DE19847247A1

DE19847247A1 - Identification element for verifying item authenticity has stored authentification data provided by microscopic position markings and structured fields together with data provided by identification element separation edges

Info

Publication number: DE19847247A1
Application number: DE19847247A
Authority: DE
Inventors: Bernd Roellgen
Original assignee: Bernd Roellgen
Current assignee: ROELLGEN, BERND, 81673 MUENCHEN, DE
Priority date: 1998-10-14
Filing date: 1998-10-14
Publication date: 2000-04-20

Abstract

The identification element (11) has individual markings (13,17) for accurate positioning of the identification element, together with individually structured fields (14) , for providing visually readable data, which are both visible under a microscope. The separation edges formed when the identification element is separated from a crystalline wafer provide further data stored with the data provided by the scanned markings and the structured fields for authenticity verification.

Description

Die Erfindung betrifft ein Kennzeichnungselement aus einem kristallinen Material, das in nahezu beliebige Gegenstände eingebracht werden kann und mit dem im Falle einer Unter suchung eines damit gekennzeichneten Gegenstands der eindeutige Nachweis der Echtheit des Gegenstands geführt werden kann. Die Oberfläche des Kennzeichnungselements ist dabei mit unter einem Mikroskop sichtbaren individuellen Markierungen versehen, die eine genaue Lage bestimmung des Kennzeichnungselements zulassen und aus denen eine kodierte Nachricht ab gelesen werden kann. Die während des Fertigungsprozesses eines Kennzeichnungselements entstehenden Bruchkanten, welche beim Vereinzeln einer Vielzahl von Kennzeichnungs elementen aus einem mono- oder polykristallinen Basisträger entstehen und einen statistischen Verlauf am Rande der Bruchkante aufweisen, lassen zusammen mit den unter einem Mikros kop sichtbaren Markierungen den Nachweis der Identität des Kennzeichnungselements bei Gleichheit des mit in einer Datenbank gespeicherten Bruchkantenverlaufs zu. Mithilfe des Kennzeichnungselements gelingt die Abwehr unberechtigter Forderungen aus der Produkt haftung.The invention relates to a marking element made of a crystalline material, which in almost any objects can be introduced and with the in the case of a sub search for an object marked with it, the clear proof of the authenticity of the Object can be performed. The surface of the labeling element is included Individual markings visible under a microscope provide an exact location Allow determination of the label element and from which a coded message can be read. The during the manufacturing process of a label element resulting breaking edges, which when separating a variety of labels elements from a monocrystalline or polycrystalline base support and a statistical one Show course at the edge of the breakline, together with those under one microscope The visible markings provide proof of the identity of the label element Equality of the break line course stored in a database. With the help of Label element succeeds in warding off unjustified claims from the product liability.

Elemente zur Führung des Echtheitsnachweises von Gegenständen sind in verschiedenen Aus führungen bekannt. Gegenstände können mit Hologrammen versehen werden, deren Inter ferenzmuster nur mit sehr großem Aufwand nachempfunden werden kann. Sprengstoffe und Flüssigkeiten können insbesondere mit mikroskopisch kleinen Farbpartikeln, die meist aus mehreren farblich unterschiedlichen Schichten bestehen, markiert werden. Daneben besteht die Möglichkeit, Spuren von Chemikalien, DNS oder Isotopen geeigneter chemischer Elemente in den zu kennzeichnenden Gegenstand einzubringen. Dokumente oder Textilien können ferner mit dünnen Farbstreifen versehen werden oder sie können mit speziellen Farben bedruckt werden, die fluoreszensierende Eigenschaften haben. In der Vergangenheit wurden Dokumente überdies hauptsächlich mit Wasserzeichen versehen. Durch Gravur oder Bedruckung können Dokumente, Folien und Hologramme zur Erhöhung der Fälschungssicherheit mit einer Serien nummer einzeln gekennzeichnet werden. Berührungslos lesbare mikroelektronische Trans ponder, deren Schaltungsstrukturen sehr komplex sind, können auf hochpreisige Industrie produkte geklebt oder eingearbeitet werden.Elements for keeping the authenticity of objects are in different forms known tours. Objects can be provided with holograms, the inter reference pattern can only be reproduced with great effort. Explosives and Liquids can be made up, in particular, of microscopic paint particles that are mostly made up of consist of several layers of different colors. There is also the Possibility of traces of chemicals, DNA or isotopes of suitable chemical elements in to bring in the object to be marked. Documents or textiles can also can be provided with thin color strips or they can be printed with special colors that have fluorescent properties. In the past, documents were also mainly provided with watermarks. By engraving or printing Documents, foils and holograms to increase counterfeit security with a series number can be marked individually. Non-contact readable microelectronic trans ponders, whose circuit structures are very complex, can rely on high-priced industry products are glued or incorporated.

Die bekannten Elemente zur Führung des Echtheitsnachweises von Gegenständen haben den Nachteil, daß bei Kenntnis des Herstellungsverfahrens vom Original nicht unterscheidbare Imitate in Massen hergestellt werden können. Wasserzeichen und Hologramme werden in einem Druckprozeß oder photolithografisch in großen Mengen hergestellt. Beim Vergleich unterschiedlicher Hologramme fällt es Experten schwer, feine Unterschiede im Bildinhalt zu erkennen. Transponder sind vergleichsweise teuer und können bei Kenntnis der Schaltungs strukturen und der darin gespeicherten Daten ebenso in Massen gefälscht werden. Farbstoffe, DNS und andere Chemikalien, Isotope geeignet gewählter chemischer Elemente und schicht weise aufgebaute Farbpartikel können nach deren Analyse von Experten in nahezu beliebiger Menge synthetisiert werden und sind aus diesem Grund zum eindeutigen Nachweis der Echt heit damit gekennzeichneter Gegenstände nur eingeschränkt verwendbar. Lediglich bei schicht weise aufgebauten Farbpartikeln ist deren Bruchkante, die im Verlauf des Fertigungsprozesses entsteht, nach rein statistischen Regeln geformt, wodurch sich nur eine kleine Anzahl Farb partikel einander ähneln. Beim Echtheitsnachweis eines mit einer Seriennummer gravierten Farbpartikels kann dessen Umriß oder seine Deckfläche jedoch nicht mit dem in einer Daten bank gespeicherten Verlauf verglichen werden, weil die Orientierung des Farbpartikels aufgrund der fehlenden Grundfläche nicht mit ausreichender Präzision bestimmt werden kann.The known elements for keeping the authenticity of objects have the Disadvantage that with knowledge of the manufacturing process indistinguishable from the original Imitations can be mass-produced. Watermarks and holograms are in a printing process or photolithographically produced in large quantities. When comparing Different holograms make it difficult for experts to make subtle differences in the image content detect. Transponders are comparatively expensive and can be done with knowledge of the circuit structures and the data stored in them can also be falsified in bulk. Dyes, DNA and other chemicals, isotopes of suitably chosen chemical elements and layers According to their analysis, color particles built up wisely can be used in almost any way Amount to be synthesized and are for this reason to clearly prove the authenticity objects marked with it can only be used to a limited extent. Only with shift Color particles built up wisely is their breaking edge, which in the course of the manufacturing process arises, formed according to purely statistical rules, whereby only a small number of colors particles resemble each other. When verifying authenticity one engraved with a serial number However, the color particle or its top surface cannot match the color particle with that in a data bank saved history can be compared because the orientation of the color particle cannot be determined with sufficient precision due to the lack of base area.

Wenige der bekannten Elemente zur Führung des Echtheitsnachweises von Gegenständen sind bei Temperaturen über 700°C stabil. Die Mehrzahl der dafür verwendeten chemischen Ver bindungen weist bei derart hohen Temperaturen starke Zersetzungstendenzen auf. Dies gilt für DNS, wie auch für Farbstoffe und für die Makromoleküle schichtweise aufgebauter Farb partikel. Hologramme lösen sich entweder vom Anbringungsort aufgrund der Zersetzung des Trägermaterials oder die gespeicherte Information verschwimmt wegen Überschreitung des Schmelzpunkts der Aluminiumschicht. Bei mikroelektronischen Transpondern schmelzen bei derart hohen Temperaturen Isolatorschichten und die Aluminiumleitbahnen auf dem inte grierten Mikrochip. Transponder können in der Regel bei nicht mehr als 250°C und nur für kurze Zeit gelagert werden.Few of the known elements for keeping the authenticity of objects are stable at temperatures above 700 ° C. The majority of the chemical ver At such high temperatures, bonds show strong tendencies towards decomposition. This applies to DNA, as well as for dyes and for the macromolecules of color built up in layers particle. Holograms either detach from the location due to the decomposition of the Carrier material or the stored information blurs due to exceeding the Melting point of the aluminum layer. Microelectronic transponders melt away such high temperatures insulator layers and the aluminum interconnects on the inte grated microchip. As a rule, transponders can only be used at temperatures not exceeding 250 ° C be stored for a short time.

Lediglich Isotope geeignet gewählter chemischer Elemente sind bei Temperaturen oberhalb 700°C über lange Zeit stabil und können aus diesem Grund in nahezu beliebige Industriegüter unzertrennlich eingebracht werden.Only isotopes of suitably chosen chemical elements are at temperatures above 700 ° C stable for a long time and can therefore be used in almost any industrial goods are inseparable.

Der im Patentanspruch 1 angegebenen Erfindung liegt das Problem eines kostengünstigen Kennzeichnungselements, das in nahezu beliebige Gegenstände eingebracht werden kann und mit dem im Falle einer genaueren Untersuchung eines damit gekennzeichneten Gegenstands der eindeutige Nachweis der Echtheit gelingt, ohne daß die vorstehend geschilderten Nachteile auftreten, zugrunde.The invention specified in claim 1 has the problem of an inexpensive Labeling element that can be inserted into almost any objects and with the in the case of a closer examination of an object marked with it the authenticity can be clearly proven without the disadvantages described above occur.

Dieses Problem wird durch die im Patentanspruch 1 aufgeführten Merkmale gelöst.This problem is solved by the features listed in claim 1.

Ein erfindungsgemäßes Kennzeichnungselement wird bei vorteilhafter Ausführung zusammen mit anderen erfindungsgemäßen Kennzeichnungselementen aus einem mono- oder poly kristallinen Siliziumwafer hergestellt, dessen Oberfläche eben ist. Derartige Siliziumwafer sind aus der Mikroelektronik bekannt. Die mit einem Elektronen- oder Laserstrahlschreiber auf photolithographischem Weg und mit einem nachfolgenden Ätzprozeß strukturierte Oberseite des Wafers weist für jedes erfindungsgemäße Kennzeichnungselement eine individuelle Topo graphie der Wateroberfläche auf. Die zum Einsatz kommenden Prozeßschritte entsprechen dabei bei vorteilhafter Ausführung den Prozeßschritten zur Strukturierung einer Polysilizium schicht; der photolithographische Prozeßschritt findet in der Regel bei der Maskenherstellung für die Mikroelektronik Verwendung. Die hergestellten Oberflächenstrukturen enthalten dabei Markierungen für die genaue Ausrichtung der noch auf dem Wafer befindlichen Kennzeich nungselemente, sowie weitere in der Oberflächenstruktur gespeicherte und für jedes produ zierte Kennzeichnungselement individuelle Daten. Bei vorteilhafter Ausführung der Ober flächenstruktur werden die Daten in Form einer Folge nicht äquidistanter punktförmiger geätzter Vertiefungen auf der Oberfläche des Kennzeichnungselements gespeichert. A marking element according to the invention is put together in an advantageous embodiment with other labeling elements according to the invention made of a mono- or poly crystalline silicon wafer is produced, the surface of which is flat. Such silicon wafers are known from microelectronics. The one with an electron or laser beam recorder photolithographic path and structured top with a subsequent etching process of the wafer has an individual topo for each identification element according to the invention graph of the water surface. The process steps used correspond to in an advantageous embodiment, the process steps for structuring a polysilicon layer; the photolithographic process step usually takes place in mask production for microelectronics use. The surface structures produced contain Markings for the exact alignment of the label still on the wafer nation elements, as well as other stored in the surface structure and for each produ graced label element individual data. In an advantageous embodiment of the upper area structure, the data become more punctiform in the form of a sequence of non-equidistant etched recesses stored on the surface of the label.

Zur Passivierung der zuvor strukturierten Oberfläche dient bei vorteilhafter Ausführung eine bis zu 2 µm dicke und in einem PECVD-Prozeßschritt aufgebrachte Siliziumnitridschicht, die aufgrund hoher Transparenz nicht die Lesbarkeit der auf der Oberfläche gespeicherten Daten und Markierungen unter einem Mikroskop beeinträchtigt. Die Lage von Staubpartikeln, die während der Herstellung unter der Siliziumnitridschicht eingeschlossen wurden, können zur Identifizierung individueller erfindungsgemäßer Kennzeichnungselemente herangezogen werden.In an advantageous embodiment, a is used to passivate the previously structured surface up to 2 µm thick and applied in a PECVD process step silicon nitride layer due to high transparency not the legibility of the data stored on the surface and markings impaired under a microscope. The location of dust particles that trapped under the silicon nitride layer during manufacture can be used Identification of individual labeling elements according to the invention used become.

Die Vereinzelung der Kennzeichnungselemente erfolgt bei vorteilhafter Ausführung durch Sägen des mit der nicht strukturierten Rückseite auf eine Folie geklebten Wafers oder durch Brechen des mit einem Diamanten geritzten und auf Folie geklebten Wafers. Die bei diesem Vorgang entstehenden Bruch-oder Sägekanten weisen eine Kantenrauhheit von bis zu 50 µm auf. Im Auflicht durch ein Mikroskop betrachtet, kann bei erfindungsgemäßen Kennzeich nungselementen aufgrund des kristallinen Substrats ein zufälliger Verlauf am Rande der Bruchkante beobachtet werden, der charakteristisch für ein bestimmtes Kennzeichnungs element ist. Die Wahrscheinlichkeit, daß die Bruchkanten zweier erfindungsgemäßer Kenn zeichnungselemente sich gleichen, ist so gering, daß ein Fälscher für jedes gefälschte Kenn zeichnungselement eine nahezu unendlich große Zahl nicht ähnlicher Kennzeichnungselemente produzieren muß, wodurch seine Herstellungskosten weit über dem zu erwartenden Gewinn liegen. Die Wahrscheinlichkeit, daß sich alle vier Bruchkanten eines erfindungsgemäßen Kenn zeichnungselements auf einem 20 µm-Raster ähneln beträgt bei einer Auflösung der Kanten stärke von lediglich einem Bit und einer Kantenlänge von 0,3 mm:
In an advantageous embodiment, the marking elements are separated by sawing the wafer glued to a film with the unstructured back or by breaking the wafer scratched with a diamond and glued to film. The breaking or sawing edges that arise during this process have an edge roughness of up to 50 μm. Viewed in incident light through a microscope, in the case of labeling elements according to the invention, a random course at the edge of the breaking edge can be observed due to the crystalline substrate, which is characteristic of a particular labeling element. The likelihood that the breaking edges of two label elements according to the invention are the same is so low that a counterfeiter has to produce an almost infinite number of non-similar label elements for each counterfeit label element, as a result of which its production costs are far above the expected profit. The probability that all four breaking edges of a marking element according to the invention resemble each other on a 20 µm grid with a resolution of the edge strength of only one bit and an edge length of 0.3 mm:

p = 1/(2^{4.(0,3 mm/0,02 mm)}) = 8,7.10^-19.p = 1 / (2 ^{4th (} 0.3mm ^/ 0.02mm ⁾ ) = 8.7.10 ^-19 .

Bei zusätzlicher Verwendung der Lageinformation von Staubpartikeln, die unveränderbar unter der Passivierungsschicht eingeschlossen sind und die unvermeidlich auftreten und sich voll kommen zufällig auf dem Wafer niedersetzen, kann dadurch ein weiteres statistisches Echt heitskriterium bei einer späteren Untersuchung herangezogen werden.With additional use of the location information of dust particles that cannot be changed under the passivation layer are included and which inevitably occur and become full if they come down on the wafer at random, this can be another statistical real criterion can be used in a later investigation.

Um die Zuordnung statistischer Merkmale bei jedem der hergestellten erfindungsgemäßen Kennzeichnungselemente zu gewährleisten, werden die statistischen Echtheitskriterien oder nur der Bruchkantenverlauf alleine nach dem Sägen oder Brechen der Kennzeichnungselemente aus dem Wafer mit einem optischen Bildaufnahmesystem und einem nachgeschalteten Com putersystem analysiert und in einer Datenbank gespeichert. Anhand der gespeicherten Daten kann bei einer späteren Untersuchung gekennzeichneter Produkte die Echtheit des erfindungs gemäßen Kennzeichnungselements und bei dessen geschickter Einbringung in das Produkt auch die Echtheit des Produkts selbst nachgewiesen werden.To assign statistical features to each of the manufactured according to the invention Label elements to ensure statistical authenticity criteria or just the breaking edge course alone after sawing or breaking the label elements from the wafer with an optical image recording system and a downstream Com puter system analyzed and stored in a database. Based on the stored data Can the authenticity of the fiction according label element and when it is skillfully incorporated into the product the authenticity of the product itself can also be verified.

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der beigefügten zeichnerischen Darstellung und nachfolgenden Beschreibung eines erfindungsgemäßen Kennzeichnungselements. In der Zeichnung zeigt:Further features, details and advantages of the invention emerge from the attached graphic representation and subsequent description of an inventive Label element. The drawing shows:

Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Kennzeichnungselements auf einem Wafer vor der Vereinzelung; Figure 1 is a schematic representation of an embodiment of a marking element according to the invention on a wafer before singulation.

Fig. 2 eine schematische Darstellung einer Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Kennzeichnungselements. Fig. 2 is a schematic representation of an embodiment of a labeling element according to the invention.

In dem Prinzipbild gemäß Fig. 1 ist ein mit dem Bezugszeichen 1 bezeichnetes Kennzeich nungselement, bestehend aus photolithographisch mittels Elektronenstrahl oder Laserstrahl strukturierten und in einem Folgeprozeßschritt geätzten Markierungen für die genaue Aus richtung 3 und ein Bereich individuell strukturierter nicht äquidistanter punktförmiger Ver tiefungen 4, zusammen mit einer Vielzahl weiterer dem Kennzeichnungselement 1 ähnelnder Kennzeichnungselemente auf dem Wafer 2 dargestellt. Sämtliche auf dem Wafer 2 befindlichen Kennzeichnungselemente 1 unterscheiden sich in der Anordnung der punktförmigen Ver tiefungen und damit in den im Bereich nicht äquidistanter punktförmiger Vertiefungen 4 gespeicherten Daten.In the schematic diagram of FIG. 1 a designated by the reference numeral 1 Distinguishing is voltage element consisting structured from photolithographically by means of electron beam or laser beam and etched in a subsequent process step markings for accurate off device 3 and a portion of individually structured not equidistant punctiform Ver depressions 4, together with a large number of further marking elements similar to the marking element 1 on the wafer 2 . All the marking elements 1 located on the wafer 2 differ in the arrangement of the punctiform depressions and thus in the data stored in the region of non-equidistant punctiform depressions 4 .

Bei vorteilhafter Ausführung enthält der Bereich nicht äquidistanter punktförmiger Ver tiefungen 4 ein Codewort, das in einer ED V- Anlage als Schlüssel zum späteren Auffinden weiterer Informationen über das individuelle Kennzeichnungselement 1 dient und das halb automatisch oder voll automatisch von einem Bilderkennungssystem gelesen werden kann.In an advantageous embodiment, the area of non-equidistant punctiform depressions 4 contains a code word which serves in a computer system as a key for later finding further information about the individual identification element 1 and which can be read semi-automatically or fully automatically by an image recognition system.

Zur Passivierung der strukturierten Oberseite des Wafers 2 kann eine bis zu 2 µm dicke Siliziumnitridschicht oder Siliziumdioxidschicht aufgebracht werden, die überdies auf der Oberfläche des Wafers 2 zufällig befindliche Staubkörner einschließt. Die Lage und Anzahl der unter der Siliziumnitridschicht eingeschlossenen Staubkörner kann im Falle einer Echtheits prüfung des Kennzeichnungselements 1 als Prüfkriterium herangezogen werden, sofern im Verlauf des Produktionsprozesses des Kennzeichnungselements 1 die Lage und Anzahl der Staubkörner zusammen mit dem durch das im Bereich nicht äquidistanter punktförmiger Ver tiefungen 4 gespeicherten Codewort in einer EDV-Anlage verknüpft und gespeichert wird.In order to passivate the structured upper side of the wafer 2 , a silicon nitride layer or silicon dioxide layer up to 2 μm thick can be applied, which moreover includes grains of dust which are randomly located on the surface of the wafer 2 . The position and number of the dust grains enclosed under the silicon nitride layer can be used as a test criterion in the event of an authenticity check of the labeling element 1 , provided that in the course of the production process of the labeling element 1 the position and number of dust grains together with the deepening caused by the non-equidistant puncture in the area 4 stored code word is linked and stored in a computer system.

Nach Aufbringung der Passivierungsschicht wird das Kennzeichnungselement 1 zusammen mit den ihm ähnelnden Kennzeichnungselementen aus dem Wafer 2 herausgesägt oder heraus gebrochen.After the passivation layer has been applied, the marking element 1 is sawed out or broken out of the wafer 2 together with the marking elements similar to it.

Fig. 2 zeigt eine Ausführung eines erfindungsgemäßen und nach der Fertigung vereinzelten Kennzeichnungselements 11 mit Markierungen für die genaue Ausrichtung 13 und 17, einem Bereich individuell strukturierter und nicht äquidistanter punktförmiger Vertiefungen 14 und den bei der Vereinzelung entstandenen Bruchkanten 18, die sich über den gesamten Umfang des Kennzeichnungselements 11 erstrecken. Fig. 2 shows an embodiment of a marking element 11 according to the invention and separated after production with markings for the precise alignment 13 and 17 , a region of individually structured and non-equidistant punctiform depressions 14 and the breaking edges 18 formed during the separation, which extend over the entire circumference of the labeling element 11 extend.

Die Bruchkanten 18 des Kennzeichnungselements 11 weisen einen während des Sägens oder Brechens bei der Vereinzelung entstehenden zufälligen Verlauf auf, der von dem bei der Fertigung forcierten geradlinigen Verlauf abweicht. Dies ist bedingt durch die Verwendung eines kristallinen Basismaterials wie Silizium oder Siliziumdioxid, das bevorzugt an Orten mit Kristallfehlern und damit vollkommen unvorhersehbar bricht. Der Verlauf der Bruchkanten 18 kann im Falle einer Echtheitsprüfung des Kennzeichnungselements 11 als Prüfkriterium heran gezogen werden, sofern während des Produktionsprozesses des Kennzeichnungselements 11 der Verlauf der Bruchkanten 18 mittels eines elektronischen Bildverarbeitungssystems auf genommen und mit dem durch das im Bereich nicht äquidistanter punktförmiger Vertiefungen 14 gespeicherten Codewort in einer EDV-Anlage verknüpft und gespeichert wird.The breaking edges 18 of the marking element 11 have a random course that occurs during the sawing or breaking during the singulation, which deviates from the straight course that is forced during production. This is due to the use of a crystalline base material such as silicon or silicon dioxide, which preferably breaks at locations with crystal defects and is therefore completely unpredictable. The course of the breaking edges 18 can be used as a test criterion in the case of an authenticity check of the identification element 11 , provided that during the production process of the identification element 11 the course of the breaking edges 18 is recorded by means of an electronic image processing system and is stored with the recesses 14 that are not equidistant in the area Code word is linked and stored in a computer system.

Aufgrund der Tatsache, daß ausschließlich Standardprozesse aus der Mikroelektronik und nur ein Maskenschritt benötigt werden, können bei Dimensionen von 0,3 × 0,3 mm der einzelnen Kennzeichnungselemente 11 Herstellungskosten unter denen von Einzeltransistoren erzielt werden. Due to the fact that only standard processes from microelectronics and only one masking step are required, with dimensions of 0.3 × 0.3 mm of the individual identification elements 11, production costs can be achieved below those of individual transistors.

Unter Verwendung von Silizium oder Siliziumdioxid als Basismaterial für den Wafer 2 und unter der Voraussetzung, daß dessen Oberfläche durch einen Photolithographie- und einen nachfolgenden Ätzprozeß strukturiert wird, ist das Kennzeichnungselement 11 bis nahe an den Schmelzpunkt des Basismaterials ausreichend temperaturstabil, um Temperaturen, die während der Herstellung nahezu beliebiger mit dem Kennzeichnungselement 11 ausgestatteter Gegen stände auftreten, zu tolerieren. Ein Kennzeichnungselement 11 kann in nahezu beliebige Gegenstände eingeschmolzen werden, sofern es mit einem elastischen Material wie Glaswolle ummantelt ist, welches mechanische Kräfte, hervorgerufen durch die unterschiedliche Wärme ausdehnung der verwendeten Materialien, absorbiert.Using silicon or silicon dioxide as the base material for the wafer 2 and provided that its surface is structured by a photolithography and a subsequent etching process, the marking element 11 is sufficiently temperature-stable up to close to the melting point of the base material to withstand temperatures which occur during tolerate the production of almost any object equipped with the labeling element 11 . A marking element 11 can be melted into almost any object, provided it is coated with an elastic material such as glass wool, which absorbs mechanical forces caused by the different thermal expansion of the materials used.

Ein erfindungsgemäßes Kennzeichnungselement 11, welches aus Silizium oder Siliziumdioxid gefertigt ist, kann über lange Zeit starke mechanische Belastungen unterhalb der Bruch spannung tolerieren, ohne irreversible Verformung zu erleiden. Diese Materialeigenschaft, für die der kristalline Aufbau des Basismaterials verantwortlich ist, ermöglicht eine gute Reproduzierbarkeit bei der Bilderkennung der Bruchkanten 18.A marking element 11 according to the invention, which is made of silicon or silicon dioxide, can tolerate strong mechanical loads below the breaking stress for a long time without suffering irreversible deformation. This material property, for which the crystalline structure of the base material is responsible, enables good reproducibility in the image recognition of the broken edges 18 .

Claims

1. marking element for keeping the proof of the authenticity of objects ( 1 , 11 ), which can be inserted into almost any objects, characterized by individual markings visible under a microscope for precise determination of the position ( 13 , 17 ) of the marking element ( 1 , 11 ), a data individually structured field visible under a microscope and visually readable for storing (4, 14) and through the course of the manufacturing process by breaking or sawing of the marking element (1, 11) consisting of a crystalline material wafer breaking edges (18) produced (2) which, together with the data readable under a microscope and stored in the individually structured field ( 4 , 14 ), allow the identification of the identification element ( 1 , 11 ) to be verified if the course of the broken edges ( 18 ) stored in a database is identical.

2. Labeling element according to claim 1, characterized in that the individually structured under a microscope and for storing visually readable data individually structured field ( 4 , 14 ) is constructed from a matrix-shaped sequence of punctiform depressions ( 15 ) and open spaces ( 16 ).

3. Labeling element according to claim 1 or 2, characterized in that the visible under a microscope and for storing visually readable data individually structured field ( 4 , 14 ) from recesses ( 15 ) and open areas ( 16 ) is constructed, which is the shape of characters and can be easily interpreted by people.

4. Labeling element according to one of claims 1 to 3, characterized in that the individual markings visible under a microscope for precise position determination ( 13 , 17 ) of the labeling element ( 1 , 11 ) are not carried out, but their function by that under a microscope visible and individually structured field ( 4 , 14 ) for storing visually readable data.