DE1496750A1

DE1496750A1 - Process for the production of galvanic chrome coatings

Info

Publication number: DE1496750A1
Application number: DE19641496750
Authority: DE
Inventors: Auf Nichtnennung Antrag
Original assignee: W Canning PLC
Current assignee: MacDermid Europe Ltd
Priority date: 1963-07-24
Filing date: 1964-07-24
Publication date: 1970-08-13
Also published as: US3408272A; GB1091526A

Description

W. GaMIITGAITD OOMPAHX LIMITED, Great Hampton Street, BirminghamW. GaMIITGAITD OOMPAHX LIMITED, Great Hampton Street, Birmingham

EnglandEngland

Verfahren zum Herstellen galvanischer ChromüberzügeProcess for the production of galvanic chrome coatings

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen galiranischer Ueberzüge und insbesondere galvanischer Chromüberzüge, die eine Oberfläche mit "Mikrorißbildung" aufweisen. Ein Chromüberzug wird als eine Mikrorißbildung aufweisend dann bezeichnet, wenn derselbe eine derartige Struktur besitzt, daß die Oberfläche mit einer Vielzahl an Rissen in einer derartigen Menge bedeckt ist, daß sich ein derartiges Muster ergibt, daß in jeder Sichtung der Oberfläche pro Zentimeter wenigstens 240 und vorzugsweise 4OO derartige Hisse vorliegen.The invention relates to a method for producing Galiranian coatings and in particular galvanic chrome coatings, which have a Have "micro-cracking" surface. A chrome plating will be referred to as having microcracking if the same has such a structure that the surface is covered with a plurality of cracks in such an amount that such a pattern gives that in every sighting of the surface at least 240 and preferably 400 such hoists per centimeter are present.

Es igt bekannt, daß das Anwenden derartiger galvanisch aufgebrachter Chromüberzüge mit Hikrorißbildung auf ygrundmetalle, wie Eisen, Kupfer, Aluminium, Zink oder- Legierungen dieser ^Metalle denselben ausgezeichnete Korrosionsfestigkeit vermittelt.It is known that the use of such galvanically applied Chromium coatings with micro-cracking on base metals such as iron, Copper, aluminum, zinc, or alloys of these metals gives excellent corrosion resistance.

Handeleübliche Elektrolyse für die- Ohromplattierung bestehen aus wässrigen lösungen des Chromsäureanhydrides (CrO₄), das allgemein als Chromsäure bezeichnet wird, die ebenfalle geringe, jedoch wichtige Mengen sogenannter Katalysatoren enthalten, ohne die man kein Chrom galvanisch aufbringen kann· Diese Katalysatoren sind meistens Silicoflüoridion (8iF_e)²"" oder daa Sulfation (8O₄)²*", Um die optimalen Bedingungen de« galvanischen Chromaufbringen^ zu erzielen, ist es. wesentlich, daß diese Katalysatoren in bestimmten spezifischen Verhältnis«en bezüglich der Konzentration der vorliegenden Chromsäure angewandt werden« BAD ORIGINAL - 2 -Commercially available electrolysis for ear plating consist of aqueous solutions of chromic anhydride (CrO ₄ ), which is generally referred to as chromic acid, which also contain small but important amounts of so-called catalysts, without which chromium cannot be electroplated.These catalysts are mostly silicofluoridion ( 8iF _e ) ² "" or daa sulfate ion (8O ₄ ) ² * ", In order to achieve the optimum conditions for galvanic chromium application, it is essential that these catalysts are used in certain specific ratios with regard to the concentration of the chromic acid present will be «BAD ORIGINAL - 2 -

009833/1430009833/1430

Sowird z.B. in der Industrie sowohl ein 1$ Sulfationen im Vergleich zu der Chromsäure enthaltender Elektrolyt al« auch ein O,59& Sulfationen zusammen mit 1# Silicofluoridionen enthaltender Elektrolyt angewandt. Obgleich gewisse Abweichungen von dem angegebenen Verhältnis toleriert werden können, ist es doch zum Erzielen bester Ergebnisse bei dem Aufbringen galvanischer Ueberzüge wesentlich, daß man von den angegebenen Verhältnissen nicht zu weit abweicht« So wird gewöhnlich z.B. in Elektrolyten, die Sulfationen enthalten, der Prozentsatz gewöhnlich bei 0,8 bis 1,25# gehalten. Unter der Voraussetzung, daß man diese Verhältnisse einhält, ist die Konzentration an Chromsäure weniger kritisch und liegt bei handelsüblichen Elektroplattierungs-Elektrolyten bei 150 bis 500 g/l. Ein galvanischer Ueberzttg mit einer eine Hikrorißbildung zeigenden Oberfläche wird jedoch, besonder« leicht aus einem Chrom-Plattierungeelektrolyten dann erhalten, wenn die Konzentration an Chromsäure unter 225 g/l liegt und der Elektrolyt sowohl Slicofluorid als auch Sulfationen enthält. Sie Geaamtkonsentration an katalytischen Ionen muß ebenfalls über den Wert gebracht werden, der normaler*·!·· sum Gewinnen glänstndtr Chromüberzüge als geeignet betrachtet wird· Ind«a man jedoch to arbeitet, wird dit durch das galvtnisoh aufgebracht· Metall bedeckt· »lach· w««»ntlioh Terringert and ts wird kein Chrom auf den Teilen dtr Iathod· aufgebracht, wo dit Stromdichte unter einen bestimmten Grenzwert abfüllt· Ditttr Wert ist wlttnt-11 oh grüß tr al« bti dtn herkömmlichen Elektrolyten für da« Auftriagtn yon Chrom. Die« bedeutet, daß jeder Ttrwioktlt geformt· Qtgtastand nicht Tollständig mit Chrom au« einer derartigen Lö«ung übtrsogtn werden kann. Wann jedoch dtr Prosentsat« an Katalysatoren verringert wird, um «o «int besser· Abdeckung au triitltii, litgt Überhaupt keine Oberfläche mit Mikrorißbilduag Tor odtr dit««lb« l«t lediglich auf dit Kanten dea plattieren Gegen«tand·« btaohrlskt wo dit Chromdiokt an «tärk«t«n i«t. (Si« Entwicklung einer OberfÄohtFor example, in industry both a $ 1 sulfate ion is compared In addition to the electrolyte containing chromic acid, there is also an electrolyte containing 0.59 & sulfate ions together with 1% silicofluoride ions applied. Although certain variations from the stated ratio can be tolerated, it is best for achieving this The results of the application of galvanic coatings are essential so that one does not deviate too far from the given conditions. For example, in electrolytes containing sulfate ions, the percentage is usually kept at 0.8 to 1.25 #. Under the The prerequisite for maintaining these ratios is that the concentration of chromic acid is less critical and is commercially available Electroplating electrolytes at 150 to 500 g / L. A galvanic coating with a surface showing microcracking is, however, "especially" easily obtained from a chromium-plating electrolyte when the concentration of chromic acid is below 225 g / l and the electrolyte contains both slicofluoride and sulfate ions. You must have a total concentration of catalytic ions can also be brought above the value that normal * ·! ·· sum winnings glossy chrome plating is considered suitable · However, when one is working, it is applied by the galvanic · metal covered · »laugh · w« «» ntlioh Terringert and ts will No chromium is applied to the parts where the current density falls below a certain limit. The "means that every Ttrwioktltl formed Qtgta stand cannot be completely transferred with chrome on such a solution. When, however, did the Prosentsat «of catalysts is reduced to «o« int better · cover au triitltii, litgt No surface at all with microcracks Tor odtr dit «« lb « Can only be coated on the edges of the object where the Chromdiokt is not strong. (Si «development of a surface

009833/U30 "'"009833 / U30 "'"

• SAD ORfQiMAL• SAD ORfQiMAL

mit Mikrorißbildung bei jedem elektrolytisch aufgebrachten Chrom hängt von einer bestimmten kleinsten Dicke des elektrolytisch aufgebrachten Chroms ab and diese Dicke darf für die industrielle Anwendung nicht so groß sein, daß dieselbe unpraktisch oder unwirtschaftlich wird. )with micro-cracking with every electrolytically applied chromium depends on a certain minimum thickness of the electrolytically deposited chromium, and this thickness must not be so great for industrial use that it becomes impractical or uneconomical. )

Daher wurde bisher das elektrolytische Aufbringen von Chromüberzügen mit Mikrorißbildung in zwei Stufen unter Anwenden von zwei verschiedenen Chromplattierungselektrolyten ausgeführt, wobei der erste Elektrolyt zu einem guten Abdecken und der zweite Elektrolyt zu der Ausbildung der Oberfläche mit Mikrorißbildung führt, die sich über beide Chromschichten bis zu den darunter liegendem Nickel erstreckt· Dies ist natürlich nicht so zweckmäßig wie das elektrolytische Aufbringen einer Chromüberfläche mit Mikrorißbildung auf lediglich einen Elektrolyten. Es war bisher nur möglich die Mikrorißbildung in einer einzigen Schicht des elektrolytisch aufgebrachten Chroms unter Anwenden eines Elektrolyten dadurch zu erzielen, daß der Plattierungslöeung ein Alkaliselenat zugesetzt wird. Hierdurch ergeben sich nun Schwierigkeiten, da die Konzentration der Seienationen sehr klein ist und unbedingt innerhalb enger Grenzwerte gehalten werden muß, da dann, wenn der Gehalt an Seienationen zu groß wird, eine Verringerung der durch den galvanischen Niederschlag bedeckten Fläche eintritt oder wenn der Gehalt an Seienationen zu gering wird, liegt in dem llektrolytisch aufgebfachten Ueberzug keine Mikroionen eine wesentlich blauere Farbe als dia; bei den Chromüberzugrißbildung mehr vor. Weiterhin vermitteln die Seienatüblich ist, und dies könnte insbesondere bei Komponenten zu beanstanden sein, die zusammen benachbart mit anderen Teilen zusammengebaut sind, die Mit herkömmlichen Chromüberzügen versehen worden sind.Therefore, the electrolytic deposition of chromium plating with microcracking has heretofore been carried out in two stages using two different chromium plating electrolytes, the first electrolyte to cover well and the second electrolyte leads to the formation of the surface with microcracking, which extends over both chrome layers to the nickel underneath extends · This is of course not as useful as the electrolytic application of a chrome surface with microcracking just an electrolyte. So far it has only been possible to achieve microcracking in a single layer of the electrolytically applied chromium using an electrolyte by that an alkali selenate is added to the plating solution. This now creates difficulties because the concentration of the Be nations is very small and must necessarily be kept within narrow limits, since when the content of be nations increases becomes large, a decrease in the electrodeposition covered surface or if the content of alien ions is too low, lies in the electrolytically panned coating no micro-ions a much bluer color than dia; in the case of chromium coating cracking. Furthermore, this is common practice, and this could be particularly objectionable in the case of components that are assembled together adjacent to other parts that have been provided with conventional chrome plating are.

009833/U30 - 4 -009833 / U30 - 4 -

Sr fin dung «gemäß wird ein galvanisch aufgebrachter Chromüberzug erhalten, der in der oben beschriebenen Weise eine Oberfläche mit Mikrorißbildung aufweist. Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich leicht unter Anwenden lediglich eines einzigen Plattierungselektrolyten durchführen, der nur Silicofluoridion und Sulfationen als Katalysatoren erhält, wobei der elektroytisch Aufgebrachte Ueberzug mit Mikrorißbildung immer noch zu einem, guten Abdecken führt und die Mikrorißbildung bei einer -vernünftigen Dicke erreicht wird, d.h. nach ziemlich kurzer Piattierungszeit, die sich auf 12 Minuten bei gtandardproben beläuft.According to the invention, an electroplated chrome coating is obtained which has a surface in the manner described above Has microcracking. The method of the present invention can be easily carried out using only a single plating electrolyte containing only silicofluoride ion and sulfate ions as Catalysts obtained, the electroytically applied coating with microcrack formation still leading to a good covering and microcracking is achieved at a reasonable thickness, i.e. after a fairly short patting time, which is 12 minutes at g standard samples.

Dies wird dadurch erreicht, daß die folgenden drei Faktoren gesteuertThis is achieved by controlling the following three factors

werden.will.

1· Konzentration der Chromsäure,1 concentration of chromic acid,

2. Prozentsatz der Katalysatoren.2. Percentage of catalysts.

(Bs muß nicht nur der Gesamtgehalt an Katalysatoren erhöht werden, sondern es muß auch der Anteil an Silicofluoric! gegenüber Sulfationen auf ein Verhältnis eingestellt werden, das normalerweise nicht bei Elektrolyten für das industrielle Galvanisieren angewandt wird).(It is not only necessary to increase the total content of catalysts, but it must also be the proportion of Silicofluoric! to sulfate ions can be adjusted to a ratio that is normally is not used for electrolytes for industrial electroplating).

3. Konzentration der metallischen Verunreinigungen.3. Concentration of metallic impurities.

Erfindungsgemäß wird eine galvanische Xb'sung in Vorschlag gebracht, die 100 bis 225 g/l Chromsäure, 0,1 bis 0,4$ Sulfationen und 1 bie 4$ Silicofluoridionen, jeweils berechnet auf der Grundlage des Chromsäuregehalte β enthält, und in der dann, wenn der Gehalt an Sulfationen sich auf kleiner als 0,2£ beläuft, der Gehalt an Silicofluoridion größer als 2#, und daß dann, wenn der Gehalt an Sulfationen sich auf größer als 0,3# beläuft kleiner als 3$ ist.According to the invention, a galvanic solution is proposed, the 100 to 225 g / l chromic acid, 0.1 to 0.4 $ sulfate ions and 1 bie 4 $ Silicofluoridionen, each calculated on the basis of the Contains chromic acid contents β, and in which, if the content of sulfate ions is less than 0.2 £, the content of silicofluoride ion is greater than 2 #, and that when the content of sulfate ions is greater than 0.3 # amount is less than $ 3.

Metallische Verunreinigungen werden oftmals in die Chrom-Plattie-Metallic impurities are often in the chrome plating

rungselekt roily ten entweder durch Auflösen der zu plattierendeninformation elect roily th either by dissolving the to be plated

009833/U30 _ 5 _009833 / U30 _ 5 _

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

⁵ U96750 ⁵ U96750

Metalle, wie Eisen, Zink, oder Kupfer oder durch die Reduktion des 6-wertigen Chroms as der Kathode eingeführt.Metals such as iron, zinc, or copper or introduced by the reduction of hexavalent chromium as the cathode.

Vorzugsweise sollte die Lösung weniger al« 8 g/l metallische Verunreinigungen enthalten« Wenn eine höhere al« diese Konzentration vorliegt, sollten ebenfalls mehr als 0,25$ Sulfationen und mehr als 2,0$ Silicofluoriden en vorliegen·The solution should preferably contain less than 8 g / l metallic impurities. If a higher than this concentration is present, more than 0.25 $ sulfate ions and more than 2.0 $ silicofluorides are present

Bevorzugte Grenzwerte für die Chromsäurekonzentration belaufen sich auf 140 - 180 g/l und für die Sulfationenkonzentration auf 0,2 Die 0,4$ dieser Chromsäurekonzentration und für Silicofljoridionen auf 1,5 bis 4$ dieser Konzentration·Preferred limit values for the chromic acid concentration are to 140-180 g / l and for the sulfate ion concentration to 0.2 Die 0.4 $ of this chromic acid concentration and for silicofluoride ions $ 1.5 to $ 4 of this concentration

Me angegebenen Grenzwerte für den Sehalt an Sulfat ionen* Silicofluoridionen, metallische Verunreinigungen und Chromsäure ergeben sich aufgrund der Berücksichtigung der folgenden Paktoren·Me specified limit values for the content of sulfate ions * Silicofluoridionen, metallic impurities and chromic acid result due to the consideration of the following factors

1) unter einer bestimmten Konzentration des Sesamtkatalyeators wird die Mikrorißbildung nur nach einer längeren Plattierungezeit als 12 Minuten auftreten·1) under a certain concentration of the velvet catalyst microcracking only occurs after a plating time longer than 12 minutes

2) Oeberhalb einer bestimmten Konzentration der Seeemtkatalysatoren wird die durch das Chrom hedeette Fläche nicht ausreichend sein»2) Above a certain concentration of marine catalysts the area covered by the chrome will not be sufficient »

3) Wenn eine Katalyietorkonzentration hoch ist, sollte die andere niedrig sein, so daß die Seeamtmenge nicht über dem Wert liegt, bei den ein ausreichendes Abdecken der Oberfläche erfolgt. Ih der gleichen Weise darf die Sesamtkonzentration an Katalysatoren nicht su gering sein, da sonst die Mikrorißbildung nachteilig beeinflußt wird.3) If one catalyst concentration is high, the other should be low so that the maritime office amount does not exceed the value at the surface is adequately covered. I the In the same way, the total concentration of catalysts must not be too small, otherwise the formation of microcracks is adversely affected will.

4) Da« Erhöhen der Menge ext Chromsäure bei irgendeinem gegebenen Verhältnis der Katalysatoren zn der Chromsäure führt zu einem Verlängern der sum Ausbilden der Mikrorißbildung erforderlichen Zeitspann·.4) Here, "increasing the amount ext chromic acid at any given ratio of the catalysts zn of the chromic acid results in a lengthening of the sum forming the microcracking time span · required.

5) Ein Erhöhen der «etallischen Verunreinigungen erfordirt eine IsV5) An increase in the metallic impurities requires an IsV

g»r· Zeitspanne sur Mikrorißbildung·g »r · time span for microcrack formation ·

009833/1430 ~ ⁶ -009833/1430 ~ ⁶ -

Ba die Grenzwerte voneinander abhängen, kann die Erfindung auch durch, eine graphische Herstellung dergestalt wiedergegeben werden, daß die Konzentration an Sulfat ion en gegen die Konzentration an " Silicofluor id ionen aufgetragen und die fläche der Konzentrationen eingekreist wird, die für da« Durchführen dee Verfahrens geeignet ist.If the limit values are dependent on one another, the invention can also be reproduced by a graphic production in such a way that that the concentration of sulfate ions plotted against the concentration of "Silicofluor id ions and the area of the concentrations is circled that is suitable for performing the procedure is.

Ic der beigefügten Zeichnung ist eine derartige graphische Darstellung wiedergegeben, und die Erfindung betrifft weiterhin eine Löeung für das galvanische Heb er ziehen, die 100 bis 225 g/l Chromsäure entlält vtnä einen Sehalt an Sulfationen und Silicofluoride ionen aufweist, der durch die geschlossene Schleife der graphischen-Darstellting wiedergegeben wird. Man sieht, daß die in dieser Weise definierte geschlossene Schleife nicht genau die gleiche ist wie die Figur, die sich durch die rechtwinklige Begrenzung, siehe graphische Darstellung, in der o^vsq definierten Weise ergibt· Die geschlossene Schleife diffiert jedoch hiervon lediglich dahingehend, daß einige der Winkel weggeschnitten sind, die in gewisser Hinsicht für die Erfindung nicht voll kennzeichnend sind. In praktischer Hinsicht läßt sich jedoch sagen, daß beide angegebenen Grenzwerte die Erfindung umreißen.Ic of the accompanying drawing is such a graphic representation shown, and the invention further relates to a Löeung for the galvanic siphon he draw, the 100 to 225 g / l chromic acid contains vtnä a content of sulfate ions and silicofluoride ions, which by the closed loop of the graphic representation is reproduced. It can be seen that the closed loop defined in this way is not exactly the same as the figure which results from the rectangular delimitation, see graphic representation, in the ^{manner defined o v} sq. The closed loop, however, differs from this only in that some of the angles are cut away which in some respects are not fully indicative of the invention. From a practical point of view, however, it can be said that both of the limits given delimit the invention.

Zur weiteren Vervollständigung, der Beschreibung sei darauf hingewiesen, daß die oben nummeriech definierten Bereiche und bevorzugten Bereiche ebenfalls graphisch wiedergegeben sind· So wird durch das Vieleck ABCDEFGH der breiteste Bereich und durch das Vieleck JKIiFCIH der bevorzugte Bereich der Konzentrationen umrissen, und das Vieleck MIOFGH gibt den bevorzugten Bereich der Konzentrationen wieder, wenn mehr als 8 g/l metallische Verunreinigungen vorliegen.To further complete the description, it should be pointed out that the ranges and preferred areas defined above Areas are also represented graphically · Thus, through the polygon ABCDEFGH the widest area and through the polygon JKIiFCIH the preferred range of concentrations outlined, and the polygon MIOFGH indicates the preferred range of concentrations when more than 8 g / l metallic impurities are present.

Ua das Aufrechterhalten der richtigen Konzentration an Sulfationen zu unterstützen, kann die Lo*sung is gelösten Zustand Strontiumsulfat in Gegenwart von festem Strontiumsulfat und ebenfall« «in unschädliche« Strontiumsais * wie ζ·Β· Strontiumohromat enthalten, um co dieIncluding maintaining the correct concentration of sulfate ions To support, the solution is dissolved state strontium sulfate in the presence of solid strontium sulfate and also "" in harmless " Strontium ais * such as ζ · Β · contain strontium ohromat to co die

0Q9833/J43U " ⁷ ~0Q9833 / J43U " ⁷ ~

~⁷" U96750~ ⁷ "U96750

Löslichkeit dee Strontiumslufate« zu unterdrücken und das Sulfation bei der gewünschten Konzentration zuhalten·Solubility of the Strontium Sulfate and suppress the sulfate ion hold on to the desired concentration

Erfindungsgemäß wird weiterhin ein Verfahren zum galvanischen Aufbringen eines Chromüberzuges mit Hikrorißbildung in Torschlag gebracht, bei dem in einem. Chrom-Plattierungsbad der angegebene Elektrc lyt Anwendung findet» Die Chromschicht mit Mikrorißbildung kann in einer einzigen Arbeitsstufe auf das Grundmetall aufgebracht oder niedergeschlagen werden* und ebenfalls in einereinzigen Arbeitsstufe falls dies gewünscht ist, kann diese Chromschicht auf eine zuvor auf dem Grundmetall ausgebildete Nickelschicht aufgebracht werden·According to the invention there is also a method for galvanic application a chrome coating with micro-cracking brought into the gate strike, at the one in one. Chromium plating bath the specified electrc lyt is used »The chrome layer with microcrack formation can be used in applied to the base metal in a single work step or be knocked down * and also in a single work step if so desired, this chrome layer can be applied to a nickel layer previously formed on the base metal

ErfAndungsgemäß wird weiterhin ein flüssiges Konzentrat vorgeschlager das nach dem Verdünnen mit Wasser zu der Elektrolytlösung führt. Ein derartiges Konzentrat kann z.B. bis zu 900 g/l Chromsäure mit entsprechenden Anteilen an Sulfationen und Silicofluoridionen enthalten« Wahlweise ergibt sich erfindungsgemäß weiterhin die Möglichkeit eine« festen Gemisches aus Chromsäure, einer Quelle für Sulfationen und einer Quelle für Silicofluoridionen in derartigen Anteilen, daß das feste Gemisch in Wasser unter Erzielen der beschriebenen Elektrolytlösung aufgelöst werden kann· Ein derartiges festes Gemisch kann ebenfalls eine Quelle für Strontiumionen enthalten, durch die die weiter oben beschriebene Lösung erzielt wird.According to the invention, a liquid concentrate is also proposed which after dilution with water leads to the electrolyte solution. Such a concentrate can contain, for example, up to 900 g / l chromic acid with corresponding Contain proportions of sulfate ions and silicofluoride ions. solid mixture of chromic acid, a source of sulfate ions and a source of silicofluoride ions in such proportions that the solid mixture can be dissolved in water to obtain the electrolyte solution described · Such a solid mixture can also contain a source of strontium ions by which the solution described above is achieved.

Ein derartiges festes Gemisch kann ebenfalls in einer derartigen Form vorliegen, daß eine Quelle für Strontiumionen und eine Quelle für Silicofluoridionen vorlief·", z.B. Strontiumchromat und Natriumsilicofluorid vorliegen« Dieses Gemisch kann einer herkömmlichen Chromplattierungslösung (d.h. Chromsäure und Sulfationen als Katalysator) zugesetzt werden, so daß man eine Lösung erhält, die geebnet ist, einen erfindungsgemäßen XJeberzug mit Mikrorißbildun g auszubilden. Such a solid mixture can also be in such a form that a source of strontium ions and a source for silicofluoride ions, e.g., strontium chromate and sodium silicofluoride «This mixture can be a conventional chromium plating solution (i.e. chromic acid and sulfate ions as a catalyst) be added, so that a solution is obtained which is leveled to form a XJeberzug with microcrack formation according to the invention.

009833/U30 _ ₈ _009833 / U30 _ ₈ _

U.96750U.96750

Examples of implementation

Alle Plattierungstests werden mit Standarfetahlplatten mit Abmessungen von 2,54 x 2,54 cm ausgeführt, die zuvor vermittels galvanischen Aufbringen«! mit glänzendem Nickel überzogen worden sind. Alle Tests werden unter Standardbedingungen (272 A/dm und 44°0) durchgeführt und die Zusammensetzung der Lösung abgeändert, um so die Wirkung der Veränderungen der Zusammensetzung derselben auf die Plattierungszeit und somit die Dicke der Chromechicht zu zeigen, die erforderlich ist, bevor die Mikrorißbildung eintritt.All plating tests are performed with standard dimensional steel plates of 2.54 x 2.54 cm, which were previously carried out by means of galvanic Apply «! have been coated with shiny nickel. All tests are carried out under standard conditions (272 A / dm and 44 ° 0) and changing the composition of the solution so as to affect the effect of changes in the composition thereof on the plating time and thus to show the thickness of the chrome layer that is required is before microcracking occurs.

example 1

Durch dieses Beispiel wird die Wirkung einer Veränderung in dem Chromsäuregehalt erläutert:Through this example the effect of a change in the Chromic acid content explained:

component

Lösung ASolution a

Lösung BSolution b

Chromsäure Schwefelsäure Hydrofluorki eselsäure Zeit der MikrofkßbildungChromic Acid Sulfuric Acid Hydrofluoric acid Time of micro pitting

150 g/l150 g / l

0,55 g/1 3,0 g/1 5 min.0.55 g / 1 3.0 g / 1 5 min.

200 g/l200 g / l

0,55 g/l 3,0 g/1 8 min.0.55 g / l 3.0 g / 1 8 min.

Example 2

Durch dieses Beispiel wird die Wirkung einer Veränderung in demThrough this example the effect of a change in the

Schwefelsäuregehalt erläutert.Sulfuric acid content explained.

Bestandteil __ Lösung A Lösung B Component __ Solution A Solution B

Chromsäure Schwefelsäure Hy drof 1 uor kiesel säure Zeit der MikrorißbildungChromic acid Sulfuric acid Hydroof 1 uor silicic acid Time of microcrack formation

150 g/l 0,25 g/l 3,0 g/l 10 min.150 g / l 0.25 g / l 3.0 g / l 10 min.

150 g/l 0,55 g/l 3,0 g/l 5 min.150 g / l 0.55 g / l 3.0 g / l 5 min.

Example 3

BydrofluorkieselSäuregehalt erläutert.Bydrofluorosilicate acid content explained.

Bestandteil Lösung A Lösung BComponent solution A solution B

Chromsäure Schwefelsäure Hydrofluor kieselsäure Zeit der MikrorißbildungChromic acid sulfuric acid Hydrofluorosilicic acid Time of microcrack formation

150 g/l150 g / l

Q,35 g/lQ, 35 g / l

3,4 g/l3.4 g / l

7 min«7 min «

150 g/l150 g / l

0,35 g/l0.35 g / l

1,8 g/l1.8 g / l

9 min.9 min.

0 098 3 3/U300 098 3 3 / U30

Beispiel 4 * Example 4 * Diese* Beispiel erläutert die Wirkung einer Teränderimg in denThis * example explains the effect of a Teränderimg in the Bestand teilComponent Ohroffl»äure 150 g/lEar acidity 150 g / l Sciiwefeleäüre θ*4§ g/l ·3Sulfur acid θ * 4§ g / l 3 Hydroflttorkieeeleäure 3,Q g/l 2Hydrofluoric acid 3, Q g / l 2 Seit Mr die Mikrarißbildung «itSince Mr. the micro-scarring «it Cl) kein Torliegen »etalUKher Verunreinigungen 6Cl) no dead spots »etalUKher impurities 6 CS) 3 g/l dreiwertige« Öhraa. liegt Tor 8 min·CS) 3 g / l trivalent "Öhraa. is gate 8 min C3) 8 g/l dreiwertige« Chroe. liegt Tür 9 min»C3) 8 g / l trivalent chroe. door is 9 min » C4i 8 g/l Zink liegt Tor 9C4i 8 g / l zinc is gate 9 Example p

E« «ind hler Beispiele für eine Strontiumverbindungen enthaltende Lösung »iedergegebensExamples of one containing strontium compounds Solution »iedied

GürQMSure 150 g/lGürQMSure 150 g / l FatriuMilicofluorid 4 g/lFatriuMilicofluorid 4 g / l

it 2 g/lit 2 g / l

Ca) 8 g/l ergibt in S Min« h}n g/l · iÄ 8 «ia* 24 g/l * iölO Kin.Approx. 8 g / l results in S min « h} n g / l · iÄ 8« ia * 24 g / l * 1010 Kin.

Die··» Beispiel betrifft ei» feste« "üawandlungse»lz* GeatLsch nach öler ErfiitdfetBg· Bin derartige« SaIs iöusra §»m iurköBElickeii Cfliroe-Pl»ttierung#be<l (CrO^₅/30₄~~) sixge«etst werden. As« den folgende» Beutend teilen wird ein festes Geaieah hergestellt sThe ·· »example concerns ei" solid "" üawandlungse "lz * GeatLsch by Oilers ErfiitdfetBg · Bin such" sais iöusra § »m iurköBElickeii Cfliroe-Pl» ttierung # be <l (CrO ^ _5/30 ₄ ~~) sixge " As "the following" divide a firm Geaieah s

Ietritt»eiliooflttorid »Enter »eiliooflttorid» GhroDMilture 22,0GhroDMilture 22.0

Die Chroeeäure wird in dta Ge«i%cii «κ« wirt*chaftliahen Ueberlegungen engt wandt und «teilt keine weeentlioh· Io«ponent» desselben dar. werdea 25 gA dieses "li^wandluit^eeelse·¹¹ eine« herköeeliahen in de« errorderlichtn Bereioii derronwtttretioQen tohThe Chroeeäure is in dta Ge "i% cii" κ "host * chaftliahen considerations narrowed Wundt and" does not share weeentlioh · Io "ponent" the same is. Werdea 25 GIs this "li ^ wandluit ^ eeelse · ^11" herköeeliahen in de " errorderlichtn Bereioii derronwtttretioQen toh

ana S0₄~" ztigesetsfe, woäorelt eine erfiaclaiigegeEäß erhalten wird.ana S0 ₄ ~ "ztigesetsfe, woäorelt a result is obtained.

Claims

U96750 * ■ Claims ^ ^.! _——-- - * - ■ * <

1. Solution for the galvanic application of chrome coatings, characterized in that the same 100 to 225 g / l chromic acid, 0.1 to 0.4 $ sulphate ions and 1 to 4 / £ slicofluoride ions, each calculated on the basis of the chromic acid content, in which, if the sulfate ion content is less than 0.2 $, the Silicofluoride content greater than $ 2, and if the content of sulfate ions is greater than 0.3 ^ amounts to less than 3 $> is.

2. Solution according to claim 1, characterized in that the same less than 8 g / l contains metallic impurities.

3. Solution according to claim 1, characterized in that the same Contains more than 8 g / l metallic impurities, more than 0.25 $ sulfate ions and more than 2.0 $ silicofluorides.

4. Solution according to one of the preceding claims, characterized in that that the same 40 to 180 g / l chromic acid, 0.2 to 0 ,. Contains sulfate ions and 1.5 to 4 $ silicofluoride ions.

5. Solution according to one of the preceding claims, characterized in that that the same dissolved strontium sulfate in the presence of solid Strontium sulfated and also a harmless strontium salt, E.g. strontium chromate contains, so does the solubility of the strontium sulfate to suppress and to keep the concentration of sulfate ions at a desired value.

6. Process for the galvanic application of a chrome coating with Microcracking, characterized in that the solution after a of the preceding claims is used as an electrolyte in a chrome plating bath.

7. method) according to claim 6, characterized in that the microcracking having a chrome layer in a single work step is applied to the base metal. O 0.9 8 3.3 / 1 A 3 0 - 12 -

8, Verfahren nach Anspruch €, dadurch ige kennzeichnet, daß die Mikrorißbildung aufweisende GnroaecMcht auf eine zuvor auf dem Grundmetall ausgebildete Hiekeleehioht aufgebracht -wird.8, method according to claim €, characterized ige indicates that the Microcracking showing GnroaecMcht on a previously on the Base metal trained Hiekeleehioht is applied.

9· Festes Salzgemisch zum Herstellen von Elektrolyten für des Aufbringen einer Mikrorißbildung aufweisenden öhromsehieht, dadurch gekennzeichnet, daß dasselbe nach, dem Auflösen in Wasser eine lösung nach den Ansprüchen 1 Ms 5 ergibt.9 · Solid salt mixture for the production of electrolytes for the application of an ohromic layer exhibiting microcracking, thereby characterized in that the same after dissolving in water gives a solution according to claims 1 Ms 5.

BATH ORIGINAL 009833/1430