DE19921244A1 - Plant for processing wafers - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Anlage zur Bearbeitung von Wafern gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The invention relates to a system for processing wafers according to the preamble of claim 1.
Derartige Anlagen umfassen eine Vielzahl von Fertigungsein heiten, mit welchen unterschiedliche Fertigungsprozesse durchgeführt werden. Bei diesen Fertigungsprozessen handelt es sich insbesondere um Ätzprozesse, Naßchemieverfahren, Dif fusionsprozesse sowie diverse Reinigungsverfahren wie zum Beispiel CMP-Verfahren (Chemical Mechanical Polishing). Für jeden dieser Prozesse sind eine oder mehrere Fertigungsein heiten vorgesehen. Zudem können in diesen oder in separaten Fertigungseinheiten auch Meß- und Kontrollvorgänge durchge führt werden.Such systems include a variety of manufacturing with which different manufacturing processes be performed. Acting in these manufacturing processes it is in particular etching processes, wet chemical processes, Dif fusion processes and various cleaning processes such as Example CMP process (Chemical Mechanical Polishing). For each of these processes are one or more manufacturing processes provided. You can also use these or in separate Manufacturing units also measure and control processes leads.
Der gesamte Fertigungsprozeß unterliegt strengen Reinheitsan forderungen, so daß die Fertigungseinheiten in einem Reinraum oder in einem System von Reinräumen angeordnet sind.The entire manufacturing process is subject to strict purity requirements so that the manufacturing units in a clean room or are arranged in a system of clean rooms.
Die Wafer werden in Kassetten in vorbestimmten Losgrößen über ein Transportsystem den einzelnen Fertigungseinheiten zuge führt. Auch der Abtransport der Kassetten nach Bearbeitung dieser Wafer erfolgt über das Transportsystem.The wafers are placed in cassettes in predetermined lot sizes a transport system to the individual production units leads. Also the removal of the cassettes after processing this wafer is carried out via the transport system.
Das Transportsystem weist typischerweise ein Fördersystem auf, welches beispielsweise in Form von Rollenförderern aus gebildet ist. Die Kassetten mit den Wafern werden dabei auf den Rollenförderern aufliegend transportiert. Alternativ kann das Fördersystem von Hängeförderern oder dergleichen gebildet sein.The transport system typically has a conveyor system which, for example, in the form of roller conveyors is formed. The cassettes with the wafers are opened transported on the roller conveyors. Alternatively, you can the conveyor system is formed by overhead conveyors or the like his.
Zur Lagerung der Kassetten weist das Transportsystem mehrere Stocker auf. Dort erfolgt eine Zwischenlagerung der Kassetten mit den Wafern. The transport system has several for storing the cassettes Stocker on. The cassettes are temporarily stored there with the wafers.
Der Materialfluß der Kassetten wird dezentral über die Ferti gungseinheiten gesteuert. Hierzu weisen die einzelnen Ferti gungseinheiten Bedieneinheiten auf. Diese Bedieneinheiten weisen typischerweise Rechnereinheiten auf, welche vom Be dienpersonal bedient werden. Die Bedieneinheiten sind dabei jeweils an der diesem zugeordneten Fertigungseinheit instal liert.The material flow of the cassettes is decentralized via the Ferti controlled units. The individual ferti control units. These control units typically have computer units, which from the Be service personnel are operated. The control units are included instal each on the associated production unit liert.
Die Disposition der Wafer für eine Fertigungseinheit erfolgt üblicherweise über das Bedienpersonal. Je nach Bedarf und Vorgabe durch das Bedienpersonal wird eine bestimmte Anzahl von Kassetten mit Wafern aus einem Stocker entnommen und der Fertigungseinheit zugeführt. Diese Art der Disposition erfor dert einen hohen Zeitaufwand für das Bedienpersonal der Fer tigungseinheiten.The disposition of the wafers for a manufacturing unit takes place usually via the operating staff. Depending on your needs and The operator specifies a certain number removed from cassettes with wafers from a stocker and the Manufacturing unit fed. Require this type of disposition takes a lot of time for the operator of the Fer units.
Nachteilig ist ferner, daß von einer Bedienperson jeweils die für die entsprechende Fertigungseinheit benötigte Anzahl von Kassetten disponiert werden kann, ohne daß eine Abstimmung mit dem Bedarf für andere Fertigungseinheiten erfolgt. Diese mangelnde Abstimmung führt zu großen Stillstandszeiten ein zelner Fertigungseinheiten und großen Durchlaufzeiten der Wa fer durch die Anlage.Another disadvantage is that the operator number of required for the corresponding manufacturing unit Cassettes can be scheduled without a vote with the need for other manufacturing units. This a lack of coordination leads to long downtimes individual production units and long lead times of the wa fer through the plant.
Zudem ist nachteilig, daß die Verfolgung einzelner Wafer oder Kassetten mit Wafern äußerst aufwendig ist. Da die einzelnen Fertigungseinheiten von unterschiedlichen Bedienpersonen be trieben werden, besteht die Gefahr von Fehlzuordnungen und Verwechslungen einzelner Kassetten.Another disadvantage is that the tracking of individual wafers or Cassettes with wafers is extremely expensive. Because the individual Manufacturing units from different operators are driven, there is a risk of incorrect assignments and Confusion of individual cassettes.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde eine Anlage der ein gangs genannten Art so auszubilden, daß diese eine möglichst hohe Produktivität bei der Bearbeitung von Wafern aufweist.The invention has for its object a plant gangs mentioned type so that this one as possible has high productivity when processing wafers.
Zur Lösung dieser Aufgabe sind die Merkmale des Anspruchs 1 vorgesehen. Vorteilhafte Ausführungsformen und zweckmäßige Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen be schrieben.To achieve this object, the features of claim 1 intended. Advantageous embodiments and expedient Developments of the invention are in the dependent claims wrote.
Erfindungsgemäß weist die Anlage einen Leitstand zur automa tischen Verfolgung und Steuerung des Materialflusses der Wa fer auf. Hierzu werden von den Fertigungseinheiten und/oder dem Transportsystem die Wafer, die Fertigungseinheiten und/ oder das Transportsystem kennzeichnende Prozeßdaten in den Leitstand eingelesen.According to the system has a control center for automa tables tracking and controlling the material flow of the Wa fer on. For this purpose, the manufacturing units and / or the transport system the wafers, the manufacturing units and / or process data characterizing the transport system in the Control center read.
Die die Fertigungseinheiten kennzeichnenden Prozeßdaten um fassen insbesondere, ob eine Fertigungseinheit funktionsfähig ist oder nicht. Zudem werden Informationen über den Ausla stungsgrad der Fertigungseinheit an den Leitstand übermit telt. Dabei wird insbesondere an den Leitstand weitergegeben, ob eine Fertigungseinheit auf die Anlieferung von Wafern war tet und daher momentan stillsteht.The process data characterizing the production units especially grasp whether a manufacturing unit is functional is or not. In addition, information about the Ausla efficiency of the production unit to the control center telt. In particular, it is passed on to the control center, whether a manufacturing unit was on the delivery of wafers and therefore currently stands still.
Desweiteren wird an den Leitstand die Anzahl von Kassetten mit Wafern gemeldet, welche in der gesamten Anlage in Umlauf sind. Dabei werden von den Fertigungseinheiten die Kassetten an den Leitstand gemeldet, welche Kassetten in der Ferti gungseinheit gerade bearbeitet werden und welche Kassetten an die Fertigungseinheit angeliefert worden sind und zur Bear beitung bereit stehen.Furthermore, the number of cassettes is sent to the control center reported with wafers, which are in circulation throughout the plant are. The cassettes are used by the manufacturing units reported to the control center which cassettes in the ferti unit currently being processed and which cassettes the manufacturing unit has been delivered and is ready for delivery ready.
Desweiteren werden vom Transportsystem die Kassetten mit Wa fern an den Leitstand gemeldet, welche zu dem jeweiligen Zeitpunkt auf dem Fördersystem transportiert werden und die in den Stockern oder anderen Speichersystemen zwischengela gert sind.Furthermore, the cassettes with Wa remotely reported to the control center, which corresponds to the respective Time on the conveyor system and the temporarily stored in stock or other storage systems are.
Zur Erfassung der in der Anlage befindlichen Kassetten mit Wafern können beispielsweise optische Erfassungssysteme vor gesehen sein, welche die einzelnen Kassetten an vorgegebenen Orten der Anlage erfassen. Beispielsweise können die Erfas sungssysteme als Codelesegeräte ausgebildet sein, welche auf den Kassetten aufgebrachte Codes lesen und identifizieren. Anhand dieser Codes ist eine eindeutige Zuordnung der Kasset ten möglich.To record the cassettes in the system with For example, wafers can be optical detection systems be seen which the individual cassettes at predetermined Record locations of the system. For example, the capt be designed as a code reader, which on Read and identify the codes applied to the cassettes. Based on these codes, the cassette is clearly assigned possible.
Schließlich werden insbesondere von den Fertigungseinheiten Informationen über den Ausarbeitungszustand der Wafer an den Leitstand gemeldet. Dabei wird insbesondere von einer Ferti gungseinheit an den Leitstand gemeldet, ob die Bearbeitung von Wafern einer Kassette fehlerfrei erfolgte oder ob ein Teil der Wafer nachgearbeitet oder sogar als Ausschuß aus dem Fertigungsprozeß ausgegliedert werden muß.Finally, in particular by the manufacturing units Information about the processing status of the wafers to the Control center reported. In particular, a ferti unit reported to the control center whether the processing of wafers in a cassette was faultless or whether a Part of the wafers reworked or even as a committee from the Manufacturing process must be outsourced.
Anhand der in den Leitstand eingelesenen Prozeßdaten wird der Materialfluß der Wafer in der gesamten Anlage verfolgt. Zudem erfolgt nach Auswertung der Prozeßdaten eine Steuerung der Fertigungsprozesse zentral über den Leitstand. Insbesondere wird dabei der Materialfluß vom Transportsystem zu den Ferti gungseinheiten gesteuert. Zudem können auch Fertigungsparame ter für die Fertigungseinheiten über den Leitstand vorgegeben werden.Based on the process data read into the control center, the Material flow of the wafers is tracked throughout the plant. In addition After the process data has been evaluated, the Manufacturing processes centrally via the control center. In particular the material flow from the transport system to the ferti controlled units. Manufacturing parameters can also be used specified for the production units via the control center become.
Der wesentliche Vorteil der erfindungsgemäßen Anlage besteht darin, daß die Steuerung der Anlage zentral über den Leit stand in Abhängigkeit sämtlicher wesentlicher Prozeßdaten der Wafer, der Fertigungseinheiten und des Transportsystem er folgt. Somit wird der Materialfluß nicht in kleinen Einzelbe reichen der Anlage sondern für die gesamte Anlage optimiert. Unnötige Stillstandszeiten von Fertigungseinheiten werden auf diese Weise vermieden, wodurch der Auslastungsgrad der Ferti gungseinheiten erheblich vergrößert wird. Zudem erfolgt die zentrale Steuerung durch den Leitstand mit einem Minimum an Personaleinsatz.The main advantage of the system according to the invention is in that the control of the system centrally via the Leit was dependent on all essential process data of the Wafer, the manufacturing units and the transport system follows. Thus, the material flow is not in small batches range of the system but optimized for the entire system. Unnecessary downtimes of manufacturing units are on avoided this way, reducing the degree of occupancy of the ferti units is significantly increased. In addition, the central control by the control center with a minimum of Personnel deployment.
Der Leitstand weist vorzugsweise eine Rechnereinheit auf, welche einen Großteil der Optimierung des Materialflusses au tomatisch abarbeitet. Das Bedienpersonal an den Fertigungs einheiten braucht für die Steuerung des Materialflusses nicht mehr beansprucht werden.The control center preferably has a computer unit, which is a major part of the optimization of the material flow processed tomatically. The operators at the manufacturing units do not need to control the material flow be claimed more.
Schließlich ist vorteilhaft, daß Änderungen im Fertigungspro zeß auf einfache Weise durch den Leitstand zentral vorgenom men werden können, was die Flexibilität der Anlage erheblich erhöht.Finally, it is advantageous that changes in the manufacturing pro centrally in the control center can be what the flexibility of the plant considerably elevated.
Die Erfindung wird im nachstehenden anhand der Zeichnungen erläutert. Es zeigen:The invention is described below with reference to the drawings explained. Show it:
Fig. 1 Schematische Darstellung der räumlichen Anordnung einer von einem Leitstand gesteuerten Anlage zur Bearbeitung von Wafern. Fig. 1 Schematic representation of the spatial arrangement of a system controlled by a control center for processing wafers.
Fig. 2 Anschlußschema der an den Leitstand gemäß Fig. 1 angeschlossenen Einheiten. Fig. 2 connection diagram of the units connected to the control station according to FIG. 1.
In Fig. 1 ist schematisch eine Anlage zur Bearbeitung von Wafern dargestellt. Zur Durchführung der für die Bearbeitung der Wafer erforderlichen Fertigungsprozesse sowie für die Kontrolle der Bearbeitungsqualität der Fertigungsprozesse sind in einem Reinraum 1 eine Vielzahl von Fertigungseinhei ten 2 angeordnet. Alternativ können die Fertigungseinheiten 2 auch auf mehrere Reinräume 1 verteilt sein.In Fig. 1 a plant is shown schematically for processing wafers. In order to carry out the manufacturing processes required for the processing of the wafers and for checking the processing quality of the manufacturing processes, a multiplicity of manufacturing units 2 are arranged in a clean room 1 . Alternatively, the production units 2 can also be distributed over several clean rooms 1 .
Die Fertigungsprozesse umfassen insbesondere Ätzprozesse, Naßchemieverfahren, Diffusionsprozesse sowie Reinigungsver fahren.The manufacturing processes include in particular etching processes, Wet chemical processes, diffusion processes and cleaning processes drive.
Jede der Fertigungseinheiten 2 weist eine Bedieneinheit 3 auf, welche vom Bedienpersonal der Anlage bedienbar ist. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind die Bedieneinheiten 3 unmittelbar an der jeweiligen Fertigungseinheit 2 angeordnet. Alternativ können die Bedieneinheiten 3 in einem vom Reinraum 1 abgetrennten Raum angeordnet sein, in welchem keine Rein raumbedingungen herrschen. Each of the production units 2 has an operating unit 3 which can be operated by the operating personnel of the system. In the present embodiment, the control units 3 are arranged directly on the respective production unit. 2 Alternatively, the control units 3 can be arranged in a separate room from the clean room 1 , in which there are no clean room conditions.
Die zu bearbeitenden Wafer werden in Kassetten 4 den einzel nen Fertigungseinheiten 2 zugeführt. Als typische Lösgröße sind 25 Wafer in einer Kassette 4 untergebracht. Für die Zu führung der Kassetten 4 zu den Fertigungseinheiten 2 und den Abtransport von den Fertigungseinheiten 2 ist ein Transport system vorgesehen, welches ein Fördersystem und ein Speicher system aufweist. Bei dem in Fig. 1 dargestellten Ausfüh rungsbeispiel sind als Fördersystem Rollenförderer 5 vorgese hen. Die Kassetten 4 werden dabei auf den Rollen der Rollen förderer 5 aufliegend transportiert. Das Speichersystem dient der Zwischenlagerung der Kassetten 4, wobei als Speichersy stem beispielsweise Stocker 6 eingesetzt werden. Einer dieser Stocker 6 ist schematisch in Fig. 1 dargestellt.The wafers to be processed are fed to the individual production units 2 in cassettes 4 . As a typical solution size, 25 wafers are accommodated in a cassette 4 . For the management of the cassettes 4 to the production units 2 and the removal from the production units 2 , a transport system is provided which has a conveyor system and a storage system. In the exemplary embodiment shown in FIG. 1, roller conveyors 5 are provided as a conveyor system. The cassettes 4 are transported lying on the rollers of the rollers conveyor 5 . The storage system is used for the intermediate storage of the cassettes 4 , stocker 6 being used as a storage system, for example. One of these stockers 6 is shown schematically in FIG. 1.
Die Entnahme der Kassetten 4 von den Rollenförderern 5 und die Zuführung zu einer Fertigungseinheit 2 oder einem Stocker 6 kann manuell oder über nicht dargestellte Handlingssysteme erfolgen.The cassettes 4 can be removed from the roller conveyors 5 and fed to a production unit 2 or a stocker 6 either manually or via handling systems (not shown).
Zur Verfolgung und Steuerung des Materialflusses der Wafer in der Anlage ist ein Leitstand 7 vorgesehen. Hierzu werden von den Fertigungseinheiten 2 und/oder dem Transportsystem die Wafer, die Fertigungseinheiten 2 und/oder das Transportsy stem kennzeichnende Prozeßdaten in den Leitstand 7 eingele sen.A control station 7 is provided for tracking and controlling the material flow of the wafers in the system. For this purpose, the process data characterizing the wafers, the manufacturing units 2 and / or the transportation system are entered into the control center 7 by the manufacturing units 2 and / or the transportation system.
Der Leitstand 7 selbst kann sich dabei prinzipiell im Rein raum 1 befinden. Bei dem in Fig. 1 dargestellten Ausfüh rungsbeispiel befindet sich der Leitstand 7 in einem vom Reinraum 1 abgetrennten Raum 8. Dies ist deshalb vorteilhaft, weil in diesem Raum 8 keine Reinraumbedingungen herrschen müssen, so daß dieser Raum 8 einfach und schnell für das Be dienpersonal ohne Reinraumkleidung zugänglich ist. Prinzipi ell können die Bedieneinheiten 3 der Fertigungseinheiten 2 in demselben Raum 8 angeordnet sein, in welchem sich der Leit stand 7 befindet. The control center 7 itself can in principle be located in the clean room 1 . In the example shown in FIG. 1, the control station 7 is located in a room 8 which is separated from the clean room 1 . This is advantageous because there are no clean room conditions in this room 8 , so that this room 8 is easily and quickly accessible to the operating personnel without clean room clothing. In principle, the control units 3 of the production units 2 can be arranged in the same room 8 in which the control station 7 is located.
Der Leitstand 7 weist eine oder mehrere nicht dargestellte Rechnereinheiten auf, welche die Steuerung der Anlage über nehmen. Hierzu sind die Rechnereinheiten des Leitstands 7 an Einheiten der Anlage wie insbesondere die Fertigungseinheiten 2 angeschlossen.The control center 7 has one or more computer units, not shown, which take over the control of the system. For this purpose, the computer units of the control center 7 are connected to units of the system, in particular the production units 2 .
Ein Beispiel eines derartigen Anschlußschemas ist in Fig. 2 dargestellt. Das Anschlußschema gemäß Fig. 2 stellt ein Netzwerk dar, welches vom Leitstand 7 gesteuert wird.An example of such a connection scheme is shown in FIG. 2. The connection diagram as shown in FIG. 2 illustrates a network which is controlled by the control station. 7
An dieses Netzwerk sind zunächst sämtliche Fertigungseinhei ten 2 der Anlage angeschlossen. Zweckmäßigerweise erfolgt der Anschluß über die Bedieneinheiten 3 der Fertigungseinheiten 2. Zudem können den Fertigungseinheiten 2 nicht dargestellte Betriebsdatenerfassungsgeräte zugeordnet sein, welche eben falls an den Leitstand 7 angeschlossen sind.All production units 2 of the system are initially connected to this network. The connection is expediently made via the control units 3 of the production units 2 . In addition, production data acquisition devices ( not shown) can be assigned to the production units 2 , which are also connected to the control center 7 if this is the case.
Zudem können am Transportsystem mehrere dezentrale Rech nereinheiten 9 vorgesehen sein, welche ebenfalls an den Leit stand 7 angeschlossen sind. An diese dezentrale Rechnerein heiten 9 können jeweils Erfassungssysteme angeschlossen sein, welche den Materialfluß der Wafer erfassen. Diese Erfassungs systeme können beispielsweise von Codelesern gebildet sein, welche auf den Kassetten 4 aufgebrachten Codes zur Klassifi kation der Wafer lesen.In addition, several decentralized computer units 9 can be provided on the transport system, which are also connected to the control station 7 . Detection systems can be connected to these decentralized computer units 9 which detect the material flow of the wafers. These detection systems can be formed, for example, by code readers which read the codes applied to the cassettes 4 for classifying the wafers.
Anhand der mit den Erfassungssystemen ermittelten Prozeßdaten kann im Leitstand 7 ermittelt werden, wieviele Kassetten 4 mit Wafern in der Anlage im Umlauf sind. Zudem ist damit eine genaue Verfolgung der Kassetten 4 mit den Wafern möglich.Based on the process data determined with the acquisition systems, it can be determined in the control center 7 how many cassettes 4 with wafers are in circulation in the system. In addition, an accurate tracking of the cassettes 4 with the wafers is possible.
Anhand der von den Bedieneinheiten 3 und den Betriebsdatener fassungsgeräten in den Leitstand 7 eingelesenen Prozeßdaten werden sämtliche wesentlichen Prozeßdaten der Fertigungsein heiten 2, wie zum Beispiel Stillstandszeiten, Betriebsstörun gen sowie Auslastungsgrad erfaßt und im Leitstand 7 ausgewer tet. Zudem werden Informationen über den Bearbeitungszustand der Wafer gewonnen. Beispielsweise wird dadurch im Leitstand 7 erfaßt, welche und wieviele Wafer an einer Fertigungsein heit 2 zur Nachbearbeitung oder als Ausschuß ausgeschleust werden müssen.On the basis of the process data read in by the operating units 3 and the operating data acquisition devices in the control center 7 , all essential process data of the manufacturing units 2 , such as downtimes, operating faults and the degree of utilization, are recorded and evaluated in the control center 7 . Information about the processing status of the wafers is also obtained. For example, it is recorded in the control center 7 which and how many wafers on a Manufacturing unit 2 must be rejected for reprocessing or as a committee.
Anhand dieser Prozeßdaten wird der Materialfluß über den Leitstand 7 zentral gesteuert. Insbesondere können über den Leitstand 7 an die dezentralen Rechnereinheiten 9 am Trans portsystem Steuerbefehle ausgegeben werden, durch welche eine Umlenkung von Wafern über die Rollenförderer 5 erfolgt oder bestimmte Kassetten 4 mit Wafern im Speichersystem eingela gert oder aus diesem entnommen werden.The material flow is controlled centrally via the control station 7 on the basis of this process data. In particular, control commands can be issued via the control center 7 to the decentralized computer units 9 on the trans port system, by means of which wafers are deflected via the roller conveyors 5 or certain cassettes 4 with wafers are inserted into or removed from the storage system.
Zudem können vom Leitstand 7 auch Steuerbefehle oder Ferti gungsparameter direkt an die Bedieneinheiten 3 der Ferti gungseinheiten 2 übertragen werden. Damit werden insbesondere die Betriebsparameter der betreffenden Fertigungseinheit 2 zur Anpassung des Materialflusses in geeigneter Weise einge stellt. Alternativ können vom Leitstand 7 Bedienanweisungen für das Bedienpersonal an die Bedieneinheiten 3 der Ferti gungseinheiten 2 ausgegeben werden.In addition, control commands or manufacturing parameters can also be transmitted directly from the control center 7 to the operating units 3 of the manufacturing units 2 . In particular, the operating parameters of the relevant manufacturing unit 2 for adjusting the material flow are set in a suitable manner. Alternatively, operating instructions for the operating personnel can be issued from the control center 7 to the operating units 3 of the production units 2 .
Weiterhin ist an den Leitstand 7 eine Rechnereinheit 10 für die Instandhaltungseinrichtung der Anlage angeschlossen.Furthermore, a computer unit 10 for the maintenance facility of the system is connected to the control center 7 .
Zudem ist wenigstens eine Rechnereinheit 11 für die Verwal tung des Ersatzteillagers für die Anlage an den Leitstand 7 angeschlossen.In addition, at least one computer unit 11 for the administration of the spare parts store for the system is connected to the control center 7 .
Arbeitet eine der an den Leitstand 7 angeschlossenen Einhei ten, insbesondere eine Fertigungseinheit 2, fehlerhaft oder ist diese Einheit aufgrund eines Defekts ausgefallen, so wird eine Störmeldung von dieser Einheit an den Leitstand 7 über tragen. If one of the units connected to the control center 7 works, in particular a manufacturing unit 2 , or if this unit has failed due to a defect, a fault message is transmitted from this unit to the control center 7 .
Im Leitstand 7 wird diese Störmeldung ausgewertet. Zweckmäßi gerweise wird in Abhängigkeit dieser Störmeldung ein Steuer befehl an die entsprechende Einheit zur Beseitigung der Stö rung übertragen, falls die Einheit noch insoweit funktionsfä hig ist. Handelt es sich bei der Störung um eine Funktions störung einer Fertigungseinheit 2, so kann ein entsprechender Steuerbefehl vom Leitstand 7 an der Bedieneinheit 3 angezeigt werden. Im einfachsten Fall kann das Bedienpersonal anhand des an der Bedieneinheit 3 angezeigten Steuerbefehls die Stö rung sofort vor Ort beseitigen.This fault message is evaluated in control center 7 . Expediently, depending on this fault message, a control command is transmitted to the corresponding unit for eliminating the fault, if the unit is still functional. If the malfunction is a malfunction of a manufacturing unit 2 , a corresponding control command from the control center 7 can be displayed on the operating unit 3 . In the simplest case, the operating personnel can eliminate the fault immediately on site using the control command displayed on operating unit 3 .
Ist die Störung einer Fertigungseinheit 2 gravierender, ist beispielsweise ein Teil der Fertigungseinheit 2 defekt, so wird vom Leitstand 7 nach Erfassung der Störmeldung ein Steu erbefehl an die Rechnereinheit 10 der Instandhaltungseinrich tung der Anlage abgegeben. Dadurch kann das Bedienpersonal mit einer sehr kurzen Reaktionszeit den Fehler an der Ferti gungseinheit 2 lokalisieren und beseitigen.If the malfunction of a manufacturing unit 2 is more serious, for example, part of the manufacturing unit 2 is defective, a control command is issued by the control center 7 after the fault message has been detected to the computer unit 10 of the plant's maintenance device. As a result, the operating personnel can locate and eliminate the fault on the production unit 2 with a very short reaction time.
Im Falle eines Defekts eines Teils einer Fertigungseinheit 2 kann als Anwort auf die Störmeldung der betreffenden Ferti gungseinheit 2 zudem auch vom Leitstand 7 ein Steuerbefehl an eine Rechnereinheit 11 des Ersatzteillagers der Anlage abge sendet werden. Dies ermöglicht eine sehr schnelle Bereitstel lung von Ersatzteilen, so daß die Fertigungseinheit 2 inner halb sehr kurzer Zeit wieder lauffähig ist.In the event of a defect in a part of a manufacturing unit 2 , a control command can also be sent from the control station 7 to a computer unit 11 of the system's spare parts warehouse in response to the fault message of the manufacturing unit 2 in question. This enables a very fast provision of spare parts, so that the production unit 2 is operational again within a very short time.
Zweckmäßigerweise werden die Betriebszustände sämtlicher an den Leitstand 7 angeschlossenen Einheiten an wenigstens einer Rechnereinheit des Leitstands 7 fortlaufend angezeigt. Beson ders vorteilhaft werden die Betriebszustände an der Rech nereinheit graphisch angezeigt. Das Bedienpersonal des Leit stands 7 kann somit fortlaufend kontrollieren, ob die Anlage einwandfrei arbeitet, oder ob sich kritische Zustände während des Betriebs entwickeln. The operating states of all the units connected to the control center 7 are expediently continuously displayed on at least one computer unit in the control center 7 . Particularly advantageously, the operating states are graphically displayed on the computing unit. The operating personnel of the control center 7 can thus continuously check whether the system is working properly or whether critical conditions develop during operation.
Prinzipiell können anstelle eines zentralen Leitstands 7 für die Anlage auch mehrere dezentral arbeitende Leitstände 7 vorgesehen sein, an welche jeweils eine vorgegebene Anzahl von Einheiten angeschlossen ist. In principle, instead of a central control station 7 , a plurality of decentralized control stations 7 can be provided for the system, to which a predetermined number of units is connected in each case.
11
Reinraum
Clean room
22nd
Fertigungseinheit
Manufacturing unit
33rd
Bedieneinheit
Control unit
44th
Kassetten
Cassettes
55
Rollenförderer
Roller conveyor
66
Stocker
Stocker
77
Leitstand
Control center
88th
Raum
room
99
Rechnereinheit
Computing unit
1010th
Rechnereinheit
Computing unit
1111
Rechnereinheit
Computing unit
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