DE1573977C3 - Method for metering the exposure of photographic plates in quantitative mass spectrometric solid-state analysis - Google Patents

Method for metering the exposure of photographic plates in quantitative mass spectrometric solid-state analysis

Info

Publication number
DE1573977C3
DE1573977C3 DE19651573977 DE1573977A DE1573977C3 DE 1573977 C3 DE1573977 C3 DE 1573977C3 DE 19651573977 DE19651573977 DE 19651573977 DE 1573977 A DE1573977 A DE 1573977A DE 1573977 C3 DE1573977 C3 DE 1573977C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ion
exposure
blackening
ions
charge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19651573977
Other languages
German (de)
Other versions
DE1573977A1 (en
DE1573977B2 (en
Inventor
Jochen Dipl.-Phys.Dr. 5810 Witten Franzen
Klaus Dieter Dipl.-Phys. Dr. 2800 Bremen Schuy
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Varian Mat GmbH
Original Assignee
Varian Mat GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Varian Mat GmbH filed Critical Varian Mat GmbH
Publication of DE1573977A1 publication Critical patent/DE1573977A1/en
Publication of DE1573977B2 publication Critical patent/DE1573977B2/en
Application granted granted Critical
Publication of DE1573977C3 publication Critical patent/DE1573977C3/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02—Details
    • H01J49/10—Ion sources; Ion guns
    • H01J49/18—Ion sources; Ion guns using spark ionisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
    • H01J49/28—Static spectrometers
    • H01J49/30—Static spectrometers using magnetic analysers, e.g. Dempster spectrometer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

Kennt man also die Ladungen, die zu Linien glei-So if you know the charges that are identical to lines

eher Schwärzung führen, so kann man das Konzentrationsverhältnis berechnen:rather lead to blackening, one can determine the concentration ratio calculate:

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Dosierung Cai Lb
der Belichtung von Fotoplatten bei der quantitativenThe invention relates to a method for dosing Cai Lb
the exposure of photographic plates in the quantitative

massenspektrometrischen Festkörperanalyse mit Da es bei einer tatsächlichen Messung selten undmass spectrometric solid-state analysis with Since it is rare and in an actual measurement

Ionenerzeugung durch gepulste Vakuumentladungen. 25 dann nur zufällig gelingt, zwei Linien gleicherIon generation through pulsed vacuum discharges. 25 then succeeds only by chance, two lines of the same

Die Schwärzung der von Ionen getroffenen Stellen Schwärzung zu erzeugen, wird jeweils die gesamte der Fotoplatte hängt in definierter Weise von der Schwärzungskurve für jedes an der Analyse beteiligte Anzahl der aufgetroffenen Ionen ab. Der Zusammen- Element aufgenommen. Anschließend werden die hang zwischen Ionenzahl bzw. Ionenladung und Ladungen, die zu Linien gleicher Schwärzung führen Schwärzung wird durch die Schwärzungskurve 30 würden, graphisch bestimmt, wie es in F i g. 2 anwiedergegeben. Man gewinnt sie, indem man die gedeutet ist. ... . . .The blackening of the spots struck by ions to produce blackening is the entire in each case the photo plate depends in a defined way on the density curve for everyone involved in the analysis Number of ions encountered. The together element was added. Then the relationship between the number of ions or ion charge and charges that lead to lines of equal blackening Blackening is determined by the blackening curve 30, graphically, as shown in FIG. 2 reproduced. You win it by being interpreted. ... . .

Fotoplatte nacheinander und an verschiedenen Stellen Ionenquellen, die für Analysen der beschriebenenPhoto plate one after the other and in different places ion sources, which are used for analyzes of the described

mit mehreren gegeneinander abgestuften Ladungs- Art geeignet sind, liefern gepulste Ionenströme.with several mutually graded charge types are suitable, deliver pulsed ion currents.

. mengen L1, L2 bis Ln (die ganz bestimmten Teilchen- Die bisher ausschließlich verwendete Ionenquelle. quantities L 1 , L 2 to L n (the very specific particle- The ion source used only up to now

zahlen oder Ionenzahlen entsprechen) exponiert und 35 ist die bekannte Hochfrequenz-Funkenionenquellenumbers or ion numbers) and 35 is the well-known high-frequency spark ion source

die zu jeder ExpositionL1 gehörige Schwärzung nach Dempster. Bei einer Impulsfolgefrequenz vonthe Dempster blackening associated with each exposure L 1. With a pulse repetition rate of

S1 = f (L1-) gegen die Exposition aufträgt (F i g. 1). 1 kHz lieferten solche HF-Ionenquellen bisher mitt- S 1 = f (L 1 -) plots against exposure (Fig. 1). 1 kHz, such HF ion sources have so far delivered

Bei den auf diesen Spezialfotoplatten vorhandenen lere Ionenströme von 1O-11 A maximal. Ein Ionen-Einkornschichten ist die Schwärzung S definiert als stromimpuls führt dann maximal 10~14 Coul Ladung der geschwärzte Flächenbruchteil der gesamten 40 mit sich. Zur Erzeugung der Schwärzungskurve eines Fläche. Wenn bei fotometrischer Messung die Trans- Elementes mit hoher Konzentration sind dann immer parenz T der geschwärzten Fläche gemessen wird, so mehrere Impulse notwendig. Die Sättigungsschwärist demnach zung wird beispielsweise im Mittel mit 2000 Impul- S= l — T. sen> entsprechend 2 Sekunden Belichtungszeit bei With the ion currents of 10 -11 A present on these special photo plates, maximum. An ion single grain layer is the blackening S defined as a current impulse then carries a maximum of 10 ~ 14 coul charge of the blackened area fraction of the total 40 with it. For generating the blackening curve of a surface. If, with photometric measurement, the trans elements with high concentration are then always measured parenz T of the blackened area, several pulses are necessary. The saturation threshold is accordingly on average with 2000 pulses S = 1 - T. sen > corresponding to an exposure time of 2 seconds

45 einer Folgefrequenz von 1 kHz erreicht. Die zeitliche45 reached a repetition frequency of 1 kHz. The temporal

Zur Erzeugung einer gerade sichtbaren Schwär- Länge der einzelnen Ionenstromimpulse liegt zwi-To generate a just visible Schwär- length of the individual ion current pulses is between

zung S0 = 0,005 (entsprechend T =99,5%) sind sehen 0,5 und 2 \isec. Zung S 0 = 0.005 (corresponding to T = 99.5%) are see 0.5 and 2 \ isec.

etwa 105 Ionen/mm2 oder etwa 2 · 10~14 Coul einfach Die weitere technische Entwicklung führt jedochabout 10 5 ions / mm 2 or about 2 · 10 ~ 14 coul simply However, further technical development is leading

geladener Ionen notwendig. Die Sättigungsschwär- einerseits zu HF-Ionenquellen mit höherer Ionen-charged ions necessary. The saturation level - on the one hand, to HF ion sources with higher ion

zangSmax (entsprechend T = 0 %>) ist bei Beschüß 50 ausbeute und Analysatoren mit höherer Ionenemis- zangS max (corresponding to T = 0%>) is 50 yield with bombardment and analyzers with higher ion emis-

mit etwa 108 Ionen/mm2 oder etwa 2 · 1O-11 Coul sion und andererseits zu anderen Ionenquellentypen,with about 10 8 ions / mm 2 or about 2 · 1O -11 Coul sion and on the other hand to other types of ion sources,

erreicht (Fig. 1). wie die getriggerte kondensierte Gleichspannungs-achieved (Fig. 1). like the triggered condensed DC voltage

- - Zur Ionisierung des" Probenmaterials "verwendet entladung mit wesentlich längerer Entladungszeit und- - For ionization of the "sample material" used discharge with significantly longer discharge time and

man Ionenquellen, bei denen die erzeugten Ionen- . entsprechend größerem mittlerem Ionenstrom. Damitone ion sources, in which the generated ions. correspondingly larger mean ion current. In order to

ströme der Konzentration der Mischungsbestandteile, 55 kann die pro Impuls mitgeführte Ladung so großflows of the concentration of the mixture components, 55 the charge carried per pulse can be so large

aus denen die Probe besteht, proportional sind. Da werden, daß es mit diesen verbesserten Ionenquellenthat make up the sample are proportional. There'll be with these improved ion sources

einem bestimmten, auf die Fotoplatte gefallenen und verbesserten Analysatoren nicht mehr gelingt,a certain, improved analyzer that has fallen on the photo plate no longer works,

Ionenstrom eine bestimmte Schwärzung der Foto- die Schwärzungskurven von Elementen mit großerIon current a certain blackening of the photo- the blackening curves of elements with large

platte entspricht, lassen sich deshalb aus den Schwär- Konzentration vollständig aufzunehmen, da schonplate corresponds, can therefore be completely absorbed from the Schwär concentration, since already

zungsmessungen Rückschlüsse auf die Konzentra- 60 ein einziger Impuls zu Schwärzungen führt, die naheMeasurement measurements Conclusions about the concentration 60 a single impulse leads to blackening that is close to

tionen der in einer Probe enthaltenen Mischungs- der Sättigungsschwärzung liegen,the mixture of saturation blackening contained in a sample,

bestandteile ziehen. Zur Illustration des Meßvor- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einpulling components. To illustrate the Meßvor- The invention is based on the task of a

ganges sei im folgenden eine Legierung aus Bor und Verfahren zu finden, durch das es möglich ist, in Aluminium angenommen, die Aluminium mit jedem Falle eine Belichtungsdosierung der demganges is an alloy of boron and process to be found in the following, through which it is possible in Aluminum assumed, the aluminum with each case an exposure dose of the dem

99,99 % und Bor mit 0,01 % enthält. Aluminium und 65 quantitativen Ionennachweis dienenden FotoplattenContains 99.99% and boron at 0.01%. Aluminum and 65 photographic plates for quantitative ion detection

Bor erzeugen im Massenspektrographen an verschie- bei der quantitativen massenspektrometrischen Festdenen Stellen der Fotoplatte je eine Linie, wobei im körperanalyse zu erreichen. Dies läßt sich erfindungs-In the mass spectrograph, boron is produced at various solid denes using quantitative mass spectrometry Make a line on the photo plate, taking the body analysis to achieve. This can be inventively

Mittel pro Bor-Ion wegen der Konzentrationspro- gemäß dadurch erreichen, daß die Ionen lediglichAchieve mean per boron ion because of the concentration ratio in that the ions are only

während eines in seiner Länge einstellbaren Teils der gesamten zeitlichen Dauer jedes einzelnen Ionenstromimpulses zur Belichtung auf die Fotoplatte gelenkt und in der übrigen Zeit der Impulsdauer aus der Bahn zur Fotoplatte abgelenkt werden.during a part of the total time duration of each individual ion current pulse, the length of which is adjustable steered for exposure on the photo plate and in the remaining time of the pulse duration off the path to the photo plate can be deflected.

F i g. 3 und 4 der Zeichnung veranschaulichen das Verfahren nach der Erfindung an einem Ausführungsbeispiel. F i g. 3 and 4 of the drawing illustrate the method according to the invention using an exemplary embodiment.

In einem unter Hochvakuum gehaltenen Gehäuse 1 eines Massenspektrometers befindet sich eine Ionenquelle in Form einer Entladungsstrecke 2 mit gepulster unipolarer Gleichstromentladung, die durch einen Impulsgeber 3 (mit getriggerter kondensierter Gleichspannungsentladung) gesteuert ist. Die Elektrode der Entladungsstrecke, von der die Entladung ausgeht, besteht aus dem zu analysierenden Material, im Beispiel aus 99,99 % Al und 0,01 VoB.An ion source is located in a housing 1 of a mass spectrometer that is kept under high vacuum in the form of a discharge path 2 with pulsed unipolar direct current discharge, which is caused by a Pulse generator 3 (with triggered condensed DC voltage discharge) is controlled. The electrode of the The discharge path from which the discharge originates consists of the material to be analyzed, in the example made of 99.99% Al and 0.01 VoB.

Die in der Funkenstrecke gebildeten Ionen aus dem zu analysierenden Material werden durch eine an sich bekannte elektrische Linse 4 mit Austrittsspalt 5 in Form eines Ionenbündels 6 dem Eintrittsspalt 7 eines Massenspektrographen zugeführt. Dieser kann aus einem durch einen Magneten 8 erzeugten Sektorfeld mit vorgeschaltetem Elektronen-Sektorfeld bestehen, in welchem die Ionen des Bündels 6, die durch den Spalt 7 in das Sektorfeld gelangen, von ihrer Masse abhängig verschieden große Ablenkungen erfahren, im vorliegenden Beispiel die Al-Ionen eine weniger starke Ablenkung als die B-Ionen.The ions formed in the spark gap from the material to be analyzed are separated by a known electric lens 4 with exit slit 5 in the form of an ion beam 6 is fed to the entrance slit 7 of a mass spectrograph. This can from a sector field generated by a magnet 8 with an upstream electron sector field exist, in which the ions of the bundle 6, which pass through the gap 7 in the sector field, of Depending on their mass, they experience differently large deflections, in the present example the Al ions a less strong deflection than the B ions.

In der Bildebene der durch den Ablenkmagneten gebildeten Ionenoptik befindet sich die Fotoplatte 9, die durch die auftrefienden Al- und B-Ionen entsprechend deren Konzentration geschwärzt wird.The photo plate 9 is located in the image plane of the ion optics formed by the deflection magnet, those caused by the Al and B ions occurring accordingly whose concentration is blackened.

Zwischen der Ionenquelle 2 und dem Eintrittsspalt 7 des Massenspektrographen ist ein an sich bekanntes Ablenkelement, z. B. ein einfacher Plattenkondensator 10, angebracht, dessen Platten symmetrisch zum Strahlengang liegen. Durch Anlegen einer geeigneten Spannung an die Platten des Kondensators 10 läßt sich das auf den Eintrittsspalt 7 zufliegende Ionenbündel 6 so weit ablenken, daß keine Ionen in die Ionenoptik des Spektrographen und auf die Photoplatte gelangen. Ein Ablenkimpuls XJK, der die Ablenkplatten kurzzeitig erdet, läßt jedoch während seiner Dauer T^ das Ionenbündel in den Spektrographen eintreten.Between the ion source 2 and the entrance slit 7 of the mass spectrograph is a known deflection element, for. B. a simple plate capacitor 10, attached, the plates of which are symmetrical to the beam path. By applying a suitable voltage to the plates of the capacitor 10, the ion beam 6 approaching the entrance slit 7 can be deflected so far that no ions get into the ion optics of the spectrograph and onto the photographic plate. A deflection pulse XJ K , which briefly grounds the deflection plates, allows the ion beam to enter the spectrograph during its duration T ^.

Die Impulsansteuerung des Ablenkelementes 10 wird mit der Impulsfolgefrequenz der Ionenquelle in geeigneter Weise synchronisiert, indem ein Impulsgeber 11 für die Kondensatorspannung über eine Leitung 12 mit dem Impulsgeber 3 für die Entladungsstrecke 2 entsprechend gekoppelt ist. Die zeitliche Länge T^ des Ablenkimpulses UK am AblenkelementThe pulse control of the deflection element 10 is synchronized in a suitable manner with the pulse repetition frequency of the ion source in that a pulse generator 11 for the capacitor voltage is correspondingly coupled via a line 12 to the pulse generator 3 for the discharge path 2. The length of time T ^ of the deflection pulse U K on the deflection element

ίο 10 wird erfindungsgemäß variabel — aber immer kleiner als die zeitliche Länge T1 der Ionenquellenimpulse ι — gemacht. Dabei wird zwischen die Ionenquellenimpulse i und die Ablenkimpulse UK eine Zeitverzögerung Tv gelegt, die gleich oder wenig größer ist als die Flugzeit der Ionen von der Ionenquelle 2 zum Kondensator 10. So tritt aus jedem Ionenstromimpuls i, den die Ionenquelle 2 Hefert, nach einer Flugzeit T4 ein in seiner zeitlichen Länge variabler Ionenstromimpuls z0 der zeitlichen Länge TK durch den Eintrittsspalt 7 des Spektrographen in die Ionenoptik ein und trifft auf die Fotoplatte 9. Diese auf die Fotoplatte treffenden Ionenstromimpulse sind kürzer als oder höchstens gleich lange dauernd wie die von der Ionenquelle gelieferten Ionenstromimpulse (Zeitschema Fig.4). Da die kürzeren Impulse f0 weniger Ladung mit sich führen als die langer andauernden Impulse ζ gleicher Stromstärke, die aus der Ionenquelle kommen, kann erfindungsgemäß durch Variation der zeitlichen Länge TK der an das Ablenkelement gelegten Ablenkimpulse die Schwärzungskurve von Elementen, die mit hoher Konzentration in der Analysensubstanz vorhanden sind, aufgenommen werden.
Liefert beispielsweise die Ionenquelle einen mittleren Ionenstrom von 10~9 A bei einer Impulsfolgefrequenz von 1 kHz und einer Impulslänge von 200 μβεΰ, so ist der Ionenstrom eines Impulses gleich 5 · 10~9 A. Wird aus der Gesamtlänge eines jeden Impulses ein Intervall von 1 μβεο Dauer ausgeblendet und in den Spektrographen gelenkt, so beträgt bei einer Impulsstromstärke von ebenfalls 5 · ΙΟ"9 Α die in diesem Impuls mitgeführte Ladung 5 · 10~lä Coul gegenüber 10~12 Coul, die der von der Ionenquelle gelieferte Impuls mit sich führt.According to the invention, ο 10 is made variable - but always smaller than the temporal length T 1 of the ion source pulses ι. In this case i between the ion source pulses and the Ablenkimpulse U K a time delay T v set equal to or slightly greater than the flight time of the ions from the ion source 2 10. Thus occurs the capacitor i from each ion current pulse to the ion source 2 Hefert after a flight time T 4 an ion current pulse z 0 variable in its length and length T K through the entrance slit 7 of the spectrograph into the ion optics and hits the photo plate 9. These ion current pulses striking the photo plate are shorter than or at most as long as the ion current impulses supplied by the ion source (time diagram Fig. 4). Since the shorter pulses f 0 carry less charge with them than the longer-lasting pulses ζ of the same amperage that come from the ion source, according to the invention, by varying the temporal length T K of the deflection pulses applied to the deflection element, the blackening curve of elements that have a high concentration are present in the substance to be analyzed.
For example, if the ion source delivers an average ion current of 10 ~ 9 A at a pulse repetition frequency of 1 kHz and a pulse length of 200 μβεΰ, the ion current of a pulse is 5 · 10 ~ 9 A. The total length of each pulse becomes an interval of 1 μβεο duration faded out and steered into the spectrograph, then with a pulse current strength of also 5 · ΙΟ " 9 Α the charge carried in this pulse is 5 · 10 ~ lä coul compared to 10 ~ 12 coul, which is carried by the pulse delivered by the ion source .

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (1)

1 21 2 • . portionalität der Ionenströme 9999 Al-Ionen auf die•. Portionality of the ion currents 9999 Al ions on the Patentanspruch: Fotoplatte fallen. Wird nun die Fotoplatte nacheinander mit einer Reihe gegeneinander abgestufterClaim: Photo plate covered. Will now take the photo plate one after the other with a number of mutually graded Verfahren zur Dosierung der Belichtung von Ladungsmessungen L1, L2 bis Ln exponiert und trägt Fotoplatten bei der quantitativen massenspektro- 5 man die für die Al- und B-Linien gemessenen metrischen Festkörperanalyse mit Ionenerzeugung Schwärzungen gegen die entsprechenden Ladungen durch gepulste Vakuumentladungen, dadurch auf, so erhält man die in F i g. 2 wiedergegebenen gekennzeichnet, daß die Ionen lediglich beiden Schwärzungskurven für Al und B. Wegen während eines in seiner Länge einstellbaren Teils der großen Konzentration des Al erscheint die Aider gesamten zeitlichen Dauer jedes einzelnen io Schwärzungskurve bei kleiner Gesamtladung, wegen Ionenimpulses zur Belichtung auf die Fotoplatte der kleinen Konzentration des B erscheint die B-(9) gelenkt und in der übrigen Zeit der Impuls- Schwärzungskurve bei großer Gesamtladung; allgedauer aus. der Bahn zur Fotoplatte abgelenkt mein gilt: Für Linien gleicher Schwärzung ist das werden. Produkt aus Konzentration C und Ladung L konstantMethod for metering the exposure of charge measurements L 1 , L 2 to L n exposed and carries photographic plates in the case of quantitative mass spectrometry on, one obtains the in FIG. 2 indicated that the ions only have two blackening curves for Al and B. Because of the length of the high concentration of Al, which is adjustable in length, the entire duration of each individual blackening curve appears with a small overall charge, because of the ion pulse for exposure on the photo plate With a small concentration of B, the B- (9) appears to be guided and for the rest of the time the impulse blackening curve with a large total charge; always off. deflected the path to the photo plate my rule is: for lines of the same blackness this is becoming. Product of concentration C and charge L constant 15 CA1 · LM — CB · LB ^ konst. 15 C A1 · L M - C B · L B ^ const.
DE19651573977 1965-09-04 1965-09-04 Method for metering the exposure of photographic plates in quantitative mass spectrometric solid-state analysis Expired DE1573977C3 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEA0050182 1965-09-04

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1573977A1 DE1573977A1 (en) 1970-04-16
DE1573977B2 DE1573977B2 (en) 1973-11-15
DE1573977C3 true DE1573977C3 (en) 1974-06-12

Family

ID=6937274

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19651573977 Expired DE1573977C3 (en) 1965-09-04 1965-09-04 Method for metering the exposure of photographic plates in quantitative mass spectrometric solid-state analysis

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1573977C3 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
DE1573977A1 (en) 1970-04-16
DE1573977B2 (en) 1973-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0403965B1 (en) MS-MS-flight time mass spectrometer
DE69631556T2 (en) Biomolecule analysis by time-of-flight mass spectrometry
DE4019005C2 (en) Devices for analyzing high mass ions
DE60319029T2 (en) mass spectrometry
DE3750928T2 (en) Runtime mass spectrometry.
DE4134905A1 (en) TANDEM MASS SPECTROMETER BASED ON FLIGHT TIME ANALYSIS
DE2627085A1 (en) ION SCREENING SPECTROMETER ANALYZERS, PREFERABLY ARRANGED IN TANDEM
DE19635643C2 (en) Spectra acquisition method and linear time-of-flight mass spectrometer therefor
DE2131652B2 (en) Electron-optical short-term measuring image converter tube and the method and circuit arrangement for their operation
DE10162267B4 (en) Reflector for time-of-flight mass spectrometers with orthogonal ion injection
DE1937482A1 (en) Microbeam probe
DE19635645C2 (en) Method for the high-resolution spectral recording of analyte ions in a linear time-of-flight mass spectrometer
DE69127989T2 (en) Mass spectrometer for neutral sputtered atoms that are ionized with laser
DE102007024857B4 (en) Imaging mass spectrometry for small molecules in flat samples
DE102007049640B3 (en) Measurement of daughter ion spectra from a MALDI ionization
DE3428944A1 (en) RUN TIME ION MEASUREMENT ANALYZER
DE2018297A1 (en) Method and device for generating mass spectra
DE2540505A1 (en) FLIGHT TIME MASS SPECTROMETERS FOR IONS WITH DIFFERENT ENERGIES
DE2458025A1 (en) DEVICE FOR MASS ANALYSIS AND STRUCTURAL ANALYSIS OF A SURFACE LAYER BY ION SCATTERING
DE102013015046A1 (en) Imaging mass spectrometer for analyzing position and intensity distributions of track links, has voltage control part controlling voltage applied to electrode such that lens effect of lens system increases with time over time period
DE1292884B (en) Method and device for the mass spectrometric analysis of a gas mixture
DE1950938C3 (en) Mass spectrograph
DE1573977C3 (en) Method for metering the exposure of photographic plates in quantitative mass spectrometric solid-state analysis
DE2252266C3 (en) Device for generating modulated atomic resonance radiation
DE102018122960B4 (en) Broadband high mass resolutions in reflector time-of-flight mass spectrometers

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977