DE1514862A1 - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
- Publication number
- DE1514862A1 DE1514862A1 DE19651514862 DE1514862A DE1514862A1 DE 1514862 A1 DE1514862 A1 DE 1514862A1 DE 19651514862 DE19651514862 DE 19651514862 DE 1514862 A DE1514862 A DE 1514862A DE 1514862 A1 DE1514862 A1 DE 1514862A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor
- semiconductor body
- arrangement according
- current path
- field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 80
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 4
- 239000002772 conduction electron Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000004720 fertilization Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
Description
"Halbleiteranordnung" Neben den bekannten bipolaren Transistoren gibt es sogenannte Unipolartransistoren, bei denen in eine stromführende Halbleiterzone des einen Zeitungstyps eine oder mehrere Steuerzonen des anderen Zeitungstyps eingebracht sind. Fegt man beispielsweise zwischen die Steuerelektrode und einen Kontakt an der stromführenden Zone in Sperrichtung eine Steuerspannung an, so-entsteht am pn-Übergang eine Raumladungszone, die eine Einschnürung der stromführenden Zone hervorruft. Durch die angelegte Steuerspannung entsteht also eine trägerverarmte Raumladungszone, durch die der Widerstand der stromführenden Zone stark verändert werden kann. Wenn der mit zwei ohmischen Kontakten versehene Strompfad ganz abgeschnürt wird, erreicht der Widerstand der stromführenden Zone seinen maximalen Wert. Der Widerstand des Strompfades läßt sich also nach Takt und Größe der angelegten Spannung modulieren. Vom Unipolartransistor bestehen verschiedene Ausführungsformen. So gibt es mesaförmig ausgebildete Unipolartransistoren,, bei denen sich auf einem Halbleiterkörper vom ersten Zeitungstyp eine Zone vom zweiten Leitungstyp befindet. In eine dieser Zonen, die als stromführende Zone verwendet wird, wird ein Graben geätzt, der diese Zone so in zwei Bereiche aufteilt, daß diese Bereiche nur noch durch einen schmalen Strompfad des gleichen Leitungstyps miteinander verbunden bleiben."Semiconductor arrangement" In addition to the well-known bipolar transistors there there are so-called unipolar transistors, which are located in a current-carrying semiconductor zone of one type of newspaper introduced one or more tax zones of the other type of newspaper are. For example, if you sweep between the control electrode and a contact A control voltage is applied to the current-carrying zone in the reverse direction, which is generated at the pn junction a space charge zone that causes a constriction of the current-carrying zone. The applied control voltage thus creates a carrier-depleted space charge zone, through which the resistance of the live zone can be changed significantly. if the current path provided with two ohmic contacts is completely cut off the resistance of the live zone reaches its maximum value. The resistance of the The current path can therefore be modulated according to the rate and size of the applied voltage. From the Unipolar transistor exist in different embodiments. So there is mesa shape trained unipolar transistors, in which on a semiconductor body from the first type of newspaper is a zone of the second type of conduction. In one of these zones which is used as the current-carrying zone, a trench is etched to form this zone divided into two areas in such a way that these areas can only be accessed through a narrow current path of the same line type remain connected to each other.
Beim Oberflächenfeldeffekt-Transistor wird lediglich die Oberflächeninversionsschicht eines Halbleiterkörpers als Strompfad benutzt, und beim Dünnfilm-Transistor wird der Strompfad als dünne Halbleiterschicht aufgedampft.In the case of the surface field effect transistor, only the surface inversion layer is used of a semiconductor body is used as a current path, and in the case of the thin-film transistor is the current path is vapor-deposited as a thin semiconductor layer.
Erfindungsgemäß wird eine Halbleiteranordnung vorgeschlagen, die so ausgebildet ist, daß eine Steuerung des Widerstandes eines Halbleiterkörpers durch Steuerung der Anzahl der im Halbleiterkörper durch Feldemission erzeugten freien Ladungsträger mit Hilfe einer Steuerspannung erfolgt, die an vom Halbleiterkörper isolieat angebrachten Steuerelektroden angelegt wird. .-Im Gegensatz zu den bisher bekannten Unipolartransistoren, wird der Widerstand des Strompfades bei der erfindungsgesäBen Anordnung bei steigender Steuerspannung immer kleiner, da durch die mit der Steuerspannunganwachiendt Feldstärke eine immer größer werdende Zahl von Elektronen aus dem Valenzband des Halbleitermaterials in das Leitfähigkeitsband gelangen. Die zur Feldemission notwendige Feldstärke kann einmal allein von der an den Steuerelektroden anliegenden Steuerspannung geliefert werden, wozu dann allerdings eine verhältnismäßig große Steuerspannung erforderlich ist. Eine andere Möglichkeit besteht darin, daß der Halbleiterkörper in ein bestehendes, konstantes elektrisches Feld eingebracht wird, das bereits groß genug ist, um durch Feldemssion Ladungsträger zu erzeugen -beispielsweise dadurch, daß man die erfindungsgemäße Anordnung zwischen zwei gondensatorplatten einbringt -, so daß zur Widerstandsmodulierung des Halbleiterkörpers an die Steuereleltroden nur noch eine niedervoltige Steuerspannung anzulegen ist.According to the invention a semiconductor arrangement is proposed which is designed so that the resistance of a semiconductor body is controlled by controlling the number of free charge carriers generated in the semiconductor body by field emission with the aid of a control voltage which is applied to control electrodes which are isolated from the semiconductor body. - In contrast to the previously known unipolar transistors, the resistance of the current path in the arrangement according to the invention becomes smaller and smaller as the control voltage increases, because the field strength increases with the control voltage, an increasing number of electrons from the valence band of the semiconductor material enter the conductivity band. The field strength required for field emission can be supplied by the control voltage applied to the control electrodes alone, for which a relatively large control voltage is then required. Another possibility is that the semiconductor body is introduced into an existing, constant electric field which is already large enough to generate charge carriers by field emission - for example by introducing the arrangement according to the invention between two capacitor plates - so that for resistance modulation of the semiconductor body only a low-voltage control voltage has to be applied to the control electrodes.
Die insgesamt im Halbleiterkörper erzeugte Feldstärke muß mindestens so groß sein, daß den Elektronen im Atomverband des Halbleiterkörpers der Betrag der Engergiedifferenz zugeführt wird, der zwischen dem Valenz- und dem Leitfähigkeitsband des Halbleitermaterials liegt. Von diesem Feldstärkewert an, werden mit wachsender Feldstärke im Halbleiterkörper eine mit der Feldstärke exponentiell anwachsende Zahl von Leitungselektronen frei beweglich. Die zur Freisetzung von Zeitungselektronen minimal-notwendige Feldstärke kann auch durch den Einbau von-Ladungsträger-Fangstellen, sogenannten Traps, bestimmt werden. Bringt man beispielsweise eine große Zahl von Iadungsträgerfangstellen in einen Halbleiterkörper, bei denen die Energiedifferenz zwischen Valenz- und Leitfähigkeitsband kleines alsueim Halbleitermaterial ist, so reicht zur Freisetzung von Zeitungselektronen bereits eine Feldstärke aus@die kleiner ist als die Feldstärke, die notwendig wäre, um im reinen Halbleitermaterial frei bewegliche Elektronen durch Feldemission zu erzeugen. So kann eine große Konzentration von Ladungsträgern-Fangstellen mit kleiner Energiedifferenz d E zwischen Valenz-und Leitfähigkeitsband, beispielsweise wenn die Zahl der Fangstellen pro cm3 größer als lo15ist, die Leitfähigkeit des Halbleiterkörpers von einer bestimmten Feldstärke an.erheblich vergrößern, da die Elektronendichte mit kleiner werdendem d E exponentiell anwächst..The total field strength generated in the semiconductor body must be at least be so large that the electrons in the atomic structure of the semiconductor body the amount the energy difference between the valence and conductivity bands of the semiconductor material. From this field strength value onwards, with increasing The field strength in the semiconductor body increases exponentially with the field strength Number of conduction electrons freely movable. The release of newspaper electrons minimum-necessary field strength can also be achieved through the installation of load carrier trapping points, so-called traps, can be determined. For example, you bring a large number of charge carrier traps in a semiconductor body, in which the energy difference between the valence and conductivity bands is smaller than in the semiconductor material is, a field strength is sufficient to release newspaper electrons @ die is smaller than the field strength that would be necessary in the pure semiconductor material to generate freely moving electrons by field emission. So can be a great concentration of charge carrier trapping points with a small energy difference d E between valence and Conductivity band, for example if the number of traps per cm3 is greater as lo15 is the conductivity of the semiconductor body of a certain field strength increase considerably, since the electron density increases exponentially with decreasing d E grows ..
Auf diese Weise kann durch eine Erhöhung des elektrischen Feldes um den Faktor lo die Zahl der Leitungselektronen unter Umständen um den Faktor loko vermehrt werden. Dieser sogenannte Zenereffekt wird bei Zenerdioden ausgenutzt, die. in Sperrichtung beansprucht, bei einer bestimmten Sperrspannung plötzlich durchlässig werden, dadurch Feldemission so viele Leitungselektronen frei werden, daß die Sperrwirkung aufgehoben wird. hegt man an einen Halbleiterkörper in Stromrichtung ein elektrisches Feld, so kommt es gar nicht zum Zenereffekt, da bereits kleinere Feldstärken ausreichen, um die freien Ladungsträger so zu beschleunigen, daß durch Stoßionisation eine Lawinenbildung ausgelöst wird. (Avalanche-Durchbruch) Die erfindungsgemäße Anordnung soll nun so ausgebildet sein, daß die Feldemission von Elektronen aus dem Valenzins Leitfähigkeitsband ohne Lawinenbildung in Feldrichtung erzwungen wird. Dies erreicht man. dadurch, daß die, die Feldemission bewirkende Steuerspannung an Elektroden angelegt wird, die durch durchbruchfeste Isolationsschichten vom Halbleiterkörper getrennt sind, so daß ein Stromfluß in die Steuerelektroden unmöglich ist. Ein wesentlicher Unterschied der erfindungsgemäßen Anordnung gegenüber den bisher bekannten Unipolartransistoren besteht darin, daß-bei den erfindungsgemäßen Halbleiteranordnungen die anzuwendende Feldstärke um mindestens eine Größenordnung höher ist, als bei den bisher bekannten Unipolartransistoren. Die bekannten Unipolartransistoren funktionieren nur so lange, wie die Feldstärke im Hälbleiterkörper nichtsgroß wird, daß freie Ladungsträger erzeugt werden. Gerade bei den maximal vorkommenden Feldstärken sind z.H. die bekannten Junction-Feldeffekt-Transistoren in ihrem hochohmigeten Zustand, der durch eine unerwünscht hinzukommende Feldemission von Ladungsträgern erheblich gestört würde. Man muß also bei den bisher bekannten Unipolartransistoren immer unter einer bestimmten Feldstärke bleiben, um Feldemission zu verhindern, während bei der erfindungsgemäßen Anordnung gerade die Feldemission zur Modulierung des Widerstandes eines Halbleiterkörpers verwendet wird.In this way, by increasing the electric field around the factor lo the number of conduction electrons under certain circumstances by the factor loko be increased. This so-called Zener effect is used in Zener diodes, the. stressed in the reverse direction, suddenly permeable at a certain reverse voltage are, thereby field emission so many conduction electrons are released that the Blocking effect will be annulled. if you attach an electrical power to a semiconductor body in the direction of the current Field, there is no zener effect at all, since even smaller field strengths are sufficient, in order to accelerate the free charge carriers so that an avalanche is formed by impact ionization is triggered. (Avalanche breakthrough) The arrangement according to the invention should now be as follows be designed that the field emission of electrons from the valence conductivity band is forced in the direction of the field without avalanche formation. This is achieved. through this, that the control voltage causing the field emission is applied to electrodes, which are separated from the semiconductor body by breakdown-proof insulation layers, so that a current flow into the control electrodes is impossible. One major difference the arrangement according to the invention compared to the previously known unipolar transistors is that-in the semiconductor arrangements according to the invention to be used Field strength is at least one order of magnitude higher than with the previously known Unipolar transistors. The well-known unipolar transistors only work as long as as the field strength in the semiconductor body does not become large, that free charge carriers be generated. Especially with the maximum field strengths that occur, z.H. the known Junction field effect transistors in their high-resistance state, which is caused by a undesirably added Field emission from charge carriers is considerable would be disturbed. So you always have to use the previously known unipolar transistors stay under a certain field strength to prevent field emission while in the arrangement according to the invention precisely the field emission for modulating the Resistance of a semiconductor body is used.
Die Erfindung soll noch anhand einiger Ausführungsbeispiele näher erläutert werden.The invention is intended to be described in greater detail on the basis of a few exemplary embodiments explained.
Die Figur 1 zeigt einen langgestreckten, dünnen Halbleiterkörper 1,
der@als modulierbarer Widerstand verwendet werden soll und daher mit zwei Strompfadzuleitungen
2 und 3 sperrfrei kontaktiert ist. Auf zwei zum Strompfad parallelen Flächen des
Halbleiterkörpers befinden sich Isolierschichten 4 und 5, auf die wiederum Steuerelektroden
6 und 7 aufgebracht sind. Der Halbleiterkörper wird vorteilhaft so dünn gewählt,
daß der zur Modulierung notwendige Feldatärkebereich von etwa 1o3 bis 1o7 V/cm mit
hinreichend kleinen Steuerspannungen realisiert werden kann. Es ist nicht unbedingt
erforderlich, einkristalline Halbleiterkörper zu benutzen, sondern es können auch
durchaus polykristalline Halbleiterkörper Verwendung finden. Gegenüber den bekannten
Anordnungen hat die Erfindung auch den Vorteil, daß auf die Ausbildung von Raumladungszonen
keine Rücksicht genommen werden muß. Die Isolierschichten 4 und 5 müssen ausreichend
dick sein und aus einem Material mit
ausreichender Durchbruchsfestigkeit
bestehen, so daß bei maximaler Steuerspannung kein Spannungsdurchbruch erfolgt.
An die Steuerelektroden 6 und 7 wird die Steuerspannung gelegt, die im Halbleiterkörper
1 ein elektrisches Feld erzeugt' dessen Feldlinien senkrecht zur Strombahn. verlaufen.
Die Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen Anordnung kann auf verschiedene Weise
erhöht werden. So kann man durch den Einbau von Ladungsträger-Fangstellen, wie bereits
erwähnt, die Zeitfähigkeit des Halbleiterkörpers erheblich vergrößern, vorausgesetzt,
daß der Energieabstand zwischen dem Valenz- und dem Leitfähigkeitsband bei den Fangstellen
kleiner als bei dem reinen Halbleitermaterial ist. Natürlich kann auch eine verminderte
Zeitfähigkeit des Halbleiterkörpers, falls dies erwünscht ist, durch den Einbau
von Fangstellen mit großem Energieabstand zwischen den Bändern hervorgerufen werden.
Weiterhin kann die Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen Anordnung durch eine vergrößerte
Beweglichkeit der Ladungsträger - beispielsweise durch Senkung der Umgebungstemperatur
- erhÖht werden.-Auch durch ein zweites, in Richtung des Stromverlaufs .im Halbleiterkörper
angelegtes Feld, ein Feld also ,,:dessen Feldlinien senkrecht zu denen des Steuer-
.
Um die durch Stoßionisation hervorgerufene Ladungsträgervervielfachung zu erzielen, wird man nun - im Gegensatz zu der in Figur 1 beschriebenen Anordnung - eine Anordnung mit einem kurzen Strompfad verwenden. Dies ist notwendig, um in der Richtung des Stromflusses eine zur Stoßionisation ausreichende Feldstärke zu erzielen, die durch eine entsprechende, am Strompfad liegende Spannung erzeugt wird.About the charge carrier multiplication caused by impact ionization to achieve, one will now - in contrast to the arrangement described in FIG - use an arrangement with a short current path. This is necessary to be in the direction of the current flow to a field strength sufficient for impact ionization Achieve that is generated by a corresponding voltage on the current path.
Eine solch .vorteilhafte Anordnung mit verkürztem Strompfad zeigt Figur 2. Auch hier ist der als modulierbarer Widerstand verwendete Halbleiterkörper 1 mit Strompfadzuleitungen 2 und 3 versehen. Die Isolierschichten 4 und 5 sind auf Flächendes Halbleiterkörpers aufgebracht worden, die parallel zum Strompfad liegen, und sie sind auch hier mit den Steuerelektroden 6 und 7 versehen. Durch den kurzen Halbleiterkörper kann durch die am Strompfad liegende Spannung eine so große Feldstärke im Halbleiterkörper in Richtung des Strompfades erzeugt werden, daß die vom Steuerfeld durch Feldemission erzeugten Leitungselektronen zur. Stoßionisation veranlaßt werden. Durch die Erzeugung von Zeitungselektronen mit Hilfe des Steuerfeldes wird notwendigerweise auch die optische Durchlässigkeit des Halbleiterkörpers verändert. Je größer die Zahl der freien Zeitungselektronen im Halbleiterkörper ist,desto geringer ist auch die optische Durchlässigkeit. Das heißt' daß mit größer werdender Steuerspannung bzw.Such an advantageous arrangement with a shortened current path is shown Figure 2. Here, too, is the semiconductor body used as a modulatable resistor 1 provided with current path leads 2 and 3. The insulating layers 4 and 5 are on Flat semiconductor body has been applied, which are parallel to the current path, and they are also provided with control electrodes 6 and 7 here. By the short Semiconductor bodies can have such a large field strength due to the voltage on the current path are generated in the semiconductor body in the direction of the current path that the control panel conduction electrons generated by field emission for. Impact ionization can be caused. By the generation of newspaper electrons with the help of the control panel becomes necessary the optical permeability of the semiconductor body is also changed. The bigger the The number of free newspaper electrons in the semiconductor body is, the lower it is the optical transparency. That means' that with increasing control voltage respectively.
mit anwachsendem Steuerfeld die optische Durchlässigkeit des. Halbleiterkörpers herabgesetzt wird.the optical permeability of the semiconductor body as the control field increases is reduced.
Diese Eigenschaft der mit dem Steuerfeld verän4derlichen optischen Durchlässigkeit wird in der erfindungsgemäßen Anordnung nach Figur 3 ausgenützt.This property of the optical which can be changed with the control panel Permeability is used in the arrangement according to the invention according to FIG.
In Figur 3 ist ein Halbleiterkörper 1 mit zwei Isolierschichten 4 und 5 auf einander gegenüberliegenden Flächen versehen, auf die wiederum die Steuerelektroden 6 und 7 aufgebracht sind. Ein in den Halbleiterkörper einfallender Lichtstrahl - beispielsweise ein LASER-Strahl 8 - ist. nach dem Verlassen des Halbleiterkörpers entsprechend dem angelegten Steuerfeld amplitudenmoduliert. So stellt Figur 3 erfindungsgemäß eine Modulationsanordnung für Licht-dar.FIG. 3 shows a semiconductor body 1 with two insulating layers 4 and 5 on opposite surfaces, on which in turn the control electrodes 6 and 7 are applied. A light beam falling into the semiconductor body - for example a LASER beam 8-. after leaving the semiconductor body amplitude modulated according to the applied control field. Thus, Figure 3 represents according to the invention a modulation arrangement for light-dar.
Andere Verwendu4gsmöglichkeiten findet die erfindungagemäße Anordnung nach Figur 1 oder 2 als elektrischer Oszillator oder zur Verstärkung der elektrischen Steuerleistung. .Bei den bisherigen Ausführungen war immer nur von einem Strompfad im Halbleiterkörper die Rede, es können jedoch für bestimmte Zwecke auch Halbleiterkörper verwendet werden, die mehrere Strompfade im Halbleiterkörper aufweisen' wobei diese Strompfade miteinander gekoppelt oder durch geeignete Maßnahmen elektrisch entkoppelt sind.The arrangement according to the invention can be used in other ways according to Figure 1 or 2 as an electrical oscillator or to amplify the electrical Tax benefit. In the previous statements, there was always only There is talk of a current path in the semiconductor body, but it can be used for certain Purposes also semiconductor bodies are used, the multiple current paths in the semiconductor body have 'wherein these current paths are coupled to one another or by suitable measures are electrically decoupled.
Claims (4)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DET0029329 | 1965-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1514862A1 true DE1514862A1 (en) | 1969-09-11 |
DE1514862B2 DE1514862B2 (en) | 1971-12-02 |
Family
ID=7554799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19651514862 Pending DE1514862B2 (en) | 1965-09-02 | 1965-09-02 | SEMI-CONDUCTOR COMPONENT CONTROLLED BY A FIELD EFFECT |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1514862B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4636824A (en) * | 1982-12-28 | 1987-01-13 | Toshiaki Ikoma | Voltage-controlled type semiconductor switching device |
-
1965
- 1965-09-02 DE DE19651514862 patent/DE1514862B2/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4636824A (en) * | 1982-12-28 | 1987-01-13 | Toshiaki Ikoma | Voltage-controlled type semiconductor switching device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1514862B2 (en) | 1971-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2326751C3 (en) | Semiconductor device for storage and method of operation | |
DE1024119B (en) | Bistable memory device with a semiconducting body | |
DE966492C (en) | Electrically controllable switching element made of semiconductor material | |
DE1238574B (en) | Controllable and switchable semiconductor component | |
DE1803035A1 (en) | Field effect semiconductor device | |
DE1162488B (en) | Semiconductor component with two electrodes on one zone and method of operation | |
DE2023219B2 (en) | Programmable semiconductor read-only memory | |
DE2215467C2 (en) | Electrically controllable semiconductor component and circuit with such a semiconductor component | |
DE2238564C3 (en) | Thyristor | |
DE1212221B (en) | Semiconductor component with a disk-shaped semiconductor body and two non-blocking base electrodes | |
DE1035776B (en) | Transistor with a flat semiconductor body and several non-blocking and blocking electrodes | |
DE1514862A1 (en) | Semiconductor device | |
DE3118365A1 (en) | THYRISTOR WITH CONTROLLABLE EMITTER SHORT CIRCUIT INSERTED INTO THE EMITTER | |
DE1591083A1 (en) | Electric scanning system with solid elements | |
DE1197986B (en) | Semiconductor component with at least four zones of alternating conductivity type in the semiconductor body | |
DE3000891A1 (en) | SEMICONDUCTOR MODULE WITH GATE CONTROL | |
DE2551035C3 (en) | Logical circuit in solid state technology | |
DE2518529A1 (en) | CIRCUIT FOR NOISE ELIMINATION | |
DE1803935A1 (en) | Multi-layer semiconductor component with at least four pn junctions | |
DE944496C (en) | Transistor circuit | |
DE1439122C3 (en) | ||
DE2129181C3 (en) | Method for operating a field effect transistor as a storage element | |
DE2500384C3 (en) | High frequency thyristor | |
DE1489092C (en) | Controllable semiconductor rectifiers | |
DE2461030C2 (en) |