DE19716240A1 - Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger - Google Patents
Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen AufzeichnungsträgerInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Fotoplott-Verfahren und
eine Anordnung zur Aufzeichnung eines
computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen
lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger.
Fotoplott-Verfahren und -Anordnungen dienen z. B. zur
Herstellung fotographischer Vorlagen für gedruckte
Leiterplatten.
Nach dem Stand der Technik (Informationsblatt
"Xenon-Plotter" der Firma MIVATEK, Hard- und Software
GmbH, Benzstr. 17, D-71171 Schönaich vom 15.10.1996) sind
Fotoplotter bekannt, die ein computergespeichertes
Rasterbild auf einen ebenen lichtempfindlichen
Aufzeichnungsträger aufzeichnen.
Bei dieser Aufzeichnung wird ein sogenannter
Belichtungskopf (mit einer Aufzeichnungsfläche von
ca. 5×7,5 mm) über einen relativ zu ihm großflächigen
Aufzeichnungsträger (bis ca. 720×600 mm) zur
Aufzeichnung von Bildelementen geführt, aus denen das
Aufzeichnungsträger-Rasterbild zusammengesetzt ist.
Im Belichtungskopf ist eine sogenannte LCD-Matrix
lichtsteuernder Elemente vorgesehen (LCD: liquid crystal
device = Flüssig-Kristall-Anordnung). Sie besteht aus
einer Vielzahl matrixförmig angeordneter
Flüssig-Kristall-Elemente, von denen jedes selektiv
elektrisch angesteuert werden kann, um es für Durchlicht
zu öffnen oder zu sperren.
Wird diese LCD-Matrix mit Durchlicht beaufschlagt, so kann
dieses die Matrix nur an den Elementen als "Lichtstrahl"
passieren, die auf Durchlaß gesteuert sind.
Die durchgelassenen Lichtstrahlen erzeugen auf dem
lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger jeweils ein
Bildelement. Fehlende Lichtstrahlen - gleichbedeutend mit
gesperrten Elementen - "erzeugen fehlende Bildelemente".
Das Aufzeichnungsträger-Rasterbild besteht aus einer
Vielzahl von Bildelementen, aufgezeichnete und nicht
aufgezeichnete (fehlende) eingeschlossen.
In der vorstehend genannten Anordnung wird die LCD-Matrix
mit dem Licht einer Xenon-Blitzlampe beaufschlagt.
Da der die LCD-Matrix enthaltende Belichtungskopf eine
ungleich kleinere Fläche (zu vergleichen mit dem Feld
eines Schachbrettes) als der Aufzeichnungsträger (zu
vergleichen mit einem Schachbrett mit enorm vielen
Feldern) hat, muß dieser Belichtungskopf nacheinander auf
alle Schachbrettfeldpositionen geführt werden, damit dort
Bildelemente aufgezeichnet werden können.
Die Bewegung des Belichtungskopfes über die gesamte Fläche
des Aufzeichnungsträgers stellt bei einem erstrebtem hohen
Auflösungsvermögen (im Bereich < 10 mikrometer) des
Aufzeichnungsträger-Rasterbildes höchste
Toleranzanforderungen an die Präzision der
Bewegungsmechanik zur Verschiebung des Kopfes.
Je größer die Verschiebungsstrecken, um so schwieriger ist
es, höchste Toleranzanforderungen zu erfüllen.
Die Verschiebung des Belichtungskopfes über die gesamte
Aufzeichnungsträgerfläche ist deshalb problematisch und
begrenzt die Genauigkeit der Aufzeichnung, ganz abgesehen
von dem enormen apparativen und Kostenaufwand
für eine solche Verschiebeeinrichtung.
Außerdem fallen bei den vorgenannten Fotoplottern
hohe Plottzeiten (6 min bis 1 Stunde je nach Auflösung)
an.
Zur Vermeidung dieser Nachteile (großflächig arbeitende
Verschiebeeinrichtung, hohe Plottzeiten) ist es deshalb
Aufgabe der Erfindung, ein Fotoplottverfahren und eine
Anordnung zu seiner Durchführung mit einer
Verschiebeeinrichtung für einen kleineren Verschiebereich
und für geringere Plottzeiten anzugeben.
Es ist weiterhin Aufgabe der Erfindung, ein
Fotoplottverfahren und eine Anordnung zu seiner
Durchführung anzugeben, welche(s) die Aufzeichnung eines
Aufzeichnungsträger-Rasterbildes mit veränderbarem
Abbildungsmaßstab gestattet, um beispielsweise bei
verkleinerten Abbildungen ein höheres Auflösungsvermögen
zu erreichen.
Diese Aufgaben der Erfindung werden in vorteilhafter Weise
durch die im kennzeichnenden Teil der Ansprüche 1 und 14
angegebenen Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen gekennzeichnet.
Prinzipdarstellungen und Ausführungsbeispiele der
Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden
im folgenden näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische perspektivische Darstellung einer
erfindungsgemäßen Anordnung -mit einer Lochmatrix, einer
LCD-Matrix und einer Verschiebeeinrichtung,
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines
Aufzeichnungsträgers mit den während eines ersten
Zeitabschnittes in den ersten Bildelement-Positionen aller
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen aufgezeichneten
Bildelementen,
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer
Steuer-Muster-Folge ST1, ST2,. .,ST9 für die Zeitabschnitte
T1, T2 und T9,
Fig. 4A-4I eine schematische Darstellung des
Steuerzustandes des Lichtsteuer-Elementes LA1 während der
Zeitabschnitte T1 bis T9 in Verbindung mit der diesem
Element LA1 zugeordneten Öffnung a1 des Lochmatrix-Feldes
HA1 und dem durch diese Öffnung hindurchtretenden (bzw.
nicht hindurchtretenden) die Aufzeichnung eines
Bildelementes bewirkenden Lichtstrahles,
Fig. 5A eine schematische ausschnittsweise Darstellung
eines mit einem bestimmten Abbildungsmaßstab
aufgezeichneten Rasterbildes,
Fig. 5B eine schematische Darstellung des Rasterbildes
gemäß Fig. 5A mit einem Abbildungsmaßstab 1 : 3,
Fig. 6A eine schematische Darstellung verschiedener nicht
überlappender kreisrunder Bildelemente zur Ausbildung
einer Randkontur RC,
Fig. 6B eine schematische Darstellung verschiedener
einander um 50% überlappender kreisrunder Bildelementen
zur Ausbildung einer Randkontur RF,
Fig. 7 eine auszugsweise schematische Aufsicht-Darstellung
verschiedener Lochmatrix-Felder mit
Fresnel-Beugungsgittern,
Fig. 8 eine schematische perspektivische Darstellung einer
X/Y-Tisch-Verschiebeeinrichtung für die Lochmaske.
Fig. 9 eine schematische Darstellung einer
erfindungsgemäßen Anordnung, welches einen
Spiegelelemente-Halbleiter-Chip und verschiedene Objektive
enthält.
Fig. 10 zeigt eine schematische Darstellung eines
Verschiebungsbereiches der Lochmatrix, der sich über
mehrere Lochmatrix-Felder erstreckt und bei dem die
Rasterpunkte einer Computer-Rasterpunkt-Teilfläche
mehreren benachbarten lichtsteuernden Elementen der
Licht-Steuer-Matrix zugeordnet sind
Fig. 1 zeigt eine schematische perspektivische Darstellung
einer erfindungsgemäßen Anordnung mit einer Lochmatrix 2,
einer LCD-Matrix 1 und einer Verschiebeeinrichtung 3.
Das computergespeicherte Rasterbild 0 ist in gedachte
Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .; A2. . ..)
aufgeteilt; jede Teilfläche weist matrixartig angeordnete
Rasterpunkt-Positionen (r1, r2, r3, r4. . .r9) auf.
Jede Rasterpunkt-Position versteht sich als Speicherzelle
mit binärem Status (Informationsgehalt) "an" (Darstellung
als weißer Kreis) oder "aus" (Darstellung als schwarzer
Kreis).
Das computergespeicherte Rasterbild setzt sich bildlich
interpretiert aus Rasterpunkten zusammen, die einen "an"-
oder "aus"-Status aufweisen.
Das Rastermaß, der gedachte Abstand zweier benachbarter
Rasterpunkte ist vorgegeben.
Durch das Rasterbild können ebene Strukturen wiedergegeben
werden, z. B. der Verlauf von Leiterbahnen auf gedruckten
Leiterplatten.
Derartige Leiter bahnen werden computerprogrammgesteuert
berechnet und als Rasterbild in einem Computer
gespeichert; dieses wird computerprogrammgesteuert auf
einem lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger
aufgezeichnet, der als Vorlage für die Herstellung
gedruckter Leiterplatten dient.
Das aufgezeichnete Rasterbild
(Aufzeichnungsträger-Rasterbild) setzt sich aus
Bildelementen als kleinsten "Druckpunkten" zusammen. Diese
können z. B. kleine runde oder quadratische "Druckpunkte"
sein.
Aufgezeichnete Druckpunkte" sind weißflächig, fehlende
schwarzflächig dargestellt.
Das Aufzeichnungsträger-Rasterbild ist in gedachte
matrixartig angeordnete
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1',
D1', E1'; A2',. . .;. . .E6') aufgeteilt; diese Teilflächen
weisen jeweils matrixartig angeordnete
Bildelement-Positionen (p1, p2, p3,. . .p7, p8, p9) auf.
Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) und
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1',. . .)
sowie Rasterpunkt-Positionen (r1, r2,. . .r9) und
Bildelement-Positionen (p1, p2,. . .p9) sind einander
zugeordnet.
In einem ersten Zeitabschnitt T1 (auf diesen bezieht sich
die Darstellung in Fig. 1) werden für die Rasterpunkte in
den Positionen r1 aller Computer-Rasterbild-Teilflächen
(A1, B1, C1,. . .) die diesen entsprechenden Bildelementen
in den Positionen p1 aller
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1',
C1'. . .) gleichzeitig aufgezeichnet.
Für den Rasterpunkt an der Position r1 der Teilfläche A1
mit dem Status "an" (weißflächige Darstellung) wird ein
Bildelement an der Position p1 der Teilfläche A1' (in
ebenfalls weißflächiger Darstellung) erzeugt; für den
Rasterpunkt an der Position r1 der Teilfläche B1 mit dem
Status "aus" (schwarz dargestellt) wird ein Bildelement an
der Position p1 der Teilfläche B1' (schwarz dargestellt)
"erzeugt".
In einem auf den ersten T1 folgenden zweiten Zeitabschnitt
T2 werden für die Rasterpunkte in den Positionen r2 aller
Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) die
diesen entsprechenden Bildelementen in den Positionen p2
aller Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1',
B1', C1'. . .) gleichzeitig aufgezeichnet.
Analoges gilt für die darauffolgenden Zeitabschnitte T3,
T4 usw. bis schließlich in dem neunten Zeitabschnitt T9
für die Rasterpunkte in den Positionen r9 aller
Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) die
diesen entsprechenden Bildelemente in den Positionen p9
aller Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1,
B1', C1'. . .) gleichzeitig aufgezeichnet werden.
Im Falle von 3×3 = 9 Rasterpunkten pro
Computer-Rasterbild-Teilfläche werden in neun
aufeinanderfolgenden Zeitabschnitten T1 bis T9 für die
Rasterpunkte in den neun Rasterpunkt-Positionen r1-r9 die
entsprechenden Bildelemente in den neun
Bildelement-Positionen p1-p9 aufgezeichnet.
Nachfolgend wird beschrieben wie die Aufzeichnung der
Bildelemente im Zeitabschnitt T1 (Fig. 1) bewirkt wird:
Die LCD-Matrix 1 besteht aus matrixartig angeordneten
lichtsteuernden Elementen (LA1, LB1, LC1,. . .; LA2,. . .;
LB2,. . .; LC2,. . .). Die lichtsteuernden Elemente und die
Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .; A2,. . .;
B2,. . .; C2,. . .) sind einander zugeordnet.
Im Zeitabschnitt T1 bestimmt der Status des Rasterpunktes
an der Position r1 der Teilflächen A1, B1, C1,. . ., ob
das einer solchen Teilfläche zugeordnete lichtsteuernde
Element (LA1, LB1, LC1,. . .) lichtdurchlässig oder
lichtsperrend gesteuert wird:
LA1 wird entsprechend dem "an"-Status (weiß dargestellt) des Rasterpunktes an der Position r1 der Teilfläche A1 lichtdurchlässig (weiß dargestellt) gesteuert;
LB1 wird entsprechend dem "aus"-Status (schwarz dargestellt) des Rasterpunktes an der Position r1 der Teilfläche B1 lichtsperrend (schwarz dargestellt) gesteuert.
LA1 wird entsprechend dem "an"-Status (weiß dargestellt) des Rasterpunktes an der Position r1 der Teilfläche A1 lichtdurchlässig (weiß dargestellt) gesteuert;
LB1 wird entsprechend dem "aus"-Status (schwarz dargestellt) des Rasterpunktes an der Position r1 der Teilfläche B1 lichtsperrend (schwarz dargestellt) gesteuert.
Die Steuerung der Licht-Steuer-Matrix im Zeitabschnitt T1
erfolgt über ein gedachtes Steuer-Muster ST1
Dieses Steuer-Muster hat eine gedachte matrixartige
Aufteilung von Steuer-Befehlen (SA1, SB1, SC1,. . .) für
die lichtsteuernden Elemente (LA1, LB1, LC1,. . .). Der
Steuerbefehl SA1 (weiß dargestellt) reflektiert den
an-Status (weiße Darstellung) des Rasterpunktes in der
Position r1 der Computer-Rasterbild-Teilfläche A1; der
Steuerbefehl SB1 (schwarze Darstellung) den "aus"-Status
des Rasterpunktes in der Position r1 der Teilflache A2
etc.
Im folgenden wird die Funktion der LCD-Matrix 1 im
Zusammenhang mit der Loch-Matrix 2 beschrieben.
Die Loch-Matrix 2 ist in matrixartig angeordnete
Loch-Matrix-Felder (HA1, HB1, HC1,. . .; HA2, HB2, HC2,. . .)
aufgeteilt. Die lichtsteuernden Elemente (LA1, LB1,
LC1,. . .; LA2, LB2, LC2,. . .) und die Loch-Matrix-Felder
(HA1, HB1, HC1,. . . ) sind einander zugeordnet.
Jedes Loch-Matrix-Feld (HA1, HB1,. . .) weist eine Öffnung
(a1, b1,. . .) auf, deren Abmessung bei angestrebter hoher
Auflösung des aufzuzeichnenden Rasterbildes
im Bereich von Mikrometern liegt.
Jedem Lochmatrixfeld (HA1, HB1, HC1,. . .) ist eine
Aufzeichnungsträger- Rasterbild-Teilfläche (A1', B1'. C1',. . .)
zugeordnet.
Wird die LCD-Matrix 1 z. B. mit parallelem (Durch-)Licht L
beaufschlagt,so tritt dieses durch die auf Lichtdurchlaß
gesteuerten Elemente (LA1, LC1,. .) hindurch und trifft auf
die diesen Elementen zugeordneten Lochmatrix-Felder (HA1,
HC1,. .).
Im Bereich der Öffnungen (a1, c1,. .) dieser Felder
gelangen die hindurchtretenden Lichtstrahlen la1, lc1,. . .
auf den Aufzeichnungsträger und bewirken dort die
Aufzeichnung von (weiß dargestellten) Bildelementen in den
Bildelement-Positionen p1 von A1' und C1'.
Für lichtsperrend gesteuerte Elemente (LB1, LD1,. .) kann
kein Licht durch die Öffnungen (b1, d1,. . .) der diesen
Elementen zugeordneten Lochmatrix-Felder (HB1, HD1)
hindurchtreten- was der "Aufzeichnung" (schwarz
dargestellter) "fehlender Bildelemente" in der Position p1
von B1' und D1' etc. durch "fehlende Lichtstrahlen"
gleichkommt.
Auf diese Weise bewirken die durch die Öffnungen
der Loch-Matrix-Felder hindurchtretenden bzw. nicht
hindurchtretenden Lichtstrahlen die Aufzeichnung der
Bildelemente in der Bildelemente-Position p1 aller
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1',. . .).
Nachfolgend wird beschrieben wie die Aufzeichnung der
Bildelemente in dem Zeitabschnitt T2 erfolgt:
Im Zeitabschnitt T2 wird die LCD-Matrix 1 mit einem zweiten Steuer-Muster ST2 (Fig. 3) beaufschlagt, welches den an- oder aus-Status der Rasterpunkte in der zweiten Rasterpunkt-Position aller Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) widerspiegelt.
Im Zeitabschnitt T2 wird die LCD-Matrix 1 mit einem zweiten Steuer-Muster ST2 (Fig. 3) beaufschlagt, welches den an- oder aus-Status der Rasterpunkte in der zweiten Rasterpunkt-Position aller Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) widerspiegelt.
Die Positionsfolge der Rasterpunkte (und die der
Bildelemente) ist willkürlich vorgegeben (z. B. 1. Spalte
abwärts- zweite Spalte aufwärts-dritte Spalte abwärts wie
in Fig. 1 und 2).
Die Aufzeichnung eines Bildelementes an einer bestimmten
Bildelemente-Position (p1, p2,. . .p9) in einer
Aufzeichnungsträger-Rasterpunkt-Teilfläche (A1', B1', C1'. . .)
erfordert es, daß für jede Bildelemente-Position die
entsprechende Loch-Matrix-Öffnung des Loch-Matrix-Feldes
auf die Bildelemente-Position des dem Loch-Matrix-Feld
zugeordneten Aufzeichnungsträger-Rasterpunkt-Teilfläche
exakt ausgerichtet ist.
Jeder Aufzeichnungsträger-Rasterpunkt-Teilfläche A1' ist
ein Loch-Matrix-Feld LA1 mit einer Öffnung a1 zugeordnet.
In jedem Zeitabschnitt, z. B. T1, wird durch den diese
Öffnung passierenden Lichtstrahl - sofern das A1
zugeordnete lichtsteuernde Element LA1 nicht gesperrt ist -
ein Bildelement an einer bestimmten Bildelemente-Position
für den Zeitabschnitt T1 ist dies die Position p1,
aufgezeichnet.
Für die Aufzeichnung des nächsten Bildelementes in dem
darauffolgenden Zeitabschnitt T2 müssen Loch-Matrix und
Aufzeichnungsträger so gegeneinander verschoben werden,
daß der dann die Öffnung a1 passierende Lichtstrahl das
Bildelement an der Position p2 aufzeichnen kann.
Im Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 wird die Lochmaske
(samt der mit ihr verbundenen Licht-Steuer-Matrix) um den
Wert Δy gegenüber dem feststehenden Aufzeichnungsträger
5 verschoben. Dieser Verschiebungswert hat genau die
Größe, die erforderlich ist, den Lichtstrahl während des
Zeitabschnittes T2 auf die Bildelemente-Position p2 (unten
der Position p1) auftreffen zu lassen.
Für die in den einzelnen Zeitabschnitten durchzuführenden
Verschiebungsschritte in den X/Y-Koordinatenrichtungen ist
die Folge der Bildelemente- Positionen p1, p2, p3. . .p9
(sie entspricht der Folge der Rasterpunkt-Positionen p1,
p2,. . . p9) maßgebend.
Für das in Fig. 1 dargestellte Beispiel von 3×3= 9
Bildelemente-Positionen pro
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche muß die
Lochmatrix 2 bei feststehendem Aufzeichnungsträger 5
nacheinander (in 9 aufeinanderfolgenden Zeitabschnitten
T1-T9) 9 verschiedene Verschiebepositionen einnehmen,
die den 9 Bildelemente-Positionen einer
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche entsprechen,
damit alle Bildelemente in dieser Teilfläche (und damit
auch allen anderen Teilflächen) aufgezeichnet werden
können.
Eine solche X/Y-Verschiebeeinrichtung ist mit Mitteln des
Standes der Technik bei geringem apparativem Aufwand und
ohne kritische Toleranzprobleme leicht realisierbar.
Einzelheiten solcher Verschiebeeinrichtungen werden später
beschrieben.
Die Vorschubsteuerung der Verschiebeeinrichtung erfolgt
computerprogrammgesteuert in Synchronisation mit der
Ansteuerung der Licht-Steuer-Matrix 1 für die einzelnen
Zeitabschnitte.
In Fig. 1 ist die Verschiebeeinrichtung durch ein mit 3
gekennzeichnetes Koordinatenkreuz für Verschiebeschritte
±Δx, ±Δy gekennzeichnet.
Ein Vorteil der Erfindung besteht insbesondere darin, daß
die Verschiebeeinrichtung 3 nur einen im Vergleich zur
Gesamtfläche des Aufzeichnungsträgers 5 sehr kleinen
Verschiebungsbereich hat, der einer
Aufzeichnungs-Rasterbild-Teilfläche entspricht.
Für die Aufzeichnung des gesamten alle Teilflächen
umfassenden Aufzeichnungs-Rasterbildes ist lediglich eine
Verschiebung der Lochmatrix für einen Teilflächenbereich
erforderlich.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung liegt in der
Verringerung der Plottzeit für die Aufzeichnung des
gesamten Aufzeichnungsträger-Rasterbildes. Während nach
dem Stand der Technik der Belichtungskopf
schachbrettmusterartig über den gesamten
Aufzeichnungsträger bewegt werden muß (derartige
mechanischen Bewegungen sind zeitaufwendig und liegen im
Minuten- bis Stunden-Bereich), ist nach der Erfindung die
Verschiebung nur für äußerst kleine Verschiebeschritte
eines sehr kleinen Verschiebungsbereiches durchzuführen,
und dies bei geringer Masse der zu bewegenden Teile.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung liegt in der
Möglichkeit, durch Zwischenschaltung eines
Verkleinerungs-(Vergrößerungs)-Objektives zwischen
Lochmatrix 2 und Aufzeichnungsträger 5 ein verkleinertes
(vergrößertes) Aufzeichnungsträger-Rasterbild mit höherer
(kleinerer) Auflösung aufzuzeichnen. Einzelheiten hierzu
werden im Zusammenhang mit Fig. 5A und Fig. 5B
beschrieben.
Fig. 2 zeigt in vergrößerter Darstellung die während des
Zeitabschnittes T1 in allen Bildelemente-Positionen p1 bis
p9 aufgezeichneten Bildelemente. Die in Fig. 1 verwendeten
Bezeichnungen wurden beibehalten. Aus Obersichts- und
Vereinfachungsgründen wurden die Positionsbezeichnungen p1-
p9 nur für die
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen A1' und C1'
angegeben.
Fig. 3 zeigt eine schematische Darstellung einer
Steuer-Muster-folge ST1, ST2,. .,ST9 für die Zeitabschnitte
T1, T2 und T9.
Jedes Steuermuster enthält die Steuerbefehle für die
lichtsteuernden Elemente der Licht-Steuermatrix 1 (Fig. 1)
in einem bestimmten Zeitabschnitt.
Die matrixartig dargestellt angeordneten Steuerbefehle
SA1, SB1, SC1, SD1, SE1; SA2,. . .SE2; SA3,. . .SE3;
SA4,. . .SE4; SA5,. . .SE5; SA6,. . .SE6 sind den
lichtsteuernden Elementen LA1, LB1, LC1, LD1, LE1;
LA2,. . .LE2; LA3,. . .LE3; LA4,. . .LE4; LA5,. . .LE5; LA6,. . .LE6
der Licht-Steuer-Matrix 1 zugeordnet.
Für den Zeitabschnitt T1 bewirken die Steuerbefehle für
die lichtsteuernden Elemente, daß durch diese die
Aufzeichnung der Bildelemente in allen
Bildelemente-Positionen p1 gesteuert wird. Diese
Bildelemente entsprechen den Rasterpunkten an den
r1-Positionen der Computer-Rasterpunkt-Teilflächen.
Für einen Rasterpunkt im "an"-Status (weißer Kreis) wird
ein (weiß dargestelltes) Bildelement, für einen
Rasterpunkt im "aus"-Status (schwarzer Kreis) wird ein
schwarz dargestellten Bildelement erzeugt.
Dem "an"-Status des ersten Rasterpunktes (weißer Kreis) in
der Position r1 der Computer-Rasterbild-Teilfläche A1
entsprechend bewirkt der Steuerbefehl SA1
(ebenfalls in weißer Darstellung), daß das
lichtsteuernde Element LA1 (gleichfalls in weißer
Darstellung) lichtdurchlässig gesteuert wird; dies führt
über den die Öffnung a1 des Loch-Matrix-Feldes HA1
passierenden Lichtstrahl la1 zur Aufzeichnung eines
Bildelementes (weiße Darstellung) in der ersten Position
p1 der Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche A1' (Fig.
1).
Der "aus"-Status des ersten Rasterpunktes (schwarzer
Kreis) an der Position r1 der
Computer-Rasterbild-Teilfläche B1 hingegen bewirkt, daß
der Steuerbefehl SB1 (ebenfalls in schwarzer Darstellung)
das lichtsteuernde Element LB1 lichtsperrend (gleichfalls
in schwarzer Darstellung) schaltet; dies führt dazu, daß
kein Licht auf das Loch-Matrix-Feld HB1 und kein
Lichtstrahl durch dessen Öffnung b1 fallen kann. Dies ist
jedoch gleichbedeutend mit der "Aufzeichnung" eines
fehlenden Bildelementes (in schwarzer Darstellung) an der
ersten Bildelementen-Position p1 der
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche B1' (durch einen
"fehlenden") Lichtstrahl.
Auf diese Art und Weise werden während des ersten
Zeitabschnittes T1 gleichzeitig für die p1 Positionen
aller Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen die
Bildelemente aufgezeichnet.
In den an T1 anschließenden zweiten Zeitabschnitt T2
werden mittels des Steuermusters ST2 alle Bildelemente
an der p2 Position aller
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen A1', B1',
C1'. . .A2',. . . aufgezeichnet.
Die Steuerbefehle für das Steuermuster ST2 leiten sich
(analog zu ST1) aus dem "an"- oder "aus"-Status der
Rasterpunkte an der r2 Position der
Computer-Rasterbild-Teilflächen A1, B1, C1,. . .A2,. . . ab.
Um sicherzustellen, daß die Aufzeichnung der Bildelemente
für die zweiten Bildelemente-Positionen p2
positionsgerecht (unter den p1 Positionen) erfolgt, wird
wie bereits erwähnt die Loch-Matrix gegenüber dem
Aufzeichnungsträger entsprechend verschoben.
(Ebenso kann auch der Aufzeichnungsträger gegenüber der
Lochmatrix verschoben werden.)
Für jeden Zeitabschnitt mit dem dazugehörigen
Steuer-Muster folgt die erforderliche Verschiebung der
willkürlich festgelegten Folge r1 bis r9 der Rasterpunkte
in den Computer-Rasterbild-Teilflächen, welche gleich der
Folge der Bildelement-Positionen p1 bis p9 in den
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen ist.
Das Steuermuster ST9 steuert analog die Aufzeichnung der
Bildelemente an den p9 Positionen.
Den 3×3=9 Rasterpunkten einer
Computer-Rasterbild-Teilfläche A1 oder B1 etc. sind 3×3=9
Bildelemente einer
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche A1' oder B1' etc.
zugeordnet. Die Aufzeichnung aller Bildelemente erfolgt in
den 9 Zeitabschnitten T1-T9 mit den dazugehörenden
Steuer-Mustern ST1 bis ST9.
Jeder Zeitabschnitt ist durch ein zugehöriges
Steuer-Muster und durch eine entsprechende gegenseitige
Verschiebung von Lochmaske und Aufzeichnungsträger
gekennzeichnet. Diese Verschiebung gewährleistet die
positionsgerechte Anordnung der Bildelemente.
Da die Aufzeichnung gleichpositionierter Bildelemente in
allen Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen
gleichzeitig erfolgt, wird mit dem Zeitabschnitt T9 die
Aufzeichnung des gesamten Aufzeichnungsträger-Rasterbildes
abgeschlossen.
Die Lochmatrix erfordert für ein hohes Auflösungsvermögen
des aufzuzeichnenden Rasterbildes eine äußerst präzise
Herstellung, insbesondere hinsichtlich kleinster Öffnungen
im Mikrometer -Bereich und hinsichtlich einer exakten
matrixgerechten Anordnung der Öffnungen mit Abständen von
ca. 100 Mikrometern.
Als Material für die Lochmatrix kann vorzugsweise eine
fotolackbeschichtete mit einer dünnen Chromschicht
versehene Glasplatte verwendet werden.
Zur Herstellung der Öffnungen wird der Fotolack mittels
Elektronen-Strahlen nach dem bekannten sogenannten E-Beam
(Elektronen-Strahl)-Verfahren an den Stellen künftiger
Öffnungen belichtet; nach entsprechender Entwicklung wird
die Chromschicht an diesen Stellen chemisch weggeätzt.
Je kleiner die Öffnungen in der Lochmatrix sind, um so
höher ist die Auflösung des aufzuzeichnenden Rasterbildes.
Die Öffnungen können je nach Anforderung z. B. eine runde
oder (wie in Fig. 1 dargestellt) auch eine quadratische
Form erhalten. Da die Elektronenstrahlen einer äußerst
präzisen variierbaren Steuerung unterliegen, ist es
möglich, zum Ausgleich optischer Abbildungsverzerrungen
entsprechende Lochgestaltungen vorzunehmen, z. B. eine von
der Kreisform abweichende elliptische Gestaltung zu
bewirken.
Bei Verwendung kreisförmiger Öffnungen in der Lochmatrix
lassen sich je nach Oberlappungsgrad der aufgezeichneten
Bildelemente relativ glatte Konturen des Rasterbildes
erzielen.
für die Licht-Steuer-Matrix (1) können verschiedene
handelsübliche Anordnungen verwendet werden:
- a) eine LCD-Matrix (gemäß des in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispieles), z. B. vom Typ LDK 036 T - 20 AM-LCD 2,8 " der Firma FLAT PANEL DISPLAY COMPANY Eindhoven/Holland. Jedes lichtsteuernde Element dieser LCD-Matrix kann selektiv elektrisch derart angesteuert werden, daß es für Durch-Licht durchlässig oder undurchlässig wird.
Verfeinerte Steuerungen ermöglichen es, den
Durchlässigkeitsgrad für (Durch-)Licht zu variieren.
Dadurch können örtliche Intensitäts- oder
Lichtmengenschwankungen des die Matrix beaufschlagenden
Lichtes durch eine korrigierende Steuerung ausgeglichen
werden.
Handelsübliche Flüssigkristall-Matrixen haben eine Anzahl
von 640×480 bis zu 1024×768 lichtsteuernden Elementen,
sie können für Licht in den Wellenbereichen von 380 bis
700 nm (Nanometer) verwendet werden.
Sie sind in Diagonal-Abmessungen von 2,8 Zoll bis zu 5,8
Zoll verfügbar (1 Zoll = 2,4 cm).
- b) Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chips, sogenannte digital light processing devices oder digital mirror devices der Fa. Texas Instruments, bei denen basieren d auf Halbleiter-Technologie matrixartig angeordnete elektrostatisch steuerbare Kippspiegelelemente in zwei unterschiedliche Kippstellungen (± 10°) gebracht werden können.
Anordnungen dieser Art arbeiten mit Auflicht, das per
Spiegelelement in zwei unterschiedliche Richtungen
reflektiert wird.
Jedem Spiegel ist ein Lochmatrix-Feld mit einer Öffnung
zugeordnet, durch die je nach Stellung des Kippspiegels
reflektiertes Licht hindurchtritt oder nicht.
Der durch diese Öffnung hindurchtretende Lichtstrahl
bewirkt auf dem Aufzeichnungsträger die Aufzeichnung eines
Bildelementes.
Eine Lichtmengensteuerung des durch eine solche Öffnung
tretenden Lichtes ist dadurch möglich, daß durch
entsprechende zeitliche Steuerung des Kippspiegelelmentes
nur ein Teil des reflektierten Lichtes durch diese Öffnung
gelangt.
Handelsübliche Kippspiegelelemente- Halbleiter-Chips
weisen bei einer Fläche von z. B. 13,6 mm hoch 2 und bei
einem Abstand der Kippspiegel-Elemente von 17 mikrometer
eine äußerst hohe Dichte von Kippspiegel-Elementen
(800×600 Stück) auf.
Zur Anpassung des relativ kleinen Chips an die
vergleichsweise größere Lochmatrix (ca. 10×10 cm hoch 2
wird wie in Zusammenhang mit der Darstellung in Fig. 9
näher erläutert, zwischen Kippspiegel-Halbleiter-Chip und
Lochmatrix ein vergrößerndes Objektiv 9-6 geschaltet.
Die Beaufschlagung einer LCD-Matrix kann mit Dauerlicht
oder mit kurzzeitigen Xenon oder Laser-Blitzen erfolgen;
die Beaufschlagung des Kippspiegel-Halbleiter-Chips
erfolgt im Blitzbetrieb.
Desweiteren ist es möglich, für die Licht-Steuer-Matrix
ein Feld von lichtemittierenden Elementen, z. B.
Licht-Dioden, zu verwende., die je nach Status des ihnen
zugeordneten Rasterpunktes in der
Computer-Rasterbild-Teilfläche lichtemittierend oder nicht
lichtemittierend gesteuert werden.
Die Figurenfolge Fig. 4A bis Fig. 4I zeigt
eine schematische Darstellung des Steuerzustandes des
Lichtsteuer-Elementes LA1 während der Zeitabschnitte T1
bis T9 in Verbindung mit der diesem Element LA1
zugeordneten Öffnung a1 des Lochmatrix-Feldes HA1 und dem
durch diese Öffnung hindurchtretenden (bzw. nicht
hindurchtretenden) die Aufzeichnung eines Bildelementes
bewirkenden Lichtstrahles.
Diese Figuren-Folge dient der ausführlichen und
übersichtlichen Darstellung der Aufzeichnung der
Bildelemente in allen Bildelemente-Positionen p1-p9 einer
Aufzeichnungs-Rasterbild-Teilfläche A1'
entsprechend dem an- oder "aus"-Status eines
Rasterpunktes in den Positionen r1-r9 der
Computer-Rasterbild-Teilfläche A1.
Dieser Teilfläche A1 ist das lichtsteuernde Element LA1
sowie die Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche A1'
zugeordnet.
Der Rasterpunkt an Position r1 in der
Computer-Rasterbild-Teilfläche A1 (Fig. 1) ist in einem
an"-Status (weißer Kreis); dementsprechend
wird das lichtsteuernde Element LA1 auf lichtdurchlässig
(weiße Darstellung) gesteuert.
Der durch die Öffnung a1 des Lochmatrix-Feldes HA1 (Fig. 1)
hindurchtretende Lichtstrahl la1 (ausgezogener Pfeilweg)
zeichnet in der Position p1 der
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche A1' ein
Bildelement (weiß dargestellt) auf.
Lochmatrix und der Aufzeichnungsträger 5 sind derart
gegeneinander verschoben, daß an der Position p2 der
Teilfläche A1' im Zeitabschnitt T2 ein Bildelement
aufgezeichnet werden kann.
Der Rasterpunkt an Position r2 in Teilfläche A' ist in
einem "aus"-Status (schwarzer Kreis) dementsprechend
wird das lichtsteuernde Element LA1 auf lichtsperrend
(schwarze Darstellung) gesteuert.
Durch die Öffnung a1 des Lochmatrix-Feldes HA1 tritt kein
Lichtstrahl hindurch:in der Position p2 der Teilfläche A1'
wird durch den fehlenden Lichtstrahl (gestrichelter
Pfeilweg) kein Bildelement (schwarz dargestellt)
"aufgezeichnet".
Die Aufzeichnung der Bildelemente an den Positionen p3 bis
p8 der Teilfläche A1' erfolgt analog und wird deshalb
nicht weiter erläutert.
Lochmatrix und der Aufzeichnungsträger 5 sind derart
gegeneinander verschoben, daß an der Position p9 der
Teilfläche A1' im Zeitabschnitt T9 ein Bildelement
aufgezeichnet wird.
Der Rasterpunkt an Position r9 in Teilfläche A1 ist in
einem "an"-Status; dementsprechend
wird das lichtsteuernde Element LA1 auf lichtdurchlässig
(weiße Darstellung) gesteuert.
Durch die Öffnung a1 des Lochmatrix-Feldes HA1 tritt ein
Lichtstrahl hindurch (ausgezogener Pfeilweg): in der
Position p9 der Teilfläche A1' wird durch diesen
Lichtstrahl ein Bildelement (weiß dargestellt)
"aufgezeichnet".
Da die Aufzeichnung der gleichpositionierten Bildelemente
(in allen p1 Positionen, oder in allen p2-Positionen
etc.) in allen Aufzeichnungsträger-Rasterpunkt-Teilflächen
gleichzeitig erfolgt, ist mit Ablauf des Zeitabschnittes
T9 die Aufzeichnung aller Bildelemente in allen
Teilflächen und damit die Aufzeichnung des gesamten
Rasterbildes abgeschlossen.
Fig. 5A zeigt eine schematische ausschnittsweise
Darstellung eines mit einem bestimmten Abbildungsmaßstab
aufgezeichneten Rasterbildes und
Fig. 5B eine schematische Darstellung des Rasterbildes
gemäß Fig. 5A mit einem Abbildungsmaßstab 1 : 3.
In Fig. 5A sind auszugsweise drei nebeneinanderliegende
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen A1', B1', C1'
dargestellt.
In A1' sind in den Positionen p2 und p8, in B1' sind in
den Positionen p1, p2, p4, p5 und p8 und in C1' sind in
den Positionen p1, p5 und p9 "fehlende" Bildelemente
schwarz dargestellt.
Durch Zwischenschaltung eines Verkleinerungs-Objektives 4
(Fig. 1) mit dem Verkleinerungsfaktor 1 : 3 zwischen
Lochmatrix 2 und Aufzeichnungsträger 5 wird gemäß
Darstellung in Fig. 5B ein auf ein Drittel verkleinertes
Aufzeichnungsträger-Rasterbild (im Vergleich zu Fig. 5A)
bewirkt. Für dieselbe Längeneinheit LE ergibt sich dadurch
eine dreimal höhere Rasterbild-Auflösung: Gemäß Fig. 5A
umfaßt die Längeneinheit LE nur 3, gemäß Fig. 5B jedoch 9
Bildelemente.
Fig. 6A zeigt eine schematische Darstellung verschiedener
nicht überlappender kreisrunder Bildelemente zur
Ausbildung einer Randkontur RC,
Fig. 6B eine schematische Darstellung verschiedener
einander um 50% überlappender kreisrunder Bildelemente
zur Ausbildung einer Randkontur RF.
Es wurde bereits erwähnt, daß "Druckpunkte" (Bildelemente)
des Aufzeichnungsträgers unterschiedliche Form haben
können: rund, quadratisch etc., je nach Form der Öffnungen
in der Lochmatrix.
Die Bildelemente können auch einander überlappen, um
bestimmten Konturanforderungen zu genügen.
In Fig. 6A ist dargestellt, wie es bei einer bestimmten
Anordnung nicht überlappender kreisrunder Bildelemente zur
Ausbildung einer groben Randkontur RC kommt.
Fig. 6B hingegen zeigt die Ausbildung einer feineren
Randkontur RF bei einander um 50% überlappenden ebenfalls
kreisrunden Bildelementen.
Fig. 7 zeigt eine auszugsweise Aufsicht auf eine
Lochmatrix 2', auf deren einzelnen Feldern HA1', HB1',
HA2', HB2' sogenannte Fresnel-Beugungsgitter F angeordnet
sind.
Zur Erläuterung sei zunächst bemerkt, daß das gemäß Fig. 1
von einem lichtsteuernden Element (z. B. LA1) ausgehende
Licht auf das diesem Element zugeordnete Loch-Matrix-Feld
HA1 fällt und daß davon nur der Teil dieses Lichtes
welcher auf die Öffnung a1 dieses Feldes trifft, als
Lichtstrahl la1 die Aufzeichnung eines Bildelementes an
der Bildelemente-Position p1 bewirkt.
Das außerhalb der Öffnung im Feld HA1 auftreffende Licht
hat an der Aufzeichnung des Bildelementes keinen Anteil
es geht quasi verloren.
Dieses verlorengehende Licht wird jedoch durch folgende
Maßnahmen für die Aufzeichnung des Bildelementes
ausgenutzt; Dabei wird dieses dicht veranlaßt, auch die
Öffnung a1 zu passieren, um an der Aufzeichnung des
Bildelementes teilzuhaben:
- a) Anbringung einer (nicht dargestellten) lichtfokussierenden Linse auf jedem Loch-Matrix-Feld, durch die das auf dieses Lochmatrix-Feld auftreffende Licht durch die Öffnung a1 geleitet wird. Anordnungen dieser Art, sogenannte Linsen-Felder, sind allerdings nur mit großem Aufwand zu realisieren.
- b) Anbringung eines sogenannten Fresnel'schen Beugungsgitter F auf jedem Loch-Matrix-Feld. Es ist bekannt, eine Lichtbündelung durch Einsatz eines auf dem Huygenschen Prinzip beruhenden Fresnel-Beugungsgitters zu bewirken (derartige Beugungsgitter sind als sogenannte Fresnel-zone-plates in der Druckschrift "OPTICS", Hecht & Zajac, 1974 by Addison-Wesley Publishing Company, beschrieben.
Ein solches lichtwellenlängenspezifisches Beugungsgitter
wird durch ebene konzentrische auf lichtdurchlässiges
Trägermaterial aufgebrachte Ringe aus Chrom oder
Photoemulsionen gebildet.
Das Beugungsgitter bewirkt, daß auftreffendes Licht durch
die in der Mitte dieses Gitters angeordnete (hier
angenommene runde) Öffnung des Loch-Matrix-Feldes HA1',
HB1', HA2', HB2', geleitet wird.
Der auf die Ringe auftreffende Lichtanteil geht durch
Reflexion verloren, es sei, die Ringe bestehen aus einem
Material, welches eine Phasenverschiebung des
auftreffen den Lichtes um die halbe Lichtwellen-Wellenlänge
bewirkt (o. g. Fundstelle, Seite 376, "phase reversal zone
plate").
In diesem Fall wird auch der auf die Ringe auftreffende
Teil des Lichtes durch die Öffnung des Lochmatrix-
Feldes geleitet.
Der Einsatz Fresnelscher Beugungsgitter ist nach dem Stand
der Technik für bestimmte Anwendungszwecke (z. B.
Telekommunikation, Laser-Fokussierung) bekannt.
Diese Beugungsgitter können auch eine von der Kreisform
abweichende z. B. elliptische Gestaltung erfahren, um
Korrekturen von optischen Verzerrungen der verwendeten
Linsensysteme zu bewirken (Ausgleich der
Lichteinfallswinkel bei nicht kollimiertem Licht).
Fig. 8 zeigt eine schematische perspektivische Darstellung
einer X/Y-Tisch-Verschiebeeinrichtung für die Lochmatrix.
Zur Verschiebung der Loch-Matrix 8-2 (in beiden
Koordinatenrichtungen) gegenüber dem Aufzeichnungsträger
ist die Lochmatrix 8-2 in einer Halterung 8-1
angeordnet, welche mit der X/Y-Tisch-Verschiebeeinrichtung
8 verbunden ist. Diese Verschiebeeinrichtung 8 besteht
aus zwei Schlitten, von denen der eine (X-Schlitten) 8-2
in X-Richtung und von denen der andere (Y-Schlitten) 8-3
in Y-Richtung schrittweise oder auch kontinuierlich mit
höchster Präzision hin und her bewegt werden kann.
Der X-Schlitten 8-2 wird in dem Schlittenbett 8-4, der
Y-Schlitten 8-3 in dem Schlittenbett 8-5 geführt.
Das Schlittenbett 8-4 ist mit dem Schlitten 8-3 verbunden.
Da die maximalen Verschiebestrecken des X- und
Y-Schlittens relativ gering sind (sie liegen in der
Größenordnung der Abmessungen eines (oder einiger)
Lochmatrix-Feldes, können für eine solche
Verschiebeeinrichtung höchste Toleranzanforderungen
eingehalten werden.
Bei größeren Verschiebestrecken, wie sie bei dem benannten
Stand der Technik auftreten, bei dem der Belichtungskopf
über die gesamte Aufzeichnungsträgerfläche bewegt werden
muß, sind hohe Toleranzanforderungen zur präzisen
Positionierung des Belichtungskopfes ungleich schwieriger
zu beherrschen.
Der Schlittenantrieb erfolgt z. B. in an sich bekannter
Weise über Schrittschaltmotoren (nicht dargestellt) mit
einem Untersetzungsgetriebe oder direkt mit Linearmotoren.
Die Ansteuerung der Schrittschaltmotoren erfolgt
computerprogrammgesteuert durch elektrische Impulse. Für
jedes Steuer-Muster ST1-ST9 bzw. für jeden
Zeitabschnitt T1-T9 wird die Lochmatrix 2 gegenüber dem
feststehenden Aufzeichnungsträger 5 in eine bestimmte
Verschiebeposition gebracht, um eine positionsgerechte
Aufzeichnung der Bildelemente zu gewährleisten.
Für Verschiebungen im Mikrometer-Bereich, wie sie z. B.
bei Verwendung eines Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chips
erforderlich sind, werden zweckmäßigerweise aus
Piezo-Kristall-Elementen bestehende
Verschiebeeinrichtungen verwendet.
Diese Elemente erfahren beim Anlegen einer elektrischen
Steuerspannung in bekannter Weise eine für die
Verschiebung erforderliche definierte Längenänderung.
Die Verschiebesteuerung erfolgt wiederum
computerprogrammgesteuert.
Im einfachsten (nur theoretisch angenommenen) Fall (Fläche
des Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chips = Fläche der
Lochmatrix) und bei Verwendung parallelen Lichtes ohne
Zwischenschaltung irgendwelcher Objektive könnten Chip und
Lochmatrix gemeinsam gegenüber dem Aufzeichnungsträger
verschoben werden.
Unter Berücksichtigung der aktuellen Größenverhältnisse
des sehr kleinen Kippspiegelelemente-Halbleiter-Chips und
der größeren Lochmatrix wird zwischen beiden ein
Vergrößerungsobjektiv 9-6 (Fig. 9) angeordnet, um die
kleinere Chipfläche an die größere Lochmatrix-Fläche
anzupassen.
Es ist vorstellbar, alle drei Einheiten Chip/Objektiv/
Lochmatrix gemeinsam zu verschieben, um eine
positionsgerechte Aufzeichnung der Bildelemente zu
erreichen.
Eine derartige Lösung wäre jedoch mit dem Nachteil
behaftet, daß bei jedem Verschiebeschritt das mit einer
relativ großen Masse behaftete Objektiv mitbewegt werden
müßte. Aus diesem Grunde ist es wie im Zusammenhang mit
Fig. 9 nachstehend beschrieben vorteilhaft, das Objektiv
nicht in die Verschiebeeinrichtung mit einzubeziehen:
Das Objektiv bleibt unbewegt fixiert. Verschoben werden
lediglich das leichte Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chip
und die relativ leichte Loch-Matrix gegenüber dem
Aufzeichnungsträger.
Fig. 9 zeigt eine schematische Darstellung einer
erfindungsgemäßen Anordnung, welche einen
Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chip 9-1 und Objektive
9-6, 9-7 und 9-4 enthält.
Wie bereits erwähnt kann unter Zwischenschaltung eines
entsprechenden Objektivs zwischen Loch-Matrix und
Aufzeichnungsträger der Abbildungsmaßstab des
Aufzeichnungsträger-Rasterbild verändert werden.
Eine verkleinerte Abbildung gestattet eine Erhöhung des
Auflösungsvermögens. Eine physikalische Grenze des
Auflösungsvermögens ist einerseits durch die
Auflösungsfähigkeit des Aufzeichnungsträgers und
andererseits durch die Lichtwellenlänge und durch die
Eigenschaften des optischen Systems gegeben.
Um in der Anordnung nach Fig. 9 die Größe des
maßstabsbestimmenden Objektives 9-4 (je größer, je teurer)
zu minimieren, wird vorzugsweise die Loch-Matrix 9-2 nicht
mit parallelem Licht LP (gestrichelte Darstellung),
sondern mit von einer Kondensor-Linse 9-7 ausgehenden
konvergierenden Licht LK beaufschlagt.
Bei Verwendung parallelen Lichtes müßte das
maßstabsbestimmende Objektiv 9-4 eine der Lochmatrix 9-2
entsprechende Größe haben, während im Falle
konvergierenden Lichtes LK das Objektiv 9-4 kleiner sein
kann.
Der Aufzeichnungsträger ist mit 9-5 gekennzeichnet.
Wie bereits erwähnt, kann die Lichtausnutzung wesentlich
durch sogenannte Linsen-Felder oder den Einsatz von
Fresnel-Beugungsgittern (Fig. 7) erhöht werden.
Bei Verwendung eines
Kippspiegel-Elementen-Halbleiter-Chips 9-1 wird zur
Angleichung der relativ kleinen Chipfläche an die relativ
dazu große Loch-Matrix-Fläche ein Vergrößerungsobjektiv
9-6 zwischengeschaltet. Das von diesem Objektiv 9-6
ausgehende divergierende Licht LD wird von der
Kondensor-Linse 9-7 in konvergierendes Licht LD
umgewandelt.
Für eine bildelemente-positionsgerechte Verschiebung sind
jedoch die seiten- und höhenverkehrende Wirkung des
Objektives und dessen vergrößernde Wirkung dahingehend zu
berücksichtigen, daß das Chip und die Loch-Matrix in
miteinander synchronisierter Weise in unterschiedlich
großen Schritten gegeneinander bewegt werden müssen.
Da durch die geringen Abmessungen des
Spiegelelemente-Halbleiter-Chips in Verbindung mit dem
Vergrößerungsfaktor des Objektives 9-6 die
Verschiebeschritte für diesen Chip und für die Lochmatrix
äußerst klein sind (sie liegen im Bereich von 0,1
Mikrometern), sind äußerst präzis arbeitende
Verschiebeeinrichtungen erforderlich.
Diese Verschiebeeinrichtungen sind in Fig. 9 durch
kartesische Koordinatenkreuze 9-3-1 und 9-3-2 symbolisiert
angedeutet. Sie sind aufeinander abgestimmt; ihre
Verschiebungsschritte (±∂x; ±∂y; ±Δx; ±Δy)
können unterschiedlich groß sein. Ihre Ansteuerung erfolgt
computerprogrammgesteuert.
Fig. 10 zeigt eine schematische Darstellung eines
Verschiebungsbereiches der Lochmatrix, der sich über
mehrere Lochmatrix-Felder erstreckt und bei dem die
Rasterpunkte einer Computer-Rasterpunkt-Teilfläche
mehreren benachbarten lichtsteuernden Elementen der
Licht-Steuer-Matrix zugeordnet sind.
Die Rasterpunkte der Computer-Rasterpunkt-Teilflächen
A1*, B2*, C3* sind zu ihrer Unterscheidung mit a11-a19,
b11-b19 und c11-c19 gekennzeichnet.
In den zugehörigen
Aufzeichnungsträger-Rasterpunkt-Teilflächen A1'*, B2'*,
C3'*, sind die den Rasterpunkten entsprechenden
Bildelemente mit a'11-a'19, b'11-b'19, c'11-c'19
gekennzeichnet.
Aus der tabellarischen Aufstellung ist zu ersehen, welche
Rasterpunkte in welchem Zeitabschnitt welchem
lichtsteuernden Element zugeordnet sind.
Bsp. = Im Zeitabschnitt T1 ist der Rasterpunkt a11 dem
lichtsteuernden Element LA1*, der Rasterpunkt b11 dem
lichtsteuernden Element LB2*, der Rasterpunkt c11 dem
lichtsteuernden Element LC3* zugeordnet.
Ab Zeitabschnitt T4 ändert sich die Zuordnung dahingehend,
daß nunmehr die Rasterpunkte a14-a16 der
Computer-Rasterpunkt-Teilfläche A1* nicht mehr dem
lichtsteuernden Element LA1*, sondern LB2* zugeordnet
sind; analoges gilt für die Rasterpunkte b24-b26 und
c34-c36.
Ab Zeitabschnitt T6 ändert sich die Zuordnung nochmals
die Rasterpunkte a16-a19 der
Computer-Rasterpunkt-Teilfläche A1* sind jetzt dem
lichtsteuernden Element LC3* zugeordnet, analoges gilt für
die Rasterpunkte a17-a19, b27-b29 und c37-c39.
Bei der bisherigen Betrachtung im Zusammenhang mit der
Darstellung gemäß Fig. 1 wurde vorausgesetzt, daß die
Verschiebung der Lochmatrix gegenüber dem
Aufzeichnungsträger derart erfolgt, daß der die Öffnung a1
des Lochmatrix-Feldes HA1 passierende Lichtstrahl
nacheinander auf alle Bildelemente-Positionen p1-p9
ausgerichtet wird.
Würde bei dieser Verschiebung der Loch-Matrix wegen eines
Defektes ein bestimmtes lichtsteuerndes Element der
LCD-Matrix ausfallen, ergäbe sich im
Aufzeichnungsträger-Rasterbild an der Stelle der
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche, welche dem
defekten lichtsteuernden Element zugeordnet ist, ein
maximal neun Bildelemente umfassender Aufzeichnungsfehler.
Um bei Ausfall eines lichtsteuernden Elementes den
Aufzeichnungsfehler nicht so konzentriert auftreten zu
lassen, wird der Verschiebereich der Loch-Matrix
vergrößert, wobei die Rasterpunkte einer
Computer-Rasterbild-Teilfläche gruppenweise jeweils einem
anderen lichtsteuernden Element zugeordnet werden.
Wie aus Fig. 10 zu entnehmen ist, sind die Rasterpunkte
a11, a12, a13 in den Zeitabschnitten T1, T2, T3 dem
lichtsteuernden Element LA1*, die Rasterpunkte a14, a15
und a16 in den Zeitabschnitten T4, T5 und T6 dem
lichtsteuernden Element LB2* und die Rasterpunkte a17, a18
und a19 in den Zeitabschnitten T7, T8 und T9 dem
lichtsteuernden Element LC3* zugeordnet.
Analoges gilt für die Rasterpunkte b21-b23 für die Zeit
abschnitte T1 bis T3 in Zuordnung zum lichtsteuernden
Element LB2* etc.
Bei einer solchen wechselnden Zuordnung der Rasterpunkte
einer Computer-Rasterbild-Teilfläche zu verschiedenen
benachbarten lichtsteuernden Elementen (hier in
Diagonal-Abfolge), wird zur Aufzeichnung der den
Rasterpunkten entsprechenden Bildelementen der
Verschiebungsbereich der Loch-Matrix gegenüber dem
Aufzeichnungsträger wie folgt vergrößert.
Die Loch-Matrix wird bei (feststehender LCD-Matrix) so
verschoben, daß für den Zeitabschnitt T1 die Öffnung a1*
des Loch-Matrix-Feldes HA1* zur Aufzeichnung des dem
Rasterpunkt a11 entsprechenden Bildelementes a'11 auf
dessen Position gerichtet ist etc. bis für den
Zeitabschnitt T4 zur Aufzeichnung des dem Rasterpunkt a14
entsprechenden Bildelementes a'14 die Öffnung b2* des
Loch-Matrix-Feldes HB2* auf die Position von a'14
gerichtet ist usw.
(Hinweis= die Loch-Matrix muß zu diesem Zweck so
verschoben werden, daß die Öffnung a1* nunmehr auf das
lichtsteuernde Element LB2* und nicht mehr auf LA1*
ausgerichtet ist).
Analog hierzu muß im Zeitabschnitt T7 die Öffnung c3* des
Loch-Matrix-Feldes HC3* auf die Position des Bildelementen
a17 ausgerichtet sein.
Zur Aufzeichnung aller Bildelemente ist also eine
treppenartige Verschiebung der Loch-Matrix über drei
lichtsteuernde Elemente erforderlich. (Es sind auch andere
als diagonale Verschiebefolgen denkbar).
Der vorstehend beschriebene größere Verschiebebereich ist
mit dem Vorteil verbunden, daß bei Ausfall eines
lichtsteuernden Elemente (z. B. LA1*) nur 3 Bildelemente
(a11-a13) in der
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche A1'* fehlerhaft
sein können und nicht alle, da die anderen Bildelemente a14-
a19 mittels anderer lichtsteuernder Elemente (LB2*,
LC3*) als LA1* aufgezeichnet werden.
Bei der Verwendung monochromatischen Lichtes ist zu
beachten
- a) für welche Wellenlänge des auftreffenden Lichtes der photoempfindliche Teil des Aufzeichnungsträgers (Photo-emulsion, -resist, -lack, Selen) empfindlich ist,
- b) in welchem Wellenlängenbereich die LCD-Matrizen einzusetzen sind. Bisher bekannte LCD-Matrizen arbeiten im Bereich sichtbaren Lichtes, nicht aber im UV (Ultraviolettbereich) zufriedenstellend,
- c) Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chips hingegen lassen sich außer im sichtbaren Bereich des Lichtes auch gut im ultravioletten Bereich einsetzen.
Es sei an dieser Stelle ausdrücklich betont, daß nach der
Erfindung auch Licht (als elektromagnetische
Wellenstrahlung) mit kürzerer Wellenlänge als in seinem
sichtbaren Bereich verwendet werden kann. Selbst
Röntgenstrahlen sind anwendbar, auch wenn der apparative
Aufwand für die diese Strahlung steuernden Elemente und
Linsensysteme sehr hoch ist.
Die Erfindung kann in den verschiedensten
Anwendungsgebieten benutzt werden, welche die Aufzeichnung
eines Rasterbildes auf einem lichtempfindlichen
Aufzeichnungsträger voraussetzen:
So z. B. für die Erstellung von Foto-Vorlagen für gedruckte Schaltkarten, für den Siebdruck, etc.
So z. B. für die Erstellung von Foto-Vorlagen für gedruckte Schaltkarten, für den Siebdruck, etc.
Es sind auch Anwendungen denkbar, in denen der
lichtempfindliche Aufzeichnungsträger nicht aus einem
chemisch zu entwickelnden Film besteht, sondern aus einem
Material, welches bei Belichtung elektrische Aufladungen
erfährt, die wiederum ladungssensitiven abdruckfähigen
Toner anziehen bzw. abstoßen.
Claims (27)
1. Verfahren zur Aufzeichnung eines Rasterbildes auf einen
ebenen Aufzeichnungsträger,
bei dem ein computergespeichertes aus Rasterpunkten bestehendes Rasterbild in steuerbare rasterpunktbezogene Lichtstrahlen umgesetzt wird,
durch die auf dem Aufzeichnungsträger den Rasterpunkten entsprechende Bildelemente aufgezeichnet werden,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Computer-Rasterbild matrixförmig in gedachte Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) aufgeteilt wird,
das Aufzeichnungsträger-Rasterbild matrixförmig in gedachte Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1',) aufgeteilt wird,
die Teilflächen des Computer- und des Aufzeichnungsträger-Rasterbildes einander zugeordnet werden,
die Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,) matrixförmig in gedachte n Rasterpunktpositionen (r1-r9) und
die Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1',
C1',. . .) matrixförmig in gedachte n Bildelement-Positionen (p1-p9) aufgeteilt werden,
die Bildelement-Positionen (p1-p9) den Rasterpunkt-Positionen (r1-t9) zugeordnet werden,
die Aufzeichnung der den Rasterpunkten entsprechenden Bildelemente in q (q=1-n) aufeinanderfolgenden Zeitabschnitten Tq (q=1-n) derart erfolgt,
daß im q.ten Zeitabschnitt (q=1-n) alle Bildelemente an der q.ten Bildelemente-Position der Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1,. . .) gleichzeitig aufgezeichnet werden,
eine Loch-Matrix (2) mit matrixförmig angeordneten Lochmatrix-Feldern (HA1, HB1, HC1,. . .) mit jeweils einer Öffnung (a1, b1, c1,. . .) zum Durchtritt eines Lichtstrahles (la1, lc1,. . .) zur Aufzeichnung eines Bildelementes für den q.ten Zeitabschnitt derart verschoben wird, daß der Lichtstrahl jeweils auf die q.te Bildelement-Position ausgerichtet ist.
bei dem ein computergespeichertes aus Rasterpunkten bestehendes Rasterbild in steuerbare rasterpunktbezogene Lichtstrahlen umgesetzt wird,
durch die auf dem Aufzeichnungsträger den Rasterpunkten entsprechende Bildelemente aufgezeichnet werden,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Computer-Rasterbild matrixförmig in gedachte Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) aufgeteilt wird,
das Aufzeichnungsträger-Rasterbild matrixförmig in gedachte Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1',) aufgeteilt wird,
die Teilflächen des Computer- und des Aufzeichnungsträger-Rasterbildes einander zugeordnet werden,
die Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,) matrixförmig in gedachte n Rasterpunktpositionen (r1-r9) und
die Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1',
C1',. . .) matrixförmig in gedachte n Bildelement-Positionen (p1-p9) aufgeteilt werden,
die Bildelement-Positionen (p1-p9) den Rasterpunkt-Positionen (r1-t9) zugeordnet werden,
die Aufzeichnung der den Rasterpunkten entsprechenden Bildelemente in q (q=1-n) aufeinanderfolgenden Zeitabschnitten Tq (q=1-n) derart erfolgt,
daß im q.ten Zeitabschnitt (q=1-n) alle Bildelemente an der q.ten Bildelemente-Position der Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1,. . .) gleichzeitig aufgezeichnet werden,
eine Loch-Matrix (2) mit matrixförmig angeordneten Lochmatrix-Feldern (HA1, HB1, HC1,. . .) mit jeweils einer Öffnung (a1, b1, c1,. . .) zum Durchtritt eines Lichtstrahles (la1, lc1,. . .) zur Aufzeichnung eines Bildelementes für den q.ten Zeitabschnitt derart verschoben wird, daß der Lichtstrahl jeweils auf die q.te Bildelement-Position ausgerichtet ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
bei einander zugeordneten Computer- (A1, B1, C1,. . .) und
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen
(A1', B1', C1'. . .) die Aufzeichnung aller Bildelemente
einer Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche (A1')
nacheinander durch den Lichtstrahl (la1) erfolgt,
der die Öffnung (a1) des dieser Teilfläche (A1')
zugeordneten Lochmatrix-Feldes (HA1) passiert.
3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
bei einander wechselnder Zuordnung der Computer- (A1*,
B1*, C1*,. . .) und Aufzeichnungsträger-
Rasterbild-Teilflächen (A1'*, B1'*, C1'*,. . .) zu den
Lochmatrix-Feldern (HA1*, HB1*, HC1'*,. . .)
die Aufzeichnung aller Bildelemente einer
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche (A1'*)
nacheinander durch Lichtstrahlen erfolgt,
die die Öffnungen (a1*, b2*, c3*) verschiedener in ihrer
Reihenfolge willkürlich vorgegebener Lochmatrix-Felder
(HA1'*, HB2'*, HC3'*) passieren.
4. Verfahren nach Anspruch 1 und 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare Lichtstrahlen über eine lichtbeaufschlagte LCD-Matrix (1) (LCD = Liquid Crysral Device = Flüssigkristallanordnung) mit matrixförmig angeordneten lichtsteuernden Elementen (LA1, LB1, LC1,. . .) erfolgt, die jeweils einer Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1, B1, C1,. . .) zugeordnet sind,
wobei jedes lichtsteuerndes Element (LA1, LB1, LC1,. . .) im q.ten Zeitabschnitt entsprechend dem Status des q.ten Rasterpunktes der diesem Element (LA1, LB1, LC1,. . .) zugeordneten Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1, B1, C1,. . .) lichtsperrend bzw. lichtdurchlässig gesteuert wird,
und daß das Licht (L), welches das lichtsteuernde Element (LA1, LC1,. . .) passiert auf das diesem Element (LA1, LC1. . .) zugeordnete Lochmatrix-Feld (HA1, HCB1) geleitet wird,
und daß jeweils ein Bildelement durch den die Öffnung (a1 c1,. . .) dieses Lochmatrix-Feldes (HA1, HC1,. . .) passierenden Lichtstrahls (la1) lc1,) aufgezeichnet wird.
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare Lichtstrahlen über eine lichtbeaufschlagte LCD-Matrix (1) (LCD = Liquid Crysral Device = Flüssigkristallanordnung) mit matrixförmig angeordneten lichtsteuernden Elementen (LA1, LB1, LC1,. . .) erfolgt, die jeweils einer Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1, B1, C1,. . .) zugeordnet sind,
wobei jedes lichtsteuerndes Element (LA1, LB1, LC1,. . .) im q.ten Zeitabschnitt entsprechend dem Status des q.ten Rasterpunktes der diesem Element (LA1, LB1, LC1,. . .) zugeordneten Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1, B1, C1,. . .) lichtsperrend bzw. lichtdurchlässig gesteuert wird,
und daß das Licht (L), welches das lichtsteuernde Element (LA1, LC1,. . .) passiert auf das diesem Element (LA1, LC1. . .) zugeordnete Lochmatrix-Feld (HA1, HCB1) geleitet wird,
und daß jeweils ein Bildelement durch den die Öffnung (a1 c1,. . .) dieses Lochmatrix-Feldes (HA1, HC1,. . .) passierenden Lichtstrahls (la1) lc1,) aufgezeichnet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 und 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare Lichtstrahlen über eine lichtbeaufschlagte LCD-Matrix mit matrixförmig angeordneten lichtsteuernden Elementen (LA1*, LB1*, LC1*,. . .) erfolgt,
wobei jede Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1*) für eine bestimmte Anzahl von Zeitabschnitten jeweils einem von mehreren lichtsteuernden Elementen (LA1*, LB2*, LC3*) zugeordnet wird,
wobei das jeweils zugeordnete lichtsteuernde Element (LA1*, LB2*, LC3*) im q.ten Zeitabschnitt entsprechend dem Status des q.ten Rasterpunktes der Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1*) lichtsperrend bzw. lichtdurchlässig gesteuert wird,
und daß das Licht, welches das lichtsteuernde Element (LA1*, LB2*, LC3*) passiert, auf das diesem Element zugeordnete Lochmatrix-Feld (HA1*, HB2*, HC3*) geleitet wird,
und daß jeweils ein Bildelement durch den die Öffnung (a1*, b2*, c3*) dieses Lochmatrix-Feldes (HA1*, HB1*, HC3*) passierenden Lichtstrahl aufgezeichnet wird.
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare Lichtstrahlen über eine lichtbeaufschlagte LCD-Matrix mit matrixförmig angeordneten lichtsteuernden Elementen (LA1*, LB1*, LC1*,. . .) erfolgt,
wobei jede Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1*) für eine bestimmte Anzahl von Zeitabschnitten jeweils einem von mehreren lichtsteuernden Elementen (LA1*, LB2*, LC3*) zugeordnet wird,
wobei das jeweils zugeordnete lichtsteuernde Element (LA1*, LB2*, LC3*) im q.ten Zeitabschnitt entsprechend dem Status des q.ten Rasterpunktes der Computer-Rasterbild-Teilfläche (A1*) lichtsperrend bzw. lichtdurchlässig gesteuert wird,
und daß das Licht, welches das lichtsteuernde Element (LA1*, LB2*, LC3*) passiert, auf das diesem Element zugeordnete Lochmatrix-Feld (HA1*, HB2*, HC3*) geleitet wird,
und daß jeweils ein Bildelement durch den die Öffnung (a1*, b2*, c3*) dieses Lochmatrix-Feldes (HA1*, HB1*, HC3*) passierenden Lichtstrahl aufgezeichnet wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Größe des Aufzeichnungsträger-Rasterbildes
durch ein zwischen Loch-Matrix und Aufzeichnungsträger
angeordnetes abbildungsmaßstabsbestimmendes Objektiv
bestimmt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare
Lichtstrahlen über ein lichtbeaufschlagtes
Kippspiegel-Elemente- Halbleiter-Chip erfolgt.
8. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare
Lichtstrahlen über eine Matrix lichtemittierender Elemente
erfolgt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Lochmatrix auf der dem Aufzeichnungsträger abgewandten
Seite mit parallelem (LP) oder konvergierenden (LK) Licht
beaufschlagt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Umsetzung des Computer-Rasterbildes in steuerbare
Lichtstrahlen und die gegenseitige Verschiebung von
Loch-Matrix und Aufzeichnungsträger
computerprogrammgesteuert erfolgt.
11. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
das auf den Lochmatrix-Feldern (HA1*, HB1*, HC1*,. . .)
auftreffende Licht durch deren Öffnungen (a1*, b1*, c1*,. . .)
geleitet wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
gekennzeichnet durch
Verwendung monochromatischen sichtbaren oder
nichtsichtbaren Lichtes mit einer Wellenlänge gleich oder
kleiner als die des Lichtes im ultraroten Bereich.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12,
gekennzeichnet durch
seine Anwendung zur Erstellung fotografischer Vorlagen für
gedruckte Leiterplatten.
14. Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten
Rasterbildes auf einem ebenen lichtempfindlichen
Aufzeichnungsträger,
gekennzeichnet durch
- a) eine Anordnung matrixartig angeordneter steuerbarer lichtaussendender (1) lichtbeaufschlagter lichtsteuernder Elemente (LA1, LB1, LC1,. . .)
- b) eine Lochmatrix (2) mit matrixartig aufgeteilten Lochmatrix-Feldern (HA1, HB1, HC1,. . .; HA2,. . .), von denen jedes Feld eine Öffnung (a1, b1, c1,. . .; a2,. . .) für den Durchlaß eines Lichtstrahles (la1, lc1,. . .) zur Aufzeichnung jeweils eines Bildelementes auf dem Aufzeichnungsträger (5) aufweist,
- c) eine Aufteilung des Aufzeichnungsträgers (5) in gedachte matrixartig angeordnete Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1'. . .; A2',. . .), von denen jede matrixartig aufgeteilte Bildelement-Positionen (p1, p2, p3,. . ., p9) aufweist,
- d) eine Verschiebeeinrichtung (3) zur gegenseitigen
Verschiebung der Lochmatrix (2) gegenüber dem
Aufzeichnungsträger (5)
wobei- 1) das computergespeicherte Rasterbild (0) in gedachte matrixartig angeordnete Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1;. . .; A2) aufgeteilt ist, von denen jede matrixartig aufgeteilte Rasterpunkt-Positionen (r1, r2, r3,. . .r9) mit jeweils binärem Speicherstatus (an,aus) aufweist,
- 2) die Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) und die Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1'. . .E1'; A2',. . .) einander zugeordnet sind,
- 3) die Rasterpunkt-Positionen (r1, r2, r3,. . .r9) der Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) und die Bildelement-Positionen (p1, p2, p3,. . .p9) der Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1, C1'. . .) einander zugeordnet sind,
- 4) die Anzahl der steuerbaren lichtaussendenden oder die lichtbeaufschlagten lichtsteuernden (LA1, LB1, LC1,. . .) Elemente gleich der Anzahl der Öffnungen (a1, b1, c1,. . .) der Lochmatrix (2) gleich der Anzahl der Computer-Rasterbild-Teilflächen (A1, B1, C1,. . .) ist,
- 5) mittels der Verschiebeeinrichtung die Öffnungen (a1, b1, c1,. . .) der Lochmatrix-Feldes (HA1; HB1; HC1,. . .) auf die Bildelement-Positionen der Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen ausrichtbar (positionierbar) sind,
- 6) für jede Verschiebeposition der Verschiebeeinrichtung (3) die steuerbaren lichtaussendenden oder die lichtbeaufschlagten Elemente computerprogrammgesteuert entsprechend dem Speicherstatus (an, aus) der dieser Verschiebeposition zuordnungsbaren Rasterpunkt-Position (r1 von A1, r1 von A2) derart steuerbar sind, daß die diesen Elementen (LA1, LB1, LC1,. . .) zuordnungsbaren Lochmasken-Felder (HA1, HB1, HC1,. . .) mit Licht beaufschlagbar sind oder nicht.
- 7) die Bildelemente einer Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche (A1') nacheinander aufzeichenbar sind.
- 8) die Bildelemente an gleichen Bildelement-Positionen (p1 oder p2 oder p3,. . .) der Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilflächen (A1', B1', C1'. . .) gleichzeitig aufzeichenbar sind.
15. Anordnung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Öffnung eines Lochmatrix-Feldes in fester Zuordnung zu
einem steuerbaren lichtaussendenden oder
lichtbeaufschlagten Element nacheinander auf alle
Bildelement-Positionen einer
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche ausrichtbar ist.
16. Anordnung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Öffnung mehrerer Lochmatrix-Felder in wechselnder
Zuordnung zu steuerbaren lichtaussendenden oder
lichtbeaufschlagten Elementen nacheinander auf alle
Bildelement-Positionen einer
Aufzeichnungsträger-Rasterbild-Teilfläche ausrichtbar ist.
17. Anordnung nach Anspruch 15 oder 16,
dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen der Lochmatrix (2) und dem Aufzeichnungsträger
(5) ein abbildungsmaßstabbestimmendes Objektiv (4)
angeordnet ist.
18. Anordnung nach Anspruch 17,
dadurch gekennzeichnet, daß
auf der dem Aufzeichnungsträger (5) abgewandten Seite der
Lochmatrix (2) auf jedem Lochmatrix-Feld (HA1, HB1,. . .)
lichtkonzentrierende Mittel angeordnet sind,
durch die das auf diese Felder auftreffende Licht durch
die Öffnung (a1, b1) dieser Felder (HA1, HB1) leitbar ist.
19. Anordnung nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, daß
die lichtkonzentrierenden Mittel optische Linsen oder
Fresnel'sche Beugungsgitter sind.
20. Anordnung nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Fresnel'sche Beugungsgitter konzentrisch angeordnete
ebene Kreisringen oder elliptische Ringe aufweisen.
21. Anordnung nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet, daß
die konzentrischen Ringe (7) aus einem Material bestehen,
durch welches die Phase des auf sie auftreffen den Lichtes
um eine halbe Lichtwellenlänge verschiebbar ist.
22. Anordnung nach Anspruch 17,
dadurch gekennzeichnet, daß
vor der dem Aufzeichnungsträger abgewandten Seite der
Lochmatrix (9-2) eine konvergierendes Licht (LK)
erzeugende Kondensorlinse (9-7) und daß
das abbildungsmaßstabbestimmende Objektiv (9-4) kleiner
als die Lochmaske (9-2) ist.
23. Anordnung nach Anspruch 15 oder 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung
lichtbeaufschlagter lichtsteuernder Elemente (LA1, LB1,
LC1,. . .LA2,. . .) eine LCD- Matrix (1) (LCD = Liquid
Crystal Device = Flüssigkristall-Anordnung) ist.
24. Anordnung nach Anspruch 15 oder 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung
lichtbeaufschlagter lichtsteuernder Elemente ein
Spiegelelemente-Halbleiter-Chip (9-1) ist.
25. Anordnung nach Anspruch 22 und 24,
dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen dem Spiegelelemente-Halbleiter-Chip (9-1) und der
Kondensorlinse (9-7) ein Vergrößerungsobjektiv (9-6)
angeordnet ist.
26. Anordnung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Verschiebeeinrichtung (3) ein
schrittmotorgesteuerter X/Y-Koordinaten-Tisch (8) oder
eine piezokristallgesteuerte Einrichtung ist.
27. Anordnung nach Anspruch 25,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Spiegelelemente-Halbleiter-Chip (9-1)
und die Lochmatrix (9-2) gegenläufig verschiebbar ist,
wobei der Verschiebungshub von Chip (9-1) und Lochmatrix
(9-2) in Abhängigkeit von dem Vergrößerungsfaktor des
Vergrößerungsobjektives (9-6) unterschiedlich ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19716240A DE19716240C2 (de) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
EP98106828A EP0873006A3 (de) | 1997-04-18 | 1998-04-15 | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
CA002234896A CA2234896C (en) | 1997-04-18 | 1998-04-16 | Photoplotting method and an arrangement for plotting a computer-stored raster image on a plane, photosensitive record carrier |
US09/061,276 US6178006B1 (en) | 1997-04-18 | 1998-04-17 | Photoplotting method and an arrangement for plotting a computer-stored raster image on a plane, photosensitive record carrier |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19716240A DE19716240C2 (de) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19716240A1 true DE19716240A1 (de) | 1998-10-29 |
DE19716240C2 DE19716240C2 (de) | 2003-12-04 |
Family
ID=7826904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19716240A Expired - Fee Related DE19716240C2 (de) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6178006B1 (de) |
EP (1) | EP0873006A3 (de) |
CA (1) | CA2234896C (de) |
DE (1) | DE19716240C2 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004022961A1 (de) * | 2004-05-10 | 2005-12-15 | Envisiontec Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift |
EP2056165A1 (de) | 2007-10-31 | 2009-05-06 | MIVA Technologies GmbH | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
USRE43955E1 (en) | 2004-05-10 | 2013-02-05 | Envisiontec Gmbh | Process for the production of a three-dimensional object with resolution improvement by pixel-shift |
US8658076B2 (en) | 2007-10-26 | 2014-02-25 | Envisiontec Gmbh | Process and freeform fabrication system for producing a three-dimensional object |
US8815143B2 (en) | 2006-04-28 | 2014-08-26 | Envisiontec Gmbh | Method for producing a three-dimensional object by means of mask exposure |
US9527244B2 (en) | 2014-02-10 | 2016-12-27 | Global Filtration Systems | Apparatus and method for forming three-dimensional objects from solidifiable paste |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000158724A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像処理装置、画像処理方法および記録媒体 |
US7115353B2 (en) * | 2001-07-11 | 2006-10-03 | Gary Baxter | Computer screen imaging system for the preparation of print screens |
EP1345404A1 (de) * | 2002-03-12 | 2003-09-17 | Agfa-Gevaert AG | Verfahren zum pixelweisen Erzeugen von Bildern |
CA2500633A1 (en) | 2002-10-30 | 2004-05-13 | National Research Council Of Canada | Method of producing an image on a printing screen |
DE102006019963B4 (de) | 2006-04-28 | 2023-12-07 | Envisiontec Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts durch schichtweises Verfestigen eines unter Einwirkung von elektromagnetischer Strahlung verfestigbaren Materials mittels Maskenbelichtung |
US8333468B2 (en) * | 2007-09-05 | 2012-12-18 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Method of printing |
WO2013137868A1 (en) * | 2012-03-14 | 2013-09-19 | Thomson Licensing | Data archival on film |
JP6589999B2 (ja) * | 2016-02-05 | 2019-10-16 | 株式会社リコー | 画像記録装置および画像記録方法 |
CN112295109B (zh) * | 2020-10-20 | 2022-04-01 | 北京理工大学 | 一种治疗光控制方法和使用其的光动力治疗装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4073650A (en) * | 1974-05-30 | 1978-02-14 | Izon Corporation | Method of recording on a microfiche |
US4357619A (en) * | 1980-05-16 | 1982-11-02 | Klockenbrink Joseph M | High-speed non-impact band printer employing an array of radiation sources for printing on a movable surface |
US4739416A (en) * | 1986-09-15 | 1988-04-19 | Matrix Instruments Inc. | Digital image reproduction |
DE4121509A1 (de) * | 1990-07-02 | 1992-01-09 | Creo Products Inc | Belichtungs- und lichtmodulationssystem |
US5434600A (en) * | 1990-06-25 | 1995-07-18 | Schoonscan, Inc. | Illumination module for bandwise imaging device |
WO1996030806A1 (en) * | 1995-03-28 | 1996-10-03 | Admotion Corporation | Sequential display mosaic fabrication fixture and method of making mosaics |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4016416A (en) * | 1976-03-23 | 1977-04-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Phase compensated zone plate photodetector |
US4514858A (en) * | 1983-03-15 | 1985-04-30 | Micronix Partners | Lithography system |
US4707743A (en) * | 1985-02-19 | 1987-11-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for image conversion with multiple exposures for filtering |
US4675702A (en) * | 1986-03-14 | 1987-06-23 | Gerber Scientific Inc. | Photoplotter using a light valve device and process for exposing graphics |
US4829339A (en) | 1987-05-26 | 1989-05-09 | Silhouette Technology, Inc. | Film printing/reading system |
US5016040A (en) | 1987-05-26 | 1991-05-14 | Silhouette Technology, Inc. | Method and apparatus for forming a recording on a recording medium |
US4924254A (en) * | 1987-05-26 | 1990-05-08 | Silhouette Technology, Inc. | Film printing/reading system |
US5120127A (en) | 1987-05-26 | 1992-06-09 | Silhouette Technology Inc. | Determining the position of light emanating from a surface area |
US4922284A (en) | 1987-05-26 | 1990-05-01 | Silhouette Technology, Inc. | Film printing/reading system |
US5270825A (en) * | 1989-10-12 | 1993-12-14 | Olympus Optical Co., Ltd. | Imaging optical system having a moire elimination effect |
US5754217A (en) * | 1995-04-19 | 1998-05-19 | Texas Instruments Incorporated | Printing system and method using a staggered array spatial light modulator having masked mirror elements |
-
1997
- 1997-04-18 DE DE19716240A patent/DE19716240C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-04-15 EP EP98106828A patent/EP0873006A3/de not_active Withdrawn
- 1998-04-16 CA CA002234896A patent/CA2234896C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-17 US US09/061,276 patent/US6178006B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4073650A (en) * | 1974-05-30 | 1978-02-14 | Izon Corporation | Method of recording on a microfiche |
US4357619A (en) * | 1980-05-16 | 1982-11-02 | Klockenbrink Joseph M | High-speed non-impact band printer employing an array of radiation sources for printing on a movable surface |
US4739416A (en) * | 1986-09-15 | 1988-04-19 | Matrix Instruments Inc. | Digital image reproduction |
US5434600A (en) * | 1990-06-25 | 1995-07-18 | Schoonscan, Inc. | Illumination module for bandwise imaging device |
DE4121509A1 (de) * | 1990-07-02 | 1992-01-09 | Creo Products Inc | Belichtungs- und lichtmodulationssystem |
WO1996030806A1 (en) * | 1995-03-28 | 1996-10-03 | Admotion Corporation | Sequential display mosaic fabrication fixture and method of making mosaics |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004022961A1 (de) * | 2004-05-10 | 2005-12-15 | Envisiontec Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift |
DE102004022961B4 (de) * | 2004-05-10 | 2008-11-20 | Envisiontec Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift |
US7790093B2 (en) | 2004-05-10 | 2010-09-07 | Envisiontec Gmbh | Process for the production of a three-dimensional object with resolution improvement by “pixel-shift” |
USRE43955E1 (en) | 2004-05-10 | 2013-02-05 | Envisiontec Gmbh | Process for the production of a three-dimensional object with resolution improvement by pixel-shift |
US8862260B2 (en) | 2004-05-10 | 2014-10-14 | Envisiontec Gmbh | Process for the production of a three-dimensional object with resolution improvement by “pixel shift” |
US8815143B2 (en) | 2006-04-28 | 2014-08-26 | Envisiontec Gmbh | Method for producing a three-dimensional object by means of mask exposure |
US8658076B2 (en) | 2007-10-26 | 2014-02-25 | Envisiontec Gmbh | Process and freeform fabrication system for producing a three-dimensional object |
EP2056165A1 (de) | 2007-10-31 | 2009-05-06 | MIVA Technologies GmbH | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
DE102007051990A1 (de) | 2007-10-31 | 2009-05-07 | Miva Technologies Gmbh | Fotoplott-Verfahren und Anordnung zur Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger |
US9527244B2 (en) | 2014-02-10 | 2016-12-27 | Global Filtration Systems | Apparatus and method for forming three-dimensional objects from solidifiable paste |
US9975296B2 (en) | 2014-02-10 | 2018-05-22 | Global Filtration Systems | Apparatus and method for forming three-dimensional objects from solidifiable paste |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0873006A2 (de) | 1998-10-21 |
CA2234896C (en) | 2002-11-19 |
EP0873006A3 (de) | 2000-02-02 |
CA2234896A1 (en) | 1998-10-18 |
DE19716240C2 (de) | 2003-12-04 |
US6178006B1 (en) | 2001-01-23 |
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