DE1302045B - Process for the production of thin magnetizable layers - Google Patents

Process for the production of thin magnetizable layers

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DE1302045B
DE1302045B DES87860A DES0087860A DE1302045B DE 1302045 B DE1302045 B DE 1302045B DE S87860 A DES87860 A DE S87860A DE S0087860 A DES0087860 A DE S0087860A DE 1302045 B DE1302045 B DE 1302045B
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electrically conductive
film
base
layer
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Dr-Ing Joachim
Kleffner
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Vigoureux
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Siemens Corp
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Siemens Corp
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Description

1 21 2

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstel- Knospen- und Wulstbildung auf einfachere Weise zu lung einer dünnen magnetisierbaren Schicht auf einer vermeiden, um zu gleichmäßig dicken und glatten Grundplatte mit extrem glatter Oberfläche, bei dem Metallgrundplatten zu gelangen,
nach der Hauptpatentanmeldung eine metallische Diese Aufgabe wird für ein wie eingangs umGrundplatte verwendet wird, die durch elektro- 5 rissenes Verfahren erfindungsgemäß dadurch gelöst, lyrische Abscheidung des Materials der Grundplatte daß vor der Durchführung der elektrolytischen Abauf der extrem glatten, elektrisch leitfähig gemachten scheidung des Materials der Grundplatte auf der Oberfläche einer Unterlage aus Glas oder Kunststoff elektrisch leitfähig gemachten Oberfläche eine Folie und anschließende Ablösung von dieser Unterlage aus elektrisch schlecht leitfähigem Material streifenhergestellt ist. ίο förmig derart angeordnet wird, daß diese Folie einen Die metallische Grundplatte dient nach dem Auf- rahmenartig umschlossenen Bereich der elektrisch tragen der magnetisierbaren Schichten gleichzeitig leitfähig gemachten Oberfläche für die herzustellende als Rückleitung für die zusätzlich auf dieser Anord- Grundplatte frei läßt und außerhalb des Rahmens nung aufgetragenen elektrischen Leitungsbahnen. noch ein unabgedeckter, vom elektrischen Strom des Diese sind z.B. isoliert von dem Grundplattenmate- 15 Galvanikbades erfaßbarer Streifen der elektrisch leitrial über die magnetisierbaren Schichten hinweg- fähig gemachten Oberfläche verbleibt,
geführt und nur an einem Plattenende mit der Der außerhalb des Rahmens gelegene elektrisch Grundplatte kontaktiert. Die dünnen magnetisier- leitfähige Streifen wirkt so wie eine Blende und führt baren Schichten können beispielsweise durch Auf- zu einer homogenen Stromdichte während des GaI-dampfen, Aufstäuben oder elektrolytisch auf die ao vanisierens in dem durch die Folienstreifen um-Metallgrundplatte aufgebracht sein. Durch die An- grenzten Bereich. Nach dem Befestigen der Folienwendung von Masken oder durch Anwendung des streifen erfolgt die Verstärkung im Galvanikbad auf Fotoätzverfahrens kann die dünne magnetisierbare die gewünschte Metallschichtdicke. Anschließend Schicht in einzelne Flecken aufgeteilt werden. werden die Schichten von der Unterlage entfernt und Die Grundplatte wird gemäß der Hauptpatent- 35 die Metallgrundplatte derart beschnitten, daß die anmeldung auf einer extrem glatten Unterlage, bei- während des Galvanisierens von den Folienstreifen spielsweise auf Glas oder Kunststoff, aufgetragen überdeckten Bereiche abgetrennt sind. Nunmehr und die derart hergestellte Grundplatte anschließend steht die Metallgrundplatte als gleichmäßig dicke von der Unterlage gelöst. Auf die während der und an einer Seite auch extrem glatte Schicht für die Grundplattenherstellung der Unterlage zugewandte, 30 Auftragung der dünnen magnetisierbaren Schichten außerordentlich glatte Seite der Grundplatte werden zur Verfügung. Es ist besonders vorteilhaft, als Folie anschließend die magnetisierbaren Schichten aufge- ein Kunststoffklebeband zu verwenden,
tragen. Die für die dünnen magnetisierbaren Schich- An Hand der Beispiele darstellenden F i g. 1 bis 4 ten dienende Grundplatte stellt also einen Abklatsch ist die Erfindung näher erläutert,
der Unterlagenoberseite dar. 35 In F i g. 1 ist der Schnitt durch eine Anordnung Der Vorteil eines derartigen Verfahrens besteht dargestellt, bei der eine Glasscheibe 1 mit einer darin, daß die dünnen magnetisierbaren Schichten Silberschicht 2 chemisch versehen ist. Nach der auf einer außerordentlich glatten Metallunterlage chemischen Versilberung, die beispielsweise nach der aufgetragen werden können, während seither die in der Zusatzpatentanmeldung P 13 00 413.2-45 vorOberflächen von Metallgrundplatten auch nach 40 geschlagenen Art vorgenommen werden kann, wurde außerordentlich feiner Bearbeitung, z. B. Schleifen, die galvanische Verstärkung mit Kupfer bis zu einer Polieren, Läppen od. dgl., noch Rauhtiefen auf- Schichtdicke von etwa 50 μ begonnen. In diesem Zuwiesen, die in der Größenordnung der aufzutragen- stand ist über die Kante der auf der Unterlage beden Schichten, z. B. von etwa 1000 Ä, lagen. reits niedergeschlagenen Kupferschicht 3 eine Klebe-Die Herstellung der Grundplatte für die dünnen 45 band 4 aus Isoliermaterial gelegt. In einem Abstand magnetisierbaren Schichten erfolgt gemäß der Haupt- von etwa 3 bis 4 mm von diesem Klebeband 4 wird Patentanmeldung im allgemeinen durch Metallisieren ein weiteres Kunststoffklebeband 5 auf der Kupferder Plattenunterlage mit Kupfer oder Silber. So wird schicht 3 befestigt. Nunmehr erfolgt die Fortsetzung beispielsweise eine Glasscheibe chemisch versilbert. der galvanischen Verstärkung, wobei infolge der Diese dünne Silberschicht dient anschließend als 5° offen liegenden, blendenartig wirkenden äußeren Basis zur elektrolytischen Abscheidung einer dicke- Kupferstreifen 6 eine homogene Stromlinienverteiren Kupferschicht, die der Metallunterlage erst die lung in dem durch die Kunststoffklebebänder 5 begenügende Stabilität verleiht. grenzten Bereich 3 a vorhanden ist.
The invention relates to a method for the production of buds and bulges in a simpler way to avoid a thin magnetizable layer on one, in order to get to evenly thick and smooth base plate with an extremely smooth surface, in which metal base plates,
According to the main patent application, a metallic This object is used for a baseplate as described at the beginning, which is achieved according to the invention by electrifying the material of the baseplate by lyrical deposition of the material of the baseplate that the extremely smooth, electrically conductive separation of the material is made prior to the implementation of the electrolytic process the base plate on the surface of a base made of glass or plastic is made electrically conductive surface a film and subsequent detachment from this base made of electrically poorly conductive material is made in strips. The metallic base plate is used after the frame-like enclosed area of the electrically carrying the magnetizable layers at the same time made conductive surface for the surface to be produced as a return line for the additionally on this arrangement base plate and leaves free outside the frame voltage applied electrical conductor paths. another uncovered strip, which is insulated from the electrical current of the electroplating bath and which can be covered by the base plate material, remains electrically conductive over the magnetizable layers,
guided and only contacted at one end of the plate with the electrical base plate located outside the frame. The thin magnetisable conductive strip acts like a screen and leadable layers can for example be applied to a homogeneous current density during the GaI vaporization, sputtering or electrolytically on the ao vanisierens in the foil strip around the metal base plate. Through the adjoining area. After attaching the foil turn of masks or by applying the strip, the reinforcement is carried out in the electroplating bath on photo-etching process, the thin magnetizable the desired metal layer thickness. Subsequently, the layer can be divided into individual spots. the layers are removed from the base and the base plate is trimmed according to the main patent 35 the metal base plate in such a way that the registration is separated on an extremely smooth base, during the electroplating of the film strips for example on glass or plastic, covered areas are separated. Now and then the base plate produced in this way, the metal base plate is detached from the base as a uniform thickness. The application of the thin magnetizable layers on the extremely smooth side of the base plate, which is also extremely smooth during and on one side, is available for the base plate production of the base. It is particularly advantageous to then use the magnetizable layers on a plastic adhesive tape as the film,
wear. For the thin, magnetizable layers, F i g. 1 to 4 th serving base plate is a copy, the invention is explained in more detail,
the top of the document. 35 In F i g. 1 shows the section through an arrangement. The advantage of such a method is shown in which a glass pane 1 is chemically provided with a silver layer 2, in that the thin magnetizable layers. After the chemical silver plating on an extremely smooth metal base, which can be applied, for example, after, while since then the in the additional patent application P 13 00 413.2-45 can be made in front of metal base plates also after 40 struck type, extremely fine processing, z. B. grinding, galvanic reinforcement with copper up to a polishing, lapping od. In this allocation, which is in the order of magnitude of the amount to be applied, is over the edge of the layers on the base, e.g. B. of about 1000 Å, were. already deposited copper layer 3 an adhesive-Die production of the base plate for the thin 45 band 4 laid out of insulating material. At a distance from magnetizable layers, according to the main one of about 3 to 4 mm from this adhesive tape 4, a further plastic adhesive tape 5 is generally metallized on the copper of the plate substrate with copper or silver. So layer 3 is attached. The continuation now takes place, for example, a pane of glass chemically silvered. This thin silver layer then serves as a 5 ° exposed, diaphragm-like outer base for the electrolytic deposition of a thick copper strip 6, a homogeneous streamlined copper layer, which gives the metal base sufficient stability due to the plastic adhesive tapes 5 . bordered area 3 a is available.

Es hat sich nun gezeigt, daß bei der galvanischen In den F i g. 2 und 3 ist eine erfindungsgemäß her-Verstärkung infolge ungleicher Stromdichten so- 55 gestellte Anordnung dargestellt, bei der, ausgehend genannte Knospen oder Wülste an den Ecken und von der in Fig. 1 angegebenen Anordnung, die Rändern der Metallplatten entstehen. Um derartige Kupferschicht 3 zu einer Schichtdicke von etwa lmm unerwünschte Effekte auszuschließen, ist es bei verstärkt ist. In F i g. 2 ist eine Aufsicht auf diese anderen galvanischen Niederschlagsverfahren be- Anordnung und in der Fig. 3 ein SchnittI-I dieser kannt, während des Galvanisierens mit der Kathode 60 Aufsicht gezeigt. Aus dieser Aufsicht geht hervor, leitend verbundene Blenden, insbesondere aus Me- daß durch die Befestigung der Folienstreifen 5 auf tall, an den Rändern der zu galvanisierenden Fläche den untersten Teilen der Kupferschicht 3 ein Rahanzubringen. Diese Blenden sind beispielsweise in men gebildet wird, der die äußeren Kupferschichtder Art eines Rahmens ausgebildet, wobei auf eine teile 6 von den inneren Kupferschichtteilen 3 α trennt, gute Auflage der Blenden auf der zu metallisierenden 65 Die äußeren Kupferschichtteile 6 dienen während Platte zu achten ist. Nach der Abscheidung werden der galvanischen Verstärkung als sogenannte Blende, diese Blenden wieder entfernt und gereinigt. Nunmehr kann der Kantenklebestreifen 4 mit den Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, die darunterliegenden Schichtteilen durch ein Schneid-It has now been shown that in the galvanic In FIGS. 2 and 3 is a her reinforcement according to the invention as a result of unequal current densities, the arrangement is shown in which, starting from called buds or bulges at the corners and from the arrangement indicated in Fig. 1, the Edges of the metal plates arise. To such a copper layer 3 to a layer thickness of about 1mm To rule out unwanted effects, it is when it is amplified. In Fig. 2 is a top view of this other galvanic deposition processes are arrangement and in FIG. 3 a section I-I of this knows, shown during the electroplating with the cathode 60 top view. This supervision shows Conductively connected diaphragms, in particular made of metal, that by the attachment of the film strips 5 on tall, at the edges of the surface to be electroplated the lowermost parts of the copper layer 3 to attach a frame. These screens are formed, for example, in the outer layer of copper Kind of a frame formed, with a part 6 separating α from the inner copper layer parts 3, good support of the panels on the 65 to be metallized. The outer copper layer parts 6 are used during Plate is to be observed. After the deposition, the galvanic reinforcement is used as a so-called aperture, these panels removed and cleaned. Now the edge tape 4 with the The object of the invention is to remove the underlying layer parts by a cutting

werkzeug 7 aufgeschnitten und die metallische Schicht von der Glasunterlage entfernt werden. Anschließend erfolgt das Abschneiden der äußeren, nicht mehr benötigten Randteile etwa längs der inneren Begrenzungslinie der Folienstreifen 5, so daß nunmehr die inneren Schichtteile 3 a der Metallgrundplatte für die Abscheidung der dünnen magnetisierbaren Schichten zur Verfügung stehen.tool 7 cut open and the metallic layer removed from the glass substrate. Subsequently, the cutting of the outer edge parts are no longer needed carried about, so that now the inner layer parts 3 a of the metal base plate for deposition of the thin magnetizable layers are provided along the inner boundary line of the foil strip. 5

In der F i g. 4 ist dargestellt, wie die dünnen magnetisierbaren Schichtteile 8 auf die extrem glatte, vordem der Glasunterlage zugewandte Metallschichtseite nach einem der bekannten Verfahren aufgetragen sind. Falls die Bildung von schädlichen Zwischenschichten aus Oxiden, Sulfiden od. dgl. auf der extrem glatten Metallplattenseite verhindert werden soll, ist es vorteilhaft, die gesamte Metallplatte vor dem Auftragen der magnetisierbaren Schichten gemäß der Lehre der Zusatzpatentanmeldung P 13 00 413.2-45 mit einer Goldschicht zu überziehen. In der F i g. 4 ist diese Goldschicht 9 ge- ao strichelt angedeutet, wobei diese Goldschicht 9 auch zwischen der dünnen Silberschicht 2 und der magnetisierbaren Schicht 8 verläuft.In FIG. 4 shows how the thin magnetizable layer parts 8 on the extremely smooth, previously applied to the metal layer side facing the glass substrate by one of the known methods are. If the formation of harmful intermediate layers of oxides, sulfides or the like. On the If extremely smooth metal plate side is to be prevented, it is advantageous to have the entire metal plate in front applying the magnetizable layers according to the teaching of the additional patent application P 13 00 413.2-45 to be covered with a layer of gold. In FIG. 4 this gold layer 9 is ge ao indicated by dashed lines, this gold layer 9 also between the thin silver layer 2 and the magnetizable Layer 8 runs.

Claims (3)

Patentansprüche: a5Claims: a5 1. Verfahren zur Herstellung einer dünnen magnetisierbaren Schicht auf einer Grundplatte mit extrem glatter Oberfläche, bei dem nach der Hauptpatentanmeldung P12 92 991.8-45 eine metallische Grundplatte verwendet wird, die durch elektrolytische Abscheidung des Materials der Grundplatte auf der extrem glatten, elektrisch leitfähig gemachten Oberfläche einer Unterlage aus Glas oder Kunststoff und anschließende Ablösung von dieser Unterlage hergestellt ist, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Durchführung der elektrolytischen Abscheidung des Materials der Grundplatte auf der elektrisch leitfähig gemachten Oberfläche eine Folie aus elektrisch schlecht leitfähigem Material streifenförmig derart angeordnet wird, daß diese Folie einen rahmenartig umschlossenen Bereich der elektrisch leitfähig gemachten Oberfläche für die herzustellende Grundplatte frei läßt und außerhalb des Rahmens noch ein unabgedeckter, vom elektrischen Strom des Galvanikbades erfaßbarer Streifen der elektrisch leitfähig gemachten Oberfläche verbleibt.1. Process for the production of a thin magnetizable layer on a base plate with an extremely smooth surface, in which, according to the main patent application P12 92 991.8-45, a metallic base plate is used, made by electrodeposition of the material the base plate on the extremely smooth, electrically conductive surface of a base is made of glass or plastic and is subsequently detached from this base, characterized in that before the electrodeposition is carried out of the material of the base plate on the surface made electrically conductive from a film electrically poorly conductive material is arranged in strips in such a way that this film a frame-like enclosed area of the surface made electrically conductive for the base plate to be produced leaves free and outside the frame still an uncovered, from electric current of the electroplating bath detectable strips of the surface made electrically conductive remains. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Folie ein Kunststoffklebeband verwendet wird.2. The method according to claim 1, characterized in that the film is a plastic adhesive tape is used. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage chemisch versilbert, danach galvanisch auf etwa 50 μ Schichtdicke verstärkt, nunmehr zunächst am Rand zur Abdeckung der Kanten und dann innerhalb der verbleibenden Fläche im Abstand von einigen Millimetern von der Kantenabdeckung mit einer einige Millimeter breiten Kunststoffolie beklebt und anschließend auf eine Schichtdicke von etwa 1 mm galvanisch verstärkt wird.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the substrate is chemically silvered, then galvanically reinforced to a layer thickness of about 50 μ, now initially at the edge for Cover the edges and then within the remaining area a few apart A few millimeters wide plastic film pasted millimeters from the edge cover and then galvanically reinforced to a layer thickness of about 1 mm. Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0399943A1 (en) * 1989-05-26 1990-11-28 United Technologies Corporation Net size electroforming

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0399943A1 (en) * 1989-05-26 1990-11-28 United Technologies Corporation Net size electroforming

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