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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein System zur Überwachung der Position einer
Düse, wobei
die Düse
einen Teil einer Bearbeitungsanlage bildet, in der Flüssigkeiten
mittels der Düse
aufgesprüht
werden. Weiterhin betrifft die Erfindung ein System zur Regelung
der Position einer solchen Düse.
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In
nasschemischen Bearbeitungsanlagen, die gewöhnlicherweise zum Beispiel
in der Halbleiterindustrie zum Aufsprühen von Flüssigkeiten, wie beispielsweise Ätzflüssigkeiten,
Entwicklerflüssigkeiten und
anderen, auf ein zu bearbeitendes Substrat verwendet werden, sind
die Düsen,
die die Flüssigkeit auf
das Substrat aufsprühen,
gewöhnlicherweise
an einer festen Position in einem Gehäuse der Anlage angebracht.
Gelegentlich ist es notwendig, eine Düse von der vorbestimmten Position
zu entfernen, um beispielsweise die Düse zu reparieren oder instand
zu halten. Nach Beendigung des Instandhaltungsvorgangs oder des
Reparaturverfahrens wird die Düse wieder
in der vorbestimmten Position angebracht. In gewöhnlicher Weise verwendeten Ätzanlagen
sind beispielsweise zwei bis vier Düsen in einem Gehäuse montiert.
Nach Einbringen der Düsen
an ihre vorbestimmte Position ist es notwendig, die Position der Düsen exakt
zu justieren, um den Ausgangszustand der Anlage, der vor dem Entfernen
der Düsen
vorlag, wieder herzustellen.
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Gewöhnlicherweise
wird die exakte Position der Düsen
durch das Aufnehmen eines Bildes der auf das Substrat aufgesprühten Flüssigkeiten
vor dem Entfernen der Düsen
bestimmt. Nach dem erneuten Einbau der Düsen wird die Flüssigkeit
wieder auf das Substrat aufgesprüht
und Bilder des Substrats mit der darauf aufgesprühten Flüssigkeit aufgenommen. Die Justierung
wird so lange wiederholt, bis der aufgesprühte Flüssigkeitsfleck auf dem Substrat
zentriert ist. Danach wird ein weiterer Justierschritt durchgeführt, bei
dem ein Substrat, das dem herzustellenden Produkt ähnelt, verwendet
wird, und die Flüssigkeit
wird erneut auf dieses Substrat aufgesprüht. Es werden Bilder des Substrats
mit der aufgesprühten
Flüssigkeit
aufgenommen, und der Justierschritt wird wiederholt, bis das Bild
der aufgesprühten Flüssigkeiten
dem Bild, welches vor dem Entfernen der Düsen aufgenommen wurde, ähnelt. Genauer gesagt:
der Justierschritt wird so lange wiederholt, bis die Form bzw. der
Umriss der auf der Substratoberfläche, beispielsweise der Wafer-
oder der Maskenoberfläche,
verlaufenden Flüssigkeiten
der zuvor aufgenommenen Form entspricht.
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Da
die Düsen üblicherweise
um etwa 0,1 bis 3 mm bewegt werden können, gibt es eine große Spanne
für die
korrekte Positionierung der Düsen. Dementsprechend
ist die korrekte Justierung der Düsen ein aufwändiger und
schwieriger Prozess, insbesondere wenn zwei oder mehr Düsen justiert
werden müssen.
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Daher
ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein System zur Überwachung
der Position einer Düse,
die einen Teil einer Bearbeitungsanlage, in der Flüssigkeiten
mittels der Düse
aufgesprüht werden,
bildet, bereitzustellen. Weiterhin ist es eine Aufgabe der vorliegenden
Erfindung, ein System zur Regelung der Position einer solchen Düse bereitzustellen.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung werden die vorstehend genannten Aufgaben durch ein System
zur Überwachung
der Position einer Düse,
die einen Teil einer Bearbeitungsanlage, in der Flüssigkeiten
mittels der Düse
aufgesprüht
werden, bildet, gelöst,
wobei das System eine Lichtquelle, die einen Lichtstrahl emittiert
und an einer festen Position angebracht ist, ein Licht reflektierendes
Element, das an der Düse
an einer festen Position angebracht ist und geeignet ist, den Lichtstrahl,
der von der Lichtquelle emittiert wird, zu reflektieren, und eine
Nachweiseinrichtung, die an einer festen Position angeordnet ist,
umfasst.
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Dementsprechend
umfasst das System eine Lichtquelle, die beispielsweise eine gewöhnliche
Laserlichtquelle, insbesondere eine Laserdiode, sein kann. Die Lichtquelle
ist an einer festen Position angeordnet. Insbesondere kann die Lichtquelle
am Gehäuse
der Anlage montiert sein. Des Weiteren umfasst das System ein Licht
reflektierendes Element, das an der Düse an einer festen Position
montiert ist. Insbesondere kann das Licht reflektierende Element ein
Spiegel sein. Beispielsweise kann der Spiegel einen Teil der Düse bilden
oder er kann ablösbar
auf der Düse
montiert sein. Wenn der Spiegel einen Teil der Düse bildet, kann das Problem
auftreten, dass der Spiegel im Laufe der Zeit kontaminiert wird.
Andererseits ergibt sich der Vorteil, dass keine Probleme mit der
korrekten Justierung des Spiegels auf der Düse auftreten, wenn der Spiegel
einen Teil der Düse bildet.
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Alternativ
kann der Spiegel ablösbar
auf der Düse
montiert sein.
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Die
Nachweiseinrichtung kann beispielsweise eine Skala sein, von der
der reflektierte Lichtstrahl durch einen Bearbeiter abgelesen werden
kann.
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Vorzugsweise
umfasst das System weiterhin eine zweite Skala, die bezüglich der
ersten Skala gedreht ist. Beispielsweise kann die zweite Skala um 90° bezüglich der
ersten Skala gedreht sein. Jedoch kann die zweite Skala um jeden
beliebigen Winkel gedreht sein, sofern die erste und die zweite
Skala nicht parallel zueinander sind. In diesem Fall ist es möglich, die
Position der Düse
bezüglich
zweier Richtungen zu überwachen.
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Jedoch
kann die Nachweiseinrichtung auch als üblicherweise genutzter Fotodetektor
ausgeführt sein.
Insbesondere sollte der Fotodetektor als ein Fotodetektor, der sich
in zwei Richtungen erstreckt, ausgeführt sein, so dass sichergestellt
ist, dass der reflektierte Lichtstrahl auf den Fotodetektor auftrifft.
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Weiterhin
stellt die vorliegende Erfindung ein System zur Regelung der Position
einer Düse,
die einen Teil einer Bearbeitungsanlage, in der Flüssigkeiten
mittels der Düse
aufgesprüht
werden, bildet, bereit, wobei das System eine Lichtquelle, die einen Lichtstrahl
emittiert und an einer festen Position angeordnet ist, ein Licht
reflektierendes Element, das an der Düse an einer festen Position
montiert ist und geeignet ist, den Lichtstrahl, der von der Lichtquelle emittiert
wird, zu reflektieren, einen Detektor, der an einer festen Position
angeordnet ist und den Lichtstrahl, der von dem Licht reflektierenden
Element reflektiert wird, bestimmt, und einen Motor, der so mit dem
Detektor verbunden ist, dass er ein Signal, welches von dem Detektor
bereitgestellt wird, empfängt, umfasst,
wobei der Motor geeignet ist, die Düse entsprechend dem von dem
Detektor bereitgestellten Signal zu justieren.
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Das
Licht reflektierende Element kann wiederum gemäß dieser Ausführungsform
ein Spiegel sein. Insbesondere kann gemäß dieser Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung die Nachweiseinrichtung zur automatischen
Messung der Position des reflektierten Lichtstrahls in zwei Richtungen,
beispielsweise in Bezug auf eine X- und eine Y-Achse der Anlage,
geeignet und angepasst sein. Die Nachweiseinrichtung stellt einem
Motor, der mit der Nachweiseinrichtung verbunden ist, ein Signal
bereit.
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Der
Motor justiert die Position der Düse entsprechend dem von der
Nachweiseinrichtung bereitgestellten Signal.
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Dementsprechend
stellt die vorliegende Erfindung weiterhin ein System zur Verfügung, das
automatisch die Position der Düse
regelt, so dass die vorherige Position der Düse wieder hergestellt wird.
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Die
Systeme der vorliegenden Erfindung sind auf jede Art von Düsen, die
einen Teil einer nasschemischen Bearbeitungsanlage bilden, anwendbar.
Insbesondere können
die Düsen,
die mit Hilfe des Verfahrens der vorliegenden Erfindung justiert werden,
einen Teil einer Nassätzanlage,
einer Entwickleranlage oder einer beliebigen Anlage, die Flüssigkeiten
auf ein zu prozessierendes Substrat aufsprüht, bilden. Die Flüssigkeit,
die mit Hilfe der Düsen aufgesprüht werden
kann, kann jede beliebige Flüssigkeit,
wie beispielsweise Ätzlösungen,
Entwickler-Flüssigkeiten,
Wasser und andere, sein. Die vorliegende Erfindung kann insbesondere
für Halbleiter- oder
Fotomaskenbearbeitungsanlagen genutzt werden. Die Anlagen können eine,
zwei oder vier oder sogar mehr Düsen
umfassen. Des Weiteren kann das System Lichtquellen in einer solchen
Anzahl, die der Anzahl der zu justierenden Düsen entspricht, umfassen.
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Im
Folgenden wird die vorliegende Erfindung detaillierter mit Bezug
auf die Zeichnungen beschrieben, wobei
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1 ein
System zur Überwachung
der Position einer Düse
gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigt,
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2 ein
System zur Regelung der Position einer Düse gemäß der vorliegenden Erfindung
zeigt,
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3A eine
Düse, die
einen Spiegel gemäß einer
ersten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung umfasst, zeigt,
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3B eine
Düse, die
einen Spiegel gemäß einer
zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung umfasst, zeigt, und
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4 schematisch
ein Verfahren zur Regelung der Position einer Düse darstellt.
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1 stellt
schematisch eine nasschemische Bearbeitungsanlage, die ein System
zur Überwachung
der Position einer Düse
einhält,
dar. Wie in 1 gezeigt, ist ein zu bearbeitendes
Substrat 1 auf einem Substrathalter 2 angeordnet.
Das zu bearbeitende Substrat kann ein beliebiges Substrat sein und kann
beispielsweise aus einem halbleitenden, einem leitenden oder einem
isolierenden Material sein. Insbesondere kann das zu bearbeitende
Substrat 1 ein halbleitendes Substrat, wie beispielsweise
ein Siliziumsubstrat, sein oder es kann ein Substrat zur Bildung
einer Fotomaske, insbesondere ein Quarzsubstrat, sein.
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Der
Substrathalter 2 ist gewöhnlicherweise drehbar. Die
gesamte nasschemische Bearbeitungsanlage ist in einem Gehäuse 10 untergebracht.
In der gezeigten Ausführungsform
umfasst die nasschemische Bearbeitungsanlage zwei Düsen 3a, 3b,
die an dem Gehäuse 10 angebracht
sind. Die Düsen 3a, 3b sind
an dem Gehäuse
mit Hilfe von Befestigungselementen 4a, 4b befestigt.
Während
des Betriebs werden Flüssigkeiten 5a, 5b auf
das Substrat 1 mit Hilfe der Düsen 3a, 3b aufgesprüht. Das
System zur Überwachung
der Position der Düsen 3a, 3b umfasst Lichtquellen 6a, 6b,
die jeweils an einer festen Position angeordnet sind. Die Anzahl
der Lichtquellen entspricht im Allgemeinen der An zahl der zu justierenden
Düsen.
Insbesondere können
die Lichtquellen 6a, 6b an dem Gehäuse 10 der
Anlage angebracht sein. Die Lichtquellen 6a, 6b emittieren
einen Lichtstrahl 7a, 7b. Spiegel 16a, 16b sind
an einer festen Position auf den Düsen 3a, 3b montiert.
Die Anzahl der Spiegel entspricht der Anzahl der zu justierenden
Düsen.
Die Lichtstrahlen 7a, 7b werden durch die Spiegel 16a, 16b reflektiert,
und bilden dabei die reflektierten Lichtstrahlen 8a, 8b.
Die reflektierten Lichtstrahlen 8a, 8b treffen
auf die Nachweiseinrichtung 11 auf. Insbesondere kann die
Nachweiseinrichtung 11 ein gewöhnlicherweise genutzter Fotodetektor
sein. Alternativ kann die Nachweiseinrichtung ebenso eine Skala 9a, 9b umfassen.
In diesem Fall kann die exakte Auftreffposition 19a, 19b des
reflektierten Lichtstrahls 8a, 8b durch beispielsweise
einen Bearbeiter mittels der Skalen 9a, 9b bestimmt
werden.
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Des
Weiteren kann eine zweite Skala 9b optional bereitgestellt
werden, wobei die zweite Skala so angeordnet ist, dass sie sich
in eine Richtung, die von der Richtung der ersten Skala verschieden
ist, erstreckt. Insbesondere kann die zweite Skala 9b senkrecht
mit Bezug auf die erste Skala angeordnet sein. Durch das Ablesen
der Auftreffposition 19a, 19b des reflektierten
Lichtstrahls mit Bezug auf die zweite Skala 9b kann die
Position des reflektierten Lichtstrahls 8a in einer zweiten
Richtung bestimmt werden, und damit kann die Position der Düse in der zweiten
Richtung korrigiert werden.
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Alternativ
kann die Nachweiseinrichtung auch ein Fotodetektor 11,
der automatisch die Auftreffposition 19a, 19b des
auftreffenden Lichtstrahls 8a beurteilt, sein.
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In ähnlicher
Weise ist für
die zweite Düse 3b eine
zusätzliche
Lichtquelle 6b bereitgestellt, die einen Lichtstrahl 7b emittiert,
der durch den Spiegel 16b, der auf der zweiten Düse 3b angeordnet
ist, reflektiert wird. Der reflektierte Lichtstrahl 8b wird
in ähnlicher
Weise durch die Nachweiseinrichtung 11, die eine erste
und eine zweite Skala 9a, 9b umfassen kann, nachgewiesen.
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Die
Position einer Düse,
die einen Teil einer nasschemische Bearbeitungsanlage bildet, kann
mit Hilfe des in 1 dargestellten Systems wie
folgt überwacht
werden. Ausgehend von der im Betrieb befindlichen nasschemischen
Bearbeitungsanlage wird in einem ersten Schritt (Referenzmessung)
der Lichtstrahl 7a von der Lichtquelle 6a emittiert,
durch den Spiegel 16a reflektiert und trifft auf das Gehäuse der
Anlage. Die Auftreffposition 19a, 19b des reflektierten
Lichtstrahls bezüglich
der ersten und optional der zweiten Skala kann visuell durch einen
Bearbeiter bestimmt werden. Die Auftreffposition 19a, 19b des
reflektierten Lichtstrahls wird aufgezeichnet, beispielsweise auf
einem Stück
Papier. Dieser Messschritt wird für jede der Düsen, die
abmontiert und wieder justiert werden sollen, wiederholt. Danach wird
die Düse 3a von
dem Gehäuse
abmontiert, repariert, gereinigt und wieder an dem Gehäuse 10 montiert.
Danach wird eine weitere Messung in derselben Art wie die Referenzmessung,
die vor der Demontage der Düse
ausgeführt
wurde, vorgenommen. Insbesondere wird ein Lichtstrahl durch die
Lichtquelle 6a emittiert und der Lichtstrahl 7a wird
durch den Spiegel 16a reflektiert, wobei er einen reflektierten Lichtstrahl 8a bildet,
der wieder auf das Gehäuse
der Anlage auftrifft. Die Auftreffposition 19a, 19b des
reflektierten Lichtstrahls 8a wird wiederum visuell bestimmt
durch das Ablesen der ersten und optional der zweiten Skala. Der
Bearbeiter vergleicht die Auftreffposition 19a, 19b des
reflektierten Lichtstrahls mit der aufgezeichneten Auftreffposition
des Referenzmessschritts und justiert manuell die Position der Düsen so,
dass schließlich
die Position des reflektierten Lichtstrahls 8a auf dem
Gehäuse
identisch mit der aufgezeichneten Position des Referenzmessschrittes
ist. Dann ist der Justiervorgang der Düse beendet. Der Justiervorgang
kann ebenso auf eine Vielzahl von Düsen angewendet werden, indem
die Mess- und Justierschritte, die vorstehend beschrieben wurden,
nacheinander ausgeführt
werden.
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2 zeigt
eine zweite Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, die ein System zur Regelung der Position
einer Düse
betrifft. Wie in 2 gezeigt, umfasst das System
zur Regelung der Position einer Düse Lichtquellen 6a, 6b,
die Lichtstrahlen 7a, 7b emittieren, wobei jede
der Lichtquellen an einer festen Position angebracht ist. Ähnlich wie
bei der ersten Ausführungsform
ist jede der Lichtquellen 6a, 6b an einer festen
Position angeordnet und kann insbesondere an dem Gehäuse der
Bearbeitungsanlage montiert sein. Des Weiteren ist ein Spiegel 16a, 16b auf jeweils
einer Düse
an einer festen Position montiert, und jeder der Spiegel 16a, 16b reflektiert
einen entsprechenden Lichtstrahl 7a, 7b, der von
einer der Lichtquellen 6a bzw. 6b emittiert wird.
Das System gemäß der zweiten
Ausführungsform
umfasst weiterhin einen Detektor 11, der an einer festen
Position angeordnet ist. Insbesondere weist der Detektor die Lichtstrahlen 8a, 8b,
die durch die Spiegel reflektiert werden, nach und bestimmt die
Auftreffposition 19a, 19b der reflektierten Lichtstrahlen 8a, 8b.
Eine Regeleinrichtung 18a, 18b kann so bereitgestellt
werden, dass es ein Positionssignal von der Nachweiseinrichtung 11 über eine
Verbindung 12a, 13a, 12b, 13b erhält. Die
Regeleinrichtung 18a, 18b bestimmt auf der Grundlage
dieser Positionsdaten einen Justierbetrag. Ein Signal wird zum Motor 14a, 14b über eine Verbindung 15a, 15b übermittelt,
so dass verursacht wird, dass der Motor 14a, 14b veranlasst
wird, die Düse 3a, 3b um
einen bestimmten Betrag bewegt. Dementsprechend wird der Motor 14a, 14b bereitgestellt
und mit der Düse 3a, 3b so
verbunden, dass die Düse 3a, 3b entsprechend
einem Signal, das von der Regeleinrichtung 18a, 18b bereitgestellt
wird, bewegt wird. Der erste Motor 14a steuert an/betätigt die
erste Düse 3a,
während
der zweite Motor 14b die zweite Düse 3b ansteuert/betätigt. Gemäß der zweiten
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung sollte der Detektor 11 ein Detektor
sein, der eine räumliche Ausdehnung
in der Art hat, dass sichergestellt ist, dass der reflektierte Lichtstrahl
auf den Detektor auftrifft. Der Detektor bestimmt die Auftreffposition 19a, 19b des
reflektierten Lichtstrahls mit Bezug auf zwei Richtungen, z.B. mit
Bezug auf die X- und die Y-Koordinate des Systems.
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Das
System gemäß der zweiten
Ausführungsform
umfasst weiterhin ein Speichergerät zur Speicherung der Position
des reflektierten Lichtstrahls. Das Speichergerät kann einen Teil des Detektors 11 bilden
oder kann ein separates Gerät
sein, das mit dem Detektor verbunden ist.
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Die 3A und 3B zeigen
die Düse
mit dem darauf an einer festen Position montierten Spiegel detaillierter.
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Genauer
gesagt, kann der Spiegel 16a gemäß der Ausführungsform der Düse, die
in 3A gezeigt ist, fest auf der Düse angebracht sein. Mit anderen
Worten: der Spiegel 16a kann einen Teil der Düse bilden,
oder er kann zumindest einen Teil des Befestigungselements 4a bilden,
mit dem die Düse an
dem Gehäuse
der Anlage montiert ist. Dabei kann der Spiegel auf dem Befestigungselement 4a mittels eines
Klebers befestigt sein. Gleichermaßen kann der Spiegel 16a auf
der Oberfläche
der Düse 3a,
beispielsweise mit einem Kleber, befestigt sein.
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Alternativ
kann der Spiegel 16a auf der Düse 3a mittels eines
Befestigungselementes bzw. einer Befestigungsklammer 17 befestigt
sein, wie dies in 3B gezeigt ist. In diesem Fall
kann der Spiegel von der Düse 3a entfernt
werden. Damit ist die Kontamination des Spiegels unwahrscheinlich.
Insbesondere kann die korrekte Position des Spiegels auf der Düse 3a durch
das Aufbringen einer Markierung auf der Düse sichergestellt werden, so
dass der Spiegel 16a an einer festen Position der Düse 3a platziert werden
kann.
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4 stellt
schematisch das Verfahren zur Regelung der Position einer Düse, die
einen Teil einer Bearbeitungsanlage bildet, dar, welches mit Hilfe des
Systems der vorliegenden Erfindung ausgeführt werden kann. Ausgehend
vom Betrieb der nasschemischen Bearbeitungsanlage, wird in einem
ersten Schritt S1 der Lichtstrahl 7a von der Lichtquelle 6a emittiert,
durch den Spiegel 16a reflektiert und durch den Detektor 11 bestimmt.
Die Auftreffposition 19a des reflektierten Lichtstrahls
wird in einem geeigneten Speichermittel aufgezeichnet. Dieser Messschritt wird
für alle
Düsen,
die demontiert und wieder justiert werden sollen, wiederholt. Danach
wird die Düse 3a vom
Gehäuse
demontiert, repariert, gereinigt und wieder am Gehäuse 10 montiert
(Schritt S2). Danach wird im Schritt S3 eine Messung in derselben
Art wie in der Referenzmessung, die in Schritt S1 durchgeführt wurde,
ausgeführt.
Insbesondere wird ein Lichtstrahl von der Lichtquelle 6a emittiert
und der Lichtstrahl 7a wird durch den Spiegel 6a reflektiert,
wobei ein reflektierter Lichtstrahl 8a gebildet wird, der
durch den Detektor 11 bestimmt wird. Der Schritt S4 ist
ein Vergleichsschritt, bei dem die gemessene Position des reflektierten
Lichtstrahls 8a mit der aufgezeichneten Position des Referenzmessschritts
S1 verglichen wird. Wenn die gemessene Position aus Schritt S4 mit
der aufgezeichneten Position, die im Referenzmessschritt S1 gemessen
worden ist, übereinstimmt,
so ist der Vorgang beendet, und das Verfahren geht weiter zu Schritt
S5, womit der Prozess für eine
bestimmte Düse
beendet wird.
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Wenn
andererseits die gemessene Position nicht mit der gemessenen Position
aus dem Referenzmessschritt S1 zusammenfällt, wird ein Justierschritt
durchgeführt.
Insbesondere steuert der Motor 14a in diesem Justierschritt
S6 die Düse 3a so
an, dass sie sich in die aufgezeichnete Position bewegt. Insbesondere
kann der Justierschritt S6 in beliebiger Art durchgeführt werden.
Beispielsweise kann eine Regeleinrichtung 18a bereitgestellt
werden, welche den Justierbetrag auf der Grundlage der Differenz zwischen
der aktuell gemessenen Position und der Referenzposition bestimmt.
Alternativ kann der Motor 14a so ausgestaltet sein, dass
er die Position der jeweiligen Düse
um einen kleinen Betrag justiert, so dass die korrekte Position
der Düse 3a durch
ein iteratives Verfahren bestimmt wird. Nach dem Justierschritt
S6 wird erneut ein Messschritt S3 durchgeführt, nachfolgend wird ein Vergleichsschritt
durchgeführt.
Sobald die Referenzposition der Düse erreicht ist, ist das Verfahren
zur Regelung der Position der spezifischen Düse 3a beendet. Danach
wird die Prozedur für
eine beliebige andere zu justierende Düse wiederholt.
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- 1
- Substrat
- 2
- Substrathalter
- 3a,
3b
- Düse
- 4a,
4b
- Befestigungselement
- 5a,
5b
- aufgesprühte Flüssigkeit
- 6a,
6b
- Lichtquelle
- 7a,
7b
- emittierter
Strahl
- 8a,
8b
- reflektierter
Strahl
- 9a,
9b
- Skala
- 10
- Gehäuse
- 11
- Nachweiseinrichtung
- 12a,
12b
- Verbindung
- 13a,
13b
- Verbindung
- 14a,
14b
- Motor
- 15a,
15b
- Verbindung
- 16a,
16b
- Spiegel
- 17
- Befestigungselement
- 18a,
18b
- Regeleinrichtung
- 19a,
19b
- Auftreffposition
- S1
- Referenzmessschritt
- S2
- Demontage-/Montageschritt
- S3
- Messschritt
- S4
- Vergleichsschritt
- S5
- Ende
- S6
- Justierschritt