DE20316241U1 - Illumination implement for circuit structure manufacture on circuit board, using photomask exposing circuit structure image on circuit board, in which illumination member is formed by number of punctiform light sources on support plate - Google Patents
Illumination implement for circuit structure manufacture on circuit board, using photomask exposing circuit structure image on circuit board, in which illumination member is formed by number of punctiform light sources on support plate Download PDFInfo
- Publication number
- DE20316241U1 DE20316241U1 DE20316241U DE20316241U DE20316241U1 DE 20316241 U1 DE20316241 U1 DE 20316241U1 DE 20316241 U DE20316241 U DE 20316241U DE 20316241 U DE20316241 U DE 20316241U DE 20316241 U1 DE20316241 U1 DE 20316241U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- light source
- circuit board
- exposure device
- exposure
- designed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/7005—Production of exposure light, i.e. light sources by multiple sources, e.g. light-emitting diodes [LED] or light source arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Belichtungsvorrichtung für eine Schaltungsplatte, bei der zur Erzeugung einer Schaltungsstruktur die Schaltungsplatte mit einem Belichtungsmittel über eine die Schaltungsstruktur auf die Schaltungsplatte abbildende Fotomaske belichtbar ist.The invention relates to an exposure device for one Circuit board used to create a circuit structure the circuit board with an exposure agent over a the circuit structure on the circuit board imaging photomask is exposed.
Bei der Erzeugung von Schaltungsstrukturen auf Schaltungsplatten wird nach einem gängigen Verfahren ein Schaltungsmuster durch Belichtung einer lichtempfindlichen Schicht, dem Fotoresist, die auf einem mit einer leitfähigen Beschichtung versehenen Plattenrohling aufgetragen ist, über eine Fotovorlage der Schaltung, die Fotomaske, übertragen. Durch die Belichtung wird die Beschaffenheit des Resists so verändert, dass die belichteten und unbelichteten Strukturen unterschiedlich von einer Entwicklerflüssigkeit lösbar sind. Im Falle von Leiterplatten werden Kupfer-Leiterbahnen auf einem kupferbeschichteten Leiterplattenrohling in nachfolgenden Schritten durch Ätz- und Waschvorgänge freigelegt. Vergleichbare Verfahren, bei denen ein fotoempfindliches Material belichtet wird, werden auch in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Wafern, beispielsweise Siliziumscheiben auf denen ein Verbund von Mikrochips angeordnet ist, eingesetzt. Unter Schaltungsplatten werden im Folgenden sowohl Leiterplatten als auch Wafer verstanden. Für die Belichtung der Schaltungsplatten wird ein Belichtungsmittel mit bestimmten auf das lichtempfindliche Material abgestimmten erforderlichen Strahlungseigenschaften bzgl. Wellenlänge und Intensität eingesetzt. Die herkömmlichen Belichtungsmittel sind Temperaturstrahler mit einem erhitzbaren Festkörper (Glühwendel) oder Gasentladungslampen, mit anregbaren Gasen als leuchtendem Medium, und mit einer nachgeschalteten Optik, die eine parallele Abstrahlung in Richtung der Fotomaske erzeugt. Dabei kommt es besonders auf eine möglichst homogene Ausleuchtung über die gesamte zu beleuchtende Fläche an.When generating circuit structures Circuit boards become a circuit pattern according to a common method by exposing a light-sensitive layer, the photoresist, the one on a conductive Coated plate blank is applied over a Transfer the photo template of the circuit, the photo mask. By exposure the nature of the resist is changed so that the exposed and unexposed structures different from a developer liquid solvable are. In the case of printed circuit boards, copper conductor tracks are opened a copper-coated circuit board blank in subsequent steps by etching and washes exposed. Comparable procedures in which a photosensitive Material is also exposed in the semiconductor industry for the production of wafers, for example silicon wafers which a composite of microchips is arranged used. Under circuit boards Both PCBs and wafers are understood below. For the Exposure of the circuit boards is using an exposure means certain required to match the photosensitive material Radiation properties used with regard to wavelength and intensity. The conventional Exposure means are temperature radiators with a heatable solid (Filament) or Gas discharge lamps, with stimulable gases as a luminous medium, and with a downstream optics that have a parallel radiation generated in the direction of the photo mask. It comes up particularly one if possible homogeneous illumination over the entire area to be illuminated on.
Für den Belichtungsvorgang des Rohlings über die Fotomaske kommen in der industriellen Leiterplattenfertigung Belichtungsautomaten zum Einsatz. Dies sind Belichtungsvorrichtungen, kurz Belichter genannt, die eine Einlaufsektion mit einem Förderer zum fortlaufenden Einbringen der Rohlinge, eine Belichtungssektion mit einem Rahmen, der die Fotomasken jeweils aufnimmt und nach einer Ausrichtung an den Rohlingen zum Anliegen bringt und die über ein Belichtungsmittel, beispielsweise eine Quecksilberdampflampe mit einer Optik, einen anschließenden Belichtungsvorgang durchführt sowie eine Auslaufsektion zum Befördern der belichteten Platten in eine Ablageeinrichtung, aufweisen. Derartige Belichtungsvorrichtungen sind in verschiedenen Ausführungen bekannt und haben sich prinzipiell bewährt. Durch den hohen Rationalisierungsdruck bei den Schaltungsplattenherstellern steigen jedoch die Anforderungen nach möglichst kostengünstigen und servicefreundlichen Belichtungsautomaten.For the exposure process of the blank come in through the photo mask of industrial printed circuit board production Commitment. These are exposure devices, called exposure units for short, which has an inlet section with a conveyor for continuous feeding the blanks, an exposure section with a frame that holds the photomasks each takes and after alignment on the blanks to Concerns and the over an exposure agent, for example a mercury vapor lamp with an optic, a subsequent one Performs exposure process and a discharge section for conveying the exposed plates in a storage device. Such exposure devices are in different versions known and have proven themselves in principle. Due to the high pressure to rationalize However, the demands on circuit board manufacturers are increasing after if possible inexpensive and service-friendly exposure machines.
Demgegenüber wirkt sich bei den bekannten Belichtungsvorrichtungen nachteilig aus, dass die verwendeten Lichtquellen eine in Kosten und Konstruktion aufwendige Optik benötigen. Zudem steigen die Kosten für die Optik mit zunehmender Größe der zu belichteten Fläche und mit zunehmenden Anforderungen an die Homogenität der Abstrahlung überproportional an. Weiterhin haben die bekannten Belichtungsvorrichtungen einen hohen Energieverbrauch sowie eine relativ geringe Lebensdauer der Lichtquellen.This is in contrast to the known exposure devices disadvantageous from the fact that the light sources used cost one and construction require complex optics. In addition, the costs increase for the Optics with increasing size of the exposed area and with increasing demands on the homogeneity of the radiation disproportionately on. Furthermore, the known exposure devices have one high energy consumption and a relatively short lifespan of the light sources.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, die bekannten Belichtungsvorrichtungen für Schaltungsplatten so zu verbessern, dass sie kostengünstiger in der Konstruktion, in der Anwendung und im Service sind.Object of the present invention is therefore the known exposure devices for circuit boards to improve so that they are less expensive to construct, are in use and service.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß in Verbindung mit dem Oberbegriff des Anspruches 1 dadurch gelöst, dass das Belichtungsmittel als eine aus einer Mehrzahl von auf einer Trägerplatte angeordneten, punktförmigen Lichtquellen bestehende Lichtquellenanordnung ausgebildet ist.This object is combined in accordance with the invention solved with the preamble of claim 1 in that the exposure means as one of a plurality of point-shaped light sources arranged on a carrier plate existing light source arrangement is formed.
Unter punktförmigen Lichtquellen sollen Lichtquellen verstanden werden, deren abstrahlende Flächen gegenüber den zu belichtenden Schaltungsplatten klein sind.Under point light sources are supposed to be light sources are understood, their radiating surfaces compared to the circuit boards to be exposed are small.
Dadurch, dass das Belichtungsmittel als eine Lichtquellenanordnung aus punktförmigen Lichtquellen ausgebildet ist, sind keine aufwendigen Optiken, beispielsweise Spiegel und Integratoren wie bei den bisher üblichen Lampen oder Strahlern notwendig. Aufwendige Justierarbeiten der sonst notwendigen Optik entfallen. Es ist auch kein konstruktiv aufwendiges und bauraumbeanspruchendes Lampenhaus für die Lichtquelle notwendig. Insgesamt werden Herstellungs- und Betriebskosten gespart und der komplette Belichter erhält eine kleinere kompaktere Bauform.Because the exposure agent formed as a light source arrangement from punctiform light sources is, are not complex optics, such as mirrors and Integrators like the usual ones Lamps or spotlights necessary. Elaborate adjustment work of the otherwise necessary optics are omitted. It is also not a constructive one complex and space-consuming lamp house for the light source necessary. Overall, manufacturing and operating costs are saved and the complete imagesetter receives a smaller, more compact design.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Lichtquellenanordnung als ein Lichtquellenfeld ausgebildet.According to a preferred embodiment of the The invention is the light source arrangement as a light source array educated.
Dadurch, dass die Lichtquellenanordnung als ein Lichtquellenfeld ausgebildet ist, kann die komplette Belichtungsfläche, d.h. die gesamte Oberfläche der Schaltungsplatte, in einem Arbeitsgang, ohne zusätzliche Optiken, belichtet werden. Dies ermöglicht einen hohen Stückzahldurchsatz (belichtete Platten /pro Zeiteinheit) in einem Belichtungsautomaten. Das Licht quellenfeld kann für beliebige Schaltungsplattengrößen (Losgrößen) ausgelegt werden. Dabei steigen im Gegensatz zu den bisher nötigen Optiken die Kosten für größere Schaltungsplatten mit zunehmender Fläche nur gering an, so dass das Lichtquellenfeld für jede Schaltungsplattengröße besonders kostengünstig ist.The fact that the light source arrangement as a light source field is formed, the complete exposure area, i.e. the entire surface the circuit board, in one operation, without additional Optics, are exposed. This enables a high volume throughput (exposed plates / per unit of time) in an exposure machine. The light source field can be used for any circuit board sizes (lot sizes) become. In contrast to the optics previously required, this increases the price for larger circuit boards with increasing area only slightly so that the light source field is special for every circuit board size economical is.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Lichtquellenanordnung als eine Lichtquellenzeile ausgebildet. Der Lichtquellenzeile kann eine ansteuerbare Scannvorrichtung zugeordnet sein, mit Hilfe derer die an der Schaltungsplatte anliegende Fotomaske durch Verfahren der Lichtquellenzeile parallel beabstandet abtastbar ist.According to a further preferred embodiment of the invention, the light source arrangement is designed as a light source row. The light source line can be a controllable scan be assigned direction by means of which the photomask lying on the circuit board can be scanned in parallel by moving the light source line.
Die Lichtquellenzeile ist besonders kostengünstig und ermöglicht eine besonders kompakte Bauform der Belichtungsvorrichtung. Durch die Scannvorrichtung kann die sich in einer fixierten Position befindende Schaltungsplatte zeilenweise belichtet werden. Grundsätzlich ist es jedoch auch möglich, dass die Schaltungsplatte mit Hilfe einer entsprechenden Vorrichtung unter der feststehenden Lichtquellenzeile hinweggeführt wird.The light source line is special economical and enables a particularly compact design of the exposure device. By the scanning device can be in a fixed position Circuit board are exposed line by line. Basically is however it is also possible that the circuit board using an appropriate device is led away under the fixed light source line.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die Lichtquellen als Elektrolumineszenzdioden ausgebildet. Es können aber auch Laserdioden verwendet werden.According to another preferred embodiment of the invention are the light sources as electroluminescent diodes educated. But it can laser diodes can also be used.
Elektrolumineszenzdioden, auch als LEDs (Light Emitting Diode) bekannt, stehen als kostengünstige punktförmige Lichtquellen in einem weiten Spektralbereich vom UV bis IR zur Verfügung. Insbesondere sind auch in dem für die Belichtung von Fotoresisten besonders interessanten UV-Wellenlängenbereich zwischen 300nm und 400nm mittlerweile kostengünstige LEDs mit ausreichenden Intensitäten für die Leiterplattenbelichtung erhältlich und weitere technologische Verbesserungen zu erwarten. Ihre spektrale Bandbreite liegt je nach Typ im Bereich von 10nm bis 50nm. LEDs haben eine hohe Lebensdauer, sind kompakt und können effektiv angesteuert werden. Daher sind sie besonders für die Lichtquellenanordnung geeignet. Laserdioden lassen sich ebenso gut ansteuern wie LEDs, ihr Licht ist jedoch wesentlich schmalbandiger und hat eine höhere spektrale Leistungsdichte. Daher bietet sich ihre Verwendung besonders dann an, wenn eine hohe spektrale Leistungsdichte für spezielle Resiste gefordert wird und / oder wenn eine besonders hohe räumliche Auflösung für spezielle Schaltungsstrukturen erzielt werden soll.Electroluminescent diodes, also as LEDs (Light Emitting Diode) are known as inexpensive point light sources available in a wide spectral range from UV to IR. In particular are also in the for the exposure of photoresists of particularly interesting UV wavelength range between 300nm and 400nm meanwhile inexpensive LEDs with sufficient Intensities for PCB exposure available and further technological improvements are expected. Your spectral Depending on the type, bandwidth is in the range from 10nm to 50nm. LEDs have a long service life, are compact and can be controlled effectively. Therefore, they are especially for the light source arrangement suitable. Laser diodes can also be used Control well like LEDs, but their light is much more narrow-band and has a higher spectral Power density. Therefore, their use is particularly useful when a high spectral power density is required for special resists and / or if a particularly high spatial resolution for special Circuit structures should be achieved.
Kostengünstig wirkt sich auch die hohe Lebensdauer der Dioden gegenüber den herkömmlichen Lichtquellen aus. Da die Diodenanordnung so angesteuert werden kann, dass sie nur zur Belichtung eingeschaltet ist, d.h. dass sie beim Einfahren, Positionieren- und Ausfahren der Schaltungsplatte im Belichter nicht im Betrieb ist, ergibt sich ein besonders hoher Kostenvorteil durch die erhöhte Lebensdauer der Lichtquellenanordnung.The high one also has a cost-effective effect Lifetime of the diodes compared the conventional Light sources. Since the diode arrangement can be controlled in this way, that it is only switched on for exposure, i.e. that they Retracting, positioning and extending the circuit board in the Imagesetter is not in operation, the result is a particularly high one Cost advantage through the increased Life of the light source assembly.
Ein weiterer Kostenvorteil ergibt sich durch den geringeren Energiebedarf der Dioden gegenüber den thermischen Strahlern durch die wesentlich geringere Wärmeverlustleistung. Für das Diodenfeld lässt sich beispielsweise gegenüber einer Quecksilberdampflampe ein typischer Stromverbrauchsvorteil von einem Faktor 4-9 erzielen.Another cost advantage results due to the lower energy consumption of the diodes compared to the thermal radiators due to the significantly lower heat loss. For the Diode field leaves towards each other, for example a typical mercury vapor lamp has a typical power consumption advantage of achieve a factor of 4-9.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die Lichtquellen als SMD-Bauelemente ausgebildet.According to a further preferred embodiment According to the invention, the light sources are designed as SMD components.
SMD(Surface Mounted Device)-Bauelemente weisen im Gegensatz zu herkömmlichen Bauelementen mit Drahtanschlüssen eine Anschlussfläche zur direkten Montage auf einer Trägerplatte auf. Dadurch wird eine noch kompaktere Bauform der Lichtquel lenanordnung (Trägerplatte mit Dioden) möglich. Durch eine automatische Bestückung (eine typische Bestückungsdichte beträgt 2 bis 4 Dioden pro cm2), können zudem die Herstellungskosten weiter gesenkt werden. Typische SMD-LEDs sind mit einer Kantenlänge von 3 mm bei einer Chipkantenlänge von ca. 300μm erhältlich.In contrast to conventional components with wire connections, SMD (Surface Mounted Device) components have a connection surface for direct mounting on a carrier plate. This enables an even more compact design of the light source arrangement (carrier plate with diodes). With an automatic assembly (a typical assembly density is 2 to 4 diodes per cm 2 ), the manufacturing costs can be further reduced. Typical SMD LEDs are available with an edge length of 3 mm and a chip edge length of approx. 300μm.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Trägerplatte als eine Leiterplatte ausgebildet.According to a further preferred embodiment the invention is the carrier plate formed as a circuit board.
Als Trägerplatten sind besonders Leiterplatten zur Bestückung mit Dioden geeignet. Eine Leiterplatte kann kostengünstig gleichzeitig als Träger der Lichtquellen und zur Verschaltung der Lichtquellenanordnung dienen. Grundsätzlich kommen aber auch andere Trägerplatten oder Trägerrahmen in Betracht, auf denen eine oder mehrere Diodenverschaltungsbauteile angeordnet sind.Printed circuit boards are particularly suitable as carrier boards for assembly suitable with diodes. A circuit board can be inexpensive at the same time as a carrier the light sources and for interconnecting the light source arrangement serve. in principle other support plates also come or carrier frame on which one or more diode interconnect devices are arranged.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die als das Lichtquellenfeld ausgebildete Lichtquellenanordnung mit Hilfe von ansteuerbaren Bewegungsmitteln in einer parallel zu der in einer Arbeitsebene einer Belichtungssektion eines Belichtungsautomaten positionierbaren Schaltungsplatte gelegenen x/y-Ebene, in fortlaufende Rotationsbewegungen versetzbar. Die als die Lichtquellenzeile angeordnete Lichtquellenanordnung ist mit Hilfe der Bewegungsmittel in der x-Richtung oder in der y-Richtung der x/y-Ebene in fortlaufende Hinundherbewegungen versetzbar. Die Bewegungsmittel können als Schwingelemente ausgebildet sein.According to another preferred embodiment The invention is the light source arrangement designed as the light source field with the help of controllable movement means in a parallel to that in a working plane of an exposure section of an automatic exposure device positionable circuit board located x / y plane, in continuous Rotational movements can be offset. The one arranged as the light source row The light source arrangement is in the x direction with the aid of the movement means or in the y direction of the x / y plane in continuous reciprocations movable. The movement means can be designed as oscillating elements his.
Die Abstrahlungskegel, bzw. Abstrahlungskeulen, der einzelnen Lichtquellen weisen eine bestimmte Divergenz auf, so dass sie sich in einem bestimmten Abstand von der Trägerplatte, je nach Bestückungsdichte und Divergenzgrad, räumlich überlappen. Dadurch wird eine relativ gleichmäßige Abstrahlung über die Gesamtfläche der Lichtquellenanordnung in einem Abstand von typischerweise einigen Zentimetern erreicht. Die Homogenität der Belichtung kann weiter gesteigert werden, indem die Lichtquellenanordnung während des Belichtungsvorgangs der Schaltungsplatte in, vorzugsweise stufenlose, rotatorische, bzw. in hinundhergerichtete Bewegungen um typischerweise einige Millimeter versetzt wird. Dadurch ändert sich fortlaufend die Position der abstrahlenden Lichtkegel innerhalb der x/y-Ebene, so dass sich die Abstrahlung der einzelnen benachbarten Lichtquellen nicht nur räumlich überlappt, sondern, die räumliche Überlappung überlagernd, zusätzlich im zeitlichen Verlauf überlappt. Dadurch ergibt sich im zeitlichen Mittel insgesamt eine signifikant verbesserte Homogenität in der Belichtung der Schaltungsplatte.The radiation cones, or radiation lobes, of the individual light sources show a certain divergence, so that they are at a certain distance from the carrier plate, depending on the placement density and degree of divergence, spatially overlap. This results in a relatively uniform radiation across the total area the light source arrangement at a distance of typically a few Centimeters reached. The homogeneity of the exposure can further can be increased by the light source arrangement during the Exposure process of the circuit board in, preferably stepless, rotatory, or in back and forth movements around typically a few millimeters. This changes the Position of the emitting light cone within the x / y plane, see above that the radiation of the individual neighboring light sources not only spatially overlapped, but, overlapping the spatial overlap, additionally overlapped over time. This results in a significant overall time average improved homogeneity in the exposure of the circuit board.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Abstand zwischen der Lichtquellenanordnung und der in der Arbeitsebene positionierten Schaltungsplatte in einer senkrecht zu der x/y-Ebene gelegenen z-Achse mit Hilfe von Verstellmitteln variierbar.According to another preferred embodiment Form of the invention, the distance between the light source arrangement and the circuit board positioned in the working plane can be varied in a z-axis perpendicular to the x / y plane with the aid of adjusting means.
Durch die Verstellmöglichkeit der Lichtquellenanordnung in der z-Achse kann der optimale Abstand der Lichtquellenanordnung zu der Schaltungsplatte für eine möglichst homogene Belichtung einerseits bei möglichst geringen Intensitätsverlusten andererseits, eingestellt werden. Die Verstellmöglichkeit in der z-Achse kann auch für die Integration der Lichtquellenanordnung in eine automatische Belichtungssektion eines Belichters aus konstruktiven und fertigungstechnischen Gründen von Vorteil sein, insbesondere in Abstimmung mit einer Einlaufsektion sowie mit einer Ausrichtungsvorrichtung der Schaltungsplatte zu der Fotomaske.Through the adjustment option the light source arrangement in the z-axis can be the optimal distance the light source arrangement to the circuit board for one if possible homogeneous exposure on the one hand with as little intensity loss as possible on the other hand. The adjustment option in the z-axis can also for the integration of the light source arrangement in an automatic exposure section of an imagesetter for design and manufacturing reasons by Be an advantage, especially in coordination with an inlet section as well with an alignment device of the circuit board to the photomask.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Lichtquellenanordnung in einer modularen Bauwei se aus lösbar zusammenfügbaren Lichtquellenmodulen ausgebildet.According to another preferred embodiment the invention is the light source arrangement in a modular Bauwei se from releasable joinable Light source modules formed.
Die Module sind vorzugsweise der Trägerplatte zugehörige Leiterplattenbausteine, die mit einer bestimmtem Anzahl von Dioden bestückt sind, die jeweils eine zusammenhängende Einheit bilden. Durch die Modulbauweise müssen einzelne defekte Dioden im Servicefall nicht umständlich entfernt und ersetzt werden. Stattdessen wird das betroffene Modul einfach ausgetauscht. Dies verringert die Servicekosten, insbesondere den Zeitaufwand für den Service und verkürzt somit ggf. auch die Ausfallzeit des Belichters bei der Serienfertigung. Es können auch kostengünstige Nachrüstungen an der Lichtquellenanordnung vorgenommen werden.The modules are preferably the support plate associated Printed circuit board modules with a certain number of diodes stocked are each connected Form unity. Due to the modular design, individual defective diodes not cumbersome when servicing removed and replaced. Instead, the affected module simply exchanged. This reduces service costs, in particular the time spent on the service and shortened thus possibly also the downtime of the imagesetter during series production. It can too inexpensive retrofits be made on the light source arrangement.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Lichtquellenanordnung über eine Ansteuerelektronik in einem Pulsbetrieb ansteuerbar.According to a further preferred embodiment the invention is the light source arrangement via control electronics controllable in a pulse mode.
Dioden können über den Diodenstrom mit hohen Frequenzen (je nach Bauweise kHz-GHz) moduliert werden. Durch einen Pulsbetrieb der Lichtquellen lässt sich bei einer Modulation mit an den Diodentyp angepassten Frequenzen – und höheren Stromstärken die optische Leistung der Lichtquellenanordnung steigern und damit eine noch effektivere Belichtung einer Schaltungsplatte erzielen. Leistungssteigerungen heute handelsüblicher UV-LEDs von 5mW optischer Leistung (typische nutzbare Lichtleistung bei einer Stromstärke von 20mA und einer Spannung von 3V) auf über 10mW sind dadurch realistisch. Mit weiteren zukünftig zu erwartenden technologischen Verbesserungen sind UV-LEDs mit 15-20mW optischer Leistung denkbar.Diodes can be high with the diode current Frequencies (depending on the design kHz-GHz) are modulated. Through a Pulse operation of the light sources leaves modulation with frequencies adapted to the diode type - and higher currents increase optical performance of the light source arrangement and thus a achieve even more effective exposure of a circuit board. performance improvements more commercially available today UV LEDs of 5mW optical power (typical usable light output at a current from 20mA and a voltage of 3V) to over 10mW are realistic. With more in the future Technological improvements to be expected are UV LEDs with 15-20mW optical performance conceivable.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind zwei diametral angeordnete Lichtquellenanordnungen vorgesehen, so dass die Schaltungsplatte gleichzeitig beidseitig belichtbar ist.According to another preferred embodiment According to the invention, two diametrically arranged light source arrangements are provided, so that the circuit board can be exposed on both sides at the same time is.
Die Lichtquellenanordnung ist durch ihre kompakte Bauform besonders auch für Belichtungsverfahren zur gleichzeitigen beidseitigen Belichtung von Schaltungsplatten geeignet. Dies kann auf einfache Weise durch zwei baugleiche Lichtquellenanordnungen, die beidseitig der Schaltungsplatte zugeordnet sind, realisiert werden.The light source arrangement is through their compact design especially for exposure processes simultaneous exposure of circuit boards on both sides. This can easily be achieved by two identical light source arrangements, which are assigned on both sides of the circuit board become.
Weitere Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden ausführlichen Beschreibung und den beigefügten Zeichnungen, in denen bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung beispielsweise veranschaulicht sind.Further details of the invention result from the following detailed description and the attached Drawings in which preferred embodiments of the invention for example are illustrated.
In den Zeichnungen zeigen:The drawings show:
Eine Belichtungsvorrichtung für eine Schaltungsplatte
Die Belichtungsvorrichtung ist vorteilhaft
als ein integraler Bestandteil einer Belichtungssektion eines Belichtungssautomaten,
kurz Belichter, ausgebildet. Derartige Belichter sind im Prinzip
bekannt. Im Folgenden wird daher nur auf die für die Erfindung wesentlichen
Komponenten, insbesondere auf die Lichtquellenanordnung
In
In einer zweiten Ausführungsform
ist die Lichtquellenanordnung
Für
einen Belichtungsvorgang wird die Schaltungsplatte
Claims (15)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE20316241U DE20316241U1 (en) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Illumination implement for circuit structure manufacture on circuit board, using photomask exposing circuit structure image on circuit board, in which illumination member is formed by number of punctiform light sources on support plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE20316241U DE20316241U1 (en) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Illumination implement for circuit structure manufacture on circuit board, using photomask exposing circuit structure image on circuit board, in which illumination member is formed by number of punctiform light sources on support plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE20316241U1 true DE20316241U1 (en) | 2004-02-26 |
Family
ID=31969966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE20316241U Expired - Lifetime DE20316241U1 (en) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Illumination implement for circuit structure manufacture on circuit board, using photomask exposing circuit structure image on circuit board, in which illumination member is formed by number of punctiform light sources on support plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE20316241U1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007028860A1 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | Josef Lindthaler | Device for contact exposure of a printing stencil |
CN104662477A (en) * | 2012-08-16 | 2015-05-27 | 于利奇研究中心有限公司 | Method for optical transmission of a structure into a recording medium |
-
2003
- 2003-10-20 DE DE20316241U patent/DE20316241U1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007028860A1 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | Josef Lindthaler | Device for contact exposure of a printing stencil |
WO2009000242A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-31 | Josef Lindthaler | Contact exposure device for a printing screen |
WO2009000242A3 (en) * | 2007-06-22 | 2009-03-05 | Josef Lindthaler | Contact exposure device for a printing screen |
CN104662477A (en) * | 2012-08-16 | 2015-05-27 | 于利奇研究中心有限公司 | Method for optical transmission of a structure into a recording medium |
CN104662477B (en) * | 2012-08-16 | 2017-09-15 | 于利奇研究中心有限公司 | For method optically by structural transmission into recording medium |
US9798237B2 (en) | 2012-08-16 | 2017-10-24 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Method for optical transmission of a structure into a recording medium |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60030195T2 (en) | Laser process for machining holes in a ceramic green sheet | |
EP1072957B1 (en) | Illumination system with multiple light sources | |
DE60004798T2 (en) | METHOD FOR PRODUCING A MASK ON A SURFACE | |
DE69829607T2 (en) | Lithographic system with extraction system for debris disposal | |
DE112010001209T5 (en) | Distributed light sources and photoreactive curing systems | |
EP2845225B1 (en) | Luminaire with leds and cylindrical lens | |
DE3933308A1 (en) | HIGH RESOLUTION SCAN AND REPEAT PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM | |
DE102016109391A1 (en) | Light irradiation apparatus | |
DE102016221533B4 (en) | Method and device for transferring electronic components from a carrier substrate to an intermediate carrier substrate | |
KR20070100963A (en) | Exposure method and tool | |
DE202018006543U1 (en) | Device for adjusting the bottom of a flexographic printing plate in a controlled or regulated exposure system | |
EP3197249B1 (en) | Direct exposure device for direct exposure of soldering stop layers in two-dimensional environment with short-term tempering | |
DE102008050547A1 (en) | Direct image exposure device, has exposure table to which exposure object is assigned, where specific section of exposure object is defined by moving device and is exposed by exposed light by illuminating body | |
DE102008018763A1 (en) | Lithography exposure device | |
US20220050380A1 (en) | Apparatus and method for exposing printing plates using light emitting diodes | |
EP0845710A1 (en) | Process and device for making a stencil printing master | |
DE20316241U1 (en) | Illumination implement for circuit structure manufacture on circuit board, using photomask exposing circuit structure image on circuit board, in which illumination member is formed by number of punctiform light sources on support plate | |
DE102020103763A1 (en) | LIGHT LIGHTING DEVICE | |
EP2160652A2 (en) | Contact exposure device for a printing screen | |
EP3096186A2 (en) | Lithography exposure device for lithographic exposure with single or multi-level laser projection units with one or more wavelengths | |
JPWO2017077603A1 (en) | Print curing method, print curing apparatus, and printed wiring board manufacturing method | |
WO2017178651A1 (en) | Device for exposure of a substrate | |
CN109725503B (en) | Multi-band time-division optical exposure device and method | |
WO2007087958A2 (en) | Printer comprising an exposure head | |
JP5704535B2 (en) | Exposure system using microlens array |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R207 | Utility model specification |
Effective date: 20040401 |
|
R021 | Search request validly filed |
Effective date: 20050411 |
|
R163 | Identified publications notified |
Effective date: 20051122 |
|
R150 | Term of protection extended to 6 years |
Effective date: 20060926 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: PRINTPROCESS AG, CH Free format text: FORMER OWNER: GEBUREK, FRANK, DIPL.-ING. (TH), 31162 BAD SALZDETFURTH, DE Effective date: 20080317 |
|
R151 | Term of protection extended to 8 years |
Effective date: 20091001 |
|
R152 | Term of protection extended to 10 years | ||
R152 | Term of protection extended to 10 years |
Effective date: 20111130 |
|
R071 | Expiry of right | ||
R071 | Expiry of right |