DE2047952A1 - Process for the photometric evaluation of light-scattering objects - Google Patents
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Description
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FIRMA CARL ZEISS, 7920 HEIDENHEIM (BRENZ)COMPANY CARL ZEISS, 7920 HEIDENHEIM (BRENZ)
Verfahren zur photometrischen Auswertung von lichtstreuenden ObjektenProcess for the photometric evaluation of light-scattering objects
Die vorliegende Erfinduno betrifft ein Verfahren zur photometrisehen Auswertung von lichtstreuenden Objekten. Diese Aufgabe stellt sich beispielsweise bei der Auswertung von Pherogrammen oder Chromatogrammen. .This Erfindun o concerns a process for photometrisehen evaluation of light scattering objects. This task arises, for example, when evaluating pherograms or chromatograms. .
Das Verfahren nach der Erfindung und seine Wirkungsweise wird im folgenden am Beispiel der Auswertung von Dünnschicht-Chromatogrammen beschrieben, ohne daß dadurch der Anwendungsbereich dieses Verfahrens eingeschränkt werden soll.The method according to the invention and its mode of operation is described below using the example of the evaluation of thin-layer chromatograms without affecting the scope of this Procedure should be restricted.
Die Dünnschicht-Chromatographie· ist ein modernes analytisches Trennverfahren für organische und anorganische Substanzgemische.-Thin-layer chromatography is a modern analytical one Separation process for organic and inorganic substance mixtures.
Auf einer meist aus Glas bestehenden Trägerplatte ist eine dünne, aus feinkörnigem lichtstreuendem Material bestehende Schicht des Sorptionsmittels, z.B. Kieselgel aufgetragen, die als Trennschicht bezeichnet wird. Das zu trennende und in Lösung befindliche Substanzgemisoh wird an einer bestimmten Stelle punkt-oder bandförmig auf die Trennschicht aufgetragen. Danach wird die Platte in eine Kammer gestellt, die ein geeignetes Fließmittel enthält. Bei der jetzt einsetzenden Entwicklung wandert das Fließmittel durch Kapillarkräfte über die Trennschicht, wobei das Substanzgemisch aufgetrennt wird. Nach beendeter Entwicklung befinden sich die verschiedenen Substanzen des Gemisches an verschiedenen Stellen der Trennschicht.A thin, fine-grained, light-diffusing material layer is on a carrier plate, which is usually made of glass Sorbent, e.g. silica gel, is applied as a separating layer referred to as. The mixture of substances to be separated and in solution is applied to the separating layer in the form of a point or band at a certain point. Then the plate is turned into a Chamber placed that contains a suitable solvent. With the development that is now beginning, the superplasticizer migrates through Capillary forces via the separating layer, whereby the substance mixture is separated. When the development is finished, the different substances of the mixture at different points of the separating layer.
Die eigentliche Aufgabe besteht nun darin, das entwickelte Dünnsohicht-Chromatogramm qualitativ und quantitativ auszuwerten.The real task now consists in the developed thin-layer chromatogram to evaluate qualitatively and quantitatively.
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Zur Auswertung von Dünnschicht-Chroinatogrammen ist es bekannt, die Substanzflecken zunächst nachzuweisen, danach die Trennschicht im Bereich der einzelnen Substanzflecken abzukratzen, die Substanzen aus dem Sorptionsmittel zu eluieren und dann qualitativ oder quantitativ zu bestimmen. Dieses Auswerteverfahren ist recht umständlich und nicht immer zu verwenden, da ein Rückgewinnungsverlust nicht zu vermeiden ist.For the evaluation of thin-layer chroinatograms it is known to detect the substance stains first, then the separating layer Scrape off the substances in the area of the individual substance stains to elute from the sorbent and then to determine qualitatively or quantitatively. This evaluation method is right awkward and not always to be used because of a loss of recovery cannot be avoided.
Es ist auch bekannt, Dünnschicht-Chromatogramme direkt auszuwerten. Dazu mißt man die bei Abtastung des Chromatogramms mit einem Lichtbündel konstanter Intensität auftretende unterschiedliche Absorption des Lichtes oder bei fluoreszierenden Substanzen die Emission der Substanzzone.It is also known to evaluate thin-layer chromatograms directly. For this purpose, the different values that occur when the chromatogram is scanned with a light beam of constant intensity are measured Absorption of light or, in the case of fluorescent substances, the emission of the substance zone.
Die Messung der Absorption geschieht bei Objekten, die keine oder nur eine geringe Lichtstreuung hervorrufen durch Messung der Transmission. Bei lichtstreuenden Objekten, z.B. bei Dünnschicht-Chromatogrammen, ist es vor einer Transmissionsmessung erforderlich, das Objekt mit Hilfe einer Flüssigkeit mit geeignetem Brechungsindex transparent zu machen. Wegen dabei auftretender Elutionseffekte ist ein solches Verfahren zur Auswertung von Dünnschicht-Chrornatogrammen kaum zu empfehlen.The absorption is measured for objects that cause little or no light scattering by measuring the Transmission. With light-scattering objects, e.g. with thin-layer chromatograms, it is necessary before a transmission measurement to clean the object with the help of a liquid with a suitable To make refractive index transparent. Because of it occurring Such a method for evaluating thin-layer chromatograms can hardly be recommended due to elution effects.
In den letzten Jahren ist man dazu übergegangen, d3e Auswertung von Dünnschicht-Chromatogrammen in Remission vorzunehmen. Dazu wird das Chromatogramm von einem monochromatischen Lichtbündel in Trennrichtung abgetastet und die Intensität der diffus reflektierten Meßstrahlüng wird mit einem photoelektrischen Empfänger gemessen und beispielsweise in Abhängigkeit vom Ort mi"t einem Schreiber aufgezeichnet. Befinden sich auf der Trennschicht lichtabsorbierende Substanz-Flecke, so wird die Remissions- ;' strahlung in den Wellenlängenbereichen geschwächt, wo auch bei Transmissionsmessungen entsprechender" ν Lösungen Absorptionsbanden auftreten würden. Die Intensität der diffus reflektierten Meßstrahlung ist deshalb ein Maß für die durch die SubstanzIn recent years there has been a move towards evaluating thin-layer chromatograms in remission. For this purpose, the chromatogram is scanned by a monochromatic light beam in the separating direction and the intensity of the diffusely reflected measuring radiation is measured with a photoelectric receiver and recorded, for example, depending on the location with a recorder. If there are light-absorbing substance spots on the separating layer, the remission; 'radiation-attenuated in the wavelength ranges where absorption bands would also occur in transmission measurements corresponding "ν solutions. The intensity of the diffusely reflected measuring radiation is therefore a measure of the intensity caused by the substance
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verursachte Absorption. Die bei der Abtastung erhaltene Absorptions -Orts -Kurve kann mit. Hilfe der Kubelka-Munk -Funkt ion quantitativ ausgewertet werden.caused absorption. The absorbance obtained from the scan -Location curve can be used with. Can be quantitatively evaluated using the Kubelka-Munk function.
Bei der geschilderten Auswertung durch Messung der diffus reflektierten Meßstrahlung ist dem zu messenden Effekt stets eine in Abhängigkeit vom Ort auf der Trennschicht unterschiedliche Lichtstreuung überlagert, welche sich vor allem bei geringen Substanzmengen sehr nachteilig bemerkbar macht und die Nachweisgrenze verschlechtert. Diese substanzunspezifische Abhängigkeit der Lichtstreuung vom Ort kann eine sehr ungleichmäßige Basislinie der auszuwertenden Kurve ergeben, welche es in manchen Fällen schwierig oder sogar unmöglich macht, eindeutig zu entscheiden, ob es sich um einen zu messenden oder einen Stör-Effekt handelt. jIn the described evaluation by measuring the diffusely reflected For the effect to be measured, measuring radiation is always a light scattering that differs depending on the location on the separating layer superimposed, which is particularly noticeable in the case of small amounts of substance, and the detection limit worsened. This substance-unspecific dependency of the Light scattering from the location can result in a very uneven baseline of the curve to be evaluated, which in some cases it is makes it difficult or even impossible to clearly decide whether it is an effect to be measured or an interference effect. j
Es ist schon vorgeschlagen worden, zur Erhöhung der Meßempfindlichkeit vor dem Aufbringen der zu untersuchenden Substanz die Basislinie der Absorptions-Orts-Kurve aufzunehmen und bei der eigentlichen Auswertung die so ermittelten Werte von der Meßkurve abzuziehen. Dies ist möglich, da die Struktur der Trennschicht bei vorsichtigem Arbeiten erhalten bleibt.It has already been proposed to increase the measurement sensitivity record the baseline of the absorption-location curve before applying the substance to be examined and at the actual evaluation, subtract the values determined in this way from the measurement curve. This is possible because of the structure of the separating layer is retained when working carefully.
Die Ausführung dieses Vorschlages ist jedoch umständlich und'erfordert ein sehr genaues Arbeiten.However, the implementation of this proposal is cumbersome and required very precise work.
Es ist nun die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur photometrischen Auswertung von lichtstreuenden Objekten, ins- " besondere von Dünnschicht-Chromatogrammen zu schaffen, das gegenüber den üblichen Verfahren die Meßgenauigkeit und die Nachweisgrenze wesentlich verbessert und das trotzdem eine schnelle Auswertung ermöglicht.It is now the object of the present invention to provide a method for the photometric evaluation of light-scattering objects, ins- " to create special of thin-layer chromatograms, the opposite the measurement accuracy and the detection limit are significantly improved with the usual methods, and this still enables rapid evaluation enables.
Das Verfahren nach der Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß an der gleichen Stelle des auszuwertenden Objektes simultan die diffus reflektierte und die durchgelassene Strahlung gemessen ■ werden und daß zur Auswertung die so erhaltenen beiden SignaleThe method according to the invention is characterized in that at the same point of the object to be evaluated, the diffusely reflected and the transmitted radiation are measured simultaneously ■ and that the two signals obtained in this way are used for evaluation
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addiert werden. Das Summensignal wird dann zweckmäßig mittels eines Schreibers registriert.can be added. The sum signal is then expediently recorded by means of a recorder.
Wie im Zusammenhang mit der Erfindung durchgeführte Untersuchungen zeigen, besteht zwischen der Transmissions- und der Remissions Basislinie auf substanzfreiem lichtstreuendem Untergrund ein enger Zusammenhang. Eine streuungsbedingte Änderung des Remissionsgrades hat eine ebenfalls streuungsbedingte Änderung des Transmissions grades zur Folge und beide Effekte sind in guter Näherung spiegelbildlich zueinander. Bei der erfindungsgemäßen Addition des Remissions- und des Transmissionssignales kompensieren sich daher die streuungsbedingten Signalkomponenten, d.h. die Basislinie der Meßkurve wird begradigt«Such as studies carried out in connection with the invention show, there is a narrow between the transmission and remission baseline on a substance-free, light-scattering background Connection. A variation-related change in the degree of remission also has a variation-related change in the transmission degree and both effects are in good approximation mirror images of each other. In the inventive By adding the remission and transmission signals, the signal components caused by the scattering compensate each other, i.e. the base line of the measurement curve is straightened «
Ist auf der lichtstreuenden Unterlage eine absorbierende Substanz aufgetragen, so wird dadurch sowohl der Remissions- als auch der Transmissionsgrad vermindert. Die substanzspezifische Absorption beeinflußt also Remissions- und Transmissionssignal im gleichen Sinne, so daß durch Addition dieser Signale der zu messende Effekt verstärkt wird.Is an absorbing substance on the light-scattering surface applied, this reduces both the reflectance and the transmittance. The substance-specific So absorption affects the remission and transmission signal in the same sense, so that by adding these signals to the measuring effect is amplified.
Wie ohne weiteres zu sehen ist, bringt das neue Verfahren bei der Auswertung von Dünnschicht-Chromatogrammen den Vorteil mit sich, daß die streuungsbedingte, d.h. substanzunspezifische Abhängigkeit der Lichtstreuung vom Ort der Trennschicht automatisch während der Messung beseitigt wird, während das eigentliche substanzspezifisehe Meßsignal gleichzeitig verstärkt wird.As can be seen without further ado, the new method has the advantage of evaluating thin-layer chromatograms that the scattering-related, i.e. substance-unspecific dependency of the light scattering on the location of the separating layer is automatic is eliminated during the measurement, while the actual substance-specific Measurement signal is amplified at the same time.
Um zu erreichen, daß die streuungsbedingten Remissions- und Transmissionssignale sich bei der Addition möglichst vollständig kompensieren, ist es notwendig, di© Amplituden beider Signale voider Addition auf gleiche Höhe zu bringen. Dies geschieht vorteilhaft dadurch» daß man die Empfindlichkeit eines Emjifängers gegenüber dem anderen herabsetzt. Im allgemeinen wird die Empfindlich^ keit des Transmissionsempfangers herabgesetzt, da dieser die vomIn order to achieve that the scattering-related remission and transmission signals compensate each other as completely as possible during the addition, it is necessary to voider the amplitudes of both signals Bring addition to the same level. This is advantageously done by having the sensitivity of an Emjifänger to belittles the other. In general, the sensitivity of the transmission receiver is reduced because it is the
τ 5 -τ 5 -
09fIff/fflßff09fIff / fflßff
Objekt durchgelassene Meßstrahlung nahezu vollständig erfaßt, •während der Remissionsempfänger das diffus reflektierte Meßlicht nur in einem begrenzten Raumwinkel erfaßt.Measuring radiation transmitted through the object is almost completely recorded, • while the remission receiver detects the diffusely reflected measuring light only in a limited solid angle.
Durch diese Maßnahmen erreicht man, daß sich die von der Trennschicht herrührenden Schwankungen der Basislinie nur noch in Größenordnungen der eigenen elektronischen Instabilität des gesamten Systems bewegen.By these measures one achieves that the of the separating layer resulting fluctuations in the baseline only in the order of magnitude of the own electronic instability of the whole Move the system.
Die Vorrichtung zur Durchführung des neuen Verfahrens ist vorteilhaft so ausgebildet, daß die Meßstrahlung senkrecht auf die Oberfläche des auszuwertenden Objektes auftrifft, daß oberhalb dieser Oberfläche ein erster und unterhalb des Objektes ein zweiter photoelektrischer Empfänger angeordnet ist und daß beide Empfänger mit einer Anordnung zur Addition der Signale verbunden sind. Diese Anordnung steht ihrerseits zweckmäßig mit einem Schreiber in Verbindung, welcher die resultierende Absorptions -Orts-Kurve aufzeichnet.The device for carrying out the new method is advantageous designed so that the measuring radiation impinges perpendicularly on the surface of the object to be evaluated, that above a first photoelectric receiver is arranged on this surface and a second photoelectric receiver is arranged below the object and that both Receivers are connected to an arrangement for adding the signals. This arrangement for its part is expedient a recorder in connection, which the resulting absorption -Location curve is recorded.
Es ist vorteilhaft, die photoelektrischen Empfänger über unabhängig voneinander regelbare Verstärker mit der Additions-Anordnung zu verbinden.It is advantageous to have the photoelectric receiver with the addition arrangement via amplifiers that can be regulated independently of one another connect to.
Zweckmäßig is't es zur Erfassung des remittierten und des transmit tierten Lichtes, Photometerkugeln oder faseroptische Einrichtungen vorzusehen.It is useful to record the remitted and the transmit oriented light, photometer spheres or fiber optic devices to be provided.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Fig. 1-6 der beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Im einzelnen zeigen:The invention is illustrated below with reference to FIGS. 1-6 of the accompanying drawings Drawings explained in more detail. Show in detail:
Fig. 1 eine durch Messung der remittierten Strahlung aufgenommene Abs or pt i ons-Or-1 s-Kur ve eines Dünnschicht-Cnromatogramms sowie die zugehörige Basislinie;1 shows a recorded by measuring the remitted radiation Abs or ptions-Or-1 s curve of a thin-layer chromatogram as well as the associated baseline;
Fig. 2 die durch Messung der transmittierten Strahlung aufgenommene Absorptions-Orts-Kurve desselben Dünnschicht-Chromatogramrns sowie die zugehörige Basislinie;2 shows the radiation recorded by measuring the transmitted radiation Absorption position curve of the same thin-layer chromatogram as well as the associated baseline;
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Pig. 5 eine mit Hilfe des neuen Verfahrens aufgenommene Absorptions-Orts-Kurve sowie die zugehörige· Basislinie; Pig. 5 one recorded with the help of the new procedure Absorption-location curve as well as the associated · baseline;
Fig. 4 den schematischen Aufbau einer Vorrichtung zur Durchführung des neuen Verfahrens;4 shows the schematic structure of a device for implementation of the new procedure;
Fig. 5 ein Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung, bei welchem zur integralen Erfassung der Strahlung Photometerkugeln vorgesehen sind;Fig. 5 shows an embodiment of a device in which photometer spheres are provided for the integral detection of the radiation;
Fig. 6 ein weiteres Ausführungsbeispiel der Vorrichtung, bei fc welchem faseroptische Einrichtungen zur Zuführung des Meßlichtes sowie zur Erfassung der remittierten und der transmittierten Strahlung vorgesehen sind.6 shows a further exemplary embodiment of the device, in which fiber-optic devices for supplying the Measuring light and for detecting the reflected and transmitted radiation are provided.
In Fig. 1 ist mit 1 eine Absorptions-Orts-Kurve bezeichnet, die durch Registrierung der remittierten Strahlung bei der Auswertung eines Dünnschicht-Chromatogramms erhalten wurde. Wie man erkennt, ist dem zu messenden Effekt eine in Abhängigkeit vom Ort an der Trennschicht unterschiedliche Lichtstreuung überlagert.In Fig. 1, 1 denotes an absorption-location curve which was obtained by registering the remitted radiation when evaluating a thin-layer chromatogram. How to see If the effect to be measured is superimposed, depending on the location at the separating layer, different light scattering is superimposed.
Die zur Kurve 1 gehörende Basislinie ist mit 2 bezeichnet. Diese Basislinie ist sehr ungleichmäßig und es macht bei der Auswertung große Schwierigkeiten, die schraffiert .eingezeichnete Fläche mit » genügender Genauigkeit zu bestimmen.The baseline belonging to curve 1 is denoted by 2. This baseline is very uneven and it makes sense when evaluating great difficulty in determining the hatched .drawn area with sufficient accuracy.
Wertet man dasselbe Dünnschicht-Chromatogramm dessen durch Remissions· messung gewonnene Absorptions-Orts-Kurve in Fig. 1 dargestellt ist in Transmission aus, so erhält man die in Fig. 2 mit I1 bezeichnete Absorptions-Orts-Kurve. Die zugehörige Basislinie ist mit 2' bezeichnet. If one evaluates the same thin-layer chromatogram whose absorption-location curve obtained by reflectance measurement is shown in FIG. 1 in transmission, then one obtains the absorption-location curve designated by I 1 in FIG. 2. The associated baseline is denoted by 2 '.
Wie eine vergleichende Betrachtung der Fig. 1 und 2 zeigt, sind die auf nichtsubstanzbedingte Effekte zurückgehenden Basislinien 2 und 2' in etwa spiegelbildlich zueinander. Die substanz-As a comparative consideration of FIGS. 1 and 2 shows, these are baselines which are due to non-substance-related effects 2 and 2 'are roughly mirror images of one another. The substance-
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spezifische Absorption dagegen beeinflußt die Kurven 1 und 1' im gleichen Sinne.specific absorption, on the other hand, affects curves 1 and 1 'im same sense.
Gemäß der Erfindung wird nun zur Bestimmung der Absorptions-Orts-Kurve eine Vorrichtung verwendet, wie sie schematisch in Pig. 4 dargestellt ist. Das von einer Lichtquelle 3 ausgehende Licht wird im Monochromator 4 monochramatisiert und fällt über den Umlenkspiegel 5 auf das mit 6 bezeichnete Dünnschicht-Chromatogramm, Das Meßlicht trifft unter einem Winkel von O Grad zur Flächennormale auf die Trennschicht des Chromatogramms 6 auf. Mittels des photoelektrischen Empfängers 7 wird die diffus remittierte Strahlung gemessen, während gleichzeitig der Empfänger 8 die transmittierte Strahlung mißt. Das vom Empfänger 7 erzeugte Signal wird im Verstärker 9 verstärkt und einer Addierstufe 11 zugeführt. Dieser wird auch das Signal des Empfängers 8 nach Verstärkung im Verstärker 10 zugeführt. Die beiden Verstärker 9 und IO sind vorzugsweise unabhängig voneinander regelbar, so daß die Amplituden der substanzunspezifischen Signale auf gleiche Höhe gebracht weiden können. Das in der Anordnung 11 erzeugte Additionssignal gelangt zum Schreiber 12.According to the invention, the absorption-location curve is now determined used a device as shown schematically in Pig. 4 is shown. The light emanating from a light source 3 is monochromatized in the monochromator 4 and falls via the deflecting mirror 5 onto the thin-layer chromatogram labeled 6, The measuring light hits at an angle of 0 degrees to the surface normal on the separating layer of the chromatogram 6. By means of the photoelectric receiver 7, the diffusely remitted radiation measured while at the same time the receiver 8 transmitted the Measures radiation. The signal generated by the receiver 7 is amplified in the amplifier 9 and fed to an adder 11. This is also fed the signal from the receiver 8 after amplification in the amplifier 10. The two amplifiers 9 and IO can preferably be regulated independently of one another, so that the amplitudes of the substance-unspecific signals are the same Brought up to graze. The addition signal generated in the arrangement 11 reaches the writer 12.
Die vom Schreiber 12 registrierte Absorptions-Orts-Kurve 13 ist in Pig. 3 dargestellt. Die zu dieser Kurve gehörende Basislinie ist ebenfalls in Fig. 3 dargestellt und ist dort mit 14 bezeichnet. Wie man erkennt, ist jetzt die Basislinie so weit eingeebnet, daß die von Ungleichmäßigkeiten der Trennschicht herrührenden Schwankungen nur noch in der Größenordnung der eigenen elektronischen Instabilität des gesamten Systems liegen. Die Auswertung der Kurve 13 ist jetzt verhältnismäßig einfach und kann vor allem mit großer Genauigkeit vorgenommen werden.The absorption-location curve 13 registered by the recorder 12 is in FIG Pig. 3 shown. The baseline belonging to this curve is also shown in FIG. 3 and is designated 14 there. As you can see, the baseline has now been leveled to such an extent that the fluctuations resulting from the unevenness of the separating layer are only of the order of magnitude of their own electronic ones Instability of the entire system. The evaluation of curve 13 is now relatively simple and, above all, it can can be made with great accuracy.
Wie ohne weiteres einzusehen ist, läßt sich mit dem neuen Verfahren auch die Nachweisgrenze verbessern, da die Aussehläge der Meßkurye soweit sie für eine Auswertung in Betracht kommen, nur noch auf substanzspezifische Effekte zurückzuführen sind.As can be seen without further ado, the new method also improve the detection limit, since the failures of the Measurement panels, as far as they come into consideration for an evaluation, can only be traced back to substance-specific effects.
Bei dem in Fig. 5 dargestellten Ausführungsbeispiel ist oberhalbIn the embodiment shown in Fig. 5 is above
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der Chromatogrammplatte 6 eine Photοmeterkugel 15 angeordnet, welche eine öffnung 16 zum Durchtritt der Meßstrahlung 17 enthält. Die von der Trennschicht der Platte 6 diffus reflektierte Strahlung gelangt gegebenenfalls nach mehrfacher Reflexion an der Photometerkugel 15 zum photoelektrischen Empfänger 18. Unterhalb der Platte ist eine weitere Photometerkugel I9 angeordnet, welche den photoelektrischen Empfänger 20 enthält. Die durch die Trennschicht der Chromatogrammplatte 6 tretende Strahlung gelangt gegebenenfalls nach mehrfacher Reflexion an der Photometerkugel I9 zum Empfänger 20.the chromatogram plate 6 a photometer sphere 15 is arranged, which contains an opening 16 for the measuring radiation 17 to pass through. The radiation diffusely reflected from the separating layer of the plate 6 If necessary, after multiple reflections on the photometer sphere 15, it arrives at the photoelectric receiver 18 below the plate is another photometer ball I9 arranged, which the photoelectric Contains receiver 20. The radiation passing through the separating layer of the chromatogram plate 6 may pass after multiple reflections on the photometer ball I9 to the receiver 20th
Bei dem in Fig. 5 gezeigten Ausführungsbeispiel gelingt es sowohl die remittierte als auch die transmittierte Strahlung weitegehend integral zu erfassen. Dadurch wird die Meßgenauigkeit gegenüber einer einfachen Vorrichtung noch erhöht.In the embodiment shown in FIG. 5, both the remitted as well as the transmitted radiation to a large extent to be recorded integrally. As a result, the measurement accuracy is increased even further compared to a simple device.
In Fig. 6 1st mit 6 wiederum eine Chromatogrammplatte bezeichnet. Die Meßstrahlung I7 wird über ein Glasfaserbündel 21 zu der auszuwertenden Stelle der Platte 6 geleitet. Das Bündel 21 ist an dieser Stelle geteilt und das Teilbündel 21' leitet das diffus remittierte Licht zu der mit 22 bezeichneten photoelektrischen Zelle. Unterhalb der Auftreffstelle des Meßlichtes I7 ist ein weiteres Glasfaserbündel 2J angeordnet, welches die transmittierte Strahlung erfaßt und zum photoelektrischen Empfänger 24 leitet. Es ist auch möglich, die hier dargestellte Vorrichtung so abzuwandeln, daß nur meßseitig Glasfaserbündel zur Lichtleitung vorgesehen sind.In FIG. 6, 6 again denotes a chromatogram plate. The measuring radiation I7 is to be evaluated via a glass fiber bundle 21 Place of the plate 6 passed. The bundle 21 is divided at this point and the partial bundle 21 'conducts this diffusely remitted light to the photoelectric cell labeled 22. Below the point of impact of the measuring light I7 is a another fiber optic bundle 2J arranged, which transmitted the Radiation is detected and passed to the photoelectric receiver 24. It is also possible to use the device shown here to be modified in such a way that only on the measuring side fiber optic bundles for light conduction are provided.
Bei dem in Fig. 4 dargestellten Ausführungsbeiopiel ist es auch möglich, auf die beiden Verstärker 9 und 10 zu verzichten. In diesem Fall wird die Empfindlichkeit des Transmissionsempfängers 8 so weit herabgesetzt, daß die von den beiden Empfängern 7 und 8 gelieferten substanzunspezifischen Signale gleiche Amplituden aufweisen. Die Verstärkung der Signale kann in diesem Fall nach erfolgter Addition vorgenommen werden.In the case of the exemplary embodiment shown in FIG. 4, it is also possible to do without the two amplifiers 9 and 10. In this case, the sensitivity of the transmission receiver 8 reduced so far that the substance-unspecific signals supplied by the two receivers 7 and 8 have the same amplitudes exhibit. In this case, the signals can be amplified after the addition has taken place.
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Bei dem neuen Verfahren ergeben sich Eichkurven., die zumindest Im Bereich geringer Swbstanzmengen nahezu linear sind* Das neue Verfahren findet deshalb besonders zweckmäßige Anwendung zur Auswertung von Dünnschicht-Chromatogrammen, bei denen nur sehr geringe Substanzmengen zur Verfügung stehen.The new method results in calibration curves that are almost linear, at least in the range of small amounts of substance.
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999047914A1 (en) * | 1998-03-14 | 1999-09-23 | Bernd Spangenberg | Thin-layer chromatography apparatus |
| EP2533032A1 (en) * | 2011-06-09 | 2012-12-12 | Carl Zeiss Microscopy GmbH | Measuring method and device for determining transmission and/or reflection characteristics |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5123795A (en) * | 1974-08-21 | 1976-02-25 | Shimadzu Corp | |
| US4012144A (en) * | 1975-08-07 | 1977-03-15 | Varian Associates | Spectrosorptance measuring system and method |
| US4052615A (en) * | 1976-07-30 | 1977-10-04 | Industrial Nucleonics Corporation | Spherical cavity method and apparatus for measuring a sheet material property using infrared radiation |
| US4120582A (en) * | 1976-10-27 | 1978-10-17 | Donnelly Mirrors, Inc. | Light reflectivity and transmission testing apparatus and method |
| US4171909A (en) * | 1977-03-25 | 1979-10-23 | Miles Laboratories, Inc. | Apparatus for measuring light intensities |
| DE2751365B2 (en) * | 1977-11-17 | 1979-12-06 | Diamant Test Gesellschaft Fuer Edelsteinpruefungen Mbh, 5000 Koeln | Device for measuring the absorption of a sample |
| DE2757196C3 (en) * | 1977-12-22 | 1981-11-26 | Vladimir Dr.-Ing. 5100 Aachen Blazek | Photometric arrangement |
| US4199260A (en) * | 1978-08-21 | 1980-04-22 | Technicon Instruments Corporation | Apparatus and method for determining the concentration in a sample |
| DE3005923A1 (en) * | 1980-02-16 | 1981-09-03 | Compur-Electronic GmbH, 8000 München | PHOTOMETRIC METHOD AND PHOTOMETRIC DEVICE FOR DETERMINING REACTION PROCESSES |
| JPS58162038A (en) * | 1982-03-23 | 1983-09-26 | Canon Inc | Pattern defect detection apparatus |
| DE3213533A1 (en) * | 1982-04-10 | 1983-10-20 | Bruker Analytische Meßtechnik GmbH, 7512 Rheinstetten | INFRARED SPECTROMETER |
| US4591271A (en) * | 1983-03-21 | 1986-05-27 | Byers Donald W | Method and apparatus for coating detection and surface evaluation |
| JPS62270079A (en) * | 1986-05-19 | 1987-11-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Case inspection method for floppy disk |
| JPS6332338A (en) * | 1986-07-26 | 1988-02-12 | Hitachi Ltd | Optical characteristic measuring instrument |
| US4937637A (en) * | 1989-02-10 | 1990-06-26 | Kollmorgen Corporation | Dual reading head transmission/reflection densitometer |
| US5196906A (en) * | 1990-06-29 | 1993-03-23 | Tma Technologies, Inc. | Modular scatterometer with interchangeable scanning heads |
| US5717216A (en) * | 1996-10-16 | 1998-02-10 | Reynolds Metals Company | Thickness gauging using ultraviolet light absorption |
| US10197496B2 (en) * | 2015-06-23 | 2019-02-05 | Empire Technology Development Llc | Real-time monitoring of material composition for quality control |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2632855A (en) * | 1947-10-07 | 1953-03-24 | Westinghouse Electric Corp | Photoelectric speed control |
| US2718597A (en) * | 1951-11-01 | 1955-09-20 | Exxon Research Engineering Co | Infrared analysis apparatus |
| US2834247A (en) * | 1955-01-26 | 1958-05-13 | Beckman Instruments Inc | Optical density analyzing apparatus |
| US2930898A (en) * | 1956-09-11 | 1960-03-29 | W D Engineering Co Ltd | Cathode ray tube apparatus for the inspection of articles |
| GB1024734A (en) * | 1963-05-06 | 1966-04-06 | British Petroleum Co | Improvements relating to the detection of solid particles suspended in liquid |
| US3504978A (en) * | 1965-02-04 | 1970-04-07 | Shimadzu Corp | Plural beam spectrophotometer with a diffusion plate between each cell and detector |
| US3504983A (en) * | 1966-05-31 | 1970-04-07 | Nasa | Ellipsoidal mirror reflectometer including means for averaging the radiation reflected from the sample |
| US3567328A (en) * | 1966-06-02 | 1971-03-02 | Vernon T Riley | Specimen transport mount for spectrophotometer |
| US3566083A (en) * | 1967-10-16 | 1971-02-23 | Measurement Research Center In | Sensor for punches and marks |
| US3618061A (en) * | 1969-04-30 | 1971-11-02 | Eaton Yale & Towne | Monitoring apparatus for monitoring the density of a material carried by a fluid and the flow of the fluid |
-
1970
- 1970-09-30 DE DE2047952A patent/DE2047952C3/en not_active Expired
-
1971
- 1971-09-20 GB GB4370071A patent/GB1328734A/en not_active Expired
- 1971-09-28 US US00184416A patent/US3746869A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999047914A1 (en) * | 1998-03-14 | 1999-09-23 | Bernd Spangenberg | Thin-layer chromatography apparatus |
| US6485687B1 (en) | 1998-03-14 | 2002-11-26 | Bernd Spangenberg | Thin-layer chromatography apparatus |
| EP2533032A1 (en) * | 2011-06-09 | 2012-12-12 | Carl Zeiss Microscopy GmbH | Measuring method and device for determining transmission and/or reflection characteristics |
| US8970830B2 (en) | 2011-06-09 | 2015-03-03 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Measuring method and device for determining transmission and/or reflection properties |
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