DE1951401A1

DE1951401A1 - Process for making photographic images

Info

Publication number: DE1951401A1
Application number: DE19691951401
Authority: DE
Inventors: Van Beek Leendert Kla Hellinga; Spiertz Elisabeth Jacoba; Dippel Cornelis Johannes
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1968-10-16
Filing date: 1969-10-11
Publication date: 1970-04-23
Also published as: NL6814761A; JPS4925905B1; DE1951401B2; GB1263813A; CA918988A; FR2024098A1; BE740340A

Description

"Verfahren zur Herstellung photographischer Bilder"."Process for Making Photographic Images".

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung j)hotographischer Bilder unter der Verwendung eines licht-empfindlichen Materials, das aus einer wenigstens an der Oberfläche elektrisch nichtleitenden Basisschicht besteht, in oder auf der sich die eigentliche eine aromatische Diazoverbindung enthaltende lichtempfindliche Schicht befindet, wobei das Lichtreaktionsprodukt dieser Diazoverbindung in Gegenwart von Flüssigkeit die Bildung metallischen Quecksilbers aus Mercuro-Ionen veranlasst, und wobei das gebildete Metallkeimbild duroh physikalische Entwioklung verstärkt wird.The invention relates to a method for producing j) hotographic images using a light-sensitive Material that consists of a base layer that is electrically non-conductive at least on the surface, in or on which the actual a photosensitive layer containing an aromatic diazo compound is the light reaction product of this diazo compound causes the formation of metallic mercury from mercury ions in the presence of liquid, and the metal nucleation formed by which physical development is enhanced.

OÖ0817/U36OÖ0817 / U36

- /- ■ PIIN.3587- / - ■ PIIN.3587

Die (z.B. aus den deutschen Patentschriften 892.552 und 921.245) bekannten Materialien enthalten als aromatische Diazoverbindung z.B. ein Diazosulfonat, einen Diazothioäther oder ein Diazocyanid. Die Wirkung dieser Diazoverbindungen bei Anwendung in einem lichtempfindlichen Material ist darauf zurückzuführen, dass sie bei Belichtung ein labiles Zwischenprodukt liefern, das sich wenigstens teilweise in Diazoniumionen und -Anionen zersetzen kann, die in den obenerwähnten Fällen aus Sulfit_t Alkylthiolat bzw. Cyanid bestehen. Wenn die eine derartige Diazoverbindung enthaltende belichtete Schicht mit einer Mercuro-Ionen enthaltenden wässrigen Lösung in Berührung gebracht wird, die vorzugsweise aus Silberionen besteht, wird ein latentes Bild erhalten, das aus physikalisch entwickeltaren Quecksilber- bzw. Amalgamkeimen besteht, indem die erwähnten labilen Zwischenprodukte und/oder die aus diesen gebildeten Anionen dem Gleich-The materials known (for example from German patents 892.552 and 921.245) contain, for example, a diazosulfonate, a diazothioether or a diazocyanide as aromatic diazo compound. The effect of these diazo compounds when used in a photosensitive material is due to the fact that they provide a labile intermediate product on exposure which can at least partially decompose into diazonium ions and anions, which in the above-mentioned cases consist of sulfite _t alkyl thiolate or cyanide. If the exposed layer containing such a diazo compound is brought into contact with an aqueous solution containing mercuro ions, which preferably consists of silver ions, a latent image is obtained which consists of physically developed mercury or amalgam nuclei by the aforementioned labile intermediates and / or the anions formed from these

++ ++
gewicht Hg₂ IH^ Hg + Hg, das in einer auf befriedigende Weise hergestellten Lösung eines Mercurosalzes besteht, Mercuri-Ionen entziehen können. Bei einer Ausführungsform des Diazosulfonatmaterials (niederländische Patentanmeldung 66O.6656) sind das llercurosalz und das Silbersalz bereits in der lichtempfindlichen Schicht vorhanden, wodurch in einer nicht völlig trocknen Schicht die erwähnte Keimbildung sofort während der Belichtung eingeleitet wird. Vorzugsweise enthält eine Diazosulfonatschicht ausserdem ein sogenanntes Antiregressionsmittel, d.h. eine Verbindung, die verhindert, dass, bevor die Keimbildungsreaktion stattgefunden hat, die Diazoverbindung aus ihrem Lichtreaktionsprodukt dadurch rüokgebildet wird, dass entweder das Diazonium oder das Sulfition oder beide derart gebunden werden, dass das Sulfition nach wie vor mit Mercuro-Ionen in Gegenwart von Pluasigkeit unter Bildung von yueoksilberkeiaen reagieren ++ ++
weight Hg ₂ IH ^ Hg + Hg, which consists of a solution of a mercury salt prepared in a satisfactory manner, can withdraw mercury ions. In one embodiment of the diazosulfonate material (Dutch patent application 66O.6656) the llercurosalt and the silver salt are already present in the photosensitive layer, as a result of which the nucleation mentioned is initiated immediately during the exposure in a layer that is not completely dry. A diazosulfonate layer preferably also contains a so-called anti-regression agent, ie a compound which prevents the diazo compound from its light reaction product from being formed back before the nucleation reaction has taken place in that either the diazonium or the sulfite ion or both are bound in such a way that the sulfite ion after React as before with mercuro ions in the presence of fluid to form yueoksilberkeiaen

009817/U36009817 / U36

- £ - PHN.3587- £ - PHN.3587

⁵ 195U0.1 ⁵ 195U0.1

kann, (deutsche Patentschrift 921.245).can, (German Patent 921.245).

Die lichtempfindliche Schicht kann z.B. durch Verseifung einer Oberflächenschicht einer aus einem Celluloseester bestehenden Folie oder durch anodische Oxydation einer Aluminiumfolie und anschliessende Imprägnierung der erhaltenen hydrophilen Schicht mit einer den lichtempfindlichen Stoff und gegebenenfalls die Hilfsstoffe enthaltenden Lösung erhalten werden. Diese Schicht kann auch einen grösseren oder kleineren Teil einer hydrophilen Basisschicht, z.B. aus Papier oder Zellophan, enthalten. Das Material kann ferner durch eine Basisschicht ans einem massfesten I'aterial gebildet werden, das nicht mit V/asser imprägnierbar ist, auf welcher Basisschicht eine hydrophile lichtempfindlich gemachte Schicht angebracht ist.The photosensitive layer can be formed, for example, by saponifying a surface layer of a film made of a cellulose ester or by anodic oxidation of an aluminum foil and subsequent impregnation of the hydrophilic layer obtained with one of the photosensitive layers Substance and optionally containing the auxiliaries Solution can be obtained. This layer can also be a larger or contain a smaller part of a hydrophilic base layer, e.g. made of paper or cellophane. The material can also be provided with a base layer can be formed on a solid material that does not interfere with water It is possible to impregnate the base layer on which a hydrophilic, photosensitized layer is applied.

Ein Nachteil der bekannten Materialien vom erwähnten Typ ist der, dass im entwickelten Bild Löcher mit mikroskopischen Abmessungen erscheinen. Die Anzahl dieser Löcher, die, in einem üchwärzungsfeld D = 3fO gesehen, bei einer 1500-fachen Vergrösserung einen mittleren Durchmesser von 0,7,u.m aufweisen, erwies sich leider am grössten bei denjenigen lichtempfindlichen Materialien, die wegen ihres hohen Auflösunrsvermogens sich vorzüglich zur Herstellung von Photomasken für integrierte Schaltungen eignen könnten. Bei derartigen Anwendungen, bei denen sogar Linien von 0,5/Um verlangt werden, ist naturgemäss das Auftreten von Vielzahlen von Löchern unzulässig, weil diese Löcher auf die benutzten lichtempfindlichen Aetzreservierungslacke übertragen werden und einen hohen Ausschussprozentsatz bei der Herstellung hc;rbeifuhren wurden.A disadvantage of the known materials of the type mentioned is that in the developed image holes with microscopic dimensions appear. The number of these holes that, in a blackening field D = 3fO seen, with a 1500-fold magnification a medium one Diameter of 0.7, etc., unfortunately turned out to be the largest at those light-sensitive materials which because of their high resolution could be ideally suited for the production of photomasks for integrated circuits. In such applications, where even lines of 0.5 / µm are required is natural the occurrence of large numbers of holes is impermissible because these holes are transferred to the photosensitive etching reserve varnish used and have resulted in a high percentage of rejects in production.

Die Anzahl Löcher kann zwar durch passende Wahl des Basismaterials erheblich beschränkt werden, weil sich herausgestellt hat, dass in gewissen Folien vorhandene Erziehungsmittel oder Verunrei-The number of holes can be considerably limited by a suitable choice of the base material, because it has been found that educational materials or contaminants present in certain foils

009817/U36009817 / U36

- M - " PHN.3587- M - "PHN.3587

nigungen oder bestimmte chemisch wirksame Gruppen in der makromolekularen Basis indirekt oder direkt die Bildung von Lochern herbeiführen. Eine »eitere Verbesserung läset sich dadurch erzielen, dass bei der Herstellung der Folien möglichst sorgfältig und unter Staubabsohluss verfahren wird. Trotz all dieser Massnahmen kann die Anzahl von Lochern pro cm² nicht weiter als auf einige Taueende mikroskopisch bei einer 60-fachen Vergrosserung in Sohwärzungsgebieten D = 3»5 gezählter Locher herabgesetzt werden. Pur die oben angeführten Anwendungen ist diese Anzahl jedoch unzulässig.tendencies or certain chemically active groups in the macromolecular basis indirectly or directly bring about the formation of holes. A further improvement can be achieved in that the production of the foils is carried out as carefully as possible and in a dust-free manner. In spite of all these measures, the number of holes per cm ² cannot be reduced further than to a few rope ends microscopically with a 60-fold increase in blackening areas of D = 3 »5 counted holes. However, this number is not permitted for the applications listed above.

Versuche, die zu der vorliegenden Erfindung geführt haben, haben ergeben, dass die Anzahl Löcher im entwickelten Teil als Funktion der Belichtungsenergie bei Zunahme dieser Energie schnell zunimmt, bis ein Maximum erreicht wird, wahrend diese Anzahl bei weiter zunehmender Belichtungsenergie-wieder abnimmt. Obgleich diese merkwürdige Erscheinung sich nicht befriedigend erklären lasst, wird sie nach der Erfindung völlig ausgenutzt· Ylenn nämlich eine verhältnismässig hohe Belichtungsenergie angewandt wird» kann die Anzahl Löcher pro Oberflächeneinheit stark herabgesetzt werden, wobei zum Erreichen der erforderlichen U.Y.-Dichte-(für die vorteilhaft eine Schwärzung D = 3>5 gewählt wird, die mit einem fiblichen Schwärzungsmesser für sichtbares Licht gemessen wird) eine viel kürzere Entwicklungszeit genügend ist.Experiments which have led to the present invention have shown that the number of holes in the developed part as a function of the exposure energy increases rapidly with an increase in this energy until a maximum is reached, while this number decreases again with further increasing exposure energy. Although this strange phenomenon cannot be explained satisfactorily, it is fully exploited according to the invention · If a relatively high exposure energy is used, the number of holes per surface unit can be greatly reduced, whereby in order to achieve the required UY density- (advantageous for the a density D = 3> 5 is chosen, which is measured with a fibrous density meter for visible light) a much shorter development time is sufficient.

Bas Verfahren zur Herstellung photographischer Bilder der eingangs erwähnten Art ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass eine Ueberlichtung mit einer Menge an Belitittungsenergie angewandt wird, die mindestens gleich dem Vierfachen der Energiemenge ist, die eine Schwärzung D =0,1 über der Grundschwärzung des Materials herbeiführt, dass die belichtete Schicht mit einem Keimintroduktionsbai inBas method of making photographic images of the initially mentioned type is characterized according to the invention, that an overlighting with a lot of Belitittungsenergie applied that is at least equal to four times the amount of energy that brings about a blackening D = 0.1 above the basic blackness of the material, that the exposed layer with a seed production base in

0 0 9817/14360 0 9817/1436

¹¹¹ " "-Jr'- PHN.3587 ¹¹¹ ""-Jr'- PHN.3587

Berührung gebracht wird, das ausser einem oder mehreren gelösten Mercurosalzen in einer Gesamtkonzentration von mindestens 5 Millimol/Liter ein oder mehrere geloste Silbersalze in einer Gesamtkonzentration von höchstens 50 $ der Gesamtkonzentrationen der Mercuro- und Silbersalze enthält, und dass das auf diese «"eise erhaltene Metallkeiiubild duroh physikalische Entwicklung zu der gewünschten Schwärzung verstärkt wird, wobei die Dauer der Entwicklung der angewandten ITeberlichtung angepasst wird.Is brought into contact, the other than one or more dissolved mercurous salts in a total concentration of at least 5 millimoles / liter one or more dissolved silver salts in a total concentration of $ 50 or less of the total concentrations of mercury and silver salts contains, and that the metal key image obtained in this way is duroh physical development is intensified to the desired blackening, whereby the duration of the development of the applied IT clearing is adjusted will.

Die Gesamtkonzentration der gelosten Silbersalze im Keimintroduktionsbad liegt vorzugsweise zwischen 15 und 40 $ der Gesamtkonzentrationen der Mercuro- und Silbersalze»The total concentration of dissolved silver salts in the nucleation bath is preferably between 15 and 40% of the total concentrations of the mercurous and silver salts »

In einer gleichzeitig oder nahezu gleichzeitig mit dieser Patentanmeldung eingemchten Anmeldung wird ein lichtempfindliches Material auf Basis eines stabilen aromatischen Diazosulfonate beschrieben, das sich von den bisher bekannten Materialien vom gleichen Typ darin unterscheidet, dass bei Anwendung dieses Materials ein entwickeltes Bild mit einer erheblich herabgesetzten Anzahl von Löchern erhalten wird. Selbstverständlich wird mit dem Verfahren nach der vor- ι liegenden Erfindung ein optimales Ergebnis erzielt, wenn dieses Material als Ausgangsmaterial verwendet wird.In a simultaneous or almost simultaneous with this patent application A photosensitive material based on a stable aromatic diazosulfonate is described in accordance with the registered application, which differs from the previously known materials of the same type in that when this material is used, a developed Image with a significantly reduced number of holes is obtained. Of course, with the method according to the previous ι lying invention achieves an optimal result when this material is used as a starting material.

Das lichtempfindliche Material nach der erwähnten gleichzeitig eingereichten Patentanmeldung ist dadurch gekennzeichnet, dass es ausser einem stabilen aromatischen Diazesulfonat, einem Antiregreseionsmittel und gegebenenfalls einem Merourosalz, einem Silbersalz und/oder Pufferetoffen mindestens ein Saooharid mit einer Aldehydfunktion und vorzugsweise ausserdem noch ein nichtionogenea Benetzungsmittel enthält. Letzteres ist voxaugsweise in einer Konzentration von ■indeetene 0,1 Gew.ji in der Losung vorhanden, mit der der Träger lieht-The photosensitive material according to the mentioned at the same time filed patent application is characterized in that it except for a stable aromatic diazesulfonate, an anti-regression agent and optionally a Merouro salt, a silver salt and / or buffer substances at least one Saooharid with an aldehyde function and preferably also contains a nonionic wetting agent. The latter is voxaugwise in a concentration of ■ indeetene 0.1 Gew.ji present in the solution with which the carrier borrows-

QÖ9817/U36QÖ9817 / U36

- ir- ■ PHK.3567- ir- ■ PHK.3567

empfindlich gemacht wird. Das wirksamste Saccharid für diesen Zweck , ist Maltose, das in einer Gesaatmolekularkonzentration vorhanden ist, die in der AusfQhrungsform, bei der die Schicht Merouro- und Silberionen enthält, vorzugsweise hoohstens gleich einem Viertel der Gesamtmolekularkonzentration des Diazosulfonate ist. Auch Stärke, die vorzugsweise in einer Menge von höchstens 0,02 Gew.^ in der Lösung vorhanden ist, mit der der Träger lichtempfindlich gemacht wird, ist fur diesen Zweck geeignet.is made sensitive. The most effective saccharide for this purpose is maltose, which is present in a total molecular concentration which, in the embodiment in which the layer contains merouro and silver ions, is at most equal to a quarter of the total molecular concentration of the diazosulfonate. Starch, which is preferably present in an amount of at most 0.02% by weight in the solution with which the support is made photosensitive, is also suitable for this purpose.

Das erfindungsgemässe Verfahren, bei dem vorzugsweise ein ein Saocharid mit einer Aldehydfunktion enthaltendes Lichtempfindliches Material angewandt wird, eignet sich besonders zur Herstellung von Photomasken und Ultramikrokopien (Verkleinerungen gleich mehr als dem 200-faohen),
Beispielet The method according to the invention, in which a photosensitive material containing a saocharide with an aldehyde function is preferably used, is particularly suitable for the production of photomasks and ultra-microscopes (reductions equal to more than 200 times),
Examples

1. Streifen aus oberflächlich bis zu einer Tiefe von 2/Um verseifter Cellulosetriaoetatfolie wurden dadurch lichtempfindlich gemacht, dass sie zunächst 5 Minuten mit Wasser, ansohliessend 15 Sekunden mit Aethanol und dann mit einer Losung imprägniert wurden, die pro Liter Aethanol 0,1 mol. 4-Nitrobenzoldiazo-tert.butylthioäther ' enthielt, ftaoh sensitometrischer Belichtung, Keimintroduktion mit einem Bad, das 0,005 aol. Mercuronitrat und 0,01 mol. Silbernitrat enthielt, und Behandlung während1. Strips from superficial to a depth of 2 / um saponified Cellulose triacetate film was made photosensitive by this, first 5 minutes with water, then 15 seconds impregnated with ethanol and then with a solution that 0.1 mol per liter of ethanol. 4-Nitrobenzenediazo-tert-butylthioether 'contained, ftaoh sensitometric exposure, germ production with a bath that is 0.005 aol. Mercuronitrate and 0.01 mol. Silver nitrate contained, and treatment during

a) 4 Hinuten und b) 5 Minuten in einem physikalischen Entwickler, der pro Liter Wasser enthielt! 0,05 »öl· Ferroammoniumeulfat, 0,01 mol. Perrinitrat, 0,1 mol. Zitronensäure, 0,2 g Armao 12 D (d.h. ein kationogener oberflächenaktiver Stoff, der zu etwa 90 % aus Dodeoylaminaoetat, zu 9 Ji aus Tetradeoylaeinacetat und zuk übrigen .Teil aas höheren AlkulMinaaetaten besteht) und 0,2 g Liesapol Na) 4 minutes and b) 5 minutes in a physical developer that contained water per liter! 0.05 »oil · Ferroammonium sulfate, 0.01 mol. Perrinitrate, 0.1 mol. Citric acid, 0.2 g Armao 12 D (ie a cationogenic surface-active substance, which consists of about 90% dodeoylamine acetate, 9% tetradeoylaein acetate and the rest of the higher alkali acetates) and 0.2 g Liesapol N

009817/1436009817/1436

- ?>- ■ PHN.3587-?> - ■ PHN.3587

(d.h. ein niohtionogenex oberflächenaktiver Stoff, der aus eines Kondensationsprodukt von Alkylphenolen mit Aethylenoxyd besteht), wurden die Anzahlen Locher im Gebiet mit einer Schwärzung D » 3i5 fcei einer 60-fachen Vergrosserung gezählt. Die Ergebnisse wareni(i.e. a non-toxic surfactant resulting from a condensation product of alkylphenols with ethylene oxide) were the number of holes in the area with a density D »3i5 fcei one Counted 60 times the magnification. The results were i

a. Log E= 5,Of 4 Min. entw. 1500/om² a. Log E = 5, Of 4 min. Dev. 1500 / om ²

b. Log E - 6,0ι 3 Min. entw. · 200 cm²,b. Log E - 6.0ι 3 min. Dev. 200 cm ² ,

Die Belichtungeenergien sind in Erg/oM* ausgedrückt* Eine käuflich erhältliche Lippmannplatte gab bei der vorgeschriebenen optimalen Behandlung unter den gleichen Betriebebedingungen 200 Locher pro cm².The exposure energies are expressed in erg / oM * * A commercially available Lippmann plate gave 200 holes per cm ² with the prescribed optimal treatment under the same operating conditions.

2. Streifen aus verseiftem Trägermaterial nach Beispiel 1 wurden dadurch lichtempfindlich gemacht, dass sie während 2 Minuten mit einer Losung imprägniert wurden, die pro Liter Wasser enthielt« 0,4 aol. Natriumsalz von 4-Methoxybenzoldiazosulfonsäure, 0,1 mol. Cadaiumlactat, 0,1 mol. Calciumlactat und 0,1 mol. Milchsäure. Die anhängende Flüssigkeit wurde dadurch-entfernt, dass die Streifen zwischen zwei Gummistreifen abgetrichen wurden. Dann wurden sie getrocknet und während 12 Stunden in einem Raum aufbewahrt, durch den Luft mit einer relativen Feuchtigkeit von 50 $ hindurchgeleitet wurde. Nach sensitometrisoher Belichtung wurde mit einem Bad, das pro Liter Wasser 0,005 mol. Merouronitrat und 0,0066 mol. Silbernitrat enthielt, ein Keimbild introduziert, das a) während 4 Minuten und b) während 3 Minuten physikalischeetnwickelt wurde. Die Anzahlen Löcher, die bei einer 60-fachen Vergrosserung und einer Schwärzung von 3»5 gezählt wurden, waren für Streifen, die lichtempfindlich gemacht werden waren mit»2. Strips of saponified carrier material according to Example 1 were made photosensitive in that they were for 2 minutes with a The solution was impregnated which contained 0.4 aol per liter of water. 4-methoxybenzenesulfonic acid sodium salt, 0.1 mol. Cadaium lactate, 0.1 mol. Calcium lactate and 0.1 mol. Lactic acid. The adhering liquid was removed by pulling the strips between two Rubber strips were removed. Then they were dried and kept for 12 hours in a room through the air with a relative humidity of $ 50. According to sensitometrisoher Exposure was made with a bath containing 0.005 mol. Per liter of water. Merouronitrate and 0.0066 mol. Contained silver nitrate Introduced a germ that was physically developed a) for 4 minutes and b) for 3 minutes. The number of holes in a 60-fold enlargement and a blackening of 3 »5 counted were for strips that were made photosensitive were with »

009817/U36009817 / U36

- $r - ■ PHN.3587- $ r - ■ PHN.3587

Beschr. Lösung a. Log E = 5>34$ 4 Min. entw. 2600/cm² Description Solution a. Log E = 5> 34 $ 4 min. Dev. 2600 / cm ²

» " b. Log E - 5,50; 3 Min. entw. 1050/cm² "" B. Log E - 5.50; 3 min. Dev. 1050 / cm ²

¹¹ " + 0,2 mol. Galactose b. Log E = 5,60} 3 Min. entw. ¹¹ "+ 0.2 mol. Galactose b. Log E = 5.60} 3 min. Dev.

460/cm² 460 / cm ²

¹¹ " + 0,2 mol. Glucose b. Log E = 5,58; 3 Min. entw. 340/om² " " + 0,2 mol. Maltose b. Log E = 5,34; 3 Min. entw. 180/cm² 3. Streifen, die mit der im Beispiel 2 beschriebenen Losung, die ausserdem 0,1 % Lissapol N enthielt, lichtempfindlich gemacht worden waren, wurden nach sensitometrischer Belichtung mit einem Keimbildungsbad behandelt, das pro Liter Wasser 0,005 mol. Nercuronitrat und 0,01 mol. Silbernitrat enthielt. Das Keimbild wurde während a) 4 Minuten und b) 3 Minuten physikalisch entwickelt. Die Ergebnisse waren für Streifen, die lichtempfindlich gemacht wurden waren mit: Beschr. Lösung a. Log E = 5i1f 4 Min. entw. 2100/cm² ¹¹ "+ 0.2 mol. Glucose b. Log E = 5.58; 3 min. Dev. 340 / om ² ""+ 0.2 mol. Maltose b. Log E = 5.34; 3 min. Dev. 180 / cm ² 3. Strips which had been made photosensitive with the solution described in Example 2, which also contained 0.1 % Lissapol N, were treated, after sensitometric exposure, with a nucleation bath containing 0.005 mol. Nercuronitrate and per liter of water The nucleation was physically developed over a) 4 minutes and b) 3 minutes The results for strips which had been sensitized were as follows: Described solution a. Log E = 5i1f 4 min 2100 / cm ²

¹¹ " b. Log E « 5,52; 3 Min. entw. 460/cm² ¹¹ "b. Log E« 5.52; 3 min. Dev. 460 / cm ²

¹¹ " +0,2 mol. Glucose b. Log E = 5,60; 3 Min. entw. 280/cm² ¹¹ " + 0,2 mol. Maltose b. Log E = 5,60; 3 Min. entw. 230/cm² 4» Streifen aus verseiftem Trägermaterial wurden mit einer Losung die pro Liter Wasser 0,2 mol. Cadmiumealz von 4-I-Iethozy-benzol-diazosulfonat, 0,005 mol. Merouronitrat, 0,01 mol. Silbernitrat und 0,02 mol. Cadmiumlactat enthielt, lichtempfindlich gemacht. Nach sensitometrischer Belichtung und Keimintroduktion mit einer Lösung von 0,005 mol* pro Liter Mercuronitrat, 0,01 mol. pro Liter Silbernitrat und 0,1 fo Lißsapol N wurde während a) 4 Minuten und b) 3 Minuten physikalisch entwickelt. Die Anzahlen Löcher bei einer Schwärzung 3,5, die bei einer $0-fachen Vergrößserung gezählt wurden, waren für Streifen, die lichtempfindlich gemacht worden waren ¹¹ "+0.2 mol. Glucose b. Log E = 5.60; 3 min. Dev. 280 / cm ² ¹¹ " + 0.2 mol. Maltose b. Log E = 5.60; 3 min. 230 / cm ² 4 »strips of saponified carrier material were mixed with a solution containing 0.2 mol per liter of water. Cadmium salt of 4-I-ethoxy-benzene-diazosulfonate, 0.005 mol. Merouronitrate, 0.01 mol. Silver nitrate and 0.02 mol. Containing cadmium lactate, made photosensitive. After sensitometric exposure and germ production with a solution of 0.005 mol * per liter of mercuronitrate, 0.01 mol. per liter of silver nitrate and 0.1 fo Lißsapol N was physically developed for a) 4 minutes and b) 3 minutes. The numbers of holes at 3.5 density counted at $ 0 magnification were for strips that had been sensitized

009817/U36009817 / U36

Beschr, Lösung "Descr, solution "

" + 0,2 °/o Stärke"+ 0.2 per cent strength

" """

+ 0,01 mol. Maltose+ 0.01 mol. Maltose

+ 0,1 % Lissapol N+ 0.1 % Lissapol N

+ 0,1 $ Lissapol N+ $ 0.1 Lissapol N

PHN.3587PHN.3587

a. Log E = 4i7Oj 4 Min. entw. 2800/om² a. Log E = 4i7Oj 4 min. Dev. 2800 / om ²

b. Log E = 4f83| 3 Min. entw. 900/om² b. Log E = 4f83 | 3 min. 900 / om ²

b. Log E - 5,18| 3 Min. entw.b. Log E - 5.18 | 3 min.

100/cm²
b. Log E = 4,97} 3 Min. entw.100 / cm ²
b. Log E = 4.97} 3 min. Dev.

200/om² 200 / om ²

a. Log E - 4»73| 4 Min. entw* 1500/cm⁸ a. Log E - 4 »73 | 4 min. Dev * 1500 / cm ⁸

b. Log E - 4,97} 3 Min. entw.b. Log E - 4.97} 3 min. Dev.

+ 0,1 % Lissapol N b. Log E => 5,10| 3 Min. entw. + 0,02 $ Stärke 130/om⁸ + 0.1 % Lissapol N b. Log E => 5.10 | 3 min. + $ 0.02 strength 130 / om ⁸

5. Streifen, die mit der im Beispiel 4 beschriebenen L3sung
lichtempfindlich gemacht worden waren, wurden nach Belichtung mit
einem Keimbuldingsbad behandelt, das 0,005 moli Merouronitrat,
0,0025 mol. Silbernitrat und 0,1 $ Lissapol N enthielt, wonach das erhaltene Keimbild während a) 4 Minuten und b) 3 Minuten physikalisch entwickelt wurde. Die Ergebnisse waren für Streifen, die liohteapfindlich gemacht worden waren miti
Beschr. Lösung a. Log E = 4»74l 4 Min. entw.5. Strips made with the solution described in Example 4
photosensitive were made after exposure with
treated with a germ bulking bath containing 0.005 moli merouronitrate,
0.0025 mol. Silver nitrate and 0.1 $ Lissapol N, after which the resulting nucleation was physically developed for a) 4 minutes and b) 3 minutes. The results were for strips made liohtea sensitive with i
Description Solution a. Log E = 4 »74l 4 min. Dev.

2000/om²
" " b. Log E - 4»85I 3 Min. entw.2000 / om ²
"" b. Log E - 4 »85I 3 min. Dev.

500/om⁸
» ;»■ + 0,02 fi Stärk· b. Log E - 4f97» 3 Min. entw.500 / om ⁸
»;» ■ + 0.02 fi strength · b. Log E - 4f97 »3 min. Dev.

70/om¹ 70 / om ¹

" " + 0,01 Dol. Maltose b. Log S - 4,97} 3 Min. entw."" + 0.01 dol. Maltose b. Log S - 4.97} 3 min. Dev.

βΟ/θ»¹.βΟ / θ » ¹ .

000817/1436000817/1436

Claims

-W- PM.3587

PATENT CLAIMS »

A process for the production of photographic images using a photosensitive material which consists of a base layer which is electrically non-conductive at least on the surface, in or on which the actual photosensitive solvent containing an aromatic diazo compound is located, the light reaction product of this diazo compound in the presence of liquid causes the formation of metallic mercury or silver amalgam from merouro ions and preferably bilber ions, and wherein the metal nucleation obtained is reinforced by physical development, characterized in that exposure is applied with an amount of exposure energy which is at least four times the amount of energy, which brings about a blackening D = 0.1 above the basic blackness of the material, that the exposed / exposed Sohioht is brewed in contact with a germ production bath, which in addition to one or more Merouro salts in a total Liter contains oncentration of at least 5 millimoles / a more dissolved silver salts in a total concentration of at most 50% of the total concentrations of the Merouro- and silver salts, or, and that the metal seed image thus obtained _e.g. by physical development and the desired Sohwärzung amplified, wherein the Bauer development is adapted to the applied superciliation.

2. The method according to claim 1, characterized in that the total concentration of the dissolved silver salts in the germ production bath between $ 15 and $ 40 of the total concentrations of Merouro «and Silver salts lies.

3. Procedure naoh Anapruoh 1 or 2, daduroh marked, .that a photosensitive material was used as the Auegangi material which is made from a stable aromatic diazosulfonate, a

009817/1438009817/1438

- 1 * - PHN.3587

Anti-regression agent and .possibly a mercury salt, a Silver salt and / or buffer substances at least one Sacchraris with a Contains aldehyde function.

4. The method according to claim 3 »characterized in that the saccharide is maltose.

Process according to Claim 3 or 4, characterized in that the photosensitive material used also contains a nonionic wetting agent, this agent in a concentration of at least 0.1 Qev.fi in the solution with which the support is made photosensitive is available.

6. Products manufactured by a method according to one of the preceding claims, in particular photo masks or ultramicrocopies.

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