DE20321217U1 - Funktionales Objekt mit einer dreidimensionalen Nanostruktur - Google Patents
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Abstract
Funktionales
Objekt, insbesondere Sensor für
die Rastersondenmikroskopie, mit einer Mikrostruktur (15) sowie
einer auf der Mikrostruktur (15) angeordneten Nanostruktur (19),
die mittels eines Energie- und/oder Materiestrahls, insbesondere
eines Elektronenstrahls oder eines Ionenstrahls, in einem additiven und/oder
subtraktiven Verfahren auf der Mikrostruktur (15) ausgebildet ist,
dadurch gekennzeichnet, dass die Nanostruktur (19) zylinderförmig ausgebildet
ist.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein funktionales Objekt mit einer dreidimensionalen Nanostruktur, insbesondere einen Sensor für die Rastersondenmikroskopie.
- Derartige funktionale Objekte weisen, je nach Einsatzzweck, bestimmte mechanische, elektronische oder optische Eigenschaften sowie eine definierte geometrische Struktur im Nanometerbereich auf und werden beispielsweise in der Rastersondenmikroskopie als Sensoren und/oder Werkzeuge eingesetzt.
- Üblicherweise wird zur Herstellung einer derartigen Nanostruktur ein Substrat mit einer konventionell gearbeiteten Struktur im Mikrometerbereich verwendet. Die Bearbeitung der Mikrostruktur erfolgt dann in einem additiven oder subtraktiven Verfahren, wobei häufig ein feinfokussierter Energie- oder Materiestrahl zum Abscheiden oder Abtragen von Material verwendet wird. Aufgrund der Größenverhältnisse erfolgt die Bearbeitung des Substrats unter einem Mikroskop, insbesondere unter einem Rasterelektronenmikroskop.
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein vorteilhaftes funktionales Objekt der eingangs genannten Art, insbesondere einen Sensor für die Rastersondenmikroskopie, zu realisieren.
- Diese Aufgabe wird gelöst durch ein funktionales Objekt nach Anspruch 1.
- Die Mikrostruktur wird in einer oder mehreren Sequenzen mittels eines Energie- und Materiestrahls bearbeitet werden. Hierbei können die gängigen additiven und/oder subtraktiven Verfahren in einem oder mehreren Schritten zur Ausbildung einer definierten Nanostruktur angewandt werden. Je nach Verfahren eignet sich hierzu insbesondere ein Elektronen- oder ein Ionenstrahl.
- Weiterhin vorteilhaft ist es, wenn das Substrat ein kostengünstiger, industriell hergestellter Wafer mit einer Vielzahl vorgefertigter Mikrostrukturen ist. Dieser kann aus Metall und/oder metallischen und/oder metallorganischen und/oder organischen Verbindungen, wie beispielsweise Polymeren, bestehen.
- Je nach den gewünschten elektrischen Eigenschaften kann als Substrat ein Wafer verwendet werden, der aus isolierenden Materialien, z.B. SiO2, Si3N4, halbleitenden Materialien, z.B. Si, GaAs oder leitenden Materialien, z.B. Metallen, wie Pt, Au besteht.
- Prinzipiell können zur Bearbeitung der Mikrostruktur alle bekannten Verfahren eingesetzt werden. Vorteilhafterweise werden jedoch bewährte additive Verfahren, wie beispielsweise die Elektronenstrahldeposition oder Ionenstrahldeposition oder subtraktive Verfahren, wie beispielsweise chemische oder physikalische Ätzverfahren eingesetzt.
- Besonders vorteilhaft dienen die Sensoren zur Verwendung in der Rastersondenmikroskopie. Hierzu kann als Substrat ein Wafer mit einer Vielzahl von Mikrostrukturen, welche als Träger für eine Sonde oder Werkzeug ausgebildet sind, verwendet werden. Derartige Wafer sind im Handel kostengünstig erhältlich und umfassen beispielsweise einige hundert derartiger Träger. Der Träger kann einen Ausleger umfassen und die Nanostruktur, also insbesondere eine Sonde und/oder Werkzeug, kann an einem genau definierten Ort des Auslegers ausgebildet werden.
- Bei den handelsüblichen Wafern weisen die Ausleger häufig eine pyramidenförmige oder kegelförmige oder eine sonstige Erhebung auf, die ebenfalls Abmessungen im Mikrometerbereich aufweisen. Bei der Herstellung der Sonde kommt es nun darauf an, dass die Sonde an einem genau definierten Ort der Erhebung ausgebildet wird. Dieser Ort kann eine Ecke oder Spitze oder ein definierter Ort an einer Kante oder Fläche der Erhebung sein.
- Häufig ist die Erhebung am Ausleger eine Pyramide, bei der die Spitze in etwa über dem Mittelpunkt der Grundfläche angeordnet ist.
- Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Sonde unter einem definierten Winkel, beispielsweise 70° bis 85°, bezüglich der Grundfläche der Erhebung stabförmig, mit einem gleichbleibenden Querschnitt ausgebildet ist.
- Die Erfindung wird im folgenden anhand der Figuren näher erläutert. Es zeigen:
-
1 einen Wafer in einer Schrägansicht mit einer Vielzahl von darauf angeordneten, gegenüber dem Wafer gekippt dargestellten, Mikrostrukturen; -
2 und3 eine vergrößerte Darstellung einer Mikrostruktur in Seitenansicht und in Aufsicht, sowie -
4 und5 eine Mikrostruktur mit einer aufgebrachten Nanostruktur in Seitenansicht und in Aufsicht. -
1 zeigt ein Substrat1 in Schrägansicht mit einem Feld13 mit mehreren in Reihen14 angeordneten Mikrostrukturen15 . Eine Reihe14 ist beispielhaft vergrößert dargestellt. Die Mikrostrukturen15 , hier in Seitenansicht dargestellt, sind als Träger für eine Sonde und/oder ein Werkzeug zur Verwendung in der Rastersondenmikroskopie ausgeführt. Die Mikrostrukturen15 sind dabei regelmäßig angeordnet. So ist es möglich, die Positionierung einer Mikrostruktur15 bezüglich eines Energie- oder Materiestrahls aufgrund einer Analyse der Umrisse des Feldes13 oder einer oder mehrerer Reihen14 durchzuführen. -
2 zeigt eine vergrößerte Seitenansicht einer Mikrostruktur15 , die als Träger für eine Sonde ausgebildet ist und einen Ausleger16 sowie eine pyramidenförmige Erhebung17 umfasst. -
3 zeigt dieselbe Mikrostruktur15 in Aufsicht. Bei der Erhebung17 handelt es sich um eine vierseitige reguläre Pyramide. Die vier Kanten der Pyramiden bilden senkrecht von oben gesehen ein Muster18 aus vier Linien, welche einen Öffnungswinkel von 90° aufweisen und in einem Punkt, der die Pyramidenspitze in der Bildebene definiert, zusammenlaufen. Bei einer Betrachtung schräg von oben gesehen wäre ebenfalls ein Muster18 bestehend aus vier Linien sichtbar, welche in einem gemeinsamen Punkt zusammenlaufen. Allerdings würden sich unterschiedliche Öffnungswinkel ergeben. Analog gilt dies auch für eine alternativ verwendbare dreiseitige Pyramide17 . -
4 zeigt eine Seitenansicht desselben Trägers mit einer exakt an der Spitze der Pyramide17 ausgebildeten Nanostruktur19 . Die Nanostruktur19 ist als Sonde zum Einsatz in der Rastersondenmikroskopie ausgebildet. Sie ist senkrecht zur Grundfläche der Pyramide17 angeordnet und weist im Verhältnis zu ihrem Querschnitt eine große Höhe auf. Alternativ könnte die Sonde in einem anderen Winkel zur Grundfläche der Pyramide17 ausgebildet werden. -
5 zeigt denselben Ausleger16 mit der aufgebrachten Nanostruktur19 aus einer axialen Perspektive. Der Begriff „axiale Perspektive" bezieht sich auf die Achse der stabförmigen Nanostruktur19 und ist in dem dargestellten Beispiel wegen der senkrechten Anordnung der Sonde gleichbedeutend mit einer Aufsicht. Aus dieser Perspektive ist die Nanostruktur19 als geometrisches Muster20 erkennbar, wobei das Muster20 dem Querschnitt der senkrecht angeordneten Nanostruktur19 entspricht. Wie hier beispielsweise dargestellt, erscheint eine zylinderförmige Nanostruktur19 als Kreis20 . Der Mittelpunkt des Kreises20 liegt dabei am gemeinsamen Punkt der vier Linien des Musters18 .
Claims (9)
- Funktionales Objekt, insbesondere Sensor für die Rastersondenmikroskopie, mit einer Mikrostruktur (
15 ) sowie einer auf der Mikrostruktur (15 ) angeordneten Nanostruktur (19 ), die mittels eines Energie- und/oder Materiestrahls, insbesondere eines Elektronenstrahls oder eines Ionenstrahls, in einem additiven und/oder subtraktiven Verfahren auf der Mikrostruktur (15 ) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Nanostruktur (19 ) zylinderförmig ausgebildet ist. - Funktionales Objekt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostruktur (
15 ) in wenigstens einer Bearbeitungssequenz additiv durch Elektronenstrahldeposition oder Ionenstrahldeposition bearbeitet ist. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostruktur (
15 ) in wenigstens einer Bearbeitungssequenz subtraktiv durch ein chemisches oder physikalisches Ätzverfahren bearbeitet ist. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nanostruktur (
19 ) an einem definierten Ort der Mikrostruktur (15 ), insbesondere an einem Träger mit einem Ausleger (16 ), als Sonde und/oder Werkzeug zur Verwendung insbesondere in einem Rastersondenmikroskop ausgebildet ist. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Ausleger (
16 ) eine pyramidenförmige oder kegelförmige oder sonstige Erhebung (17 ) aufweist und die Sonde (19 ) an einer Ecke oder Spitze oder an einem definierten Ort an einer Kante oder Fläche der Erhebung (17 ) ausgebildet ist. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Erhebung (
17 ) eine zumindest näherungsweise reguläre, insbesondere drei- oder vierseitige Pyramide ist und durch eine Erkennung der durch ihre Kanten gebildeten Muster in einem senkrecht oder schräg von oben aufgenommenen Lagebild der Ort der Pyramidenspitze bestimmbar ist, um die Sonde an der Pyramidenspitze auszubilden. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sonde (
19 ) mit einem definierten Winkel, beispielsweise 70° bis 85°, bezüglich der Grundfläche der Mikrostruktur (15 ) an dieser stabförmig, mit einem im wesentlichen gleichbleibenden Querschnitt, ausgebildet ist. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nanostruktur (
19 ) senkrecht zur Grundfläche der Pyramide (17 ) angeordnet ist. - Funktionales Objekt nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nanostruktur (
19 ) im Verhältnis zu ihrem Querschnitt eine große Höhe aufweist.
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---|---|---|---|
DE20321217U DE20321217U1 (de) | 2003-05-16 | 2003-05-16 | Funktionales Objekt mit einer dreidimensionalen Nanostruktur |
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DE10322005.4A DE10322005B4 (de) | 2003-05-16 | 2003-05-16 | Verfahren zur automatisierten Herstellung funktionaler Objekte mit einer dreidimensionalen Nanostruktur sowie Vorrichtung und Bildanalysemittel zur Durchführung des Verfahrens |
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Family Applications (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8164071B2 (en) | 2008-09-30 | 2012-04-24 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Electron beam source and method of manufacturing the same |
US8536773B2 (en) | 2011-03-30 | 2013-09-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Electron beam source and method of manufacturing the same |
-
2003
- 2003-05-16 DE DE20321217U patent/DE20321217U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8164071B2 (en) | 2008-09-30 | 2012-04-24 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Electron beam source and method of manufacturing the same |
US8723138B2 (en) | 2008-09-30 | 2014-05-13 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Electron beam source and method of manufacturing the same |
US8536773B2 (en) | 2011-03-30 | 2013-09-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Electron beam source and method of manufacturing the same |
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R207 | Utility model specification |
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R150 | Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years |
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