. The vinyl monomers can Ethylene, propylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl esters such as butyric acid vinyls and preferably aromatic vinyl compounds such as styrene or vinyl toluene. The diene monomers can be dienes with 4 up to 10 carbon atoms such as butadiene, isoprene, methylbutadiene. Be dimethylbutadiene and the like. A typical binder in the form of a styrene-butadiene copolymer contains 30% solids in toluene, ίο Other satisfactory film-forming binders are Polystyrene, chlorinated rubber. Polyvinylidene chloride, polyvinyl butyral and the like.
Eine Feststoff-Dispersion oder eine Lösung der aktiven Stoffe innerhalb des Bindemittels kann auf jede bekannte Weise hergestellt werden, beispielsweise durch Hinzufügen einer Lösung oder einer Dispersion der Stoffe zu einer Lösung oder Emulsion des Bindemitteis, inniges Vermischen und anschließendes Trocknen. Zweckmäßig ist das Bindemittel in einem Lösungsmittel gelöst, um eine Lösung verminderter Viskosität zu bilden, und es werden die Feststoffe zu der Lösung hinzugefügt und darin dispergiert. Jedes geeignete Lösungsmittel kann dazu benutzt werden, die Mischbarkeit und Verstreichbarkeit der Dispersion einzu-.stellen. Für Styrol-Butadien-Harze kann das Lösungsmittel eine organische Verbindung wie Toluol oder ein Äther wie Dioxan sein. Andere Lösungsmittel für Butadien-Styrol-Harze sind Chlorkohlenwasserstoffe und manche Ketone.A solid dispersion or a solution of the active substances within the binder can be applied can be prepared in any known manner, for example by adding a solution or a dispersion the substances to a solution or emulsion of the binding agent, thorough mixing and subsequent drying. The binder is expediently in a solvent dissolved to form a reduced viscosity solution and the solids become the solution added and dispersed in it. Any suitable solvent can be used to improve miscibility and to adjust the spreadability of the dispersion. For styrene-butadiene resins, the solvent can an organic compound such as toluene or an ether such as dioxane. Other solvents butadiene-styrene resins are chlorinated hydrocarbons and some ketones.
Die Lösung oder Dispersion kann auf eine Formiläche aufgegossen werden, um einen selbsttragenden Film zu bilden, oder kann auf die Oberfläche eines Substrats, Trägers oder Stützmaterials durch Gießen, Tauchen, Sprühen, Rakelauftrag oder andere übliche Beschichtungsoperationen aufgebracht werden. Nach der Entfernung des Lösungsmittels ist das Material für eine weitere Behandlung zur Erzeugung von Bildern durch Belichten und Entwickeln bereit.The solution or dispersion can be applied to a molding surface can be infused to form a self-supporting film, or onto the surface of a Substrate, carrier or support material by pouring, dipping, spraying, knife application or other customary methods Coating operations are applied. After removing the solvent, the material is ready for further treatment to form images by exposure and development.
Die strahlungsempfindlichen Stoffe, die für die Erfindung geeignet sind, umfassen Materialien, die entweder als photoleitend oder photoemittierend eingestuft werden können. Diese Stoffe sind gegen das Auftreffen von Elektronen, Ionen oder Photonen empfindlich. Die photoempfindlichen Verbindungen sind allgemein Feststoffe, die von einem links von der Gruppe IV des periodischen Systems der Elemente liegenden Element und einem damit verbundenen, rechts von der Gruppe IV liegenden Element gebildet wird. Vorzugsweise sind die lichtempfindlichen Stoffe, die für ein Material zur Bildaufzeichnung nach der Erfindung benutzt werden, aus den Verbindungen ausgewählt, die von Elementen der Gruppe II wie Zink, Calcium. Cadmium und Magnesium mit Elementen der Gruppe VI wie Sauerstoff, Schwefel oder Selen gebildet werden.The radiation sensitive materials useful in the invention include materials which can be classified as either photoconductive or photoemissive. These substances are against that Sensitive to impact of electrons, ions or photons. The photosensitive compounds are generally solids that are left by one of Group IV of the Periodic Table of the Elements lying element and an associated element, lying to the right of group IV will. Preferably, the photosensitive materials are suitable for an image recording material according to the Invention used, selected from the compounds derived from elements of Group II such as Zinc, calcium. Cadmium and magnesium with elements of group VI such as oxygen, sulfur or selenium are formed.
Mehr im einzelnen iinif; ssen die für das Material zur Bildaufzeichnung nach der Erfindung verwendeten empfindlichen Stoffe solche Verbindungen wie Zink-, Titanium-,Tantal-, Indium-, Magnesium-,Germanium-, fio Zinn- und Wisnuitoxid Miwie Sulfide und Selenide von Calcium. Zink. Cadmium. Eisen und Indium. Außerdem wurde festgestellt, daß solche Verbindungen wie Bornitrid. Caleiumwolfnimat. Bcrylliumaluminid, Lithiumcarbonat. Zmkcarbonat. Cadmiumniobat. Li-65 thiumniobat. Anthraccn und gewisse Phosphorverbindungen wie cesiumaktiviertcs Cnlcium-Magnesiuni-Silicat ebenso wie Mischungen dieser Verbindungen verwendet werden können.More in detail iinif; The photosensitive substances used for the material for image recording according to the invention SEN such compounds as zinc, titanium, tantalum, indium, magnesium, germanium, tin and o fi Wisnuitoxid Miwie sulfides and selenides of calcium. Zinc. Cadmium. Iron and indium. It was also found that compounds such as boron nitride. Caleiumwolfnimat. Cryllium aluminide, lithium carbonate. Zmkcarbonat. Cadmium niobate. Li 6 5 thium niobate. Anthracite and certain phosphorus compounds such as cesium-activated calcium-magnesium-silicate, as well as mixtures of these compounds, can be used.
Als für die Erfindung geeignete Sensibilisatoren haben sich allgemein alle solche Metallverbindungen wie ionische Salze oder deren covalent gebundene Komplexe oder Koordinationskomplexe erwiesen. Das Metall ist vorzugsweise ein Element der Gruppe I oder IV wie Kupfer, Wismut. Chrom oder Silber. Typische anorganische Salze werden mit anorganischen Anioncn wie z. B. einem Halogen, Sauerstoff. Sulfat, Sulfit, Thiocyanat, Sulfid, Molybdat. Sulfit und Nitrat und dergleichen gebildet. Ebenso können auch Salze organischer Säuren verwendet werden, wie beispielsweise der Ameisensäure und anderer aliphatischen Säuren, aromatischer Säuren, ungesättigter aliphatischen Säuren und deren hydroxy-substituierten Derivate. Die Säuren können kurzkcttigc Säuren mit 1 bis 9 Kohlenstoffatomen sein, jedoch werden vorzugsweise die Salze von gesättigten oder ungesättigten Fettsäuren mit 10 bis 24 Kohlenstoffatomen eingesetzt.In general, all such metal compounds have proven to be suitable sensitizers for the invention as proven ionic salts or their covalently bound complexes or coordination complexes. The metal is preferably a Group I or IV element such as copper, bismuth. Chrome or silver. Typical inorganic salts are with inorganic anions such. B. a halogen, oxygen. Sulfate, Sulfite, thiocyanate, sulfide, molybdate. Sulfite and nitrate and the like are formed. Salts can also be used organic acids can be used, such as formic acid and other aliphatic acids Acids, aromatic acids, unsaturated aliphatic acids and their hydroxy-substituted derivatives. The acids can be short term acids having 1 to 9 carbon atoms, but are preferred the salts of saturated or unsaturated fatty acids with 10 to 24 carbon atoms are used.
Koordinationsverbindungen oder Chelate können mit Liganden wie 7. B. Acetylacetone. Bis(äthylacetoacetat), Bis(l-phenyl-l,3-butandion). Dimethyldithiocarbamat, /i-Naphtholsulfat und Bcn/otriazol gebildet werden.Coordination compounds or chelates can be used with ligands such as 7. B. Acetylacetone. Bis (ethyl acetoacetate), Bis (1-phenyl-1, 3-butanedione). Dimethyldithiocarbamate, / i-naphthol sulfate and Bcn / otriazole formed will.
Beispiele für Sensibilisatoren, wie sie Tür die Ausführung der vorliegenden Erfindung und insbesondere mit Zinkoxid als lichtempfindlichem Stoff geeignet sind, sind Kupfcr(II)-chlorid. Kupfer(Il)-aeetylacetonat. Wismuttrioxid, eine Mischung von Kupfer! I)-chlorid und dem Trimethylaminsalz von Tcirae\anochinomcthan. einer Mischung von Kupfer(I)-chlorid und KupferilO-acetylacetonat, einer Mischung von Kupfer(ll)-format und Kupfer(I)-chlorid. Kupfei(li)-Miifat. Kupfer(II)-chloriddihydrat. Kupfer(li)-bromid. Kupfer(l)-sullit. Kupfer(il)-thioc\anat. Kupfcr(I)-sulfid. Kupfer( I l)-molybdat. Kupfer(II)-laetat. Kupfer(II)-format. Kupfer-p-toluolsulfonat. KupFcrd I)-salic\lat, Kupfer(ll)-linolat, Kupfer(II)-acetat, das Kupfer(ll)-salz \on Cilycin. Kupfer(ll)-stearat. Kupfer(II)-oleai. Kupfer(ll)-tartrat. Kupfcrl II)-citrat. das Kupfersalz der d.l-Malinsäure. Kupfer(II)-oxalat. Kupfer-b!-,-(äth\Iacctoacctat). Kupfer-bis-(l-phen\l-1.3-buiandion). Kupfcr(ll)-dinieth\:.iithiocarbamat. Kupfer! I)-sulfat-j (-naphthol. Kupfcrl i i-acetoaccionai. Silbcrben-7otn.i7ol. Siibcrnitrat. Silberfluorid. Silberoxid und Gallium(lll)-nitrat. Die Menge Jos in das Material 7ur Bildaufzeichnung eingebrachten Sensibilisator* kann in weiten Grenzen verändert werden. Verhältnisse der Menge des Sensibilisator* zur Menge de* lichtempfindlichen Materials zwischen 10"3 und 10 4 haben im wesentlichen gleichwertige Resultate mit keinen feststeilbaren Unterschieden ergeben.Examples of sensitizers such as are suitable for carrying out the present invention and in particular with zinc oxide as the photosensitive substance are copper (II) chloride. Copper (II) aeetylacetonate. Bismuth trioxide, a mixture of copper! I) chloride and the trimethylamine salt of Tcirae \ anochinomcthan. a mixture of copper (I) chloride and copper (I) acetylacetonate, a mixture of copper (II) format and copper (I) chloride. Kupfei (left) -Miifat. Copper (II) chloride dihydrate. Copper (li) bromide. Copper (l) -sullit. Copper (il) thiocanate. Copper (I) sulfide. Copper (III) molybdate. Copper (II) acetate. Copper (II) format. Copper p-toluenesulfonate. KupFcrd I) salic \ lat, copper (II) linolate, copper (II) acetate, the copper (II) salt cilycine. Copper (II) stearate. Copper (II) oleai. Copper (ll) tartrate. Kupfcrl II) citrate. the copper salt of dl-malic acid. Copper (II) oxalate. Copper-b! -, - (äth \ Iacctoacctat). Copper-bis- (l-phen \ l-1.3-buiandion). Copper (II) dinieth iithiocarbamate. Copper! I) -sulphate-j (-naphthol, copper, i-acetoaccionai, silver-7otn.i7ol, silver nitrate, silver fluoride, silver oxide and gallium (III) nitrate. The amount of Josi in the material for image recording can be within wide limits Ratios of the amount of the sensitizer * to the amount of the * light-sensitive material between 10 " 3 and 10 4 have given essentially equivalent results with no discernible differences.
Der Stoff, der gemäß der Erfindung dem lichtempfindlichen Material hydrophobe Eigenschaften erteilt, ist ein wasserabweisendes Mittel wie beispielsweise ein Silicon, ein Fluorkohlenwasserstoff oder eine Carbonsäure mit höherem Molekulargewicht.The substance which, according to the invention, the photosensitive material has hydrophobic properties issued, is a water repellent such as a silicone, a fluorocarbon or a Higher molecular weight carboxylic acid.
Ein geeignetes hydrophobes Silicon ist ein Organosiloxan. insbesondere ein Polydimethylsiloxan. bei dem es sich um ein flüssiges oder festes Polymer handeln kann. Ein Beispiel für ein hydrophobes Silicon ist ein hydrophobes Siliciumdioxidaerosil, das durch eine Reaktion mit Chlorsilan erhalten wurde. Das Chlor reagiert mit an der Oberfläche liegenden Silanolgruppen und verbindet dadurch das Silan mit den Siliciumdioxid-Teilchen. Typischerweise ist DimethylchJorsilan derart an Siliciumdioxid gebunden, daß sich ein Kohlenstoffgehalt von 0,8 bis 0,9 °o auf 100 m2 des Produktes ergibt.A suitable hydrophobic silicone is an organosiloxane. in particular a polydimethylsiloxane. which can be a liquid or solid polymer. An example of a hydrophobic silicone is a hydrophobic silica aerosil obtained by reacting with chlorosilane. The chlorine reacts with silanol groups on the surface and thereby bonds the silane with the silicon dioxide particles. Typically DimethylchJorsilan is so bonded to silica that o yields a carbon content of 0.8 to 0.9 ° to 100 m 2 of the product.
Der wasserabstoßende I luorkohlenwasserstoff kann ein flüssiges oder festes Polymerisat aus Tctralluoräthvlen. Chlortrifluoräthylan, fluorsubstituiertes Äthylen-Propylcn, Vinylidenfluorid oder llexafluorpropvlen sein. Weiterhin können auch die Salze fluorsubslituierter organischer Säuren verwendet werden, wie beispielsweise das Kupfersalz der ileptafluorbuttcrsäure, Periluorcaprylsäiire, Pcntafluorpropionsäure, p-Fluorphcnylessigsäure, 2-Hydroxy-hexafluorisobuttersäure, Trifhmrcssig-oder.VTrifluormethylO-hydroxybutlersäure. Die organische Säure kann von einer Naphthensäure gebildet werden. Handelsübliche Naphthensäurc ist eine Mischung von gesättigten cycloaliphalischen Säuren, und zwar vorwiegend monocyclischen Monocaibox>!säuren, die einen erheblichen Anteil son Stoffen mit 6 bis 8 Kohlenstoffatomen umfassen. Die lypiseherweise in Naphthensäuren enthaltenen Säuren haben Molekulargewichte im Bereich von 180 bis 350. Die organische Säure kann auch eine gesättigte oder ao ungesättigte aliphatische Säure mit 10 bis 24 Kohlenstoffatomen und vorzugsweise eine Fettsäure mit 16 bis 22 Kohlenstoffatomen wie beispielsweise Palmitinsäure. Stearinsäure, Oleinsäure, Linolsäure und Linolensäure sein.The water-repellent fluorocarbon can a liquid or solid polymer made of Ttralluoräthvlen. Chlorotrifluoroethylane, fluorine-substituted ethylene-propylene, Vinylidene fluoride or llexafluoropropylene. Furthermore, the salts can also be fluorine-substituted organic acids are used, such as the copper salt of ileptafluorobutyric acid, periluorcaprylic acid, Pcntafluoropropionic acid, p-fluorophenyl acetic acid, 2-Hydroxyhexafluoroisobutyric acid, trifluoromethyl or trifluoromethyl-hydroxybutleric acid. The organic acid can be formed from a naphthenic acid. Commercially available naphthenic acid c is a mixture of saturated cycloaliphalic Acids, mainly monocyclic monocaibox acids, which comprise a considerable proportion of substances with 6 to 8 carbon atoms. the Acids typically found in naphthenic acids have molecular weights in the range from 180 to 350. The organic acid can also be saturated or ao unsaturated aliphatic acid with 10 to 24 carbon atoms and preferably a fatty acid having 16 to 22 carbon atoms such as palmitic acid. Be stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid.
Das Hvdrophobierungsmittel liegt in einer Menge zwischen 0.05 und 10 g, vorzugsweise von weniger als 5 g in bezug auf 100 g filmbildender Fcststoife vor. Wenn ein llvdrophobierungsmittel in Gegenwart eines anderen Hydrophobierungsmittels, wie beispielsweise dem Hydrat eines Salzes, dem Salz einer Fettsäure (»der wasserhaltigen Stoffen angewendet wird, wird die normale Menge jedes Stoffes so weit reduziert, daß eine befriedigende, jedoch nicht übermäßige Hydrophobierung erfolgt.The hydrophobing agent is in an amount between 0.05 and 10 g, preferably less than 5 g with respect to 100 g of film-forming plastic. If a waterproofing agent is used in the presence of another waterproofing agent, such as the hydrate of a salt, the salt of a fatty acid (»which is applied to substances containing water the normal amount of any substance reduced to a satisfactory but not excessive level Hydrophobization takes place.
Das strahlungsempiindliche Material und der Sensibilisator
liegen gewöhnlich beide in feinstzerklcinerter Form vor. Die trockenen, pulverförmigen Stoffe werden
zusammen mit dem Hydrophobicrungsmittel. dem gewünschten Bindemittel und einem Lösungsmittel,
wie beispielsweise Toluol, vorzugsweise in einer Kugelmühle,
einer Rüttelmühlc oder einer Schwinainühle so lange gemischt, bis eine sorgfältige Dispersion der
Bestandteile erzielt worden ist. Dann wird die Mischung mit einer üblichen Rakelauftragvorrichtung
auf ein geeignetes Substrat aufgebracht, so daß sie im nassen Zustand einen Film mit einer Dicke von 25 bis
100 am bildet. Die Dicke des trockenen Filmes liegt gewöhnlich zwischen 25 bis 50% der Naßdicke. Nach
dem Trocknen ist der Film gebrauchsfertig.
Die ausgewählte Hydrophilie wird gemäß der Erfindung dazu benutzt, mit Wasser entwickelbare Bilder
zu erzeugen, die dazu benutzt werden können, Selektivwasser oder wasserhaltige Stoffe an das von Kernen
gebildete Bild zu binden oder umgekehrt hydrophobe Stoffe von den mit Wasser entwickelten Flächen abzuweisen.
Der wäßrige Entwickler kann eine Lösung oder Dispersion von Farbstoffen oder Pigmenten enthalten,
so daß dann, wenn von den hydrophilen Stellen des Materials Selektivwasser aufgenommen wird, die
Farbstoff- oder Pigmentablagerungen ein sichtbare« Bild ergeben. Nach dem Trocknen ist das entwickelt«
Bild eine positive Wiedergabe des die Informatior enthaltenden ursprünglichen Musters. Im Fall von ir
Wasser suspendierten kolloidalen Pigmenten haftei das Kolloid an der Oberfläche der belichteten unc
entwickelten, hydrophilen Flächenabschnitte fest an so daß es richtig an seinem Platz verbleibt, nachderr
die wäßrige Lösung verdampft worden ist Es verstehThe radiation sensitive material and the sensitizer are usually both in extremely fine granulated form. The dry, powdery substances are used together with the hydrophobic agent. the desired binder and a solvent such as toluene, preferably mixed in a ball mill, a vibrating mill or a Schwina mill until a thorough dispersion of the constituents has been achieved. The mixture is then applied to a suitable substrate using a conventional knife applicator so that, when wet, it forms a film with a thickness of 25 to 100 μm. The thickness of the dry film is usually between 25 to 50% of the wet thickness. After drying, the film is ready for use.
The selected hydrophilicity is used according to the invention to produce water-developable images which can be used to bind selective water or water-containing substances to the image formed by cores or, conversely, to repel hydrophobic substances from the water-developed areas. The aqueous developer can contain a solution or dispersion of dyes or pigments so that when water is selectively absorbed by the hydrophilic areas of the material, the dye or pigment deposits produce a visible image. After drying, the developed image is a positive representation of the original sample containing the information. In the case of colloidal pigments suspended in water, the colloid adheres firmly to the surface of the exposed and developed, hydrophilic surface sections so that it remains properly in place after the aqueous solution has been evaporated . Understand
sich, daß die hydrophoben Stellen das Wasser abstoßen, so daß dort keine Absorption oder Abscheidung von Farbstoff oder Pigment stattfindet.that the hydrophobic areas repel the water, so that there is no absorption or deposition of dye or pigment.
Nach der Belichtung und Entwicklung in einem wäßrigen Medium werden auf der Oberfläche der belichten, hydrophilen Flächen fest absorbierte Wasscrbilder erzeugt. Diese Wasserbilder stoßen hydrophobe Stoffe, wie beispielsweise Ölfarben oder geschmolzenes Wachs, ab. Bei der nachfolgenden Auftragung einer hydrophoben, lithographischen Farbe wird die Farbe von den hydrophilen, wasscrcntwickelten Bildabschnitten zurückgestoßen und von den hydrophoben Hintergrund flächen zurückgehalten. Durch Übertragen des Farbbildes auf einen Papierbogen, und zwar entweder unmittelbar oder unter Verwendung eines Gummituches als Zwischenträger, ergibt sich ein lithographischer Druckvorgang. Der Vorgang der abwechselnden Befeuchtung mit Wasser und Einfärbung kann wiederholt werden, um auf jeder üblichen lithographischen Presse eine Vielzahl von Abdrucken zu erzeugen.After exposure and development in one aqueous medium are firmly absorbed on the surface of the exposed, hydrophilic areas generated. These water pictures encounter hydrophobic substances, such as oil paints or melted Wax, off. In the subsequent application of a hydrophobic, lithographic ink the color of the hydrophilic, water-developed Image sections repelled and held back by the hydrophobic background surfaces. By transferring the color image to a sheet of paper, either immediately or below Using a rubber blanket as an intermediate carrier results in a lithographic printing process. the The process of alternating moistening with water and coloring can be repeated to put on each conventional lithographic press to produce a large number of impressions.
Wenn der verwendete hydrophobe Stoff geschmolzenes Wachs ist. entsteht nach dem Abkühlen und Verfestigen des Wachses ein vertieftes Wachsbild, das als Tiefdruckplatte für ein Tiefdruckverfahren Anwendung finden kann. Weiterhin kann das Wachsbild auch als gegen Ätzmittel widerstandsfähige Schicht bei der Herstellung von gedruckten Schaltungen mit photographisch übertragener Leitungsführung oder dergleichen verwendet werden.When the hydrophobic substance used is molten wax. arises after cooling and The wax solidifies a deepened wax image that can be used as a gravure printing plate for a gravure printing process Can be found. Furthermore, the wax pattern can also be used as a layer that is resistant to etching agents in the manufacture of printed circuits with photographically transferred wiring or the like can be used.
Die durch die Belichtung aktivierte, Kristallisationskeime aufweisende Oberfläche weist auch eine selektive Empfindlichkeit für die Abscheidung von Metalldampf auf. Wenn die Oberfläche Metall in Dampfform ausgesetzt wird, scheiden sich die auftreffenden Dampfatome selektiv an den Keimstellen ab. weil hier eine höhere Adsorptionsenergie vorhanden ist. An den unbelichteten Stellen ist die Wiederverdampfungsrate nahezu gleich der Auftrcffrate und es entsteht dort kein Niederschlag, wogegen an den Keimstellen die Wiederverdampfungsrate sehr gering ist. Das zum Bedampfen verwendete Metall ist vorzugsweise so ausgewählt, daß es eine erhöhte Hydrophilie und Lyophobie aufweist, und ist zweckmäßig Zink. Cadmium oder Quecksilber. Das mit aufgedämpftem Metall versehene Material ergibt, wenn es mit Wasser benetzt ist. eine bessere Auflösung und eine bessere Reproduktion von Grautönen.The surface which has crystallization nuclei activated by the exposure also has a selective one Sensitivity to the deposition of metal vapor. When the surface is metal in vapor form is exposed, the impinging steam atoms deposit selectively at the nucleation sites. because here there is a higher adsorption energy. The re-evaporation rate is in the unexposed areas almost equal to the rate of application and there is no precipitate, whereas at the nucleation sites the re-evaporation rate is very low. The metal used for vapor deposition is preferably like this is selected to have increased hydrophilicity and lyophobicity, and is conveniently zinc. cadmium or mercury. The material provided with vapor-deposited metal results when exposed to water is wetted. better resolution and better reproduction of gray tones.
Alle die oben behandelten Verfahren können sowohl bei einem nur mit Wasser entwickelten, belichteten hydrophilen Bild oder mit einem zusätzlich mit Metalldampf entwickelten Bild angewendet werden. All of the processes discussed above can be used either with an exposed hydrophilic image developed only with water or with an image additionally developed with metal vapor.
Bei einer anderen Variante der Verwendung der hydrophilen Eigenschaften des belichteten Bildes kann ein Ätzgrund unmittelbar erzeugt werden, indem das aus Kernen bestehende Bild mit einem Material weiter entwickelt wird, das bildseitig einen harten Niederschlag bildet. Wenn beispielsweise Kaliumdichromat auf das aus Kernen bestehende Bild aufgebracht und durch Bestrahlen mit ultraviolettem Licht »entwickelt« wird, bildet es einen solchen Niederschlag. Das harte und undurchlässige Bild kann als Ätzgrund dienen, wenn das Material in ein Lösungsmittel getaucht wird, das das Bindemittel für die empfindliche Schicht auflöst und dadurch die Basis des Materials freilegt. Das mit einem solchen Lösungsmittel »geätzte« Aufnahmematerial könnte unmittelbar als Druckplatte benutzt werden. Die Behandlung mit dem Lösungsmittel könnte aber auch eine Vorstufe für eine chemische Behandlung mit einem Ätzmittel dienen, welches das Basismaterial angreift. In another variant of the use of the hydrophilic properties of the exposed image, an etching base can be produced directly by further developing the image consisting of cores with a material that forms a hard deposit on the image side. For example, if potassium dichromate is applied to the image consisting of nuclei and "developed" by exposure to ultraviolet light, it forms such a precipitate. The hard and opaque image can serve as an etch base if the material is immersed in a solvent that dissolves the binder for the sensitive layer and thereby exposes the base of the material. The recording material "etched" with such a solvent could be used immediately as a printing plate. The treatment with the solvent could also serve as a preliminary stage for a chemical treatment with an etchant, which attacks the base material.
In F i g, 1 ist ein Abbildungssystem mit einer wäßrigen Entwicklung, die von dem hydrophoben-hydrophilen Medium nach der Erfindung Gebrauch macht, als einheitliches Gerät 10 dargestellt. Das Gerät 10 besitzt ein Gehäuse 12, das vorzugsweise lichtdicht ausgebildet ist, weil das darin verwendete MaterialIn Fig. 1 is an imaging system with an aqueous Development which makes use of the hydrophobic-hydrophilic medium according to the invention, shown as a uniform device 10. The device 10 has a housing 12, which is preferably light-tight is formed because of the material used therein
ίο lichtempfindlich ist. Zum Zwecke der Darstellung ist jedoch die vordere Seitenabdeckung des Gerätes 10 entfernt, so daß das Innere des Gerätes sichtbar ist. Das Gehäuse 12 enthält eine erste Kammer 14, die als Vorratskammer für das Material zur Bildaufzeichnung dient und bei Bedarf eine Beschickungseinrichtung zum Aufbringen des lichtempfindlichen Stoffes auf einen Träger 28 enthalten kann. Die Kammer 14 ist über eine Lichtfalle 18 mit einer zweiten Kammer 16 verbunden. In gleicher Weise ist auch die Kammer 16 über eine Lichtfalle 22 mit einer Kammer 19 verbunden. Das Material zur Bildaufzeichnung verläßt die Kammer 19 durch eine Lichtfalle 23 und tritt in eine weitere Kammer 20 ein. Das Material tritt aus dem Gerät 10 durch eine Lichtfalle 24 aus.ίο is sensitive to light. For the purpose of illustration it is however, the front side cover of the device 10 has been removed so that the interior of the device is visible. The housing 12 contains a first chamber 14 which acts as a storage chamber for the material for image recording serves and, if necessary, a loading device for applying the photosensitive substance on a carrier 28 may contain. The chamber 14 is connected to a second chamber via a light trap 18 16 connected. In the same way, the chamber 16 is also connected to a chamber via a light trap 22 19 connected. The image recording material exits the chamber 19 through a light trap 23 and enters another chamber 20. The material exits the device 10 through a light trap 24.
Innerhalb der Kammer 14 liefert eine Vorratsrolle 26 ein Substrat 28. das an einer Beschickungseinrichtung 30 vorbeigeführt wird, die einen Vorrat des lichtempfindlichen Stoffes enthält, und läuft dann über Führungsrollen 32 und 34, so daß es durch die Lichtfalle 18 in die Kammer 16 eintreten kann. Während des Laufes des Substrates 28 über die Führungsrollen 32 und 34 kann der lichtempfindliche Stoff auf dem Substrat trocknen und es kann bei Bedarf in der Kammer 14 ein Trocknungsgebläse angeordnet sein, das der mit dem lichtempfindlichen Stoff bedeckten Schicht des Substrats 28 gegenübersteht. Da der auf das Substrat aufgebrachte Stoff lichtempfindlich ist, wird die Beschichtung in der Kammer 14 vorgenommen, in der die Heiligkeit ausreichend gering ist. um eine Belichtung und Aktivierung des Materials zu vermeiden. Es sei darauf hingewiesen, daß die Beschichtung keinen Teil des Belichtungs- und Entwicklungssystems zu sein braucht. Vielmehr kann der Träger viele Monate vor dem tatsächlichen Gebrauch beschichtet werden und es kann eine Spule beschichteten und sensibilisierten Aufnahmematerials in die Kammer 14 eingesetzt und über geeignete Antriebsund Führungsrollen gelegt werden.Within the chamber 14, a supply roll 26 delivers a substrate 28 to a loader 30 is passed, which contains a supply of the photosensitive material, and then runs via guide rollers 32 and 34 so that it can enter the chamber 16 through the light trap 18. While the passage of the substrate 28 over the guide rollers 32 and 34, the photosensitive material can dry the substrate and, if necessary, a drying fan can be arranged in the chamber 14, facing the layer of the substrate 28 covered with the photosensitive substance. Since the on the substance applied to the substrate is photosensitive, the coating is carried out in the chamber 14, in which holiness is sufficiently low. to expose and activate the material avoid. It should be noted that the coating is not part of the exposure and development system needs to be. Rather, the wearer can use it many months before it is actually used can be coated and a spool of coated and sensitized recording material can be inserted into the Chamber 14 inserted and placed over suitable drive and guide rollers.
Das beschichtete und getrocknete Material ist nun für eine Belichtung bereit, die innerhalb der zweiter Kammer 16 erfolgt. In der Kammer 16 wird das Material einer Lichtquelle 36 ausgesetzt, die von einei Leistungsquelle 38 gespeist wird. Die Lichtquelle 3€ kann von einem geeigneten Projektor gebildet werden, der auf die empfindliche Oberfläche des Materials ein Bild projiziert. In diesem Fall wird während der Belichtung das lichtempfindliche Material für eine angemessene Zeitdauer stillgehalten. Es kann aber auch die Lichtquelle von einem Lichtstrahl gebildet werden, der in geeigneter Weise eine Abtastrichtung quer zur Bewegungsrichtung des Aufnahmematerials 28 ausführt. In diesem Fall kann die Vorschubgeschwindigkeit des an der abtastenden Lichtquelle vorbeilaufenden Aufnahmematerials so bemessen sein, daß die quer zur Laufrichtung des Aufnahmematerials gerichteten Spuren des abtastenden Lichtstrahles in Längsrichtung des Materials den richtigen Abstand haben. The coated and dried material is now ready for an exposure, which takes place within the second chamber 16. In the chamber 16, the material is exposed to a light source 36 fed by a power source 38. The light source 3 € can be formed by a suitable projector that projects an image onto the sensitive surface of the material. In this case, the photosensitive material is kept still for an appropriate period of time during the exposure. However, the light source can also be formed by a light beam which, in a suitable manner, carries out a scanning direction transverse to the direction of movement of the recording material 28. In this case, the feed speed of the recording material running past the scanning light source can be such that the traces of the scanning light beam directed transversely to the direction of travel of the recording material have the correct spacing in the longitudinal direction of the material.
9 ^ 109 ^ 10
Die Lichtempfindlichkeit des Materials hängt von der Kammer 20 läuft das Material 28 über Führungsdessen Zusammensetzung ab. Die in dem unten auge- rollen 40, 42 und 44. Auf dem Weg um die Führungsgebenen Beispiel 1 beschriebene Beschichtung hat rolle 42 wird das Material in ein wäßriges Bad 46 eineinen typischen Belichtungsbereich bei ultraviolettem getaucht und es wird die Flüssigkeit selektiv an den Licht von K) erg/cm2, bei denen gerade noch keine 5 hydrophilen Bildbereichen abgeschieden. Wenn das Beeinflussung erfolgt, bis 1000 erg/cm2 für volle Be- wäßrige Bad 46 einen Farbstoff oder ein Pigment lichtung. Das Material ist vor einer Belichtung mit enthält, wird die färbende Materie an den hydrophilen dem oben angegebenen Mindestwert an Lichtenergie Bildstellen abgeschieden. Das Material 28 verläßt die vollständig hydrophob und vollständig hydrophil, Kammer 20 mit einem wasserentwickelten Bild, das wenn es der vollen Belichtung ausgesetzt wird. Bei io von den hydrophilen, belichteten Stellen gebildet wird, dazwischenliegenden Belichtungen wird ein gewisser unabhängig davon, ob es in der Kammer 19 mit Teil der aktiven Stellen belichtet und macht bestimmte Metalldampf entwickelt worden ist oder nicht. Es sei Bereiche dieser Stellen hydrophil, so daß die in Wasser erwähnt, daß zum Zwecke der Erläuterung kein vollgelösten Stoffe von dem Wasser diesen Stellen züge- ständiges Eintauchen des Materials in die Flüssigkeit führt und dort abgeschieden werden. Der Zwischen- 15 dargestellt ist und diese Art der Behandlung nur eine bereich der Belichtung hat demnach dicht benachbarte von vielen geeigneten Methoden zur Anwendung des hydrophobe und hydrophile Bereiche zum Ergebnis, Entwicklers darstellt. Andere Methoden -ind ebenso so daß unregelmäßige oder diskontinuierliche Bilder befriedigend und umfassen das Aufbringen der Flüssigdie Folge sind. keit auf die Oberfläche mit Hilfe einer umlaufendenThe photosensitivity of the material depends on the chamber 20 as the material 28 controls its composition. The coating described in rollers 40, 42 and 44 below. On the way to the guidance given in Example 1, the coating has roller 42, the material is immersed in an aqueous bath 46 in a typical exposure range at ultraviolet and it is exposed to light selectively from the liquid K) erg / cm 2 at which no 5 hydrophilic image areas have yet been deposited. If the influence takes place, up to 1000 erg / cm 2 for a full aqueous bath 46 clearing a dye or a pigment. The material is included before exposure, the coloring matter is deposited on the hydrophilic image areas with the minimum value of light energy specified above. The material 28 exits the fully hydrophobic and fully hydrophilic chamber 20 with a water developed image which when exposed to full exposure. When io is formed by the hydrophilic, exposed areas, intermediate exposures will be a certain amount regardless of whether part of the active areas in the chamber 19 is exposed and makes certain metal vapor evolved or not. Areas of these points are hydrophilic, so that those in water are mentioned that, for the purpose of explanation, no fully dissolved substances from the water lead to these points being continuously immersed in the liquid and are deposited there. The intermediate 15 is shown and this type of treatment only results in one area of exposure being closely adjacent of many suitable methods for applying the hydrophobic and hydrophilic areas, which is developer. Other methods are also such that irregular or discontinuous images are satisfactory and include application of the liquid. on the surface with the help of a circumferential
Nach der Belichtung gelangt das Material durch 20 Walze, durch Aufsprühen und andere bekannte Verdie
Lichtfalle 22 in eine nur bedarfsweise vorgesehene, fahren zum Aufbringen einer Lösung.
also nicht notwendige dritte Kammer 19. Bei Bedarf Für dieses Verfahren ist charakteristisch, daß die
können die belichteten, aktivierten Bildabschnitte des für die wäßrige Entwicklung benötigte Zeit sehr kurz
Materials 28 innerhalb dieser Kammer mit Metall ist. Die benötigte Zeit schwankt als Funktion der
beschichtet werden. Eine Beschichtung mit Metall 25 Konzentration des Hydrophobierungsmittels, der Konkann
auch gleichzeitig mit der Belichtung in der zentration des Sensibilisators, der zur Vermischung
Kammer 16 erfolgen. Als Ergebnis der Belichtung mit der Bestandteile angewendeten Mahlzeit und der
Elektronen, Ionen oder Photonen ist die Oberfläche Entwicklungstemperatur. Geringere Konzentrationen
des Materials 28 mit einem latenten Bild versehen, des Hydrophobierungsmittels und des Sensibilisators,
das eine Anzahl von Keimstellen in einem Muster 30 eine Verlängerung der Mahlzeit sowie eine Erhöhung
aufweist, das dem zu reproduzierenden Bild oder der Entwicklertemperatur führen jeweils zu einer VerMuster
entspricht. Wenn die Oberfläche des belich- kürzung der Entwicklungszeit. Abhängig von den
teten Materials Metalldampf ausgesetzt wird, werden vorstehend erwähnten Variablen kann die Entwick-Atome
oder Moleküle des Metalldampfes selektiv Iungszeit zwischen 0,1 und 20 Sekunden schwanken,
von den Keimstellen, die das latente Bild bilden, 35 Typische Entwicklungszeiten liegen zwischen 0,5 und
angezogen und festgehalten. Jedes Atom einer Keim- 5 Sekunden bei 21' C.After exposure, the material is passed through a roller, by spraying and other known methods, into a device that is only provided when required, to apply a solution.
thus not necessary third chamber 19. If necessary It is characteristic of this method that the exposed, activated image sections of the time required for the aqueous development is very short material 28 within this chamber with metal. The time required varies as a function of the time to be coated. A coating with metal 25 concentration of the hydrophobing agent, the Konk can also take place simultaneously with the exposure in the concentration of the sensitizer, which is used for mixing chamber 16. As a result of exposure to the ingredients applied meal and electrons, ions or photons, the surface is development temperature. Lower concentrations of the material 28 provided with a latent image, the hydrophobing agent and the sensitizer, which has a number of nucleation sites in a pattern 30, a lengthening of the meal and an increase which corresponds to the image to be reproduced or the developer temperature lead to a respective pattern. When the surface of the exposure-shortening the development time. Depending on the material being exposed to metal vapor, the aforementioned variables, the development atoms or molecules of the metal vapor can selectively vary between 0.1 and 20 seconds, from the nucleation sites that form the latent image.35 Typical development times are between 0, 5 and dressed and held. Each atom of a seed 5 seconds at 21 'C.
stelle kann bis zu 10 000 Atome aus dem Dampf ein- Nach der Entwicklung ist keine weitere Behandlungup to 10,000 atoms can be made from the vapor. After development, there is no further treatment
fangen. Der erforderliche Dampf wird von einer erforderlich. Um jedoch die weitere Behandlung descatch. The required steam is required by one. However, in order to further treat the
Dampfquelle 25 geliefert, die gewöhnlich mit einer Materials zu erleichtern, kann es wünschenswert sein,Steam source 25 supplied, usually with a material to facilitate it, may be desirable
gesteuerten Heizeinrichtung 27 versehen ist. Allgemein 40 Gebläse und oder eine Strahlunesheizung einzusetzen,controlled heating device 27 is provided. Generally use 40 fans and / or a radiant heater,
sind die den Metalldampf entwickelnden Stoffe ein um das Wegtrocknen überschüssiger EntwicklerlösuneThe substances that develop the metal vapor are a solution to drying off excess developer
Metall, wie beispielsweise Zink, Cadmium oder Queck- zu beschleunigen, das an den Oberflächen des Mate~Metal, such as zinc, cadmium or mercury to accelerate the material on the surfaces of the material
silber, das in Form eines Barrens oder von Pulver in rials anhaftet.silver that adheres in the form of a bar or powder in rials.
einem Tiegel enthalten ist oder aber in Form eines Wenn das Material die Lichtfalle 24 verläßt ist e<a crucible or in the form of a When the material leaves the light trap 24 is e <
Drahtes vorliegt. Der Metalldampf kann auch von 45 für eine weitere Verwendung geeignetWire is present. The metal vapor can also be used by 45 for further use
einer reduzierbaren oder thermisch zersetzbaren Me- Das folgende Beispiel soll die Herstellung des neu-a reducible or thermally decomposable me- The following example is intended to illustrate the production of the new
tallverbindung geliefert werden, wie beispielsweise von artigen Materials zur Bildaufzeichnung nach der Er-metal connection are supplied, such as of like material for image recording after the
einem Metallcarbonyl. findung, dessen Belichtung und Entwicklung veran-a metal carbonyl. finding, the exposure and development of which
Die Metalldampfentwicklung findet unter den üb- schaulichen, ohne jedoch die Erfindung in irgendeineThe metal vapor development takes place among the usual, but without the invention in any
liehen Bedingungen statt, die die Abscheidung von 50 Weise zu begrenzen. Metall im Vakuum beherrschen. Demnach steht dieborrowed conditions instead that limit the deposition of 50 ways. Mastering metal in a vacuum. Accordingly, the
in einem Abstand von der Dampfquelle 25 angeordnet, 1 s ρ 1 e 1arranged at a distance from the steam source 25, 1 s ρ 1 e 1
der nicht größer ist als die mittlere freie Weglänge, Es wurde eine große Anzahl von Beschichtungs·which is not greater than the mean free path, A large number of coating
die unter den in der Kammer vorhandenen Bedingun- 55 massen nach dem gleichen, nachstehend wiedergegebe-the measures under the conditions existing in the chamber are 55 based on the same, reproduced below.
gen existiert. Für den vorliegenden Zweck können nen Grundrezept angefertigt· Drücke im Bereich von 10"1 bis 10~4 Torr Anwendunggene exists. For the present purpose NEN basic recipe can be made · pressures ranging from 10 "1 to 10 ~ 4 Torr application
finden. Es können auch Edelgase wie Helium-Argon Zinkoxid 50 75 g Find. Noble gases such as helium-argon zinc oxide 50 75 g can also be used
benutzt und in die Kammer eingeführt werden, um Styrol-Butadien-Misch- used and introduced into the chamber to mix styrene-butadiene
die Geschwindigkeit zu beeinflussen, mit der die 60 polymerisat ... 18 σto influence the speed with which the 60 polymerisat ... 18 σ
diese Weise ist eine bessere Steuerung des Bild- Methanol * 4 ^sthis way is better control of the image- methanol * 4 ^ s
kontrastes möglich.contrast possible.
Nach der Belichtung und der gegebenenfalls vorge- Der nach diesem Grundrezept hergestellten Besehenen Metalldampfentwicklung gelangt das Mate- 65 Schichtungsmasse wurden verschiedene Sensibilisatoren rial 28 durch die Lichtfalle 23 in die Entwicklungs- und Hydrophobierungsmittel hinzugefügt und es wurkammer 20, aus der dann das Material 28 aus dem den die Bestandteile in einer Aluminiumoxid-Kugel-Gerät 10 durch die Lichtfalle 24 austntt. Innerhalb mühle mit einem Fassungsvermögen von 500 cm3 dieAfter the exposure and, if necessary, the development of metal vapor produced according to this basic recipe, the material passes 65 layering mass, various sensitizers rial 28 were added through the light trap 23 into the developing and hydrophobicizing agents and there was chamber 20, from which the material 28 was then removed from the which the components in an aluminum oxide ball device 10 ausntntt through the light trap 24. Inside mill with a capacity of 500 cm 3 the
100 Achatkugeln von 10 rum Durchmesser enthielt, unter Ausführung einer Planetenbcwegung wahrend 45 Minuten gemahlen. Die erhaltene Masse wurde dann mil einer Naßdicke von 25 bis 100 um auf ein Substrat aus aluminisieren! Polvesterlilm oder einenContained 100 agate balls of 10 rum diameter, ground with a planetary movement for 45 minutes. The mass obtained was then to a wet thickness of 25 to 100 µm Aluminize substrate! Polvesterlilm or one
anderen geeigneten Träger aufgebracht. Die resultierenden Beschichtungen wurden auf ihre hydrophoben Figenschaftcn geprüft. Die verwendeten Zuschlagstoffe und Frgebnissc der Prüfung sind in der folgenden Tabelle wiedergegeben.other suitable carrier applied. The resulting coatings were hydrophobic on their behalf Characteristics checked. The aggregates used and results of the test are shown below Table reproduced.
tungsiuusscBoschich-
tungsiuussc
HydrophobieResultant
Hydrophobicity
(010. Ii)Kiipferaeetylacctonat
(010. II)
(0,25 g)Stearic acid
(0.25 g)
(0,1 g)Copper acetylacelonate
(0.1 g)
(0,50 g)Stearic acid
(0.50 g)
(0,1 g)Copper acetylaeetonate
(0.1 g)
(0,5 g)Naphthenic acid
(0.5 g)
(0,10 g)Copper acetylacctonate
(0.10 g)
(1,0 g)Naphthenic acid
(1.0 g)
(0,10 g)Copper acetylacetonate
(0.10 g)
(0,25 g)Linoleic acid
(0.25 g)
(0.10 g)Copper aclvacctonate
(0.10 g)
(0.50 g)Linoleic acid
(0.50 g)
(0,10 g)Copper acetylacetonate
(0.10 g)
11,0 g)1 inoleic acid
11.0 g)
(0.10 g)Copper acetate
(0.10 g)
(2,0 g)Linoleic acid
(2.0 g)
(0,10 g)K. copper (l) chloride
(0.10 g)
dioxyd-aerosil (0.30 g)hydrophobic silicon
dioxide-aerosil (0.30 g)
(0.10 g)Copper (l) chloride
(0.10 g)
hydrophobes Sili/ium-
dioxyd-acrosil (0.3 g)I oimalin (8 mil and
hydrophobic silicon
dioxyd-acrosil (0.3 g)
(0.10 g)Copper (l) chloride
(0.10 g)
siloxan (1,0 g)liquid polydimethyl
siloxane (1.0 g)
Der Tabelle ist zu entnehmen, daß die besten Resultate mit Linolsäure in einer Menge von 1 bis 2 g oder mit einem mit Silan behandelten Siliciumdioxid erreicht worden sind. Das nach den Beispielen hergestellte Material kann mit etwa 300 erg'cm2 eincr ultravioletten Strahlung von 3625 Α belichtet werden. Die Entwicklung kann in einer Oberflächenbehandlung von 1 Sekunde Dauer mit einer Wassersuspension von kolloidalem Graphit oder geeigneten Farbstoffen bestehen. Ein Graphitentwickler kann durch Dispergieren von 83 g einer Graphitsuspension (22 % Feststoffe in Wasser) in 11 entionisiertem Wasser hergestellt werden. Die Alkalität des Entwicklers kann mit Ammoniak oder Essigsäure auf einen pH-Wert zwischen 8 und 11 eingestellt werden. Höhere pH-Werte führen zu einer schnelleren, jedoch weniger selektiven Entwicklung. It can be seen from the table that the best results have been achieved with linoleic acid in an amount of 1 to 2 g or with a silica treated with silane. The material produced according to the examples can be exposed to about 300 ergcm 2 of ultraviolet radiation of 3625 Α. The development can consist of a surface treatment of 1 second duration with a water suspension of colloidal graphite or suitable dyes. A graphite developer can be made by dispersing 83 grams of a graphite suspension (22% solids in water) in 11% of deionized water. The alkalinity of the developer can be adjusted to a pH value between 8 and 11 with ammonia or acetic acid. Higher pH values lead to faster but less selective development.
Das belichtete Material kann auch durch ein 1 bis 20 Sekunden währendes Eintauchen in Leitungswasser oder vorzugsweise in eine lithographische Feuchtflüssigkeit entwickelt werden. Bei der Ausführungsform nach F i g. 2 ist ein Abschnitt 60 eines nach F i g. 1 entwickelten Materials in der Größe einer Druckform zugeschnitten. Die Druckform 60 ist auf einen Druckzylinder 72 aufgespannt. Ein Tank 64 enthält Feuchtflüssigkeit 66, deren Konzentrat im Verhältnis 1: 30 mit entionisiertem Wasser verdünnt worden ist. Der Tank 68 enthält eine Druckfarbe 70 auf Ölbasis. Wal/en 72 und 74 bringen die Feuchtflüssigkeit 66 bz.v. die Farbe 70 auf die Oberfläche der Druckplatte 60 auf. The exposed material can also be developed by immersing it for 1 to 20 seconds in tap water or, preferably, in a lithographic dampening liquid. In the embodiment according to FIG. 2 is a portion 60 of one of FIG. 1 developed material cut to the size of a printing form. The printing forme 60 is clamped onto a printing cylinder 72. A tank 64 contains wet liquid 66, the concentrate of which has been diluted in a ratio of 1:30 with deionized water. The tank 68 contains an oil-based printing ink 70. Whales 72 and 74 bring the dampening liquid 66 and v. the ink 70 on the surface of the printing plate 60 on.
Fin Papierband 75 läuft von einer Rolle 76 über eine Führungsrolle "8 und wird mittels einer Druckrolle 80 gegen die Oberfläche der Druckplatte 60 gedrückt. Danach läuft das Papierband über eine Füllrungsrolle 82 und wird endlich zu einer Rolle 84 aufgewickelt. Bei jeder Umdrehung des Druckzylinders 61 haftet die Feuchtflüssigkeit 66 selektiv an den belich teten, hydrophilen Stellen der Druckplatte 60 an, se daß anschließend aufgetragene Farbe 70 von dieser Stellen zurückgewiesen wird, so daß ein klarer unc scharfer Hintergrund für die fertigen Drucke entsteht Die von den nicht belichteten Stellen angenommeni Farbe wird auf das Papier 75 übertragen, das mit de Druckplatte 60 in Kontakt gebracht wird. Fin paper tape 75 runs from a roller 76 over a guide roller 8 and is pressed against the surface of the printing plate 60 by means of a pressure roller 80. The paper tape then runs over a filling roller 82 and is finally wound up into a roll 84 If the dampening liquid 66 adheres selectively to the exposed, hydrophilic areas of the printing plate 60, the subsequently applied color 70 is rejected by these areas, so that a clear and sharp background is created for the finished prints. The color is accepted by the unexposed areas onto the paper 75 which is brought into contact with the printing plate 60.
Flachdrucke, die mit einem hydrophil-hydrophobei Material nach der Erfindung hergestellt worden sind weisen einen deutlich verbesserten Kontrast auf um sind frei von Farbstellen in den Untergrundbereichen Eine Druckplatte ist in der Lage, mehrere hunderPlanographic prints made with a hydrophilic-hydrophobic material according to the invention have a significantly improved contrast and are free of colored spots in the background areas A printing plate is capable of several hundred klar lesbare Kopien mit guter Auflösung zu erzeugen Weiterhin zeigen die Flachdrucke kein charakteristi sches Ausfüllen von Kreisformen auf, wie beispiels weise der umschlossenen Flächen der Buchstaben »0to produce clearly legible copies with good resolution Furthermore, the flat prints do not show any characteristic filling of circular shapes, such as for example wise of the enclosed areas of the letters »0
und »e«, was für eine wäßrige Entwicklung durch Eintauchen typisch ist. Dies liegt daran, daß die Druckpresse durch cL-n Druck der Walzen etwaige Blasen zerstört.and "e", what a watery development through Immersion is typical. This is because the printing press by cL-n pressure of the rollers any Bubbles destroyed.
Wenn das Material einer Vakuumentwicklung mit Metalldampf wie z. B. Zink in der Kammer 19 nach F i g. 1 unterworfen worden ist, sind die erzeugten Kopien etwas schärfer und ermöglichen ein gewisses Maß an unmittelbarer Halbton-Bildprodukiion ohne die Verwendung von Halbton-Rastern.When the material is subjected to vacuum development with metal vapor such as e.g. B. zinc in the chamber 19 after F i g. 1 has been subjected, the copies produced are somewhat sharper and allow a certain amount Degree of immediate halftone image production without the use of halftone screens.
Ein weiteres Verfahren, bei dem ein nach F i g. 1 in Wasser entwickeltes Material Anwendung findet, ist in F i g. 3 veranschaulicht. Bei diesem Verfahren wird auf das in Wasser entwickelte, belichtete Material eine aushärtbare, ölfreundliche Masse aufgebracht. Die ölfreundliche Masse härtet und bildet ein undurchlässiges Bild, das ein den belichteten Abschnitten des Mediums entsprechendes Reliefbild darstettt. Wie aus der Zeichnung ersichtlich, tritt das belichtete Material 28 in die Kammer 20 ein, in der es um die Führungsrolle 42 herumläuft und dabei in dem Wasserbad 46 entwickelt wird.Another method in which a according to FIG. 1 material developed in water is used, is shown in FIG. 3 illustrates. In this process, a hardenable, oil-friendly compound is applied to the exposed material developed in water. The oil-friendly mass hardens and forms an impermeable image that represents a relief image corresponding to the exposed sections of the medium . As can be seen from the drawing, the exposed material 28 enters the chamber 20, in which it runs around the guide roller 42 and is developed in the water bath 46 in the process.
Anschließend läuft das entwickelte Material 28 durch die Lichtfalle 24 in :ine lichtdichte Kammer 90. Innerhalb dieser Kammer läuft das Material um Führungsrollen 91, 92 und 94. Beim Herumlaufen um die Führungsrolle 92 wird das Material in eine flüssige, ölfreundliche Masse getaucht, wie beispielsweise heißes Wachs 96. Das Wachs wird von den ölfeindlichen belichteten Stellen, die Wasser absorbiert haben, abgestoßen, lagert sich jedoch an den unbelichteten Stellen der empfindlichen Schicht auf dem Substrat 28 an. Das Hartwachs wird auf jede geeignete Weise gekühlt, beispielsweise durch Kühlen der eintauchenden Führungsrolle 92, so daß auf den nicht belichteten Stellen ein festes Wachsbild aufgebaut wird. Das Material verläßt die Kammer 90 durch eine Falle 98.The developed material 28 then runs through the light trap 24 into a light-tight chamber 90. Within this chamber, the material runs around guide rollers 91, 92 and 94. As it moves around the guide roller 92, the material is immersed in a liquid, oil-friendly mass, such as hot Wax 96. The wax is repelled by exposed areas that are hostile to oil and have absorbed water, however, it is deposited in the unexposed areas of the sensitive layer on the substrate 28 on. The hard wax is cooled in any suitable manner, for example by cooling the immersed ones Guide roller 92, so that a solid wax image is built up on the unexposed areas. The Material exits chamber 90 through trap 98.
Das ein gemäß F i g. 3 aufgebautes Bild aufweisende Material kann zur Herstellung von Kopien als Tiefdruckplatte benutzt werden. Wenn eine Tinte auf Wasserbasis auf eine solche Platte aufgebracht wird, wird sie an den zurückgesetzten, hydrophilen Stellen anhaften, jedoch von den aufgebauten Wachsbereichen abgewiesen werden. Da die Bildstellen vertieft liegen, kann außerdem die Tinte von den erhöhten, nicht zum Bild gehörenden Stellen abgewischt werden. Nach dem Abwischen kann die Tinte übertragen werden, indem die Platte an ein Ubertragungsblatt angedrückt wird, beispielsweise an Papier. Die Tiefdruckplatte kann wiederholt mit Tiefdrucktinte eingefärbt und auf Papier abgedruckt werden. In solch einem Fall wird ein Abschnitt des Aufnahmemaierials, der das zu vervielfältigende Muster trägt, von dem Band des Aufnahmematerials abgetrennt und als Druckplatte in eine Druckpresse eingesetzt, um eine Vielzahl von Kopien herzustellen.The one according to FIG. 3 built-up image material can be used for the production of copies as a gravure printing plate to be used. When a water-based ink is applied to such a plate, it will adhere to the recessed, hydrophilic areas, but from the built-up wax areas be rejected. In addition, since the image areas are depressed, the ink from the raised areas cannot areas belonging to the picture are wiped off. After wiping, the ink can be transferred, by pressing the plate against a transfer sheet, such as paper. The gravure plate can be repeatedly colored with gravure ink and printed on paper. In such a The case becomes a portion of the recording material bearing the pattern to be duplicated from the tape of the recording material separated and used as a printing plate in a printing press to a variety of making copies.
Es sei darauf hingewiesen, daß das Wachsbild als Ätzgrund verwendet werden kann. In solch einem Fall sollte das Substrat aus einem ätzbaren Material bestehen, beispielsweise aus einer Metallfolie oder einem mit einer Metallschicht laminierten^ inerten Träger, beispielsweise einem Polyester. Als Ätzmittel kann jedes geeignete Lösungsmittel für das ätzbare Substrat verwendet werden, das nicht die Wachsschicht angreift, zum Beispiel eine Säure oder ein alkalisches Oxidations- oder Reduktionsmittel. Der Ätzvorgang kann wieder an abgetrennten Bogen des Materials in Bädern stattfinden anstelle der kontinuierlichen Arbeitsvorgänge, die dargestellt worden sind.It should be noted that the wax pattern can be used as an etching base. In such a In the case, the substrate should consist of an etchable material, for example a metal foil or an inert support laminated with a metal layer, for example a polyester. As an etchant Any suitable solvent other than the wax layer can be used for the etchable substrate attacks, for example an acid or an alkaline oxidizing or reducing agent. The etching process can take place again on separated sheets of the material in baths instead of the continuous work processes, that have been depicted.
ίο Ein Verfahren, das einen Photo-Ätzgrund unmittelbar auf dem belichteten Material nach F i g. 1 ohne die Notwendigkeit zur Bildung eines Reliefbildes liefert, ist in F i g. 4 dargestellt. Das belichtete Material 28 gelangt durch die Lichtfalle 23 in die lichtdichte Kammer 20. In diesem Fall enthält das wäßrige Medium 46 eine Verbindung, die auf den belichteten, hydrophilen Stellen einen harten, undurchlässigen Niederschlag bildet. Für diesen Zweck ist beispielsweise eine Kaliumdichromatlösung geeignet. Das mit der Kaliumdichromatlösung behandelte Material verläßt die Kammer 20 durch die Lichtfalle 24 und tritt in eine Kamn :r 102 ein. Innerhalb dieser Kammer 102 wird das behandelte Material in seiner Gesamtheit einer ultravioletten Strahlung ausgesetzt, die von einer UV-Lampe 103 hoher Intensität geliefert wird. Die UV-Strahlung hat den Zweck, die mit Kaliumdichromat beschichteten, belichteten Stellen zu vernetzen, zu polymerisieren oder auf andere Weise zu härten. Das behandelte Material verläßt die Kammer 102 durch die Lichtfalle 104 und tritt in eine Kammer 106 ein. Innerhalb dieser Kammer läuft das Material über Führungsrollen 108, 110 und 112. Die Führungsrolle 110 ist wenigstens teilweise in ein Bad 114 eingetaucht, das ein Lösungsmittel für die Beschichtung des Materials enthält. Das Lösungsmittel löst das filmbildende Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht des Materials 28 auf, so daß die Schicht im Bereich der unbelichteten Stellen entfernt wird und die darunterliegenden Abschnitte des Substrates freilegt.ίο A method that creates a photo-etching base directly on the exposed material according to FIG. 1 without the need to form a relief image is shown in FIG. 4 shown. The exposed material 28 passes through the light trap 23 into the light-tight chamber 20. In this case, the aqueous medium 46 contains a compound which forms a hard, impermeable precipitate on the exposed, hydrophilic areas. For example, a potassium dichromate solution is suitable for this purpose. The material treated with the potassium dichromate solution leaves the chamber 20 through the light trap 24 and enters a chamber 102 . Within this chamber 102, the treated material is exposed in its entirety to ultraviolet radiation which is supplied by a UV lamp 103 of high intensity. The purpose of UV radiation is to crosslink, polymerize or otherwise harden the exposed areas coated with potassium dichromate. The treated material exits chamber 102 through light trap 104 and enters chamber 106. Within this chamber, the material runs over guide rollers 108, 110 and 112. The guide roller 110 is at least partially immersed in a bath 114 which contains a solvent for coating the material. The solvent dissolves the film-forming binder of the photosensitive layer of the material 28, so that the layer is removed in the area of the unexposed areas and exposes the underlying portions of the substrate.
Ein geeignetes Lösungsmittel für das filmbildende Bindemittel ist Toluol.A suitable solvent for the film-forming binder is toluene.
Wenn das Material 28 die Kammer 106 durch eine Lichtfalle 115 verläßt, sind die ursprünglich unbelichtet gebliebenen Stellen des Materials ungeschützt, wogegen die belichteten Stellen scwohj durch die lichtempfindliche Schicht als auch durch eine Schicht des aufgebrachten, harten und undurchlässigen Materials geschützt. Das Material kann dann einem Tank 116 zugeführt werden, der ein Ätzbad 118 enthält. Dabei läuft das Material über Führungsrollen 120, 122 und 124, von denen die mittlere Führungsrolle 122 wieder teilweise in das Ätzbad 118 eingetaucht ist. Wenn das Material über diese Führungsrolle läuft, greift das Ätzmittel das Material an den ungeschützten Stellen an, die den unbelichteten Stellen entsprechen. Dieses Verfahren kann zur Herstellung von Druckplatten sowie bei Verfahren zum »chemischen Fräsen« verwendet werden. Auch hier kann das Verfahren schrittweise an einzelnen Blättern oder Platten des Materials ausgeführt werden, die starre Substrate aufweisen.When the material 28 leaves the chamber 106 through a light trap 115 , the originally unexposed areas of the material are unprotected, whereas the exposed areas are protected by the photosensitive layer as well as by a layer of the applied, hard and impermeable material. The material can then be fed to a tank 116 which contains an etching bath 118. The material runs over guide rollers 120, 122 and 124, of which the middle guide roller 122 is again partially immersed in the etching bath 118. When the material runs over this guide roller, the etchant attacks the material in the unprotected areas that correspond to the unexposed areas. This process can be used for the production of printing plates as well as in processes for "chemical milling". Here, too, the process can be carried out step-by-step on individual sheets or plates of the material that have rigid substrates.
Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings
Claims (6)
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US88259169A | 1969-12-08 | 1969-12-08 | |
| US88295169A | 1969-12-08 | 1969-12-08 | |
| US88259169 | 1969-12-08 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2059491A1 DE2059491A1 (en) | 1971-06-09 |
| DE2059491B2 DE2059491B2 (en) | 1976-10-28 |
| DE2059491C3 true DE2059491C3 (en) | 1977-06-16 |
Family
ID=
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