DE1815419C

DE1815419C - Method for measuring the thickness of a film vapor deposited on a support and arrangement for practicing this method

Info

Publication number: DE1815419C
Authority: DE
Inventors: Jakob H Raacke Karl H Essex Junction Vt Hohl (V St A )
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Publication date: 1971-05-27

Description

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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Messen der Absorptionsspektra vermessen werden. Diese Weiter.The invention relates to a method for measuring the absorption spectra. This next. Sttrke einer auf einem Träger aufgedampften Schicht bildung macht sich den Umstand zunutee, daU diever·The thickness of a layer formation vapor-deposited on a carrier takes advantage of the fact that the

wahrend des Aufdampfvorgangs durch Liohtabsorp- schiedenen Dampf komponenten, z. B. Kobalt, NioKei,during the evaporation process through Liohtabsorp- different vapor components, z. B. Cobalt, NioKei,

tionsmessung an einem Lichtstrahl, der wenigstens Eisen, verschiedene Absorptlonsb8nder haben, so dauMeasurement of a light beam that has at least iron and various absorption bands, so last

Teile des Absorptionsspektrums des Schichtmaterials s man, wenn man die Absorptionsmessung au^ dieseParts of the absorption spectrum of the layer material can be seen if the absorption measurement is taken from this

enthält, unter Vergleich mit einer Bezugsgröße, und individuellen Bänder ausrichtet, individuelle Meßwertecontains, compared with a reference variable, and aligns individual bands, individual measured values

eine Anordnung zur Ausübung dieses Verfahrens. für die einzelnen Komponenten gewinnen Kann.an order to exercise this procedure. Can win for the individual components.

Bei Aufdampfen von Niederschlägen kommt es je Die Erfindung ist einfach zu verwirklichen und genach der Anwendung aui verschiedene Größen an, stattet es mit einfachen Mitteln in Weiterbildung, die vorwiegend auf die Stärke des erzielten Niederschlages, io Anzeigegrößen für die Beimlschraten der einzelnen die Geschwindigkeit, mit der der Niederschlag auf· Komponenten in dem Dampfstrom bzw. in dem Niedergebaut wird, und bei Aufdampfen mit mehreren Korn- schlag und die zugehörigen Absolutwerte zu gewinnen, ponenten, z. B. den Komponenten Kobalt, Eisen und Sie gestattet es weiterhin, den Niederschlag aur Grund Nickel, auf die Beimischrate der einzelnen Kompo- der gewonnenen Meßergebnisse durch laufenden Kinnenten innerhalb der gesaraten Dampfphase bzw. »5 griff zu steuern, so daß die Niederschlagsgeschwindiginnerhalb des Niederschlages. Man kann einen auf keit und die Niederschlagsgesamtmenge voreingestellte diese Weise aufgedampften Niederschlag nachträglich Werte annimmt. Dies auch bei Dampfströmen mit ververmessen. Es ist aber für viele Anwendungsfälle schiedenen Komponenten, bezogen auf die einzelnen wünschenswert, den Niederschlag schon während des Komponenten. Dementsprechende Weiterbildungen Aufbaues zu vermessen. Einerseits, damit man den so ao der Erfindung, die sich dadurch auszeichnen, daß sie entstehenden Niederschlag kennt und andererseits, einfach zu verwirklichen sind, sind Gegenstand der damit man die Möglichkeit hat, während des Aufbaues Unteransprüche.In the case of the evaporation of precipitates, the invention is easy to implement and, depending on the application, also has different sizes, it equips it with simple means in further development that predominantly on the strength of the precipitation achieved, io display sizes for the addition rates of the individual the speed with which the precipitation is built up on components in the steam flow or in the low-rise, and in the case of vapor deposition with several grain sizes and the associated absolute values, components, e.g. B. the components cobalt, iron and it allows it to continue to precipitate on the ground Nickel, to control the admixture rate of the individual components obtained by running chin ducks within the total vapor phase or »5, so that the precipitation rate within the precipitation. One can set a preset speed and total rainfall This way evaporated precipitate subsequently assumes values. This was also measured in the case of steam flows. However, for many applications it is different components, based on the individual components desirable the precipitation already during the components. Corresponding further training To measure the structure. On the one hand, so that one can get the so ao of the invention, which are characterized by the fact that they Knows resulting precipitation and on the other hand, are easy to achieve, are the subject of so that one has the possibility of subordinate claims during the construction.

auf Grund der ermittelten Meßwerte in den Aufdampf- Einzelheiten dazu ergeben sich aus der naChfolgen-on the basis of the measured values determined in the evaporation details result from the subsequent

vorgang einzugreifen und diesen einzustellen oder den Figurenbeschreibung an Hand der Zeichnungen,to intervene and stop the process or the description of the figures on the basis of the drawings,

nachzustellen. as In den Zeichnungen zeigtto readjust. as shows in the drawings

Bei einem bekannten Verfahren der eingangs ge- F i g. 1 grob schematisch eine Anordnung zur Ausnannten Art wird der erzielte Niederschlag durch übung des erfinderischen Verfahrens, Lichtabsorptionsmessung am aufgedampften Nieder- F i g. 2 die Anordnung nach F i g. 1 mit weiteren schlag gemessen, wobei die Bezugsgröße durch ent- Details und etwas modifiziert, sprechende Eichung einer Fotozelle gegeben ist. Der 30 F i g. 3 drei Filter, die bei der Anordnung nach messende Lichtstrahl durchsetzt dabei den Aufdampf- F i g. 2 verwendet werden, und strom und den bereits aufgedampften Film. Die Folge F i g. 4 eine Alternative zu dem System nach F i g. 2, ist, daß die Messung durch die Absorption am Auf- jedoch nur den in F i g. 2 B dargestellten Teil, während dampfstrom verfälscht wird, sofern sie nicht während der in F i g. 2 A dargestellte Teil bei dieser Alternative einer Unterbrechung des Aufdampfens erfolgt. Mit 35 nach F i g. 4 genauso ausgeführt ist wie nach F i g. 2. diesem bekannten Verfahren ist eine laufende genaue Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel kann die Überwachung des Auf dampf Vorganges jedenfalls nicht Stärke oder Zusammensetzung eines aufgedampften sehr genau durchführbar, weil der Meßbereich der Magnetfilmes aus Nickel—Eisen gemessen werden. Die Absorptionsmessung dann den gesamten Stärkebereich beiden Größen, Stärke und Zusammensetzung, können der aufzudampfenden Schicht umfassen müßte. 40 jede für sich und beide gemeinsam vermessen werden.In a known method of the above-mentioned FIG. 1 roughly schematically an arrangement for the specified type, the precipitate obtained by practicing the inventive method, Light absorption measurement on the vapor-deposited low-F i g. 2 the arrangement according to FIG. 1 with others impact measured, with the reference variable modified by details and something, speaking calibration of a photocell is given. The 30 F i g. 3 three filters to be used in the arrangement according to measuring light beam penetrates the vapor deposition F i g. 2 can be used, and electricity and the already evaporated film. The sequence F i g. 4 shows an alternative to the system according to FIG. 2, is that the measurement by the absorption at the absorption but only the in F i g. 2B part shown while steam flow is falsified, provided that it is not during the in F i g. 2 A shown part in this alternative an interruption of the vapor deposition takes place. At 35 according to Fig. 4 is carried out in exactly the same way as according to FIG. 2. This known method is an ongoing accurate In the illustrated embodiment, the Monitoring of the vaporization process in any case not the strength or composition of a vaporized one can be carried out very precisely because the measuring range of the magnetic film made of nickel-iron is measured. the Absorption measurement can then cover the entire strength range, both sizes, strength and composition the layer to be evaporated would have to include. 40 each can be measured individually and both together.

Dem erfinderischen Verfahren liegt d;e Aufgabe Diese Vorrichtung und auch das ihr zugrunde liegendeThe inventive method is the task of this device and also that on which it is based

?vgj:>4e, das Verfahre.» der eingangs genannten Art Verfahren kann auch bei anderen Aufdampfprozessen ? vgj:> 4e, the process. " The type of method mentioned at the beginning can also be used for other vapor deposition processes

so auszugestalten, daß die Messung einfach und sehr angewendet werden.design so that the measurement can be applied easily and very easily.

genau möglich ist und eine genaue laufende Über- Gemäß F i g. 1 ist mit 10 eine Aufdampfkammer bewachung der zunehmenden Stärke der aufgedampften 45 zeichnet, und mit 11 sind zwei Helmholtz-Spulen beSchicht gestattet. zeichnet, die das zur Magnetisierung des aufgedampf-is exactly possible and an exact running over- According to F i g. 1 with 10 a vapor deposition chamber guarding the increasing thickness of the vapor-deposited 45 is drawn, and with 11 two Helmholtz coils are allowed to be coated. draws that the magnetization of the vapor-deposited

Das erfinderische Verfahren ist dadurch gekenn- ten Films erforderliche magnetische Feld erzeugen. Mit zeichnet, daß der Aufdampfstrom vom Lichtstrahl 12 ist eine Nickel-Eisen-Quelle bezeichnet, und mit 14 außerhalb der zu messenden Schicht quer durchsetzt ist ein Substrat bezeichnet, auf dem sich der Nickelwird und daß die Differenz des vom Aufdampfstrom 50 Eisen-Dampf 16 als magnetischer Film 17 niedernicht absorbierten Anteils des Lichtstrahls und der schlagen soll. Mit 18 ist eine Strahlenquelle bezeichnet, Bezugsgröße über die Aufdampfzeit zu der gesuchten deren Strahlen 19 die Dampfphase 16 durchsetzen. Stärkegröße integriert wird. Auf der der Strahlenquelle 18 gegenüberliegendenThe inventive method is characterized by generating the required magnetic field for the film. With indicates that the vapor deposition stream from light beam 12 is a nickel-iron source, and is denoted by 14 Outside the layer to be measured, a substrate is designated, on which the nickel is deposited and that the difference between the portion of the light beam and the non-absorbed portion of the light beam that is not absorbed by the vapor deposition stream 50 as a magnetic film 17 is to strike. With a radiation source is designated, Reference variable over the vapor deposition time to the sought-after rays 19 of which enforce the vapor phase 16. Starch size is integrated. On the opposite of the radiation source 18

Die Absorptionsmessung nach der Erfindung wird . Seite der Aufdampfkammer 10 ist eine Fotozelle 20 imThe absorption measurement according to the invention is. Side of the vapor deposition chamber 10 is a photocell 20 in

5m Gegensatz zu dem bekannten Verfahren durch 55 Strahlengang 19 angeordnet, so daß dort der von derIn contrast to the known method, arranged by 55 beam path 19, so that there the

Nebenwirkungen deshalb nicht gestört, weil sie nur Dampfphase 16 nicht absorbierte Anteil der Strah-Side effects are not disturbed because they only have vapor phase 16 unabsorbed portion of the radiation

an dem Dampfstrom angreift. Der Meßbereich der lung 19 vermessen werden kann. Die so gewonnenenattacks on the steam flow. The measuring range of the lung 19 can be measured. The ones won in this way

Absorptionsmessung kann, da er nur die möglichen Meßwerte werden in einem Verstärker 22 verstärkt,Absorption measurement can, since it only amplifies the possible measured values in an amplifier 22, Absorptionswerte des Dampfstromes umfassen muß dessen Ausgangssignal Vr -von der Absorption derAbsorption values of the vapor flow must include its output signal Vr -of the absorption of the

und nicht etwa die der erzielten Schichtstärke, verhält- 60 Strahlung in der Dampfphase abhängt. Dieses Aus-and not that of the layer thickness achieved, depends on radiation in the vapor phase. This out

nismäßig klein sein, und zwar wegen der Integration gangssignal Vr wird in einen Wandler 24 eingespeistnism-wise small, namely because of the integration output signal Vr is fed into a converter 24

unabhängig von der in Betracht kommenden Schicht- und dort in ein Meßsignal zur Anzeige der Stärke um-regardless of the layer in question and there converted into a measurement signal to display the thickness.

stärke. gewandelt.strength. changed.

Eine Weiterbildung der Erfindung ist dadurch ge- Das Ausgangssignal V_R hängt, wie bereits bemerkt, kennzeichnet, daß ein oder mehrere verschiedene 65 von der Absorption in der Dampfphase 16 ab. Damit Dampf komponenten (Nickel, Kobalt, Eisen) im Dampf- hängt es auch, und zwar in einer nicht linearen Funkstrom gleichzeitig durch Absorptionsmessung an tion, von der Niederschlagsrate ab. Um den letztdiescn Dampfkomponenten individuell zugeordneten genannten, funktionellen Zusammenhang zu lineari-A further development of the invention is characterized by the fact that, as already noted, the output signal V _R depends on the fact that one or more different ones 65 depend on the absorption in the vapor phase 16. So that steam components (nickel, cobalt, iron) in the steam it also depends on the precipitation rate, namely in a non-linear radio current at the same time through absorption measurement. In order to linearly relate the named, functional relationship to the latter vapor components individually

sicren, dient der Nicht-Linearveretörker 26 am Eingang des Wandlers 24. Das Ausgangssignal R dieses Verstärkers hangt linear von der Niederschlagsrate ab und gelangt in einen Integrator 28, in dem es integriert wird, so daß das Ausgangssignal C des Integrators linear von der Starke des aufgedampften Filmes abhangt. sicren, the non-linear amplifier 26 is used at the input of the converter 24. The output signal R of this amplifier depends linearly on the precipitation rate and arrives at an integrator 28, in which it is integrated, so that the output signal C of the integrator linearly depends on the strength of the evaporated film depends.

Die Einzelheiten, des in F1 g. 1 dargestellten Ausführungsbeispiels werden nun an Hand der F i g. 2, 2 A und 2 B arläutert,The details of the in F1 g. 1 illustrated embodiment are now on the basis of FIG. 2, 2 A and 2 B,

Dt3 Strahlenquelle 18 ist zweckmäßig eine Hohlkathüdenlampe, deren Kathode 30 diejenigen Elemente enthalt, die vermessen werden sollen, Im vorliegenden Fall also Nickel und Eisen, Wenn noch weitere Elemente, wie z. B. Kobalt, niedergeschlagen werden sollen, dann auch Kobalt. Die Kathode wird dann mit Ionen beschossen und strahlt daraufhin Licht aus mit den Emissions-Spektrallinien von Nickel, Eisen und Kobalt, sofern Kobalt vorhanden ist. Nickel, Eisen und Kobalt hat in der Dampfphase 16 engbegrenzte Absorptionsbänder im ultravioletten Bereich zwischen 2000 und 3000 Angström. Die Wellenlänge in diesen Absorptionsbändern reicht aus, um im Normalfall die Niederschlagsraten, die bei 5 bis 50 Angström pro Sekunde liegen, zu vermessen. Sind die Niederschlagsraten höher, dann nimmt .nan Absorptionsbänder von Nickel, Eisen oder Kobalt, die nicht so stark sind, und zwar Bänder im Wellenlängenbereich von 3000 bis 4000 Angström. Alle diese Wellenlängen können mit einem Hohlkathodenstrahl abgestrahlt werden.Dt3 radiation source 18 is expediently a hollow cathode lamp, the cathode 30 of which contains those elements that are to be measured, in the present case In the case of nickel and iron, if other elements, such as B. Cobalt, precipitated should be, then also cobalt. The cathode is then bombarded with ions and then emits light off with the emission spectral lines of nickel, iron and cobalt, if cobalt is present. Nickel, iron and cobalt have 16 narrowly limited absorption bands in the ultraviolet phase in the vapor phase Range between 2000 and 3000 angstroms. The wavelength in these absorption bands is sufficient in order to measure the precipitation rates, which are usually 5 to 50 Angstroms per second, in normal cases. Are If the precipitation rates are higher, then .nan absorption bands of nickel, iron or cobalt, the are not as strong, namely bands in the wavelength range from 3000 to 4000 Angstroms. All these Wavelengths can be emitted with a hollow cathode beam.

Die Fotozelle 20 weist vorzugsweise für jedes der zu vermessenden Elemente gemäß F i g. 2 A einen Fotovervielfacher 32, 34, 36 auf. Dabei können übliche Fotozellen, gasgefüllte Fotozellen, Fotodioden od. dgl. auch an Stelle von Fotovervielfachein vorgesehen sein. Der Fotozelle 20 vorgeschaltet ist ein Monochromator 38, der den Strahl 19 in die einzelnen Wellenlängenantcile auftaut und diese in die jeweils zugeordneten Fotovervielfacher 32, 34, 36 separiert leitet.The photocell 20 preferably assigns for each of the measuring elements according to FIG. 2A a photomultiplier 32, 34, 36. You can use the usual Photocells, gas-filled photocells, photodiodes or the like can also be provided instead of photomultiplier units. The photocell 20 is preceded by a monochromator 38, which converts the beam 19 into the individual wavelengths thaws and these in the respectively assigned Photo multiplier 32, 34, 36 separately conducts.

Der Verstärker 22 ist gemäß F i g. 2 A entsprechend dreikanalig ausgebildet, weist also für jeden der Fotovervielfacher 32,34,36 einen besonderen Verstärkungskanal auf. Der Verstärker ist als Wechselspannungsdifferenzverstärker ausgebildet. Zu diesem Zweck ist ein allgemein mit 40 bezeichneter Unterbrecher vorgesehen. Der Unterbrecher weist e>nen von einem Synchronmotor 44 angetriebenen geschlitzten Spiegel 42 auf, der schräg in den einfallenden Strahlengang 19 gestellt ist. Dreht sich der Spiegel, dann wird im Takte der Schlitze der Lichtstrahl unterbrochen und statt in die Aufdampfkammer, gemäß dem Strahl 43, abgelenkt. Dir Lichtimpulse des Strahls 43 alternieren demzufolge mit den Lichtimpulsen, die in die Aufdampfkammer 10 einfallen. Die abgelenkten Lichtimpulse im Strahl 43 sind synchron mit der Sinusschwingung eines Oszillators 46 aus dem Verstärker 22, der den Synchronmotor 44 synchronisiert. Die beiden Lichtstrahlen 19 und 43 werden in einem halbdurchlässigen Spiegel 45 wieder vereinigt, ehe sie gemeinsam in den Monochromator 38 einfallen.The amplifier 22 is shown in FIG. 2 A correspondingly designed with three channels, so it has for each of the photo multipliers 32,34,36 a special reinforcement channel. The amplifier is an alternating voltage differential amplifier educated. A breaker, generally designated 40, is provided for this purpose. The interrupter has a slotted mirror driven by a synchronous motor 44 42, which is placed at an angle in the incident beam path 19. If the mirror rotates, then it goes in rhythm of the slits the light beam is interrupted and instead of being deflected into the vapor deposition chamber, according to beam 43. The light pulses of the beam 43 therefore alternate with the light pulses entering the vapor deposition chamber 10 come up. The deflected light pulses in beam 43 are synchronous with the sinusoidal oscillation an oscillator 46 from the amplifier 22, which synchronizes the synchronous motor 44. The two Light rays 19 and 43 are combined again in a semi-transparent mirror 45 before they join together fall into the monochromator 38.

Der Oszillator 46, der den Synchronmotor 44 synchronisiert, synchronisiert auch die drei Phasendetektoren 48, 50 und 52. Die Ausgangssignale der Fotovervielfacher 32, 34 und 36 werden zunächst in den Wechselspannungsverstärker 54, 56 und 58 verstärkt. Die Endstufe der Phasendetektoren ist ein Gleichspannungsfilter, so daß am Ausgang der Phasen- - detektoren ein Signal entsteht, das proportional ist der AmplitudendifTerenz der beiden Impulsstrahlen. Dioso Ausgangssignale werden in d<?n Kraftverstarkern 60, 62 und 64 verstärkt. Die verstärkten AusgangssignaleThe oscillator 46, which synchronizes the synchronous motor 44, also synchronizes the three phase detectors 48, 50 and 52. The output signals of the photomultiplier 32, 34 and 36 are first amplified in the AC voltage amplifiers 54, 56 and 58. The output stage of the phase detectors is a DC filter, so that at the output of the phase - detectors, a signal is produced which is proportional to the AmplitudendifTerenz of the two pulse beams. Dioso output signals are amplified in d <? N power amplifiers 60, 62 and 64. The amplified output signals

sind entsprechend dem Ausgangssignal Vr aus F i g. ι mit K₁, Vi und K₀ bezeichnet. Auf den Oszillator 46 kann man In Abänderung des dargestellten Ausführungsbeispiels auch verzichten und die Phasondotektoren48, 50, 52 direkt mit dem Synchronmotor 44are corresponding to the output signal Vr from FIG. ι denoted by K ₁ , Vi and K _0. In a modification of the exemplary embodiment shown, it is also possible to dispense with the oscillator 46 and the phase detectors 48, 50, 52 directly with the synchronous motor 44

ίο synchronisieren, indem der Synchronmotor 44 den Takt abgibt. Die Ausgangssignale Kj₁ K_B und K_a werden in einem Dämpfer 66 eingespeist.ίο synchronize by the synchronous motor 44 emitting the clock. The output signals Kj ₁ K _B and K _a are fed into a damper 66.

Der Dämpfer 66 dient dazu, den Strahl 43 — den Bezugsstrahl — mit dem Strahl 19 — dem Meßstrahl—The attenuator 66 serves to divide the beam 43 - the reference beam - with the beam 19 - the measuring beam -

>5 intensitätsgleich zu machen. Dazu weist der Dämpfer drei Wellenlängenfilter 68,70,72 auf, die an zugeordnete Antriebsmittel 74, 76, 78 angeschlossen sind. Jedes der Wellenlängenfilter filtert nur die spezielle Wellenlänge aus, die nach Maßgabe des zugehörigen Meß-> 5 to make the same intensity. For this purpose, the attenuator has three wavelength filters 68, 70, 72, which are assigned to Drive means 74, 76, 78 are connected. Each of the wavelength filters only filters the specific wavelength from, which according to the associated measuring

ao kanals bzw. des zugehörigen Ausgangssignals V₁, V₃ bzw. K₃ vermessen, wurde.ao channel or the associated output signal V ₁ , V ₃ or K _{3 was} measured.

F i g. 3 zeigt die drei Wellenlängenfilter 68, 70 und 72. Jedes dieser Filter weist ein Substrat 80 auf, das für die zu vermessenden Wellenlängen durchsichtig ist.F i g. 3 shows the three wavelength filters 68, 70 and 72. Each of these filters has a substrate 80 which is suitable for the wavelengths to be measured is transparent.

»5 Das Substrat kann beispielsweise aus Silizium bestehen. Auf dem Substrat ist ein erster Filterbereich 82 und ein zweiter Filterbereich 84 angeordnet. Die Siliziumplatte 80 wird in den in F i g. 3 im Querschnitt eingezeichneten Bezugsstrahl 43 eingesetzt. Der»5 The substrate can consist of silicon, for example. A first filter area 82 and a second filter area 84 are arranged on the substrate. the Silicon plate 80 is shown in the FIGS. 3 reference beam 43 drawn in cross section is used. the

erste Filterbezirk 82 kann zunehmend in den Bereich des Bezugsstrahles eingeschoben werden, und entsprechend kann der Anteil des Bezugsstrahls, der den zweiten Filterbezirk durchsetzt, schrittweise reduziert werden. Der erste Filterbezirk 82 filtert nur diejenige Wellenlänge aus, in der eines der zu vermessenden Elemente vermessen wird. Zwsc passieren alle anderen Wellenlängenanteile diesen Filterbe/irk 82, aber eine kleine Intensitätsabschv'ä.chung dieser anderen Wellenlängen ist dabei nicht vermcidb«r. Um diesen unerwünschten Effekt zu kompensierer., dient der 7-wcke Filterbezirk, der so eingerichtet ist, daß er alle anderen Wellenlängen, mit Ausnahme der Wellenlänge, auf die der erste Filterbezirk abgestimmt ist, ausfiltert. Dieser zweite Filterbezirk 84 wird also so weit in den Bezugsstrahl 43 hineingeschoben, daß die unerwünschte Filterwirkung des Filterbezirks 82 auf die Wellenlängen, auf die der Filterbezirk nicht abgestimmt ist, in allen in Frage stehenden Stellungen des ersten Filterbezirks kompensiert wird.The first filter area 82 can increasingly be pushed into the area of the reference beam, and accordingly the proportion of the reference beam that penetrates the second filter area can be reduced step-by-step will. The first filter region 82 filters out only that wavelength in which one of the wavelengths to be measured Elements is measured. Zwsc happen to all others Wavelength components of this filter range 82, but one small intensity deviation of these other wavelengths is not to be expected. To this undesirable Effect to compensator., Serves the 7-wcke Filter district set up to allow everyone else Wavelengths, with the exception of the wavelength to which the first filter district is tuned, filters out. This second filter area 84 is pushed so far into the reference beam 43 that the undesired Filter effect of the filter area 82 on the wavelengths to which the filter area is not tuned, is compensated in all positions of the first filter area in question.

so Wie ersichtlich, ist der zweite Filterbezirk 84 eines jeden Filters so angeordnet, daß er nicht auf denselben Querschnittsanteil des Bezugsstrahls 43 einwirkt, wie die zweiten Filterbezirke der beiden anderen Filter. Diese versetzte Anordnung der zweiten Filterbezirke 84 ist nötig, damit die damit angestrebte Kompensation in den einzelnen Filtern, unabhängig von den jeweils anderen Filtern, erfolgt.so as can be seen, the second filter region 84 is one each filter arranged so that it does not act on the same cross-sectional portion of the reference beam 43, like the second filter areas of the other two filters. This staggered arrangement of the second filter areas 84 is necessary so that the desired compensation in the individual filters, regardless of the other filters.

Der Dämpfer 66 dient dazu, DriftefTekte zu eliminieren, die entweder durch den Verstärker oder durch die Ausgangsintensität in der Lichtquelle 18. bedingt sein können. Zu diesem Zweck werden die Antriebsmittel 74, 76, 78, die den einzelnen Filtern 68, 70, 72 zugeordnet sind, von den Ausgangssignalen K₁ K₂, K₃ gesteuert. Dadurch werden die einzelnen Filter 68, 70, 72 so verschoben, bis die in den Monochromator 38 einfallenden Anteile des Meß- und Bezugsstrahles gleiche Intensität haben. Die Absorption, die durch das Filter 68 bewirkt wird, entspricht dann also der Ab-The attenuator 66 serves to eliminate drift effects which can be caused either by the amplifier or by the output intensity in the light source 18. For this purpose, the drive means 74, 76, 78, which are assigned to the individual filters 68, 70, 72, are controlled _{by the output signals K 1,} K ₂ , K _3. As a result, the individual filters 68, 70, 72 are shifted until the portions of the measuring and reference beams incident in the monochromator 38 have the same intensity. The absorption caused by the filter 68 then corresponds to the absorption

ι ö 10 41 y v/ι ö 10 41 y v /

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sorption der betreffenden Strahlenkomponente im rate erreicht ist, d. h..also, die Beimischung an Nickel Meßslrahl 19. Die Absorption dieses Strahlenanteils in der Dampfphase 16 den gewünschten Wert hat, hält entspricht dann der Stellung des Filters 68 und der des die Temperatursteuerung 108 das vorliegende Tempegleichzeitig mit dem Filter 68 verstellten Potentio- raturniveau in der Nickel-Dampf-Quelle 110 konstant, meters 85. Entsprechendes gilt auch für die Filter 70 5 Damit der betreffende Regelvorgang schnell anspricht, und 72 und die zugehörigen Potentiometer 81 und 83, empfiehlt sich eine Dampfquelle mit Elektronenstrahldie gemeinsam mit den letztgenannten Filtern verstellt verdampfung, die schnell und leicht hinsichtlich der werden. Die Potentiometereinstellungen der Potentio- .Verdampfungsintensität zu steuern ist. meter 81, 83 und 85 werden als Signale Kc₀, Vfc und Das Potentiometer 112 in dem Meßkanal 90 wird Vm abgegriffen. Das System ist so justiert, daß, wenn io auf den Prozentgehalt der gewünschten Eisenbeiim Meßstrahl 19 keinerlei Absorption stattfindet, die mischung in dem Dampfstrom 16 eingestellt. Das letztgenannten Ausgangssignale Vm, VFe, Vco samt- Signal am Ausgang des Potentiometers 112 wird mit lieh Null sind. Bei Absorption im Meßstrahl zeigen die dem gemessenen Niederschlagssignal für Eisen, dem Signale V_Co, VFe und Vm die Absorption in den ein- Signal Rate Fe, in dem Differenzverstärker 114 verzelncn Wellenlängenbezirken des Meßstrahls 19 an, 15.glichen. Das Ausgangssignal des Differenzverstärkers und zwar das Signal ί Y₀ die Absorption durch Kobalt, 114 gelangt an die Temperatursteuerung 116, die ihrerdas Signal Kf,. die Absorption durch Eisen und Kw die seits die Eisen-Dampf-Quelle 118 entsprechend nachAbsorption durch Nickel. · steuert. Sobald das Ausgangssignal am Potentiometer Diese Ausgangssignale Vm, V_Fe, Vco werden in 112 mit dem Signal Rate Fe übereinstimmt, wird die einem nicht linearen dreikanaligen Verstärker 26 ver- ao Dampfintensität der Eisen-Dampf-Quelle 118 konstant stärkt, wobei die Nichtlinearität der Verstärkung ent- gehalten.The absorption of the relevant radiation component is reached in rate, i.e. the admixture of nickel measuring beam 19. The absorption of this radiation component in the vapor phase 16 has the desired value, then corresponds to the position of the filter 68 and that of the temperature controller 108 at the same time With the filter 68 adjusted potentiometer level in the nickel vapor source 110 constant, meters 85. The same applies to the filter 70 5 So that the control process in question responds quickly, and 72 and the associated potentiometers 81 and 83, a steam source is recommended with electron beam which, together with the latter filters, adjusts evaporation, which are quick and easy in terms of the. The potentiometer settings of the potentiometer .Vaporization intensity is to be controlled. Meter 81, 83 and 85 are tapped _{as signals Kc 0} , Vfc and the potentiometer 112 in the measuring channel 90 is Vm. The system is adjusted so that if there is no absorption whatsoever in the measuring jet 19 to the percentage of iron desired, the mixture in the steam stream 16 is ceased. The last-mentioned output signals Vm, VFe, Vco together with the signal at the output of the potentiometer 112 will be zero. In the case of absorption in the measuring beam, the measured precipitation signal for iron, the signals V _Co , VFe and Vm , indicate the absorption in the one-signal rate Fe, in the differential amplifier 114, distributed wavelength regions of the measuring beam 19, 15. The output signal of the differential amplifier, namely the signal ί Y ₀ the absorption by cobalt, 114 reaches the temperature controller 116, which receives the signal Kf ,. the absorption by iron and Kw on the one hand the iron-steam source 118 correspondingly after absorption by nickel. · Controls. As soon as the output signal at the potentiometer These output signals Vm, V _Fe , Vco coincide in 112 with the signal Rate Fe, the steam intensity of the iron-steam source 118 is constantly strengthened by a non-linear three-channel amplifier 26, the non-linearity of the amplification included.

sprechend der nicht linearen Abhängigkeit der zu ver- In entsprechender Weise wird in dem Meßkanal 92 stärkenden Signale von der Absorption gewählt ist, so das Potentiometer 120 auf den gewünschten Prozentdaß die Ausgangssignale, Rate Co, Rate Fe und Rate gehalt von Kobalt eingestellt und in dem Differenz-Ni proportional sind zu den in der Dampfphase vor- as verstärker 122 durch Vergleich zwischen dem Signal handenen zugehörigen Metallmengen. Die Ausgangs- Rate Co und dem Ausgangssignal dieses Potentiospannungen der drei Verstärkerkanäle werden in einer meters ein Steuersignal für die Temperatursteuerung Summierungsschaltung 86 zu einem Gesamtnieder- 124 abgeleitet, das die Dampfintensität in der Kobaltschlagssignal R aufsummiert. Dieses Signal R wird in Dampf-Quelle 126 entsprechend nachstellt, den Integrator 28 eingespeist, der daraus das Stärken- 30 I_n dem Potentiometer 128 wird die gewünschte signal C ableitet, das die Stärke des niedergeschlagenen Stärke des aufzudampfenden Films eingestellt. Die von Films angibt. dem Potentiometer 128 abgeleitete Spannung wird mit Aus den gewonnenen Meßsignalen wird außerdem dem Stärkesignal C am Ausgang des Integrators 28 in in den Meßkanälen 88, 90 und 92 die prozentuale Zu- dem Differenzverstärker 130 verglichen. Das Stärkesammensetzung des aufgedampften Niederschlags ver- 35 signal C zeigt die jeweils erreichte Filmstärke an So-. rrittdt. In jedem dieser Meßkanäle ist ein Differential- lange die erreichte Stärke kleiner ist als die gewünschte ,,verstärker 94 vorgesehen, der die Differenz zwischen entsteht am Ausgang des Differenzverstärkers 130 ein dem Signal für die Rate der zugeordneten Metall- Signal, das die Diode 132 passieren kann und an eine komponenten und dem Niederschlagssignal R bildet. Verschlußsteuerung 134 gelangt Die Verschlußsteue-Der Ausgang des Differenzverstärkers 94 wird in ₄° rung 134 steuert einen Verschluß 136 im Dampfstrom einem Kraftverstärker 96 verstärkt, dessen Ausgangs- der, solange er offen ist, den Dampfstrom an das signal wiederum Antriebsmittel 98 für den beweglichen Substrat 14 (vgl. Fig. 1) passieren läßt Solange Kontakt 100 eines Potentiometers 102 steuert. Auf Strom durch die Diode 132 hindurchfließt die Stärke diese Weise wird das Potentiometer 102 auf den Pro- des aufgedampften Films also noch nicht die eezentgehalt des betreffenden Metalls im Gesamtnieder- 45 wünschte Stärke erreicht hat, hält die Verschlußschlag eingestellt. Diese Einstellung kann an einer steuerung 134 den Verschluß 136 offen Bricht der nicht dargestellten Skala des Potentiometers 102 ab- Stromfluß durch die Diode 132 ab weil die gewünschte gelesen werden. Auf diese Weise kann an dem Poten- Filmstärke erreicht ist, dann steuert die Verschlußtiometer 102 des Meßkanals 88 der Prozentgehait an steuerung 134 den Verschluß zu und es kann kein Nickel, an dem Potentiometer 102 des Meßkanals 90 50 weiterer Dampf an das Substrat gelangen so daß derspeaking of the non-linear dependence of the signals to be strengthened in the measurement channel 92 is selected from the absorption, so the potentiometer 120 is set to the desired percentage that the output signals, rate Co, rate Fe and rate content of cobalt and in the Differential Ni are proportional to the associated amounts of metal present in the vapor phase before amplifier 122 by comparison between the signal. The output rate Co and the output signal of this potential voltage of the three amplifier channels are derived in a meter a control signal for the temperature control summing circuit 86 to form a total deposition 124 which sums up the steam intensity in the cobalt impact signal R. This signal mimics R is in steam source 126 accordingly, fed to integrator 28 from the strengths 30 I _n the potentiometer 128 is the desired signal C is derived which set the strength of the deposited thickness of the vapor-deposited film. Which by Films indicates. The voltage derived from the potentiometer 128 is compared to the strength signal C at the output of the integrator 28 in the measuring channels 88, 90 and 92 of the differential amplifier 130 from the measurement signals obtained. The starch composition of the vapor deposited precipitate shows the respective film thickness achieved at So-. rrittdt. In each of these measuring channels a differential length is provided, the strength achieved is smaller than the desired amplifier 94, which is the difference between the signal for the rate of the associated metal signal which the diode 132 passes through at the output of the differential amplifier 130 can and to a component and the precipitation signal R forms. Shutter control 134 arrives The shutter control-The output of the differential _{amplifier 94 is controlled in 4} ° tion 134 controls a shutter 136 in the steam flow of a power amplifier 96, the output of which, as long as it is open, the steam flow to the signal in turn drive means 98 for the movable substrate 14 (see. Fig. 1) can happen as long as contact 100 of a potentiometer 102 controls. When the current flows through the diode 132, the potentiometer 102 on the sample of the vapor-deposited film has not yet reached the desired thickness, the latch stops. This setting can be opened on a control 134, the shutter 136. Aborts the scale (not shown) of the potentiometer 102 - current flow through the diode 132 because the desired read. In this way, the potentiometer 102 of the measuring channel 88 controls the closure tiometer 102 of the percentage control 134 to control the closure and there can be no nickel, at the potentiometer 102 of the measuring channel 90 50 more steam to get to the substrate so that the

2" ΐ??,"¹⁸⁰?⁸«,"! ^EiSn^{n Und} ^amu P°^tenti°^m^^e,^{r 102} bis dahin aufgedampfte Niederschlag sich nicht verdes Meßkanals 92 der Prozentgehalt an Kobalt im stärken kann. Für Fälle, in denen weitere Substrate aufgedampften Niederschlag abgelesen werden. innerhalb der Aufdampfkammer vorgesehen sind die Für den Wandler 24 und die Meßkanälc 88, 90 und im Anschluß daran bedampft werden sollen wird vor 92 ist in F i g. 4 eine andere Alternative angegeben. Bei 55 der nächsten Dampfphase der Integrator 28 wieder der Ausführungsform nach F i g. 4 wird der Aufdampf- zurückgeschaltet, und zu diesem Zweck ist eine Steuerprozeß unterbrochen, sobald der Film eine vor- leitung vorgesehen, die von der Verschlußsteuerune 134 bestimmte Stärke erreicht hat. Außerdem werden die zum Integrator 28 führt und den Intejirator 28 auf Beimischraten der einzelnen Komponenten im Dampf- Null steuert, wenn der Verschluß 136 für das nächste strom nachgestellt. Zum Nachstellen der Nickel-Bei- 60 Substrat wieder geöffnet wird nacnsic mischrate als der Hauptrate der Hauptbeimischung Es sei nun angenommen, daß ein wird das Potentiometer 104 in den Meßkanal 88 auf 73·/. Nickel. 21% Ehen und 4% KowTSfKS den gewünschten Prozentgehait bzw. die gewünschte Gesamtaufdampfrate von 8 Angström pro Sekunde in Beimischrate eingestellt. Das daraus resultierende einer Stärke _von insgesamt fSM AiSJ₁SSf_-? DifTercnzsignal am Ausgang des Differenzverstärkers 65 dampft werden soll. Das Potentiometer 104 wird zu 106 gelangt an einen Temperatursteuerer 108 für die diesem Zweck auf die gewünschte GesamiauMnmnf-Nickel-Dampf-Qucllc 110 in der Aufdampfkammer. rate von 8 Angström pro Sekunde eS Dann Sobald im Aufdampfprozeß die gewünschte Aufdampf- werden die Potentiometer 112 und 120 mif rite Bei-2 "ΐ ??," ¹⁸⁰ ? ⁸ «,"! ^EiS n ^{n And} ^am u P ° ^tenti ° ^m ^ ^e , ^{r 102} precipitate that has been evaporated up until then, the percentage content of cobalt cannot be strengthened in the measuring channel 92. For cases in which further substrates evaporated precipitate can be read off. For the transducer 24 and the measuring ducts 88, 90 and subsequent vaporization is provided before 92, another alternative is given in Fig. 4. At 55 of the next vapor phase, the integrator 28 again according to the embodiment 4, the evaporation is switched back, and for this purpose a control process is interrupted as soon as the film has a lead which has reached a strength determined by the shutter control 134. In addition, the leads to the integrator 28 and the injector 28 on the admixture rates of the individual components in the vapor zero controls when the shutter 136 is readjusted for the next stream acnsic mix rate as the main rate of the main admixture. It is now assumed that the potentiometer 104 in the measuring channel 88 is set to 73 · /. Nickel. 21% marriage and 4% KowTSfKS set the desired percentage content or the desired total vapor deposition rate of 8 angstroms per second in admixing rate. The resulting strength _of a total of fSM AiSJ ₁ SSf _- ? DifTercnzsignal at the output of the differential amplifier 65 is to be steamed. The potentiometer 104 is passed to 106 to a temperature controller 108 for this purpose on the desired total nickel-vapor-source 110 in the vapor deposition chamber. rate of 8 angstroms per second.

niischprozcntc für liisen und Kobalt, d. h. also 21 und 4¹V_n, eingestellt. Die daraus resultierenden Ausgangssignalc der Differenzverstärker 106, 114 und 122 steuern die zugehörigen Temperalursteucrungen 108, 116, 124 und damit die Dampfqucllcn 110, 118. 126. His jcl/t ist der Verschluß 136 noch geschlossen.niischprozcntc for iron and cobalt, ie 21 and 4 ¹ V _n , are set. The resulting output signals of the differential amplifiers 106, 114 and 122 control the associated temperature controls 108, 116, 124 and thus the steam sources 110, 118. 126. The shutter 136 is still closed.

Die Ausganpssignale Ir,,, I '/·.. Ia₁. die aus dem Dämpfer 66 nach I i g. 2 A si am men. werden, wie auch nach I·' i g. 2 B, in dem Verstärker 26 in drei nicht linearen Verstürkerkanälcn verstärkt, so daß am Ausgang dieser drei Kanäle die Signale Rate Co, Rate Fe, Rate Ni entstehen, wie auch im Text zu F i g. 2 B erläutert. Die Signale Rate Co und Rate Fe werden in die Differenzverstärker 114 und 122 eingespeist. Das aus diesen Signalen Kate Co, Rate Fe und Rate Ni im Summierer 86 gebildete Summcnsignal R gelangt in den Differenzverstärker 106 und an die Potentiometer 112, 120. von wo das zweite Eingangssignal für die Differenzverstärker 114, 122 abgegriffen wird, wiihiend das zweite F.ingangssignal des Differenz.-verslärkers 106 an dem Potentiometer 104 abgegriffen wird. Sobald die jeweils in dem Differenzverstärker verglichenen Fingangssignalc paarweise gleich sind, ist die gewünschte Aufdampfintensität und Zusammensetzung des Dampfstromes erreicht.The output signals Ir ,,, I '/ · .. Ia ₁ . from the damper 66 according to I i g. 2 A si am men. become, as also after I · 'i g. 2 B, amplified in the amplifier 26 in three non-linear amplifier channels, so that the signals rate Co, rate Fe, rate Ni arise at the output of these three channels, as in the text on FIG. 2 B. The Rate Co and Rate Fe signals are fed to differential amplifiers 114 and 122. The summing signal R formed from these signals Kate Co, Rate Fe and Rate Ni in the summer 86 reaches the differential amplifier 106 and the potentiometers 112, 120, from where the second input signal for the differential amplifiers 114, 122 is tapped, while the second F. input signal of the differential amplifier 106 is tapped at the potentiometer 104. As soon as the input signals compared in each case in the differential amplifier are the same in pairs, the desired vapor deposition intensity and composition of the vapor flow are achieved.

1st dies der lall, dann wird der Verschluß 136 geöffnet, so daß nun der Niederschlag auf dem Substrat 14 beginnen kann. Der Integrator 28 beginnt mil dem Öffnen des Verschlusses 136 von der Finslellung Null an das eingespeiste Signal R zu integrieren und mißt auf diese Weise laufend die zunehmende Stärke des sich aufbauenden Films. Das Potentiometer 128 war vorher auf die gewünschte Filmstärke, also 1500 Angstrom, eingestellt worden. Solange diese Filmslärkc nicht erreicht ist, gelangt das Ausgangssignal des Differenzverstärkers 130 über die Diode 132 in die Vcrschlußsleucrung 134, und der Verschluß 136 bleibt offen. Hat die Filmslärkc die Stärke 1500 Angslröm erreicht, dann ändert das Ausgangssignal am Differenzverstärker 130 sein Vorzeichen und kann nun nicht mehr die Diode 132 passieren, so daß der Verschluß 136 geschlossen wird und damit der Niederschlag auf dem aufgedampften Film beendet wird. Nun kann das bedampfte Substrat gegen ein anderes ausgetauscht werden. Der Integrator 28 wird auf Null zurückgeschaltet, und es kann ein neuer Aufdampfvorgang beginnen.If this is the case, then the shutter 136 is opened so that the deposition on the substrate 14 can now begin. With the opening of the shutter 136, the integrator 28 begins to integrate from the zero position to the fed-in signal R and in this way continuously measures the increasing thickness of the film that is being built up. The potentiometer 128 had previously been set to the desired film thickness, i.e. 1500 Angstroms. As long as this film noise is not reached, the output signal of the differential amplifier 130 passes through the diode 132 into the closure gate 134, and the shutter 136 remains open. If the film noise has reached 1500 Angslröm, the output signal at the differential amplifier 130 changes its sign and can no longer pass the diode 132, so that the shutter 136 is closed and the deposition on the vapor-deposited film is ended. Now the vaporized substrate can be exchanged for another. The integrator 28 is switched back to zero and a new vapor deposition process can begin.

In der Praxis hat sich gezeigt, daß man die Aufdampfraten der einzelnen Komponenten nach der I rl'indung mit einer Genauigkeit von ungefähr 0,1 Angström pro Sekunde festlegen kann. Diese Genauigkeit kann voraussichtlich noch gesteigert werden, und sie läßt sich auch erzielen in Verbindung mit anderen Metallen, wie z. B. Aluminium, Gold, Kupfer. Chrom, sowie auch in Verbindung mit uuf/udampfenden Nichtmetallen, wie Silizium. Germanium, und Verbindungen, wie beispielsweise Sili/ium-Monoxyd In practice it has been shown that the evaporation rates of the individual components after the invention with an accuracy of approximately 0.1 angstroms per second. This accuracy can probably be increased be, and it can also be achieved in conjunction with other metals, such as. B. aluminum, gold, Copper. Chromium, as well as in connection with possibly evaporating non-metals such as silicon. Germanium, and compounds such as silicon monoxide

Claims

Patent claims:

I Procedure for measuring the thickness of a layer deposited on a support during the Evaporation process with suction measurement at a conference hall. the at least parts of the absorption spectrum of the visual material stop, in comparison with a size d u d u r c Ii g ι k e η η / e i c h η e t that the on vapor flow (lh) traversed transversely by the light beam (19) outside the layer (17) to be measured and that the difference between the portion of the light beam not absorbed by the vapor deposition current and the reference size increases over the evaporation time the desired strength magnitude (r) is integrated.

2. The method according to claim 1, characterized in that a MilJslrahl from the light beam and a reference jet is masked out as a reference value, from which the measuring jet represents the steam flow permeated while the reference jet is past the steam stream, and then both Rays together in a comparative intensity measurement be subjected.

3. The method according to claim 2, characterized in that the reference beam! and the measuring beam can be masked out of the light beam by alternating pulse scanning.

4. The method according to claim 1, 2 and / or 3, characterized in that the light beam through Ion bombardment of the components in the way that they are to be measured in the steam jet will.

5. The method according to one or more of the preceding claims, characterized in, that several different steam components (nickel, cobalt, Elisen) in the steam stream at the same time by measuring the absorption of these vapor components individually assigned absorption specimens be measured.

6. The method according to claim 2 and 5, characterized in that the reference beam by selective, the absorption corresponding to the individual vapor components is dampened by filtering will and that the great; of the individual absorptions in the manner of a zero comp;: nsation continuously in accordance with the for each relevant The absorption values determined by the vapor component are readjusted until the reference jet is obtained on every steam jet component is just as damped as the measuring jet, and that from the respective readjustment variable achieved with zero compensation for the filtering output originals for the required evaporation intensity can be derived

7. The method according to one or more dci of the preceding claims, characterized shows that the intensity measurement on the light or measuring beam is multi-channel with one channel each for each vapor component, in which the light beam before intensity measurement in band areas In terms of the individual steam components, broken down and so broken down, measured wire

8. The method according to one or more of the preceding claims, characterized draws that the output signals individually for them by non-linear amplification into a linear Relation to the intensity of the respective steam component concerned.

9. The method according to claim 8, gekcni characterized in that from the lineurized output! Signals by summing a precipitation sum signal is derived and that durc Comparison between this precipitation signal and the individual linearized output Signals display quantities for the percentage content of the individual steam components i Steam jet can be derived.

10. The method according to one or more d of the preceding claims, characterized peken

is characterized by the fact that each steam component can be individually controlled in terms of its intensity is evaporated and that the intensities or admixture rates of the individual steam components are continuously readjusted based on the control signals assigned to the individual steam components, from a preset, the linearized output signals and the sum signal can be obtained from these linearized output signals.

11. The method according to one or more of the preceding claims, characterized in, that the precipitate is blocked with ongoing evaporation, as long as the admixture rates of the individual steam components do not have a preset value.

12. The method according to one or more of the preceding claims, characterized in, that the precipitate is shut off with ongoing evaporation as soon as the through * ° Time integration of the summed linearized output signals determined the strength value of the meanwhile achieved precipitation has reached a preset value.

13. Arrangement for measuring the thickness and / or composition of a on a carrier plate vapor-deposited metallic film with at least one of the components nickel, iron, cobalt or the like. During the evaporation process, the steam source and the carrier plate in one The vapor deposition chamber is accommodated and two are arranged on both sides of the vapor deposition chamber Helmholtz coils the magnetic required to magnetize the vapor-deposited film Generate field, characterized in that to exercise the method according to one or more of the preceding claims directed from the steam source (12) onto the carrier plate (14) Vapor stream (16) from a preferably emitted by a hollow cathode lamp (18) Light beam (19) is traversed transversely, the emission spectral lines of which are those contained in the steam flow Components correspond, and that at least one on that of the hollow cathode lamp

(18) opposite side of the vapor deposition chamber (10) arranged photocell (20) the from the steam flow (16) Unabsorbed portion of the radiation

(19) after division into the individual length portions of the steam components by a monochromator (38) picks up the output signals (Vr) of the photocell with comparison with a corresponding reference light beam (43) and after linearization by non-linear amplifier (26) an integrator (28) for deriving a strength signal indicative of the linear strength of the vapor deposited film.

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings