DE1597874A1

DE1597874A1 - Method of making a photoelectrosolographic image plate

Info

Publication number: DE1597874A1
Application number: DE19671597874
Authority: DE
Inventors: Buckley David Alan; Belli Frank Gioacchino; Ciccarelli Roger Nicholas
Original assignee: Rank Xerox Ltd
Current assignee: Xerox Ltd
Priority date: 1966-07-21
Filing date: 1967-07-19
Publication date: 1970-09-17
Also published as: GB1197339A

Description

MpI. Ing. F. Weickfn.inn. Or. !ng. Ä. Weickman.-, Dipl.-lng. R Ä. Wefckrr^*n .Jjpl. ing. H. W^ick:.:«nii, Οϊ.ϊ!. F ?vys. Dr. K. Finck. Dipl.-Chem. B. Hu! 8 München 27, Möhlsiraßa 22 MpI. Ing. F. Weickfn.inn. Or.! Ng. Ä. Weickman.-, Dipl.-Ing. R Ä. Wefckrr ^ * n .Jjpl. ing. H. W ^ ick:.: «Nii, Οϊ.ϊ !. F? Vys. Dr. K. Finck. Dipl.-Chem. B. Hu! 8 Munich 27, Möhlsiraßa 22

XERCI UNITED
Rank Xerox House
338, Euston Road
L ο ή d ο n, if .¹J. 1
EnglandXERCI UNITED
Rank Xerox House
338, Euston Road
L ο ή d ο n, if. ¹ year 1
England

Verfahren zur Herstellung einer photoelektrosolographischenProcess for making a photoelectrosolographic

BildplatteImage plate

Die Erfindung "bezieht sich auf ein verbessertes Verfahren zur Herstellung einer photoeloktrosolographiaehen ".Bildplatte.The invention "relates to an improved method for Production of a photoelectrosolography "image plate.

•In jüngerer -zielt wurde ein photoelektrosolographisches Abbildung sverfahren entwickelt, mit dem Bilder hoher Qualität und ausgezeichneter Auflöaun/; her :;e st eilt werden können. Dieses Verfahren ist eingehend in der französischen Patentschrift 1 4.66 349 'beschrieben. Dazu wird eine Bildplatte hergestellt, indem eine Schicht eines lörilichen, nichtleitenden Kunstharzes auf eine leitfllnige Unterlage aufgebracht und diese Schicht mit einer teilchenförmigen photoleitfähigen Schicht überzogen wird. Auf der Oberfläche der teilchenförmigen Schicht wird• More recently, photoelectrosolographic imaging has been achieved s process developed with the high quality and image quality excellent dissolving /; her:; e st can be divided. This Procedure is detailed in the French patent specification 1 4.66 349 '. For this purpose, an image plate is produced, by applying a layer of a non-conductive, non-conductive synthetic resin applied to a conductive surface and this layer coated with a particulate photoconductive layer will. On the surface of the particulate layer is

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ein latentes elektrostatisches Bild erzeugt, wozu zunächst" durch Koronaentladung eine elektrostatische Ladung aufgebracht und dann eine Belichtung mit aktivierender elektromagnetischer Strahlung vorgenommen wird. Die lösliche Schicht wird dann aufgelöst. Die belichteten !eile der teilchenförmigen Schicht wandern durch die aufgelöste Schicht hindurch, so daß ein Bild auf aer leitfähigen Unterlage erzeugt wird, das einem Negativ des Originalbilaes entspricht. Die nicht auf die leitfähige Unterlage ,ewanderten i'eile der teilchenförmigen Schicht (d.h. die unbelichteten 'I'eile) werden zusammen mit der löslichen Schicht durch das Lösungsmittel abgewaschen. Das auf der leitfähi^en Unterlage erzeugte Bild hat eine sehr gute Qualität und gute Auflösung. In der ..-enannten Patentschrift sind noch weitere Ausführiuv.sbeis-piele dieses Verfahrens beschrieben·a latent electrostatic image is generated, for which purpose an electrostatic charge is first applied "by corona discharge and then exposure to activating electromagnetic radiation is carried out. The soluble layer is then dissolved. The exposed parts of the particulate Layer migrate through the dissolved layer, so that an image is generated on the conductive surface, which corresponds to a negative of the original bilateral. Those that did not get onto the conductive substrate migrated to some of the particulate Layer (i.e. the unexposed parts) are washed off by the solvent together with the soluble layer. The image produced on the conductive surface has a very good quality and good resolution. In the ..- named patent are further examples of this procedure described

Ein weiteres, kürzlich entwickeltes Äbbildun.-sver fahr en, das sogenannte "elelctrosolographische" Verfahren arbeitet mit iiichtphotoleitfähigen Teilchen, die als Schicht auf eine iiichtphotoleitfähige lösliche Schicht auf leitfähiger Unterlage aufgebracht sind. Dieses Verfahren ist gleichfalls eingehend in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben.Another recently developed imaging process, the so-called "electrosolographic" processes work with non-photoconductive ones Particles as a layer on a non-photoconductive soluble layer applied to a conductive base are. This process is also described in detail in French patent 1,466,349.

Dabei wird ein elektrostatisches latentes Bild direkt, beispielsweisedurch Koronaladung durch eine Sohablone hindurch, erz.ni·:t. Bei Auflösung der löslichen Scnicht, beispielsweise durch Eintauchen der Bildplatte in ein Lösungsmittel, v/andern die Teilchen in bildmäßiger Verteilung auf die Unterlage. Unerwünschte ϊθΙ.Ι-In doing so, an electrostatic latent image is created directly, for example through Corona charge through a template, erz.ni ·: t. When the soluble substances are dissolved, for example by immersion the image plate in a solvent, the particles change in an image-wise distribution on the substrate. Unwanted ϊθΙ.Ι-

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Chen werden zusammen mit der gelüsten .S chi dirt abgewaschen. Dieses Abbildungsverfahren "benötigt zwar Iceinen photolst-■ fähigen- Stoff, aas ladungsbild muß jedoch in bildmäßif'er Verteilung bereits e.ufgebracht werden, z„B_e durch Ivoronaladung durch eine Schablone hindurch. Das endgültige mit diesem Ver- . 'fahren erzeucte Bild hat eine ähnliche Erscheinim/; si orm wie da.s mit dem vorstehend beschriebenen photoelektrasologräphischen Verfahren hergestellte.Chen are washed off together with the lustful .Schi dirt. This imaging process B _e "Although required Iceinen photolst- ■ fähigen- fabric, but aas charge image must be already e.ufgebracht in bildmäßif'er distribution, for" by Ivoronaladung through a stencil. The image erzeucte final 'go with this comparison. has a similar appearance as that produced with the photoelectrasolographic process described above.

Während mit diesen Verfahren Bilder guter Qualität und befriedigender Auflösung unter optimalen Bedingungen hergestellt /werden, tritt aft eine imerwünsohte Ablagerung von Teilchen in den Bildhinter,^runaf lachen, eine für vJeLe Zwecke unzureichende Auflösung; und eine nicht gleichmäßige Bilddichte auf. Auch ist" die lichtempfindlichkeit zur Vermeidung unerwünscht langer Belichtunszeiten nicht groß genug. Ferner ict die iierstellung der blatten für diese Abbildungaverfahren oft schwierig, da die teilcheiiförmige Sc licht dc:s -^ildstoffes nicht imm-er üie erwünGchte ü-leichförmigkeit aufv/eist_o While these processes produce / produce images of good quality and satisfactory resolution under optimal conditions, there is an undesirable deposition of particles in the background of the image, which is, for many purposes, insufficient resolution; and a non-uniform image density. Also, the sensitivity to light is not high enough to avoid undesirably long exposure times. Furthermore, the setting up of the sheets for this imaging process is often difficult, since the particle-shaped light dc: s - ^ ild material is not always of the desired shape _{or form}

Die Aufgabe der Erfindung besteht deshalb darin, photoelektro-Dolögranhische und elelctrosolographisehe Einrichtungen zu schaffen, die die vorstehend beschriebenen Hachteile nicht aufweinen, hierzu,soll ein verbessertes Verfahren zur Herstellung von Bildplatten xüx photcelelctrosolograpiiicche und elelctrosolograohische Abbildunrsverfahren gefunden werden. Die heraustelleiiden Bildplatten do. -~m äine ge;^f:enüber bekannten Einrichtungen üerto Ιώη^ί; · _m., c.-koit h;;benT ferner soll die. herstellungThe object of the invention is therefore to create photoelectro-Dologranhic and electrosolographic devices which do not suffer from the disadvantages described above; for this purpose, an improved method for the production of image plates xüx photcelelctrosolograpiiicche and electrosolographic imaging methods is to be found. The prominent optical disks do. - ~ m äine ge; ^f : enabout known institutions üerto Ιώη ^ ί; · _M., C.-koit h ;; benT also should the. manufacture

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von Bildern gleichmäßig starker Dichte möglich sein_T Außerdem sollAdiese Bilder eine verbesserte Auflösung zeigen.images of uniformly high density be possible _T In addition, these images should show an improved resolution.

Die vorstehenden sowie weitere Wesenszüge werden mit der Erfindung erreicht, indem eine Bildplatte aus einer leitfähigen Unterlage und einer erveLchbaren Schicht hergestellt wird, die wiederum mit einer teilchenförmigen oder mikroskopisch unregelmäßigen Schicht überzogen ist. -^ie erweichbare Schicht ist an der Berührungsfläche mit der unregelmäßigen Schicht mit einer dünnen Zwischenschicht aus einem Stoff überzogen, dessen Viskosität größer ist als diejenige des löslichen Stoffes. Die erweichbare Schicht ist in einam Lösungsmittel löslich, das die unregelmäßige Schicht nicht angreift.The above as well as other characteristics are with the invention achieved by making an image plate from a conductive base and a verifiable layer, which again with a particulate or microscopic irregular Layer is coated. - ^ he softenable layer is coated at the contact surface with the irregular layer with a thin intermediate layer of a substance whose viscosity is greater than that of the soluble substance. The softenable layer is soluble in a solvent that does not attack the irregular layer.

Die Zwischenschicht kann entweder als eine kontinuierliche Schicht auf der löslichen Schicht oder als eine unregelmäßi .e Schicht, z.B. in J-¹OrEi bestimmter separater Schichtteile auf der löslichen Schicht (nahe benachbarte Punkte) ausgebildet sein. Zur Bildung der Zwischenschicht kann jedes geei-iiete Verfahren angewendet werden_β biekann entweder vor oder-nach den Überziehen der löslichen Schicht mit der teilchen! örmij.'.en Bildstoffschicht aufgebracht werden. Die Zwi; chenschicht kann entweder durch Aufbringen eines zweiten Stoffes auf die lösliche Schicht als "Überzug oder durch Änderung der Eigenschaften der Oberflächenschicht" des löslichen Stoffes erzeugt werden« Hiersu typische Verfahren sind Belichtung mit aktivierendem Licht, Röntgenstrahlen, Beta-Strahlen, Ganmia-Strahlen, Elektronenbombardement, Koronaladung, Hociiisnannungsen.tladung, Beliclitun mit sichtbaremThe intermediate layer can either be formed as a continuous layer on the soluble layer or as an irregular layer, for example in J- ¹ OrEi of certain separate layer parts on the soluble layer (closely adjacent points). To form the intermediate layer of each geei-iiete can procedures are used _β biekann either before or after-coating of the soluble layer with the particles! örmij. '. en image material layer can be applied. The Zwi; layer can be created either by applying a second substance to the soluble layer as a "coating or by changing the properties of the surface layer" of the soluble substance. Corona charge, high voltage charge, Beliclitun with visible

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Licht, Einwirken von Luft, Berührung mit chemischen Stoffen wie Oxydationsmitteln und/oder Mitteln zur Erzeugung von Querverbindungen, Überziehen" mit- einem ^toff höherer Viskosität, der zur Oberfläche der löslichen Schicht wandert, wenn diese aushärtet, sowie andere chemische, physikalische und Strahlungsbehandlungen, die die Bildung einer Oberflächenschicht mit. einer gegenüber der löslichen Schicht größen Viskosität bewirken. .Light, exposure to air, contact with chemical substances such as oxidizing agents and / or agents for producing cross-links, coating "with a substance of higher viscosity, which migrates to the surface of the soluble layer when this hardens, as well as other chemical, physical and Radiation treatments that involve the formation of a surface layer. a greater viscosity than the soluble layer cause. .

Die photoäVektrosolographische und elektrosolographische Abbildung wird am stärksteh dadurch verbessert, daß Zwischenschichten mit einer Stärke von bis zu 0,2 Mikron verwendet werden, weshalb dieser Stärkenbereich bei der vorliegenden Verwendung vorzugsweise angewendet \vird.Photo-Electrosolographic and Electrosolographic imaging is improved most by using interlayers up to 0.2 microns thick, which is why this strength range is preferred for the present use is used.

Ist die Stärke der Zwischenschicht zu groß, so werden die Abbildungseigenschaften verschlechtert und können völlig verschwinden. Deshalb ist der obere Grenzwert für die Stärke der Zwischenschicht derjenige, bei dem die Abbildungseigenschaften beeinträchtigt werden, . er kann jedoch für alle Fälleiiumerisch festgesetzt werden und wird daher experimentell ermittelt. Im allgemeinen ist ein praktischer oberer Grenzwert 0,35 Mikron.If the thickness of the intermediate layer is too great, the imaging properties become too great deteriorates and can go away completely. Therefore, the upper limit for the thickness of the intermediate layer is that at which the imaging properties be affected,. but he can be tricky for everyone are set and is therefore determined experimentally. In general, a practical upper limit is 0.35 microns.

Soll die Zwischenschicht aus der Oberflächenschicht der löslichen Schicht gebildet werden, eo werden beste Ergebnisse durch Belichtung mit ultraviolettem Licht erzielt. Man nimmt an, daß hierbei-auf der Oberfläche des Stoffes eine Bildung -chemischer Querverbindungen und/oder Oxydation auftritt, wodurch sich eine Oberfl;.chennciiicht ergibt, deren Viülronität und/oder Erweichungstemperatur holiw?Q.^|g|pjXLö'J-ü cl.iojeni ο der übrigen L>cui.cht.Should the intermediate layer from the surface layer of the soluble Layer are formed, eo best results will be through exposure achieved with ultraviolet light. It is assumed that there is a chemical formation on the surface of the substance Cross-connections and / or oxidation occurs, whereby a surface is holiw? Q. ^ | g | pjXLö'J-ü cl.iojeni ο the remaining L> cui.cht.

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Die Erfindung wird im folgenden an Hand der 3?ifairen beschrie7 ten.The invention is described below on the basis of the three scenarios th.

EIg, 1 zeigt den Ablauf des erfindungsgein.äßen Verfahrens zur Herstellung einer photoelektrosolographischen und elektrosolographisehen Bildplatte,EIg, 1 shows the sequence of the method according to the invention Manufacture of a photoelectrosolographic and electrosolographic vision Image plate,

Pig.2 zeigt den Ablauf eines mit den gemäß der .Erfindung hergestellten Bildplatten durchzufLQueiden Abbildungsverfahrens.Pig.2 shows the sequence of a manufactured according to the .Erfindung Image plates by means of the imaging process.

Wie aus i'ig.1 hervorgeht, wird zur Herstellung einer Bildplaxte zunächst auf eine leitfähige Unterlage eine Schicht aus einem erweichbaren,.nichtleitenden Stoff aufgebracht. Eine Oberflächenschicht höherer Viskosität wird ;.uf der erreichbaren Schicht entweder durch Änderung ihrer Oberfläche oder duren Aufbringen einer weiteren Schicht in der bereits beschriebenen Weise erzeugt, iane Schicht aus teilchen oder einem leicht brechbaren Stoff wivd dann auf die Oberflächenschicht auxgebracnt. ^ie teilchenfürmige Schicht kann auch aux die erweichbare Schicht vor der Ausbildung der Oberflächenschicht aufgebracht werden, wie dies duren die beiden parallelen Verfahrensabläufe in Fi-.1 gezeigt ist. Die Unterlage kann aus jedem geeigneten 1-eitfii.hi en Stoff "be stehen. !Typische derartige Stoffe sind Metalle wie Aluminium, Messing, korosionsbeotändiger Stahl, kupfer:,:. Mckel, Zink usw., leitfällige überzogene G-lasarten wie mit Sinnoxyd, oder Indiumoxyd überzogenes *ilas, älmliche Überzüge auf Kunststoffen oder leitfähig /gemachtes Papier durch Einschließen eines geeigneten Bestandteiles oder durch Erzeugen einer feuchten Atmosphäre, so daß der Stoff bei ausreichender ^eucnti^koit leitfähig wird.As can be seen from i'ig.1, a layer of a softenable, non-conductive material is first applied to a conductive base in order to produce a picture tablet. A surface layer of higher viscosity is produced on the achievable layer either by changing its surface or by applying a further layer in the manner already described, a layer of particles or an easily breakable substance is then added to the surface layer. The particle-shaped layer can also be applied to the softenable layer prior to the formation of the surface layer, as shown by the two parallel process sequences in FIG. 1. The base can consist of any suitable 1-eitfii.hi en material.! Typical such materials are metals such as aluminum, brass, corrosion-resistant steel, copper:,:. Mckel, zinc etc., conductive coated glass types such as with sense oxide , or indium oxide coated * ilas, similar coatings on plastics or conductive / made paper by including a suitable component or by creating a humid atmosphere, so that the substance becomes conductive with sufficient eucnti ^ koit.

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Me erweichuare Schicht kann aus jedem geeigneten nichtlei-r tenden Stozf bestehen, der in. einem Lösungsmittel löslich ist, welches die anderen Bestandteile der Platte nicht ang-reift oder der leicht durch Wärmeeinwirkung erweicht v/erden kann» !Typische nichtleitende Stoffe sind Polyolefine wie Polyäthylen' und Polypropylen, "vinyl- und Vinylidenpolymere wie Polystyrol,. Akrylpolymere, Polyakrylonitril, Polyvinylester und Polyvinyläther,Fluorkoiilenwasserstoffe wie Polyvinylfluorid und Polyvinylidenfluorid, Polyamide wie Polykaprolaktam, Polyester v/ie Polyäthylenterephthalat, Polyuretane, Polypeptide wie Casein, Äther- und Azetylpolymere wie Polyglycol, Polysulfide, Polyphenylenoxyde, Polysulfone, Polycarbonate, Zellulosepolymere wie Viskose und Zelluloseazetat, Phenolharze, Aminoharze, EpoX^'anarze, Silikonhazre, Alkydharze, Alkylharze, Furaiiharzeunu Hischunden sowie Copolymere dieser Stoffe. In einem Ausführun-.sbeJspiel des erfinduhgsgemäßen Verfe.hrens kann diese Scjii-cht selbst photoleitfahig sein_o Hierzu kann jeder r'eeignete homo -eij.e Photoleiter öder ein Photo.leiter disper^iert in einem ;-.:arzLindemittel verwendet werden« typische TJiJ-Otoleitftiliige ■ Stoffe sind Polyvinylkarbazol sensitiviert mit !!rinitiOfluorenon, ver^chieaene lc-.duni_:-sii'bertri.;-ende ilehrstoffe aus ^romatiochen _jj.rzeiL und Lev/is-Säuren, Triphenylamin, 2,4-"bis(4».4^T-Biath.ylaminoT)henyl)-1 ,3i4-oxidiazol,, l'riphenylpyrrol, 1,5-G'yanonaphthalin. 2-1-iercapto'benztxiiazol, 2-Phenyl-/] -tj-niuthoxybenzylidenoxazolon, 3-Benz;7lidenaiiiini)kar"bazol_!) 'i)-(4'~Bimetliylaminophenyl)-'5-(4"-met:i07-yphenyl) -b-phenyl-1, 2,4-triazin, 2-( 4' -Dimothylamino) ■be.uMOxazolj, 5-Aiti.inokar'bazol, und hii/cliungen dieser utoffe. Diese Stoffe können uu^f-ci- ;jodcG ;'-:■&ei,--nsbe Sensitivi(;runf-si.iit eel für oclor xne'kiTiCl.o i^igfinccna.fteii cünoitiviürf-werden.The soft layer can consist of any suitable non-conductive material which is soluble in a solvent which does not attack the other components of the plate or which can be easily softened by the action of heat. Typical non-conductive materials are polyolefins such as Polyethylene and polypropylene, vinyl and vinylidene polymers such as polystyrene, acrylic polymers, polyacrylonitrile, polyvinyl esters and polyvinyl ethers, fluorinated hydrocarbons such as polyvinyl fluoride and polyvinylidene fluoride, polyamides such as polycaprolactam, polyesters or polyethylenes, polyethyleneterephthalate and acetylenic polymers such as casein and polyethylenes, polyoleptides such as casein Polysulfides, polyphenylene oxides, polysulfones, polycarbonates, cellulose polymers such as viscose and cellulose acetate, phenolic resins, amino resins, epoxy resins, silicone resins, alkyd resins, alkyl resins, furai resins and copolymers of these substances can be used in an embodiment of the invention Scjii-cht himself t be photoconductive _o For this purpose any suitable homo -eij.e photoconductor or a photo.conductor dispersed in a drug can be used chieaene lc-.duni _: -sii'bertri.; - end teaching materials from ^ romatiochen _jj.rzeiL and Lev / is acids, triphenylamine, 2,4- "bis (4» .4 ^T -Biath.ylaminoT) henyl) - 1,314-oxidiazole, 1'riphenylpyrrole, 1,5-G'yanonaphthalin. 2-1-iercapto'benztxiiazol, 2-phenyl- /] -tj-niuthoxybenzylidenoxazolone, 3-benz; 7lidenaiiiini) kar "bazol _!) 'I) - (4' ~ Bimetliylaminophenyl) - '5- (4" -met: 107-yphenyl) -b-phenyl-1, 2,4-triazine, 2- (4'-dimothylamino) be.uMOxazolj, 5-Aiti.inokar'bazol, and compounds of these substances. These substances can uu ^f -ci-; iodcG; '-: ■ & ei, - nsbe Sensitivi (; runf-si.iit eel for oclor xne'kiTiCl.o i ^ igfinccna.fteii cünoitiviür-become.

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Typische Sensitivierungsstoffe sind Lewis-Säuren, Lewis-Basen, spektrale Sensitivierungsmittel wie Polymethanfarbstoffe, z.B. 3,3'-Mäthylthiokarbocyaniniodid, Azofarbstoffe, z.B. Eirochrom BlUB-Black R (CI. No. 15 705), Azomethinfarbstoffe, z.B. bis(p-Mmethylaminobenzol)-azin, Kart)onylfarIdstoffe, z.B. Solvay Ultra-Blue B (CI. No. 62 O55), Poly zyklische' Färb stoffe, z.B. Nitropyren, heterozyklische Stoffe, z.B. N,N'-Pentamethylenbis(benzthiazolperchlorat ), Phthalocyaninfarbstoffe, z.B. Segnale Light Turqudse NB (CI. No₀ 74 I60), und Mischungen dieser Stoffe.Typical sensitizers are Lewis acids, Lewis bases, spectral sensitizers such as polymethane dyes, e.g. 3,3'-methylthiocarbocyanine iodide, azo dyes, e.g. Eirochrom BlUB-Black R (CI. No. 15 705), azomethine dyes, e.g. bis (p-M-methylaminobenzene) -azine, card) onyl dyes, e.g. Solvay Ultra-Blue B (CI. No. 62 O55), polycyclic dyes, e.g. nitropyrene, heterocyclic substances, e.g. N, N'-pentamethylene bis (benzthiazole perchlorate), phthalocyanine dyes, e.g. Segnale Light Turqudse NB (CI. No ₀ 74 I60), and mixtures of these substances.

Zur Bildung der oberen Bildstoffschicht kann jeder geeignete Stoff verwendet werden. Diese Schicht soll entweder Seilchenform besitzen oder leicht brechbar sein, so daß sie während des Abbildungsverfahrens zerbrochen werden kann» Bei demjenigen Ausführung sb ei spiel des erfindiingsgeniäßen. Verfahrens, in de" a die "Verwendung einer nichtlicht empfindlichen lö'sliclien Schicht vorgesehen ist und das elektrostatische latente Bild durch gleichmäßige Ladung der Platteiioberfläche und naciifol ende Belichtung mit einem Licht-Schatten-Bild erseu'-t v;ird, soll die obere Schicht lichtempfindlich sein. !Typische lichteEipf.rndlicIie ofoffe sind: Selen, Schwefel, Anthrcaen, ^inko:,:yd, ^iiiksulxiä_s Kadrniumsulfid, Kadmiumselenid, jjleüouid, BleichroniMt, i'leioxyd, verschiedene lichtenpxinälicne orgtni^clie ^i m-;.:iti--to.i."-Ve wie Phthalocyanin, Chinacridone, Dxojt:-Eiinc, Aiithracäinone, organische Photoleiter wie die oben to-eücliriebeiitiii, mid deren Mi· c hung en. Die 3±cu^ennu'indlichen Stoi'fe komic» L-.ntii^xrMlo und elektrische Sensitiv!eruu ;j.,iittel ϊ·:.\λι «lU; ..tr;,r.to. :;.'e ont}i,"lten.Any suitable fabric can be used to form the top image fabric layer. This layer should either be in the form of a rope or be easily breakable so that it can be broken during the imaging process. Process in which the use of a non-light-sensitive soluble layer is provided and the electrostatic latent image is replaced by uniform charging of the plate surface and subsequent exposure to a light-shadow image, the upper layer is said to be be sensitive to light. ! Typical lichteEipf.rndlicIie ofoffe are: selenium, sulfur, anthracene, ^ inko:,: yd, ^ iiiksulxiä _s cadmium sulphide, cadmium selenide, jjleüouid, bleachroniMt, i'leioxyd, different lichtenpxinälicne: ^ igtni ^; cli. -to.i. "- Ve like phthalocyanine, quinacridones, Dxojt: -Eiinc, Aiithracäinone, organic photoconductors like the above to-eücliriebeiitiii, with their mixtures. L-.ntii ^ xrMlo and electrical sensitive! Eruu; j., Iittel ϊ ·:. \ Λι «lU; ..tr;, r.to.:;. 'E ont} i," lten.

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In e-jaem weiteren. Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Ver-f ahrens* das eine "¹elektrOsolOgiiaphisehe^l'ⁱ Abbildung ermöglicht,, brauchen die lösliehe ScM die brechbare obere Schicht nicht lichtempfindlich zu sein., Bei diesem Verfahren \ besteht die erweichbare Schicht aus jedem geeigneten nichtleitenden Stoff, der in einem Lösungsmittel, löslich ist, welches die anderen Bestandteile der Platte nicht -angreift, oder der durch Wärmeeinwirkung leicht erweicht werden kann» -^Ie ©herschicht kann auch aus jeden; teilchenförmigen oder leicht zusammenhai'tenden Stoff bestehen,, Vorzugsweise ist dieser Stoff· stark gefärbt,, so- daid er ein gut sichtbares Bild ergibt„ Typische . teiichenf örmige Stoffe sind leixfahice Stoffe wie Eisen-,: nichtleiTenae Stoffe wie 'i'itandioxyd und deren MischungenIn e-jaem further. Embodiment of the invention Ver-f ahrens * one "allows ¹ elektrOsolOgiiaphisehe ^l ^'i figure ,, the lösliehe ScS need the frangible upper layer not to be light sensitive., In this method, \ the softenable layer is made of any suitable non-conductive material, which in a solvent, which does not attack the other components of the plate, or which can be easily softened by the action of heat. The layer can also consist of any particulate or slightly cohesive substance. strongly colored, so that it gives a clearly visible picture, “Typical particle-shaped substances are leixfahice substances such as iron: non-lithium substances such as titanium dioxide and mixtures thereof

Hach der in der vorstehenden Weise erfolgten Bildung der Zwischenschicht auf aer erweichuaren Schicht wird die obere iildstoffschicht durch ein geeignetes Verfahren aufgebracht.. Typische Verfahren sina "Überziehen mit _einer Dispersion von Teilchen in einer flüchtigen Trägerflusüigkeit und Verdampfung der Träger-■ flüssigkeit, Valcuumaufdampfung einer kontinuierlichen Schicht eines schwach zusammenhaftenden Stoffes auf die Oberfläche der löslichen ScMcht, Mischen der aufzubringenden Teilchen mit einem Trägerstoff und Überziehen der Oberfläche der* lösliehen Schicht durch Kaakadierung, v/ie sie von Walkup in der tTS-Patentschrift 2 618 5M beschrieben ist, Aufbringen einur Schicht aus einem kontinuierlichen brechbaren Stoff auf die Oberfläche der löslichen Schicht durch Sprühen, Eintauchen, Aufstreichen usw., und Jede geeignete Kombination dieser Verfahren.After the intermediate layer has been formed on top of the soft layer in the above manner, the upper layer of fabric becomes applied by an appropriate process .. Typical The method is "coating with a dispersion of particles in a volatile carrier liquid and evaporation of the carrier" liquid, vacuum evaporation of a continuous layer a weakly cohesive substance on the surface of the soluble substance, mixing of the particles to be applied with a carrier and coating the surface of the * lent Layer by Kaakadierung, see from Walkup in the tTS patent 2 618 5M, application of one layer a continuous breakable substance on the surface of the soluble layer by spraying, dipping, brushing, etc., and any suitable combination of these methods.

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Nach. Herstellung einer Bildplatte nach d'em in Fig. 1 dargestellten Verfahren wird nach dem in I?ig.2 dargestellten Verfahren ein Bild erzeugt»To. Manufacture of an optical disc according to the one shown in FIG Procedure is carried out according to the procedure outlined in I? Ig.2 creates an image »

Der erste Schritt besteht in der Erzeugung eines elektrostatischen latenten Bildes auf der Oberfläche der Platte. Bei einer Platte, "bei der entweder die Oberschicht oder die lösliche Schicht lichtempfindlich ist, wird eine gleichförmige elektrostatische Ladung auf die Oberfläche aufgebracht. Typische Verfahren zur •Gleichförmigen Aufladung einer nichtüeLtenden Oberfläche sind die Korona-Entladung, beschrieben von Carlson in der US-Patentschrift 2 588 699, die reibungselektrische Komtaktladung, beschrieben von Carlson in der US-Patentschrift 2297 69t« die Induktionsladung mit einem berührenden Niehtleiter,, dier an Hochspannung liegt, und jede geeignete Kombinati oni M es er'Verfahren. Die gleichmäi3ig geladene Platte wird dann mit einem Mcht-Schatten-Bild mittels aktivierender elektrOmagnetischer Straulung belichtet. Dieses Bild kann auf der Plattenoberfläche durch jedes geeignete mit Straulung arbeitende Verfahren erzeugt werden.The first step is to create an electrostatic one latent image on the surface of the plate. For a record "with either the top layer or the soluble layer is photosensitive, becomes a uniform electrostatic Charge applied to the surface. Typical procedures for • Uniform charging of a non-cooling surface is the Corona discharge described by Carlson in U.S. Patent 2,588,699, the triboelectric compact charge von Carlson in US Pat. No. 2297 69t «describes the induction charge with a touching sewing ladder, dier on high voltage and any suitable combination of methods. The evenly The loaded plate is then displayed with a power shadow image exposed by means of activating electro-magnetic radiation. This image can be produced on the plate surface by any suitable radiation method.

Gemäß einer anderen Ausführungsform kann die Bildplatte auch aus einer nichtlichtempfindlichen Oberschicht und einer nichtlichtempfindlichen löslichen Schicht bestehen. In diesem Falle wird das elektrostatische latente Bild direkt beispielsweise durch Korona-Entladung durch eine Schablone hindurch erzeugt. Auch kam.· ein elektrostatisches Bildauf die Platte nach einem von Walkup in der US-Patentschrift 2 833 648 beschriebenen Verfahren aufgebraoht werden.According to another embodiment, the image plate can also be made from a non-photosensitive topsheet and a non-photosensitive top layer soluble layer. In this case it will the electrostatic latent image is generated directly through a stencil, for example by corona discharge. Also came. an electrostatic image on the plate according to one of Walkup in U.S. Patent 2,833,648 will.

Das latente elektrostatische Bild auf der Oberfläche der Platte muß zur Sichtbarmachung entwickelt werden, wie in Fig.2 angedeutet. Jedes geeignete Entwicklungsverfahren kann angewendet werden, iypicche Entwicklungsverfahren sind: Eintauchen der mit dem latenten Bild versehenen Bildplatte in ein Lösungsmittel für die lösliche Schicht, wodurch diese und die nicht das Bild erzeugende leuchen abgewaschen werden und die das Bild erzeugenden 'feilchen an der leitfähigen. Unterlage in bildmäßiger Verteilung anhaften, Erweichung der Platte durch Wärme oder Lösungsmittel, wodurch Teile der Oberschicht in bildmäßiger Verteilung auf die leitfähige Unterlage wandern, und Berühren der Plattenober flache mit einem Lösungsmittelleray oder -dampf, wodurch die lösliche Schicht und die nicht das Bild erzeugenden Seile der Oberschicht abgewaschen werden und Teile der Oberschicht in bilämäßlgfcsj? Verteilung auf der leitfähigen Unterlage zurückbleiben ο G-eeignete Entwicklungsverfahren, sind auch in der französischen Patentschrift 1 466 549 beschriebene The electrostatic latent image on the surface of the plate must be developed for visualization, as indicated in Fig.2. Any suitable development method can be used be, iypicche development processes are: immersion of the image plate with the latent image in a solvent for the soluble layer, whereby this and the non-image-forming glow are washed off and the image-forming layer 'Negotiate the conductive. The substrate adheres in an image-wise distribution, the plate is softened by heat or solvents, whereby parts of the top layer are in an image-wise distribution walking onto the conductive surface and touching the top of the plate flat with a solvent array or vapor, whereby the soluble layer and the non-image forming ropes of the topsheet are washed off and parts of the topsheet in bilämäßlgfcsj? Spread on the conductive surface ο G-suitable development processes are also described in French patent 1,466,549

Die folgenden Beispiele dienen zur .weiteren Erläuterung der Erfindung an HaKa von Verfahren zur Herstellung einer verbesserten photoelektrosolographischen oder elektrosolographischen Bildplatte, und, dazu geeigneten AbblldungsvGrfahren_o Alle Anteile und Prozentwerte beziehen sich auf das Gewicht,' falls nicht anders angegeben« Die Beicpiele stellen vorzugsweise Ausführungsformen des erflnclungsgemäßen Verfahrens dar_o The following examples serve to .weiteren illustrate the invention in men's wear of methods for preparing an improved photoelectromotive solo photographic or electro-solo graphic image plate and suitable to AbblldungsvGrfahren _o All parts and percentages are by weight 'unless otherwise specified, "the Beicpiele preferably represent embodiments of the method according to the invention is _o

. ieispial 1 . ieispial 1

Es■ vrlrd eine Bila-olaxte riaeh dein in ^i^d darpeBteilten Verfahren. hergeBtellto 3>ie' . "-.liehe Schicht besteht'aus Pic.cotex 100, erhältlicri von der J'^nnsylvaniä. Inriuutrial Chemie al Goiapany und.It ■ vrlrd a Bila-olaxte riaeh your procedure divided into ^ i ^ d. produced to 3> ie '. The layer consists of Pic.cotex 100, available from the J '^ nnsylvaniä. Inriuutrial Chemie al Goiapany and.

wird folgendermaßen hergestellt: 1 Mol Alphamethyistyrol und 1 Mol Yinyltialuol werden mit Xylol zu einer 40$-igen Lösung vermischt. Ein katalytischer Anteil von BP- Ätherat wird hinzugefügt, und die Mischung wird gerührt, bis die Polymerisation vollständig ist. lach der Polymerisation wird Methanol hinzugefügt, um einen Zerfall des restlichen BP,- herbeizuführen, und dann wird der Polymer durch Dampfdestillation isoliert. Ca. 30 Teile Piccotex 100 werden in ca. 100 Teilen Isooktan aufgelöst.- ^iese Lösung wird auf mit Aluminium überzogenes Mylar (Polyäthylenterephthalat, erhältlich von E.I. duPont de Nemours $b Co.) bis zu einer Stärke von ca. 2 Mikron aufgebracht. Das überzogene Blatt wird in drei Teile geteilt. Der erste Teil bleibt unbehandelt, der zweite wird mit einer Hochdruck-Quecksilberdampf-Quarzlampe Hanovia SH (erhaltlich von der Abteilung Hanovia Lamp der Englehard Industries) ca. 12 min, lang belichtet. Die Lampe hat einen Abstand von 12,5 cm. Der dritte Teil wird in einem Abstand von 12,5 cm ca. 18 min. lang belichtet. Eine Schicht von Selen mit ca. 0,2 Mikron Stärke wird dann auf jedes der Blätter aufgebracht, wozu die Ablagerung mit Edelgas angewendet'wird, wie sie in der französischen Patentschrift 1 46634-9 beschrieben ist. Jede Platte wird dann elektrostatisch bei Dunkelheit auf eine positive Spannung von ca. 120 Volt mit einer Korona-Entladungseinrichtunr aufgeladen, wie sie von Carlson in der US-Patentschrift 2 588 699 beschrieben ist. Die Platten werden mit einem üblichen Schwarz-Weiß-Diapositiv kontaktbelichtet. Die Belichtmi; :sneit beträgt 1 see. mit einer Lampe von 4000 Angströmeinlieiten Wellenlängeis prepared as follows: 1 mole of alpha methyl styrene and 1 mole of yinyltialuene are mixed with xylene to form a 40% solution mixed. A catalytic portion of BP etherate is added, and the mixture is stirred until the polymerization is complete. After polymerization it becomes methanol added to bring about a disintegration of the remaining BP, and then the polymer is isolated by steam distillation. About 30 parts of Piccotex 100 are dissolved in about 100 parts of isooctane. This solution is coated with aluminum Mylar (polyethylene terephthalate available from E.I. duPont de Nemours $ b Co.) to a thickness of about 2 microns. The coated sheet is divided into three parts. The first part remains untreated, the second is made with a high pressure mercury vapor quartz lamp Hanovia SH (available from the Hanovia Lamp department of Englehard Industries) approx. 12 min, long exposure. The lamp is 12.5 cm apart. The third part takes about 18 minutes at a distance of 12.5 cm. long exposed. A layer of selenium about 0.2 microns thick is then applied to each of the leaves using the inert gas deposition, as in the French U.S. Patent 1,46634-9. Each plate is then electrostatically applied to a positive voltage in the dark charged from approx. 120 volts with a corona discharge device, as described by Carlson in U.S. Patent 2,588,699. The plates come with a standard black and white slide contact exposed. The Belichtmi; : sneit is 1 see. with a lamp with a wavelength of 4000 angstrom units

AQ ¹JAQ ¹ J

und 10 .Photonen/cm /see. Jede Platte wird dann ca. 3 see. langand 10 photons / cm / see. Each plate is then approx. 3 see. long

009838/1687 " ^r~ ~ 009838/1687 " ^r ~ ~

BADBATH

iii Zykiöiteiaii eingetaucht; Ss ergibt sich, eiii gutes, dem Origihal-BiM entspreenehdes Bild j wozu die blatte nicht ultraviolettem ; lielit ausviesetzt wurde. Eie Platte nat jedoch eine schlechte HintergründzeicMiüng und eine schlechte G-leiehförmigkeit. -Ein ausgezeichnetes Bild ergibt sich, auf derjenigen blatte, die mit ultraviolettem Ment \2 min. läng belichtet wurde* Biese blatte liä't atisgezeichnete Hintergrünüeigenseaaften und Bildgleiehmäßigkeit. Auf der Vb minϊ läng mit ultraviolettem Mcht behandelten Blatte isi Icein Bild zu er&ennehi Sie Stärke der Zwischenschicht einer mit ultraviolettem Ment 12 min* lang behandelten Platte wird nach dem in der i'ranzüsis±ciien Patentschrift 1 453 417 beschriebenen Verfahren gemessen und beträft 0,1b Mikron„ Bie Stärke der Zwischenschicht einer 18 min. lan^f; mit ultraviolet tem Ment behandelten .rlat'ce wird ^emesüen unct b-trli/'t ca. 0,4 Mikron. iii Zykiöiteiaii immersed; Ss results, eiii good, the Origihal-BiM corresponding picture j why the sheet is not ultraviolet; lielit was exposed. A record, however, has poor background information and conformity. -An excellent picture is obtained on the sheet that was exposed lengthways for 2 minutes with ultraviolet ment. On the sheet that has been treated with ultraviolet power for a length of time, there is a picture of the thickness of the intermediate layer of a sheet treated with ultraviolet power for 12 minutes, measured according to the method described in patent specification 1,453,417 and amounts to 0, 1b microns "Bie thickness of the intermediate layer of a 18 min lan ^f. rlat'ce treated with ultraviolet temm will be ^ emesüen unct b-trli / 't about 0.4 microns.

- Beisrdel II- Beisrdel II

Bs wird eine -veihe von 3 311dpla;;ceri v/ie in .beitroiel I hergestellt, mit dem UnterLChiea, daß die ϋ,'ϊ J?:il:roii starke Lelonsciiiciit auf der Gciiicnt vais i-icco i;ex 100-'vu!t der bsnandlun;* i.=it ultraviolettem !ficht hM.£^j¹OXcxcht v/ird. läe T2 .!ain. 1:.uj. ;o Beiic^tun er,-ibt■ v/ieaer ein aus ezeichnetes Bild, v/älirexiä keine Bellcri-tunf.: ein scnlechtes Bild und 1 ο min„ Lunge Belichtung ein sehr rjchlecu uos Bild ergibt. Bie Stärke eier Zv;i..chenüc..'cht wird bemessen unu betraf t 0,12 Mikron bei uer 12 min. lan^ bexiandelteu rl---tte und O,j55 MJ.kron bei der 1b inirio lang behandelten Platte.Bs is made a -veihe of 3 311dpla ;; ceri v / ie in .beitroiel I, with the UnterLChiea that the ϋ, 'ϊ J?: Il: roii strong Lelonsciiiciit on the Gciiicnt vais i-icco i; ex 100- 'vu! t der bsnandlun; * i. = it ultraviolet! ficht hM. £ ^ j ¹ OXcxcht v / ird. let T2.! ain. 1: .uj. ; o Beiic ^ do he, -be ■ v / ieaer an excellent picture, v / älirexiä no Bellcri-tunf .: a bad picture and 1 ο min "lung exposure results in a very rjchlecu uos picture. Bie strength eggs Zv; i..chenüc .. 'CHT is dimensioned UNU concerned t 0.12 microns with uer 12 min lan ^ bexiandelteu rl --- tte and O, J55 MJ.kron in 1b inirio long treated plate..

Example III

Eine KLut'ce wird hergestellt v/ie in Beispiel I. uieee Platte wird in drei Teile geteilt« Der -l'ell A wird niplit behandelt, der l'eil B wird wie in Beispiel I 12 min. lanf; mit ultra violettem licht be<A block is produced as in Example I. A plate is divided into three parts. The -l'ell A is treated niplit, the part B is as in Example I for 12 minutes; be <with ultra violet light

009838/1687 _009838/1687 _

lichtet und der Teil C wird 18 min. lang mit ultraviolettem Ment "belichtet, Über die Oberfläche der Platte wird fein pulverisiertes (ea. 1Θ Mikron mitüere' Teilchgröße) Moiiolite !Fast Blue G-S, eine Mischung der kristallinen Alpha- und Beta-Formen metailfreien Phthalocyanine, erhältlich von der Arnold Hofmäh Gömpahy* kaökadiertj. Dadurch wird eine praktisch gleichmäßige Teliehenschicht auf der Platteüoberflache abgelagert; Die Platten werden dann geladen* Belichtet und entwickelt wie in Beispiel Ϊ; Die G-esamtbelichtühg jeder Platte beträgt Ü5Ö Luxsee; Jede Platte wird dann durch 4 see. langes Eintauchen in Zyklohexan entwickelt. Auf der Plaxte A ergibt sieh ein dem Qriginalbiid entsprechendes Bild. J-¹Iese Platte hat jedoch schlechte Hihterrrundeigensehäften mit zu starker Ablagerung von Seuchen in den Hintergruiidflachen, άίϊί aus^eseichnetes Bild ergibt sich aui der Platte B.. Auf der Platte C ist kein Bild vorhanden. Wie in !Beispiel I v/ird auf einer Platte mit einer Zv.'i; chenscnicht von ca. O,1b Mikron Stärke ein ausgezeichnetes BiIu erzeugt. Bei einer Zwischenschicht mit einer Stärke von ca ο 0,4 Mikron tritt ib ine -uilt.orseugtuig auf.and part C is exposed for 18 min. with ultraviolet ment ", over the surface of the plate is finely powdered (approx. 1Θ micron medium particle size) Moiiolite! Fast Blue GS, a mixture of the crystalline alpha and beta forms, detail-free Phthalocyanine, available from Arnold Hofmäh Gömpahy * kaökadiertj. As a result, a practically even layer of film is deposited on the plate surface; the plates are then loaded * exposed and developed as in example Ϊ; the total exposure of each plate is Ü5Ö Luxsee; each plate is then see through fourth immersion in cyclohexane developed. on the Plaxte a check yields a corresponding to the Qriginalbiid image. J- ¹ Iese plate, however, has poor Hihterrrundeigensehäften with excessive deposition of epidemics in the Hintergruiidflachen, άίϊί apparent from ^ eseichnetes image aui the Plate B .. There is no picture on plate C. As in! Example I is on a plate with a Zv.'i; che It does not produce an excellent picture of about 0.1 microns thick. In the case of an intermediate layer with a thickness of approx. 0.4 microns, ib ine -uilt.orseugtuig occurs.

Example IV

Ca. $0 Teile Amoco 18, l'alyalphametliylstyrol, erhältlich von der American Oil Company, werden in ca. 200 Teilen Toluol gelöst ο -^iese lösung v/ird auf eine Aluminiumfolie auf_to;er;ossen.About $ 0 parts Amoco 18, l'alyalphametliylstyrol, available from the American Oil Company, are ο dissolved in 200 parts of toluene - ^ hese solution v / ill on an aluminum foil on _t o he; variables.

Die Platte wird ca. 1 Std. lang bei 70° C getrocknet. DieThe plate is dried at 70 ° C. for approx. 1 hour. the

hat
Schicht/eine Trockenstäike von ca. Il Mikron. Die Platte v/ird in drei Tolle gebellt und folgendermaßen behandelt: Der Teil A wird nicht behandelt, der Teil B wird 20 min. lang mit einer Hanovia-Ultraviolettlampe in ca. 12,5 cm Abstand belichtet und der Teil 0 v/ird ca. 2 SLd. lang mit der Hanovia-Lampe in einemHas
Layer / a dry strength of approx. Il micron. The plate is barked in three greats and treated as follows: Part A is not treated, Part B is exposed for 20 minutes with a Hanovia ultraviolet lamp at a distance of approx 2 SLd. long with the Hanovia lamp in one

009838/1687009838/1687

Abstand von ΐ2,5 c'm "belichtet. Diese Platten werden mit einer Schicht aus Selen wie in Beispiel I überzogene Dann werden sie geladen, belichtet und entwickelt wie in Beispiel I₀ Auf der Platte A ergibt sich ein Bild schlechter Qualrfc-ät . Die Platte B zeigt · ein Bild ausgezeichneter'Qualität praktisch ohne leuchen- , ablagerung in den Hintergrundflächen* Auf der Platte C ergibt sich kein Bild. Die Stärke der Zwischenschicht auf jeder Platte wird gemessen. Die Platte A hat keine Zwischenschicht, die Platte B hat eine Zwischenschicht ran ca, 0,15 Mikron Stärke und die Platte O hat eine ZwiEchenschicht von ca. 0,4 Mikron Stärke. '' .Distance from ΐ2,5 c'm "exposed. These plates are coated with a layer of selenium as plated in Example I they are then charged, exposed and developed as in Example I ₀ On the disk A gives a poor image Qualrfc-ät. Plate B shows an image of excellent quality, practically without any light, deposits in the background areas. There is no image on plate C. The thickness of the intermediate layer on each plate is measured an intermediate layer is approx. 0.15 micron thick and the plate O has an intermediate layer approx. 0.4 micron thick. ''

B eispiel YExample Y

Eine Platte"wird hergestellt wie in Beispiel I, Diese Platte wird in zwei Teile geteilt, der Seil A wird nicht behandelt und der Teil B wird einer kontinuierlichen Koronaladung mittels einer Koronaeinrichtung 12 Std. lang ausgesetzt, wobei eine Spannung von 7000 Volt an der Koronaeinrichtung anliegt. Die Platten werden mit Selen überzogen, geladen, belichtet und entwickelt wie in Beispiel I, Die Platte A zeigt ein-Bild mit etwas Hintergrunäzeichnung, die Platte B zeigt ein viel besseres Bild mit weniger Hintergrundzeiehnung« Dies zeigt, daß eine Zwischenschicht durch ausgedehnte Koronaladung anstatt durch ultraviolettes Licht erzeugt werden kann.A plate "is made as in Example I, This Plate is divided into two parts, rope A is not treated and the part B becomes continuous corona charging by means of exposed to a corona device for 12 hours, with a Voltage of 7000 volts is applied to the corona device. the Plates are coated with selenium, charged, exposed and developed as in Example I, plate A shows a picture with something Background drawing, panel B shows a much better image with less background drawing. This shows that an intermediate layer is caused by extensive corona charging rather than ultraviolet Light can be generated.

Example VI

Eine drei Mikron starke Schicht aus_ einem Styrol-methylstyioL-Cοpolymer wird auf eine Aluminiumunterlage aufgebracht. Diese Schicht wird fal^onrieriaaLien gebildet; Ca. 1 Mol Alpha-methylstyrol un« ca, 1 ^ύο1 ßÄffiP'Js $^! ¥■%&% f¹^ Xylol hu einer 40>b-igenA three micron thick layer of a styrene-methylstyrene-co-polymer is applied to an aluminum base. This layer is formed by falconiaaLien; Approx. 1 mole of alpha-methylstyrene and approx. 1 ^ύο1 ßÄffiP'Js $ ^! ¥ ■% &% f ¹ ^ xylene hu a 40> b-igen

lösung vermischt. Ein katalytischer Anteil von BF; Ätherat wird hinzugefügt und die Mischung wird gerührt, "bis die Polymerisation vollständig ist. lach der Polymerisation wird Methanol hinzugefügt, um den Zerfall des restlichen Ε-ϊ\, herbeizuführen, und der Copolymer wird durch Dampfdestillation isoliert. Ca. 30' Teile des Copolymers werden in ca. 100 Teilen Toluol aufgelöst, Die Aluminiumunterlage wird mit einer Schicht dieser Lösung versehen. Die Schicht wird wie in Beispiel I mit Selen überzogen, ^ie Plattewird dann in drei Teile geteilt und folgendermaßen behandelt: Teil A wird nicht behandelt, ^xeil B wird ca. 15 min. lang mit einer Hano^ia-Lampe in 12,5 cm Abstand belichtet und Teil C wird in ähnlicher Weise ca. 75 min. lang belichtet. Jede Platte -wird dann auf eine negative Spannung von ca. 300 Volt aufgeladen. Die Belichtung und Entwicklung erfolgt wie in Beispiel I. Auf der Platte Δ ergibt sich ein gutes Bild. Die Platte B hat ein bemerkenswert besseres Bild mit besserer Gleichmäßigkeit. Ein schlechtes Bild mit starker Kintergrundzeichnung und schlechter Gleichförmigkeit ergibt sich auf der Platte C. Dj__e"zwischenschicht bei der Platte B wird gemessen und beträgt 0,1 Mikron. Die Zwischenschicht der Platte C wird remessen und beträgt 0,4 Mikron.mixed solution. A catalytic portion of BF; Ether is added and the mixture is stirred "until the polymerization is complete. After the polymerization, methanol is added to cause the decomposition of the remaining Ε-ϊ \, and the copolymer is isolated by steam distillation. Approx. 30 parts of the copolymer are dissolved in about 100 parts of toluene, the aluminum base is provided with a layer of this solution.The layer is coated with selenium as in Example I. The plate is then divided into three parts and treated as follows: Part A is not treated, ^x part B is exposed for about 15 minutes with a Hanoia lamp at a distance of 12.5 cm and part C is exposed in a similar way for about 75 minutes The exposure and development are as in Example I. A good image results on plate Δ. Plate B has a remarkably better image with better uniformity. A poor image with strong kinetics rgrundzeichnung and poor uniformity arises on the plate C. DJ_ _e "intermediate layer in the plate B is measured and is 0.1 microns. The intermediate layer of plate C is remeasured and is 0.4 microns.

Example YII

Ein vier Mikron starke Schicht aus Polydiphenylsiloxan wird auf der leitfähigen Oberfläche eines mit Aluminium überzogenen Mylarblattes gebildet. Die Schicht wird folgendermaßen hergestellt: Ca. 600 i'eile Oktaphenylsyklotetrasiloxan v/erden in eine Kochflasche gefüllt und in Stickstoffatmosphäre auf ca. 230° C' erhitst. Ca. 1 Teil Oüsiumhydroxyd wird hinsu-gefügt und dieA four micron thick layer of polydiphenylsiloxane is coated on the conductive surface of an aluminum Mylar sheet formed. The layer is made as follows: About 600 parts of octaphenylsyklotetrasiloxane are grounded in a Cooking bottle filled and in a nitrogen atmosphere to approx. 230 ° C ' get. About 1 part of ousium hydroxide is added and the

0 0 9 8 3 8/1687 bad oftGiNAL0 0 9 8 3 8/1687 bad oftGiNAL

- 17 -- 17 -

Temperatur-v/ird bei Umrühren langsam auf 260 C erhöht und auf diesem Wert ca. 1 Std. gehalten. Ca. 0,5 Teile Cäsiumhydroxyd werden dann hinzugefügt, und die Lösung wird auf ca. 260° C weitere 1 1/2 Std. lang gehalteno Dann v/ird Iod hinzugefügt, bis die violette Farbe-erscheint, was die Neutralisation des restlichen Cäsiumhydroxyd anzeigt. Überschüssiges. Iod kann sich Gublimieren und die Mischung wird auf ca, 125° C abgekühlt. 4-30 Teile Toluol v/erden dann hinzugefügt und in die jetzt viskose Mischung eingerührt. Die Mischling wird 72 Std. gelagert und der gebildete kristalline Stoff wird ausgefiltert. Restliches Lösungsmittel wird von den Polymer durch Destillation bei atmosphärischem Druck und darauf folgende Vakuumverdaupfung bei ca. 125 C entfernt. Man erh"lt ein Polymer, das bei ca. 80° C zu einer flüssigkeit schmilzt. Ca. 30 Teile dieses Polymeren werden in ca. 100 Teilen Toluol auigelöst, und die Lösung wird auf die Aluminiumunterlage als bchicht aufgebracht und getrocknet.The temperature is slowly increased to 260 ° C. while stirring this value held for approx. 1 hour. Approx. 0.5 part of cesium hydroxide are then added, and the solution is kept at approx. 260 ° C for a further 1 1/2 hours. Then iodine is added, until the purple color-appears, which is the neutralization of the indicates remaining cesium hydroxide. Excess. Iodine can itself Dublimate and the mixture is cooled to approx. 125 ° C. 4-30 Parts of toluene v / earth then added and converted to the now viscous Mixture stirred in. The hybrid is stored for 72 hours and the crystalline substance formed is filtered out. The rest Solvent is removed from the polymer by distillation at atmospheric Pressure and subsequent vacuum digestion at approx. 125 C removed. A polymer is obtained which at about 80.degree a liquid melts. About 30 parts of this polymer will be dissolved in about 100 parts of toluene, and the solution is on the aluminum base applied as a layer and dried.

Diese Platte wird in 'drei Teile geteilt iind foJi?ndermaßen behandelt: Der Teil A wird nicht behandelt, Teil L v/ird ca. 20 min. mit ultraviolettem Licht mittels einer Hanovia-Lampe in einem Abstand von 12,5 cm belichtet und Platte C wird in ähnlicher Weise ca. 110 min. lang belichtet. Eine Oberflächenscnicht von Monolite .Past Blue G-S v/ird dann durch Kaskadierung aufgebracht. Dann werden die Platten jeweils auf eine Spannuni;; von ca. 350 YoIt geladen. Jede Platte v/ird belichtet und entwickelt wie in Beispiel I. Die Platte A ohne Zwischenschicht enthalt ein gutes Bild» ^ie Platte B mit einer Zwischenschicht von ca, 0,2 Mikron Stärke enthält Gin ausgezeichnetes Bild. Die Platte C mit einer Zwischenschicht von ca, 0,5 Mikron Stärke enthält kein Bild.-This plate is divided into three parts and treated as follows: Part A is not dealt with, part L takes about 20 minutes. exposed to ultraviolet light by means of a Hanovia lamp at a distance of 12.5 cm, and plate C becomes similar Exposure for approx. 110 min. A surface area not of Monolite .Past Blue G-S is then applied by cascading. Then the plates are each placed on a clamping unit ;; loaded by approx. 350 YoIt. Each plate is exposed and developed as in Example I. Plate A without an intermediate layer contains a good image - ie plate B with an intermediate layer of about 0.2 microns Strength contains gin excellent image. The plate C with a Interlayer with a thickness of approx. 0.5 microns does not contain a picture.

οΒΚΜΝΑίΟ Ö 0 8 3 8 / ΉοΒΚΜΝΑίΟ Ö 0 8 3 8 / Ή

Beispiel YIIIExample YIII

Eine ca. 4 Mikron starke Schicht aus Piccotex 100 wird auf einer Aluminiumunterlage gebildet. Diese Platte wird in vier Qteile eingeteilt, die folgendermaßen behandelt werden: Plat ce A bleibt unbehandelt, Platte B wird durch Eintauchen mit einer ca. 0,06 Mikron starken Schicht aus Butvar B-76, einem Polyvinylbutyralharz, erhältlich von der Monsanto Chemical Company, Molekulargewicht 50 000, überzogen, Platte ü wird durch Eintauchen mit einer ca. 0,1 Mikron starken Schicht aus Butyar B-76 überzogen, und Platte D wird durch ein Eintauchen mit einer ca, 0,p Mikron starken Schicht aus Butvar B-76 aberzogen. Jede dieser Platten wird mit einer Schicht aus Selen wie in Beispiel I überzogen. Dann werden die Platten jeweils auf eine negs.tive Spannung von ca. 280 Volt gela^den. Die Belichtung und Entwicklung erfolgt wie in Beispiel I. Die Platte A mit fehlender Zwischenschicht enthält ein gutes Bild mit starkeruintergrundzeichnung. Platte B und Platte C haben jeweils ein ausgezeichnetes Bild, während auf der Platte ^ kein Bild vorhanden ist.An approximately 4 micron thick layer of Piccotex 100 is formed on an aluminum backing. This plate is divided into four parts, which are treated as follows: Plate A is left untreated, Plate B is dipped with an approximately 0.06 micron thick layer of Butvar B-76, a polyvinyl butyral resin available from Monsanto Chemical Company, Molecular weight 50,000 coated, plate U is dipped with an approximately 0.1 micron layer of Butyar B-76, and plate D is dipped with an approximately 0.0 micron layer of Butvar B-76 withdrawn. Each of these plates is coated with a layer of selenium as in Example I. Then the plates are each charged to a negative voltage of approx. 280 volts. The exposure and development are carried out as in Example I. Plate A with the missing intermediate layer contains a good image with a strong background drawing. Plate B and plate C each have an excellent image, while plate ^ has no image.

Example IX

Eire Schicht aus Piccotex 100 mit einer Stärke von* ca. 4 Mikron v/ird auf der leitfähigen Oberfläche eines mit Aluminium überzogenen Myj.arblattes gebildet, -^ie Platte wird in drei l'eile geteilt. Diese werden folgendermaßen behandelt: Platte A bleibt unbehandelt, Platte B wird durch Eintauchen mit einer ca. 0_?1 Mikron starken Schicht aus Gelvatol 3-60, einem Polyvinylalk -UoI-harz, erhältlich von Shawinigan Products Inc. Molekulargewicht 90 000, überzogen und Platte ^ü wird durch Eintauchen mit einerA layer of Piccotex 100 with a thickness of about 4 microns is formed on the conductive surface of an aluminum-coated sheet of metal - the plate is divided into three parts. These are treated as follows: plate A remains untreated, plate B is immersed with an approx. 0 _? A 1 micron layer of Gelvatol 3-60, a polyvinyl alk-UoI resin available from Shawinigan Products Inc. molecular weight 90,000, coated and plate ^ü is immersed with a

009838/161?009838/161?

ca. 0,5 Mikron starken Schickt, aus G-elvatol 3-60 überzogen. Jeder Seil der Platte wird mit einer Schicht fein verteilten Monolite Past Blue G-S überzogen. Jede Platte wird dann auf eine negative Spannung von ca. 200 ToIt geladen. Die Belichtung und Entwicklung einer jeden Platte erfolgt-wie in Beispiel I. Auf der Platte A ergibt sieh ein gutes Bild. Platte B zeigt · ein Bild ausgezeichneter Qualität. Auf der Platte C ist kein Bild vorhanden.approx. 0.5 micron thick layer, coated with G-elvatol 3-60. Each rope of the plate is covered with a layer of finely divided Monolite Past Blue G-S. Each plate is then placed on a negative voltage of approx. 200 ToIt charged. The exposure and development of each plate is carried out as in Example I. On plate A you see a good picture. Plate B shows an image of excellent quality. There is no on disk C. Picture available.

. Beispiel X. Example X

Eine Schicht aus Piccotex 100 mit einer Stärke von ca. 4 Mikron wird auf einer Aluminiumunterlage gebildet. Diese Platte wird in vier !Teile geteilt. Diese werden folgendermaßen behandelt: Platte A bleibt unbehandelt, Platte B wird durch Eintauchen mit einer ca. 0,01 Mikron starken Schicht aus Bakelite CKR-2400, einem Phenolformaldehydharz, erhältlich von der Union Carbide Chemical Company, überzogen, Platte C wird durch Eintauchen mit einer ca* 0,08 Mikron starken Schicht aus Bakelite CKR-2400 überzogen und Platte D wird mit einer ca. 0,5 Mikron starken Schicht aus Bakelite CKR-2400 durch Eintauchen überzogen. Jede dieser Plattenwird mit einer Schicht Selen wie in Beispiel I überzogen und auf eine negative Spannung von ca, 250 YoIt aufgeladen* Jede Platte wird dann belichtet und entwickelt wie in Beispiel I. Die Platte A enthalt kein Bild. Die Platten B und C enthalten ausgezeichnete Bilder* Auf der Platte D ist kein Bild vorhanden.A layer of Piccotex 100 approximately 4 microns thick is made on an aluminum backing. This record will divided into four! parts. These are treated as follows: Plate A remains untreated, plate B is immersed with an approx. 0.01 micron thick layer of Bakelite CKR-2400, a phenol formaldehyde resin available from Union Carbide Chemical Company, coated, Plate C is made by immersion with a 0.08 micron thick layer of Bakelite CKR-2400 coated and plate D is coated with an approximately 0.5 micron thick layer of Bakelite CKR-2400 by immersion. Every this plate is covered with a layer of selenium as in example I. coated and charged to a negative voltage of approx. 250 YoIt * Each plate is then exposed and developed as in Example I. Plate A contains no image. The panels B and C contain excellent pictures * There is no Picture available.

Example XI

Eine Schicht au κ Γ iac ο ι, ex 100 wird auf einer Aluminiumunterlage biß zu einOa- otr. ...c von ca, 4-Mikron auX^ebracht. Diese PlatteA layer of au κ Γ iac ο ι, ex 100 is placed on an aluminum base bit to an Oa- otr. ... c brought out from about 4 microns. This record

BADOR₁G₁NAL 009838/1687 . BADOR ₁ G ₁ NAL 009838/1687 .

wird in drei !'eile geteilt. J^ie Teile werden folgendermaßen behandelt: Platte A "bleibt unbehandelt, Platte B wird durch Sprühen mit Krylon, einem Akrylester der Krylon Inc. in Aerosolform, bis zu einer Stärke von ca. 0,15 Mikron überaοgen und Platte B wird durch Sprühen mit Krylon bis zu einer Stärke von.0,7 Mikron überzogen. Jede" der Platten wird mit Selen wie in Beispiel I überzogen und' auf eine positive Spannung von ca. 50 Volt aufgeladen, ^ie Belichtung und Entwicklung erfolgt wie in Beispiel I. Auf der Platte A ergibt sich.ein guxes Bild. Platte B enthält ein ausgezeichnetes Bild mit sehr wenig Hintergrundzeichnung. Auf der Platte C ist kein Bild vorhanden.is divided into three! 'hurry. The parts are as follows treated: plate A "remains untreated, plate B is through Spray with Krylon, an acrylic ester from Krylon Inc. in aerosol form, to a thickness of approx. 0.15 microns and overlay Panel B is made by spraying Krylon to a thickness 0.7 microns coated. Each "of the plates is coated with selenium as in Example I and" to a positive voltage of approx. 50 volts charged, ^ ie exposure and development is done like in example I. A good picture results on plate A. Panel B contains an excellent picture with very little background drawing. There is no image on disk C.

Example XII

Ca. 60 Teile Amoco 18 werden in ca. 200 Teilen Toluol gelöst. Diese Lösung wird auf ein mit Aluminium überzogenes Mylarblatt bis zu einer trockenen Stärke auf ca. 2 Hikron aufgegossen. Die Harzoberfläche wird mit einer ca. 0,2 Mikron starken Schicht aus Selen wie in Beispiel I überzogen. Das Blatt wird dazin in drei Teile geteilt. Ein Teil wird mit einer ultravioletten Strahlungsquelle wie in Beispiel IV belichtet. Jeder Teil wird geladen und belichtet wie in Beispiel I. Ein Becherglas wird zur Hälfte mit Chloroform gefüllt. Die Dämpffi? über dem Flüssigkeitsspiegel nehmen bei Zimmertemperatur G-leichrewichtszustand an. Jeder Teil der Platte wird dann ca, 2 see. lang zur Entwicklung des elektrostatischen latenten Bildes in den Dampf gehalten. Während der Entwicklung können die Bilder durch die Wandung des Becherglases "beobachtet werden. Die nichtbehandelteAbout 60 parts of Amoco 18 are dissolved in about 200 parts of toluene. This solution is poured onto an aluminum-covered mylar sheet Infused to a dry strength on approx. 2 hikron. The resin surface is covered with an approx. 0.2 micron thick layer Coated from selenium as in Example I. The sheet becomes dazin divided into three parts. A part is exposed to an ultraviolet radiation source as in Example IV. Every part will charged and exposed as in Example I. A beaker is half filled with chloroform. The steaming? above the liquid level assume equilibrium at room temperature. Each part of the plate is then approx. 2 see. long to development of the electrostatic latent image is held in the vapor. During development, the images can pass through the Wall of the beaker "can be observed. The untreated

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009838/188?009838/188?

Platte enthält ein Hegativbild des Originalbildes, die Koni?astdichte ist gering und beträgt ca. 0,2. Die behandelte Platte, die eine Zwischenschicht enthält, enthält ein Positivbild des Originaloildes. Die Kontastdichte ist viel größer und beträgt 0,7.The plate contains a negative image of the original image, the conical branch density is small and amounts to approx. 0.2. The treated plate, which contains an intermediate layer, contains a positive image of the original oil. The contrast density is much greater and is 0.7.

Beispiel XIIIExample XIII

50 Teile Piccopale H-2, ein sehr verzweigtes Polyolefin ,erhältlich von der Pennsylvania Industrial Chemical Corporation, werden in ca. 100 Teilen Zyklohexan aufgelöst. Diese Lösung ,wird durch Sprühen auf ein mit Aluminium überzogenes MyIarblatb bis zu einer Trockenstärke von ca. 2 Mikron aufgebracht. Das Blatt wird dann in zwei Teile geteilt. Ein Teil wird mit einer ultravioletten Hanovia-Lampe aus einem Abstand von ca. 12,5 cm 20 min. lang belichtet. Jeder Teil wird dann mit einer ca. 0,2 Mikron starken Schicht Selen wie in Beispiel I überzogen. Jeder Über-' zug wird geladen und belichtet wie in Beispiel I. Ein Becherglas wird zur Hälfte mit Toluol gefüllt. Der Dampf über der I'lüssigkeitsoberflache gelangt bei Zimmertemperatur in den Gleichgewichtszustand» Die beiden Plattenteile werden ca. 2 sec. in den Dampf gehalten. Der unbehandelte Teil enthält ein Negativbild des Originalbildes. Die Kontrastdichte beträgt ca. 0,3. Der behandelte Plattenteil, der mit einer Zwischenschicht versehen ist, enthält ein Positivbild des Originalbildes. Die Kontrastdichte ist viel besser und beträgt 0,8.50 parts Piccopale H-2, a very branched polyolefin, available from Pennsylvania Industrial Chemical Corporation, are dissolved in about 100 parts of cyclohexane. This solution will by spraying onto an aluminum-coated myIarblatb bis applied to a dry thickness of approximately 2 microns. The leaf is then divided into two parts. A part is with an ultraviolet Hanovia lamp from a distance of about 12.5 cm for 20 min. long exposed. Each part is then finished with an approx. 0.2 micron strong layer of selenium coated as in Example I. Every over- ' Train is charged and exposed as in Example I. A beaker is half filled with toluene. The steam over the surface of the liquid reaches a state of equilibrium at room temperature »Both parts of the plate are immersed in the Steam kept. The untreated part contains a negative image of the original image. The contrast density is approx. 0.3. Of the The treated plate part, which is provided with an intermediate layer, contains a positive image of the original image. The contrast density is much better and is 0.8.

Example XIY

Ca₀ 12 Teile Piccotex 100 werden in ca. 25 Teilen Toluol gelost. Zu der Lööung werden ca. 2 Teile Bakelite 2432, ein Phenolform-Ca ₀ Piccotex 12 parts of 100 are dissolved in 25 parts of toluene. About 2 parts of Bakelite 2432, a phenol form-

eriiältlich. von der Union Carbide Corporation, hinau-0098 38/1887available. from Union Carbide Corporation, hinau-0098 38/1887

BAD ORIGINAL ' ■ . - 22 -BAD ORIGINAL '■. - 22 -

gefügt. Diese Lösung wird dann durch Eintauchen mit einer Stärke von ca. 15 Mikron auf eine Aluminiumfolie aufgebracht.joined. This solution is then immersed with a A thickness of approx. 15 microns applied to an aluminum foil.

Es hat den Anschein, daß das Bakelite 2432 zur Oberfläche der Schicht wandert, wodurch eine Zwischenschicht höherer Viskosität entsteht. Die Platte wird mit ca. 0,2 Mikron starker Selenschicht überzogen. Dann wird sie geladen, belichtet und entwickelt wie in Beispiel I. Ein Bild ausgezeichneter Qualität ergibt sich auf der Platte.It appears that the Bakelite 2432 migrates to the surface of the layer, creating an intermediate layer of higher viscosity arises. The plate is coated with a selenium layer approx. 0.2 micron thick. Then it is charged, exposed and developed as in Example I. An image of excellent quality results on the plate.

Obwohl spezielle Anteile und Stoffmengen in den vorstehenden Beispielen verschiedener elektrosolographischer und photoelektrosolographischer Abbildungsverfahren beschrieben wurde, kann jeder der weiter oben angegebenen Stoffe mit ähnlichen Ergebnissen . verwendet werden. Ferner können weitere Stoffe zu den verschiedenen Schichten hinzufügt werden, um eine synergetische, verbessernde oder anderweitig vorteilhafte Wirkung zu erzielen.Although specific proportions and amounts of substance in the preceding examples various electrosolographic and photoelectrosolographic The imaging method described above can use any of the substances listed above with similar results. be used. Furthermore, other substances can be added to the various layers to create a synergetic, improving effect or to achieve otherwise beneficial effects.

Weiterbildungen und andere ^usführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind dem Fachmann nach Kenntnis der vorstehenden Beschreibung möglich. Diese werden insgesamt durch den Grundgedanken der Erfindung umfaßt, Further developments and other embodiments of the method according to the invention are possible for the person skilled in the art after knowledge of the above description. These are encompassed as a whole by the basic concept of the invention ,

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009838/1687 bad origimai009838/1687 bad origimai

Claims

P at

^ Method of making a photoelectrosolographic vision or electrosolographic image plate, characterized in that that on a conductive base a layer of a softenable Substance is applied that on the surface of this Layer a thin intermediate layer in the form of a skin with a greater viscosity than the softenable substance and a strength that does not yet match the imaging properties of the Plate is affected, is formed, and that on the softenable layer a breakable layer of an insoluble substance is applied,

2 "The method according to claim 1, characterized in that the skin-shaped intermediate layer has a thickness of up to 0.3 microns.

3 * Method according to claim 1, characterized in that the skin-shaped Interlayer has a thickness of up to 0.2 microns

Method according to one of Claims 1 to 3, characterized in that the breakable section is microscopically irregular Shift is.

5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the breakable layer on the softenable layer before .the formation of the skin-shaped intermediate layer is applied.

6 »The method according to a cbr claims 1 to i ;, characterized gekennaeich-. 3iet, _ that the hautrüriai.'ο ^ v / ii.chenuciiiolit from a substance of the same

bcm chemical usarmaenfic-Lisiui-r like dio erweioiibaro üo-tdcht fetj - «*: v / iyd., ■.". 009838/1887 bad original

7. The method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that that the hair-like intermediate layer by action ultraviolet radiation is formed on the reachable layer will.

8. The method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that that the skin-like intermediate layer by extensive corona charge the softenable layer is formed.

9. The method according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the skin-shaped inner layer is formed from a substance with a different chemical structure than the softenable layer.

10. The method according to claim 9, characterized in that the skin-shaped Intermediate layer by applying a layer with opposite the softenable layer of greater viscosity is formed.

11. The method according to any one of claims 1 to 10, characterized in that that a light-sensitive substance is used as the insoluble substance "

12. The method according to any one of claims 1 to 10, characterized in f; ekennzeiclinet, that a photosensitive material is used for the softenable layer.

13. The method according to any one of claims 1 to 12, üaaurcLi gekeimteichliot, that the wise. bare .Schedules in a mouthful of an ugly is that the uiiloaliolie layer is not attacked;

009838/160? - - -

14. Image plate, produced by the method according to one of the claims 1 "to 13, characterized by a conductive lower layer on which a layer of a softenable, non-conductive substance is applied, through one on the surface of the softenable Layer formed skin-shaped intermediate layer with a viscosity greater than that of the softenable layer and a strength that affects the imaging properties of the plate unaffected by a breakable layer of one insoluble matter on the softenable layer.

15. Image plate according to claim 14, characterized in that the skin-shaped intermediate layer has a thickness of up to 0.3 microns.

16. Image plate according to claim 14, characterized in that the skin-shaped intermediate layer has a thickness of up to 0.2 microns.

17. Image plate according to one of claims 14 to i6, characterized

ko-

shows that the breakable layer is microscopically irregular Shift is.

18. Image plate according to one of claims 14 to 17, characterized. shows that the skin-shaped intermediate layer has a chemical structure that corresponds to that of the softenable layer.

19 «image plate according to one of claims 14 to 17, characterized thereby. ■ shows that the skin-shaped intermediate layer is opposite the softenable layer has a different chemical structure.

Image plate naeii one of claims 14 to 19 "characterized ^ ek jseiehnet 'that' the -unoliche layer is light-sensitive, - · ^: 300838/1887 bad original.

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"21. Image plate according to one of claims 14" to 19, characterized in that that the softenable layer is photosensitive.

22. Imaging method using an imaging plate according to a of claims 14 "to 21, characterized in that on the Image plate a latent electrostatic image is generated, and that the softenable layer is softened, whereby parts of the breakable layer in image-wise distribution selectively on the conductive base.

23. Imaging method according to claim 22, characterized in that that the skin-shaped intermediate layer is formed by the action of ultraviolet radiation on the softenable layer.

24. Imaging method according to claim 22, characterized in that the skin-shaped intermediate layer is formed by coating the softenable layer with a substance of greater viscosity,

25. Abbilduiigsverfahren according to flinem of claims 22 to 24, characterized in that the softenable layer is softened by the action of a solvent vapor. '

25. Imaging method according to one of claims 22 to 24, characterized characterized in that the non-image-forming parts of the irregular layer are replaced by a softenable layer Solvents are washed off during image development «

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