DE202014001029U1

DE202014001029U1 - Radiation device for producing diffuse and directed emission radiation

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Publication number: DE202014001029U1
Application number: DE202014001029.3U
Authority: DE
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Priority date: 2014-02-05
Filing date: 2014-02-05
Publication date: 2015-05-27
Anticipated expiration: 2024-02-06

Abstract

Strahlungsvorrichtung (1), insbesondere eine Leuchte, zur Bereitstellung von Emissionsstrahlung (10), insbesondere Licht, für die Bestrahlung eines Raumes, aufweisend: eine erste Strahlungsquelle (16), welche Strahlung generiert, und eine erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung (2), welche mindestens einen Teil der Strahlung empfängt, wobei die erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung (2) eingerichtet ist, durch eine Relativbewegung gegenüber der Strahlungsquelle (16) zumindest einen ersten Zustand und einen zweiten Zustand einzunehmen, und wobei die Strahlung in dem ersten Zustand überwiegend in einen ersten Strahlungsleiter (12) der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung (2) eintritt, in welchem die Strahlung gestreut wird und in dem zweiten Zustand an einer Fläche der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung (2) überwiegend reflektiert wird.A radiation device (1), in particular a luminaire, for providing emission radiation (10), in particular light, for the irradiation of a room, comprising: a first radiation source (16) which generates radiation, and a first radiation processing device (2), which comprises at least one Receiving part of the radiation, wherein the first radiation processing device (2) is arranged to assume at least a first state and a second state by a relative movement with respect to the radiation source (16), and wherein the radiation in the first state predominantly into a first radiation conductor (12) the radiation processing device (2) enters, in which the radiation is scattered and in the second state on a surface of the radiation processing device (2) is predominantly reflected.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Strahlungsvorrichtung, insbesondere eine Leuchte, welche Emissionsstrahlung, insbesondere Licht, für die Bestrahlung eines Raumes bereitstellt.The present invention relates to a radiation device, in particular a luminaire, which provides emission radiation, in particular light, for the irradiation of a room.

Als Strahlungsvorrichtung im Sinne der Erfindung ist eine Vorrichtung zu verstehen, welche, basierend auf der Strahlung einer Strahlungsquelle, Emissionsstrahlung in einen Raum emittiert, welche durch Anwendung der Strahlungsvorrichtung modifiziert ist. Eine solche Modifikation kann insbesondere eine definierte dreidimensionale Strahlungsverteilung im Raum, ein sogenanntes Strahlungsmuster erzeugen. In einer bevorzugten Ausführungsform ist eine Strahlungsvorrichtung eine Leuchte.A radiation device in the sense of the invention is to be understood as an apparatus which, based on the radiation of a radiation source, emits emission radiation into a space which is modified by application of the radiation apparatus. Such a modification can in particular produce a defined three-dimensional radiation distribution in space, a so-called radiation pattern. In a preferred embodiment, a radiation device is a luminaire.

Verschiedene Tätigkeiten innerhalb eines Raumes, insbesondere in einer Arbeitsplatzumgebung, besitzen unterschiedlicher Erfordernisse hinsichtlich einer erstrebenswerten Strahlungsverteilung. Dies betrifft insbesondere die mathematischen, skalaren Funktionen Intensität und Wellenlänge sowie die mathematischen, vektoriellen Funktionen der elektrischen und magnetischen Felder in Abhängigkeit der drei Ortsvariablen sowie der Zeitvariable.Various activities within a room, especially in a workplace environment, have different requirements regarding a desirable radiation distribution. This concerns in particular the mathematical, scalar functions intensity and wavelength as well as the mathematical, vectorial functions of the electric and magnetic fields in dependence of the three place variables as well as the time variable.

So kann es in Bezug auf eine Arbeitsplatzumgebung für Schreib- oder Lesetätigkeiten auf einer Arbeitsfläche, beispielsweise der Fläche eines Schreibtisches, vorteilhaft sein, eine direkte beziehungsweise gerichtete Lichtstrahlung auf der Arbeitsfläche zu realisieren, um das Sichtfeld eines Benutzers maximal auszuleuchten. Hingegen ist insbesondere für Computerarbeiten eines Benutzers eine Strahlungsverteilung erstrebenswert, welche ein Blenden des Benutzers und einen starken Strahlungseinfall auf den Bildschirm verhindert, zugleich jedoch einem Benutzer eine angenehme Raumausleuchtung durch eine Hintergrundstrahlung verschafft. In diesem Fall erscheint eine indirekte beziehungsweise diffuse Strahlungsverteilung wünschenswert.Thus, with respect to a workstation environment for writing or reading on a work surface, for example the surface of a desk, it may be advantageous to realize direct light radiation on the work surface to maximally illuminate a user's field of vision. On the other hand, in particular for computer work of a user a radiation distribution is desirable, which prevents dazzling of the user and a strong radiation incidence on the screen, but at the same time provides a user with a pleasant room illumination by a background radiation. In this case, an indirect or diffuse radiation distribution appears desirable.

Aus der US 7,556,399 B1 ist eine Licht-Reflexionsanordnung bekannt, welche sowohl direktes Licht aus einem ersten Bereich, als auch indirektes Licht aus einem zweiten Bereich bereitstellt, wobei die US 7,556,399 B1 insbesondere vorsieht, direktes Licht und indirektes Licht entgegengesetzt – beispielsweise nach unten und oben – zu strahlen sowie diese Strahlung selektiv zu steuern. Insbesondere ist es diesbezüglich möglich, dass lediglich einer der beiden Bereiche Strahlung emittiert, während der andere Bereich keine Strahlung emittiert.From the US 7,556,399 B1 a light reflection device is known, which provides both direct light from a first region, as well as indirect light from a second region, wherein the US 7,556,399 B1 in particular provides direct light and indirect light opposite - for example, down and up - to radiate and to selectively control this radiation. In particular, it is possible in this regard that only one of the two areas emits radiation, while the other area emits no radiation.

Für den häufigen Tätigkeitswechsel eines Benutzers ist jedoch insbesondere eine Strahlungsvorrichtung wünschenswert, welche sich für einen benutzerfreundlichen, schnellen und leicht handhabbaren Wechsel zwischen einer direkten, gerichteten Strahlungsemission und einer indirekten, diffusen Strahlungsemission eignet.However, in particular a radiation device is desirable for the frequent change of activity of a user, which is suitable for a user-friendly, fast and easy to handle change between a direct, directed radiation emission and an indirect, diffuse radiation emission.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde ein einfaches und benutzerfreundliches Einstellen sowie Verstellen für die Emission von direkter beziehungsweise indirekter Strahlung zu ermöglichen. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, das direkte und/oder das indirekte Licht mit möglichst wenigen Verlusten bereit zu stellen.The present invention is therefore based on the object to enable a simple and user-friendly adjustment and adjustment for the emission of direct or indirect radiation. Another object of the invention is to provide the direct and / or indirect light with as few losses as possible.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Strahlungsvorrichtung gemäß Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung werden in den abhängigen Ansprüchen beansprucht.This object is achieved by a radiation device according to claim 1. Advantageous embodiments of the invention are claimed in the dependent claims.

Die Strahlungsvorrichtung gemäß der Erfindung weist eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung auf, wobei diese eingerichtet ist, durch eine Relativbewegung gegenüber der Strahlungsquelle zumindest einen ersten Zustand und einen zweiten Zustand einzunehmen, und wobei die Strahlung in dem ersten Zustand überwiegend in einen ersten Strahlungsleiter der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung eintritt, in welchem die Strahlung gestreut wird und in dem zweiten Zustand an einer Fläche der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung überwiegend reflektiert wird.The radiation device according to the invention has a radiation processing device, which is set up to assume at least a first state and a second state by a relative movement with respect to the radiation source, and wherein the radiation in the first state predominantly enters a first radiation conductor of the radiation processing device, in which the radiation is scattered and predominantly reflected in a second state on a surface of the radiation processing device.

Einem Benutzer wird es in diesem Fall ermöglicht, die von ihm erwünschte Raumbestrahlung nach Bedarf an die von ihm auszuführende Tätigkeit schnell, einfach und in seiner Arbeitsposition verbleibend (zum Beispiel sitzend) anzupassen, wobei die Strahlungsvorrichtung sowohl gerichtetes Licht in dem ersten Zustand, als auch diffuses Licht in dem zweiten Zustand erzeugen kann. Durch die einfache Realisierung dieses Konzeptes ist die Strahlungsvorrichtung ferner äußerst robust gegenüber häufiger Verwendung, sodass diese selbst bei häufigem Wechsel der Arbeitstätigkeit eine hohe Lebensdauer besitzt.A user is in this case enabled to adapt his / her desired spatial irradiation as needed to the work to be performed by him quickly, simply and remaining in his working position (for example sitting), the radiation device both directed light in the first state, and can produce diffused light in the second state. The simple realization of this concept, the radiation device is also extremely robust against frequent use, so that it has a long life even with frequent change of work.

Strahlung im Sinne der Erfindung ist eine elektromagnetische Welle, insbesondere Licht.Radiation in the sense of the invention is an electromagnetic wave, in particular light.

Emissionsstrahlung im Sinne der Erfindung ist eine elektromagnetische Welle, insbesondere Licht, welche nach einer Modifikation von Strahlung durch die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung von der Strahlungsvorrichtung in einen Raum ausgegeben wird.Emission radiation in the sense of the invention is an electromagnetic wave, in particular light, which, after a modification of radiation by the radiation processing device, is emitted by the radiation device into a room.

Eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung im Sinne der Erfindung dient zur Modifikation der an der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung ankommenden Strahlung zu einer die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung verlassenden Emissionsstrahlung. Vorzugsweise betrifft diese Modifikation die Strahlungsverteilung, insbesondere die Intensitätsverteilung und/oder die Wellenlängenverteilung. Weiter vorzugsweise betrifft diese Modifikation die Wellenlänge und/oder die Polarisation und/oder die Intensität und/oder die Direktionalität der Strahlung.A radiation processing device in the context of the invention serves to modify the radiation arriving at the radiation processing device to an emission radiation leaving the radiation processing device. Preferably, this modification relates to the radiation distribution, in particular the Intensity distribution and / or the wavelength distribution. More preferably, this modification relates to the wavelength and / or the polarization and / or the intensity and / or the directionality of the radiation.

Unter einem Strahlungsleiter im Sinne der Erfindung ist ein strahlungstransparenter Körper zu verstehen, welcher eingerichtet ist, Strahlung entlang einer Richtung und einer Länge des sich erstreckenden strahlungstransparenten Körpers, insbesondere im Wesentlichen modifikationsfrei und/oder verlustfrei und/oder gezielt gerichtet, zu transportieren.A radiation conductor in the sense of the invention is to be understood as a radiation-transparent body which is set up to transport radiation along a direction and a length of the radiation-transparent body extending, in particular substantially free of modification and / or loss and / or targeted.

Unter einem Zustand im Sinne der Erfindung sind ein oder mehrere, mechanische oder physikalische Schaltzustände einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung zu verstehen, durch welche ein spezieller technischer Effekt, insbesondere Streuung und/oder Reflexion, herbeigeführt werden kann.A state within the meaning of the invention is to be understood as meaning one or more mechanical or physical switching states of a radiation processing device, by means of which a special technical effect, in particular scattering and / or reflection, can be brought about.

Unter einer gerichteten Strahlung im Sinne der Erfindung ist eine Strahlung, insbesondere Licht zu verstehen, bei welcher die Varianz der mittleren Propagationsrichtung gering, insbesondere geringer als etwa 90°, bevorzugt geringer als etwa 80°, bevorzugter geringer als etwa 70°, noch bevorzugter geringer als etwa 60°, noch bevorzugter geringer als etwa 50°, noch bevorzugter geringer als etwa 40°, noch bevorzugter geringer als etwa 30°, noch bevorzugter geringer als etwa 20°, noch bevorzugter geringer als etwa 10° und am bevorzugtesten geringer als etwa 5° ist.Directed radiation in the sense of the invention is radiation, in particular light, in which the variance of the mean propagation direction is low, in particular less than approximately 90 °, preferably less than approximately 80 °, more preferably less than approximately 70 °, and even more preferably less more preferably less than about 40 °, more preferably less than about 30 °, even more preferably less than about 20 °, even more preferably less than about 10 °, and most preferably less than about 5 ° is.

Unter einer diffusen Strahlung im Sinne der Erfindung ist eine Strahlung, insbesondere Licht zu verstehen, bei welcher die Varianz der mittleren Propagationsrichtung größer als jene der gerichteten Strahlung ist.For the purposes of the invention, a diffuse radiation means a radiation, in particular light, in which the variance of the mean propagation direction is greater than that of the directed radiation.

Unter einer Reflexion im Sinne der Erfindung ist ein Zurückwerfen von Strahlung an einer Grenzfläche zu verstehen, welche eine Änderung des optischen Brechungsindex aufweist.A reflection in the sense of the invention is to be understood as a reflection of radiation at an interface which has a change in the optical refractive index.

Unter einer Streuung im Sinne der Erfindung ist eine Modifikation einer Strahlung, insbesondere ihrer Propagationsrichtung, aufgrund einer Wechselwirkung mit einem Objekt zu verstehen.Scattering in the sense of the invention means a modification of a radiation, in particular its propagation direction, due to an interaction with an object.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Strahlungsvorrichtung einen zweiten Strahlungsleiter, insbesondere einen Lichtleiter, auf, welcher zwischen der Strahlungsquelle und der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung angeordnet ist. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist im ersten Zustand die von der ersten Strahlungsquelle generierte Strahlung in den ersten Strahlungsleiter der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung transmittierbar.In an advantageous embodiment of the invention, the radiation device has a second radiation conductor, in particular a light guide, which is arranged between the radiation source and the radiation processing device. In a further advantageous embodiment of the invention, in the first state, the radiation generated by the first radiation source can be transmitted to the first radiation conductor of the first radiation processing device.

Hierdurch kann Strahlung einer Strahlungsquelle möglichst verlustfrei und frei von Beeinträchtigungen, welche die Strahlung unerwünscht modifizieren, zu einem die Strahlung gezielt beeinträchtigenden Objekt – wie beispielsweise ein strahlungsauskoppelndes Element – gelangen.As a result, radiation from a radiation source can arrive as loss-free as possible and free from impairments which undesirably modify the radiation to an object which objectively interferes with the radiation-such as, for example, a radiation-decoupling element.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung eine reflektierende Fläche auf, an welcher im zweiten Zustand die von der ersten Strahlungsquelle generierte Strahlung reflektierbar ist.In a further advantageous embodiment of the invention, the first radiation processing device has a reflecting surface on which in the second state the radiation generated by the first radiation source can be reflected.

Durch die Bereitstellung einer reflektierenden Fläche kann im Falle des zweiten Zustands eine möglichst hohe Strahlungsemission in den zu bestrahlenden Raum – und somit ein möglichst hoher, energetischer Wirkungsgrad – erzielt werden.By providing a reflective surface in the case of the second state, the highest possible radiation emission into the space to be irradiated - and thus the highest possible, energetic efficiency - can be achieved.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Emissionsstrahlung Infrarotstrahlung, UV-Strahlung, Licht im sichtbaren Wellenlängenspektrum, Röntgenstrahlung, radioaktive Strahlung, Radiowellenstrahlung oder Mikrowellenstrahlung.In a further advantageous embodiment of the invention, the emission radiation is infrared radiation, UV radiation, light in the visible wavelength spectrum, X-radiation, radioactive radiation, radio-wave radiation or microwave radiation.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung dient die emittierte Lichtstrahlung zur Beleuchtung eines Raumes.In a further advantageous embodiment of the invention, the emitted light radiation is used to illuminate a room.

Hierdurch wird einem Benutzer ermöglicht eine Raumbeleuchtung den spezifischen Anforderungen einer an einer Arbeitsplatzumgebung auszuführenden Tätigkeit anzupassen.This allows a user to adjust room lighting to the specific needs of an activity to be performed on a workstation environment.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung erfolgt die Relativbewegung der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung gegenüber der ersten Strahlungsquelledurch eine Schwenkung um eine Achse oder einen Punkt oder durch eine Translationsbewegung.In a further advantageous embodiment of the invention, the relative movement of the first radiation processing device relative to the first radiation source is effected by a pivoting about an axis or a point or by a translational movement.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist der erste Strahlungsleiter eine Mikrostrukturierung auf. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist der erste Strahlungsleiter eine Prismenstruktur auf. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird gestreute Strahlung emittiert, wenn die Strahlung der ersten Strahlungsquelle auf die Mikrostrukturierung und/oder die Prismenstruktur der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung auftrifft.In a further advantageous embodiment of the invention, the first radiation conductor has a microstructuring. In a further advantageous embodiment of the invention, the first radiation conductor has a prism structure. In a further advantageous embodiment of the invention, scattered radiation is emitted when the radiation of the first radiation source impinges on the microstructuring and / or the prism structure of the first radiation processing device.

Durch die oben genannten Ausgestaltungen wird, basierend auf der im Wesentlichen parallelen Propagationsrichtung der Strahlung und der vorwiegend homogenen Strahlungsintensität über im Wesentlichen den gesamten Flächenbereich des ersten Strahlungsleiters, eine möglichst homogene Strahlungsverteilung der gerichtet in den Raum gestrahlten Strahlung im ersten Zustand einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung realisiert.Due to the above-mentioned embodiments, based on the substantially parallel propagation direction of the radiation and the predominantly homogeneous radiation intensity over substantially the entire surface area of the first radiation conductor, the most homogeneous possible radiation distribution is directed into the space Radiated radiation realized in the first state of a radiation processing device.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung werden gestreute Strahlung und reflektierte Strahlung im Wesentlichen parallel oder orthogonal oder antiparallel zueinander emittiert.In a further advantageous embodiment of the invention, scattered radiation and reflected radiation are emitted substantially parallel or orthogonal or antiparallel to one another.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung stehen der zweite Strahlungsleiter und die erste Strahlungsquelle und/oder der zweite Strahlungsleiter und die erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung im unmittelbaren mechanischen Kontakt miteinander. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung erfolgt durch die Verwendung einer Schutzvorrichtung eine Emission von der der ersten Strahlungsquelle zuzuordnenden Strahlung vorwiegend nach Bearbeitung durch die erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist der zweite Strahlungsleiter eine strahlungsundurchlässige Schutzvorrichtung auf, welche durch Schwenkung der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung formschlüssig mit der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung verbindbar ist.In a further advantageous embodiment of the invention, the second radiation conductor and the first radiation source and / or the second radiation conductor and the first radiation processing device are in direct mechanical contact with each other. In a further advantageous embodiment of the invention, by the use of a protective device, an emission of the radiation attributable to the first radiation source takes place predominantly after being processed by the first radiation processing device. In a further advantageous embodiment of the invention, the second radiation conductor on a radiopaque protective device, which is positively connected by pivoting the first radiation processing device with the first radiation processing device.

Durch die oben genannten Ausgestaltungen können Strahlungsverluste vor der Bearbeitung von Strahlung durch die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung minimiert werden.By the above-mentioned embodiments, radiation losses before the processing of radiation by the radiation processing device can be minimized.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird die an der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung gestreute Strahlung gegenüber der auf die erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung auftreffenden Strahlung um einen Winkel ε von in etwa 90° abgelenkt.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation scattered on the first radiation processing device is deflected by approximately 90 ° with respect to the radiation impinging on the first radiation processing device by an angle ε.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Strahlungsvorrichtung mindestens eine zweite Strahlungsquelle und/oder mindestens eine zweite Strahlungsbearbeitungsvorrichtung auf. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Strahlungsvorrichtung in der Weise eingerichtet, dass die Strahlung der ersten Strahlungsquelle von mindestens der ersten und der zweiten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung empfangen werden kann. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Strahlungsvorrichtung in der Weise eingerichtet, dass Strahlung von mindestens der ersten und der zweiten Strahlungsquelle von der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung empfangen werden kann. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Strahlungsvorrichtung mindestens einen Spektralfilter und/oder einen Polarisationsfilter und/oder einen Intensitätsfilter und/oder eine Linse und/oder einen Strahlteiler auf.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device has at least one second radiation source and / or at least one second radiation processing device. In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device is set up in such a way that the radiation of the first radiation source can be received by at least the first and the second radiation processing device. In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device is set up in such a way that radiation from at least the first and the second radiation source can be received by the first radiation processing device. In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device has at least one spectral filter and / or a polarization filter and / or an intensity filter and / or a lens and / or a beam splitter.

Durch die oben genannten Ausgestaltungen kann durch ein gezieltes Überlagern verschiedener Strahlungsmuster eine höhere Variabilität und somit eine zielgenauere Raumbestrahlung für die jeweilige, spezifische Tätigkeit erzielt werden.By the above-mentioned embodiments, by a specific superimposition of different radiation patterns, a higher variability and thus a more targeted spatial irradiation for the respective, specific activity can be achieved.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Strahlungsvorrichtung in der Weise eingerichtet, dass jeder Strahlungsquelle genau eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung zugewiesen wird, von welcher die Strahlung dieser Strahlungsquelle empfangen werden kann.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device is arranged in such a way that each radiation source is assigned to exactly one radiation processing device, from which the radiation of this radiation source can be received.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Strahlungsvorrichtung eine Halterung zur Verwendung als Steh- oder Hängestrahler auf.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device on a holder for use as a floor or suspended spotlights.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist der Betrieb der mindestens ersten und zweiten Strahlungsquelle unabhängig voneinander steuerbar.In a further advantageous embodiment of the invention, the operation of the at least first and second radiation source is independently controllable.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung sind die mindestens erste und zweite Strahlungsbearbeitungsvorrichtung unabhängig voneinander schwenkbar. Durch die Ausgestaltung unabhängig voneinander schwenkbarer Strahlungsbearbeitungsvorrichtungen besteht eine höhere Flexibilität in Bezug auf die zu bestrahlenden Raumbereiche.In a further advantageous embodiment of the invention, the at least first and second radiation processing device are independently pivotable. By designing independently pivotable radiation processing devices there is a higher flexibility with respect to the space regions to be irradiated.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist ein Teil der mindestens ersten und zweiten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung miteinander gekoppelt, so dass bei Ausführung einer Schwenkung der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung mindestens die zweite Strahlungsbearbeitungsvorrichtung mitgeschwenkt wird.In a further advantageous embodiment of the invention, a part of the at least first and second radiation processing device is coupled to each other, so that when performing a pivoting of the first radiation processing device at least the second radiation processing device is also pivoted.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Strahlungsvorrichtung eingerichtet, dass die an der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung gestreute Strahlung beim Austritt aus der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung eine flächig homogene oder inhomogene Strahlungsintensität, insbesondere ein periodisches und/oder punktsymmetrisches und/oder spiegelsymmetrisches Strahlungsintensitätsmuster aufweist.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation device is set up such that the radiation scattered on the first radiation processing device has a uniformly homogeneous or inhomogeneous radiation intensity, in particular a periodic and / or point-symmetrical and / or mirror-symmetrical radiation intensity pattern, on exiting the first radiation processing device.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die erste Strahlungsquelle eine Leuchtdiode, insbesondere eine LED, eine Gasentladungsquelle, insbesondere eine Quecksilberdampflampe, eine Glühlampe, insbesondere eine Halogenglühlampe, eine Flamme, eine Röntgenröhre, ein Kernreaktor oder eine Wärmequelle.In a further advantageous embodiment of the invention, the first radiation source is a light-emitting diode, in particular an LED, a gas discharge source, in particular a mercury vapor lamp, an incandescent lamp, in particular a halogen incandescent lamp, a flame, an X-ray tube, a nuclear reactor or a heat source.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die reflektierende Fläche eine Spiegelfläche oder eine raue Oberflächenstruktur auf.In a further advantageous embodiment of the invention, the reflective surface a mirror surface or a rough surface structure.

Durch das Maß an Rauigkeit der reflektierenden Fläche kann somit der Diffusionsgrad der Strahlung im zweiten Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung gesteuert werden.By virtue of the degree of roughness of the reflecting surface, the degree of diffusion of the radiation in the second state of the radiation processing device can thus be controlled.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung besteht die reflektierende Fläche zumindest vorwiegend aus metallischem oder halbleitendem Material.In a further advantageous embodiment of the invention, the reflective surface consists at least predominantly of metallic or semiconductive material.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung erfolgt die Steuerung des Annehmens von einem der mindestens zwei Zustände der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung durch das Einstellen eines Raumwinkels zwischen einer Propagationsrichtung der von der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung empfangenen und der ersten Strahlungsquelle generierten Strahlung und der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung.In a further advantageous embodiment of the invention, the control of the acceptance of one of the at least two states of the first radiation processing device is effected by setting a solid angle between a propagation direction of the radiation received from the first radiation processing device and the first radiation source and the first radiation processing device.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung bestrahlt die in dem ersten Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung überwiegend gestreute Strahlung den Bestrahlungsraum vorwiegend als gerichtete Emissionsstrahlung.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation predominantly scattered in the first state of the radiation processing device irradiates the irradiation space predominantly as directed emission radiation.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung bestrahlt die in dem zweiten Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung überwiegend reflektierte Strahlung den Bestrahlungsraum vorwiegend als diffuse Emissionsstrahlung.In a further advantageous embodiment of the invention, the radiation predominantly reflected in the second state of the radiation processing device irradiates the irradiation space predominantly as diffuse emission radiation.

Obige sowie weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels anhand der Figuren.The above and other advantages, features and applications of the present invention will become apparent from the following description of a preferred embodiment with reference to FIGS.

In 1 ist teilweise schematisch eine Strahlungsvorrichtung in der Ausgestaltung einer Stehleuchte perspektivisch dargestellt.In 1 is partially schematically shown a radiation device in the embodiment of a floor lamp in perspective.

In 2 ist teilweise schematisch ein zwei Strahlungsbearbeitungsvorrichtungen aufweisender Strahlungsvorrichtungskopf einer Strahlungsvorrichtung in Seitenansicht dargestellt.In 2 Fig. 2 is a partial side view of a radiation device head of a radiation device having two radiation processing devices.

In 3a ist teilweise schematisch eine Raumbeleuchtung einer Arbeitsplatzumgebung unter Verwendung einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung in ihrem zweiten Zustand perspektivisch dargestellt.In 3a In part, schematically, room lighting of a work environment using a radiation processing apparatus in its second state is shown in perspective.

In 3b ist teilweise schematisch eine Raumbeleuchtung einer Arbeitsplatzumgebung unter Verwendung einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung in ihrem ersten Zustand perspektivisch dargestellt.In 3b Fig. 2 is a partially schematic perspective view of a room lighting of a work environment using a radiation processing apparatus in its first state.

Bezugnehmend auf 1 wird eine Ausführungsform der Erfindung näher erläutert. Die Erfindung wird dabei am Beispiel einer Strahlungsvorrichtung 1 in der Ausgestaltung einer Leuchte 1 zur Verwendung als Stehstrahler beschrieben. Die Leuchte 1 weist vorzugsweise einen Strahlungsvorrichtungskopf 6 zur Emission von Strahlung für die Raumbeleuchtung auf, welcher im vorliegenden Fall zwei Strahlungsbearbeitungsvorrichtungen 2 aufweist. Der Strahlungsvorrichtungskopf 6 könnte jedoch auch lediglich eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 aufweisen oder auch eine beliebige Anzahl an Strahlungsbearbeitungsvorrichtungen 2. Der Strahlungsvorrichtungskopf 6 wird durch ein Kopfgelenk 7 mit einer Halterung 3 verbunden, wobei durch Lockerung des Kopfgelenks 7 eine Schwenkung des Strahlungsvorrichtungskopfes 6 relativ zur Halterung 3 ermöglicht wird.Referring to 1 An embodiment of the invention will be explained in more detail. The invention is based on the example of a radiation device 1 in the embodiment of a lamp 1 for use as a spotlight described. The lamp 1 preferably has a radiation device head 6 for the emission of radiation for room lighting, which in the present case two radiation processing devices 2 having. The radiation device head 6 however, it could also be merely a radiation processing device 2 or any number of radiation processing devices 2 , The radiation device head 6 is through a head joint 7 with a holder 3 connected, whereby by loosening of the head joint 7 a pivoting of the radiation device head 6 relative to the bracket 3 is possible.

Die Halterung 3 besteht im vorliegenden Fall aus einem kopfzugewandten Halterungselement 3a, einem mittleren Halterungselement 3b und einem stellflächenzugewandten Halterungselement 3c. Die Halterung 3 könnte jedoch auch aus lediglich einem Halterungselement oder lediglich zwei Halterungselementen oder einer beliebigen Anzahl an Halterungselementen bestehen.The holder 3 consists in the present case of a head-facing support member 3a , a middle support element 3b and a support surface facing support member 3c , The holder 3 However, could also consist of only one support member or only two support members or any number of support members.

Die mittels des Kopfgelenks 7 verbundenen Elemente Strahlungsvorrichtungskopf 6 und Halterung 3 werden am stellflächenzugewandten Halterungselement 3c von einer Fassung 15 aufgenommen, welche einen Bestandteil einer Stellfläche 4 darstellt, wobei bei der Stellfläche 4 die von der Halterung 3 abgewandte Oberfläche im Wesentlichen flach ausgestaltet ist, so dass diese auf ein im Wesentlichen flaches Objekt, insbesondere eine Arbeitsfläche, gestellt werden kann, ohne dass die Strahlungsvorrichtung 1 bei geringfügiger mechanischer Einwirkung, insbesondere aufgrund von auf die Strahlungsvorrichtung 1 einwirkende Stöße und Zugkräfte, ihre Stellposition auf der Stellfläche 4 wesentlich verändert.The means of the head joint 7 connected elements radiation device head 6 and bracket 3 become on the storage area facing support element 3c from a version 15 taken, which is part of a footprint 4 represents, wherein at the footprint 4 the one from the bracket 3 facing away from the surface is substantially flat, so that it can be placed on a substantially flat object, in particular a work surface without the radiation device 1 with minor mechanical impact, in particular due to the radiation device 1 acting shocks and tensile forces, their parking position on the footprint 4 changed significantly.

Die Halterung 3 weist ferner Halterungsgelenke 9 auf, durch welche das kopfzugewandte Halterungselement 3a mit dem mittleren Halterungselement 3b beziehungsweise das mittlere Halterungselement 3b mit dem stellflächenzugewandten Halterungselement 3c verbindbar ist. In beiden Fällen sind die Halterungselemente 3a und 3b beziehungsweise 3b und 3c relativ zueinander schwenkbar.The holder 3 also has support joints 9 on, through which the head-facing support member 3a with the middle support element 3b or the middle support element 3b with the support surface facing the support element 3c is connectable. In both cases, the support elements 3a and 3b respectively 3b and 3c pivotable relative to each other.

Die Halterung 3 weist ferner eine kopfzugewandte Halterungsstütze 8a und eine stellflächenzugewandte Halterungsstütze 8b auf. Die kopfzugewandte Halterungsstütze 8a ist zwischen dem kopfzugewandten Halterungselement 3a und dem mittleren Halterungselement 3b eingebracht, wogegen die stellflächenzugewandte Halterungsstütze 8b zwischen dem mittleren Halterungselement 3b und dem stellflächenzugewandten Halterungselement 3c eingebracht wird. Beide Halterungsstützen 8a und 8b dienen der Stützung der durch die Halterungsgelenke 9 eingestellten Winkel α beziehungsweise β zwischen kopfzugewandtem Halterungselement 3a und mittlerem Halterungselement 3b beziehungsweise mittlerem Halterungselement 3b und stellflächenzugewandtem Halterungselement 3c. Die Länge der Halterungsstützen 8a, 8b wird so an die Winkel α, β angepasst, dass die Halterungsstützen 8a, 8b sich zur Stützung der eingestellten Winkel α, β eignen.The holder 3 also has a head-facing support post 8a and a support surface facing the support bracket 8b on. The head-facing support post 8a is between the head-facing support member 3a and the middle support member 3b introduced, whereas the support surface facing the support bracket 8b between the middle support element 3b and the support surface facing support member 3c is introduced. Both support posts 8a and 8b serve to support the through the support joints 9 set angle α or β between head-facing support member 3a and middle support element 3b or middle support element 3b and storage-facing support member 3c , The length of the support posts 8a . 8b is adapted to the angles α, β, that the support posts 8a . 8b are suitable for supporting the set angle α, β.

Die Bereitstellung elektrischer Leistung am Ort einer ersten Strahlungsquelle 16 und vorzugsweise einer zweiten Strahlungsquelle 17 erfolgt vorzugsweise elektrisch mithilfe einer elektrischen Leitung im Innern der Strahlungsvorrichtung 1, welche sich durch die Stellfläche 4, die Halterung 3, und den Strahlungsvorrichtungskopf 6 erstreckt, wobei am Ort der Stellfläche 4 ein von außen in das Innere der Stellfläche 4 einmündender, elektrischer Anschluss 5 besteht.The provision of electrical power at the location of a first radiation source 16 and preferably a second radiation source 17 is preferably carried out electrically by means of an electrical line in the interior of the radiation device 1 , which are defined by the footprint 4 , the holder 3 , and the radiation device head 6 extends, taking place at the footprint 4 from the outside into the interior of the footprint 4 opening, electrical connection 5 consists.

Bezugnehmend auf 2 wird eine Ausführungsform der Erfindung näher erläutert. Die Erfindung wird dabei am Beispiel eines an einer Halterung 3 fixierten Strahlungsvorrichtungskopfes 6 beschrieben. Hierbei weist der Strahlungsvorrichtungskopf 6 in der Nähe seines Zentrums eine erste Strahlungsquelle 16 und vorzugsweise eine zweite Strahlungsquelle 17 auf. Der Strahlungsvorrichtungskopf 6 könnte jedoch auch lediglich eine erste Strahlungsquelle 16 oder eine beliebige Anzahl an Strahlungsquellen aufweisen.Referring to 2 An embodiment of the invention will be explained in more detail. The invention is based on the example of a holder 3 fixed radiation device head 6 described. Here, the radiation device head 6 near its center a first radiation source 16 and preferably a second radiation source 17 on. The radiation device head 6 but could also only a first radiation source 16 or have any number of radiation sources.

Von der ersten Strahlungsquelle 16 und der zweiten Strahlungsquelle 17 ausgehend können sich zwei vorzugsweise kanalartig ausgestaltete zweite Strahlungsleiter 11 erstrecken. Es kann sich ausgehend von einer ersten Strahlungsquelle 16 auch lediglich ein zweiter Strahlungsleiter 11 erstrecken oder es können sich auch eine Vielzahl von zweiten Strahlungsleitern 11 ausgehend von einer ersten Strahlungsquelle 16 und bevorzugt einer zweiten Strahlungsquelle 17 erstrecken. Es ist jedoch auch eine Anordnung denkbar, welche keinen zweiten Strahlungsleiter 11 aufweist.From the first radiation source 16 and the second radiation source 17 starting can be two preferably channel-like configured second radiation conductor 11 extend. It can be based on a first radiation source 16 also only a second radiation conductor 11 extend or may also be a plurality of second radiation conductors 11 starting from a first radiation source 16 and preferably a second radiation source 17 extend. However, it is also conceivable arrangement, which no second radiation conductor 11 having.

Auf der von der ersten Strahlungsquelle 16 und der zweiten Strahlungsquelle 17 abgewandten Seite einer Anordnung im Sinne von 2 können zweite Strahlungsleiter 11 mit jeweils einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 fixierend verbunden sein, wobei eine solche Fixierung derart ausgestaltet ist, dass eine erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 gegenüber der ersten Strahlungsquelle 16 beziehungsweise der zweiten Strahlungsquelle 17 um eine Achse A geschwenkt werden kann.On the from the first radiation source 16 and the second radiation source 17 opposite side of an arrangement in the sense of 2 can second radiation conductor 11 each with a radiation processing device 2 be connected fixing, wherein such a fixation is designed such that a first radiation processing device 2 opposite the first radiation source 16 or the second radiation source 17 can be pivoted about an axis A.

Wie aus 2 hervorgeht, kann eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 durch Schwenkung um eine Achse A vorzugsweise einen ersten Zustand (2, linke Seite) und einen zweiten Zustand (2, rechte Seite) einnehmen. Es könnte jedoch auch sein, dass durch Schwenkung einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 um die Achse A ein, zwei oder eine Anzahl an weiteren Zuständen – beispielsweise kontinuierliche Zustände – eingenommen werden können.How out 2 can be seen, a radiation processing device 2 by pivoting about an axis A preferably a first state ( 2 , left side) and a second state ( 2 , right side). However, it could also be that by pivoting a radiation processing device 2 about the axis A one, two or a number of other states - for example, continuous states - can be taken.

Eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung weist vorzugsweise auf: einen ersten Strahlungsleiter 12, vorzugsweise in der Ausgestaltung einer strahlungsauskoppelnden, insbesondere lichtauskoppelnden Platte (LGP Plate), welche eine integrierte prismatische und/oder mikroprismatische Struktur aufweist, sowie eine reflektierende Fläche 13 zur Reflexion von Strahlung auf der Oberseite des ersten Strahlungsleiters 12.A radiation processing device preferably comprises: a first radiation conductor 12 , preferably in the embodiment of a radiation-decoupling, in particular Lichtauskoppelnden plate (LGP plate), which has an integrated prismatic and / or microprismatic structure, and a reflective surface 13 for reflection of radiation on top of the first radiation conductor 12 ,

Erfolgt nun eine Schwenkung einer Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 aus einem zweiten Zustand in einen ersten Zustand gemäß der in 2 dargestellten Anordnung, so verbindet sich vorzugsweise eine Schutzvorrichtung 14 des zweiten Strahlungsleiters 11 formschlüssig mit der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 und einer auf der Oberseite der Strahlungsbearbeitungsvorrichtungen 2 angebrachten, reflektierenden Fläche 13.Now takes place a pivoting of a radiation processing device 2 from a second state to a first state according to the in 2 arrangement shown, so preferably connects a protective device 14 of the second radiation conductor 11 positively with the radiation processing device 2 and one on top of the radiation processing devices 2 attached, reflective surface 13 ,

Bezugnehmend auf die Emission der die erste Strahlungsquelle 16 und vorzugsweise die zweite Strahlungsquelle 17 verlassenden Strahlung wird, wie in 2 zu sehen ist, mindestens ein Teil der die Strahlungsquelle 16 verlassenden Strahlung ohne Eintritt in einen zweiten Strahlungsleiter 11 von der ersten Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 empfangen. In einer anderen, nicht abgebildeten, bevorzugten Ausgestaltung tritt diese zunächst in einen, zwei oder eine Anzahl an zweite Strahlungsleiter 11 ein, wobei die erste Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 nachfolgend mindestens einen Teil der Strahlung empfängt.Referring to the emission of the first radiation source 16 and preferably the second radiation source 17 leaving radiation will, as in 2 you can see at least part of the radiation source 16 leaving radiation without entering a second radiation conductor 11 from the first radiation processing device 2 receive. In another embodiment, not shown, this first occurs in one, two or a number of second radiation conductors 11 a, wherein the first radiation processing device 2 subsequently receives at least a portion of the radiation.

In dem in Bezug auf die rechte Seite von 2 dargestellten Fall befindet sich eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 in einem zweiten Schwenkungszustand. Hierbei trifft die Strahlung nach einer Propagation entlang des zweiten Strahlungsleiters 11 vorwiegend auf die reflektierende Fläche 13 der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2, wobei die strahlungsundurchlässige Schutzvorrichtung 14 eine Emission der Strahlung vor Bearbeitung durch die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung vorwiegend verhindert. Ist die reflektierende Fläche 13 eine Spiegelfläche, so wird die Strahlung an dieser reflektiert und in den Raum emittiert. Weist die reflektierende Fläche jedoch eine Oberflächenstruktur mit signifikanter Oberflächenrauigkeit auf, so wird – je nach Ausmaß der Rauigkeit dieser Oberflächenstruktur – die Strahlung unkollimiert, das heißt mit vorwiegend unterschiedlicher Propagationsrichtung in den Raum reflektiert. Die hierbei aus der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 austretende Emissionsstrahlung 10 weist eine Anzahl verschiedener Propagationsrichtungen auf, weswegen die Emissionsstrahlung 10 als vorwiegend diffus charakterisiert werden kann.In terms of the right side of 2 In the case shown is a radiation processing device 2 in a second swing state. In this case, the radiation strikes propagation along the second radiation conductor 11 mainly on the reflective surface 13 the radiation processing device 2 , wherein the radiopaque protection device 14 prevents emission of the radiation before processing by the radiation processing device predominantly. Is the reflective surface 13 a mirror surface, so the radiation at this reflected and emitted into the room. However, if the reflective surface has a surface structure with significant surface roughness, the radiation will be uncoollated, that is to say with predominantly different propagation direction, into the space, depending on the extent of the roughness of this surface structure. The case from the radiation processing device 2 emissive emission radiation 10 has a number of different propagation directions, which is why the emission radiation 10 can be characterized as predominantly diffuse.

Befindet sich eine Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 in einem ersten Zustand, so wird diese Strahlung, entweder nach Propagation entlang des zweiten Strahlungsleiters 11 oder in einer anderen bevorzugten Anordnung, in einen ersten – der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 zugehörigen – Strahlungsleiter 12 transmittiert. Dieser erste Strahlungsleiter 12 ist im vorliegenden Ausführungsbeispiel als sogenannte lichtauskoppelnde Platte (LGP Plate) ausgestaltet, welche zum Anmeldezeitpunkt beispielsweise von dem Hersteller Karl Jungbecker GmbH & Co. KG angeboten wird. Diese lichtauskoppelnde Platte weist vorzugsweise eine Quaderform mit sechs äußeren Flächen auf.Is there a radiation processing device 2 in a first state, this radiation will either propagate along the second radiation guide 11 or in another preferred arrangement, in a first - the radiation processing device 2 associated - radiation conductor 12 transmitted. This first radiation conductor 12 is configured in the present embodiment as a so-called Lichtauskoppelnde plate (LGP plate), which is offered at the time of application, for example, by the manufacturer Karl Jungbecker GmbH & Co. KG. This light-coupling plate preferably has a cuboid shape with six outer surfaces.

Die lichtauskoppelnde Platte weist im vorliegenden Fall eine integrierte Prismenstruktur oder eine integrierte Mikroprismenstruktur auf. Sobald Strahlung mit diesen Strukturen wechselwirkt, folgt diese einem Strahlengang, welcher sich aus den Prinzipien der optischen Reflexion und der optischen Refraktion ergibt. Hierbei werden die Positionen und Orientierungen der Prismenstrukturen oder Mikroprismensturkturen derart ausgestaltet, dass Strahlung, welche in einer zur lichtauskoppelnden Plattenebene parallelen Propagationsrichtung in die Platte eintritt, vorwiegend um einen Ablenkungswinkel ε von in etwa 90° gegenüber der einfallenden Propagationsrichtung, das heißt parallel zum Normalenvektor der Plattenebene, aus der Platte ausfällt. Des Weiteren ermöglicht diese lichtauskoppelnde Platte eine Aufspaltung der Strahlung, sodass die aus der lichtauskoppelnden Platte ausfallende, parallel zum Normalenvektor der Plattenebene orientierte Strahlung eine vorwiegend konstante Strahlungsintensität über den im Wesentlichen gesamten Bereich der lichtauskoppelnden Platte aufweist.The light-coupling plate in the present case has an integrated prismatic structure or an integrated microprism structure. As soon as radiation interacts with these structures, it follows a beam path that results from the principles of optical reflection and optical refraction. In this case, the positions and orientations of the prism structures or microprism structures are configured in such a way that radiation entering the plate in a propagation direction parallel to the light-coupling plate plane predominantly results in a deflection angle ε of approximately 90 ° with respect to the incident propagation direction, ie parallel to the normal vector Plate level, fails from the plate. Furthermore, this light-coupling plate enables a splitting of the radiation so that the radiation emerging from the light-coupling plate and oriented parallel to the normal vector of the plate plane has a predominantly constant radiation intensity over the essentially entire region of the light-coupling plate.

Tritt nun Strahlung der ersten Strahlungsquelle 16 – entweder über einen zweiten Strahlungsleiter 11 oder in einer anderen, bevorzugten Anordnung – in einen ersten Strahlungsleiter 12 einer sich in einem ersten Zustand befindenden Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 ein, so tritt diese im vorliegenden Fall zu einer schmalen Seite in den als lichtauskoppelnde Platte ausgestalteten ersten Strahlungsleiter 12 ein und erfährt hierin eine derartige Modifikation, so dass Emissionsstrahlung 10 in vorwiegend paralleler Propagationsrichtung und vorwiegend konstanter Strahlungsintensität über die im Wesentlichen gesamte untere Fläche der lichtauskoppelnden Platte aus der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 austritt, und zwar vorwiegend mit einem Ablenkungswinkel ε von in etwa 90° gegenüber der in die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 eingetretenen Strahlung.Now kick radiation from the first radiation source 16 - either via a second radiation conductor 11 or in another preferred arrangement - in a first radiation conductor 12 a radiation processing device in a first state 2 a, so this occurs in the present case to a narrow side in the designed as lichtauskoppelnde plate first radiation conductor 12 and undergoes herein a modification such that emission radiation 10 in a predominantly parallel propagation direction and a predominantly constant radiation intensity over the substantially entire lower surface of the light-extracting plate from the radiation processing device 2 emerges, and in particular with a deflection angle ε of about 90 ° relative to that in the radiation processing device 2 occurred radiation.

Die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 weist im vorliegenden Fall ferner eine Abdeckvorrichtung auf, welche einen Eintritt und einen Austritt von Strahlung durch die anderen vier der sechs äußeren Flächen der im vorliegenden Fall quaderförmigen, lichtauskoppelnden Platte verhindert. In Bezug auf die linke Seite von 2 ist ein Strahlungsdurchtritt durch Flächen der lichtauskoppelnden Platte somit nur durch die rechte Fläche und die untere Fläche der lichtauskoppelnden Platte möglich.The radiation processing device 2 In the present case, moreover, it has a covering device which prevents the radiation from entering and exiting through the other four of the six outer surfaces of the cuboid-shaped, light-coupling plate in the present case. In terms of the left side of 2 is a radiation passage through surfaces of the light-outcoupling plate thus possible only through the right surface and the lower surface of the lichtauskoppelnden plate.

Bezugnehmend auf die 3a und 3b wird eine Applikation der Erfindung zur Raumbeleuchtung einer Arbeitsplatzumgebung 20 dargestellt. Diese Arbeitsplatzumgebung weist im vorliegenden Fall eine Strahlungsvorrichtung 1 in der Ausgestaltung einer Leuchte, einen Computer 18 sowie eine sich im Vordergrund des Computers 18 erstreckende Arbeitsfläche 19 auf.Referring to the 3a and 3b is an application of the invention for room lighting a workplace environment 20 shown. This workplace environment in the present case has a radiation device 1 in the embodiment of a lamp, a computer 18 as well as one in the foreground of the computer 18 extending work surface 19 on.

In 3a befindet sich nun die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 der Leuchte 1 in einem durch Schwenkung um eine Achse A herbeigeführten Zustand, welcher unter Bezugnahme auf 2 obig als zweiter, reflektierender Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 bezeichnet worden ist. Aus der durch den zweiten Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 herbeigeführten Beleuchtung eines Raumes resultiert eine Beleuchtungsverteilung in der Arbeitsplatzumgebung 20, welche sich insbesondere für Arbeiten an einem Computer 18 eignet. Aufgrund der Reflexion von Strahlung an einer reflektierenden Fläche 13 wird Strahlung vorwiegend diffus in den Raum emittiert. Hieraus resultiert eine diffuse, vorwiegend nicht gerichtete Hintergrundbeleuchtung der Arbeitsplatzumgebung 20 eines Raumes. Die Arbeitsfläche 19 wird hierbei durch nicht gerichtetes Licht bestrahlt.In 3a is now the radiation processing device 2 the light 1 in a state caused by pivoting about an axis A, which is described with reference to FIG 2 above as a second, reflective state of the radiation processing device 2 has been designated. From the second state of the radiation processing device 2 induced lighting of a room results in a lighting distribution in the workplace environment 20 , which is especially for working on a computer 18 suitable. Due to the reflection of radiation on a reflective surface 13 Radiation is mainly emitted diffusely in the room. This results in a diffuse, predominantly non-directed backlight of the workplace environment 20 a room. The work surface 19 is irradiated by non-directional light.

In 3b befindet sich nun die Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 der Leuchte 1 in einem durch Schwenkung um eine Achse A herbeigeführten Zustand, welcher unter Bezugnahme auf 2 obig als erster Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 bezeichnet worden ist. Aus der durch den zweiten Zustand der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 herbeigeführten Beleuchtung eines Raumes resultiert eine Beleuchtungsverteilung in der Arbeitsplatzumgebung 20, welche sich insbesondere für Arbeiten auf der Arbeitsfläche 19 eignet. Aufgrund der vorzugsweisen optischen Reflexion und Refraktion der Strahlung durch die vorzugsweisen integrierten, prismatischen oder mikroprismatischen Strukturen des ersten Strahlungsleiters 12 in der vorzugsweisen Ausgestaltung als lichtauskoppelnde Platte wird Strahlung vorwiegend gerichtet mit im Wesentlichen paralleler Propagationsrichtung aus der Strahlungsbearbeitungsvorrichtung 2 emittiert.In 3b is now the radiation processing device 2 the light 1 in a state caused by pivoting about an axis A, which is described with reference to FIG 2 above as the first state of the radiation processing device 2 has been designated. From the second state of the radiation processing device 2 induced lighting of a room results in a lighting distribution in the workplace environment 20 , which is especially for work on the work surface 19 suitable. by virtue of the preferred optical reflection and refraction of the radiation by the preferred integrated, prismatic or microprismatic structures of the first radiation guide 12 In the preferred embodiment as a light-coupling plate, radiation is predominantly directed with a substantially parallel propagation direction from the radiation processing device 2 emitted.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11: Strahlungsvorrichtung, LeuchteRadiation device, light
22: Erste StrahlungsbearbeitungsvorrichtungFirst radiation processing device
33: Halterungbracket
3a3a: Kopfzugewandtes HalterungselementHead-facing support element
3b3b: Mittleres HalterungselementMiddle support element
3c3c: Stellflächenzugewandtes HalterungselementSurface facing support member
44: Stellflächefootprint
55: Elektrischer AnschlussElectrical connection
66: StrahlungsvorrichtungskopfRadiation device head
77: Kopfgelenkhead joint
8a8a: Kopfzugewandte HalterungsstützeHead-facing support post
8b8b: Stellflächenzugewandte HalterungsstützePlaten-facing support post
99: Halterungsgelenkemount joints
1010: Emissionsstrahlungemission radiation
1111: Zweiter StrahlungsleiterSecond radiation conductor
1212: Erster StrahlungsleiterFirst radiation conductor
1313: Reflektierende FlächeReflective surface
1414: Schutzvorrichtungguard
1515: Fassungversion
1616: Erste StrahlungsquelleFirst radiation source
1717: Zweite StrahlungsquelleSecond radiation source
1818: Computercomputer
1919: Arbeitsflächeworking surface
2020: ArbeitsplatzumgebungWorkplace environment

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

US 7556399 B1 [0005, 0005]

Claims

Radiation device ( 1 ), in particular a luminaire, for the provision of emission radiation ( 10 ), in particular light, for the irradiation of a room, comprising: a first radiation source ( 16 ), which generates radiation, and a first radiation processing device ( 2 ) receiving at least part of the radiation, wherein the first radiation processing device ( 2 ) is set up by a relative movement with respect to the radiation source ( 16 ) at least a first state and a second state, and wherein the radiation in the first state predominantly in a first radiation conductor ( 12 ) of the radiation processing device ( 2 ) in which the radiation is scattered and in the second state on a surface of the radiation processing device ( 2 ) is predominantly reflected.

Radiation device ( 1 ) according to claim 1, which has a second radiation conductor ( 11 ), in particular a light guide, which between the first radiation source ( 16 ) and the radiation processing device ( 2 ) is arranged.

Radiation device ( 1 ) according to claim 1 or 2, wherein in the first state that of the first radiation source ( 16 ) generated radiation in the first radiation conductor ( 12 ) of the first radiation processing device ( 2 ) is transmissable.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the first radiation processing device ( 2 ) a reflective surface ( 13 ), at which in the second state that of the first radiation source ( 16 ) generated radiation is reflected.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the emission radiation ( 10 ) Infrared radiation, UV radiation, light in the visible wavelength spectrum, X-ray radiation, radioactive radiation, radio wave radiation or microwave radiation.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the emission radiation ( 10 ) is used to illuminate a room.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, which is arranged in such a way, the relative movement of the first radiation processing device ( 2 ) relative to the first radiation source ( 16 ) by pivoting about an axis (A) or to make a point or translational motion.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the first radiation conductor ( 12 ) has a microstructuring.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the first radiation conductor ( 12 ) has a prism structure.

Radiation device ( 1 ) according to claim 8 or 9, wherein scattered radiation is emitted when the radiation of the first radiation source ( 16 ) on the microstructure and / or the prism structure of the first radiation processing device ( 2 ).

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein scattered radiation and reflected radiation are emitted substantially parallel or orthogonal or anti-parallel to one another.

Radiation device ( 1 ) according to one of claims 2 to 11, wherein the second radiation conductor ( 11 ) and the first radiation source ( 16 ) and / or the second radiation conductor ( 11 ) and the first radiation processing device ( 2 ) are in direct mechanical contact with each other.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the use of a protective device ( 14 ) an emission from that of the first radiation source ( 16 ) to be assigned radiation mainly after processing by the first radiation processing device ( 2 ) he follows.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the at the first radiation processing device ( 2 ) scattered radiation with respect to the first radiation processing device ( 2 ) is deflected by an angle ε of approximately 90 °.

Radiation device ( 1 ) according to one of claims 2 to 14, wherein the second radiation conductor ( 11 ) a radiopaque protective device ( 14 ), which by pivoting the first radiation processing device ( 2 ) in a form-fitting manner with the first radiation processing device ( 2 ) is connectable.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, which at least one second radiation source ( 17 ) and / or at least one second radiation processing device.

Radiation device ( 1 ) according to claim 16, which is arranged in such a way that radiation of the first radiation source ( 16 ) can be received by at least the first and second radiation processing devices.

Radiation device ( 1 ) according to claim 16, which is arranged in such a way that radiation from at least the first and the second radiation source from the first radiation processing device ( 2 ) can be received.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, which is arranged in such a way that each radiation source is assigned exactly one radiation processing device, from which the radiation of this radiation source can be received.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, which has a holder for use as a floor or suspended spotlights.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, which has at least one spectral filter and / or a polarizing filter and / or an intensity filter and / or a lens and / or a beam splitter.

Radiation device ( 1 ) according to one of claims 16 to 21, wherein the operation of the at least first and second radiation source is independently controllable.

Radiation device ( 1 ) according to one of claims 16 to 22, wherein the at least first and second radiation processing device are independently pivotable.

Radiation device ( 1 ) according to one of claims 16 to 23, wherein a part of the at least first and second radiation processing device is coupled to each other, so that when performing a pivoting of the first radiation processing device ( 2 ) At least the second radiation processing device is pivoted.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, which is set up at the first radiation processing device ( 2 ) scattered radiation on exit from the first radiation processing device ( 2 ) has a surface-homogeneous or inhomogeneous radiation intensity, in particular a periodic and / or point-symmetrical and / or mirror-symmetrical radiation intensity pattern.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the first radiation source ( 16 ) is a light emitting diode, in particular an LED, a gas discharge source, in particular a mercury vapor lamp, an incandescent lamp, in particular a halogen incandescent lamp, a flame, an X-ray tube, a nuclear reactor or a heat source.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the reflective surface ( 13 ) is a mirror surface or has a rough surface texture.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the reflective surface ( 13 ) consists at least predominantly of metallic or semiconducting material.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the control of the acceptance of one of the at least two states of the first radiation processing device ( 2 ) by setting a solid angle γ between a propagation direction of the first radiation processing device ( 2 ) and the first radiation source ( 16 ) generated radiation and the first radiation processing device ( 2 ) he follows.

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein in the first state of the radiation processing device ( 2 ) scattered radiation predominantly directed emission radiation ( 10 ).

Radiation device ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein in the second state of the radiation processing device ( 2 ) reflected radiation predominantly diffuse emission radiation ( 10 ).

Space irradiation by generating a radiation pattern, in particular an intensity pattern and / or a wavelength pattern, by utilizing the at least one radiation device ( 1 ) provided emission radiation according to one of the preceding claims.