DE202005009955U1 - Electrically operated component, e.g. for use as a pixel element in a visual display element, has hole and electron injecting contacts and a gate electrode between which voltages are applied to spatially control light emission - Google Patents

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Abstract

Electrically operated component with a substrate and an active layer (2) that transports electrons and holes. In contact with the active layer are electron injecting (3) and hole-injecting (4) contacts on top of which are an insulating layer (5) and a gate electrode (6). The active layer has a laterally varying emission wave length, whose emission is controlled by the applied voltage between the gate and charge-carrier injecting electrodes.

Description

Stand der TechnikState of the art

Die vorliegende Erfindung betrifft ein elektrisch betriebenes Bauelement, welches die Emission von Licht elektrisch generiert und dessen Emissionsspektrum (Farbe) durch Anlegen einer oder mehrerer Spannungen verändert werden kann. Ein solches Bauelement wird im Folgenden als farbveränderliche Lichtquelle bezeichnet. Mögliche Anwendungen solcher farbveränderlicher Lichtquellen sind Farbbildschirme („Full-Color-Displays"), insbesondere Flachbildschirme. Pixel solcher Farbbildschirme bestehen meist aus drei Leuchtdioden unterschiedlicher Farbe, rot, blau und grün, welche getrennt voneinander angesteuert werden können. Verschiedene Methoden zur Herstellung derartiger Pixel, insbesondere auf der Basis organischer Leuchtdioden, sind beispielsweise aus US 5,294,870 und US 5,707,745 bekannt. Derartige Ausbildungen haben den Nachteil, dass die Pixel aus drei getrennten Leuchtdioden bestehen, was eine komplexe Herstellung und eine komplexe elektrische Anorderung erfordert.The present invention relates to an electrically operated device which generates the emission of light electrically and whose emission spectrum (color) can be changed by applying one or more voltages. Such a component is referred to below as a color changeable light source. Possible applications of such color-changeable light sources are full-color displays, in particular flat-panel displays .Pixels of such color screens usually consist of three light-emitting diodes of different color, red, blue and green, which can be controlled separately from one another , in particular on the basis of organic light-emitting diodes, are for example made US 5,294,870 and US 5,707,745 known. Such designs have the disadvantage that the pixels consist of three separate light-emitting diodes, which requires complex manufacture and complex electrical requirements.

Des Weiteren ist die Herstellung von Pixeln für Farbdisplays durch das Stapeln von mehreren Leuchtdioden aus US 6,312,836 bekannt. Auch hier weist die farbveränderliche Lichtquelle eine Struktur auf, die einen hohen Herstellungs- und meist auch Kostenaufwand erfordert. Zusätzlich sind mindestens drei Spannungen zur Steuerung der Farbemission notwendig.Furthermore, the production of pixels for color displays is characterized by the stacking of several light emitting diodes US 6,312,836 known. Again, the color variable light source has a structure that requires a high manufacturing and usually also cost. In addition, at least three voltages are necessary to control the color emission.

Weitere Methoden der Herstellung farbveränderlicher organischer Leuchtdioden, die durch die Variation der angelegten Spannung gesteuert werden, beruhen auf der Feldabhängigkeit der Ladungsträgerbeweglichkeiten bzw. der Emissionseigenschaften angeregter Zustände (C. C. Huang, H. F. Meng, G. K. Ho, C. H. Chen, C. S. Hsu, J. H. Huang, S. F. Horng, B. X. Chen und L. C. Chen „Colortunable multilayer light-emitting diodes based on conjugated polymers" in Applied Physics Letters 84, 1195–1197 (2004); H. Tan und J. Yao „Color tunable organic thin film light emitting devices based on heterostructure" in Proceedings of the SPIE 5280, 495–498 (2004); J. Kalinowski, P. Di Marco, M. Cocchi, V. Fattori, N. Camaioni und J. Duff „Voltage-tunable-color multilayer organic light-emitting diode" in Applied Physics Letters 68, 2317–2319 (1996)). Allerdings ist die simultane Kontrolle des Emissionsspektrums und der Emissionsintensität meist nicht möglich. Ebenso ist die Variation des Emissionsspektrums oftmals nur begrenzt möglich.Further Methods of preparation color changeable organic light-emitting diodes caused by the variation of the applied Voltage controlled are based on the field dependence the charge carrier mobilities or excited state emission properties (C.C. Huang, H.F. Meng, G.K. Ho, C.H. Chen, C.S. Hsu, J.H. Huang, S.F. Horng, B.X. Chen and L.C. Chen "Colortunable multilayer light-emitting diodes based on conjugated polymers "in Applied Physics Letters 84, 1195-1197 (2004); H. Tan and J. Yao "Color tunable organic thin film light emitting devices based on heterostructure "in Proceedings of the SPIE 5280, 495-498 (2004); J. Kalinowski, P. Di Marco, M. Cocchi, V. Fattori, N. Camaioni and J. Duff "Voltage-tunable-color multilayer organic light-emitting diode "in Applied Physics Letters 68, 2317-2319 (1996)). However, the simultaneous control of the emission spectrum and the emission intensity usually not possible. Likewise, the variation of the emission spectrum is often limited possible.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine elektrisch betriebene, farbveränderliche Lichtquelle der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass eine einfachere Herstellung und verbesserte Kontrolle der Emissionseigenschaften ermöglicht wird. Insbesondere besteht die erfindungsgemäße Lichtquelle nicht aus mehreren getrennten Leuchtdioden, welches eine einfachere Ansteuerung ermöglicht.Of the present invention is based on the object, an electrically operated, color changeable Refine light source of the type mentioned in such a way that a simpler production and improved control of the emission characteristics is made possible. In particular, the light source according to the invention does not consist of several separate light emitting diodes, which allows easier control.

Vorteile der ErfindungAdvantages of the invention

Die erfindungsgemäße farbveränderliche Lichtquelle hat den Vorteil, dass eine Variation des Emissionsspektrums durch die Modulation einer bzw. zweier Spannungen) erreicht werden kann. Ebenso kann die Intensität der Emission simultan mit dem Emissionsspektrum durch zwei angelegte Spannungen kontrolliert werden. Im Vergleich zu Farbpixeln für Display-Anwendungen, die herkömmlicherweise aus drei Leuchtdioden aufgebaut sind und durch mindestens drei Spannungen gesteuert werden, besitzt die erfindungsgemäße Lichtquelle einen vereinfachten Aufbau. Darüber hinaus ist die Anwendung der gattungsgemäßen farbveränderlicher Lichtquellen nicht notwendigerweise auf Farbdisplays begrenzt. Prinzipiell ermöglicht eine vorteilhafte Ausführungsform einer derartigen Lichtquelle auch die farbveränderliche Emission von kohärenter Strahlung.The Inventive color changeable light source has the advantage that a variation of the emission spectrum by the modulation of one or two voltages) can be achieved. Likewise, the intensity the emission simultaneously with the emission spectrum by two applied Tensions are controlled. Compared to color pixels for display applications, which conventionally three light-emitting diodes are constructed and by at least three voltages be controlled, the light source of the invention has a simplified Construction. About that In addition, the application of the generic color variable light sources is not necessarily limited to color displays. In principle, allows one advantageous embodiment Such a light source and the color variable emission of coherent radiation.

Die erfindungsgemäße Lichtquelle basiert auf dem Prinzip des lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors und auf der lateralen Verschiebung der Emissionszone durch die Modulation einer an die Lichtquelle angelegten Spannung, wobei die emittierende Schicht zusätzlich eine laterale Variation des Emissionsspektrums aufweist.The Light source of the invention is based on the principle of the light-emitting, ambipolar field-effect transistor and on the lateral shift of the emission zone by the modulation a voltage applied to the light source, the emitting one Layer in addition has a lateral variation of the emission spectrum.

Das Funktionsprinzip eines lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors und Methoden zur Herstellung sind dem Fachmann bekannt (siehe z. B. J. H. Schön, A. Dodabalapur, Ch. Kloc und B. Batlogg, „A Light-Emitting Field-Effect Transistor", Science 290, 963–965 (2000); C. Rost, S. Karg, W. Riess, M. A. Loi, M. Murgia und M. Muccini, „Ambipolar light-emitting organic field-effect transistor", Applied Physics Letters 85, 1613–1615 (2004); J. A. Misewich, R. Martel, Ph. Avouris, J. C. Tsang, S. Heinze und J. Tersoff, „Electrically Induced Optical Emission from a Carbon Nanotube", Science 300, 783–785 (2003); WO 2004 / 086526 A2; US 2004 / 0061422 A1; WO 2004 / 095591 A1).The functional principle of a light-emitting, ambipolar field-effect transistor and methods of production are known to the person skilled in the art (see, for example, BJH Schön, A. Dodabalapur, Ch.Kloc and B. Batlogg, "A Light-Emitting Field-Effect Transistor", Science 290, 963- 965 (2000); C. Rost, S. Karg, W. Riess, MA Loi, M. Murgia and M. Muccini, "Ambipolar light-organic field-effect transistor", Applied Physics Letters 85, 1613-1615 (2004 JA Misewich, R. Martel, Ph. Avouris, JC Tsang, S. Heinze and J. Tersoff, "Electrically Induced Optical Emission from a Carbon Nanotube", Science 300, 783-785 (2003); WO 2004 / 086526A2 ; US 2004 / 0061422 A1; WO 2004/095591 A1).

Zeichnungdrawing

Die Wirkungsweise und die Vorteile der erfindungsgemäßen Lichtquelle werden anhand der Zeichnungen näher dargestellt. Es zeigen:The Mode of action and the advantages of the light source according to the invention are based on closer to the drawings shown. Show it:

1a und 1b: aus dem Stand der Technik bekannte Anordnungen für lichtemittierende, ambipolare Feldeffekttransistoren in einer schematischen Darstellung 1a and 1b : Arrangements known from the prior art for light-emitting, ambipolar field-effect transistors in a schematic representation

2a und 2b: die Variation der örtlichen Position der Rekombinationszone durch die Modulation der Gate-Spannung und/oder der Spannung zwischen den beiden Ladungsträger-injizierenden Kontakten in einer schematischen Darstellung 2a and 2 B FIG. 2: the variation of the local position of the recombination zone by the modulation of the gate voltage and / or the voltage between the two charge carrier injecting contacts in a schematic representation

3: die Variation der lateralen Position der Rekombinationszone durch die Modulation der Gate-Spannung und/oder der Spannung zwischen den beiden Ladungsträger-injizierenden Kontakten eines lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors mit Aluminium-Kontakten, einem Aluminiumoxid Isolator, einer Indium-Zinnoxid Gate-Elektrode und einer aktiven Schicht aus dem organischen Halbleiter α-Sexithiophen 3 FIG. 2 shows the variation of the lateral position of the recombination zone by the modulation of the gate voltage and / or the voltage between the two charge carrier injecting contacts of a light-emitting ambipolar field-effect transistor with aluminum contacts, an aluminum oxide insulator, an indium-tin oxide gate electrode and a active layer of the organic semiconductor α-sexithiophene

4a und 4b: Anordnungen lichtemittierender, ambipolarer Feldeffekttransistoren, deren aktive Schichten lokale (laterale) Variationen der Emissionseigenschaften aufweisen und in denen die Veränderung der lateralen Position der Rekombinationszone durch die Variation der angelegten Spannungen eine kontrollierte Modulation der spektralen Lichtenmission ermöglicht, in einer schematischen Darstellung 4a and 4b Arrangements of light-emitting, ambipolar field-effect transistors whose active layers have local (lateral) variations of the emission properties and in which the change of the lateral position of the recombination zone by the variation of the applied voltages enables a controlled modulation of the spectral light emission, in a schematic representation

5: die chemische Struktur dreier Oliophenylenvinylen-Moleküle: OPV3, OPV4 und OPV5 5 : the chemical structure of three oliophenylenevinylene molecules: OPV3, OPV4 and OPV5

6: die spektrale Verteilung der Lichtemission einer lichtemittierenden Feldeffektransistorstruktur, deren aktive Schicht lokal unterschiedliche Konzentration der organischen Halbleiter OPV3, OPV4 und OPV5 enthält, so dass die Lichtemission in Abhängigkeit der örtlichen Position variiert, wobei Region 1 vorwiegend aus OPV3, Region 2 vorwiegend aus OPV4 und Region 3 vorwiegend aus OPV5 besteht 6 : the spectral distribution of the light emission of a light-emitting field-effect transistor structure whose active layer contains locally different concentrations of the organic semiconductors OPV3, OPV4 and OPV5, such that the light emission varies depending on the local position, with region 1 mainly from OPV3, region 2 mainly from OPV4 and region 3 mainly consists of OPV5

7: die spektrale Verteilung Lichtemission einer lichtemittierenden Feldeffektransistorstruktur unter hoher Anregungsintensität, wobei die aktive Schicht lokal unterschiedliche Konzentration der organischen Halbleiter OPV3, OPV4 und OPV5 enthält, so dass die Lichtemission in Abhängigkeit der örtlichen Position variiert, wobei Region 1 vorwiegend aus OPV3, Region 2 vorwiegend aus OPV4 und Region 3 vorwiegend aus OPV5 besteht. 7 : the spectral distribution light emission of a light emitting Feldeffektransistorstruktur under high excitation intensity, wherein the active layer locally different concentration of the organic semiconductor OPV3, OPV4 and OPV5 contains, so that the light emission varies depending on the local position, wherein region 1 mainly from OPV3, region 2 mainly from OPV4 and region 3 mainly consists of OPV5.

8: eine Anordnung eines lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors, dessen aktive Schicht lokale Variationen der Emissionseigenschaften aufweist, zusätzliche Elektronen- und Löcher-transportierende Schichten eingebracht sind und in dem die Rekombinationszone durch Variation der angelegten Spannungen kontrolliert Modulationen der spektralen Lichtenmission ermöglicht, in einer schematischen Darstellung Ausführungsbeispiele 8th : an arrangement of a light-emitting, ambipolar field-effect transistor whose active layer has local variations in the emission properties, additional electron and hole-transporting layers are introduced and in which the recombination zone controlled by variation of the applied voltages allows modulation of the spectral light emission, in a schematic representation embodiments

1a zeigt den schematischen Aufbau eines lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors. Ein solcher Transistor besteht aus einem Substrat (1), auf das eine aktive Schicht (2) aufgebracht ist, die sowohl negative Ladungsträger (Elektronen) als auch positive Ladungsträger (Löcher) transportieren kann. Prinzipiell kann die aktive Schicht (2) auch die Funktion des Substrats (1) ausfüllen. Die aktive Schicht (2) besteht vorzugsweise aus einem halbleitenden Material, welches amorph, polykristallin oder einkristallin ausgebildet sein kann. Die Schicht (2) kann darüber hinaus aus einem homogenen Material oder einem Gemisch verschiedener Materialien bestehen. Hierbei kommen organische Materialien, anorganische Materialien, und auch organisch-anorganische Hybrid-Materialien in Betracht. Ebenso so ist eine Dotierung und/oder Legierung des halbleitenden Materials mit einer oder mehreren Substanzen denkbar. Des Weiteren kann es vorteilhaft sein, dass die aktive Schicht (2) aus einem Stapel von Schichten besteht oder dass ihre Dimensionalität eingeschränkt ist. 1a shows the schematic structure of a light-emitting, ambipolar field effect transistor. Such a transistor consists of a substrate ( 1 ) to which an active layer ( 2 ), which can transport both negative charge carriers (electrons) and positive charge carriers (holes). In principle, the active layer ( 2 ) also the function of the substrate ( 1 ) fill out. The active layer ( 2 ) preferably consists of a semiconducting material which may be amorphous, polycrystalline or monocrystalline. The layer ( 2 ) may also consist of a homogeneous material or a mixture of different materials. In this case, organic materials, inorganic materials, and also organic-inorganic hybrid materials come into consideration. Likewise, a doping and / or alloying of the semiconductive material with one or more substances is conceivable. Furthermore, it may be advantageous that the active layer ( 2 ) consists of a stack of layers or that their dimensionality is limited.

Es ist insbesondere vorteilhaft, wenn die aktive Schicht (2) durch einen kostengünstigen Prozess wie die Abscheidung aus einem Lösungsmittel (z. B. „Spin-Coating", „Sol-Gel-Coating", „Chemical Bath Deposition") oder eine Drucktechnik (z. B. „Inkjet-Printing", „Transfer Printing") hergestellt wird.It is particularly advantageous if the active layer ( 2 ) by a cost-effective process such as solvent deposition (eg, spin-coating, sol-gel coating, chemical bath deposition) or a printing technique (eg, inkjet printing), "Transfer Printing") is produced.

Angrenzend an die aktive Schicht (2) befinden sich zwei elektrische Kontakte (3, 4). Diese Kontakte (3, 4) können beide aus dem gleichen Material, beispielsweise Gold, hergestellt sein, vorteilhafterweise sind die Kontakte (3, 4) aber so ausgebildet, dass einer der Kontakte (3) bevorzugt Elektronen in die aktive Schicht (2) injiziert und der andere Kontakt (4) bevorzugt Löcher in die aktive Schicht (2) injiziert. Hierbei kann es sich entweder um ohmsche Kontakte oder auch um Schottky-Kontakte handeln. Typische ohmsche Kontaktmaterialien zur Elektronen-Injektion weisen eine niedrige Austrittsarbeit auf, wie beispielsweise Aluminium, Kalzium, Magnesium oder Alkalifluoride. WO 2004 / 066332 A2, WO 00 / 16361 und EP 1 369 938 A2 beschreiben hierzu eine Vielzahl von Materialien zur Elektronen-Injektion in organische Halbleiter. Zur Löcher-Injektion können beispielsweise Materialien mit hoher Austrittsarbeit wie Gold, Indium-Zinnoxid oder Titannitrid verwendet werden. Für den Fachmann ist unmittelbar erkennbar, dass durch die Verwendung von geeigneten Pufferschichten oder andere geeignete Maßnahmen wie lokale Dotierprofile eine Verbesserung der Injektionseigenschaften für Elektronen bzw. Löcher erzielt werden kann. Die Kontakte (3, 4) befinden sich in Berührung mit der aktiven Schicht (2).Adjacent to the active layer ( 2 ) there are two electrical contacts ( 3 . 4 ). These contacts ( 3 . 4 ) can both be made of the same material, for example gold, advantageously the contacts ( 3 . 4 ) but designed so that one of the contacts ( 3 ) prefers electrons into the active layer ( 2 ) and the other contact ( 4 ) prefers holes in the active layer ( 2 ). These can be either ohmic contacts or Schottky contacts. Typical ohmic contact materials for electron injection have a low work function, such as aluminum, calcium, magnesium or alkali fluorides. WO 2004/066332 A2, WO 00/16361 and EP 1 369 938 A2 describe a variety of materials for electron injection into organic semiconductors. For hole injection, for example, high work function materials such as gold, indium tin oxide or titanium nitride can be used. It is immediately apparent to the person skilled in the art that an improvement in the injection properties for electrons or holes can be achieved by using suitable buffer layers or other suitable measures such as local doping profiles. The contacts ( 3 . 4 ) are in contact with the active layer ( 2 ).

Eine elektrisch isolierende Schicht (5) trennt die elektrischen Kontakte (3, 4) sowie die aktive Schicht (2) von der leitfähigen Gate-Elektrode (6). Typische Isolationsmaterialien (5) sind beispielsweise Siliziumoxid, Aluminiumoxid, Polyimid oder Polymethylmethacrylat. Dem Fachmann sind weitere organische und anorganische Materialien zur Verwendung als Gate-Isolator in Feldeftekttransistoren bekannt. Ebenso ist es denkbar, dass die isolierende Schicht (5) aus mehr als einem Material bzw. aus mehreren Schichten besteht. Zusätzlich kann die Grenzfläche zwischen der isolierenden Schicht (5) und der aktiven Schicht (2) durch geeignete Pufferschichten oder selbstorganisierte Monoschichten modifiziert sein, die die Herstellung und/oder die Eigenschaften des lichtemittierenden Transistors verbessern. Mögliche Materialien für die Gate-Elektrode (6) sind Metalle oder transparente, leitfähige Oxide wie Indium-Zinnoxid oder dotiertes Zinkoxid. Weitere Materialien sind dem Fachmann aus dem Stand der Technik bekannt.An electrically insulating layer ( 5 ) disconnects the electrical contacts ( 3 . 4 ) as well as the active layer ( 2 ) from the conductive gate electrode ( 6 ). Ty typical insulation materials ( 5 ) are, for example, silica, alumina, polyimide or polymethylmethacrylate. Those skilled in the art will be aware of other organic and inorganic materials for use as gate insulators in field effect transistors. Likewise, it is conceivable that the insulating layer ( 5 ) consists of more than one material or of several layers. In addition, the interface between the insulating layer ( 5 ) and the active layer ( 2 ) may be modified by suitable buffer layers or self-assembled monolayers which improve the fabrication and / or the properties of the light-emitting transistor. Possible materials for the gate electrode ( 6 ) are metals or transparent, conductive oxides such as indium tin oxide or doped zinc oxide. Other materials are known to those skilled in the art.

Es ist insbesondere vorteilhaft, wenn die Ladunggträger-injizierenden Kontakte (3, 4) und/oder die Gate-Elektrode (6) durch einen kostengünstigen Prozess wie die Abscheidung mittels „Inkjet-Printing", „Transfer Printing" oder „Soft Lithography" hergestellt werden. Weitere Methoden sind dem Fachmann aus dem Stand der Technik bekannt.It is particularly advantageous if the charge carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) and / or the gate electrode ( 6 ) are produced by a low cost process such as "inkjet printing", "transfer printing" or "soft lithography." Other methods are known to those skilled in the art.

Durch das Anlegen einer Spannung an die Gate-Elektrode (6) werden durch die Kontakte (3, 4) an der Grenzfläche zur isolierenden Schicht (5) Ladungsträger in die aktive Schicht (2) injiziert. Durch das Anlegen einer Spannung zwischen den beiden Elektroden (3 und 4) kann nun eine gleichzeitige Elektronen-Injektion aus Elektrode (3) und Löcher-Injektion aus Elektrode (4) erzielt werden. Zusätzlich sorgt die Spannung zwischen den beiden Elektroden (3, 4) dafür, dass die Elektronen in Richtung Elektrode (4) und die Löcher in Richtung Elektrode (3) driften. An der Stelle, an der die Elektronen und Löcher aufeinander treffen, kommt es zur Rekombination. Im Fall von strahlender Rekombination, kommt es zur Emission von Licht, wobei das Emissionsspektrum wesentlich durch die Zusammensetzung der aktiven Schicht (2) bestimmt ist.By applying a voltage to the gate electrode ( 6 ) are determined by the contacts ( 3 . 4 ) at the interface with the insulating layer ( 5 ) Charge carriers into the active layer ( 2 ). By applying a voltage between the two electrodes ( 3 and 4 ) can now be a simultaneous electron injection from electrode ( 3 ) and hole injection from electrode ( 4 ) be achieved. In addition, the voltage between the two electrodes ( 3 . 4 ) that the electrons move towards the electrode ( 4 ) and the holes towards the electrode ( 3 ) drift. At the point where the electrons and holes meet, recombination occurs. In the case of radiative recombination, the emission of light occurs, the emission spectrum being significantly affected by the composition of the active layer ( 2 ) is determined.

1b zeigt den inversen Aufbau eines lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors im Vergleich zu in 1b gezeigten Struktur. Hier ist eine Gate-Elektrode (6) auf ein Substrat (1) aufgebracht. Prinzipiell kann allerdings auch die Gate-Elektrode (6) die Aufgabe des Substrats (1) übernehmen. Die isolierende Schicht (5) befindet sich zwischen der Gate-Elektrode (6) und der aktiven Schicht (2). Die Kontakte (3, 4) befinden sich im Berührung mit der aktiven Schicht (2). Eine simultane Berührung der Isolierschicht (5), wie in 1b dargestellt, ist möglich aber nicht notwendigerweise gefordert. Dem Fachmann ist unmittelbar ersichtlich, dass weitere Modifikationen der in den 1a und 1b gezeigten Strukturen zur Herstellung lichtemittierender, ambipolarer Feldeftekttransistoren möglich sind. 1b shows the inverse construction of a light emitting, ambipolar field effect transistor in comparison to in 1b shown structure. Here is a gate electrode ( 6 ) on a substrate ( 1 ) applied. In principle, however, the gate electrode ( 6 ) the task of the substrate ( 1 ) take. The insulating layer ( 5 ) is located between the gate electrode ( 6 ) and the active layer ( 2 ). The contacts ( 3 . 4 ) are in contact with the active layer ( 2 ). Simultaneous contact of the insulating layer ( 5 ), as in 1b is possible, but not necessarily required. The skilled person is immediately apparent that further modifications of the in the 1a and 1b shown structures for producing light-emitting, ambipolar Feldeftekttransistoren are possible.

Der zweite Grundgedanke der Erfindung liegt darin, die Position der Rekombinationszone eines lichtemittierenden ambipolaren Feldeffekttransistors durch Variation einer oder mehrerer angelegter Spannungen örtlich zu verschieben.Of the second basic idea of the invention lies in the position of the Recombination zone of a light emitting ambipolar field effect transistor locally by varying one or more applied voltages move.

Wie aus 2a ersichtlich ist, treffen die von der Elektronen-injizierenden Elektrode (3) und der Löcher-injizierenden Elektrode (4) injizierten Elektronen und Löcher in der Rekombinationszone (7) aufeinander. Lichtemission (8) entsteht durch strahlende Rekombination dieser injizierten Elektronen und Löcher. Die laterale Position der Rekombinationszone (7) kann nun durch Modulation der Gate-Spannung und der Spannung zwischen den beiden Kontakten (3, 4) variiert werden, was in 2b dargestellt ist.How out 2a it can be seen that the impulse from the electron-injecting electrode ( 3 ) and the hole-injecting electrode ( 4 ) injected electrons and holes in the recombination zone ( 7 ) to each other. Light emission ( 8th ) is produced by radiative recombination of these injected electrons and holes. The lateral position of the recombination zone ( 7 ) can now be adjusted by modulating the gate voltage and the voltage between the two contacts ( 3 . 4 ), which varies in 2 B is shown.

3 zeigt die laterale Variation der Rekombinationszone (7) eines ambipolaren, organischen, lichtemittierenden Feldeffekttransistors auf der Basis von kristallinem α-Sexithiophen (siehe beispielsweise J. H. Schön, A. Dodabalapur, Ch. Kloc und B. Batlogg „A Light-Emitting Field-Effect Transistor" in Science 290, 963–965 (2000)) als aktive Schicht (2) als Funktion der Gate-Spannung bei konstanter Spannung zwischen der Löcher-injizierenden (4) und der Elektronen-injizierenden Elektrode (3). Durch die Variation der Gate-Spannung kann die Emissionszone zwischen den beiden Kontakten (3, 4) kontrolliert verschoben werden. Eine ähnliche laterale Variation der Rekombinationszone (7) lässt sich bei konstanter Gate-Spannung durch eine Variation der Spannung zwischen der Löcher-injizierenden (4) und der Elektronen-injizierenden Elektrode (3) erzielen. Ebenso kann eine laterale Variation der Rekombinationszone (7) durch eine Modulation beider Spannungen erreicht werden. Für den Fachmann ist unmittelbar erkennbar, dass durch die Modulation beider Spannungen sowohl die Intensität der emittierten Strahlung als auch die Position der Rekombinationszone (7) variiert und kontrolliert werden kann. 3 shows the lateral variation of the recombination zone ( 7 ) of an ambipolar organic light-emitting field-effect transistor based on crystalline α-sexithiophene (see, for example, JH Schön, A. Dodabalapur, Ch. Kloc and B. Batlogg "A Light-Emitting Field-Effect Transistor" in Science 290, 963-965 (2000)) as active layer ( 2 ) as a function of the gate voltage at constant voltage between the hole injecting ( 4 ) and the electron-injecting electrode ( 3 ). By varying the gate voltage, the emission zone between the two contacts ( 3 . 4 ) are moved in a controlled manner. A similar lateral variation of the recombination zone ( 7 ) at constant gate voltage can be achieved by varying the voltage between the holes ( 4 ) and the electron-injecting electrode ( 3 ). Likewise, a lateral variation of the recombination zone ( 7 ) can be achieved by a modulation of both voltages. It is immediately apparent to the person skilled in the art that the modulation of both voltages causes both the intensity of the emitted radiation and the position of the recombination zone (FIG. 7 ) can be varied and controlled.

Ähnliche Ergebnisse zur lateralen Variation der Rekombinationszone (7) sind in eindimensionalen Strukturen erzielt worden (siehe M. Freitag, J. Chen, J. Tersoff, J. C. Tsang, Q. Fu, J. Liu und P. Avouris „Mobile Ambipolar Domain in Carbon Nanotube Infrared Emitters" in Physical Review Letters 93 (2004) 076803). Eine Ausbildung der aktiven Schicht (2) durch eine geeignete eindimensionale Struktur, wie beispielsweise Kohlenstoff-Nanoröhren, halbleitende Nanodrähte, einzelne Moleküle oder auch künstliche Strukturierung, ist ebenso durchaus denkbar.Similar results on the lateral variation of the recombination zone ( 7 ) have been achieved in one-dimensional structures (see M. Freitag, J. Chen, J. Tersoff, JC Tsang, Q. Fu, J. Liu and P. Avouris "Mobile Ambipolar Domain in Carbon Nanotube Infrared Emitters" in Physical Review Letters 93 (2004) 076803), an embodiment of the active layer ( 2 ) by a suitable one-dimensional structure, such as carbon nanotubes, semiconducting nanowires, individual molecules or even artificial structuring, is also quite conceivable.

Die laterale Position der Rekombinationszone (7) hängt darüber hinaus von der Injektionseffizienz der Kontakte (3, 4) und von der Beweglichkeit der Ladungsträger ab. Um eine ausgeglichene Injektion zu Erhalten sollte das Verhältnis der Elektronen- zur Löcherbeweglichkeit ungefähr im Bereich von 1/100 bis 100 liegen. Des Weiteren sind absolute Elektronen- und Löcher-Beweglichkeiten von mehr als etwa 10–2 cm2/Vs vorteilhaftThe lateral position of the recombination zone ( 7 ) depends on the injection efficiency of the contacts ( 3 . 4 ) and the mobility of the charge carriers. In order to obtain a balanced injection, the ratio of electron to Hole mobility is approximately in the range of 1/100 to 100. Furthermore, absolute electron and hole mobilities of more than about 10 -2 cm 2 / Vs are advantageous

Eine laterale, örtliche Variation der Emissionswellenlänge bzw. des Emissionsspektrums (Farbe) kann auf verschiedene Arten erreicht werden. Hier werden nur einige Methoden wie die lokale Variation der Dotierung und/oder der Zusammensetzung oder die lokale chemische Funktionalisierung angeführt. Für den Fachmann ist unmittelbar ersichtlich, dass eine örtliche Variation der Emissionswellenlänge durch weitere Arten sowie Modifikationen oder Kombinationen der angeführten Methoden erzielt werden kann und dass verschiedene Herstellungsmethoden für diesen Zweck verwendet werden können. Das Emissionsspektrum ist dabei nicht notwendigerweise auf den sichtbaren Bereich des Lichts limitiert sondern kann auch den infraroten und ultravioletten Bereich des Spektrums umfassen.A lateral, local Variation of the emission wavelength or the emission spectrum (color) can be in different ways be achieved. Here are just a few methods like the local Variation of doping and / or composition or local chemical functionalization. For the expert is immediate seen that a local Variation of the emission wavelength by further kinds as well as modifications or combinations of the cited Methods can be achieved and that different manufacturing methods For this Purpose can be used. The emission spectrum is not necessarily on the visible Limited range of light but can also be the infrared and ultraviolet region of the spectrum.

Für organische Leuchtdioden ist es beispielsweise bekannt, durch lokale Diffusion von Farbstoffmolekülen in eine organische Halbleiterschicht die Emissionswellenlänge örtlich zu verändern (siehe beispielsweise F. Pschenitzka und J. C. Sturm „Three-color organic light-emitting diodes patterned by masked dye diffusion" in Applied Physics Letters 74, 1913–1915 (1999), F. Pschenitzka und J. C. Sturm „Solvent-enhanced dye diffusion in polymer thin films for color tuning of organic light-emitting diodes" in Applied Physics Letters 78, 2584–2586 (2001) oder WO 99 / 53529 A2). Des Weiteren kann eine solche lokale Variation der Emissionswellenlänge organischer Halbleiter durch verschiedene Drucktechniken wie Tintenstrahldrucken, Thermotransferdrucken oder andere Lösungsmittel-freie Drucktechniken (siehe beispielsweise M. Stein, P. Peumans, J. B. Benzinger und S. R. Forrest „Direct, Mask- and Solvent-Free Printing of Molecular Organic Semiconductors" in Advanced Materials 16 1615 ff. (2004)) erzeugt werden. Das Emissionsspektrum einer dotierten organischen Halbleiterschicht kann einerseits durch die Konzentration und die Struktur eines emissiven Dotanden direkt beeinflusst werden. Andererseits kann das Emissionsspektrum durch die Veränderung des lokalen Dipolfeldes über die Konzentration und Struktur eines polaren Dotanden indirekt verändert werden (siehe beispielsweise US 6,210,814 B1 und US 6,287,712 B1 ). Andere Herstellungsmethoden zur lokalen Variation der Emissionseigenschaften, insbesondere für anorganische Materialien, beinhalten das Ko-Verdampfen mehrerer Materialien, die Herstellung von Heterostrukturen, Übergittern oder Dotiergradienten sowie die Bildung von Legierungen.For organic light-emitting diodes, it is known, for example, to localize the emission wavelength by local diffusion of dye molecules into an organic semiconductor layer (see, for example, F. Pschenitzka and JC Sturm "Three-color organic light-emitting diodes patterned by masked dye diffusion" in Applied Physics Letters 74, 1913-1915 (1999), F. Pschenitzka and JC Sturm "Solvent-enhanced dye diffusion in polymer thin films for color tuning of organic light-emitting diodes" in Applied Physics Letters 78, 2584-2586 (2001) or WO 99 / 53529 A2). Furthermore, such a local variation in the emission wavelength of organic semiconductors can be achieved by various printing techniques such as ink jet printing, thermal transfer printing or other solvent-free printing techniques (see, for example, M. Stein, P. Peumans, JB Benzinger and SR Forrest "Direct, Mask and Solvent Free Printing of Molecular Organic Semiconductors "in Advanced Materials 16 1615 et seq. (2004)) The emission spectrum of a doped organic semiconductor layer can be directly influenced by the concentration and the structure of an emissive dopant, on the other hand, by changing the local dipole field be indirectly altered via the concentration and structure of a polar dopant (see, for example US 6,210,814 B1 and US 6,287,712 B1 ). Other methods of producing local variations in emission characteristics, particularly for inorganic materials, include co-evaporation of multiple materials, fabrication of heterostructures, superlattices or doping gradients, and the formation of alloys.

Die örtliche Variation der Emissionswellenlänge der aktiven Schicht kann dabei sowohl diskret oder als auch kontinuierlich erfolgen.The local Variation of the emission wavelength The active layer can be either discrete or continuous respectively.

Im Spezialfall kohärenter Strahlungsquellen kann eine Variation der Emissionswellenlänge auch über eine Modulation des Rückkopplungsmechanismus, insbesondere des Resonators, erzielt werden. Handelt es sich hierbei um eine örtliche Variation des Rückkopplungsmechanismus, kann auch eine örtliche Variation der Emissionswellenlänge erreicht werden. Hierbei stehen dem Fachmann verschiedene Methoden der Rückkopplung wie beispielsweise „Distributed Feedback", „Distributed Bragg Gratings", Fabry-Perot-Resonatoren, planare Mikrokavitäten, „Microring"-Resonatoren, „Microdisc"-Resonatoren, ein- und zweidimensionale Photonische Kristalle oder auch photonische Quasikristall-Resonatoren zur Verfügung. Weitere Methoden zur Veränderung des Emissionsspektrums durch Veränderung der Resonator-Struktur werden in den Patenschriften US 6,091,197 , US 6,295,130 B1 enthüllt. Zusätzlich legen die Patentschriften US 6,828,583 B2 und US 2004 / 0113098 A1 Möglichkeiten der Erzeugung kohärenter Strahlung, insbesondere Laserstrukturen, auf der Basis eines lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors offen.In the special case of coherent radiation sources, a variation of the emission wavelength can also be achieved via a modulation of the feedback mechanism, in particular of the resonator. If this is a local variation of the feedback mechanism, a local variation of the emission wavelength can also be achieved. Here are the expert in the various methods of feedback such as "Distributed Feedback", "Distributed Bragg Gratings", Fabry-Perot resonators, planar microcavities, "microring" resonators, "Microdisc" resonators, one- and two-dimensional photonic crystals or photonic quasicrystal resonators available. Further methods for changing the emission spectrum by changing the resonator structure are described in the patents US 6,091,197 . US 6,295,130 B1 revealed. Additionally lay the patents US 6,828,583 B2 and US 2004 / 0113098 A1 Possibilities of generating coherent radiation, in particular laser structures, on the basis of a light-emitting, ambipolar field effect transistor open.

Die 4a und 4b zeigen zwei Strukturen lichtemittierender, ambipolarer Feldeffekttransistoren auf (siehe 1a und 1b), deren aktive Schicht modifiziert ist. Die aktive Schicht (2) des Bauelements weist eine örtliche Variation der Emissionswellenlänge beziehungsweise des Emissionsspektrums (9, 10, 11) auf. Es sind schematisch drei Bereiche unterschiedlicher Emissionseigenschaften (9, 10, 11) dargestellt. Für den Fachmann ist unmittelbar ersichtlich, dass auch weniger oder mehr als drei Bereiche unterschiedlicher Emissionseigenschaften denkbar sind. Ebenso kann auch eine kontinuierliche Variation der Emissionseigenschaften erzeugt und verwendet werden.The 4a and 4b show two structures of light-emitting, ambipolar field-effect transistors (see 1a and 1b ) whose active layer is modified. The active layer ( 2 ) of the component has a local variation of the emission wavelength or of the emission spectrum ( 9 . 10 . 11 ) on. There are schematically three regions of different emission properties ( 9 . 10 . 11 ). It is immediately apparent to the person skilled in the art that fewer or more than three regions of different emission properties are also conceivable. Likewise, a continuous variation of the emission characteristics can be generated and used.

Die örtliche Position der Rekombinationszone (7) kann durch die Variation der Gate-Spannung und der Spannung zwischen den beiden Kontakten (3, 4) so variiert werden, dass sie für bestimmte Spannungskombinationen jeweils in einen der Bereiche (9, 10, 11) der modifizierten Emissionseigenschaften der aktiven Schicht (2) fällt. Folglich wird über die Variation der Gate-Spannung und der Spannung zwischen den beiden Kontakten (3, 4) eine Veränderung des Emissionsspektrums des lichtemittierenden, ambipolaren Feldeffekttransistors erreicht.The local position of the recombination zone ( 7 ) can be determined by the variation of the gate voltage and the voltage between the two contacts ( 3 . 4 ) can be varied in such a way that they are placed in one of the ranges for particular combinations of voltages ( 9 . 10 . 11 ) of the modified emission properties of the active layer ( 2 ) falls. Consequently, the variation of the gate voltage and the voltage between the two contacts ( 3 . 4 ) reaches a change in the emission spectrum of the light-emitting, ambipolar field effect transistor.

5 zeigt die chemische Struktur von drei organischen Halbleitern, die Oligophenylenvinylene OPV3 (Trimer), OPV4 (Tetramer) und OPV (Pentamer), welche zur Herstellung aktiver Schichten (2) lichtemittierender, ambipolarer Felddeffekttransistoren verwendet werden können. 5 shows the chemical structure of three organic semiconductors, the oligophenylenevinylenes OPV3 (trimer), OPV4 (tetramer) and OPV (pentamer), which are used to prepare active layers ( 2 ) light-emitting, ambipolar Felddeffekttransistoren can be used.

6 zeigt die Lichtemission (8) der aktiven Schicht (2) eines lichtemittierenden, ambipolaren, organischen Feldeffekttransistors auf der Basis der Oligophenylenvinylene OPV3, OPV4 und OPV5. Die aktive Schicht (2) kann so strukturiert werden, dass Region 1 der Schicht hauptsächlich aus OPV3, Region 2 hauptsächlich aus OPV4 und Region 3 hauptsächlich aus OPV5 besteht. Folglich entsprechen diese Regionen 1 bis 3 den in 4a gezeigten Bereichen unterschiedlicher Emissionswellenlängen (9, 10, 11). Die Gate-Elektrode (6) besteht aus Aluminium-dotiertem Zinkoxid, die isolierende Schicht (5) aus Aluminiumoxid und als Elektronen-injizierende (3) und Löcher-injizierende Kontakte (4) werden Aluminium bzw. Gold verwendet. Die Lichtemission (8) wird folglich durch die Verschiebung der Rekombinationszone (7) in die Regionen 1, 2 bzw. 3 (9, 10, 11) variiert. 7 zeigt die Lichtemission (8) der beschriebenen Struktur bei sehr hoher Anregungsleistung. Neben der Variation der Lichtemission (8) durch die Verschiebung der Rekombinationszone (7) ist eine Verengung der spektralen Bandbreite der Lichtemissionen (8) erkennbar, so dass die Erzeugung kohärenter Strahlung in einer derartigen Struktur nahe gelegt wird. 6 shows the light emission ( 8th ) of the active layer ( 2 ) of a light-emitting ambipolar organic field-effect transistor based on the oligophenylenevinylenes OPV3, OPV4 and OPV5. The active layer ( 2 ) can be structured so that region 1 the layer mainly from OPV3, region 2 mainly from OPV4 and region 3 mainly consists of OPV5. Consequently, these regions correspond 1 to 3 the in 4a shown areas of different emission wavelengths ( 9 . 10 . 11 ). The gate electrode ( 6 ) consists of aluminum-doped zinc oxide, the insulating layer ( 5 ) of alumina and as an electron-injecting ( 3 ) and hole injecting contacts ( 4 ) aluminum or gold are used. The light emission ( 8th ) is thus due to the shift of the recombination ( 7 ) in the regions 1 . 2 respectively. 3 ( 9 . 10 . 11 ) varies. 7 shows the light emission ( 8th ) of the structure described at very high excitation power. In addition to the variation of the light emission ( 8th ) by the shift of the recombination zone ( 7 ) is a narrowing of the spectral bandwidth of light emissions ( 8th ), so that the generation of coherent radiation in such a structure is suggested.

Ein bevorzugtes Anwendungsbeispiel ist die Ausbildung der aktiven Schicht (2) mit Emissionswellenlängen (9, 10, 11) im roten, grünen und blauen Bereich des Spektrums. Auf diese Art und Weise kann eine erfindungsgemäße Lichtquelle als Pixel eines „Full-Color-Displays" verwendet werden. Die Pixel dieses Displays können durch jeweils eine bzw. zwei Spannungen kontrolliert werden. Die Steuerung der Emission (8) durch beide Spannungen ist insbesondere Vorteilhaft, da sie die simultane Kontrolle der Intensität und der Emissionswellenlänge erlaubt.A preferred application example is the formation of the active layer ( 2 ) with emission wavelengths ( 9 . 10 . 11 ) in the red, green and blue regions of the spectrum. In this way, a light source according to the invention can be used as the pixel of a "full-color display." The pixels of this display can be controlled by one or two voltages. 8th ) by both voltages is particularly advantageous because it allows simultaneous control of intensity and emission wavelength.

Eine weitere Möglichkeit lichtemittierender, ambipolarer Feldeffekttransistoren bilden eindimensionale Strukturen wie Kohlenstoff-Nanoröhen (siehe beispielsweise J. A. Misewich R. Martel, Ph. Avouris, J. C. Tsang, S. Heinze und J. Tersoff, „Electrically Induced Optical Emission from a Carbon Nanotube", Science 300, 783–785 (2003); WO 2004 / 030043 A2). Daher können weitere vorteilhafte Ausbildungen der erfindungsgemäßen Lichtquelle eine eindimensionale aktive Schicht (2) beinhalten. Die aktive Schicht (2) kann insbesondere auf funktionalisierten oder modifizierten Kohlenstoff-Nanoröhren, Halbleiter-Nanodrähten (siehe beispielsweise Y. Huang, X. Duan, Y. Cu und C. M. Lieber „Gallium Nitride Nanowire Devices" in Nanoletters 2, 101–104 (2002); J. C. Johnson, H.-J. Choi, K. P. Knutsen, R. D. Schaller, P. Yang und R. J. Saykally „Single gallium nitride nanowire lasers" in Nature Materials 1, 106–110 (2002); US 2003 / 0089899 A1; US 2004 / 0213307 A1) oder organischen Molekülketten basieren.Another possibility of light-emitting, ambipolar field-effect transistors form one-dimensional structures, such as carbon nanotubes (see, for example, JA Misewich R. Martel, Ph. Avouris, JC Tsang, S. Heinze and J. Tersoff, "Electrically Induced Optical Emission from a Carbon Nanotube", Science 300, 783-785 (2003); WO 2004/030043 A2), therefore, further advantageous embodiments of the light source according to the invention can be a one-dimensional active layer ( 2 ). The active layer ( 2 In particular, on functionalized or modified carbon nanotubes, semiconductor nanowires (see, for example, Y. Huang, X. Duan, Y. Cu and CM Lieber "Gallium Nitride Nanowire Devices" in Nanoletters 2, 101-104 (2002); JC Johnson H.J. Choi, KP Knutsen, RD Schaller, P. Yang and RJ Saykally "Single Gallium Nitride Nanowire Lasers" in Nature Materials 1, 106-110 (2002); US 2003 / 0089899 A1; US 2004 / 0213307 A1) or organic molecular chains.

Beispielsweise ist bekannt, dass Kohlenstoff-Nanoröhrchen lokal dotiert, modifiziert und funktionalisiert werden können (siehe z.B. H. Dai „Carbon Nanotubes: Synthesis, Integration, and Properties" in Accounts of Chemical Research 35, 1035–1044 (2002); M. Shim, N. W. S. Kam, R. J. Chen, Y. Li und H. Dai „Functionalization of Carbon Nanotubes for Biocompatibility and Biomolecular Recognition" in Nano Letters 2, 285–288 (2002); US 2004 / 071624; US 2005 / 045867).For example, it is known that carbon nanotubes can be locally doped, modified and functionalized (see, for example, H. Dai "Carbon Nanotubes: Synthesis, Integration, and Properties" in Accounts of Chemical Research 35, 1035-1044 (2002), M. Shim , NWS Kam, RJ Chen, Y. Li and H. Dai "Functionalization of Carbon Nanotubes for Biocompatibility and Biomolecular Recognition" in Nano Letters 2, 285-288 (2002); US 2004 / 071624; US 2005 / 045867).

Des Weiteren hängt die Emissionswellenlänge von Kohlenstoff-Nanoröhrchen von ihrem Durchmesser ab, so dass über eine lokale Variation des Durchmessers, eine Variation der Emissionswellenlänge erreicht werden kann. Patentschrift US 6,706,566 B2 legt hierzu beispielsweise eine Methode zur kontrollierten Modifikation des Durchmessers von Kohlenstoff-Nanoröhren durch das Anlegen einer hohen Spannung offen.Furthermore, the emission wavelength of carbon nanotubes depends on their diameter, so that a variation of the diameter, a variation of the emission wavelength can be achieved by a local variation of the diameter. Patent US 6,706,566 B2 For this purpose, for example, discloses a method for the controlled modification of the diameter of carbon nanotubes by applying a high voltage.

Im Falle von Halbleiter-Nanodrähten kann eine lokale Variation der Emissionseigenschaften ebenfalls durch Funktionalisierung oder auch durch die Herstellung von Heterostrukturen (siehe beispielsweise Y. Wu, R. Fan und P. Yang „Block-by-Block Growth of Single-Crystalline Si/SiGe Superlattice Nanowires" in Nanoletters 2, 83–86 (2002)) erreicht werden.in the Case of semiconductor nanowires can a local variation of the emission characteristics as well by functionalization or by the preparation of heterostructures (See, for example, Y. Wu, R. Fan and P. Yang "Block-by-Block Growth of Single Crystalline Si / SiGe Superlattice Nanowires "in Nanoletters 2, 83-86 (2002)) be achieved.

In weiteren vorteilhaften Ausbildungen der erfindungsgemäßen Lichtquelle kann die aktive Schicht (2) aus mehreren Schichten aufgebaut sein. Aus dem Stand der Technik ist dem Fachmann bekannt, dass der Wirkungsgrad von lichtemittierenden Bauelementen durch das Einfügen von Puffer-Schichten, Blockier-Schichten, Transportschichten oder dotierten Schichten deutlich verbessert werden kann (siehe beispielsweise D. Braun „Semiconducting polymer LEDs" in Materials Today 32–39 (June 2002) für organische lichtemittierende Dioden). Darüber hinaus kann es vorteilhaft sein, dass durch zusätzliche Schichten oder Schichtstapel ein Art Wellenleiterstruktur oder „Optical Confinement" erreicht wird.In further advantageous embodiments of the light source according to the invention, the active layer ( 2 ) be composed of several layers. It is known to the skilled person from the prior art that the efficiency of light-emitting components can be markedly improved by incorporating buffer layers, blocking layers, transport layers or doped layers (see for example D. Braun "Semiconducting polymer LEDs" in Materials Today 32-39 (June 2002) for organic light-emitting diodes) In addition, it may be advantageous that a type of waveguide structure or "optical confinement" is achieved by additional layers or layer stacks.

Beispielsweise sind organische, lichtemittierende, ambipolare Feldeftekttransistoren mit einer Doppelschicht als aktive Schicht (2) demonstriert worden, wobei eine Schicht als Elektronen-Transporter und die andere Schicht als Löcher-Transporter wirkt (siehe C. Rost, D. J. Gundlach, S. Karg und W. Rieß „Ambipolar organic fieldeffect transistor based on an organic heterostructure" in Applied Physics Letters 95, 5782–5784 (2004); C. Rost, S. Karg, W. Rieß, M. A. Loi, M. Murgia und M. Muccini „Light-emitting ambipolar organic heterostructure field-effect transistor" in Synthetic Metals 146, 237–241 (2004)). 8 schaut einen schematischen Aufbau einer vorteilhaften Weiterbildung der in 4a dargestellten farbveränderlichen Lichtquelle. Die aktive Schicht (2) wird durch eine Löcher-transportierende Schicht (12) und eine Elektronen-Transportierende Schicht (13) erweitert. Die Ladungsträgerinjizierenden Kontakte (3, 4) sind dabei so angeordnet, dass der Löcher-injizierende Kontakt (4) in Berührung mit der Löcher-transportierenden Schicht (12) und der Elektronen-injizierende Kontakt (3) in Berührung mit der Elektronentransportierenden Schicht (13) ist. Durch die Wahl geeigneter Materialien und Schichtdicken für die Ladungsträger-transportierenden Schichten (12, 13) kann der Wirkungsgrad der Lichtquelle erhöht werden. Dem Fachmann ist ersichtlich, dass eine Ergänzung der aktiven Schicht (2) durch nur eine Ladungsträgertransportierenden Schicht (12 oder 13) ebenfalls eine vorteilhafte Weiterbildung der in 4a dargestellten Anordnung darstellen kann. Ebenso ist es dem Fachmann durch den Stand der Technik im Bereich lichtemittierender Dioden möglich durch das Einfügen weitere Schichten die in 8 dargestellte Anordnung weiter zu verbessern. Hierzu kann der Bereich der strahlenden Rekombination beispielsweise durch mehrere Rekombinationsschichten aufgebaut sein.For example, organic, light-emitting, ambipolar Feldeftekttransistoren with a double layer as the active layer ( 2 ), wherein one layer acts as an electron transporter and the other layer acts as a hole transporter (see C. Rost, DJ Gundlach, S. Karg and W. Riess "Ambipolar Organic Field Effect Transistor Based on Organic Heterostructure" in Applied Physics Letters 95, 5782-5784 (2004); C. Rost, S. Karg, W. Riess, MA Loi, M. Murgia and M. Muccini, "Light-emitting Ambipolar Organic Heterostructure Field-effect Transistors" in Synthetic Metals 146, 237 -241 (2004)). 8th looks a schematic structure of an advantageous development of in 4a illustrated color changeable light source le. The active layer ( 2 ) is passed through a hole-transporting layer ( 12 ) and an electron-transporting layer ( 13 ) expanded. The charge carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) are arranged so that the hole-injecting contact ( 4 ) in contact with the hole-transporting layer ( 12 ) and the electron-injecting contact ( 3 ) in contact with the electron-transporting layer ( 13 ). By choosing suitable materials and layer thicknesses for the charge carrier transporting layers ( 12 . 13 ), the efficiency of the light source can be increased. It will be apparent to those skilled in the art that supplementing the active layer ( 2 ) by only one charge carrier transporting layer ( 12 or 13 ) Also an advantageous development of in 4a can represent illustrated arrangement. Likewise, it is possible for a person skilled in the art by the prior art in the field of light-emitting diodes by inserting further layers in 8th shown arrangement to improve. For this purpose, the region of the radiative recombination can be constructed, for example, by a plurality of recombination layers.

Es versteht sich, dass die vorstehenden Beschreibungen lediglich illustrativ für die Erfindung sind. Verschiedene Alternativen und Modifikationen können durch einen Fachmann ohne Abweichung von der Erfindung in Betracht gezogen werden. Demgemäß ist die vorliegende Erfindung so gedacht, dass sie alle derartigen Alternativen, Modifikationen und Variationen umfasst, die in den Umfang der beigefügten Ansprüche fallen.It It is understood that the foregoing descriptions are illustrative only for the Invention are. Various alternatives and modifications can be made a person skilled in the art without departing from the invention considered become. Accordingly, the present invention is intended to cover all such alternatives, Includes modifications and variations that fall within the scope of the appended claims.

Claims (21)

Elektrisch betriebenes Bauelement bestehend aus einem Substrat (1), einer aktiven Schicht (2), die sowohl negative Ladungsträger, Elektronen, als auch positive Ladungsträger, Löcher, transportieren kann, einem in Berührung mit der aktiven Schicht (2) befindlichen Elektronen-injizierenden Kontakt (3), einem in Berührung mit der aktiven Schicht (2) befindlichen Löcherinjizierenden Kontakt (4) und einer Gate-Elektrode (6), die durch eine elektrisch isolierende Schicht (5) von der aktiven Schicht (2) getrennt ist, welches durch das Anlegen an einer Spannung zwischen der Gate-Elektrode (6) und einem der Ladungsträger-injizierenden Kontakte (3, 4) und das Anlegen einer Spannung zwischen den beiden Ladungsträger-injizierenden Kontakten (3, 4) eine Lichtemission (8) generiert, dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) eine örtlich lateral variierende Emissionswellenlänge (9, 10, 11) aufweist und dass durch die Variation der angelegten Spannungen an die Gate-Elektrode (6) und/oder die Ladungsträger-injizierenden Kontakte (3, 4) die Position der Rekombinationszone (7) örtlich variiert wird und dass dadurch eine kontrollierte Variation des Emissionsspektrums der Lichtemission (8) erfolgt.Electrically operated component consisting of a substrate ( 1 ), an active layer ( 2 ), which can transport both negative charge carriers, electrons, as well as positive charge carriers, holes, one in contact with the active layer ( 2 ) electron injecting contact ( 3 ), in contact with the active layer ( 2 ) hole-injecting contact ( 4 ) and a gate electrode ( 6 ) through an electrically insulating layer ( 5 ) of the active layer ( 2 ) separated by application to a voltage between the gate electrode ( 6 ) and one of the carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) and the application of a voltage between the two charge carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) a light emission ( 8th ), characterized in that the active layer ( 2 ) a locally laterally varying emission wavelength ( 9 . 10 . 11 ) and that by the variation of the applied voltages to the gate electrode ( 6 ) and / or the charge carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) the position of the recombination zone ( 7 ) is varied locally and that thereby a controlled variation of the emission spectrum of the light emission ( 8th ) he follows. Elektrisch betriebenes Bauelement nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass allein durch die Variation der an die Gate-Elektrode (6) angelegten Spannung eine kontrollierte Variation des Emissionsspektrums der Lichtemission (8) erfolgt.Electrically operated component according to claim 1, characterized in that solely by the variation of the to the gate electrode ( 6 ) a controlled variation of the emission spectrum of the light emission ( 8th ) he follows. Elektrisch betriebenes Bauelement nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass allein durch die Variation der zwischen den Ladungsträger-injizierenden Kontakte (3, 4) angelegten Spannung eine kontrollierte Variation des Emissionsspektrums der Lichtemission (8) erfolgt.Electrically operated component according to claim 1, characterized in that solely by the variation of the charge carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) a controlled variation of the emission spectrum of the light emission ( 8th ) he follows. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3 dadurch gekennzeichnet, dass kontrolliert rotes, grünes und blaues Licht emittiert werden kann.Electrically operated component after one or several of the claims 1 to 3, characterized in that controlled red, green and blue Light can be emitted. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3 dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtemission (8) im infraroten Bereich des Spektrums erfolgt.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 3, characterized in that the light emission ( 8th ) in the infrared region of the spectrum. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) einen organischen Halbleiter enthält.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 5, characterized in that the active layer ( 2 ) contains an organic semiconductor. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) mehrere organischen Halbleiter enthält.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 6, characterized in that the active layer ( 2 ) contains a plurality of organic semiconductors. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) eine lokale Variation der chemischen Zusammensetzung aufweist.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 7, characterized in that the active layer ( 2 ) has a local variation of the chemical composition. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) lokal dotiert ist.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 7, characterized in that the active layer ( 2 ) is locally doped. Elektrisch betriebenes Bauelement nach Anspruch 8 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) laterale Variationen eines oder mehrerer Dotierstoffe aufweist.Electrically operated component according to claim 8, characterized in that the active layer ( 2 ) has lateral variations of one or more dopants. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) weitere Löcher-transportierenden (12) und Elektronen-transportierenden Schichten (13) aufweist.Electrically operated component according to one or more of Claims 1 to 10, characterized in that the active layer ( 2 ) further hole-transporting ( 12 ) and electron-transporting layers ( 13 ) having. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) eine oder mehrere zusätzliche Rekombinationsschichten aufweist.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 11, characterized in that the active layer ( 2 ) has one or more additional recombination layers. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12 dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtemission (8) kohärent erfolgt.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 12, characterized in that the light emission ( 8th ) is coherent. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 13 dadurch gekennzeichnet, dass das Bauelement eine oder mehrere optische Resonator-Strukturen aufweist.Electrically operated component after one or several of the claims 1 to 13, characterized in that the component one or more having optical resonator structures. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 14 dadurch gekennzeichnet, dass die aktive Schicht (2) eindimensional ausgeführt ist.Electrically operated component according to one or more of Claims 1 to 14, characterized in that the active layer ( 2 ) is executed one-dimensionally. Elektrisch betriebenes Bauelement nach Anspruch 15 dadurch gekennzeichnet, dass die eindimensionale aktive Schicht (2) aus Kohlenstoff-Nanoröhren oder Halbleiter-Nanodrähten besteht.Electrically operated component according to claim 15, characterized in that the one-dimensional active layer ( 2 ) consists of carbon nanotubes or semiconductor nanowires. Elektrisch betriebenes Bauelement nach Anspruch 16 dadurch gekennzeichnet, dass die Kohlenstoff-Nanoröhren oder Halbleiter-Nanodrähte der eindimensionalen aktiven Schicht (2) lokal chemisch dotiert, modifiziert und/oder funktionalisiert sind.Electrically operated component according to claim 16, characterized in that the carbon nanotubes or semiconductor nanowires of the one-dimensional active layer ( 2 ) are chemically doped, modified and / or functionalized locally. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17 dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (1) mechanisch flexibel ist.Electrically operated component according to one or more of Claims 1 to 17, characterized in that the substrate ( 1 ) is mechanically flexible. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 18 dadurch gekennzeichnet, dass das die aktive Schicht (2) aus einem oder mehreren Lösungsmitteln abgeschieden wird.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 18, characterized in that the active layer ( 2 ) is separated from one or more solvents. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 19 dadurch gekennzeichnet, dass das die aktive Schicht (2) durch einen Druckprozess hergestellt wird.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 19, characterized in that the active layer ( 2 ) is produced by a printing process. Elektrisch betriebenes Bauelement nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 20 dadurch gekennzeichnet, dass das die Ladungsträger-injizierenden Kontakte (3, 4) und/oder die Gate-Elektrode (6) durch einen Druckprozess hergestellt werden.Electrically operated component according to one or more of claims 1 to 20, characterized in that the charge carrier injecting contacts ( 3 . 4 ) and / or the gate electrode ( 6 ) are produced by a printing process.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007105408A1 (en) 2006-03-10 2007-09-20 Sony Corporation Organic semiconductor element and organic semiconductor thin film
US20090159878A1 (en) * 2006-02-16 2009-06-25 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic thin film transistor
US20100012930A1 (en) * 2007-02-13 2010-01-21 Hyeon Choi Organic transistor using thiazolothiazole derivatives and method for fabricating the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090159878A1 (en) * 2006-02-16 2009-06-25 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic thin film transistor
US8445894B2 (en) * 2006-02-16 2013-05-21 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic thin film transistor
WO2007105408A1 (en) 2006-03-10 2007-09-20 Sony Corporation Organic semiconductor element and organic semiconductor thin film
EP1995801A1 (en) * 2006-03-10 2008-11-26 Sony Corporation Organic semiconductor device and organic semiconductor thin film
EP1995801A4 (en) * 2006-03-10 2011-01-05 Sony Corp Organic semiconductor device and organic semiconductor thin film
US20100012930A1 (en) * 2007-02-13 2010-01-21 Hyeon Choi Organic transistor using thiazolothiazole derivatives and method for fabricating the same
US8222633B2 (en) * 2007-02-13 2012-07-17 Lg Chem, Ltd. Organic transistor using thiazolothiazole derivatives and method for fabricating the same

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