DE1473370A1

DE1473370A1 - Procedure for vacuum measurement

Info

Publication number: DE1473370A1
Application number: DE19641473370
Authority: DE
Inventors: Batzies Dipl-Phys Peter
Original assignee: BBC Brown Boveri France SA
Current assignee: BBC Brown Boveri France SA
Priority date: 1964-09-04
Filing date: 1964-09-04
Publication date: 1968-11-07
Also published as: CH438785A

Description

BBCBBC

BROWN,BOVERI & CIEBROWN, BOVERI & CIE

Aktiengesellschaft 1479^70 Joint stock company 1479 ^ 70

MannheimMannheim

Mannheim, den 14.8.1964. Pat.R/MiMannheim, August 14, 1964. Pat.R / Mi

Mp.-Nr. 637/64Mp.no. 637/64

Verfahren zur VakuummessungProcedure for vacuum measurement

Im allgemeinen ist ein Vakuum durch den Druck der darin befindlichen Gase und Dämpfe gekennzeichnet. Die Messung des Druckes kann direkt durch Bestimmung der Kraft, die auf eine Meßfläche wirkt, erfolgen. Außerdem sind Verfahren bekannt, die den Druck indirekt über die Einwirkung der Gase und Dämpfe auf eine andere Meßgröße, beispielsweise den Widerstand eines geheizten Fadens, ermitteln.In general, a vacuum is due to the pressure inside it Gases and vapors marked. The measurement of the pressure can be done directly by determining the force that acts on a measuring surface. In addition, methods are known that the Pressure indirectly via the action of the gases and vapors on another measured variable, for example the resistance of a heated one Thread.

Bei höheren Vakua sind diese Verfahren nicht mehr anwendbar. Pur derartige Vakua sind Verfahren bekannt, die auf der Proportionalität von Druck und Teilchenzahl beruhen. Bei diesen Verfahren wird ein bestimmter Anteil der Teilchen ionisiert und in einem elektrischen JIiLd abgesaugt. Der entstehende Strom wird gemessen. Er ist ein Maß für die Teilchenzahl und damit für den Druck.These methods can no longer be used at higher vacuums. Processes based on the proportionality of pressure and number of particles are known for such vacuums. With these In the process, a certain proportion of the particles is ionized and sucked off in an electrical JIiLd. The resulting electricity is being measured. It is a measure of the number of particles and thus of the pressure.

Je nachdem, ob die .Gesamtzahl aller im Volumen bzw. in der VoIunieneinheit vorhandenen Teilchen oder die Zahl einer bestimmten Art von Teilchen zu bestimmen ist, werden Totaldruck-oder Partialdruekmeßvorrichtungen verwendet. Totalctackmeßgeräte "zählen" die Ionen unabhängig von ihrer Masse nur nach der Ladung. Partialdruckmeßgeräte dagegen zählen die Ionen getrennt nach ihrem Verhältnis von Ladung zu Masse und unterscheiden dadurch die verschiedenen Teilchenarten.Depending on whether the total number of all in the volume or in the volume unit existing particles or the number of a certain type of particle is to be determined, are total pressure or partial pressure measuring devices used. Totalctack measuring devices "count" the ions regardless of their mass only after the charge. Partial pressure gauges on the other hand, the ions count separately according to their ratio of charge to mass and thereby differentiate between the different types of particles.

Auch sind Desorptionsverfahren bekannt, die darin bestehen, daß die auf einer reinen Fläche längere Zeit adsorbierten Gasoder Dampfteilchen, deren Zahl vom Druck abhängig ist, in kurzerDesorption processes are also known which consist in that the gas or vapor particles adsorbed on a clean surface for a longer time, the number of which depends on the pressure, in a short time

809807/0316809807/0316

- 2 - 637/64- 2 - 637/64

Zeit auf einmal desorbiert werden. Der resultierende Druckanstieg wird mit einem der obenangegebenen Ionisierungsverfahren gemessen. Aus dem Meßergebnis wird unter Berücksichtigung von Yolumen, Sammelzeit und Größe der reinen Fläche auf den gefragten Druck geschlossen.Time to be desorbed at once. The resulting increase in pressure is measured using one of the ionization methods given above measured. From the measurement result, taking into account Volume, collection time and size of the pure area are closed to the requested pressure.

Die verschiedenen Teilchenarten können bei verschiedenen Temperaturen nacheinander desorbiert werden, so daß mit diesem Verfahren auch auf den Partialdruck der verschieben im Volumen vorhandenen Gase oder Dämpfe geschlossen werden.The different types of particles can be at different temperatures are desorbed one after the other, so that with this method also on the partial pressure of the shift in volume existing gases or vapors must be closed.

Alle diese bekannten Verfahren gestatten, die Anzahl der in einen Volumen vorhandenen Teilchen und daraus den Druck zu bestimmen. Dieee Größen charakterisieren jedoch bei extrem hohen Vakua den Zustand des Vakuums nur unvollkommen.All these known methods allow the number of in one Volume of existing particles and from this to determine the pressure. However, these sizes characterize at extremely high vacuums Vacuum condition only imperfect.

Das liegt im folgenden begründet:This is due to the following:

Die im Volumen enthaltenen Teilchen stoßen auf die Innenwandung des Behälters und die Oberfläche von Gegenständen in dem Behälter und bleiben dort zum Teil haften. Die Zahl der Wandstöße hängt von der Temperatur, der Masse und Anzahl der Teilchen ab. Die sogenannte Haftwahrscheinlichkeit ist abhängig von der Art der Teilchen, der Art der Fläche und deren Temperatur und Beschaffenheit. Infolge dieses Effektes wird eine'Oberfläche in einem Vakuum nach längerer oder kürzerer Zeit mit einer Monoschicht oder mehreren Teilchenschichten bedeckt.The particles contained in the volume hit the inner wall of the container and the surface of objects in the container and stick there to some extent. The number of wall joints depends on the temperature, the mass and the number of particles. The so-called probability of imprisonment is dependent on the type of particles, the type of surface and their temperature and nature. As a result of this effect, a surface covered with a monolayer or several layers of particles in a vacuum after a longer or shorter period of time.

Will man Experimente an reinen Flächen in einem Vakuum durchführen, muß daher sichergestellt sein, daß die Wiederbedeckung nach einer Reinigung der Fläche so langsam erfolgt, daß die Experimente vor der Bildung einer störenden Bedeckung beendet werden können.If you want to carry out experiments on clean surfaces in a vacuum, It must therefore be ensured that the re-covering after cleaning the surface takes place so slowly that the Experiments can be terminated prior to the formation of a disruptive covering.

Zur Charakterisierung eines entsprechenden Vakuums ist deshalb die Wiederbedeckunpszeit einer reinen Oberfläche besser geeignet als die Zahl der Teilchen im Volumen bzw. der Druck. Aus der Teilchenzahl kann zwar im Prinzip auf die Wiederbedeckungs-The re-covering time of a clean surface is therefore more suitable for characterizing a corresponding vacuum as the number of particles in the volume or the pressure. In principle, the number of particles can be used to

809807/0 3 18 ~³~809807/0 3 18 ~ ³ ~

- 3 - 637/64- 3 - 637/64

zeit geschlossen werden, aber durch die Vielzahl der einflußnehmenden Größen ist dies im allgemeinen nur mangelhaft möglich· Außerdem ist es nicht möglich, eine Aussage über den zeitlichen Verlauf der Wiederbedeckung zu machen.time, but by the multitude of influential ones This is generally only possible to a limited extent · In addition, it is not possible to make a statement about the to make the chronological course of the re-covering.

Mit den obenbeschriebenen bekannten Desorptionsverfahren kann zwar die Bedeckung einer reinen Fläche gemessen werden, doch ist dieses Verfahren nur in verhältnismäßig kleinen evakuierten Räumen ang^wendbar, weil nur in diesen ein meßbarer Druckanstieg durch die Desorption auftritt«, Weil außerdem zur Messung des Druckes eine der obenangeführten ionisierenden Druckmeßverfahren benutzt werden muß, kommen auch deren andere Nachteile voll zur Wirkung. Außerdem ist damit die kontinuierliche Messung des zeitlichen Verlaufes der Wiederbedeckung unmöglich.With the above-described known desorption processes Although the coverage of a clean area can be measured, this method is only available in relatively small evacuated areas Applicable to rooms, because only in these a measurable increase in pressure occurs through desorption «, because one of the above-mentioned ionizing pressure measurement methods is also used to measure the pressure must be used, their other disadvantages come fully into effect. In addition, it is the continuous It is impossible to measure the course of the re-covering over time.

Aufgabe der Erfindung ist es, die nach Nachteile der obenbeschriebenen Verfahren zu vermeiden. Sie betrifft ein Verfahren zur Vakuummessung. Erfindungsgemäß wird die Bedeckung einer im Vakuum angeordneten reinen.Fläche mit Gas-oder Dampfteilchen über das Austrittspotential dieser Fläche gemessen.The object of the invention is to overcome the disadvantages of the above-described Procedure to avoid. It concerns a method for vacuum measurement. According to the invention, the coverage of an im Vacuum arranged pure surface with gas or vapor particles measured via the exit potential of this surface.

Ein Beispiel einer Vakuummeßeinrichtung zur Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist in der Fig. 1 dargestellt.An example of a vacuum measuring device for practicing the invention The method is shown in FIG.

In einem zu bestimmenden Vakuum sind zwei zueinander parallele, gut polierte und gegeneinander isolierte Elektroden 1 und 2 angeordnet. Die der Elektrode 2 zugewandte Fläche der Elektrode dient als reine Fläche und Kollektor für die Elektronen, die von der als Glühelektrode ausgebildeten Elektrode 2, die als Emitter dient, emittiert werden. Beide Elektroden bestehen vorteilhafterweise aus demselben einkristallinen Material. Dadureh werden störende Einflüsse durch eine mögliche gegenseitige Bedampfung und unterschiedliche, ungleichmäßige Austrittspotentialen vermieden. Die Elektroden können in verschiedener Weise aufgeheizt werden. Sie können durch direkten Stromdurchgang, durch Strahlungsheizung oder durch Elektronenbeschuß erhitzt werden. In dem dargestellten Beispiel sind hinter den Elektroden 1 und 2 Glühfäden 3 und 4 angeordnet, mit deren Hilfe dieIn a vacuum to be determined, there are two electrodes 1 and 2, which are parallel to one another, well polished and insulated from one another arranged. The surface of the electrode facing the electrode 2 serves as a pure surface and collector for the electrons that are emitted by the electrode 2, which is designed as a glow electrode and serves as an emitter. Both electrodes are advantageously made made of the same single crystal material. Dadureh become disruptive influences through a possible mutual vaporization and different, uneven exit potentials are avoided. The electrodes can be used in various ways be heated. They can be heated by direct passage of current, by radiant heating or by electron bombardment will. In the example shown, filaments 3 and 4 are arranged behind the electrodes 1 and 2, with the help of which the

809807/0318 - 4 -809807/0318 - 4 -

- 4 - 637/64 /- 4 - 637/64 /

Elektroden durch Strahlung und/oder Elektronenbeschuß aufgeheizt werden. Zwischen den Elektroden 1 und 2 kann eine weitere Elektrode 5 vorgesehen sein. Die Elektrode 5 kann vorzugsweise eine Metallplatte sein, die mit einem Loch versehen ist. Sit "beschriebene Anordnung der Elektroden 1,2 und 5 kann zwischen den Polen 6 eines Magneten 7 liegen, dessen ?eld parallel der Verbindungslinie der Elektroden verläuft· Dadurch werden die Elektronen auf ein« bestimmte Bahn gezwungen. Der Magnet kann innerhalb eines Vakuumgefäßes 18 angeordnet sein, es kann ein elektrischer oder Permanentmagnet sein.Electrodes are heated by radiation and / or electron bombardment. Between the electrodes 1 and 2 can be another Electrode 5 may be provided. The electrode 5 may preferably be a metal plate provided with a hole. Sit "The arrangement of the electrodes 1, 2 and 5 described can lie between the poles 6 of a magnet 7, the? eld of which is parallel to the The connecting line between the electrodes runs · This forces the electrons onto a certain path. The magnet can be arranged within a vacuum vessel 18, it can be an electric or permanent magnet.

Sie Zuleitungen zu den Elektroden 1,2 und 5 sind aus dem Vakuumgefäß herausgeführt. Die Emitterelektrode 2 kann unmittelbar, die als Blende dienende Elektrode 5 über eine variable Spannungequelle 8 und ein Meßgerät 9 mit der Hullschien· 19 verbunden sein. BurOh die Spannungsquelle 8 kann die Elektrode 5 eine positive Vorspannung gegen die Elektrode 2 erhalten und daduroh als Saugelektrode wirken. Weil der Sättigungestrom zwischen den Elektroden 1 und 2 dem Saugstrom, der unter der Spannung der Spannungsquelle 8 zur Saugelektrode 5 fließt, proportional ist, kann der Sättigungsstrom duroh das Meßgerät 9 überwacht und durch die variable Spannung der Spannungsquell· β eingestellt werden. Sie Elektrode 1 kann mit dem Abgriff einer variablen Spannungsquelle, die aus einem Potentiometer Io und einer variablen Spannungsquelle 11 besteht, verbunden sein. Ser Widerstand dee Potentiometers Io kann eine feste Mittelanzapfung aufweisen, die Über einen Widerstand 12 mit der Hullschien· 19 verbunden Bein kann. Außerdem kann die Elektrode 1 mit dem Pol 13 und die Mittelanzapfung des Widerstandes des Potentiometers Io «it dem Pol 15 eines Umschalters 14 verbunden sein. Ser bewegliche Kontakt des Umschalters 14 kann Kit einem' Meßgerät 16 verbunden sein, dessen freier Anschluß an der !fall- ^ schiene 19 liegen kann. Mit dem aneeigenden Meßgerät 16 kann /.,· ein schreibendes Meßgerät 17 kombiniert sein.The leads to the electrodes 1, 2 and 5 are led out of the vacuum vessel. The emitter electrode 2 can be connected directly to the Hullschien 19 via a variable voltage source 8 and a measuring device 9, the electrode 5 serving as a diaphragm. With the voltage source 8, the electrode 5 can receive a positive bias voltage against the electrode 2 and therefore act as a suction electrode. Because the saturation current between the electrodes 1 and 2 is proportional to the suction current which flows to the suction electrode 5 under the voltage of the voltage source 8, the saturation current can be monitored by the measuring device 9 and adjusted by the variable voltage of the voltage source β. The electrode 1 can be connected to the tap of a variable voltage source, which consists of a potentiometer Io and a variable voltage source 11. The resistor of the potentiometer Io can have a fixed center tap which can be connected to the Hullschien 19 via a resistor 12. In addition, the electrode 1 can be connected to the pole 13 and the center tap of the resistor of the potentiometer Io can be connected to the pole 15 of a changeover switch 14. Ser movable contact of the switch 14 may be connected to a kit 'meter 16, may be its free connection to the! ^ Case- rail 19th A writing measuring device 17 can be combined with the appropriate measuring device 16.

Die Messung der Austrittspotentialänderung der reinen Fläche 1 in dem evakuierten Behälter 18 kann folgendermaßen vorgenommen werden. Zunäshst wird bei gereinigter Elektrode 1 die Emitter-The measurement of the exit potential change of the pure area 1 in the evacuated container 18 can be done as follows. First, with the electrode 1 cleaned, the emitter

- 5 - 637/64- 5 - 637/64

elektrode 2 mit dem Glühfaden 3 aufgeheizt. Bei einer mit Hilfe der variablen Spannungsquelle 8 eingestellten bestimmten positiven Vorspannung der Elektrode 5 gegen die Elektrode 2 fliegen die von der Elektrode 2 emittierten Elektronen auf di· Kollektorelektrode 1 und werden von dieser aufgefangen. Mit Hilfe der variablen Spannungsquelle 11 und dem Potentiometer Io kann die Spannung U zwischen der Elektrode 1 und 2, von welcher der Elektronenstrom J von der Elektrode 2 zur Elektrode 1 abhängt, verändert werden. Werden für verschiedene Werte dieser Spannung die zugehörigen Ströme gemessen und in logarithmischem Maßstab aufgetragen, so ergibt sich eine Kennlinie nach Pig. 2. linear mit der Spannung U wächst zunächst der Strom J. Von einem Wert U der Spannung U ab stellt sich ein Strom J₈ ein, der bei einer weiteren Erhöhung der Spannung TJ seinen Wert behält. Die sich aus dieser Messung ergebende Spannung TF ist gleich der Differenz der Austrittspotentiale 0_E der Emitterelektrode 2 und JZL der Kollektorelektrode 1.electrode 2 with filament 3 is heated. With a certain positive bias voltage of the electrode 5 against the electrode 2, which is set with the aid of the variable voltage source 8, the electrons emitted by the electrode 2 fly onto the collector electrode 1 and are captured by it. With the aid of the variable voltage source 11 and the potentiometer Io, the voltage U between the electrodes 1 and 2, on which the electron current J from the electrode 2 to the electrode 1 depends, can be changed. If the associated currents are measured for different values of this voltage and plotted on a logarithmic scale, a characteristic curve according to Pig results. 2. The current J. initially increases linearly with the voltage U. From a value U of the voltage U ab, a current J _{8 is established} which retains its value with a further increase in the voltage TJ. The voltage TF resulting from this measurement is equal to the difference between the exit _{potentials 0 E of} the emitter electrode 2 and JZL of the collector electrode 1.

Wird nach Bildung einer Monoschicht eine weitere Kennlinie aufgenommen, so ist diese um einen bestimmten Betrag verschoben, in ihrem Verlauf aber der ersten Kennlinie parallel, wie in Fig. 3 dargestellt ist. Der Strom J erreicht jetzt bei einer Spannung U' den Wert J_Q. Weil die Spannung IT . gleich der Differenz der Austrittspotentiale der Emitterelektrode 2 und Kollektorelektrode 1 ist, so stellt unter der Voraussetzung konstanter Betriebsbedingungen der Differenzwert der Spannungen U. und U' die Änderung des Austrittspotentials der Kollektorelektrode 1 durch die Adsorption der Teilchen dar.If a further characteristic curve is recorded after the formation of a monolayer, this is shifted by a certain amount, but its course is parallel to the first characteristic curve, as shown in FIG. 3. The current J now reaches the value J _Q at a voltage U '. Because the tension IT. is equal to the difference between the exit potentials of the emitter electrode 2 and collector electrode 1, the difference between the voltages U. and U ', assuming constant operating conditions, represents the change in the exit potential of the collector electrode 1 due to the adsorption of the particles.

Zweckmäßig kann aber diese Differenz bei einem bestimmten Wert J₃ des Stromes J bestimmt werden. Wie in den Fig. 2 und 3 dargestellt, entsprechen diesem Wert des Stromes die Spannungen TJ_However, this difference can expediently be determined at a certain value J _{3 of} the current J. As shown in FIGS. 2 and 3, this value of the current corresponds to the voltages TJ_

und U*_a· In diesem Fall kann der zeitliche Verlauf der Änderung des Austrittspotentials durch Bedeckung kontinuierlich verfolgt werden.and U * _a · In this case, the time course of the change in the exit potential due to coverage can be continuously followed.

Dazu bringt man den beweglichen Kontakt des Schalters 14 mit dem Pol 15 in Verbindung, stellt einen bestimmten Wert für J_A ein und mißt ihn mit dem Meßgerät 16.For this purpose, the movable contact of the switch 14 is brought into connection with the pole 15, a certain value is set for J _A and it is measured with the measuring device 16.

V80 9 807/0318 - 6 -V80 9 807/0318 - 6 -

- 6 - 637/64- 6 - 637/64

Danach wird der bewegliche Kontakt des Schalters 14 mit dem Pol 13 verbunden. Das Heßgerät zeigt jetzt die Spannung U. zwischen Emitter 2 und Kollektor 1 an. Die Änderung des Austrittspoteatials durch Bedeckung der reinen Fläche ist gleich der Änderung der Spannung U.. Hit dem schreibenden Heßgerät 17 kann der zeitliche Verlauf der Austrittspotentialänderung aufgezeichnet werden. Diese Hessung kann bei verschiedenen Temperaturen der Elektrode 1 durchgeführt werden. Dadurch wird erreicht, daß nur bestimmte Teilohenarten adsorbieren.The movable contact of the switch 14 is then connected to the pole 13. The heater now shows the voltage U. between Emitter 2 and collector 1 on. The change in the exit potential by covering the pure area is equal to the change in voltage U .. Hit the writing heater 17 can Time course of the exit potential change can be recorded. This measurement can take place at different temperatures Electrode 1 can be carried out. It is thereby achieved that only certain types of parts adsorb.

Zur Bestimmung der Teilchenarten kann es zweckmäßig sein, die Teilchen, die sich auf der zunächst völlig desorbierten reinen fläche der'Elektrode 1 nach einer gewissen Zeit adsorbierten, schrittweise in bestimmten Temperaturstufen zu entfernen und bei jeder Temperaturstufe die Änderung der Spannung Π zu messenTo determine the types of particles, it can be useful to identify the particles that are initially completely desorbed surface of the'electrode 1 adsorbed after a certain time, to remove gradually in certain temperature levels and at to measure the change in voltage Π at each temperature level

bzw. aufzuzeichnen.or to record.

Sie Ausübung des Verfahrens ist unabhängig von der Größe des evakuierten Raumes und der Größe der Fläche des Kollektors. Es können Kittel zur Einhaltung bestimmter, stufenweise oder kontinuierlich wählbarer Temperaturen der als reine Fläche dienenden Elektrode 1 und/oder der Emitterelektrode 2 vorgesehen sein. Auch können Vorrichtungen vorgesehen sein, welche gestatten, die Temperatur der Elektrode 1 und/oder 2 zu messen.You exercise the procedure is independent of the size of the evacuated space and the size of the area of the collector. There can be gowns for adherence to specific, gradual or continuous Selectable temperatures of the electrode 1 serving as a pure surface and / or the emitter electrode 2 can be provided. Devices can also be provided which allow the temperature of the electrode 1 and / or 2 to be measured.

Sas Entfernen der Bedeckung der als reine Oberfläche dienenden Elektrode von den Gas-oder Dampfteilchen kann auf verschiedene Weise erfolgen. So kann die als reine Fläche dienende Elektrode mit einer Vorrichtung zum lonenbeschuß , Elektronenbeschuß, zur Bestrahlung mit elektromagnetischen Wellen oder zum Bedampfen mit einer Metallschicht versehen sein.The removal of the covering of the electrode serving as a clean surface from the gas or vapor particles can be carried out in various ways Way. The electrode serving as a pure surface can be equipped with a device for ion bombardment, electron bombardment, be provided with a metal layer for irradiation with electromagnetic waves or for vapor deposition.

Die Hessung beruht auf folgender Grundlage: Die Bedeckung einer Fläche mit Gas-oder Dampfteilchen bewirkt eine Änderung des Auetrittspotentials dieser Fläche. Das Austrittspotential ist/ die bestimmende Größe für die thermische Elektronenemission. Bei der Adsorption eines Gas-oder Dampfteilchen an einer Metalloberfläche bilden diese Teilchen nämlich ein elektrisches Dipolmoment. Größe und Richtung hängen von der Art der adsorbiertenThe measurement is based on the following basis: The covering of a surface with gas or vapor particles causes a change in the Exit potential of this area. The exit potential is / the determining factor for thermal electron emission. When a gas or vapor particle is adsorbed on a metal surface namely, these particles form an electrical dipole moment. The size and direction depend on the type of adsorbed

809807/0318/i809807/0318 / i

- 7 - 637/64- 7 - 637/64

Teilchen und dem Austrittspotential der Fläche ab. Die Änderung des Auetrittepotentiale ist der Zahl der gebildeten Bipole und dem Dipolmoment proportional· Virken bei der Bedeckung Seilchen -verschiedenen Dipolaomentes mit, bo stellt sich ein mittlerer Wert des Auetrittepotentiale ein· Treten Dipole unterschiedlichen Vorzeichenß auf, so kann auoh die Austrittspotentialänderung im Verlauf der Wiederbedeckung ihr Vorzeichen wechseln·Particles and the exit potential of the surface. The change in exit potential is the number of bipoles formed and proportional to the dipole moment · Virken when covering Seilchen -different dipole moments with, bo arises mean value of the exit potential occurs. If dipoles of different signs appear, the exit potential change can also change its sign in the course of the re-covering switch·

Iaoh Bildung einer Monoeohioht nehmen die Haftwahrsoheinlichkeit und das Dipolmoment weiter auftreffender Teilchen und da<-duroh deren Einfluß auf das Auetrittepotential stark ab. Es stellt sich ein Sättigungszustand ein. pie Zeit vom Beginn des Bedeokungsvorganges bis zur Erreichung der Sättigung wird als Wiederbedeckungszeit bezeichnet und zur Charakterisierung des Vakuums benutzt.In addition to the formation of a monoohioht, the probability of sticking and the dipole moment of further impacting particles decrease, and therefore their influence on the impact potential is greatly reduced. It a state of saturation arises. pie time from the beginning The process of covering up until saturation is reached is called the re-covering time and is used for characterization of the vacuum.

Ibtnsowie die -verschiedenen Teilchenarten bei verschiedenen Temperaturen desorbiert werden können, kann auoh die Adsorption bestimmter Teilohenarten duroh geeignete Wahl der Temperatur verhindert werden·Ibtn as well as the different types of particles with different Temperatures can be desorbed, the adsorption of certain types of parts can also be achieved by a suitable choice of temperature be prevented·

- 8 809807/0318 - 8 809807/0318

Claims

- 8 - 637/64

147337Ω Claims : ι τ / ο ο / υ

Method for vacuum measurement, characterized in that the covering of a clean surface arranged in a vacuum with gas or Vapor particles are measured via the exit potential of this area.

Method for vacuum measurement, inst », according to claim 1, characterized in that characterized in that the temporal increase in the coverage of the clean area is measured.

Method for vacuum measurement according to Claim 1 or 2, characterized in that the increase in coverage over time at different temperatures of the clean surface is measured

jMethod for vacuum measurement, in particular according to claims 1 to 3, characterized in that the coverage of the pure area within a certain time is measured via the change in the exit potential, which occurs when the surface is removed

I cover the linen area.

Method for vacuum measurement according to Claim 4, characterized in that that the covering of the clean surface is gradually removed.

Vacuum measuring device for performing the method according to one of the preceding claims 1 to 5, characterized in that that an electron-emitting and one serving as a clean surface electrode are arranged in the vacuum.

Vacuum measuring device according to claim 6, characterized in that that the electron-emitting electrode is designed as a glow electrode.

Vacuum measuring device according to claim 7, characterized in that the electron-emitting electrode is provided with a device for Bombarding you with electrons is stranding.

809807/0318 - 9 -

- 9 - 637/64

Vacuum measuring device according to claim 7 _f, characterized in that the electron-emitting electrode by direct current passage? is heatable.

Vacuum measuring device according to claims 1 to 9, characterized in that that the electrode serving as a pure surface can be heated.

Vacuum measuring device according to claim Io, characterized in that that means are provided for maintaining certain, stepwise or continuously selectable temperatures as pure Surface serving electrode.

Vacuum measuring device according to claim Io or 11, characterized in that that means are provided for measuring the temperature of the electrode serving as a clean surface.

Vacuum milling device according to claim lo, characterized in that that the electrode serving as a pure surface can be heated by direct current passage.

Vacuum measuring device according to claim lo, characterized in that the electrode serving as a pure surface is provided with a device is provided for radiant heating.

Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the electrode serving as a pure surface is provided with a device for electron bombardment.

Vfikuummeßeinrichtung according to one of the preceding claims, and characterized in that the electrode serving as a clean surface is provided with a device for ion bombardment.

'. · ..I.uum measuring device according to one of the preceding claims, ; ι: iich characterized that serving as a pure surface electrode : -a device for irradiation with electromagnetic ■.; Ilör. is provided.

809307/0318

- Io - 637/64

Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the electrode serving as a clean surface is provided with a device for vapor deposition with a metal layer is provided.

Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that characterized in that the electrode serving as a clean surface has a bias voltage with respect to the electron-emitting one Has electrode.

Vacuum measuring device according to claim 19, characterized in that the preload is variable.

Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that characterized in that between the electron-emitting electrode and the electrode serving as a pure surface there is another is arranged as a diaphragm electrode.

Vacuum measuring device according to Claim 21, characterized in that the electrode serving as a diaphragm has a variable bias voltage has opposite the electron-emitting electrode.

Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized by a magnetic field in the direction of the line connecting the two electrodes.

. Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that characterized in that the electron-emitting electrode is single crystal.

.Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, characterized characterized in that the electrode serving as a clean surface is single crystal.

Vacuum measuring device according to one of the preceding claims, daduroh characterized in that the electron-emitting electrode and the electrode insulating as a pure surface are made up of the same Material,

BATH ORIGINAL

8OS80 7/03 13