DE1614115A1 - Seal for an evacuable chamber - Google Patents
Seal for an evacuable chamberInfo
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Description
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Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung, Bit der an dem einen Ende einer evakuierbaren Kammer eine Abdichtung hergestellt werden kann« I« besonderen bezieht .sich die Erfindung auf eine Einrichtung zun Herstellen einer Abdichtung zwischen einer Hochvakuuekamiier und einer Nieder vakuumkammer eines Eiektronenatrahl-Aufzeiohnungegerätes, welche Einrichtung die Bewegung eines biegsamen, langgestreckten Streifen· zwischen den genannten Kaaaern und die Bestrahlung der einen Seite des Streifeng sweoki Behandlung in der HoehvakuuBJcaamer oraöglicht.The invention relates to a device, the bit a seal is made at one end of an evacuable chamber can be "I" particular refers to the invention on a device to produce a seal between a high vacuum chamber and a low vacuum chamber of an electron jet recording device, which means the movement of a flexible, elongated strip · between the said Kaaaern and the irradiation of one side of the strip g sweoki treatment in the HoehvakuuBJcaamer oraösehen.
Be| den bisher bekannten Elektronenstrahlaufzeiotoungsgeraten wurden eatferabare Kammern mi% Kathodenstrahlröhren zusae- Μ6Ά ait Pilatransportgahaueen verwendet« Das enthält «ine PilatransportsiGriohtung, di® einenBe | the previously known Elektronenstrahlaufzeiotoungsgeraten were eatferabare chambers used Wed.% CRTs zusae- Μ6Ά ait Pilatransportgahaueen "That includes" ine PilatransportsiGriohtung, DI® a
Film in bezug auf einen modulierten Elektronenstrahl ausrichtet· Die die Kathodenstrahl enthaltende Kanter und das Filmtransportgehäuse wurden hochevakuiert· Daher brauchte zwischen der Kathodens tr ahlröhrenkammer und den Filmtransportgehäuse keine Abdichtung vorgesehen zu werden, um in der Kathodenstrahlröhrenkammer ein hohes Vakuum aufrechtzuerhalten· War im Betrieb dieser Aufzeichungegeräte in der Kathodenstrahlkammer und im Gehäuse ein genügend hohes Vakuum vorhanden, so wurde der photographische Film bestrahlt und auf dem Film von einem modulierten Elektronenstrahl ein Bild erzeugt· In den Aufzeichnungsgeräten wurde eine mit einer Öffnung versehene Abdeckung und eine Andruckplatte verwendet, die den Film nach jedem Vorrücken um ein Bildfeld in die entsprechende Lage in bezug auf die Öffnung in der Abdeckung bringt· Bei diesen Geräten wurde der Film von einer federbeaufschlagten Andrückplatte während der Bestrahlung des Films gegen die Abdeckung mit der Öffnung gedrückt· Da bei diesen Geräten sowohl in der Kammer als auch im Gehäuse derselbe Druck vorhanden sein musste, so wurde auch nicht versucht, zwischen der Kammer und dem Gehäuse eine Abdichtung vorzusehen* Diese Aufzeichnungsgeräte waren jedoch nicht gänzlich befriedigend, da lange Pumpzeiten erforderlich waren, um in der Kammer, im Gehäuse und in der ganzenAligns film with respect to a modulated electron beam were highly evacuated · Therefore, no seal was required between the cathode tube chamber and the film transport housing to be provided to maintain a high vacuum in the cathode ray tube chamber · Was in the operation of these recorders If there was a sufficiently high vacuum in the cathode ray chamber and in the housing, the photographic Film is irradiated and on the film by a modulated electron beam An image is created · An opening cover and pressure plate were used in the recording devices, the film after each advance by one frame in the appropriate position with respect to the opening in the cover brings · With these devices, the film was from a spring-loaded Pressure plate pressed against the cover with the opening during the irradiation of the film · As with these devices the same pressure had to be present both in the chamber and in the housing, so no attempt was made between the chamber and Provide a seal around the housing * These recorders however, were not entirely satisfactory as long pumping times were required to move in the chamber, in the housing and throughout
wur durch das zwischen den Windungen des unbestrahlten Films eingeschlossene und entweichende Gas das Vakuum herabgesetzt» Hierbei wurde der Druok in der Röhre und im Gehäuse erhöht mit der Folge, dass die Lebensdauer des Elektronenstrahlrezeugers wesentlich verkürzt und deren Wirksamkeit beeinträchtigt wurde*the vacuum was reduced by the gas trapped between the turns of the unirradiated film and escaping »here the pressure in the tube and in the housing was increased with the result that the life of the electron beam generator was significantly increased shortened and its effectiveness was impaired *
Bei anderen bekannten Aufzeichnungsgeräten war die den Elektronenstrahl erzeugende Einrichtung in einer hoch evakuiertenIn other known recording devices that was the Electron beam generating facility in a highly evacuated
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In—ei* angeordnet, während der FiIa sieh außerhalb der Kanter unter dea atmosphärischen Druck befand» Der photograph!sehe FiIa wurde in diese· Falle entweder durch sehaale Schlitze oder oder durch Kaaaern alt eines fortlaufend höheren Vakuua in die Hoohvakuuakaaaer eingeführt;» Diese Anordnung führte Jedoch su einer etwas wirkaaaen, jedoch unfUralgen Abdichtung und su elnea aaseigen Aufseiohnungsgerätc Arranged in - ei *, during the FiIa see outside the canter below The atmospheric pressure was "The photographer! See FiIa was." in this case either through deep slits or or through Kaaaern old of a progressively higher vacuum in the Hoohvakuuakaaaer introduced;" However, this arrangement led to something Wirkaaaen, but unfurling sealing and su elnea own Aufseiohnungsgerätc
Die Erfindung sieht eine Einrichtung tor, mit der eine Abdichtung »wischen einer eine Öffnung aufweigernden Wandung einer evakuierten» den elektronenstrahlerzeuger enthaltenden Kaaaer und eine« auSerhalb der Kaaaer betlndliohen und unter dea Druck der Uagebungsluft stehenden Baue hergestellt wer&®& kima. In der #vakui«rbe?em Mammr wird die ©In® Saite eines fei@gs®as®n9 langge-■treckten Streifes® an €@ι» Öffmaag ^ö^beigefÜte& msd ist^ht unter de« Boohvakiiiia im. d@? Ina·?· ii© ?i&tte alt Ser iffmisig let ait Stegen und ΣΔρρβη v©rs«li^a,:, di@ dl© äffMtng v-^T---mmis tber die ein Streifen hinw®ggefStert w@M»n ^ks« ßsgesiiter te9 Platte alt der öffnung 1st eine AMfuelsplstts aiiö Druekutsginm ®n d®r einen Seite eageorinet, die auf die itdg® em der Öffmisgspl&tte ausgerichtet sied und diesen gegenüberstehen« Bs sd&d Mittel vorgesehen, die die Stege an der Andrückplatte und an der Öffnungsplatte gegeaainanderdruoken» Bin swisohen den beiden genannten Platten befindlicher Streifen wird daher jederzeit gegen die Stege der Öffxmngsplatte und daalt gegen deren Lippen gedrückt, wobei die Öffnung abgadeokt und eine Abdichtung zwisoh&n der evakuierbaren Kaaaer und dea den Umgebungsdruck aufweisenden Baua, der die Fläohe der Platte aa Streifen uoglbt, hergestellt wird«The invention provides a device with which a seal "between a wall of an evacuated" Kaaaer containing the electron beam generator and a "building outside the Kaaaer which is open and under the pressure of the ambient air is produced. In the #vakui «rbe? Em Mammr , the © In® string of a fei @ gs®as®n 9 elongated ■ stripe® is attached to € @ ι» Publmaag ^ ö ^ & msd is ^ ht under de «Boohvakiiiia im. d @? Ina ·? · Ii ©? I & tte alt Ser iffmisig let ait Stegen and ΣΔρρβη v © rs «li ^ a, : , di @ dl © äffMtng v- ^ T --- mmi s t over the one stripe w @ M "N ^ ks" ßsiiter te 9 plate old the opening is an AMfuelsplstts aiiö Druekutsginm ®nd®r one side eageorinet, which is aligned with the itdg®em of the opening plates and facing these «Bs sd & d means provided that the webs on the pressure plate and on the opening plate, the strip located next to each other is therefore pressed at all times against the webs of the opening plate and then against its lips, the opening being torn off and a seal between the evacuable caaer and the building which has the ambient pressure and the area the plate aa strip uoglbt is produced «
Bei der Slnrlohtung nach der Erfindung uaeohlieSt eine MiederTakuuakaaoer eine FllatransportTorrlohtung und eine Hoch- In the case of the torquing according to the invention, a bodice takuuaka also has a flat transport torquing and a high-
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Hoohvakuuakaaaer die den Elektronenstrahl erzeugende Einrichtung· Die Miedervakuuakaamer steht ait der HochvakuttBkaaaer an der einem Wandung in Verbindung» die alt einer Öffnung versehen ist, die eine Verbindung alt beiden Kaaaern herstellt· Durch diese Öffnung wird ein Elektronenstrahl geleitet, der direkt auf den FiIa fällt* Die Filatransportvorrlohtung wirkt alt einer Einrichtung zusaaaem, die eine Abdichtung an der einen Wandung bildet derart, dass bei dea Vorbeiführen des Films an der Öffnung das Hoohvekuum in der Kammer nicht herabgesetzt wird, da während des Vorwärtsbewegens des Filme und während der Bestrahlung eine Abdichtung hergestellt und aufrechterhalten wird· In dieser Einrichtung wird der sich in der HiedervakuuBkaaaer befindende FlIa fortlaufens entgast, und durch fortgesetztes Auspumpen der Miedervalrauakaaaer und durch die Abdichtung zwischen den beiden Kammern bleibt das hohe Vakuum in der Hoohvakujakaaaer verhältnis·*«ig stabil, da die Fllafelfter, die dea Hochvakuua ausgesetzt werden, bereits entgast worden sind« Das aus einem kleinen Filabezirk noch austretende Gas setzt das HoohvakuuB in der Hoohvakuuakaaaer nicht auf einen nicht zulässigem Wert herab·Hoohvakuuakaaaer the electron beam generating device The Miedervakuuakaamer stands ait the HochvakuttBkaaaer on one Wall in connection »the old one is provided with an opening that Establishes a connection between the two Kaaaern · Through this opening an electron beam is directed, which falls directly on the fiIa * The Filatransportvorrlohtung works together old a facility, which forms a seal on one wall in such a way that when the film is guided past the opening, the vacuum in the Chamber is not lowered because a seal is made during advancement of the film and during irradiation and is maintained.In this facility, the fluid in the vacuum chamber is continuously degassed, and by continued pumping out of the Miedervalrauakaaaer and through the seal between the two chambers remains the high vacuum in the Hoohvakujakaaaer ratio · * «ig stable because the filler, which are exposed to high vacuums have already been degassed « The gas still escaping from a small fila district sets that HoohvakuuuB in the Hoohvakuuakaaaer not on a prohibited Value down
einen, eine Abdichtung bildenden Aufbau derart, dass die eine Seite eines biegsamen, langgestreckten Streifens, x.B, eines Filas bei Anwesenheit einer vakulerten Atmosphäre Bestrahlt und in bezug auf diese bewegt werden kann, während die evakuierte Ataosphäre aufrechterhalten wird,a seal-forming structure such that one side of a flexible elongated strip, x.B, of a Filas irradiated in the presence of a vacuumed atmosphere and can be moved in relation to this, during the evacuated ataosphere is maintained
eine Abdichtung zum Aufrechterhalten eines stabilen Druckes in einer evakuierten Kaaaer alt einer Öffnuag, über die ein Streifen hinweggeführt und dabei behandelt werden kann, eine Einrichtung zum Aufrechterhalten eines Vakuums in dera seal to maintain a stable pressure in an evacuated Kaaaer old an opening over which a strip can be carried away and treated, a device for maintaining a vacuum in the
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evakuierbaren langer* wenn ein Streifen diaroh einen neuen Streifen •rietet wird,evacuable longer * when a strip diaroh a new strip • is advised,
eine Sinriehtung zun Abdichten einer einen Elektronenstrahlerzeuger enthaltenden ivakolerten Kaaatr, während zugleich eine elektrostatisch· Aufladung eines nichtleitenden, für Elektronen-Strahlen empfindlichen photographlsehen Films verhindert wird, während dieser alt den Elektronenstrahl direkt bestrahlt wird·a Sinriehtung to seal an electron gun containing ivakolerten Kaaatr, while at the same time a electrostatic · charging of a non-conductive, for electron beams sensitive photographic film is prevented, while this alt the electron beam is irradiated directly
Die Erfindung wird nunmehr ausführlich beschrieben· In den
beiliegenden Zeichnungen ist die
Plg.l ein« sefeaubildliehe Darstellung eines Aufzeiehnungsgerätes
nach der Erfindung,The invention will now be described in detail. In the accompanying drawings
Plg.l a "sefeaubildliehe representation of a recording device according to the invention,
Pig.2 ein Längsschnitt durch das Gerät naoh der Fig«l, (Ausschnitt)
Pig.3 eine Darstellung, von der Linie 3-3 in der Fig.2 aus gesehen,
Fig*4 eine Darstellung einer Einzelheit des Gerätes, τοη derPig.2 is a longitudinal section through the device according to FIG. 1, (detail) Pig.3 is a representation, seen from the line 3-3 in FIG.
Fig * 4 shows a detail of the device, τοη the
Fig.5 eine Sohnittzelohnung nach der Linie 5-5 i& der Fig«2, Fig«6' eine Schnittzeichnung nach der Linie 6«5 in der Fig*2, und Fig.7 ein Ausschnitt aus einer Schnittzeichnung, die die bei dea Gerät nach der Erfindung verwendeten Einrichtung zum Erzeugen eines Elektronenstrahls zeigt*FIG. 5 shows a child reward along the line 5-5 in FIG. 2, FIG. 6 'is a sectional drawing along the line 6-5 in FIG. 2, and FIG according to the invention used device for generating an electron beam shows *
Die Fig#l zeigt ein Elektronenstrahlaufzeichnungsgerät, bei de« die erfindungsgeaÜSe Abdichtung der evakuierbaren Kammer verwendet wird* Das Aufzeichnungsgerät besteht aus einen Hochvakuumabschnitt 8 und einen Nirdervakuumabschnitt 9 mit einer Filmkammer lg» In der Fllakammer 12 befindet sich die Transportvorrichtung für ein Mittel, das für den Elektronenstrahl empfindlich 1st, z*B« ein photographlscher Film 14 in Form einer Vorratsrolle 16, die auf einer Achse 17 in der Filmkammer XZ drehbar gelagert 1st, undFigure # l shows an electron beam recording apparatus in de "the erfindungsgeaÜSe sealing of the evacuated chamber is used * The recording apparatus is composed of a high vacuum section 8 and a Nirdervakuumabschnitt 9 with a film chamber lg" In the Fllakammer 12 is the transport device for a means for the electron beam is sensitive, for example a photographic film 14 in the form of a supply roll 16 which is rotatably mounted on an axis 17 in the film chamber XZ, and
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ferner ist eine Aufwickelrolle 18 vorgesehen, die gleichfalls auf einer angetriebenen Achse 19 la der Kammer 12 gelagert 1st· Der PIlB wird um eine angetriebene Zahntrommel 20 herumgeführt derart, dass diese an Filmfenster 22 zwei Fileschleifen bildet* Die beiden Filmrollen 16 und 18 und die Zahntrommel 20 können von eines geeigneten Motor oder von aehreren unabhängigen Motoren (nicht dargestellt) angetrieben werden« Die Führung für den Film 14 leitet diesen an einer Aufzeichnungeöffnung 60 vorbei, wie in der Flg»2 dargestellt· Die Einzelheiten der Filmführung 22 und der Aufzeichnungsöffnung 6o werden später noch beschrieben· Furthermore, a take-up roll 18 is provided, which is also on a driven axle 19 la of the chamber 12 is mounted 1st · The PIlB is guided around a driven toothed drum 20 in such a way that that this forms two file loops at film window 22 * The two Film rolls 16 and 18 and the toothed drum 20 can be driven by a suitable motor or by several independent motors (not shown). be driven «The tour for film 14 is in charge this past a recording opening 60, as shown in FIG. 2. The details of the film guide 22 and the recording opening 6o will be described later.
Wie in der Fig«l dargestellt, steht eine mechanische Vorpumoe 32 über eine Vakuumleitung 34 und ein Filmkammerventil 36 mit der Kammer 12 in Verbindung· Außerdem steht die Vorpumpe 32 über eine Vakuumleitung 42 und über ein Vakuumventil 40 mit einer Diffusionspumpe 38 in Verbindung« Die Diffusionspumpe 38 weist eine direkte Verbindung mit der Elektronenstrahlkammer 10 auf· Wie aus der Fig*2 zu ersehen ist, ist in der Hochvakuumkaminer 10 an dem an die Öffnung 60 angrenzenden Ende ein Klappenventil 74 angeordnet« Werden die Ventile 36, 40 und 74 in der geeigneten Reihenfolge betätigt, so kann der Elektronenstrahlkammer 10 ein hohes Vakuum aufrechterhalten werden, während in der Kammer 12 der Film eingelegt und herausgenommen wird, während der Aufzeichnung und während des Absaugens der Luft« Bei Verwendung einer sol-As shown in FIG. 1, a mechanical pre-pump 32 is provided via a vacuum line 34 and a film chamber valve 36 with the chamber 12 in connection · In addition, the backing pump 32 is via a vacuum line 42 and a vacuum valve 40 with a Diffusion pump 38 in connection «The diffusion pump 38 has a direct connection with the electron beam chamber 10. As can be seen from FIG. 2, there is 10 in the high vacuum chimney a flap valve 74 is arranged at the end adjacent to the opening 60. Valves 36, 40 and 74 are in the appropriate manner Sequence actuated, the electron beam chamber 10 can be maintained in a high vacuum while in the chamber 12 the film is inserted and removed while recording and during the suction of the air «When using a sol-
chen Vakuumeinrichtung kann in der Elektronenstrahlkammer ein hohes Vakuum von beispielsweise ungefähr 10 bis 10 v mm QS aufrechterhalten werden* Außerdem kann im Betrieb in der Filmkammer ein etwas niedrigeres Vakuum von z,B· ungefähr 0,02 mm QS aufrechterhalten werden· Offensichtlich können auch andere Kombinationen von Pumpen und Ventilen benutzt werden, um in jeder Vakuumkammer dasA high vacuum of, for example, about 10 to 10 v mm QS can be maintained in the electron beam chamber. * In addition, a slightly lower vacuum of e.g. Combinations of pumps and valves are used to do this in each vacuum chamber
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•rforderliche Vakuum zu erzeugen» Je nach des Umständen und den Verwendungerweck können auch die Wert in jeder Vakuumkammer von den angegebenen Werten in weiten Grenzen abweichen·• To create the required vacuum »Depending on the circumstances and the The value in each vacuum chamber of deviate from the specified values within wide limits
Mach der Fig»2 umsehlieBt der Hoehvakuusabschnitt 8 die Hoonvakuumkamjier 10, die einen Elektronenstrahlerzeuger enthält, der in der Fig.7 ausführlich dargestellt 1st· An der einen Seite dee zylindrischen feiles der Kanter 10 1st ein Absehlussglied 44 ■ittels einer hsraetlsoh abdichtenden Dichtung angebracht« Die andere Seite des Absehlussglisdee 44 steht abgedichtet mit der !■wer 12 in Verbindung* Das AbsohlussgXied 44 umschließt ein ■lt einer Öffnung versehenes Gehäuse 58 das rohrfSrsig alt eines rechteckigen Querschnitt ausgestaltet ist und einen Teil der Kasse* 10 bildet« Sine Platte 62 des Absohluasglledes 44, die eine den Kaaaera 10 und 12 gemeinsame Wandung bildet ist alt einer Öffnung 60 versehen« die eine Verbindung swischen den genannten beiden Kaisern herstellt* Die eine Seite der Platte 62 ist so aus* gestaltet, dass sie eine Fessterplatte für die als Ganzes Bit 22 bezeichnete Filsführung bildet, die in der Kammer 12 zusasaen alt einer als Ganzes sit 54 bezeichneten Filstraneporteinrlehtung angeordnet ist*In FIG. 2, the high vacuum section 8 surrounds the Hoonvakuumkamjier 10, which contains an electron gun, which is shown in detail in Fig. 7 on one side The cylindrical file of the Kanter 10 is a closure member 44 ■ Attached by means of a hsraetlsoh sealing gasket «The other side of the Absehlussglisdee 44 is sealed with the ! ■ Who 12 in connection * The AbsohlussgXied 44 encloses one ■ Housing 58 provided with an opening, the tubular old one rectangular cross-section and a part of the cash register * 10 forms «Sine plate 62 of the Absohluasglledes 44, the one the Kaaaera 10 and 12 common wall is old one Opening 60 provides a connection between the aforementioned two emperors * One side of the plate 62 is made of * designed to be a fixed plate for the bit 22 as a whole designated Filsführung forms, which zuasaen in the chamber 12 old of a Filstraneporteinlehtung designated as a whole sit 54 is arranged *
60 .60
die Öffnung usgrenzende Mittel drückt, und aus einer die Andruckplatte abstützenden Einrichtung 68» Zwischen der einen Seite 70 des File· 14 und der Umgrenzung des Fllsfensters 60 an der Platte 62 ist eine Vakuusabdlohtung vorgesehen· Sin von einer geeigneten, nicht dargestellten Vorrichtung angetriebener Greifer 72 bewegt den FiIs 14 schrittweise durch die FUmführung 22*pushes the opening limiting means, and from one the pressure plate supporting device 68 »between the one side 70 of the file · 14 and the boundary of the fill window 60 on the disk 62 a vacuum wire is providedSin of a suitable, not shown device driven gripper 72 moves the FiIs 14 step by step through the F bypass 22 *
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Die an die Kaaaer 10 angrensende Seite de· Abeehluseglie- j de· 44 let alt einer Öffnung 64 versehen, die auf die Aoh·· der %flindrisehen Keaaer 10 aufgerichtet let sewle auf da· Fllafea-•ter 60« Da· an der einen Seite alt elnea Dichtungering 76 versehene Klappenventil lh let an einer Welle 78 und an «iaea Arm angebracht und kann In eine Offenetellung (Vollimlen) und In eint Schließstellung (unterbrochene Linien) bewegt «erden, In der dl« Ventilklappe die Öffnung 64 schlieft* Zn der Schließstellung dichtet der Dichtungsring 76 die Öffnung 64 an den Selten ab· Wird in die Filatransporteinriehtuag 5k ein neuer FlXa 14 elnge· setst, so wird die Vakuumdichtung «wischen der einen Seite 70 des Pllaa Xk und den Seiten des Pllafenstere 60 unterbrochen» Wird die Kammer 12 geöffnet s»B« zum Blnsetsen eine· neuen Pil·· Ik, •ο kann das Klappenventil 74 geschlossen werden, ua In der Keaaer 10 das Hoohvakuua aufrechtxuerhalten, und ua die Zelt su verkürzen, die Jsua Wlederinbetriebsetien des AufzeiehnungsgerAtes erforderlieh ist« Die Pig·3 seigt die von der Vledervakuuakaaaer au· gesehene Seite der Fensterplatte 62 und die Uarandung des Filaf ensters* Die Platte 62 1st beiderseits des Fllafeneter· 60 alt swel in der Längsrichtung verlaufenden parallelen erhöhten Stegen 80 und 82 versehen, die so angeordnet sind, dass sie alt den LSngikanten des Filae Ik in Berührung stehen« Die Stege 80 und 82 erstrecken sieh in der Bewegungsrichtung des Filaee über das Pilafeneter 60 nach beiden Richtungen hinauf«The angrensende to the Kaaaer 10 side de Abeehluseglie- · j · 44 de old let an opening 64 provided on the Aoh ·· of% f lindrisehen Keaaer 10 erected on sewle let da · Fllafea- ter • 60 "Da · on the one side old elnea Dichtungering 76 provided flapper valve lh let mounted on a shaft 78 and at "IAEA arm and can be ground into a Offenetellung (Vollimlen) and in one closed position (dashed lines) moves" In the dl "valve flap opening 64 slept * In the closed position, the sealing ring 76 seals the opening 64 at the seldom. If a new FlXa 14 is inserted into the Filatransporteinriehtuag 5k , the vacuum seal "between one side 70 of the Pllaa Xk and the sides of the Pllaa Xk and the sides of the window 60" is interrupted the chamber 12 opened s "B" to blow a · new Pil · · Ik, • ο the flap valve 74 can be closed, among other things The pig 3 shows the side of the window plate 62 seen from the Vledervakuuakaaaaaaaaaen the window plate 62 and the edge of the Filaf window * The plate 62 is provided on both sides of the Fllafeneter · 60 old swel in the longitudinal direction parallel, raised webs 80 and 82, which are arranged in such a way that they are in contact with the angular edges of the Filae Ik.
An den anderen beiden Seiten de· Filmfenster· 60 elnd Lippen Bk und 86 vorgesehen, die «wischen den Stegen 80 and 82 wuer verlaufen, die schmal· ebene Oberseiten und abgerundete Kanten aufweisen« Die Lippen 84 und 86 bilden zusammen mit dea On the other two sides of the film window 60, lips Bk and 86 are provided, which run between the webs 80 and 82, which have narrow, flat upper sides and rounded edges. The lips 84 and 86 together with dea
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Stege* 30 und $2.eine erhöht;· Umrandung des Filafenstere 60» Die Oberseiten der Stege 80 und 82 und der Lippen 84 und 86 liegen versagifreiie in einer Ebene« to da·» ti· die strahlungseapf indlioh· Fläche ?0 dei Filas 14 us das Fllmfenster 60 herum berühren, oder die Lippen können eine etwas geringere Höhe aufweisen, ua einen Kontakt alt den Film zu veraelden* Der Steg 80 ist alt einer Öffnung 88 für den Filagrelfer tos Filafenster 60 etwas entfernt Terpenen, duroh die der Greifer 72 in die Perforation des Files 14 eingreifen und den Film vorwärtshewegen kann»Bridges * 30 and $ 2nd one raised; · Edging of the Filafenstere 60 »Die Upper sides of the webs 80 and 82 and the lips 84 and 86 lie Failure-free in one level «to da ·» ti · the radiation app indlioh · Area? 0 of the filas 14 us touching the film window 60, or the lips may have a slightly lower height, among other things a contact old to post the film * The bridge 80 is old one Opening 88 for the Filagrelfer tos Fila window 60 somewhat removed Terpenes through which the gripper 72 enters the perforation of the file 14 can intervene and move the film forward »
Die Fensterplatte 62 ist ferner alt Mitteln sub Führen des Piles 14 versehen» Bei der dargestellten Ausführungsform liegen diese Kittel an den Längskänten des Filas 14 an und bestehen aus den auf Abstand stehenden Seltenteilen 89 und 90, die über die Ebene der Stege 80 und 82 und der Lippen 84 und 86 hinausragen, wie am besten aus den Figuren 5 und 6 zu ersehen 1st, wodurch ein Kanal gebildet wird, der den FiIa lings der Stege 80 und 82 über das Filafenster 60 hinweg führt»The window plate 62 is also old means sub guide des Piles 14 provided »In the embodiment shown, lie these gowns are attached to the longitudinal ribs of the Filas 14 and are made of the spaced apart rare parts 89 and 90, which over the Level of the webs 80 and 82 and the lips 84 and 86 protrude, as can be seen best from Figures 5 and 6, whereby a channel is formed, which the fiIa lings of the webs 80 and 82 leads over the Fila window 60 »
Die Fig»4 zeigt die parallel zur Fensterplatte 62 verlaufende Andrückplatte 66, die an der Rückseite des Filas 14 in der MiederTakuuakaaaer 12 anliegt* Die Andruckplatte 66 1st mit zwei Andruokstegen 92 und 94 versehen an der des Film zugewandten Seite« Die Andruckstege. 92 und 94 stehen in der Querrichtung auf Abstand und Terlaufen längs der parallelen Kanten der Andrückplatte 66· Die Andruckstege 92 und 94 liegen am FlIa 14 an den Längskanten an und sind auf die Stege 80 und 8$ an der Filafensterplatte 62 ausgerichtet* Die Andrückplatte ist alt einer langgestreckten Öffnung 96 versehen, durch die hinduroh der Filmgreifer 72 den Film Torwärtflbewegea kann»FIG. 4 shows the one running parallel to the window plate 62 Pressure plate 66, which is attached to the back of the Filas 14 in the BodiceTakuuakaaaer 12 rests * The pressure plate 66 1st with two Andruok webs 92 and 94 provided on the side facing the film « The pressure bars. 92 and 94 are at a distance in the transverse direction and run along the parallel edges of the pressure plate 66 The pressure webs 92 and 94 rest on the surface 14 on the longitudinal edges and are aligned with the webs 80 and $ 8 on the Fila window plate 62 * The pressure plate is old an elongated opening 96 provided, by the hinduroh the film gripper 72 the film Torwärtsflbewegunga can »
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Wie aus den Figuren 5 und 6 zu ersehen 1st, wird die Andrückplatte 66 yon einer Halterung 68 getragen, die die Andruokftege 92 und 94 auf die Stege 80 und 82 auerichtet, de Halterung 68 ist an der Fensterplatte 62 auf Stiften 69 (nur ein Stift ist dargestellt) verschwenkhar angebracht, so dass die Halterung und die Andruckplatte 66 zum Einziehen des Files 14 beiseitegeschwenkt werden können· Sine Arretierung 71 hält die Halterung 68 in der Qebrauchsstellung fest, wie in den Figuren 5 und 6 dargestellt· Die Andrückplatte 66 ist an der Halterung $B auf zwei Führungsbol— zen 98 gelagert· Das eine Ende der Führungsbolzen ist Bit der Andrückplatte 66 fest verbunden, während das andere Ende durch Öffnungen an der Halterung 68 gleitbar hindurchgeführt und mit einen Kopf 100 τ er sehen ist« Auf den Führungsbolzen 98 sind zwischen der Andruckplatte 66 und der Halterung Federn 102 angeordnet· Die Federn 102 üben von der Halterung 68 aus auf die Andruckplatte 66 und daait auf die Andruckstege 92 und 94 einen Druck aus, der gegen die Stege 80 und 82 gerichtet ist« Wird der Film 14 zwischen der Fensterplatte und der Andruckplatte eingelegt, so wird er gegen die Stege 80 und 82 gedrückt-und, wenn die Lippen des Filefensters Bit den Stegen fluchten, gegen die Lippen 84 und 86, wobei das Filmfenster 60 abgedichtet wird· Sind die Lippen etwas weniger hoch besessen, so wird der FIIb laser noch gegen die Stege am Filmf en» ster gedrückt und so nahe an die Lippen herangeführt, dass das Filmfenster in der Auswirkung abgedichtet wird« As can be seen from FIGS. 5 and 6, the pressure plate 66 is carried by a holder 68, which aligns the pressure webs 92 and 94 on the webs 80 and 82, the holder 68 is on the window plate 62 on pins 69 (only one pin is shown) so that the holder and the pressure plate 66 can be swiveled to one side for drawing in the file 14. Its locking device 71 holds the holder 68 in the position of use, as shown in FIGS Bracket $ B mounted on two guide bolts 98. One end of the guide bolts is firmly connected to the pressure plate 66, while the other end is slidably guided through openings in bracket 68 and can be seen with a head 100 on the guide bolt 98 springs 102 are arranged between the pressure plate 66 and the holder. The springs 102 exert from the holder 68 on the pressure plate 66 and then on the pressure webs 92 and 94 a pressure directed against the webs 80 and 82. If the film 14 is inserted between the window plate and the pressure plate, it is pressed against the webs 80 and 82 - and when the lips of the file window are aligned with the webs , against the lips 84 and 86, the film window 60 being sealed. If the lips are a little less high, the FIIb laser is still pressed against the webs on the film window and brought so close to the lips that the film window is in the impact is sealed "
Die Fig.7 zeigt In schematischer Darstellung eine einfache Trioden-Elektronenstrahlröhre 110, die in der Hochvakuumkammer 10 angeordnet ist· Die Röhre 110 erzeugt einen Elektronenstrahl 112 und leitet diesen längs einer vorherbestlasten Bahn durch die Öff- 7 shows a schematic representation of a simple triode cathode ray tube 110, which is arranged in the high vacuum chamber 10. The tube 110 generates an electron beam 112 and guides it along a previously loaded path through the opening
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Öffnung 60, wobei der dieier gegenüberstehende Teil des Filmes 14 entsprechend einer Information in Fora τοη Bildern uew« bestrahlt wird» Bine solche Trioden-Elektronenstrahlröhre, die für die Einrichtung nach der Erfindung geeignet.ist, ist in eines Buch mit dea Titel "Electron Optics* von 0« Klcttperer, herausgegeben 1953» beschrieben«Opening 60, the opposite part of the film 14 irradiated according to information in Fora τοη images uew « will »Bine those triode cathode ray tubes that are used for the facility according to the invention is suitable. is in a book with dea title "Electron Optics * from 0« Klcttperer, published 1953 » described «
Bei der dargestellten Elektronenstrahlröhre wird sun Erseugen eines Elektronenstrahls als Kathode ein baarnadelförsiiger HeiEfaden 114 aus Wolfraa verwendet« Zwischen einer Anode 118 und der Kathode 114 ist eine Gitterelektrode 116 angeordnet» An die Kathode 114 und an das Gitter kann eine Spannung ton -18*000 Volt angelegt werden« Die Anode 118, die Filakaaeer 12 und der PIIm 14 werden auf Brdpotential gehalten« Die aus der ein sehr hohes negatives Potential aufweisenden Kathode 114 austretenden Elektronen werden von der Anode 118 beschleunigt und fallen auf die Fläche 70 des Files 14, der Brdpotential aufweist« Hinter der Anode 118 1st «ine Blende 120 silt einer Öffnung 122 angeordnet, deren Durohaesser ungefähr 0,25 ■■ beträgt« Die Blende 120 begrenzt die Größe des Brennfleckes das elektronenstrahls, wobei die sphärische Aberration verhindert wird« und leitet den Elektronenstrahl über •ine Vorherbestiaete Bahn, In der dieser auf den FiIa fällt«In the case of the cathode ray tube shown, sun is generated an electron beam as cathode a baarnadelförsiiger HeiEfaden 114 from Wolfraa uses «between an anode 118 and The cathode 114 has a grid electrode 116 arranged on it Cathode 114 and the grid can have a voltage ton -18 * 000 volts "The anode 118, the filakaaeer 12 and the PIIm 14 are kept at Brdpotential. The electrons emerging from the cathode 114, which has a very high negative potential are accelerated by the anode 118 and fall onto the surface 70 of File 14, which shows Brdpotential «Behind the anode 118 If a diaphragm 120 is arranged in an opening 122, the Durohaesser approximately 0.25 ■■ is «The aperture 120 limits the size of the focal spot the electron beam, the spherical aberration is prevented «and transfers the electron beam • in a predetermined path in which it falls on the FiIa "
Der Elektronenstrahl 122 kann dadurch Moduliert werden, das dea Gitter 116 «la veränderliches Bildsignal zugeführt wird« Der Elektronenstrahl 112 wird von einer elektromagnetischen linse 124 fokussiert, so dass der Strahl einen kleinen Brennfleok aufweist, und von elnea Ablenkjoch 126 nach eines Abtastungsauster abgelenkt·The electron beam 122 can be modulated by feeding the grid 116 "la variable image signal" The electron beam 112 is focused by an electromagnetic lens 124 so that the beam has a small focal spot, and from elnea deflection yoke 126 after a sampling oyster diverted·
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denen Bauelementen wurden bei der Elektronenstrahlröhre 110 noch weitere Elemente vorgesehen« Das erste zusätzliche Bauelement besteht aue einem Faraday-Käfig, der an der Bahn des modulierten Elektronenstrahls 112 angeordnet ist» Zwischen dem Faraday-Käfig 128 und der Blende 120 sind zwei Ablenkplatten 132 τ or ge sehen. Bei der beTorzugten Ausführungsform weist die Ablenkplatte 132 Erdpotential auf, während die Platte 130, wenn an diese eine negative Spannung von ungefähr 250 Volt angelegt wird, den modulierten Elektronenstrahl 112 in den Faraday-Käfig 128 ablenkt, so dass der Elektronenstrahl vom Film 14 vollständig entfernt wird» so dass der Film nicht bestrahlt wird, oder der Strahl kann in bezug auf den Film als ausgetastet angesehen werden·These components were also provided with additional elements in the cathode ray tube 110 «The first additional component consists of a Faraday cage, which is modulated on the path of the Electron beam 112 is arranged »between the Faraday cage 128 and the aperture 120 are seen two baffles 132 τ or ge. In the preferred embodiment, the baffle 132 is at ground potential, while the plate 130, when connected to it, is negative Voltage of approximately 250 volts is applied, deflects the modulated electron beam 112 into the Faraday cage 128, so that the electron beam is completely removed from the film 14 »see above that the film is not irradiated, or the beam can be considered blank with respect to the film
Eine mit einem nicht dargestellten Oszillatoranordnung in Verbindung stehende Stigmatoranordnung I36 dient zum Abdecken jeder Horizontalabtastzelle derart, dass jede Abtastzeile nicht als eine fortlaufende Spur sondern als aus einzelnen, in gleichen Abständen auftretenden Punkten zusamaengesetzt erscheint· Zwischen dem Ablenkjoch 126 und dem Filmfenster 60 ist längs der Bahn des Elektronenstrahls 112 ein Ring 138 angeordnet, der die Sekundäremission in der Mähe des Films 14 abfängt·One with an oscillator arrangement (not shown) related stigmator assembly I36 is used for covering of each horizontal scanning cell in such a way that each scanning line is not as a continuous track but as a single track Intermediate appears when points appearing at intervals the deflection yoke 126 and the film window 60 a ring 138 is arranged along the path of the electron beam 112, which the secondary emission catches near the film 14
Das bei diesem Gerät zu verwendende Aufzeichnungsmittel kann aus einem photograph!sehen Film mit einer Silberhalogenemulsion bestehen, ζ·Β· aus einem Ferrania Poeltivfilm 15, der einen hohen Viderstandswert von ungefähr 10 0hm pro Quadrat oder «ehr aufweist· Erzeugt die in der Hechvakuumkammer 10 befindliche Elektronenstrahlröhre einen auf den Film fallenden Elektronenstrahl, so wirkt der Film als Kondensator und wird aufgeladen· Die Aufladung des Films 14 erfolgt als Funktion der Kapazität as wischen demThe recording medium to be used in this apparatus may consist of a photographic film with a silver halide emulsion consist, ζ · Β · from a Ferrania Poeltivfilm 15, the one high resistance of about 10 ohms per square or more Has the cathode ray tube located in the high vacuum chamber 10 generates an electron beam falling on the film, so the film acts as a capacitor and is charged · The charge of the film 14 takes place as a function of the capacitance as between the
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Pil* Ik, der Fensterplatte 62 und der Andrückplatte 66« Um eine hohe Auflösung zu erzielen, taue« diese Ladung auf den FiIn abgeleitet werden«Pil * Ik, the window plate 62 and the pressure plate 66 "In order to achieve a high resolution, thaw" this charge on the fiIn "
Durch die Aufladung des Files Ik entstehen drei Schwierigkelten· (1) die Ladung Q, die sich als Folge der Abtastung durch den Elektronenstrahl ansammelt, sucht den Elektronenstrahl in den folgenden Abtastzeilen abzulenken, (2) die Ladung auf den . FlIn erzeugt eine physikalische Anziehungskraft zwischen dem Film und der Andrückplatte, wodurch die Kraft erhöht wird, die der Greifer 72 zum Vorwärtsbewegen des Piles aufwenden muss, und (3) wird, wenn der aufgeladene FlIn nach der Bestrahlung aus der Filmführung herausbewegt wird, die Kapazität zwischen dem Film und der an nächsten gelegenen geerdeten Fläche wegen der größer werdenden Entfernung kleiner, so dass die Spannung zwischen den Film und der genannten Fläche bis zu einem Entladungspegel ansteigt, der eine so starke Entladung verursacht, dass der Film verschleiert wird«The charging of the file Ik creates three difficulties: (1) the charge Q, which accumulates as a result of the scanning by the electron beam, tries to deflect the electron beam in the following scanning lines, (2) the charge on the. FlIn creates a physical force of attraction between the film and the platen, increasing the force that gripper 72 must use to advance the pile and (3) when the charged FlIn is moved out of the film guide after exposure, it becomes capacity between the film and the nearest grounded surface is smaller because of the increasing distance, so that the voltage between the film and the said surface increases to a discharge level that causes such a strong discharge that the film is obscured «
Dieser unerwünschte Aufladungseffekt kann dadurch vermindert werden, dass entweder ein Film verwendet wird, der eine leitende Schicht aufweist, oder dass in Aufzeichnungsbezirk eine gesonderte geerdete Fläche so nahe wie möglich an der Oberfläche des Films angeordnet wird« Enthält der Film eine leitende Schicht, so besteht zwischen dieser und dem Film während der Bestrahlung durch den Elektronenstrahl eine im wesentlichen gleichbleibende Kapazität, wenn der aufgeladene FiIn aus der Filmführung herausbewtgt wird« Die auf den FlIn angesammelte Aufladung wird im wesentlichen al· Funktion des Widerstandswertes des Films zur leitenden Schicht abgeleitet« :This undesirable charging effect can thereby be reduced that either a film having a conductive layer is used or that one in the recording area separate grounded surface as close as possible to the surface of the film is arranged «If the film contains a conductive layer, so exists between this and the film during irradiation a substantially constant capacitance due to the electron beam when the charged film is moved out of the film guide becomes «The charge accumulated on the FlIn becomes essentially al · function of the resistance value of the film to the conductive Layer derived ":
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Wir eine vom Film gesonderte geerdete Fläche verwendet, so wird diese so nahe wie möglich an der Büokseite des Films angeordnet« Diese geerdete Fläche muss nach der Bestrahlung des Films so lange am Film verbleiben, dass die Aufladung während der Bestrahlung mindestens auf einen Pegel abgeleitet wird, bei dem eine spätere Entladung verhindert wird, die zu einer Verschleierung des Films führen würde·If a separate earthed surface is used from the film, this is placed as close as possible to the office side of the film « This grounded surface must remain on the film after the film has been irradiated so that it is charged during the irradiation is derived at least to a level at which a later discharge is prevented, which leads to a concealment of the Films would lead
In diesem Falle dürften die Andruckstege 92 und 9k auf der Andruckplatte höchstens eine Höhe von ungefähr 0,25 Bn aufweisen, und die Andruckplatte müsste aus einem elektrisch leitenden Material bestehen, oder es müsste eine leitende Platte zwischen den Stegen angeordnet und von deren Oberfläche aus mit einer Ausnehmung versehen werden« In jedem Falle ist die Kapazität zwischen dem Film und der leitenden Fläche groß und im wesentlichen konstant, wodurch das Spannungsgefälle zwischen dem aufgeladenen Film und der geerdeten Fläche klein gehalten wird«In this case, the pressure webs 92 and 9k on the pressure plate should have a maximum height of approximately 0.25 Bn, and the pressure plate would have to be made of an electrically conductive material, or a conductive plate would have to be arranged between the webs and with their surface "In any case, the capacitance between the film and the conductive surface is large and essentially constant, whereby the voltage gradient between the charged film and the earthed surface is kept small."
Die oben angeführten Schwierigkeiten könnten andererseits auch dadurch verkleinert werden, dass ein für den Elektronenstrahl empfindliches Aufzeichnungsmittel verwendet wird, dass eine im Innern leitende Zusammensetzung aufweist·On the other hand, the above-mentioned difficulties could also be reduced by the fact that one for the electron beam sensitive recording medium is used that has an internally conductive composition
Bei dem dargestellten Gerät weisen die Stege 80, 82 und 92, 9k eine Länge von ungefähr 7,60 cm auf und von der Ebene der Fensterplatte 62 und der Andruckplatte aus eine Höhe von 0,05 mm und höchstens 0,25 mm· Liegen die Lippen 84- und 86 mit den Stegen 80 und 82 nicht in einer Ebene, so sollte die Höhe der Stege kleiner bemessen werden« Auf jeder Seite des Films besteht daher ein flacher Kanal, der die Bewegung von Gasen mit dem Film in Richtung zum Filmfenster 60 behindert· Die Größe des Filmfensters 60 ent In the device shown, the webs 80, 82 and 92, 9k have a length of approximately 7.60 cm and a height of 0.05 mm and at most 0.25 mm from the plane of the window plate 62 and the pressure plate Lips 84 and 86 are not in one plane with webs 80 and 82, so the height of the webs should be made smaller hindered · The size of the movie window 60 ent
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entspricht allgemein der Größe eines Bildfeldes auf einem Film z»B« auf einem l6-mm»Film·corresponds generally to the size of an image field on a film z “B” on a 16 mm “film ·
Die in bezug auf ein Aufzeichnungsgerät beschriebene Erfindung kann selbstverständlich auch immer dann angewendet werden, wenn eine Fläche eines streifenförmlgen Gliedes bei Anwesenheit eines Hochvakuums behandelt werden soll» An der beschriebenen Ausführungeform der Erfindung können auch im Rahmen des Erfindungsge» dankens verschiedene Änderungen vorgenommen werden, z«B, kann die Fensterplatte in bezug auf die Hochvakuumkammer abgedichtet, in bezug auf eine ortsfeste Andruckplatte bewegbar angeordnet werden·The invention described in relation to a recording device can of course also be used whenever if a surface of a strip-shaped member is to be treated in the presence of a high vacuum »on the described embodiment the invention can also within the scope of the invention thanks to various changes can be made, for example the window plate is sealed with respect to the high vacuum chamber, arranged movably with respect to a stationary pressure plate will·
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Claims (13)
Umranung gegenüberstehen und in der Längsrichtung in bezug auf died
Facing framing and in the longitudinal direction with respect to the
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