DE1958486C - Process for the production of screens with several phosphorescent layers - Google Patents
Process for the production of screens with several phosphorescent layersInfo
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Description
tischen Abscheidung einer jeden Schicht eine gäbe von Farbbildern.table deposition of each layer would provide color images.
dünne, elektrisch leitende, transparente Hilfs- 15 Es hat sich herausgestellt, daß Kathodenstrahlröh-thin, electrically conductive, transparent auxiliary 15 It has been found that cathode ray tubes
schicht (12, 16, 20) aufgebracht wird, die wäh- ren zur Wiedergabe von Farbbildern besonders gün-layer (12, 16, 20) is applied, which would be particularly beneficial for reproducing color images
rend des jeweiligen elektrophoretischen Abschei- säge Eigenschaften aufweisen, wenn sie in Verbin-end of the respective electrophoretic deposition saw have properties if they are used in conjunction
durigsvori?anges als Elektrode dient. dung mit Bildschirmen betrieben werden, die meh-durigsvori? ans serves as an electrode. can be operated with screens that have multiple
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- rere, sich einander überlagernde phosphoreszierende kennzeichnet, daß auf die gereinigte Oberfläche ao Schichten besitzen. Derartige Schirme weisen meist einer als Schirmsubstrat dienenden Glasplatte drei Schichten verschiedener Farbe auf und besitzen (10) eine erste Hilfsschicht (12) aus antimon- gegenüber den bekannten Bildschirmen mit streifendotiertem Zinnoxyd mit einer Stärke von etwa oder punktförmigen phosphoreszierenden Belegun-5000 A aufgebracht wird, daß auf dieser Schicht gen eine Reihe von Vorteilen. Diese Vorteile beste (12) als erste, grün phospnoreszierende Leucht- 25 hen auch gegenüber Anordnungen zur Wiedergabe schicht (14) eine silberaktivierte Zink-Kadmium- von Farbbildern, die mit einer Kathodenstrahlröhre sulfidschicht mit einer Stärke von 1μ±Ιμ in Verbindung mit abschattenden Masken arbeiten, elektrophoretisch abgeschieder, wird, daß auf die- Die Vorteile bestehen in einem besseren Auflösungsser Schich· (14) eine zweite Hilfsschicht (16) aus vermögen, in einem höheren Kontrast sowie auch be-Indiumoxyd mit einer Stärke zwischen 400 A und 30 sonders darin, daß zum Betrieb des Kathodenstrahl-500 A aufgebracht und auf dieser Schicht (16) rohres lediglich ein einziges Elektronenerzeugungssyeino zweite, blau phosphoreszierende Leucht- stern erforderlich ist.2. The method according to claim 1, characterized in that ge rere, superimposed phosphorescent indicates that ao have layers on the cleaned surface. Such umbrellas usually have a glass plate serving as a screen substrate and have three layers of different colors (10) a first auxiliary layer (12) made of antimony compared to the known screens with strip-doped Tin oxide with a thickness of about or punctiform phosphorescent coating-5000 A is applied that on this layer genes a number of advantages. These advantages are best (12) as the first, green phosphorescent lights 25 also opposite arrangements for reproduction layer (14) a silver-activated zinc-cadmium from color images taken with a cathode ray tube sulfide layer with a thickness of 1μ ± Ιμ work in conjunction with shading masks, deposited electrophoretically, that on the- The advantages consist in a better dissolution ser Layer (14) a second auxiliary layer (16) made of property, in a higher contrast, as well as be-indium oxide with a strength between 400 A and 30 special in that to operate the cathode ray 500 A is applied and on this layer (16) tube only a single electron generation syeino second, blue phosphorescent luminous star is required.
schicht (18) aus silberaktivLrtem Zinksulfid mit E% gibt eine Reihe von bekannten Verfahren zurLayer (18) made of silver-active zinc sulfide with E% are a number of known methods
einer Stärke von 2 μ ±0,5 μ elektrophoretisch Herstellung von Kathodenstrahlrohrschirmen mita thickness of 2 μ ± 0.5 μ electrophoretically manufacture of cathode ray tube screens with
abgeschieden wird, daß auf die Schicht (18) eine 35 mehreren zusammenhängenden, einander überdek-is deposited that on the layer (18) a 35 several contiguous, overlapping one another
drkte, 400A bis 500 A starke Hilfsschicht (20) kenden, phosphoreszierenden Schichten. Soll sich dasDrkte, 400 A to 500 A thick auxiliary layer (20) kenden, phosphorescent layers. Should that be
aus Indiumoxyd aufgebracht und auf dieser Kathodenstrahlrohr auch für A !Wendungen mit einermade of indium oxide and on this cathode ray tube also for A ! turns with a
Schlicht (20) als rot phosphoreszierende Leucht- hohen Strahldichte eignen, wie das beispielsweise fürPlain (20) suitable as a red phosphorescent luminous high radiance, such as that for
schicht (22) eine 2μ±Ο,5μ starke europiumak- Kathodenstrahlrohranzeigevorrichtungen für Zahlenlayer (22) a 2μ ± Ο, 5μ thick europiumak cathode ray tube indicators for numbers
tivierte Schicht aus Yttriumvandanat oder ius 40 und Vektoren in Datenverarbeitungsanlagen der FaIiactivated layer of yttrium vandanate or ius 40 and vectors in data processing systems from FaIi
einem anderen ein seltenes Erdelement enthalten- ist, so zeigt sich, daß die bisherigen Schirmanordnun-a rare earth element is contained in another one, it turns out that the previous screen arrangements
dern roten Phosphor elektrophoretisch abgeschie- gen bzw. deren Herstellungsverfahren nicht völlig be-the red phosphorus deposited electrophoretically or its manufacturing process is not completely
den und daß schließlich die so erhaltene mehr- friedigen.den and that finally the so obtained more peaceful.
schichtige Struktur zum Schutz gegen schädlichen Eines der bekannten Verfahren zur Herstellunglayered structure for protection against harmful One of the known methods of manufacture
Ionenbeschuß in an sich bekannter Weise mit 45 von Kathodenstrahlrohrschirmen mit mehreren phos-Ion bombardment in a manner known per se with 45 cathode ray tube screens with several phos-
eincr etwa 1000 A starken Schutzschicht aus Alu- phoreszierenden Schichten ist unter dem Namen Se-A protective layer of about 1000 A made of aluminum-fluorescent layers is available under the name Se-
minium versehen wird. dimentations verfall ren bekannt. Bei diesem Verfah-minium is provided. dimentations decay ren known. In this process
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch ge- ren wird ein geeignetes Phosphorsilikat in einer Lökennzeichnet, daß die erste Hilfsschicht (12) auf sung ausgefällt, und diese ausgefällten Teilchen werchemischem Wege durch Aufsprühen einer Mi- 50 den unter der Wirkung der Schwerkraft durch Sedischung aus Zinnchlorid, Methanol und S Ge- mentation auf dem Schirmsubstrat abgeschieden, wichtsprozent Antimontrichlorid auf das etwa auf Dieses Verfahren wird beispielsweise beschrieben in 42VC erhitzte Substrat, die Hilfsschichten (16) der USA.-Patentschrift 3 231 775. Die genannte Pa- und (20) jedoch mittels eines Hochvakuumauf- tentschrift beschreibt auch ein weiteres bekanntes dampfverfahrcns hergestellt werden. 55 Verfahren, bei dem die Aufbringung der Phosphores-3. The method according to claim 2, characterized in that a suitable phosphorus silicate is identified in a that the first auxiliary layer (12) precipitated on solution, and these precipitated particles werchemischem Paths by spraying a medium under the action of gravity through sedimentation deposited from tin chloride, methanol and S mentation on the screen substrate, percent by weight of antimony trichloride based on this method is described, for example, in 42VC heated substrate, the auxiliary layers (16) of the USA. Patent 3 231 775. The said Pa- and (20), however, by means of a high-vacuum publication, also describes another known one steam processes are produced. 55 Process in which the application of the phosphor
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gc- zenzschichten auf dem Kathodenstrahlrohrschirm kennzeichnet, daß sämtliche Hilfsschichten im durch ein Hochvakuumdamp.'verfahren bewirkt wird. Hochvakuum aufgedampft und erst nach ihrer Andere Verfahren benutzen das Aufsprühen der Benutzung als Elektrode beim Abscheiden der . Schirmsubstanzen bzw. ein Abscheidungsverfahren zugehörigen Leuchtschicht aus ihrem metallisch 60 dieser Substanzen aus deren Dämpfen. Alle diese leitenden in den transparenten Zustand überführt Verfahren besitzen jedoch gewisse Nachteile, werden. Ein Nachteil der Sedimentationsverfahren besteht4. The method according to claim 1, characterized in that there are gcenzschichten on the cathode ray tube screen indicates that all auxiliary layers are produced by a high vacuum vapor process. High vacuum vaporized and only after their other methods use spraying Use as an electrode when depositing the. Screening substances or a deposition process associated luminous layer from their metallic 60 of these substances from their vapors. All these conductive to the transparent state, however, have certain disadvantages, will. There is a disadvantage to the sedimentation process
5. Verfahren nach einem der Ansprüche I darin, daß lediglich Schirme mit verhältnismäßig bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamt- grober Körnung hergestellt werden können, die keine stärke aller auf dem Substrat (10) aufgebrachten 65 ausreichende Gleichförmigkeit bezüglich ihrer Dicke Schichten gleich oder kleiner als Ι0μ gemacht aufweisen. Daraus resultiert eine ungenügende Bildwird, derart, daß die phosphoreszierenden auflösung, ein geringer Kontrast sowie eine schlechte Schichten bei einer Elektronenbcschleunigungs- Farbqualität. Das Sedimentationsverfahren zur Her-5. The method according to any one of claims I in that only screens with relatively to 4, characterized in that the overall coarse grain size can be produced, none strength of all 65 applied to the substrate (10) sufficient uniformity in terms of their thickness Have layers made equal to or smaller than Ι0μ. This results in an inadequate picture, such that the phosphorescent resolution, a low contrast as well as a bad one Layers at an electron accelerating color quality. The sedimentation process to produce
stellung mehrschichtiger Schinne für Kathodenstrahl- wünschte Auflösungsvermögen. Außerdem ist hier rohre weist auch keine genügend große lumineszente ebenfalls die Schichtdicke nicht gleichmäßig, so daß Leuchtkraft auf, wie sie für den Betrieb von Katho- sich eine relativ große mi Here Dicke ergibt, denstrahlröhren zur Darstellung von Farbbildern er- Durch die USA.-Patentschrift 2 851 408 ist es beforderlich ist, die in Räumen mit ziemlich hoher Be- 5 kannt, zwecks Herstellung einer sehr dünnen und leuchtungsstärke betrieben werfen sollen. Dies ist gleichmäßigen Leuchtstoffschicht auf einem Träger, darauf ζ niickzuführen, daß die inhärertte Effektivität diesen mit einer leitFähigen Schicht zu versehen und des Phosphor normalerweise wegen der erfolgten darauf elektrophoretisch die Leuchtstoffschicht zu ausgiebigen Zerkleinerung des Phosphors durch bilden. Es ist dort jedoch nicht gezeigt, wie zur Herivfahlen stark reJuziert erscheint. Die Zerkleinerung io stellung von Bildschirmen für Farbbildwiedergabe erfolgt zu dem Zweck, ein hohes Auflösungsvermö- verschiedene Materialien auf dem Träger aufgebracht gen zu erhalten. Weiterhin erfordern Schirme mit werfen können.Positioning of multi-layer channels for cathode ray desired resolution. Besides, here is tubes also does not have a sufficiently large luminescent layer, so that the layer thickness is not uniform Luminosity on how it results for the operation of Katho- a relatively large mi Here thickness, The beam tubes for the display of color images. By the USA should throw luminosity operated. This is uniform layer of phosphor on a support, to the fact that the inherent effectiveness is to provide this with a conductive layer and of phosphorus normally because of the electrophoretically applied to the phosphor layer extensive crushing of the phosphorus through form. It is not shown there, however, how strongly reduced to Herivfahlen appears. The shredding io position of screens for color display takes place for the purpose of a high resolution - different materials are applied to the carrier gen to get. They also require you to be able to throw umbrellas.
mehreren Schichten verhältnismäßig großer Körnung Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufhohe Beschleunigungsspannungen für den anregen- gäbe zugrunde, ein gegenüber den bekannten verbesden Kathodenstrahl, weshalb die Ablenkempfindlich- 15 series Verfahren zur Hersteilung von mehrschichtigen keit des Strahles entsprechend gering ist Schließkeil Lumrneszenzschirmen für Kathodenstrahlröhren zur ivt infolge der Ungleichförmigkeit der Phosphor- Wiedergabe farbiger Bilder anzugeben, das die obenst hichten im allgemeinen weniger als die Hälfte der genannten Schwierigkeiten nicht aufweist und dem S<.hornoberfläche zur Darstellung von Figuren hoher ein Kathodenstrahlrohr mit njr einem Elektronen-Dichte verfügbar. 20 erzeugungssystem zugrunde liegt. Der aus mehreren Die durch Niederschlag aus der Dampfphase er- Lumineszenzschichten hergestellte Schirm soll ein /rügten Phosphorschichten haben den Nachteil eines hohes Auflösungsvermögen, einen guten Kontrast j-eringtn Wirkungsgrades der Lumineszenzschicht bei und allgemein eine gute Bildqualität aufweisen. Weiverhältnismäßig geringem Bildkontrast unter den Be- terhin soll die Dicke der einzelnen Schichten des vimgungen einer nicht niedrig gehaltenen Umge- as mehrschichtigen Lumineszenzschirmes innerhalb ausb'.ingsbeleuchtungsstärke. Weiterhin beschränken die reichender Toleranzen steuerbar sein. fiir diese Herstellungsart erforderlichen thermischen Diese Aufgabe wird bei dem anfangs genannten Verfahrensschritte diese Schirmtypen auf Substrat- Verfahren erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die materialien wie Quarz. Die zur Aktivierung eriorder- Phosphorartikeln der einzelnen Leuchtschichten in liehen hohen Temperaturen bergen die Gefahr einer 30 an sich bekannter Weise elektrophoretisch auf dem chemischen Reaktion der Phosphorschichten unter- Schirmsubstrat abgeschieden werden und daß vor einander. Aufsprühverfahren weisei· schließlich ahn- dieser elektrophoretischen Abscheidung einer jeden liciie Nachteile auf. Insgesamt kann somit gesagt wer- Schicht eine dünne, elektrisch leitende, transparente den, daß die vorstehend genannten Herstellungsver- Hilfsschicht aufgebracht wird, die während des jeweifahren für Leuchtschinnschichten für Kathoden- 35 ligen elektrophoretischen Abscheidun-rsvorganges als strahlröhren zur Wiedergabe von Farbbildern große Elektrode dient.several layers of relatively large grain size The present invention is therefore based on the increase in acceleration voltages for the excitation, a compared to the known verbesden cathode ray, which is why the deflection-sensitive process for the production of multilayered speed of the beam is correspondingly low, locking wedge luminescent screens for cathode ray tubes ivt, due to the non-uniformity of the phosphor reproduction of colored images, to indicate that the above hues generally do not have less than half of the difficulties mentioned and that S <.horn surface for the representation of figures higher a cathode ray tube with njr one electron density available. 20 generation system is based. The one out of several The screen produced by precipitation from the vapor phase luminescent layers should be a Rejected phosphor layers have the disadvantage of high resolution and good contrast j-eringtn efficiency of the luminescent layer and generally have a good image quality. Because of the relatively low image contrast among the berries, the thickness of the individual layers should be Vimgungen a not kept low environment as multi-layer luminescent screen within the illuminance level. Furthermore, limit the range of tolerances to be controllable. thermal required for this type of production Method steps these screen types on substrate method according to the invention achieved in that the materials such as quartz. The phosphor articles required for activation of the individual luminous layers in borrowed high temperatures harbor the risk of a known manner electrophoretically on the chemical reaction of the phosphor layers are deposited under the screen substrate and that before each other. The spray-on process ultimately resembles this electrophoretic deposition of each liciie disadvantages. Overall, the layer can thus be said to be a thin, electrically conductive, transparent layer the fact that the aforementioned production auxiliary layer is applied, which during the respective process for luminous film layers for cathode 35 ligen electrophoretic deposition process as Radiation tubes for reproducing color images large electrode is used.
Stärke der verschiedenen Phosphorschichten aufwei- Herstellung von Bildschirmen für Kathodenstrahlröhsen. ren, die graphische Darstellungen hoher Dichte er-Thickness of the various phosphor layers on the production of screens for cathode ray tubes. that create high-density graphical representations
IZs sind we.terhin durch die französischen Patent- 40 möglichen sollen. Fernerhin eignet sich das Verfahschriften I 121 286 und 1 130 176 Verfahren zur ren auch zur Herstellung von Schirmen großer Flä-Herstellung von phosphoreszierenden Schichten bei chenabmessungen.IZs are still supposed to be possible through the French patent 40. Furthermore, the procedures I 121 286 and 1 130 176 are also suitable for the production of screens with large areas. Production of phosphorescent layers with area dimensions.
bildern bekannt, bei denen sehr fein verteilte, gela- in Verbindung mit den Figuren näher erläutert. In dene Leuchtstoffteilchen auf einer transparenten 45 diesen bedeutetpictures known, in which very finely distributed, gela- explained in more detail in connection with the figures. In dene fluorescent particles on a transparent 45 means
ser Verfahren werden die Teilchen durch eine gitter- nach der !.ehre der vorliegenden Erfindung in einförmige Elektrode beschleunigt und gelangen so auf zelne Verfahrensschritte,In this process, the particles are accelerated by a lattice according to the principles of the present invention into a uniform electrode and thus arrive at individual process steps,
eine mit einem Haftmittel versehene Unterlage. F i g. 2 eine vergrößerte partielle Querschnittsdar-a pad provided with an adhesive. F i g. 2 is an enlarged partial cross-sectional view
Durch die Struktur der Elektrode bedingt, ist die & stellung durch einen nach der Lehre der vorliegenden niedergeschlagene phosphoreszierende Schicht in ih- Erfindung hergestellten lumineszierend™ Bildschirm rer Dicke sehr ungleichmäßig. Dieser unerwünschte undDue to the structure of the electrode due to the position & rer by prepared according to the teachings of the present precipitated in phosphorescent layer IH invention ™ luminescent screen thickness is very uneven. This undesirable and
ben der Elektrode während des Aufwachsvorganges; keit der Schichtstärke einer Schirmschicht von der er läßt sich jedoch nicht vermeiden. Für die Wieder- 55 Zeit, übe' welche diese Schicht bei einer Feldstarke gäbe von Farbbildern können verschiedene phospho- von 50 V/cm durch Elektrophorese abgeschieden reszierende Materialien nacheinander niedergeschla- wird.ben the electrode during the growth process; ability of the layer thickness of a shielding layer from the however, it cannot be avoided. For the next time, practice this shift when the field is strong If there were color images, different phospho- of 50 V / cm can be deposited by electrophoresis resecting materials is deposited one after the other.
gen werfen. Da auch hier die einzelnen Schichten in Zur Herstellung eines Flunrebzenzschirmes nachthrow gen. Because here too the individual layers in For the production of a fluorescent screen
sich eine unterschiedliche Dicke aufweisen, erhält . der Lehre der vorliegenden Erfindung wird zunächst man bei der Verwendung eines solcherart hergestell- 60 ein transparentes Substrat 10, z. B. eine Glasplatte ten Schirmes Farbverzerrungen. Auch sind diese (Fig. 2), gereinigt, bis eine sogenannte »elektrisch Schichten für eine gegebene Spannung der Kathoden- saubere« Oberfläche vorliegt. Bei dem im folgenden strahlröhre oftmals zu dick. Bei dem zweiten Verfah- geschilderten bevorzugten Ausführungsbeispiel ren werfen die verschiedenen fluoreszierenden Mate- wurde eine Standardweichglasplatte als Substrat tür rialien nebeneinander niedergeschlagen. Die Vertei- 65 den zu erstellenden Bildschirm benutzt. Zur Reinilung dieser Materialien wird durch ein netzartiges gung wird die Substratobcrftächc zunächst nut Elektrodensystem bestimmt. Ein auf diese Weise her- Detergentien behandelt und mit einer wabrigen gestellter Bildschirm besitzt häufig nicht das ge- Chromsäurelösung benetzt. Daran sehlieLU sich einehave a different thickness is obtained. the teaching of the present invention is first when using such a manufactured 60 a transparent substrate 10, for. B. a glass plate ten screen color distortion. Also these (Fig. 2) are cleaned until a so-called »electric Layers for a given voltage of the cathode-clean «surface is present. In the following tube often too thick. In the second preferred exemplary embodiment outlined in the method Ren throw the various fluorescent mate- rials using a standard soft glass plate as the substrate door rials knocked down next to each other. The screen uses the 65 screen to be created. To clean these materials, the substrate surface is first grooved by means of a net-like cleaning process Electrode system determined. One treated in this way- detergents and treated with a honeycomb The screen provided often does not have the wetted chromic acid solution. That’s something you want to see
weitere Behandlung mil Ammoniumbifluorid und mit reinem Wasser an. Das Substrat wird dann.in einer reinen Atmosphäre getrocknet.further treatment with ammonium bifluoride and with pure water. The substrate is then dried in a clean atmosphere.
Nunmehr wird zur Herstellung des mehrschichtigen Bildschirmes das Glassubstrat 10 zunächst mit einer dünnen, transparenten, leitenden Schicht bedeckt, für welche in dem bevorzugten Ausführungsbeispiel Zinnoxyd benutzt wurde. Die dünne, transparente, leitende Schicht 12 (F i g. 2) wird in folgender Weise auf das Substrat aufgebracht: Zunächst wird eine Mischung aus Zinnchlorid und Methanol und aus einer Anümontrichloridlösung mit einem Anteil von 5 Gewichtsprozent vorbereitet. Das Substrat 10 wird dann mittels irgendeines bekannten Verfahrens auf etwa 425" erhitzt und dann die vorbereitete Lösung bei Anwesenheit einer Wasserdampfatmosphäre auf dieses aufgesprüht. Man erhält so durch eine chemische Abscheidung eine dünne Zinnoxydschicht. Dieses Abscheidungsverfahren und die hierbei auftretenden chemischen Reaktionen sind im einzelnen beschrieben in der USA.-Patentschrift 2 732 313. Die so erhaltene transparente, leitende Schicht 12 besteht aus mit Antimon dotiertem Zinnoxyd. Die Antimondoticrung hat den Zweck, das Durchlaßvermögen für Lichtstrahlen vom Bereich des nahen Infrarot in den sichtbaren Bereich zu verschieben und gleichzeitig den Leitfähigkeitsgrad der Schicht zu erhöhen. Die vorzugsweise eingehaltene Stärke der Schicht 12 liegt etwa bei 50Of) A und wird durch Widerstandsmessungen während der chemischen Herstellung geprüft bzw gesteuert, wie es in der Technik an sich bekannt ist. Im vorliegenden Beispiel besitzt die Zinnoxydschicht einen Flächenwiderstand von 30 b!s 40 il sowie ein Transmissionsvermögen im sichtbaren Bereich von etwa 8O°/o. Nach Aufbringung der Zinnoxydschicht 12 wird der Schirm mit einem Detergentium gewaschen, mit Chromsäure benetzt und schließlich mit Wasser gewaschen.To produce the multilayer screen, the glass substrate 10 is now first covered with a thin, transparent, conductive layer, for which tin oxide was used in the preferred embodiment. The thin, transparent, conductive layer 12 (FIG. 2) is applied to the substrate in the following way: First, a mixture of tin chloride and methanol and an ammonium trichloride solution with a proportion of 5 percent by weight is prepared. The substrate 10 is then heated to about 425 "by any known method and then the prepared solution is sprayed onto it in the presence of a water vapor atmosphere. A thin tin oxide layer is thus obtained by chemical deposition. This deposition method and the chemical reactions that occur are described in detail in U.S. Patent 2,732,313, the transparent conductive layer 12 thus obtained consists of tin oxide doped with antimony The purpose of the antimony coating is to shift the permeability of light rays from the near infrared to the visible range and at the same time the degree of conductivity The thickness of the layer 12, which is preferably maintained, is approximately 50Of) A and is checked or controlled by resistance measurements during chemical production, as is known in the art. In the present example, the tin oxide layer has a surface width rstand of 30 b ! s 40 il and a transmittance in the visible range of about 80%. After the application of the tin oxide layer 12, the screen is washed with a detergent, wetted with chromic acid and finally washed with water.
In Übereinstimmung mit dem vorliegenden bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nunmehr eine silberaktivierte Zink-Kadmium-Sulfid-Schicht als erste Phosphorschicht mit einer Dicke von 4 μ + 1 μ mittels Elektrophorese aufgebracht. Hierzu wird die folgende Suspension vorbereitet. I-inc Aufschlämmung feiner Partikeln des benutzten Phosphors mit einem Durchmesser von I bis 2|i werden 5 0Ze Wasser enthaltendem Äthylalkohol suspendiert und \0* Mol/Liter Thoriumnitrat hinzugegeben. Hierbei wild vorzugsweise ein Mengenverhältnis von etwa 3,5 mg Phosphor auf 1 ml Flußmittel verwendet. Die Suspension wird durch Mischung der genannten Ingredienzien hergestellt. Das intensive Mischen dauert etwa 30 Minuten und wird mittels eines Mahlverfahrens, durch Röhren »der durch Vibration bewerkstelligt. Es ist wichtig, darauf zu achten, daß die Dielektrizitätskonstante des Bindemittels etwa bei 30 liegt, da hierdurch eine verhältnismäßig hohe Beweglichkeit der geladenen Phosphorpartikcl innerhalb des Bindemittels sichergestellt wird, st« daß man bei der Durchführung der Elektrophorese mit einer verhältnismäßig niedrigen Feldstärke auskommt.In accordance with the present preferred exemplary embodiment of the invention, a silver-activated zinc-cadmium-sulfide layer is now applied as a first phosphor layer with a thickness of 4 μ + 1 μ by means of electrophoresis. The following suspension is prepared for this. I-inc slurry of fine particles of the phosphor used with a diameter of 1 to 2 | i, ethyl alcohol containing 5 0 Ze water is suspended and \ 0 * mol / liter thorium nitrate is added. A ratio of about 3.5 mg of phosphorus to 1 ml of flux is preferably used here. The suspension is produced by mixing the ingredients mentioned. The intensive mixing takes about 30 minutes and is accomplished by means of a grinding process through tubes or vibrations. It is important to ensure that the dielectric constant of the binding agent is around 30, since this ensures a relatively high mobility of the charged phosphor particles within the binding agent, so that when performing the electrophoresis one can manage with a relatively low field strength.
F im: Phosphorschicht 14 mil einer nach Aktivierung sich einstellenden grünen Farbe wird elektrophoretisch auf der leitenden Schicht des Schirms niedergeschlagen, indem zunächst die oben bcschricfovnc Suspensinn in einen geeigneten, in der Zeichnung nicht darpestvtltcn Behälter mit einer darin Iwfindlichen Elektrode eingegeben wird. Zur Durchführung der Elektrophorese wird in dem bevorzugten Ausfuhrungsbeispiel das beschichtete Substrat 10 mit dem negativen Pol einer Gleichstromquelle und eineF im: phosphor layer 14 with one after activation The resulting green color is electrophoretically applied to the conductive layer of the screen dejected by first the above bcschricfovnc Suspense sense in a suitable one, in the drawing not darpestvtltcn container with one inside Electrode is entered. To carry out the electrophoresis, in the preferred Exemplary embodiment, the coated substrate 10 with the negative pole of a direct current source and a
Platinelektrode mit dem positiven Pol dieser Quelle verbunden. Die Platinelektrode liegt vorzugsweise 2 cm von der Zinnoxydschicht 12 entfernt. Ein Feld von etwa 50 V/cm wird mittels der Elektroden aufrechterhalten. Hier sei bemerkt, daß die Dicke derPlatinum electrode connected to the positive pole of this source. The platinum electrode is preferably located 2 cm from the tin oxide layer 12. A field of about 50 V / cm is created by means of the electrodes maintain. It should be noted here that the thickness of the
ίο Phosphorschicht 14 von außerordentlicher Wichtigkeit für die erfolgreiche Herstellung von mehrschichtigen Schirmen für Kathodenstrahlröhren ist. Hierzu sei auf das Diagramm in F i g. 3 hingewiesen, dessen Kurve die Verknüpfung der drei Parameter wieder-ίο phosphor layer 14 of extreme importance for the successful manufacture of multilayer cathode ray tube screens. For this let us refer to the diagram in FIG. 3, the curve of which represents the link between the three parameters.
iS gibt, welche eine wirksame Steuerung der Dicke der elektrophoretisch herzustellenden Phosphorschicht 14 ermöglichen. Diese Parameter sind die Zeit, die Feldstärke und die Konzentration der benutzten Suspension. Es sei bemerkt, daß für die oben beschrie-iS gives which effective control of the thickness of the Enable electrophoretically produced phosphor layer 14. These parameters are the time that Field strength and the concentration of the suspension used. It should be noted that for the
ao bene Suspension bei einer Feldstärke von 50 V/cm der Niederschlag einer 4 μ starken Phosphorschicht 14 auf dem mit der Zwischenschicht versehenen Substrat etwa 1,5 Min. in Anspruch nimmt. Aus später noch zu erklärenden Gründen ist es günstig, eineao bene suspension at a field strength of 50 V / cm the precipitation of a 4 μ thick phosphor layer 14 on the substrate provided with the intermediate layer takes about 1.5 minutes. From later For reasons yet to be explained, it is beneficial to have a
as Dicke der Phosphorschicht 14 zwischen 3 und 5 p zu wählen.The thickness of the phosphor layer 14 is between 3 and 5 p to choose.
Nac.dem die erste Phosphorschicht 14 in der beschriebenen Weise elektrophoretisch auf der ersten dünnen, leitenden, transparenten Zwischenschicht 12After the first phosphor layer 14 in the described Electrophoretically on the first thin, conductive, transparent intermediate layer 12
aus Zinnoxyd abgeschieden ist, wird eine zweite transparente, leitende Zwischenschicht 16 mit einer Dicke in einem Bereich von 400 A bis 500 A aufgebracht. Bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel besteht die Schicht 16 aus Indiumoxyd und wird mittelsis deposited from tin oxide, a second transparent, conductive intermediate layer 16 with a Thickness in a range from 400 A to 500 A is applied. In the preferred embodiment, there is the layer 16 made of indium oxide and is by means of
eines Vakuumaufdampfverfahrens aufgebracht. Zu diesem Zweck wird das Substrat 10 mit den bereits darauf befindlichen Schichten 12 und 14 in einen Vakuumbehälter gebracht und auf eine Temperatur von etwa 350' Γ aufgeheizt. In der Vakuumkammer bc-a vacuum evaporation process applied. For this purpose, the substrate 10 with the already layers 12 and 14 located thereon in a vacuum container and brought to a temperature of heated to about 350 'Γ. In the vacuum chamber bc-
findet sich ein Heizfaden aus Indium. Um die für die Bildung des Indiumoxyds erforderliche Wasserdampf- und Sauerstoffatmosphäre sicherzustellen, wird Sauerstoff und Wasserdampf in dosierter Weise in die Kammer eingegeben, und gleichzeitig wird In-there is an indium filament. To the for the To ensure the formation of the indium oxide required water vapor and oxygen atmosphere, oxygen and water vapor are introduced into the chamber in a metered manner, and at the same time, in-
dium von dem Heizfaden hinweg verdampft. Die verschiedenen Dämpfe reagieren in einer für den Fachmann bekannten Weise miteinander, wodurch eine dünne Indiumoxydschicht 16 oberhalb der ersten Phosphorschicht 14 zustande kommt.evaporated away from the filament. The various vapors react in one for the expert known manner with each other, creating a thin indium oxide layer 16 above the first Phosphor layer 14 comes about.
Der Prozeß wird so gesteuert, daß die Schichtstärke in der bereits oben genannten Größenordnung
von 400 A bis 500 A liegt, wobei dieser Wert aus später noch zu erklärenden Gründen gewählt wird.
Unerwarteterweise wurde herausgefunden, daßThe process is controlled in such a way that the layer thickness is in the order of magnitude of 400 A to 500 A already mentioned above, this value being chosen for reasons to be explained later.
It was unexpectedly found that
SS nunmehr eine zweite Phosphorschicht 18 auf das Substrat 10, und zwar oberhalb der transparenten leitenden Zwischenschicht 16 in einer Weise aufgebracht werden kann, die eine sehr sorgfältige Steuerung gestattet, wobei die Hilfsschicht 16 als Elektrodc für die elektrophorctrsche Aufbringung der nächsten Schicht benutzt wird. Bei dem vorzugsweise beschriebenen Ausführungsbetspiel wird eine mit SiI-'έτ aktivierte Zink-Sulfidschicht (Mauer Phosphor) durch Elektrophorese in der folgenden Weise nieder-A second phosphor layer 18 can now be applied to the substrate 10 above the transparent conductive intermediate layer 16 in a manner that allows very careful control, the auxiliary layer 16 being used as an electrode for the electrophoretic application of the next layer. In the preferred embodiment described, a zinc sulfide layer (wall phosphorus) activated with SiI- 'έτ is deposited by electrophoresis in the following way
5s geschlagen. Das die Zinnbxydschicht 12, die Schicht 14 aus grünem Phosphor und die Schicht 16 aus Indhtmnxyd tragende Substrat 10 wird wiederum in einen Behälter eingebracht, in dem ein mit Silber ak-Beaten 5s. That the tin oxide layer 12, the layer 14 of green phosphorus and the layer 16 of indhtmnxyd The supporting substrate 10 is in turn placed in a container in which a silver-coated
.ion enthalten ist, die in der B»^L2Sb?w gleichen Konzentrationen wie oben beschneben,vor bereitet wurde. Die Phosphorschicht 18 wird elektro phoretisch oberhalb der zwei ten Ie.J»*« "1JJgJ Schicht 16 unter Benutzung einer Elektrode, autge .ion is contained, which in the B »^ L2Sb? w the same concentrations as described above, was prepared before. The phosphor layer 18 is electrophoretically above the second Ie.J "*"" 1 JJgJ layer 16 using an electrode, autge
bracht, welche etwa 2 cm von derz.u^f.a"^n£ Schirmfläche Entfernt ist Hierzu,wird w.ederum eine Feldstärke von etwa 50 V/cm benotetbrought, which about 2 cm from derz . u ^ f. a "^ n £ screen area is removed For this purpose, a field strength of about 50 V / cm is graded
Die Stärke der blauen Pho^orsc™, "Γ sorgfältig innerhalb eines Bereiches von 2μ±0.5μThe strength of the blue P ho ^ orsc ™, "Γ carefully within a range of 2μ ± 0.5μ
gesteuert. ... iA ■ controlled. ... iA ■
8 In dem bevorzugten Ausfuhrungsbeip.elw.rdeme 8 In the preferred embodiment example, elw.rdeme
weitere Indiumoxydschicht 20 oberhalb der blauen Phosphorschicht 18 in der ^SnAeA further indium oxide layer 20 above the blue phosphor layer 18 in the ^ SnAeA
bracht, wie es °^»'»Jl^^^^ie ScwSt umoxydschicht 16 beschrieben wurde.^«f« Jf111C™ 20 besitzt ebenfalls vorzugsweise eine Starte von 400 A bis 500 A und dienlt gl«cM««J *X] " für den anschließend d««'«»^ retischen Niederschlagsprozeß · J JJ dritte-Phosphorschicht aus ™* Europium aWmej Yttriumvandanit (oder ein "!f'^P^Jf^e es Durchdri= g^S^S^SSS S^ ^ Anzeige von numerischen Werten hoher g£h*ur^er vo* graphischen Darstellungen, da die ^nte h°ae chichteifa^fGrUnd ihrer präzisen, gleich-Bracht, as it was described ^^^^ ie Sc wSt umoxydschicht 16. ^ «f« Jf 111C ™ 20 also preferably has a start of 400 A to 500 A and serves as a gl «cM« «J * X ] "for the subsequent d« «'« »^ retic precipitation process · J JJ third phosphor layer made of ™ * Europium aWmej yttrium vandanite (or a" ! F' ^ P ^ Jf ^ e es Durchdri = g ^ S ^ S ^ SSS S ^ ^ display of numerical values of high g £ h * ur ^ er vo * graphical representations, since the ^ nth h ° ae chichtei f a ^ f, due to their precise, equal-
aoao S^^dtofa-derobenbc^riebenenWeta» eingehalten werden kann und auf Grund der SÄ äußerst feinen gleichförmigen Partikel- ^ren ^ |rmögeOj t Kontras*S ^^ dtofa-derobenbc ^ rubbedWeta »can be adhered to and due to the SÄ extremely fine uniform particles ^ | rmögeOj t cons *
und BHgemein eine gute Bildqualität aufweisen. Wei- and B H generally have good picture quality. White
t hin fst es ais günstig zu bewerten, daß in der getejhm^t es^ β^^ KathodenstrahlSchirme it towards t f st i s a low rate to that in the getejhm it ^ t ^ ^^ β Kathod enstrahl S chirme
nur verhältnismäßig selten elektrische Durchschläge nu ν«™8 J only relatively seldom electrical breakdowns nu ν «™ 8 J der phosphor8Chichten the phosphor8C hinge
«»i«^ Betriebsspannung verhältnismäßig geringst. Weiterhin folgt aus der sorgfältig eingehaltenel Dickenverteilung der verschiedenen Phosphorschichten 14,18 und 22 und der dazwischenliegenden |™en .; h h Farbreinheit, ohne daß es erforderS wäre? die Spannungen der Zwischenschichten Γη bekannter Weise steuern zu müssen. Es wurden bei J0 Beschreibung des bevorzugten Ausführungsbeibestimmte Suspensionen und bestimmte Parameter erwähnt, es versteht sich jedoch für den«» I «^ Operating voltage relatively low. Furthermore, it follows from the carefully observed thickness distribution of the various phosphorus chic hten 14, 18 and 22 and the intermediate | ™ s .; hh color purity without it being necessary? to have to control the tensions of the intermediate layers Γη in a known manner. It was mentioned at J 0 Description of the Preferred Ausführungsbeibestimmte suspensions and certain parameters, but it is clear to the
auf die dritte PhosphrfΛ 2 «Mton the third PhosphrfΛ 2 «Mt
der mehrschichtige B«™jeg™ beträgtthe multilayer B «™ j e g ™ is
aus der bisherigen^^^S^SSi from the previous ^^^ S ^ SSi
die Gesamtstarke der dre* d"|™ "Ι,ϊϊ" entsDrethe overall strength of dre * d "| ™" Ι, ϊϊ " entsDr e
·η · Η
np^.on hesteht η diesem Falle bus Indiumchlond, rMelhanoi und Antimontrichlorid. Es sei angemerkt Flächenwiderstand einer Indiumoxydschicht ehva 150 bis 200 Ohm beträgt, so daß deshalb die Leitfähigkeit unter derjenigen der Zinnoxvdschicht 12 bleibt. Eine weitere Alternative bei der Herstel- np ^. In this case there is indium chloride, r M elhano i and antimony trichloride. It should be noted that the sheet resistance of an indium oxide layer is 150 to 200 ohms, so that the conductivity therefore remains below that of the tin oxide layer 12. Another alternative in the manufacture
14, i8 und 22 '%7« K14, 18 and 22 '% 7 «K
darunter liegen. 18 kV wird alslie below. 18 kV is used as
für Kathodenstrahlröhren *ur JJJ^gfor cathode ray tubes * ur JJJ ^ g
lung angesehen, da 'nfolg%thefhSdin£uneen zulung viewed as' nfol g% t he fhSdin £ uneen to
Spannungvoltage
dieg^ erfüllen sind. Weitere Grunde^fur den S ximalen Spannungswert hangen mit derdieg ^ are fulfilled. Further reasons for the S ximal voltage value depend on the
des ^«»ΗΛ^ί^Ι^Ιίίί einer ausreichendendes ^ «» ΗΛ ^ ί ^ Ι ^ Ιίίί a sufficient
sammen. Es ^\^^Zfcham friedenstellende Methode m scheren together. There ^ \ ^^ Zfcham pacifying method m shear
der Toleranzen ^r die&arkeni^«J schichten das el fahren ist. Dieses durchgeführt werden wemthe tolerances ^ r the & arkeni ^ «J layers the el drive is. This will be done to whom
ten in der oben ^^f Ein anderes znr schiedenen ren ist bis jetztten in the above ^^ f Another znr divorced ren is up to now
In einem gender.In one gender.
mit einem ™eh^Kie von Farbbildern konnte die Phosphorschichten ;«irr WjThe phosphor layers could with a ™ eh ^ kie of color pictures; «irr Wj
oben bereits er7j^ darunterabove already he 7j ^ below
mama
der ver-Verfah-the ver-proce-
der vorlie-the present
Wiedergabe der dreiPlay the three
umaround
eineone betrifft eine Vakuumaufdampfung von Ind.ummetail Renut/une eeeigneter Partialdrucke /ur Her"^^ emer transparenten, leitenden Schicht aus Indiumoxyd, die Vakuumverdampfung von Silber oder Aluminiummetall mit anschließender Gl.mmentla-Schichten in einer Umgebungsatmo- ° |re aus Luft> um diese Schichten transparent zu machen, sowie eine Vakuumauidampfung von AluSüum auf das Substrat 10 mit efaer Stärke von etwa 1000 A. Im letzteren Falle fet das Aluminiumι zunicht χ concerns a vacuum evaporation of Ind.ummetail Renut / unsuitable partial pressure / ur Her "^^ emer transparent, conductive layer of indium oxide, the vacuum evaporation of silver or aluminum metal with subsequent Gl.mmentla layers in an ambient atmosphere from air the transparent layers se to make, as well as a Vakuumauidampfung of AluSüum on the substrate 10 with efaer thickness of about 1000 A. in the latter case not fet the Aluminiumι to χ enU vidmehrmuß diese Schicht nach der rfektrophoretischen Aufbringung der ersten Phosphorschicht 14 durch einen Oxydationsvorgang in Luft transparent gemacht werden. Das gleiche Ziel { man P durch Anwendung einer wäßrigen Losung aus Ammoniumpersulfat oder durch anodische Oxydation mittels Zitronensäure. Es ist zu bedenken daß eine vorzeitige Oxydation, die wie erwähnt, auch anodisch durchgeführt werden kann, das AluminiumIn addition, this layer must be made transparent after the rfectrophoretic application of the first phosphor layer 14 by an oxidation process in air. The same aim is {P by applying an aqueous solution of ammonium persulfate or by anodic oxidation by means of citric acid. It should be borne in mind that a premature oxidation, which, as mentioned, can also be carried out anodically, affects the aluminum
«™» ^* ^eitend macht- wodurch sie für die Durchführung des elektrophoretischen Prozesses zur «™» ^ * ^ eliciting - making them necessary for carrying out the electrophoretic process
Bezüglich der Herstellung der Phosphorsuspensionen is, fs für den Fachmann klar, daß auch Metholisobutylketon als Bindemittel an Stelle von Athylalko-With regard to the preparation of the phosphorus suspensions, it is clear to the person skilled in the art that metholisobutyl ketone can also be used as a binder instead of ethyl alcohol
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hol anwendbar ist. Fernerhin können an Stelle von Thoriumnitrat mit einer Konzentration von 10"4 Mol/l, was einem ionisierbaren Metall in Suspension entspricht, Salze der Salpeter- oder Essigsäure benutzt werden. Es wurde jedoch festgestellt, daß Thoriumnitrat eine bessere Adhäsion aufweist als die Salze der genannten Säuren, was vielleicht auf Einschluß von Hydroxyden an der Trennfläche zwischen der leitenden Schicht und der Phosphorschicht zurückzuführen ist. Aus diesem Grunde wurde bei der Durchführung des Verfahrens nach der vorliegenden Erfindung Thoriumnitrat bevorzugt.hol is applicable. Furthermore, salts of nitric or acetic acid can be used instead of thorium nitrate with a concentration of 10 " 4 mol / l, which corresponds to an ionizable metal in suspension. However, it has been found that thorium nitrate has better adhesion than the salts of the above Acids, possibly due to the inclusion of hydroxides at the interface between the conductive layer and the phosphorus layer, and for this reason thorium nitrate was preferred when practicing the method of the present invention.
Bei dem bevorzugten AusfUhrungsbeispiel nach der Erfindung wurde die zweite transparente Schicht 16 aus Indiurnoxyd mittels eines Vakuumaufdampfproüesses aufgebracht. Diese Methode wurde an Stelle eines chemischen Niederschlagsverfahrens, wie es ;:ur Aufbringung der ersten Schicht 12 benutzt wurde, gewählt, weil die bekannten chemischen Dampfniederschlagsverfahren die Eigenschaft haben, mit dem Phosphor chemisch zu reagieren.In the preferred embodiment according to According to the invention, the second transparent layer 16 made of indiurn oxide was applied by means of a vacuum vapor deposition process. This method was on Place a chemical deposition process such as;: used to apply the first layer 12 was chosen because the well-known chemical vapor deposition processes have the property to react chemically with the phosphorus.
Jedoch können die leitenden Metalle wie Zinn, Indium oder Titan auch durch Vakuumaufdampfprozesse aufgebracht werden. Dieses Verfahren wurde zur Herstellung der zweiten und der dritten SchichtHowever, the conductive metals such as tin, indium or titanium can also be applied by vacuum evaporation processes. This procedure was for the production of the second and the third layer benutzt, während chemische Abscheidungsmethoden lediglich der Aufbringung der ersten, d, h. der unmittelbar auf dem Glassubstrat 10 aufliegfnden Schicht vorbehalten blieben. Fernerhin ist bekannt, daß Aluminium nicht durch Vakuumaufdampfen in Gegen-used while chemical deposition methods only the application of the first, i. the layer lying directly on the glass substrate 10 were reserved. It is also known that aluminum cannot be
wart von Wasserdampf appliziert werden kann, da hierbei das Aluminium oxydiert wird, wodurch es in den nichtleitenden Zustand übergeht. Aus diesem Grunde ist bei der Vakuumaufdampfung von Aluminium darauf zu achten, daß kein Wasserdampfpar-war can be applied by water vapor, as this oxidizes the aluminum, whereby it in the non-conductive state passes. For this reason, when vacuum evaporation of aluminum, care must be taken that no water vapor saving
tiaidruck in der Arbeitsatmosphäre vorhanden ist. Es ist somit vorstellbar, auch die erste leitende Schicht 12 aus Aluimnium herzustellen, wobei diese wie die übrigen leitenden Schichten, wie bereits oben erwähnt, erst nach Durchführung des jeweiligen elek-tiaidruck is present in the working atmosphere. It it is therefore conceivable to also produce the first conductive layer 12 from aluminum, this being like the remaining conductive layers, as already mentioned above, only after implementation of the respective electrical
ao trophoretischen Abscheidungsprozesses in den transparenten Zustand zu überführen ist.ao trophoretic deposition process is to be converted into the transparent state.
Claims (1)
men mit mehreren übereinander angeordneten,
phosphoreszierenden Schichten gleichförmiger
Stärke für Kathodenstrahlröhren zur Wiedergabe
von Farbbildern, dadurch gekennzeich-1. Procedure for producing screen 5
men with several stacked,
phosphorescent layers more uniform
Starch for cathode ray tubes for playback
of color images, thus marked
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US77816768A | 1968-11-22 | 1968-11-22 | |
US77816768 | 1968-11-22 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1958486A1 DE1958486A1 (en) | 1970-06-11 |
DE1958486B2 DE1958486B2 (en) | 1972-06-22 |
DE1958486C true DE1958486C (en) | 1973-01-11 |
Family
ID=
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