DE1812023A1 - Apparatus with a cathode ray tube and cathode ray tube for use in such a device - Google Patents
Apparatus with a cathode ray tube and cathode ray tube for use in such a deviceInfo
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Description
"Vorrichtung mit einer Kathodenstrahlröhre und Kathodenstrahlröhre zur Anwendung in einer solchen Vorrichtung"."Device with a cathode ray tube and cathode ray tube for Application in such a device ".
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung mit einer Kathodenstrahlrohre, in der ein Elektronenstrahl der von einem Strahlerzeugerssystem erzeugt und mit Hilfe einer Fokussierungslinse fokussiert wird, in einem schnalen langgestreckten Flecken eine Auftreffplatte trifft, welche Vorrichtung ein Ablenkglied zum Ablenken des Elek· tronenatrahls in einer Richtung quer zum Auftrefflecken des nicht abgelenkten Elektronenstrahls und ein Ablenkglied zum Ablenken dee Elek-The invention relates to a device with a cathode ray tube, in which an electron beam from a beam generator system generated and focused with the help of a focusing lens an impact plate hits in a short elongated spot, which device is a deflecting member for deflecting the elec · tronenatstrahls in a direction transverse to the impact licking of the undeflected Electron beam and a deflector for deflecting the elec-
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tronenatrahls in der LÄngsrichtung des Auftreffleckena des nioht abge- ιtronenatstrahls in the longitudinal direction of the Auftreffleckena of the nioht ab- ι
lenkten Elektronenstrahls enthält. Im Nachstehenden wird mit der X-directed electron beam contains. In the following, the X- Riohtung stets die der Querrichtung des Auftrefflecken« des nicht abgelenkten Elektronenstrahls entsprechende Richtung bezeichnet, wlhrend mit der Y-Richtung stets die der LSngsrichtung des Auftreffleckens des nicht abgelenkten Elektronenstrahls entsprechende Sichtung bezeichnet wird.Direction always denotes the direction corresponding to the transverse direction of the impact spot of the undeflected electron beam, while with the Y-direction always that of the longitudinal direction of the incidence of the undeflected electron beam corresponding sighting is designated.
Sie Erfindung bezieht sich weiterhin auf eine.KathodenstrahlrShre zur Anwendung in einer solchen Vorrichtung.The invention further relates to a cathode ray tube for use in such a device.
| Obgleich in vielen bekannten Vorrichtungen mit einer Kathodenstrahlröhre eine Kathodenstrahlröhre Anwendung finden kann, deren Elektronenstrahl eine Auftreffplatte in einem runden-Flecken trifft, ist es bekannt, dass es für eine befriedigende Wirkung einiger Vorrichtungen mit einer Kathodenstrahlröhre erforderlich ist, dass der Elektronenstrahl die Auftreffplatte in einem schmalen langgestreckten, z.B. elliptischen, Flecken trifft. Diese Anforderung ist meistens auf die besondere Struktur der Auftreffplatte zurückzuführen, Sie wird z.B. an Vorrichtungen gestellt, bei denen die Auftreffplatte ein Mosaik aus gesonderten langgestreckten leitenden Elementen enthält, und an Farbfernsehbildwiedergabevorrichtungen, bei denen die Auftreffplattg, der Kathodenstrahlröhre schmale Leuchtstoffstreifen enthält. Eine besondere Art der letzteren Vorrichtungen ist die Wiedergabevorrichtung vom sogenannten "Index-Typ", bei der die Kathodenstrahlrohre eine sogenannte "Indexröhre" ist. Die Auftreffplatte einer "Indexröhre" enthalt eine > Vielzahl schmaler nahezu paralleler Leuchtstoffstreifen, wobei benachbarte Streifen in verschiedenen Farben aufleuchten,w enn sie von Elektronen getroffen werden, während aufeinander folgende Leuchtstoffstreifen durch schwarze unwirksame Streifen voneinander getrennt sind.| Although many known cathode ray tube devices may employ a cathode ray tube whose electron beam hits a target in a round spot it is known that for some devices with a cathode ray tube to work satisfactorily it is necessary that the electron beam hits the target in a narrow, elongated, e.g. elliptical, spots meets. This requirement is mostly due to the due to the special structure of the target, e.g. placed on devices in which the target plate contains a mosaic of separate elongated conductive elements, and on color television picture display devices in which the Auftreffplattg, the Cathode ray tube contains narrow strips of fluorescent material. A special The latter type of device is the so-called "index type" display device in which the cathode ray tubes are so-called "Index tube" is. The target of an "index tube" contains a > A multitude of narrow, almost parallel fluorescent strips, with neighboring strips lighting up in different colors when they are hit by electrons, while successive fluorescent strips are separated from one another by black ineffective strips.
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• Auf den Leuchtstoffstreifen und den schwarzen Streifen befindet sich auf der Seite 4«a Strahlerzeugerssystems eine für Elektronen durchlfissige Schicht, auf der zu den ^euchtstoffstreifen parallele in regelnde eigen Abstanden voneinander liegende Streifen angebracht sind. Siege Streifen bilden die sogenannten Indexstreifen zur Bestimmung der Lage des Elektronenstrahls. Die Breite der Leuchtstoffstreifen und der schwarzen Streifen muss besonders klein sein, damit ein Bild hoher Gflte erhalten werden kann.• Is on the fluorescent strip and the black strip on page 4 of a beam generator system one that is permeable to electrons Layer on which is parallel to the fluorescent strips in regulating own spaced strips are attached. Victories Stripes form the so-called index stripes to determine the position of the electron beam. The width of the fluorescent strips and the black strips must be particularly small so that an image of high quality can be obtained.
Es ist oft erwünscht, dass diese Breite höchstens einige Zehntel eines Millimeters ist. Infolgedessen'muss der Elektronenstrahl strengen Anforderungen entsprechen. PrimSre Farben werden nur richtig wiedergegeben, wenn der Elektronenstrahl jeweils nicht mehr als einen leuchtstoffstreifen trifft. Die Abmessung des Auftreffleckens des Elektronenstrahls in einer zu den leuchtstoffstreifen senkrechten Richtung muss daher nahezu gleich der Breite dieser Leuchtstoffstreifen sein. Zum Erhalten einer genügenden Helligkeit sind ütrahlstrb'me bis zu einigen mA erforderlich. Um bei diesen hohen Strömen eine genügend geringe Ütrahlabmessung in einer zu den L'euchstoffstreifen senkrechten Richtung an der Stelle der Ablenkmittel und an der Stelle der Auftreffplatte zuerhalten und um eine leuchtstoffSättigung bei hoher Strahlleistung möglichst zu vermeiden, ist es erforderlich, dass die Abmessung des Auftreffleckens des Elektronenstrahls in Richtung auf die Leuchtstoffstreifen grosser als die mit Rücksicht auf die ßreite der Leuchtstoffstreifen erforderliche geringe Abmessung des Auftreffleckena in einer "au den Leuchstoffstreifen senkrechten Richtung ist.It is often desirable that this width be a few tenths of a millimeter at most. As a result, the electron beam must meet strict requirements. Primary colors are only reproduced correctly if the electron beam does not hit more than one fluorescent strip at a time. The dimension of the impact leakage of the electron beam in a direction perpendicular to the phosphor strips must therefore be almost equal to the width of these phosphor strips. Beam currents of up to a few mA are required to obtain sufficient brightness. In order to obtain a sufficiently small radiation dimension at these high currents in a direction perpendicular to the fluorescent strips at the location of the deflection means and at the location of the target and to avoid phosphor saturation at high radiation power as far as possible, it is necessary that the dimension of the impact leakage of the electron beam toward the phosphor stripes larger than those with respect to the SS to the phosphor stripes ride required small dimensions of the Auftreffleckena in an "au L EUC hstoffstreifen vertical direction.
" " " Eine bekannte Vorrichtung der im ersten Absatz erwähnten. Art enthalt eine durch eine Ring aus ferromagneti schein Material gebildete EOkussierungslinse. Der Ring ist konzentrisch um die Bahn des Elek-"" "A known device of those mentioned in the first paragraph. Kind contains one formed by a ring of ferromagnetic material EOcussing lens. The ring is concentric around the path of the elec-
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phi.2949 ;.phi.2949;.
tronenstrahls angebracht und ist in einer zu der Bahn de· Elektronenstrahls parallelen Richtung magnetisiert. Auf der Aussenoberfliehe de· Ringes befindet eich mindestens ein Block aus ferromagnetische« Material, der in nicht magnetisiertem Zustand angebracht ist« In dieser Torrichtung wird dadurch ein langgestreckter Auf tref f2,eokea erhalten, dass durch das Vorhandensein des Blockes aus ferromagnetieohem Material der Querschnitt des Elektronenstrahle,der in Abwesenheit eines solchen, Blockes drehsymmetrlsch wSre, in der Y-Richtung verlSngert wird. Der Block ist derart angebracht, dass eine Linie, die den Block alt der Bahn des Elektronenstrahls verbindet, zu der erwünschten T-RichtungThe electron beam is attached and is magnetized in a direction parallel to the path of the electron beam. On the outside surface de In the ring there is at least one block of ferromagnetic material that is attached in a non-magnetized state Gate direction will result in an elongated on tref f2, eokea, that due to the presence of the block of ferromagnetic material, the cross-section of the electron beam, which in the absence of such, Block is rotationally symmetrical, it is lengthened in the Y-direction. Of the The block is attached in such a way that a line that separates the block from the old The path of the electron beam connects to the desired T-direction nahezu parallel ist. Die geeigneten Abmessungen des Blocke.· werden in der Praxis dadurch bestimmt, dass bei einem möglichst genau auf die Auftreffplatte fokussierten drehsymmetrisehen Elektronenstrahl aehrere Blöcke aus ferromagiB tischen Material angebracht werden, !bis der verlangte Strahlquereohnitt erreicht ist*is almost parallel. The appropriate dimensions of the block. · Are given in in practice determined by the fact that with one as closely as possible to the Impact plate focused several rotationally symmetrical electron beams Blocks made of ferromagic material must be attached! Until the required cross-beam clearance is achieved *
Die obenerwShnte bekannte Vorrichtung hat den Nachteil,d as· die Form und die Lage des Auftreffleekens de· abgelenkten Elektronenstrahl· von der Form und der Lage de· Auftrefflecken· des nicht abgelenkten Elektronenstrahls abweichen. Dieser Nachteil ist besonder· gross bei einer Torrichtung zur Ablenkung über grosse Winkel. Insbesondere bei einer derartigen als eine Wiedergabevorrichtung vom "Index"· Typ" ausgebildeten Vorrichtung ändert sich die Lange des Auftr*fflecken· meistens zu schnell als Funktion de· Ablenkwinkels, insbesondere wenn die Ablenkmittel einen dauernd schmalen Auftrefflecken eichern müssen· Bei einem bestimmten Ablenkwinkel hat die LÄnge des Auftreffleckens im allgemeinen einen Mindestwert, wobei dann infolge von Leuchtetoffsättigung ein dunkler Ring oder ein Ring einer bestimmten Farbe auf der Auftreffplatte beim Betrieb der Wiedergabevorrichtung sichtbar ist. DieThe above-mentioned known device has the disadvantage that the shape and the position of the point of incidence of the deflected electron beam differ from the shape and position of the point of incidence of the undeflected electron beam. This disadvantage is special large with a gate direction for deflection over large angles. In particular, such as a reproducing device from the "index" · Type "trained device changes the length of the application spot · mostly too fast as a function of the deflection angle, especially when the deflection means must ensure a constantly narrow point of impact At a certain deflection angle, the length of the impact spot is im generally a minimum value, with a dark ring or a ring of a certain color then being visible on the target when the playback device is in operation as a result of luminous substance saturation. the
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' Farbe de« Ringe· ist von den angewandten Leuchtstoffen abh£ngig«I)uroh ■ eine Kippbewegung dea Auftreffleckens in der XT-Ebene, die eine effektive Erweiterung dieses Fleokens zur Folge hat, kann eich dieser Fleoken an den Ecken der Auftreffplatte gleichseitig fiber aehr als eines leuchtstoff streifen erstrecken, wodurch die Güte der Farbwiedergabe erheblich beeinträchtigt wird· Ee kann sogar eine fehlerhafte Index-Bnformation erhalten werden, indes der Strahl gleichzeitig mehrere Indexstreifen trifft.The color of the rings depends on the phosphors used a tilting movement of the impact licking in the XT plane, which results in an effective expansion of this spot, can calibrate this spot at the corners of the target plate extend on the same side as more than a fluorescent strip, whereby the quality of the color rendering is considerable · Ee can even contain incorrect index information are obtained while the beam has several index strips at the same time meets.
Die Erfindung bezweckt, eine Torrichtung zu schaffen, die diesen Nachteilen begegnet·The invention aims to provide a gate direction that encountered these disadvantages
- ' Eine Torrichtung alt einer Kathodenstrahlröhre, in der ein Elektronenstrahl der von einem Strahlerzeugerssystem erzeugt und mit Hilfe einer Fokussierungslinse fokussiert wird, in eines schmalen langgestreckten Flecken eine Auftreffplatte trifft und die ein Ablenkglied zum Ablenken des Elektronenstrahl in der Querrichtung des Auftrefffleckens des nicht abgelenkten Elektronenstrahls (X-Riohtung) und ein Ablenkglied zum Ablenken des Elektronenstrahls in der Längsrichtung des Auftreffleckens des nicht abgelenkten Elektronenstrahls (Υ-fiiohtUng) enthält, ist nach der Erfindung mit einer astigmatischen Linse zum Erhalten einer Elektronenstrahlstruktur versehen, bei der der nicht abgelenkten Elektronenstrahl in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der erwähnten Querrichtung (X-Bichtung) parallelen Ebene nahezu auf die Auftriffplatte und in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der erwähnten Längsrichtung (Y-Richtung) parallelen Ebene in einem Punkt vor der Auftriffplatte auf der Seite des Strahlerzeugerssystems fokussiert ist* Es sei noch bemerkt, dass der Ausdruck "Punkt" hier ein Gebiet bezeichv met, in dem die Teilstrahlen zusammentreffen, und nicht im mathematischen Sinne interpretiert werden soll*- 'A gate direction old a cathode ray tube in which a Electron beam that is generated by a beam generator system and focused with the aid of a focusing lens, hits an impact plate in a narrow, elongated spot and which a deflection element for deflecting the electron beam in the transverse direction of the point of incidence of the undeflected electron beam (X-direction) and a Deflector for deflecting the electron beam in the longitudinal direction of the Impact of the undeflected electron beam (Υ-fiiohtUng) is provided according to the invention with an astigmatic lens for obtaining an electron beam structure in which the undeflected electron beam with respect to partial beams in one to the mentioned transverse direction (X-direction) parallel plane almost to the Impact plate and, with respect to partial beams, in one of the aforementioned Longitudinal direction (Y-direction) parallel plane is focused at a point in front of the impingement plate on the side of the beam generator system * It should also be noted that the term "point" here denotes an area met, in which the partial beams meet and should not be interpreted in a mathematical sense *
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, PHI.2949, PHI.2949
Der Erfindung liegt die. Erkenntnis zu gründe, dass alt eine« Elektronenstrahl dieser Struktur «in Flecken auf der Auftreffplatt· erhalten werden kann, der bei Ablenkung des Elektronenstrahls nicht ν ; nur eine gering« Breite beibehält, sondern auch ein« verhaltnismfasig stabile LSnge hat, wShrend ausserdem die effektive Erweiterung des Fleckens an den Ecken der Auftreffplatte duroh die Kippbewegung des Fleckens in der XY-Ebene gering sein kann. Der Elektronenstrahl ist in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der X-Richtung parallelen Eben« nahezu auf die Auftreffplatte fokussiert, so dass die Breite des Auf-The invention is the. To establish that old a « Electron beam of this structure «in spots on the target can be obtained which, when the electron beam is deflected, does not ν; retains only a slight breadth, but also a relatively small one has a stable length, while also the effective expansion of the Spot at the corners of the target due to the tilting movement of the Speckle in the XY plane can be small. The electron beam is in with respect to partial beams in a plane parallel to the X-direction «almost focused on the target, so that the width of the
t treffleckens des nicht abgelenkten Elektronenstrahls gering ist· Um beiB Ablenken des Elektronenstrahls die geringe Breite des Auftreffleckens beizubehalten, werden vorzugsweise derartige Ablenkmittel angewandt, dass dl« meridionale Bildebene des Ablenknittels zur Ablenkung in der X-Richtung und die sagittale Bildebene des Ablenkmittels zum Ablenken in der T-Richtung möglichst mit der Auftreffplatte zusammenfallen. (Sagittale Brennlinien sind Brennlinien in der durch die Achse des Ablenkmittels und die Achse des Strahls gehenden Ebene· Meridionale Brennlinien sind Brennlinien senkrecht zu der durch die Achse des Ablenkmittels und die Achse des Strahls gehenden Ebene. Die Sagittalet hit leakage of the undeflected electron beam is small · Um When deflecting the electron beam, to maintain the narrow width of the impingement spot, deflection means are preferably used such that the meridional image plane of the deflection means is used for deflection in the X direction and the sagittal image plane of the deflecting means for Deflect in the T-direction coincide as much as possible with the target. (Sagittal focal lines are focal lines in the through-axis of the deflector and the plane passing through the axis of the beam · Meridional focal lines are focal lines perpendicular to the plane passing through the axis of the deflecting means and the axis of the beam. The sagittal
" Bildebene ist die Ebene, in der die «agittalen Trennlinien abgebildet"The image plane is the plane in which the« agittal dividing lines are depicted »erden. Die meridionale Bildebene ist die Ebene, in der die meridionalen Brennlinien abgebildet werden.) Sa der Elektronenstrahl in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der Y-Richtung parallelen Ebene in einem Punkt vorder Auf treff platte (von dem 3tränierzeugerssyste» her gesehen) ' fokussiert ist, liegen die sagittale Bildebene des Ablenkgliedes zur Ablenkung in der X-Richtung und die meridionale Bildebene des Ablenkgliedes zur Ablenkung in der Y-Richtung vor der Auftreffplatte und ist der Einfluss der Krümmung dieser Bildflächen auf die LXnge des Auftreff-"earth. The meridional image plane is the plane in which the meridional Focal lines are mapped.) Sa the electron beam with respect to Partial beams in a plane parallel to the Y-direction at a point in front of the impact plate (as seen from the 3tränierzeugerssyste) ' is focused, the sagittal image plane of the deflector for deflection in the X direction and the meridional image plane of the deflector for deflection in the Y direction lie in front of the target and is the influence of the curvature of these image surfaces on the length of the
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fleekens geringer als bei einer bisher üblichen Strahlstruktur, bei der der Elektronenstrahl in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der Y-Richtung parallelen Ebene hinter der Auftreffplatte fokussiert ist· Ia Gegensatz zu der Situation bei der üblichen Strahlstruktur, bei der die •agittale Bildebene des Ablenkgliedes zur Ablenkung in der X-Richtung und die neridionale Bildebene des Ablenkgliedes zur Ablenkung in der Y-Richtung sogar die Auftreffplatte schneiden können, so dass die Lange des Auftreffleokens einen schroffen Mindestwert passiert, wird ein derartiger Mindestwert bei einer Strahlstruktur nach der Erfindung vermieden. Es hat sich herausgestellt, dass die effektive Erweiterung des Auftreffleckens durch die Kippbewegung dieses Fleckens bei einer Strahlstruktur nach der Erfindung kleiner ale bei der erwähnten Üblichen Struktur sein kann. Die relative Verlängerung des Auftreffleckens bei der Ablenkung und die Kippbewegung des Auftreffleckens bei der Ablenkung sind beide von dem Abstand des Punktes, in dem der Elektronenstrahl in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der Y-Richtung parallelen Ebene fokuseiert ist, von der Auftreffplatte und von den Aberrationskoeffisienten der Ablenkglieder abhängig* Es hat sich gezeigt, dass diese relative VerlSngerung und diese Kippbewegung bei gegebenen Ablenkgliedern im allgemeinen nicht gleichzeitig durch eine bestimmte Wahl des erwShnten Abstandes auf ein Minimum herabgesetzt werden können} dieser Abstand kann jedoch bei Ausführungsformen der Vorrichtung nach der Erfindung derartfleekens less than with a previously common beam structure in which the electron beam is focused with respect to partial beams in a plane parallel to the Y-direction behind the target • Agittal image plane of the deflector for deflection in the X direction and the neridional image plane of the deflector for deflection in the Y-direction can even cut the target, so that the length of the impact point passes an abrupt minimum value, such a minimum value is avoided in the case of a beam structure according to the invention. It has been found that the effective extension of the Impact licking due to the tilting movement of this spot in the case of a beam structure according to the invention can be smaller than in the case of the usual structure mentioned. The relative extension of the impact spot in the Deflection and the tilting motion of the landing spot on deflection are both dependent on the distance of the point at which the electron beam is in is focused with respect to partial beams in a plane parallel to the Y-direction, depends on the target plate and on the aberration coefficients of the deflection members * It has been shown that these are relative Lengthening and this tilting movement for given deflecting members generally cannot be reduced to a minimum at the same time by a specific choice of the distance mentioned} this distance can however, in embodiments of the device according to the invention such
gewShlt werden, dass ein angemessener Kompromiß zwischen der Längenänderung und der Kippbewegung erreicht wird.It must be chosen that a reasonable compromise is achieved between the change in length and the tilting movement.
Die Vorrichtung nach der Erfindung kann derart ausgebildet werden, dass die Fokussierungelinse ein Linsenelement der erwähnten ' astigmatischen Linse enthält. Zum Erhalten der gewünschten Strahlstruk- · tür kann die Fokussierungelinse z.B. eine Vierpollinse enthalten.The device according to the invention can be designed in this way that the focusing lens is a lens element of the mentioned ' Includes astigmatic lens. To obtain the desired beam structure For example, the focusing lens can contain a quadrupole lens.
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Auch kann die Vorrichtung nach der Erfindung derart ausgebildet sein, da θ υ das Strahlersseugirssystem ein Linsenelement der erwähnten astigmatigehen Linse enthalt. Bio Vorrichtung nach der Erfindung ist vorzugsweise mit einem Strahlerzeugwesystem versehen, die mindestens eine Kathode, ein erstes Gitter und ein letztes als Besöhl©unigungaelektrode wirkendes Gitter enthalt, wobei dieses erste' Gitter eine nioht drehsymmetrische Qeffnuag aufweist, di© ©in© zu einer des· Ablenkriöhtungen parallele kurze Achse und eine zu eier anderen Ablenkrlohtung parallele lange Achse hat und die in bezug auf diese Achsen naheau symmetrisch ist. Die Oeffnung im erstea Gitter kann verschiedene geo-The device according to the invention can also be designed in such a way that the radiator suction system is a lens element of the type mentioned Contains astigmatic lens. Bio device according to the invention preferably provided with a jet generating system, the at least a cathode, a first grid and a last one as a special electrode contains effective grid, this first 'grid a non has rotationally symmetrical Qeffnuag, di © © in © to one of the · Ablenkriöhtungen parallel short axis and a deflection to another has parallel long axis and which with respect to these axes is naheau is symmetrical. The opening in the first grid can have different geo-
" metrische Formen haben, wobei zwei orthogonal® Symmetrieachsen vorhah-, den sind* Eine elliptische Oeffnung hat den Vorteil, dass jfie noch auf einfaehe Weise, z.B. duroh Stangen, im Gitter angebracht werden kann. Eckige Oeffnungen erfordern meistens verwickelter® Technikern, wie Pub« kenerosionzerepanung. Dies©".Strahlerzeugevaeyaten . kann ein: nioht dreh« symmetrisches "Triodenstrahlerzeugtraaystem" ' sein, die' aus einer Kathode c, eiaem ersten Gitter und einem letzten als Besehleuaigungstlektrode wirkenden Gitter besteht.- In ®in®.m derartigen Strahlerseugere*"-' system werden in Richtung auf die' kurze Achs® der Oeffnung im ersten"Have metric shapes, with two orthogonal® axes of symmetry being provided * An elliptical opening has the advantage that it can still be attached to the grid in a simple manner, for example using rods. Angular openings usually require intricate® technicians, such as Pub «Erosion machining. This ©". can be a: non-rotating "symmetrical" triode beam generating system "'consisting of a cathode c , a first grid and a last grid acting as a command electrode the 'short axis® of the opening in the first
k Gitter und in Sichtung auf di© lange Achse der Oeffnung la ersten Gitter gesonderte in verschiedenen Abständen ¥oa der Kathode liegend» linienförmig« Büadelknoten Strahlscliittliaieia von Teilstrahl®n erhalten, so dase die durch die Raunladung harfe©! ge führt® Qu@re<shnittsirergrSsserung dea Elektronenstrahls In dem Strahlerzeugeraisystöffi geringer als in einem drehsymaetrisehen Strahlerzeugeresyetem ist, in dem die Teilstrahlen einen einzigen punktfSraigen StrahlJtnoten "bilden. Vorzugsweise ist die kurze Achse der 0®ϊtnvng im ersten Gitter parallel zur i-Hichtung, damit die sphSrisohe Aberration in dem Strahlerz©uger*»ys-; ■ tem in bezug auf Teilstrahlen in einer KU ^er x.Hichtung parallelenk Lattice and in sighting on the long axis of the opening la first lattice separate at different distances ¥ oa the cathode lying "linear" cluster knot beam cliittliaieia from partial beams, so that the harp due to the space charge! ge führt® Qu @ re <shnittsirergrSsserung dea electron beam than in a drehsymaetrisehen Strahlerzeugeresyetem In the Strahlerzeugeraisystöffi less, in which the partial beams of a single punktfSraigen StrahlJtnoten form ". Preferably, the short axis of the 0®ϊtnvng in the first grating parallel to the i-Hichtung, thus the sphSrisohe aberration in the Strahlerz © uger * »YS; ■ tem in terms of sub-beams in a KU ^ he x.Hichtung parallel
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Ebene gering gehalten werden kann· In einer Vorrichtung mit einen auf diese Weise orientierten Triodenatrahlerzeugersystem ist auseer den - Strahlerzeugexeystem noch ein aatigmatischen Linsenelement vorgesehen, damit die Strahlschnittlinien in einer Reihenordnung abgebildet werden, die der Reihenordnung der zugehörigen Strahlsohnittlinien in dem Strahlerzeugerssystem in dem die Strahlachnittlinie fü? Teilstrahlen in einer zu der kurzen Achse der Oeffnung im ersten Gitter parallelen Ebene der lvathode naher liegt als die Strahlschnittlinieknoten für Teilstrahlen in einer zu der langen Achse der Oeffnung im ersten Gitter parallelen Ebene, gerade entgegengesetzt ist.In a device with a triode beam generating system oriented in this way, an aatigmatic lens element is also provided in addition to the beam generating system so that the beam cutting lines are mapped in a row order that corresponds to the row order of the associated beam beam lines in the beam generating system in which the beam cutting line fü ? Partial beams in a plane parallel to the short axis of the opening in the first grid is closer to the lv athode than the beam intersection node for partial beams in a plane parallel to the long axis of the opening in the first grid, is just opposite.
Es sei noch bemerkt, dass einer nicht drehsymmetrischerIt should also be noted that one is not rotationally symmetrical
Triodenstrahlerzeugerssystem an sich bereits beschrieben wurde, aberTriode gun system has already been described per se, but
die Möglichkeiten eines solchen Strahlerzeugerssystems zur Verbesserung der Wirkungsweise einer Vorrichtung, in der ein a'usserst schmaler langgestreckter bei ablenkung konstanter Auftrefflecken gewünscht ist, wurden nicht erwähnt.the possibilities of such a beam generator system for improvement the mode of operation of a device in which an extremely narrow elongated constant impact leakage is desired for deflection, were not mentioned.
In dem Strahlerzeugerssystem befindet sich vorzugsweise zwischen dem ersten und dem letzten Gitter ein zweites Gitter, das zusammen mit der Kathode, dem ersten Gitter und dem letzten Gitter die erwühnt* astigmatiache Linse bildet. Dies hat den Vorteil, dass auch wenff die kerze Achse der üeffnung im ersten Gitter zu der X-Richtung parallel ist, eine einfache drehsymmetrische Fokussierungslinse genügend ist. Db Fokus sie runge lins e ist vorzugsweise eine elektrostatische drehsym«· aietrieche Fokussierungslinse. Sie kann leicht zusammen mit dem Strahlerzeugerssystem als ein Gebilde in der Kathodenstrahlröhre angebracht werden. Die sphärische Aberration in Richtung auf die kurze Achse der Oeffnung im ersten Gitter kann durch das Vorhandensein des zweiten In the beam generator system there is preferably a second grid between the first and the last grid which, together with the cathode, the first grid and the last grid, forms the aforementioned astigmatic lens. This has the advantage that even wenff the candle axis of the above effnung in the first grid to the X-direction is parallel to provide a simple rotary symmetrical focusing lens is sufficient. The focus of the lung lens is preferably an electrostatic rotationally symmetrical focusing lens. It can easily be attached together with the beam generator system as one structure in the cathode ray tube. The spherical aberration in the direction of the short axis of the opening in the first grating can be caused by the presence of the second
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Gitters erheblich geringer als in einem Triodenstrahlerzeugerssyatem a®in. Die Geometrie der °effnung im ersten Gitter kann dabei derart ge«£hlt' sein, dass das Auftreten einer Strahlschnittlinie in dem Strahlerzeuger·- ! system in bezug auf Teilstrahlen in einer zu der Richtung der langen Achse der ueffnung im ersten Gitter parallelen Ebene vermieden wird, g[o dass der ungünstige Einfluss der durch die Raumladung herbeigeführten Querschnittsvergrösserung des Elektronenstrahls in dem !itrahlerzeugerssystem geringer als in einem Triodenstrahlerzeugungssystess sein kaame Bi® Oeffriung im zweiten Gitter ist vorzugsweise drehsymmetriech, so dass das | zweite Gitter leicht hergestellt und zentriert werden kann.The grid is considerably smaller than in a triode beam generator system a®in. The geometry of the opening in the first grid can be designed in such a way that a beam intersection line appears in the beam generator. system of u effnung parallel plane in the first grating with respect to sub-beams in a to the direction of the long axis avoided, its g [o that the adverse influence of the induced by the space charge cross-sectional enlargement of the electron beam in the! itrahlerzeugerssystem lower than in a Triodenstrahlerzeugungssystess kaam e Bi® opening in the second grid is preferably rotationally symmetrical, so that the | second grid can be easily made and centered.
Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf eine kathodenstrahl«· röhre zur Anwendung in der beschriebenen Vorrichtung und insbesondere auf eine Kathodenstrahlröhre, in der die Auftreffplatte schmale nahesu parallele Leuchtstoffstreifen zur Emisä on verschiedenen gefärbten Liofotes enthält. Diese leuchtstoffstreifen.können sehr schmal sein» insbesondere bei einer sehr günstigen Ausführungsform, bei <fer die Kathodenstrahlröhre einen Strahlerzeugerssystem und eine elektrostatisch® drehayMfietrische Fokussierungslinse enthält* Dieses 3trahler&eugerssystem enthält eine kathode, ein erstes Gitter, ein zweites Gitter und ein ™ letztes Git-tsr, wobei das erste Gitter eine nicht drohsymmeirische Oeffnung aufweist, die eine zu den Leuchtatoffstreifen nahezu parallele lange Achse uad eine zu den -^euchtstoffstreifen nahezu senkrechte kurze Achse MaisThe invention further relates to a cathode ray «· tube for use in the device described and in particular on a cathode ray tube, in which the target is narrow nahesu parallel fluorescent strips for the emission of different colored Liofotes contains. These fluorescent strips can be very narrow, especially in the case of a very favorable embodiment Furthermore, the cathode ray tube has a beam generator system and an electrostatic® rotary actuator Focusing lens contains * this 3-emitter & eugers system includes a cathode, a first grid, a second grid and a ™ last Git-tsr, whereby the first grid is not a threateningly symmetrical opening has a length that is almost parallel to the fluorescent strips Axis and a short axis almost perpendicular to the fluorescent strips Corn
Die Erfindung wird für ein Aus führungs bei spiel mchstehend an Hand der beiliegenden Zeichnungen nSher erläutert, Es zeigensThe invention is based on an exemplary embodiment It is explained using the accompanying drawings
Fig. 1 das Prinzip einer bekannten Wiedergabevorrichtung vom Index-TypjFig. 1 shows the principle of a known playback device from Index typj
Pig. 2 schaubildlich die Auftreffplatte· in der bekannten Wie-Pig. 2 shows the target in the known way
909831/0841909831/0841
PHN.2949PHN.2949
dergabev,orrichtung nach Fig. 1 jdergabev, device according to Fig. 1 j
Fig. 3 den Auftrefflecken des Elektronenstrahls an verschiedenen Teilen der Auftreffplatted er bekannten Wiedergabevorrichtung nach Fig. 1; . ■Fig. 3 shows the impact leakage of the electron beam at various Parts of the target plate of the known playback device according to Fig. 1; . ■
Fig. 4 das Verhalten des Elektronenstrahls in der bekannten Vorrichtung nach Fig, Ij4 shows the behavior of the electron beam in the known device according to FIG
Fig. 5 das Verhalten des Elektronenstrahls in einer Vorrichtung nach der Erfindung}5 shows the behavior of the electron beam in a device according to the invention}
Fig. 6 eine Vorrichtung mit einer Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung}Fig. 6 shows a device with a cathode ray tube according to the invention}
Fig. 7 im Detail Elemente aus der Kathodenstrahlröhre nach Fig. 6, und7 shows in detail elements from the cathode ray tube according to FIG Fig. 6, and
Fig. 8 einen Teilschnitt iSngs der Linie.VIII-YIiI dar Fig. Fig. 1 zeigt das bekannte Prinzip einer Wiedergabevorrichtung vom Index-Typ, die ein typisches "°t*ispiel einer Vorrichtung ist, bei der ein Elektronenstrahl in einem langgestreckten Flecken eine Auftreffplatte treffen soll. Die Figur zeigt schematisch das Strahlerzeugeresystem 1 einer indexröhre, mit deren Hilfe ein Elektronenstrahl 2 erzeugt wird, Der Elektronenstrahl trifft die Auftreffplatte 3, die teilweise dargestellt ist. Die Auftreffplatte befindet sich auf der Frontplatte der Indexrohre, die teilweise dargestellt ist. Zwischen dem Strahlerzeugerssystem 1 und der Auftreffplatte 3 befinden sich eine (nicht.in Fig. 1 dargestellte) Fokuseierungslinse und in Fig. 1 nicht dargestellte Ablenkglieder zur Ablenkung des Elektronenstrahls über der Auftreffplatte. 3. Die Auftreffplatte 3 enthalt schmale senkrechte Leuchtstoff-Streifen 5, 6 und 7, von denen die mit 5 bezeichneten Streifen blau, die mit 6 bezeichneten streifen rot und die mit J bezeichneten streifen gfün. aufleuchten, wenn sie vom Elektronenstrahl getroffen werden. AufeinanderFig. 8 shows a partial section along the line VIII-III The figure shows schematically the beam generator system 1 of an index tube with the aid of which an electron beam 2 is generated. A focusing lens (not shown in FIG. 1) and deflection elements (not shown in FIG. 1) for deflecting the electron beam above the target are located between the beam generator system 1 and the target plate 3. 6 and 7, of which the stripes labeled 5 are blue, the stripes labeled 6 are red and the stripes marked with J are gfün. light up when hit by the electron beam. On each other
909831/08AS909831 / 08AS
·. ' PHN«2<·. 'PHN' 2 <
-12- :
T ■ ' I '■■"* -12-:
T ■ 'I' ■■ "*
folgende1 Leuchtstoffstreifen sind durch schwarze nicht wirksame Streifen 8 voneinander getrennt. Auf den Leuchtstoffstreifen und den schwarzen Streifen befindet sich eine für d-ie Elektronen durchliseigo leitende Schicht 9» die zur Veraneehaulichung der Leuchtstoffetreifen unterbrochen ist» Diese Schicht 9 dient zum Reflektieren von Licht auf die Frontplatte 4 und zum Schützen der Leuchtstoffstreifen vor Zonenaufprall· In der Figur ist auf der durchlSssigen Schicht 9 vor jedem zweiten schwarzen Streifen ein Indexstreifen 10 sichtbar. Diese Streifen 10 liefern Signale zur Anzeige der Lage dee Elektronenstrahl·. Die Streifen 10 können z.B. einen ultravioletten leuchtstoff enthalten, der iss blauen Teil des Spektrums licht aussendet. Von'einem Indexstreifen her wird ein Impuls ausgesandt, wenn der Streifen vom Elektronenstrahl getroffen wird. Sie Figur stellt eine Vorrichtung dar, in der ein derartiger Impuls 11 mit Hilfe eines Photomultiplizierers 12 detektiert wird, der z.B. hinter einem Fenster in dem in Fig. 1 nicht dargestellten Konus der Indexröhre befestigt ist. Die vom Fhotomultiplizierer herrührenden Indexeignale werden einem Kreis zugeführt, mit dessen Hilfe dafür ge« sorgt wird, dass die Farbsignale zum richtigen Zeitpunkt den Elektronenstrahl beeinflussen. Die Kreise für die elektrischen Signale sind für die Erfindung nicht wesentlich und sind in der Zeichnung nioht dargestellt. Aus den bereits in der Einleitung der Beschreibung angefahrten Grinden wurde dafür gesorgt, dass der Auftrefflecken des Elektronenstrahls langgestreckt ist. Die Form dee Auftreffleekens dee nicht abgelenkten Elektronenstrahls ist durch den Umriss 13 angedeutet. Die Längsrichtung diese» Auftreffleckens (die Y-Blchtung) entspricht der Richtung der Leuchtstoffstreifen. Die Querrichtung dieses Auftreffleckens (die X-Richtung) ist. zu den Leuchtstoffstreifen senkrecht.The following 1 fluorescent strips are separated from one another by black ineffective strips 8. On the fluorescent strips and the black strips there is a layer 9 that is conductive for electrons, which is interrupted to denote the fluorescent strips. This layer 9 serves to reflect light onto the front plate 4 and to protect the fluorescent strips from zone impact In the figure, an index stripe 10 is visible on the permeable layer 9 in front of every second black stripe. These strips 10 supply signals to indicate the position of the electron beam. The strips 10 can contain, for example, an ultraviolet phosphor that emits light in the blue part of the spectrum. A pulse is emitted from an index strip when the strip is hit by the electron beam. The figure shows a device in which such a pulse 11 is detected with the aid of a photomultiplier 12 which is fastened, for example, behind a window in the cone of the index tube (not shown in FIG. 1). The index signals from the photomultiplier are fed to a circle, with the help of which it is ensured that the color signals influence the electron beam at the right time. The circles for the electrical signals are not essential to the invention and are not shown in the drawing. From the reasons already mentioned in the introduction to the description, it was ensured that the impact leakage of the electron beam is elongated. The shape of the angle of incidence of the undeflected electron beam is indicated by the outline 13. The longitudinal direction of this »point of impact (the Y-blighting) corresponds to the direction of the fluorescent strips. The cross direction of this landing patch (the X direction) is. perpendicular to the fluorescent strips.
Die sioh bei der bekannten Vorrichtung nach Fig. 1 ergebendenThe resulting in the known device according to FIG
909831/084$909831/084 $
ORtGtHALiHSPECTEDORtGtHALiHSPECTED
PHN.2949PHN.2949
Nachteile werden an Hand der Figuren 2 und 3 veranschaulicht. Fig. 2 zeigt die Auftreffplatte d er Indexröhre und die Lagen der Teile A,B,C, D, E,F,G,H und I, die im Detail in Fig. 3 dargestellt sind. In diesen Teilen sind in Fig. 3 die Leuchtetoffstreifen 5»6,7 und die schwarzen Streifen 8 der Auftreffplatte angeordnet. A ist ein mittlerer Teil der Auftreffplatte mit dem Zentrum 14» auf dem der Auftrefflecken 15 des nicht abgelenkten Strahls gezeigt wird. Der Auftrefflecken kann sich bei Ablenkung in der dargestellten ungünstigen Weise a'ndern. Auf den Teilen B und D hat der Auf treff lecken eine Llindestlange. Dadurch ist infolge von Sättigung ein dunkler oder gefärbter Ring (16 in Fig. 2) beim Betrieb der Wiedergabevorrichtung auf der Auftreffplatte sichtbar. Ancfen Ecken der Auftreffplattee rgibt sich eine erhebliche effektive Erweiterung des Auftreffleckens in der X-Richtung infolge der Kippbewegung des Auftreffleckens in der XY-Ebene. Der im Gebiet I dargestellte Auftrefflecken bestreicht dadurch mehrere Leuchtstoffstreifen.Disadvantages are illustrated with reference to FIGS. 2 and 3. Fig. 2 shows the target of the index tube and the positions of parts A, B, C, D, E, F, G, H and I shown in detail in FIG. In these Parts of FIG. 3 are the fluorescent strips 5 »6.7 and the black ones Strip 8 of the target is arranged. A is a middle part of the Impact plate with the center 14 »on that of the impact spots 15 of the undeflected beam is shown. The impact leakage can change in the unfavorable way shown when deflected. On the Parts B and D have the impact licking a minimum length. This is a dark or colored ring due to saturation (16 in Fig. 2) visible on the target when the playback device is in operation. Attacking the corners of the target results in a considerable effective Expansion of the impact spot in the X direction as a result of the tilting movement of the point of impact in the XY plane. The point of impact shown in area I thus covers several fluorescent strips.
Fig. 4 illustriert das Verhalten des Elektronenstrahls in der Vorrichtung nach Fig. 1, bei der üie Erfindung nicht angewandt wird. Beispielsweise ist das Verhalten des. Elektronenstrahls bei Ablenkung in der Y-Richtung dargestellt. Die Weise wird gezeigt, in der die in Fig. 5 im Zentrum 14 von A, im Zentrum 17 von D und im Zentrum,18 von G dargestellten Auftrefflecken erhalten werden. Fig. 4 zeigt schematisch den Elektronenstrahl 2 in der durch die Achse I9 des Strahlerzeugersaysterns gehenden und zu der X-Richtung.senkrechten Ebene. Die Elektronen verlassen eine symbolisch dargestellte Fokussierungslinse 20 und passieren das symbolisch dargestellte Ablenkglied 21 zur Ablenkung, der Elektronen in der Y-Richtung. Die sagittale Bildebene diesea Ablenkgliedos fflllt mit der Auftreffplatte 3 zusammen. Die Figur zeigt den Elektronenstrahl in der Lage 22, bei der der Elektronenstrahl nicht ab-4 illustrates the behavior of the electron beam in FIG the device of FIG. 1, in which the invention is not applied. For example, there is the behavior of the electron beam when it is deflected shown in the Y direction. The way is shown in which the in Fig. 5 in the center 14 of A, in the center 17 of D and in the center, 18 landing spots represented by G can be obtained. Fig. 4 shows schematically the electron beam 2 in the through the axis I9 of the beam generator system plane going and perpendicular to the X-direction. the Electrons leave a symbolically represented focusing lens 20 and pass the symbolically represented deflection member 21 for distraction, of electrons in the Y direction. The sagittal image plane of this deflector coincides with target plate 3. The figure shows the Electron beam in position 22, in which the electron beam does not emit
909831/084$909831/084 $
Fmr. 294Fmr. 294
!ai2023! ai2023
gelenkt ist, und in zwei Lagen 23 und 24„ die der" Elektronenstrahl nach der-Ablenkung einnimmt. Der nicht abgelenkte Elektronenstrahl ist an£ . ■' das Zentrum I4 von A in Fig« 3 gerichteto In der Lage 23 ist der Elektronenstrahl auf das Zentrum 1? vo& D in Fig. 3 gerichtet. In der Lage 24 ist der Elektronenstrahl auf das Zentrum 18 von G ia ¥±g„ 3".gerich» tet. Der nicht abgelenkte Elektronenstrahl ist in. einem Paukt 25 hinter der Auftreffplatte fokussiert und die meridionale Bildebene'26 schneidet die Auftreffplatte in 1?» so' dass die Lange des Aiaftref-fleekens bei-Ablenkung zunächst in 1? auf einen lindestwert abnimmt und dassis directed, and in two positions 23 and 24 "which the" electron beam assumes after deflection. The undeflected electron beam is directed to the center 14 of A in FIG. 3 o In position 23 the electron beam is on the center 1? vo & D in Fig. 3. In the position 24, the electron beam is directed to the center 18 of G ia ¥ ± g " 3". The undeflected electron beam is focused in a timpani 25 behind the target and the meridional image plane 26 intersects the target in 1? » so 'that the length of the Aiaftref-fleekens in the case of distraction is initially in 1? decreases to a minimum and that
fe schnell zunimmt. fe increases rapidly.
Fig. 5 veranschaulicht, gleich wie in *'ig.. "4»" <ä-as Verhalten des Elektronenstrahls, aber nun in einer Yorriehtung nach der Erfindung. Diese Figur zeigt sehematisch den Elektronenstrahl 102 in der durch die Achse II9 des Strahlerzeugerssjt-stems. gehenden und zu der X-Richtung senkrechten Ebene.' Di® Elektronen verlassen eine .symbolisch dargestellte Fokus s ierungs linse 120 und passieren das Ablenkglied 121,, das dem Ablenkglied 21 in Fig„ 4 ahnlich ist» Der nicht abgelenkte Elektronenstrahl in der Lage 122 hat auf der Auftieffplatte 103 einen Auftrefflecken, der die gleiche Form und Grosse wie der AuftreffleckenFig. 5 illustrates the same as in * 'ig .. "4» "<- as behavior of the electron beam, but now in a Yorriehtung according to the invention. This figure shows schematically the electron beam 102 in the direction through the axis II9 of the beam generator system. going plane and perpendicular to the X-direction. ' The electrons leave a symbolically represented focusing lens 120 and pass the deflection element 121, which is similar to the deflection element 21 in FIG Shape and size like the hitting lick
ψ des nicht abgelenkten Elektronenstrahls in der lage 22 in Pig» 4 hat. Der abgelenkte Elektronenstrahl ist in Fig« 5 wieder in zwei Lagen 123 und 124 dargestellt» Der nicht abgelenkte Elektronenstrahl ist nun in der Y-Richtung in einem Punkt 125 vor der Auftreffplatte fokussiert, so dass die meridionale Bildebene an aer mit. 126 bezeichneten Stelle gebildet wird und die Lange des Auftreffleckens sich nicht schnell in Abhängigkeit vom Ablenkwinkel ändert und bei Ablenkung aus der Lage, bei der der Elektronenstrahl nicht abgelenkt ist, nicht einen Mindest·* ψ of the undeflected electron beam in position 22 in Pig »4. The deflected electron beam is shown again in two positions 123 and 124 in FIG. 126 is formed and the length of the point of impact does not change quickly as a function of the deflection angle and when deflected from the position in which the electron beam is not deflected, not a minimum *
9098317084$'"9098317084 $ '"
ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED
PHN.2949PHN.2949
-15--15-
wert passiert.worth happening.
Im in Fig. 6 gezeigten Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung nach der Erfindung bezeichnet 40 die in einem senkrechten Schnitt dargestellte Glasumhüllung einer Indexröhre. Die Auftreffplatte 41 hat die gleiche Struktur wie die Auftreffplatte (3) in Fig. 1. Die Auftreffplatte enthält 1200 senkrechte leuchtstoffstreifen 42, die durch schwarze Streifen voneinander getrennt sind. Die ^reite der ^euchtstoffstreifen und der schwarzen Streifen ist 0,21 mm. Auf der Aluminiumschicht 43 befinden sich die Indexstreifen 44* In der Umhüllung sind das Strahlerzeugeresystem 45 und die drehsymmetrische Fokussierungslinse 46 angeordnet· Das Strahlerzeugerseystem 45 enthält die Kathode 48, das erste Gitter 49, das «weite Gitter 50 und das letzte Gitter 51, das durch eine Verjüngung der Elektrode 52 gebildet wird. Der Abstand des ersten Gitters 49 von der Auftreffplatte ist 385 mm. Die drehsyemetrische Fokussierungelinse 46 zur elektrostatischen Fokussierung des von dem Strahlerzeugerssystem erzeugten Elektronenstrahls enthSlt die Elektrode 52, die Fokussierungselektrode 53 und die Endelektrode 54. Die Elektroden sind in bezug auf die Achse 55 der RShre zentriert. Die Zufuhrleitungen zu den Elektroden und die Abstützungsaittel der Elektroden sind nicht dargestellt. Der Hals der Röhre ist an der Stelle, wo er in den Konus übergeht, von Ablenkspulen 47 zur waagerechten und senkrechten magnetischen Ablenkung umgeben. Der Elektronenstrahl kann aus der Lage, in der es nicht abgelenkt und längs der Achse 55 orientiert ist, maximal über einer Diagonale der Auftreffplatte über einen Winkel von 55# abgebogen werden. Die hier beschriebene Indexröhre wird in der Technik oft als "110·-Indexrohre" bezeichnet, weil der Elektronenstrahl von -55# zu +55* abgelenkt werden kann.In the embodiment of a device according to the invention shown in FIG. 6, 40 denotes the glass envelope of an index tube, shown in a vertical section. The target 41 has the same structure as the target (3) in FIG. 1. The target contains 1200 vertical fluorescent strips 42, which are separated from one another by black stripes. The width of the fluorescent strips and the black strips is 0.21 mm. The index strips 44 are located on the aluminum layer 43. The beam generator system 45 and the rotationally symmetrical focusing lens 46 are arranged in the cover a taper of the electrode 52 is formed. The distance between the first grid 49 and the target plate is 385 mm. The rotary-symmetrical focusing lens 46 for electrostatically focusing the electron beam generated by the beam generating system contains the electrode 52, the focusing electrode 53 and the end electrode 54. The electrodes are centered with respect to the axis 55 of the tube. The supply lines to the electrodes and the support means for the electrodes are not shown. The neck of the tube is surrounded by deflection coils 47 for horizontal and vertical magnetic deflection at the point where it merges into the cone. The electron beam can be bent from the position in which it is not deflected and is oriented along the axis 55, at most over a diagonal of the target plate over an angle of 55 #. The index tube described herein is often referred to in the art as "110x index tubes" because the electron beam can be deflected from -55 # to + 55 *.
909831/0848909831/0848
- Tl- Tl
. ._" &9V FIg. β sind in Fig., 7· in einem seafcrechten "Schnitt dargestellt· Biese Figur aeigt die. elektrononemi ttleran.de &äthöäeffiobe&f3&$he -56». ZwisGiie» der emittierenden- V'thodehobe&f liehe 56 ttmi -&»-'meftmm. 81*·. ._ "& 9V Fig. Β are shown in Fig. 7 · in a vertical section · This figure shows the. elektrononemi ttleran.de & äthöäeffiobe & f3 & $ he -56 ». Between »the emitting- V'thodehobe & flehe 56 ttmi - &» -'meftmm. 81 *
-O--O-
tar 50 liegt die" land 57 des ere*en Gitters 499 öle" eine 0.075-sun. tot» Be* Abstand" feie· XatoodenoberflSche- §£ vea dta1 toe «raten Sitte ve '49 Von. dem zweiten Sitter 30 if %;0#Έ50 -ttu stand'der Wand 57 Äes ersten."Gitter* vom- letzten-Gitter.51 ist t «a« JIs Elektrode 52 hat einen--Innendurohmeaeer in der f©rj®afBMg 5^-*®a 4*9 der auf 20 mm: zunimmt· Die Fokueeieraneselektrode 53 ^»^ troie 54 haben ,gleichfalls eine» innendurohoeftee? voa 20 a**-.D®r W sswiaefaei! den Elektroden. 52 vmä 53""und'der. Afeetaafi -'awisek®» €ea Star 50 is the "land 57 of the ere * en grid 49 9 oils" a 0.075-sun. dead "Be * distance" feie · XatoodenoberflSche- § £ vea dta 1 toe «advise custom ve '49 from the second sitter 30 if% ; 0 # Έ50 -ttu stood'der wall 57 Äes first." grid * from the last -Grid. 51 is t «a« JIs electrode 52 has an - inner durometer in the f © rj®afBMg 5 ^ - * ®a 4 * 9 which increases to 20 mm. also an »indoor Durohoeftee? voa 20 a ** -. D®r W sswiaefaei! the electrodes. 52 vmä 53 ""and'der. Afeetaafi -'awisek® »€ ea p
53 und 54 sind; beide 205 aua.. D@r Abitaad der Wand "57 des „jejpeten Sitter· 49 von der Mtte.-der Fokusiierungaelektrode. S5s "die--eiae'-.!Aage.-von $5 mm-hat, "iet 6Ö-mm. Die Wand 57. 4se eisten. Gitter®" 49 ha* ®t:a@ eiliptieche u@ffnung 58» deren: lange Äefes® mit ®ia@s· lÄ^®'w»- l^OfS m »m*» kreeht ist« Di® _waagerechte. kurse 4ohse &®s ^üfTmaag 53 ha* ▼on Op35"O ea» Uae zweite Gitter 50 "hat- -eine- toetoyaaBf triedh 53$ &®i®n ixi&ll&nge O9SOO aua und deyaa "Surbhaeese? e^eli 0fS00 aa ist.53 and 54 are; both 2 0 5 aua .. D @ r Abitaad of the wall "57 of the" jejpeten sitter · 49 from the mother. - the focussing electrode. S5s "which - eiae '-.! aage. - of $ 5 mm - has" iet 6Ö-mm. The wall 57. 4se eisten. Grid® "49 ha * ®t: a @ eiliptieche u @ffnung 58» whose: long Äefes® with ®ia @ s · lÄ ^ ®'w »- l ^ OfS m »M *» kreeht is «Di® _horizontal. courses 4ohse & ®s ^ üfTmaag 53 ha * ▼ on Op35 "O ea» Uae second grid 50 "hat- -eine- toetoyaaBf triedh 53 $ & ®i®n ixi & ll & nge O 9 SOO aua and deyaa" Surbhaeese? e ^ eli 0 f is S00 aa.
3Bi« Worm der. Oafffkungeis 5© «»4 59 iat'aue-'dea Sohaitt'äe'r .Hg· '8 er'eloh3Bi « Worm of. Oafffkungeis 5 © «» 4 59 iat'aue-'dea Sohaitt'äe'r .Hg · '8 er'eloh
Bi®. Elektroden haben bei« Brteiel» d®r Tori*i.o'htnat (siehe Fig·""Bi®. With «Brteiel» electrodes have the Tori * i.o'htnat (see fig.
6) iSK beeng au? die Kathode 48. die folgenden'Spannungena 9ai ter 4f hat eine ajpannung swisehen -2?0 f unä -170 ?§ dss «vti.te -Gitter 50 hat eine Sp^nmmg von 1 ^00 f| dl« liiektroi@ 52 hat «ils® 25000· ¥1 <!i® Fokassierungselektrode 53.'hat. eine Spannung, von ?20Q ¥|6) iSK cramped? the cathode 48. the following voltages a 9a ter 4f has a voltage swisehen -2? 0 f and -170? § dss «vti.te grid 50 has a voltage of 1 ^ 00 f | dl «liiektroi @ 52 has« ils® 25000 · ¥ 1 <! i® focusing electrode 53.'hat. a voltage of? 20Q ¥ |
die £adelektrode'-54 hat eine. Spannung .van. 25000. V* ·. ■ ■the £ adelectrode'-54 has one. Voltage .van. 25000. V * ·. ■ ■
Bei «i«? Spannung von »170. f ww erst©a Gitt'er. ist des?- Strahl« 2"M. B®ir tt£®fat abgelenkte. Biekts»®ep»trahi ia* ikfeef i»With "i"? Voltage of »170. f ww only © a Gitt'er. is des? - Ray «2" M. B®ir tt £ ®fat deflected. Biekts »®ep» trahi ia * ikfeef i »
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