DE19703646C2

DE19703646C2 - Device and method for treating substrates in a fluid container

Info

Publication number: DE19703646C2
Application number: DE19703646A
Authority: DE
Inventors: Dietmar Schoenleber
Original assignee: Steag Microtech GmbH
Current assignee: Steag Microtech GmbH
Priority date: 1996-04-22
Filing date: 1997-01-31
Publication date: 1998-04-09
Anticipated expiration: 2017-02-01
Also published as: ID17727A; DE19703646A1

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Behandeln von Substraten in einem Fluid-Behälter, in den die Substrate voneinander beabstandet als Pakete ein setzbar sind, wobei eine Halteleiste auf den oberen Rand bereich der Substrate auflegbar ist.The invention relates to an apparatus and a method for treating substrates in a fluid container, in which the substrates spaced apart from one another as packets can be placed, with a retaining bar on the upper edge area of the substrates can be placed.

Bei Vorrichtungen, wie sie beispielsweise aus der EP 0 385 536 A1 der US 5 265 184 oder der auf die An melderin der vorliegenden Anmeldung zurückgehenden DE 44 13 077 A1 bekannt sind, werden die Substrate mit ei ner Substrataufnahme-Vorrichtung im Fluid-Behälter oder in einem Substratträger entweder mittels einer 3-Punkt-Halterung oder mit einer 1-Punkt-Halterung und zusätzli chen Führungsschlitzen an den Innenseiten der Behälter-Wandung bzw. Schlitzen in den Wandungen einer Haube ge halten. Im Falle der 3-Punkt-Halterung beschränkt sich das Halten der Substrate auf einen kleinen Kantenbereich auf der Unterseite der Substrate. Insbesondere bei der Behandlung von großen Wafer-Abmessungen bzw. -durchmes sern, beispielsweise von 300 mm ist eine solche Halterung jedoch nicht sicher, da nicht ausgeschlossen werden kann, daß sich die Wafer zumindest im oberen, von der Halterung entfernten Bereich aneinander anlehnen und dadurch die Ausschußrate groß ist. Das Berühren der nebeneinander an geordneten Substrate wird insbesondere auch beim Heraus heben der Wafer aus dem Fluid durch die Kapillarwirkung zwischen den Wafern begünstigt. Die Verwendung von Füh rungsschlitzen und seitlichen Halterungen im Fluid-Behäl ter bzw. in einer über dem Fluid-Behälter angeordneten Haube weist den Nachteil auf, daß die Herstellungskosten für die Behälter und/oder die Hauben wesentlich höher sind. Darüberhinaus beeinträchtigen derartige Schlitze eine möglichst störungsfreie, gleichmäßige Strömung des Behandlungsfluids im Behälter. Führungsschlitze erschwe ren weiterhin die Reinigung bzw. Trocknung des Behälters bzw. der Haube. Aber auch bei der Verwendung von Füh rungsschlitzen in der Trocknungshaube ist insbesondere bei Substraten mit großen Abmessungen das Einführen der Substrate in die Schlitze insbesondere aufgrund der Ka pillarwirkung zwischen den aus dem Behandlungsfluid her ausgehobenen Substraten nicht sichergestellt, so daß da durch Beschädigungen an den Substraten auftreten können.In devices such as those from the EP 0 385 536 A1 of US 5 265 184 or to the An notifying the present application DE 44 13 077 A1 are known, the substrates with egg ner substrate receiving device in the fluid container or in a substrate carrier either using a 3-point bracket or with a 1-point bracket and additional Chen guide slots on the inside of the Container wall or slits in the walls of a hood ge hold. In the case of the 3-point bracket, it is limited keeping the substrates on a small edge area on the bottom of the substrates. Especially with the Treatment of large wafer dimensions or diameters Sern, for example of 300 mm is such a bracket but not certain, as it cannot be ruled out that the wafer is at least in the top, from the holder lean the distant area against each other and thereby the Reject rate is large. Touching the side by side orderly substrates is especially when out lift the wafer out of the fluid by capillary action favored between the wafers. The use of Füh slits and side brackets in the fluid container ter or arranged in a above the fluid container Hood has the disadvantage that the manufacturing cost for the container and / or the hoods much higher are. In addition, such slots affect a trouble-free, even flow of the Treatment fluids in the container. Guide slots Ren continue cleaning or drying the container or the hood. But also when using Füh is in particular in the drying hood for substrates with large dimensions, the introduction of Substrates in the slots especially due to the Ka pilling effect between those from the treatment fluid excavated substrates not ensured, so there can occur due to damage to the substrates.

Ein weiterer Nachteil der bekannten Anordnungen besteht darin, daß bei schnellem Einströmen von Fluid unterhalb der Substrate in den Behälter die Gefahr besteht, daß die Substrate angehoben werden bzw. aufschwimmen. Dadurch ist der sichere, parallele und beabstandete Halt der Substra te in der Substrat-Aufnahmevorrichtung bzw. in einem Sub stratträger nicht gewährleistet.Another disadvantage of the known arrangements is in that with rapid inflow of fluid below of the substrates in the container there is a risk that the Substrates are lifted or float. This is the secure, parallel and spaced stop of the substra te in the substrate receiving device or in a sub carrier not guaranteed.

Aus der US 5 488 964 ist eine Vorrichtung der eingangs genannten Art bekannt, bei der ein Stab oder eine Platte während der Behandlung im Fluid-Behälter auf flache Be reiche von Substraten aufgelegt wird, um ein Aufschwimmen der Substrate zu verhindern. Dieser Stab oder diese Plat te wird erst dann mittels einer Antriebseinrichtung über die Substrate geschwenkt bzw. auf diese abgesenkt, wenn sie in den Fluid-Behälter eingesetzt sind. Vor dem Entfernen der Substrate aus dem Fluid-Behälter wird der Stab bzw. die Platte wiederum verschwenkt bzw. angehoben, um die Substrate aus dem Fluid-Behälter zu ent fernen. Eine derartige Anordnung ist sehr aufwendig, und insbesondere im Hinblick auf das Verschwenken ist ein großer Raumbedarf über dem Fluid-Behälter erforderlich. Darüberhinaus sollen die Substrate während des Be- und Entladens von diesem Stab oder dieser Platte nicht gehal ten werden. Daher besteht die Gefahr, daß sich die Substrate an einander anlehnen und berühren.From US 5 488 964 a device is the beginning known type, in which a rod or plate during treatment in the fluid container on flat be rich of substrates is placed to float to prevent the substrates. This stick or plat te is only then by means of a drive device the substrates are pivoted or lowered onto them when they are in the fluid container are used. Before removing the substrates from the The rod or plate in turn becomes a fluid container pivoted or raised to ent the substrates from the fluid container ent distant. Such an arrangement is very complex, and especially with regard to pivoting is a large space requirement above the fluid container required. In addition, the substrates during loading and Unloading from this rod or plate is not appropriate be. Therefore, there is a risk that the substrates adhere lean and touch each other.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrich tung und ein Verfahren der eingangs genannten Art zu schaffen, bei der auch große Abmessungen aufweisende Substrate während der Behandlung und/oder während des Ein- und Ausfahrens in das bzw. aus dem Fluid-Becken si cher gehalten werden.The invention has for its object a Vorrich device and a method of the type mentioned at the beginning create, which also have large dimensions Substrates during the treatment and / or during the Driving in and out of the fluid pool si cher be kept.

Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge löst, daß die Halteleiste während des Ein- und/oder Aus fahr-Vorgangs bzw. während des Be- und/oder Entlade-Vor gangs auf den Substraten aufliegt bzw. liegenbleibt. Auf diese Weise ergibt sich für die Substrate auch im oberen Bereich ein Halt, so daß die Gefahr einer Berührung der Substrate oder Wafer bei der Behandlung im Fluid-Behälter oder beim Ein- und Ausfahren vermieden wird, und zwar insbesondere auch bei Wafern mit großen Abmessungen. Wei terhin ist auch bei schnellem Fluid-Einlaß von unten oder bei der Verwendung von starken Einlaßdüsen kein Anheben bzw. Aufschwimmen der Substrate möglich. Aufgrund der Halteleiste sind auch Führungsschlitze in bzw. an der Be hälterwand und/oder in oder an der Haubenwand ggf. nicht erforderlich, so daß die Herstellungskosten der erfin dungsgemäßen Vorrichtung kleiner sind, eine nachteilige Beeinflussung der Fluidströmung vermieden, und das Reini gen des Behälters oder des Beckens vereinfacht wird.The stated object is thereby ge triggers that the retaining bar during the on and / or off driving process or during loading and / or unloading initially rests or remains on the substrates. On this also results for the substrates in the upper one Area a stop so that there is a risk of touching the Substrates or wafers during treatment in the fluid container or avoided when moving in and out, namely especially for wafers with large dimensions. Wei terhin is also with fast fluid inlet from below or no lifting when using strong inlet nozzles or floating of the substrates possible. Due to the Holding strips are also guide slots in or on the loading the container wall and / or in or on the hood wall may not required so that the manufacturing cost of the inventions device according to the invention are smaller, a disadvantageous Influencing the fluid flow avoided, and the Reini the container or basin is simplified.

Gemäß einer sehr vorteilhaften Ausführungsform der Erfin dung ist die Halteleiste vorzugsweise senkrecht in einer Führung verschiebbar, die im Fluidbecken und/oder in ei ner Beckenhaube vorgesehen ist. Die Führung kann dabei beispielsweise eine Schiene sein, die an einer Beckenwand und/oder an einer Hauben-Wand vertikal angeordnet ist. In oder auf dieser Schiene gleitet ein Schlitten, der über einem Winkelelement mit der waagrecht angeordneten Halte leiste verbunden ist. According to a very advantageous embodiment of the inven tion is preferably the holding bar vertically in one Slidable guide in the fluid pool and / or in egg ner pool hood is provided. The leadership can for example be a rail on a pool wall and / or is arranged vertically on a hood wall. In or on this rail a slide slides over an angle element with the horizontally arranged holder bar is connected.

Die Halteleiste liegt vorzugsweise mit ihrem Eigengewicht auf den Substratkanten auf. Dazu ist gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung das Gewicht und/oder das Material der Halteleiste entsprechend dem gewünschten Auflagegewicht der Halteleiste auf den Substraten ge wählt. Bei Verwendung einer Führungsschiene zur senkrech ten Verschiebung der Halteleiste wird dabei die Haltelei ste vorzugsweise zusammen mit dem Substratpaket abgesenkt bzw. angehoben, ohne daß eine eigene Antriebsvorrichtung für die Halteschiene erforderlich ist.The holding bar is preferably with its own weight on the substrate edges. According to another Embodiment of the invention the weight and / or Material of the retaining strip according to the desired one Support weight of the holding strip on the substrates elects. When using a guide rail for vertical The shift of the holding bar becomes the holding bar ste preferably lowered together with the substrate package or raised without a separate drive device is required for the holding rail.

Für spezielle Anwendungsformen kann es jedoch auch vor teilhaft sein, die Halteschiene unabhängig vom Anheben oder Absenken der Substrate getrennt zu bewegen. Für die sen Fall ist die Halteleiste über entsprechende Verbin dungselemente mit einer Antriebsvorrichtung, beispiels weise einem Schrittinotor oder einem Mitnehmer der mit der Antriebseinrichtung der Substrat-Aufnahmevorrichtung in Verbindung steht, oder dergleichen verbunden.However, it can also be used for special applications be partial, the support rail regardless of lifting or lowering the substrates separately. For the In this case, the retaining bar is connected using the appropriate connector tion elements with a drive device, for example a stepper motor or a driver with the Drive device of the substrate receiving device in Connection is established, or the like connected.

Die Halteleiste erstreckt sich vorzugsweise über die ge samte Breite des Substratpakets, so daß sie alle Substra te des Pakets hält.The retaining strip preferably extends over the ge entire width of the substrate package, so that they all substra holds the package.

Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung weist die Halteleiste auf der den Substraten zugewandten Seite Ausnehmungen, beispielsweise kerbenartige oder sich v-förmig verengende Schlitze auf, in denen die Substrat kanten liegen. Die Ausnehmungen gewährleisten einen si cheren Halt der Substrate und verhindern eine Lageände rung zueinander. Auch bei Auftreten hoher Kapillarkräfte zwischen den Substraten bleiben diese im Paket aufrecht und parallel hintereinander stehen und sind voneinander sicher beabstandet. Dadurch werden Berührungen zwischen den Substraten vermieden, an denen auch der Trocknungsvorgang nur sehr schwer möglich ist und Partikelgefahr besteht. According to an advantageous embodiment of the invention has the retaining strip on the facing the substrates Side recesses, for example notch-like or themselves V-shaped narrowing slots in which the substrate edges lie. The recesses ensure a si secure hold of the substrates and prevent a situation each other. Even when high capillary forces occur between the substrates, these remain upright in the package and stand parallel one behind the other and are from each other spaced securely. This will touch between avoided the substrates on which the Drying process is very difficult and There is a risk of particles.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung sind die Abstände zwischen den Ausnehmungen entsprechend den vorgesehenen Abständen zwischen den Substraten gewählt, so daß entsprechend der Abstandswahl der Ausnehmungen der Halteleiste die Abstände der Substrate zueinander im Sub stratpaket festgelegt wird. Befinden sich in der Sub strat-Aufnahmevorrichtung des Beckens und/oder dem Sub stratträger, etwa einem Substratcarrier, ebenfalls Auf nahmeschlitze mit definiertem Abstand zueinander, so sind die Abstände der Ausnehmungen der Halteleiste vorzugswei se entsprechend den Abständen der Schlitze gewählt. Hin sichtlich der Ausbildung von Aufnahme-Vorrichtungen und/oder Schlitzen für die Aufnahme der Substrate in Fluid-Behältern bzw. im Substratträger wird insbesondere auf die nicht-vorveröffentlichten DE 195 46 990 A1 DE 196 15 108 A1 sowie auf die DE 44 28 169 A1 derselben Anmelderin verwiesen, deren Inhalt insofern zum Gegen stand der vorliegenden Anmeldung gemacht wird.According to a further embodiment of the invention the distances between the recesses according to the the selected distances between the substrates, so that according to the choice of distance of the recesses Hold the distances between the substrates in the sub stratpaket is determined. Are in the sub strat cradle of the pelvis and / or the sub stratträger, such as a substrate carrier, also on take slots with a defined distance from each other, so the distances of the recesses of the retaining strip are preferably se selected according to the spacing of the slots. There visibly the formation of recording devices and / or slots for receiving the substrates in Fluid containers or in the substrate carrier is particularly to the unpublished DE 195 46 990 A1 DE 196 15 108 A1 and DE 44 28 169 A1 of the same Applicant referred, the content of the contrary status of the present application is made.

Für einen sicheren, definierten Halt der Substrate, seien es nun scheibenförmige oder rechteckige Substrate, sind drei Punkte erforderlich. Bei Verwendung einer Haltelei ste vorzugsweise am höchsten Punkt der Substratkante wird dadurch ein Haltepunkt definierte so daß zwei weitere Haltepunkte in der Substrat-Aufnahmevorrichtung des Fluid-Behälters oder des Substratträgers ausreichen und Führungsschlitze in den Behälter- und/oder Haubenwänden nicht erforderlich sind. Beispiele für Substrat-Aufnahme vorrichtungen mit mindestens zwei Haltepunkten sind bei spielsweise in der bereits erwähnten DE 44 13 077 A1 sowie in den nicht-vorveröffentlichten DE 195 46 990 A1 und DE 196 15 108 A1 beschrieben, deren Inhalte zur Vermeidung von Wiederholungen auch insofern zum Inhalt der vorlie genden Anmeldung gemacht werden. For a secure, defined hold of the substrates it is now disk-shaped or rectangular substrates three points required. When using a hold most preferably at the highest point of the substrate edge thereby defining a breakpoint so that two more Breakpoints in the substrate receiving device of the Sufficient fluid container or the substrate carrier and Guide slots in the container and / or hood walls are not required. Examples of substrate uptake devices with at least two stops are included for example in the already mentioned DE 44 13 077 A1 and in the unpublished DE 195 46 990 A1 and DE 196 15 108 A1, the contents of which are to be avoided of repetitions also in so far as the content of the present registration.

Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung sind wenigstens zwei Halteleisten vorgesehen, die voneinander beabstandet auf obere Kantenbereiche der Substrate bzw. des Substratpakets auflegbar sind. Auf diese Weise definieren die wenigstens zwei Halteleisten bereits zwei Haltepunkte, so daß die Substrataufnahmevor richtung im Fluid-Behälter lediglich einen Haltepunkt aufweisen muß, der vorzugsweise eine messerartige Kante ist, die zur Anhebung der Substrate vorgesehen ist. Wei tere Haltepunkte sind bei dieser Ausführungsform im Fluid-Behälter nicht erforderlich, so daß der Fluid-Be hälter klein gebaut werden kann und damit nur ein kleines Fluid-Volumen benötigt, kostengünstig herstellbar ist und mit einfachsten Mitteln eine zuverlässige Halterung der Substrate während der Substratbehandlung und während des Ein- und Ausfahrens ermöglicht.According to a particularly advantageous embodiment of the According to the invention, at least two retaining strips are provided, which are spaced apart from one another on upper edge regions of the Substrates or the substrate package can be placed. On in this way define the at least two retaining strips already two breakpoints, so that the substrate direction in the fluid container only a breakpoint Must have, which preferably has a knife-like edge is provided to raise the substrates. Wei tere breakpoints are in this embodiment in Fluid container not required, so the fluid loading container can be built small and therefore only a small one Fluid volume required, is inexpensive to manufacture and a reliable mounting of the Substrates during the substrate treatment and during the Entry and exit enabled.

Gemäß einer weiteren sehr vorteilhaften Ausführungsform insbesondere in Zusammenhang mit einem Trocknungsvorgang, wenn also die Substrate zum Trocknen aus einem Behand lungsfluid, etwa einem Spülfluid herausgehoben werden, liegt bzw. liegen die Halteleiste(n) nicht auf den Sub straten auf, wenn sie im Behandlungsfluid eingetaucht sind. Vielmehr ist bzw. sind die Halteleiste(n) in einem vorgegebenen Abstand, der vorzugsweise 3 bis 20 mm be trägt, über der Oberfläche des Behandlungs- oder Spül fluids gehalten, so daß die Halteleiste nicht mit dem Fluid in Berührung kommt, und auch soweit über der Flui doberfläche gehalten ist, daß keine Spritzer oder Tropfen an die Halteleiste gelangen können. Da beim Herausheben der Substrate aus dem Fluid Adhäsionskräfte zwischen dem Fluid und Substraten auftreten und durch Kapillarwirkung zwischen den Substraten ein Wasserfilm mit nach oben ge zogen wird, sollte die Leiste 2 bis 20 mm über der Flui doberfläche bleiben, um nicht naß zu werden. Die Halte leiste wartet also in dem vorgegebenen Abstand über der Fluidoberfläche auf die aus dem Fluid-Behälter anzuheben den Substrate. Die Halteleiste(n) wird bzw. werden dann beim weiteren Ausheben der Substrate mit angehoben.According to a further very advantageous embodiment, in particular in connection with a drying process, that is if the substrates for drying treatment fluid, for example a rinsing fluid are lifted out, the retaining strip (s) are not on the substrates when they are in the treatment fluid are immersed. Rather, the retaining strip (s) are held at a predetermined distance, which preferably carries 3 to 20 mm, above the surface of the treatment or rinsing fluid so that the retaining strip does not come into contact with the fluid, and also to the extent is held on the surface of the fluid so that no splashes or drops can get onto the holding strip. Since adhesive forces occur between the fluid and substrates when the substrates are lifted out of the fluid and a water film is drawn upwards by capillary action between the substrates, the bar should remain 2 to 20 mm above the fluid surface in order not to get wet. The holding bar is thus waiting at the predetermined distance above the fluid surface for the substrates to be lifted out of the fluid container. The holding strip (s) are then lifted when the substrates are further lifted out.

Ausgehend von dem eingangs genannten Verfahren wird die gestellte Aufgabe durch ein Verfahren gelöst, bei dem die Halteleiste während wenigstens eines Teils des Ein- und/oder Ausfahr-Vorgangs bzw. wenigstens eines Teils des Be- und/oder Entlade-Vorgangs der Substrate auf diese aufgelegt wird. Die damit erzielten Vorteile entsprechen denen, die zuvor in Zusammenhang mit der erfindungsgemä ßen Vorrichtung genannt wurden.Based on the procedure mentioned at the beginning, the task solved by a method in which the Holding bar during at least part of the Entry and / or exit process or at least part of the Loading and / or unloading of the substrates on them is launched. The advantages achieved with this correspond those previously mentioned in connection with the invention ß device were called.

Bei einer besonders vorteilhaften Ausführungsform insbe sondere in Zusammenhang mit dem Trocknen der Substrate nach einem Behandlungs- bzw. Spülvorgang sind folgende Verfahrensschritte vorgesehen:In a particularly advantageous embodiment, in particular especially in connection with the drying of the substrates after a treatment or rinsing process are the following Process steps provided:

a) inserting the substrates into the fluid container;
b) treating the substrates in the fluid container;
c) lifting the substrates from the fluid container;
d) placing a retaining strip ( 6 ) on the upper, be already highlighted from the treatment fluid edge areas of the substrates and
e) further excavation of the substrates together with the Retaining bar.

Mit diesem Verfahren ist sichergestellt, daß die Halte leiste selbst nicht mit dem Behandlungs- bzw. Spülfluid in Berührung kommt bzw. benetzt wird, was zur Folge hätte, daß die Substrate nicht oder nur mit hohem Aufwand zuverlässig trocken werden. Dennoch wird den Substraten durch die über der Fluidoberfläche bereitstehende, war tende Halteleiste nach dem Austritt aus dem Behandlungs fluid, wenn sie also bereits trocken sind, ein Halt gege ben, so daß ein Zusammenziehen der Wafer zueinander und ein Berühren derselben verhindert wird. Die Tendenz, daß sich die Substrate insbesondere beim Austritt aus dem Behandlungsfluid nähern und berühren, wird durch Kräfte bewirkt, die aufgrund der Kapillarwirkung des Wassers zwischen den Substraten auftritt.This procedure ensures that the stop do not use the treatment or irrigation fluid comes into contact or is wetted, which results would have that the substrates not or only with great effort reliably dry. Still, the substrates by the one standing above the fluid surface Ending strip after exiting treatment fluid, if they are already dry, a stop ben, so that contraction of the wafers to each other and touching the same is prevented. The tendency that the substrates in particular when exiting the Approaching and touching the treatment fluid is done by forces caused by the capillary action of the water occurs between the substrates.

Das Auflegen der Halteleiste auf die aus dem Behandlungs fluid herausgehobenen Randbereiche der Substrate erfolgt vorzugsweise durch eine Relativbewegung zwischen Halte leiste und Substraten, wobei insbesondere die Halteleiste in einem vorgegebenen Abstand über der Fluidoberfläche wartet, und die Substrate von unten an die wartende Hal teleiste angehoben werden.Laying the holding bar on the one from the treatment edge regions of the substrates which are lifted out in fluid form preferably by a relative movement between stops bar and substrates, in particular the holding bar at a predetermined distance above the fluid surface waits, and the substrates from below to the waiting hal telebar can be raised.

Insbesondere dann, wenn die Haube, die gemäß dem Maran goni-Verfahren vorzugsweise mit einem den Trocknungsvor gang beschleunigenden und verbessernden Fluid, beispiels weise mit alkoholhaltigem Stickstoff geflutet wird, Füh rungen in oder an ihren Innenwänden für die Substrate aufweist, ist es vorteilhaft, die Halteleiste von den Substraten beispielsweise durch weiteres Anheben zu ent fernen, wenn die Substrate in die Führungen eingeführt worden sind und darin gehalten werden. Im Falle von Hau ben mit Führungsschlitzen ist danach die Halteleiste nicht mehr erforderlich und möglicherweise sogar nachtei lig.Especially when the hood, which according to the Maran goni process preferably with a drying pre gear accelerating and improving fluid, for example flooded with alcoholic nitrogen, Füh stanchions in or on their inner walls for the substrates has, it is advantageous to the retaining strip from the Ent to remove substrates, for example, by further lifting distant when the substrates are inserted into the guides have been and are kept in it. In the case of Hau ben with guide slots is then the retaining bar no longer necessary and possibly even night lig.

Die Führungsschlitze der Haube dürfen nur so weit nach unten reichen, daß sie nicht mit dem Fluid in Berührung kommen. Die Substrate werden daher in einem Bereich ober halb der Fluidoberfläche, wo die durch die Kapillarwir kung des Wassers zwischen den Substraten auftretenden Kräfte am größten sind, durch die Halteleiste in defi nierten Abstand zueinander gehalten bis sie sicher und zuverlässig in die Führungsschlitze der Haube eintreten und danach von diesen gehalten werden.The guiding slots of the hood may only extend as far enough below that they are not in contact with the fluid come. The substrates are therefore in an upper area half of the fluid surface, where the through the capillary kung the water occurring between the substrates Forces are greatest through the holding bar in defi distance between them until they are safe and reliably enter the guide slots in the hood and then held by them.

Es ist auch möglich, die Halteleiste beim Einsetzen der Substrate in den Fluid-Behälter zu verwenden, indem sie während des Ladevorgangs auf den Substraten aufliegt. It is also possible to insert the retaining bar when inserting the Use substrates in the fluid container by using them rests on the substrates during the charging process.

Dies ist jedoch nicht erforderlich, wenn die Substrate zusammen mit einem Substratträger, einem sogenannten Carrier, in den Fluid-Behälter eingesetzt und erst beim Trocknungsvorgang aus dem Substratträger und aus dem Fluid-Behälter angehoben werden.However, this is not necessary if the substrates together with a substrate carrier, a so-called Carrier, inserted in the fluid container and only when Drying process from the substrate carrier and from the Fluid containers are raised.

Unter dem Begriff Substrate sind nicht nur Wafer, sondern auch andere platten- oder scheibenförmige Teile, wie CD′s, Masken, LED-Anzeigetafeln oder dergleichen zu ver stehen.The term substrates not only includes wafers, but also also other plate or disc-shaped parts, such as CD's, masks, LED display boards or the like to ver stand.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines bevorzugten Ausführungsbeispiels unter Bezugnahme auf eine einzige Schemazeichnung erläutert.The invention is based on a preferred Embodiment with reference to a single Schematic drawing explained.

Über einem Fluid-Behälter 1 befindet sich eine Haube 2, die beispielsweise der Trocknung von Substraten 3 dient, wie dies in der DE 44 13 077 A1 oder der nicht-vorveröf fentlichten DE 195 00 239 A1 oder DE 196 15 108 A1 dersel ben Anmelderin beschrieben ist.Above a fluid container 1 there is a hood 2 , which is used, for example, to dry substrates 3 , as described in DE 44 13 077 A1 or the unpublished DE 195 00 239 A1 or DE 196 15 108 A1 by the same applicant is described.

Im Fluid-Behälter 1 befindet sich eine Substrat-Aufnahme vorrichtung 4 mit Schlitzen oder Einkerbungen 5, in denen die schematisch angedeuteten Substrate 3 stehen. Da die Ausbildung der Substrat-Aufnahmevorrichtung 4 nicht Ge genstand der vorliegenden Erfindung ist, wird auf eine Erläuterung derselben verzichtet und insofern auf die be reits erwähnten DE 44 13 077 A1, die DE 195 46 990 A1 und die DE 196 15 108 A1 verwiesen.In the fluid container 1 there is a substrate receiving device 4 with slots or notches 5 , in which the schematically indicated substrates 3 are. Since the formation of the substrate receiving device 4 is not Ge object of the present invention, an explanation thereof is omitted and in this respect reference is made to the already mentioned DE 44 13 077 A1, DE 195 46 990 A1 and DE 196 15 108 A1.

Auf der Oberseite der Substrate 3 liegt eine Halteleiste 6 auf. Die Halteleiste 6 weist ebenfalls Ausnehmungen in Form von derben oder v-förmigen Einschnitten 7 auf, in denen die oberen Kanten der Substrate 3 gehalten sind. Die Halteleiste 6 gewährleistet einen sicheren Halt der Substrate 3 in aufrechter, paralleler Lage und verhindert die Berührung der Wafer auch bei großen Abmessungen und einer hohen Anziehungskraft durch Kapillarwirkung insbe sondere bei hoher Packungsdichte bzw. geringem Abstand.A holding strip 6 rests on the top of the substrates 3 . The holding strip 6 also has recesses in the form of coarse or V-shaped incisions 7 , in which the upper edges of the substrates 3 are held. The holding strip 6 ensures a secure hold of the substrates 3 in an upright, parallel position and prevents contact with the wafers even with large dimensions and a high attraction by capillary action, in particular with a high packing density or a short distance.

Bei der dargestellten Ausführungsform ist die Halteleiste 6 mit einem Schlitten 8 verbunden, der in oder auf einer Schiene 9 gleitet, die auf einer Innenseite 10 einer Fluidwand 11 des Fluid-Behälters 1 angebracht oder ausge bildet ist. Die Schiene 8 setzt sich in der Haube 2 in einem oberen Schienenabschnitt 12 fort, der entsprechend der Schiene 9 des Fluid-Behälters 1 ausgebildet ist.In the illustrated embodiment, the retaining strip 6 is connected to a carriage 8 which slides in or on a rail 9 which is attached or formed on an inner side 10 of a fluid wall 11 of the fluid container 1 . The rail 8 continues in the hood 2 in an upper rail section 12 which is designed in accordance with the rail 9 of the fluid container 1 .

Nach der Behandlung der Wafer 3 im Fluid-Behälter 1 wer den diese durch Anheben der Substrat-Aufnahmevorrichtung 4 zusammen mit der auf den Substraten 3 liegenden Halte leiste 6 zum Trocknen in die Haube 2 angehoben. Der mit der Halteleiste 6 fest verbundene Schlitten 8 gleitet da bei auf der Schiene 9 des Fluid-Behälters 1 und des obe ren Schienenabschnitts 12 in der Haube 2 nach oben und gibt den Substraten 3 auch während dieses Vorgangs einen sicheren Halt.After the treatment of the wafers 3 in the fluid container 1, who raised them by drying the substrate receiving device 4 together with the holding bar 6 lying on the substrates 3 for drying in the hood 2 . The carriage 8 fixedly connected to the holding bar 6 slides there when on the rail 9 of the fluid container 1 and the upper rail section 12 in the hood 2 and gives the substrates 3 a secure hold even during this process.

Nach Abschluß des Trocknungsvorgangs werden die Wafer in einen nicht dargestellten Waferträger oder -Carrier abge senkt, der sich im Behälter 1 befindet. Die Haube wird zusammen mit der sich am oberen Ende der Haube 2 befind lichen Halteleiste 6 seitlich verschoben, wie dies durch den Pfeil 13 angedeutet ist. Dadurch kommen die Wafer 3 sowohl von der Haube als auch von der Halteleiste 6 frei, so daß sie be- und entladen werden können.After completion of the drying process, the wafers are lowered abge in a wafer carrier or carrier, not shown, which is located in the container 1 . The hood is moved laterally with the retaining strip 6 located at the upper end of the hood 2 , as indicated by the arrow 13 . As a result, the wafers 3 come free from both the hood and the holding bar 6 , so that they can be loaded and unloaded.

Die Erfindung wurde zuvor anhand eines bevorzugten Aus führungsbeispiels erläutert. Dem Fachmann sind jedoch zahlreiche Abwandlungen und Ausgestaltungen möglich, ohne daß dadurch der Erfindungsgedanke verlassen wird. Bei spielsweise ist es möglich, lediglich in der Haube 2 eine Schiene zum Verschieben der Halteleiste 6 vorzusehen, wo bei der auf der Schiene 12 der Haube 2 gleitende Schlit ten 8 mit der Halteleiste 6 über ein Halteelement verbun den ist, das im geschlossenen Zustand der Haube soweit in den Fluid-Behälter 1 hineinragt, daß die Halteleiste 6 auch in der tiefsten Lage der Substrate 3 noch auf die sen aufliegt. Sehr vorteilhaft ist auch eine Ausführungs form insbesondere in Zusammenhang mit dem Trocknungsvor gang, bei der bzw. bei dem die Halteleiste nicht mit dem Behandlungs- bzw. Trocknungsfluid in Berührung kommt, sondern oberhalb der Fluidoberfläche wartet, bis sie die Substrate beim Herausheben aus dem Behandlungsfluid er greift und in ihren Lagen parallel zueinander hält.The invention was explained above using a preferred exemplary embodiment. However, numerous modifications and refinements are possible for the person skilled in the art without departing from the inventive idea. In example, it is possible to provide only a rail for moving the holding bar 6 in the hood 2 , where in the sliding on the rail 12 of the hood 2 sliding 8 with the holding bar 6 is connected via a holding element which is in the closed state of the Hood extends so far into the fluid container 1 that the retaining strip 6 still rests on the sen even in the deepest position of the substrates 3 . An embodiment is also very advantageous, in particular in connection with the drying process, in which the holding strip does not come into contact with the treatment or drying fluid, but waits above the fluid surface until it removes the substrates from the treatment fluid it grips and holds parallel to each other in their positions.

Eine weitere Ausführungsmöglichkeit besteht darin, die Halteleiste 6 unabhängig von der Bewegung der Substrat-Aufnahmevorrichtung 4 mittels einer eigenen Antriebsvor richtung, beispielsweise eines Schrittmotors in eine be liebige Lage zu bewegen. Auch können die Führungs- und Bewegungselemente zum Anheben und Absenken der Haltelei ste je nach den vorliegenden Gegebenheiten ausgebildet sein. Um die Strömungsverhältnisse im Fluid-Behälter 1 oder in der Haube 2 durch eine Schiene 9 oder 12 nicht nachteilig zu beeinflussen, ist auch eine Ausführungsform denkbar, bei der die Schiene in der Wandung des Fluid-Be hälters 1 integriert ist.A further possible embodiment is to move the holding strip 6 independently of the movement of the substrate holding device 4 by means of its own drive device, for example a stepping motor, in any position. The guide and movement elements for lifting and lowering the holding strip can also be designed depending on the circumstances. In order not to adversely affect the flow conditions in the fluid container 1 or in the hood 2 by a rail 9 or 12 , an embodiment is also conceivable in which the rail is integrated in the wall of the fluid loading container 1 .

Claims

1. Device for treating substrates ( 3 ) in egg nem fluid container ( 1 ), in which the substrates ( 3 ) spaced apart from each other can be used as packages, with a retaining strip ( 6 ) on the upper Randbe rich of the substrates ( 3 ) can be placed on it, characterized in that the holding strip ( 6 ) lies on the substrate ( 3 ) during at least part of the insertion and / or withdrawal process of the substrate ( 3 ).

2. Device according to claim 1, characterized in that the retaining strip ( 6 ) in a guide ( 9 ) can be pushed ver, which is provided in the fluid pool ( 1 ) and / or in a pool hood ( 2 ).

3. Device according to one of claims 1 or 2, characterized in that the weight and / or the material of the retaining strip ( 6 ) is chosen in accordance with the desired weight of the retaining strip ( 6 ) on the substrates ( 3 ).

4. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the retaining strip ( 6 ) extends across the width of the substrate package.

5. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the holding strip ( 6 ) on the substrates ( 3 ) facing side recesses gene ( 7 ) in which the substrate edges lie gene.

6. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the distances between the recesses ( 7 ) of the retaining strip ( 6 ) end corresponding to the intended distances between the substra th ( 3 ) are selected.

7. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the distances between the recesses ( 7 ) of the retaining strip ( 6 ) correspond to the distances between the slots ( 5 ) of a receiving device ( 4 ) and / or a substrate carrier, in which are the substrates ( 3 ).

8. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the holding bar ( 6 ) is associated with a drive device.

9. Device according to one of the preceding claims, characterized in that at least two holding strips ( 6 ) are provided which are spaced apart from one another and can be placed on upper edge regions of the substrates ( 3 ).

10. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the holding strip ( 6 ) does not rest on the substrates ( 3 ) when they are immersed in the treatment fluid.

11. The device according to claim 10, characterized in that the holding strip ( 6 ) is held at a predetermined distance above the surface of the treatment fluid and is raised by these when the substrates ( 3 ) are extended.

12. The apparatus according to claim 11, characterized in that the predetermined distance between the upper surface of the treatment fluid and the retaining strip ( 6 ) is 3 to 20 mm.

13. A method for treating substrates ( 3 ) in a fluid container ( 1 ), in which the substrates ( 3 ) are used spaced apart from one another as packages, where a holding strip ( 6 ) on the upper edge region of the substrates ( 3 ) is placed, characterized in that the holding strip ( 6 ) is placed on the substrates ( 3 ) during at least part of the retracting and / or extending process.

14. The method according to claim 13, characterized by the following method steps:

a) inserting the substrates ( 3 ) into the fluid container ( 1 );
b) treating the substrates ( 3 ) in the fluid container ( 1 );
c) lifting the substrates ( 3 ) from the fluid container ( 1 );
d) placing a retaining strip ( 6 ) on the upper edge regions of the substrates ( 3 ) and which already protrude from the treatment fluid
e) further lifting of the substrates ( 3 ) together with the holding bar ( 6 ).

15. The method according to claim 14, characterized in that the placement of the holding strip according to step d) takes place while the substrates ( 3 ) are raised while the holding strip is waiting.

16. The method according to any one of claims 13 to 15, characterized in that the retaining strip ( 6 ) is removed from the substrates ( 3 ) when these are held by guides which are formed in a hood.

17. The method according to any one of claims 13 to 16, characterized in that the retaining strip ( 6 ) rests on the fluid container ( 1 ) when the substrates ( 3 ) are inserted into the latter.

18. The method according to any one of claims 13 to 16, characterized in that the substrates ( 3 ) are used together with a substrate carrier in the fluid container ( 1 ).