DE1255492B - Contact grid for reproduction purposes and process for its manufacture - Google Patents

Contact grid for reproduction purposes and process for its manufacture

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Publication number
DE1255492B
DE1255492B DEM57522A DEM0057522A DE1255492B DE 1255492 B DE1255492 B DE 1255492B DE M57522 A DEM57522 A DE M57522A DE M0057522 A DEM0057522 A DE M0057522A DE 1255492 B DE1255492 B DE 1255492B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
grid
density
lines
surface elements
diaphragm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DEM57522A
Other languages
German (de)
Inventor
Herbert Middlemiss
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WH Howson Ltd
Original Assignee
WH Howson Ltd
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Publication date
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Publication of DE1255492B publication Critical patent/DE1255492B/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F5/00Screening processes; Screens therefor
    • G03F5/14Screening processes; Screens therefor by contact methods
    • G03F5/16Screening processes; Screens therefor by contact methods using grey half-tone screens

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

DEUTSCHES GERMAN WTTWl- WTTWl- PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

DeutscheKl.: 57 d-8/02 German class: 57 d- 8/02

Nummer: 1 255 492Number: 1 255 492

Aktenzeichen: M 57522IX a/57 dFile number: M 57522IX a / 57 d

J 255492 Anmeldetag: 17.Juli 1963J 255492 Filing date: July 17, 1963

Auslegetag: 30. November 1967Open date: November 30, 1967

Die Erfindung betrifft einen Kontaktraster für Reproduktionszwecke und ein bevorzugtes Verfahren zu seiner Herstellung.The invention relates to a contact grid for reproduction purposes and a preferred method for its manufacture.

Es sind Kontaktraster für Reproduktionszwecke bekannt, welche ein Linienmuster aus einzelnen Punkten aufweisen, die jeweils die Form eines zentralen Kernes mit einem Mittelpunkt maximaler Dichte haben. Bei diesen bekannten Kontaktrastern ist die Schärfe der Reproduktion von der Anzahl der Rasterpunkte pro Flächeneinheit abhängig.There are contact grids for reproduction purposes known, which a line pattern from individual Have points, each of which has the shape of a central core with a center point of maximum Have density. With these known contact grids, the sharpness of the reproduction depends on the number of Grid points per unit area dependent.

Die Erfindung hat die Schaffung eines Kontaktrasters für Reproduktionszwecke zum Ziel, welcher bei gleicher Anzahl von Rasterpunkten pro Flächeneinheit eine schärfere Wiedergabe als die bekannten Kontaktraster gewährleistet.The invention aims to provide a contact screen for reproduction purposes, which with the same number of grid points per unit area, a sharper reproduction than the known ones Contact grid guaranteed.

Hierzu sieht die Erfindung vor, daß die Punkte des Rasters einen zentralen Kern hoher Dichte aufweisen, der von einem schachbrettartigen Muster umgeben ist, in welchem Flächenelemente minimaler Dichte mit Flächenelementen abwechseln, deren Dichte mit wachsendem Abstand von dem zentralen Kern abnimmt. Die Rasterpunkte des erfindungsgemäßen Kontaktrasters weisen also eine Feinstruktur auf, die bei der Reproduktion von Linienelementen insofern von Vorteil ist, als die im gerasterten Bild erzeugten Rasterpunkte in Richtung des Linienelementes deformiert sind und dieses somit schärfer wiedergeben als die mit einem herkömmlichen Kontaktraster erzeugten, in ihrer Form durch ein wiederzugebendes Linienelement nicht merklich beeinflußten Rasterpunkte. Bevorzugt ist die Ausbildung des erfindungsgemäßen Kontaktrasters so, daß in der Mitte jedes von vier benachbarten Rasterpunkten gebildeten Quadrats eine zusammenhängende Fläche minimaler Dichte liegt, die eine Mehrzahl von Flächenelementen umfaßt. Vorzugsweise umfaßt auch der zentrale Kern eine Mehrzahl von Flächenelementen. For this purpose, the invention provides that the points of the grid have a central core of high density, which is surrounded by a checkerboard pattern in which surface elements of minimal density alternate with surface elements, the density of which decreases with increasing distance from the central core. The grid points of the contact grid according to the invention thus have a fine structure, which is advantageous in the reproduction of line elements as it is in the rasterized image generated grid points are deformed in the direction of the line element and thus sharper reproduced than those generated with a conventional contact grid, in their shape by a reproduced Line element not noticeably influenced grid points. Training is preferred of the contact grid according to the invention so that in the middle each of four adjacent grid points formed square is a contiguous area of minimum density, which is a plurality of Includes surface elements. The central core preferably also comprises a plurality of surface elements.

Die Erfindung hat auch ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Kontaktrasters mit Hilfe einer beleuchteten Lochblende und eines im Abstand von einer lichtempfindlichen Schicht angeordneten Kreuzlinienrasters zum Gegenstand. Dieses Verfahren verläuft erfindungsgemäß derart, daß in einem Belichtungsschritt eine Lochblende verwendet wird, die wenigstens eine zentrale, größere öffnung und eine Vielzahl kleiner Öffnungen aufweist, und daß in einem zweiten Belichtungsschritt eine Blende verwendet wird, die eine Anzahl von Öffnungen in Form von konzentrischen Banden aufweist, deren Breite von der Mitte zu den Rändern der Blende abnimmt.The invention also has a method for producing such a contact grid with the aid of a illuminated pinhole and a cross-line grid arranged at a distance from a light-sensitive layer to the subject. According to the invention, this method takes place in one exposure step a perforated diaphragm is used, which has at least one central, larger opening and one Has a plurality of small openings, and that a diaphragm is used in a second exposure step which has a number of openings in the form of concentric bands, their Width decreases from the center to the edges of the bezel.

Kontaktraster für Reproduktionszwecke
und Verfahren zu seiner Herstellung
Contact grid for reproduction purposes
and its method of manufacture

Anmelder:Applicant:

Herbert Middlemiss,Herbert Middlemiss,

Nottingham, Nottinghamshire;Nottingham, Nottinghamshire;

W. H. Howson Limited,W. H. Howson Limited,

Leeds, Yorkshire (Großbritannien)Leeds, Yorkshire (UK)

Vertreter:Representative:

Dr. W. Müller-Bore und Dipl.-Ing. H. Gralfs,
Patentanwälte, München 22, Robert-Koch-Str. 1
Dr. W. Müller-Bore and Dipl.-Ing. H. Gralfs,
Patent Attorneys, Munich 22, Robert-Koch-Str. 1

Als Erfinder benannt:
Herbert Middlemiss,
Named as inventor:
Herbert Middlemiss,

Nottingham, Nottinghamshire (Großbritannien)Nottingham, Nottinghamshire (UK)

Beanspruchte Priorität:Claimed priority:

Großbritannien vom 17. Juli 1962 (27 340)Great Britain 17 July 1962 (27,340)

Die Erfindung wird im folgenden beispielsweise an Hand der Zeichnung beschrieben; in dieser zeigtThe invention is described below, for example, with reference to the drawing; in this shows

Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Ausschnittes eines Kontaktrasters gemäß der Erfindung,1 shows a schematic representation of a section of a contact grid according to the invention,

F i g. 2 einen etwas vergrößerten Ausschnitt des in F i g. 1 dargestellten Rasters,F i g. 2 shows a somewhat enlarged section of the FIG. 1 grid shown,

F i g. 3 ein Diagramm der Dichteverteilung jedes Rasterpunktes in Abhängigkeit von seiner Breite,F i g. 3 shows a diagram of the density distribution of each raster point as a function of its width,

F i g. 4 eine schematische perspektivische Wiedergabe der Anordnung zur Erzeugung eines erfindungsgemäßen Rasters beim ersten Belichtungsschritt,F i g. 4 is a schematic perspective representation of the arrangement for producing one according to the invention Raster at the first exposure step,

F i g. 5 eine der F i g. 4 entsprechende Darstellung zur Veranschaulichung der Bildung mehrerer Rasterpunkte undF i g. 5 one of the F i g. 4 corresponding representation to illustrate the formation of several grid points and

Fig. 6 eine schematische perspektivische Darstellung der beim zweiten Belichtungsschritt verwendeten Anordnung.Fig. 6 is a schematic perspective illustration of those used in the second exposure step Arrangement.

Fig. 1 zeigt einen Ausschnitt eines erfindungsgemäßen Kontaktrasters. Jeder Rasterpunkt weist einen zentralen KernE auf, der von einer Anzahl rechteckiger Flächenelemente F umgeben ist. Die Dichte des zentralen Kernes und der Flächenelemente F nimmt mit wachsender Entfernung von dem Mittelpunkt des zentralen Kernes ab. Diese Abnahme ist in der Schwarzweißzeichnung nicht erkennbar; in Wirklichkeit hat jedoch das Flächenelement an jeder Ecke eines Rasterpunktes eine derart geringeFig. 1 shows a section of a contact grid according to the invention. Each grid point has a central core E, which is surrounded by a number of rectangular surface elements F. The density of the central core and the surface elements F decreases with increasing distance from the center of the central core. This decrease cannot be seen in the black and white drawing; in reality, however, the surface element at each corner of a grid point is so small

709 690/306709 690/306

Claims (2)

Dichte, daß er nicht reproduziert wird, so daß Bereiche minimaler Dichte mit gleicher Gestalt wie die zentralen Kerne zwischen benachbarten Rasterpunkten vorliegen. Die Dichteverteilung eines Punktes El gemäß dem Schnitt 3-3 in F i g. 2 ist in F i g. 3 gezeigt. Jedes der Flächenelemente ist durch ein Bezugszeichen B 3 bis B 9 angedeutet. Der zentrale Kern setzt sich aus den drei FlächenelementenB3, B4 und 55 zusammen. Er ist auf dem Raster praktisch undurchsichtig. Das Flächenelement B 4 bildet den Mittelpunkt maximaler Dichte. Die Flächenelemente B 6 und B1 liegen zu beiden Seiten des zentralen Kernes. Ihre Dichte ist erheblich geringer als die des zentralen Kernes selbst. Die Flächenelemente B 8 und B 9 haben wiederum eine geringere Dichte. Man erkennt, daß die Dichteverteilung zwischen jedem dieser Flächenelemente ein Minimum aufweist. Diese Dichteverteilung ist wesentlich für die Wirksamkeit des Rasters. Fig. 2 veranschaulicht, wie das Muster durch ao Zuordnung zweier Grundmuster von Punkten und Flächenelementen erzielt wird, von denen das eine mehr Linien pro Längeneinheit und Flächenelemente von geringerer Fläche hat als das andere, dessen Punkte den Kernen der Rasterpunkte entsprechen. Bei dem Raster nach F i g. 2 sind mit A und A1 bzw. C und Cl zwei der weiter entfernten Linien bezeichnet, von denen 133 pro Zoll (54 Linien/cm) vorliegen. Die bei A, Al angedeuteten Linien werden im rechten Winkel von den gleichen Abstand aufweisenden Linien C, Cl geschnitten. Die Linien C, Cl, A, Al schneiden sich in PunktenE, El, El, £3. Die den Orten maximaler Dichte entsprechenden Zentren der Punkte der einen größeren Abstand aufweisenden Linien liegen also bei E, El, E2, E3. Diesem durch die Linien C, Cl, A, Al angedeuteten Grundraster ist die zweite Rasteranordnung überlagert, weiche aus einen engeren Abstand aufweisenden Linien und Flächenelementen von wesentlich geringerer Fläche als die Rasterpunkte aufgebaut ist. Die zweite Rasteranordnung weist 931 Linien pro Zoll (375 Linien/cm) auf. Acht dieser Linien sind mit F bis F 7 bezeichnet. Acht der senkrecht zu den Linien F bis Fl angeordneten Linien sind mit H bis H 7 bezeichnet. Die Linien des größeren Rasters (z. B. A, Al, C, Cl) fallen jeweils mit Linien des kleineren Rasters (z. B. F, F7, H, H7) zusammen. Die Flächenelemente der einen engen Abstand aufweisenden Linien ergeben zusammen die Dichte-Schattierung, die normalerweise einen vignettierten Rasterpunkt auf einem Raster mit 133 Linien pro Zoll umgibt, wobei, obwohl im großen eine allmähliche Schattierung von einem Punkt zum nächsten vorliegt, ein Dichteminimum zwischen zwei benachbarten Flächenelementen vorhanden ist. Der in den Fig. 1, 2 und 3 dargestellte Raster kann durch Anwendung der in den Fig. 4 bis 6 gezeigten Anordnungen hergestellt werden. Nach F i g. 4 fällt das Licht einer Lichtquelle K durch eine Blende L, die aus einer undurchsichtigen, mit einem Muster von Öffnungen versehenen Platte besteht. Diese Löcher entsprechen den umgebenden Flächenelementen und dem Kern eines einzigen Rasterpunktes auf dem Kontaktraster. In Fig. 4 sind mit B3' bis B 9' diejenigen öffnungen der Blende bezeichnet, welche die Flächenelemente B 3 bis B 9 nach F i g. 2 erzeugen. Ein Teil eines Kreuzlinienrasters, z. B. eines photographischen Rasters, ist bei M wiedergegeben. Das Muster, das auf das lichtempfindliche Material projiziert wird, ist mit N bezeichnet. In dieser Figur ist zwischen den Linien des photographischen Rasters M eine der Öffnungen angedeutet. Es ist zu erkennen, daß das Muster von der BlendeL durch die dargestellte Öffnung in dem RasterM auf das lichtempfindliche Material übertragen wird. Da in dem photographischen Raster M tatsächlich eine Mehrzahl von Öffnungen gemäß F i g. 5 vorgesehen ist, werden entsprechend viele Muster bei N projiziert. Zur Vereinfachung ist in Fig. 5 nur die zentrale Öffnung der Blende L, die B 4 entspricht, gezeigt. Wenn also genügend viele Öffnungen in dem RasterM vorgesehen sind, kann ein Kontaktraster der gewünschten Größe erzeugt werden. Das auf diese Weise in dem lichtempfindlichen Material erzeugte latente Bild zeigt jedoch noch nicht die erforderliche Dichteverteilung der Flächenelemente von dem Kern zum Rand jedes Rasterpunktes. Es wird daher zunächst mit geringer Dichte hergestellt und anschließend durch den im folgenden beschriebenen zweiten Belichtungsschritt abermals belichtet, wobei die Dichteverteilung der Flächenelemente gemäß Fig. 3 hergestellt wird. Um die Dichte der Flächenelemente gemäß F i g. 3 zu erhalten, wird der Film im Anschluß an den ersten Belichtungsschritt an seiner Stelle belassen, und die BlendeL nach Fig. 4 wird durch eine BlendeO gemäß F i g. 6 ersetzt. Diese Blende O ist mit einer Reihe von Öffnungen in Form von konzentrischen Banden P versehen, deren Breite von der Mitte zu den Rändern der Blende abnimmt. Außerdem ist diese Blende um die optische Achse um einen Winkel von 45° gegenüber der Lage der Blende L verdreht, so daß, wenn Licht durch die zweite Blende auf den Raster M fällt, sich der Grundstruktur auf dem lichtempfindlichen Material ein Bild geringer Dichte von einem Punkt überlagert, welcher einem normalen Rasterpunkt eines 133-Linien-Rasters mit normaler Vignettierung entspricht. Auf diese Weise wird die Dichteverteilung der Flächenelemente gemäß F i g. 3 erzielt, und die Dichteminima zwischen den Punkten B3, B4 und B5 nach Fig. 3 werden beträchtlich angehoben, um den zentralen Kern zu bilden, welcher ein Zentrum maximaler Dichte und Seiten abnehmender Dichte aufweist. In Fig. 6 sind die Punkte eines 133-Linien-Rasters von normaler Vignettierung bei Q angedeutet. Selbstverständlich kann der erfindungsgemäße Raster auch auf andere Weise hergestellt werden; insbesondere ist es möglich, die Blende L so auszubilden, daß sie mehr als einen Grundpunkt umfaßt. Auch kann der Kontaktraster in jeder gewünschten Farbe erzeugt werden. Patentansprüche:Density so that it is not reproduced, so that there are areas of minimum density with the same shape as the central cores between adjacent raster points. The density distribution of a point E1 according to section 3-3 in FIG. 2 is in FIG. 3 shown. Each of the surface elements is indicated by a reference symbol B 3 to B 9. The central core is made up of the three surface elements B3, B4 and 55. It is practically opaque on the grid. The surface element B 4 forms the center of maximum density. The surface elements B 6 and B1 are on both sides of the central core. Their density is considerably lower than that of the central core itself. The surface elements B 8 and B 9 in turn have a lower density. It can be seen that the density distribution between each of these surface elements has a minimum. This density distribution is essential for the effectiveness of the screen. 2 illustrates how the pattern is achieved by assigning two basic patterns of points and surface elements, one of which has more lines per unit length and surface elements of smaller area than the other, whose points correspond to the cores of the raster points. In the grid according to FIG. 2, A and A1 and C and Cl respectively denote two of the more distant lines, of which there are 133 per inch (54 lines / cm). The lines indicated at A, A1 are intersected at right angles by lines C, C1 which are equally spaced. The lines C, Cl, A, Al intersect at points E, El, El, £ 3. The centers of the points of the lines having a greater distance, corresponding to the locations of maximum density, are therefore at E, El, E2, E3. This basic grid, indicated by the lines C, C1, A, A1, is superimposed on the second grid arrangement, which is made up of lines and surface elements that are more closely spaced and have a significantly smaller area than the grid points. The second grid arrangement has 931 lines per inch (375 lines / cm). Eight of these lines are labeled F to F 7. Eight of the lines arranged perpendicular to the lines F to F1 are denoted by H to H 7. The lines of the larger grid (e.g. A, Al, C, Cl) coincide with the lines of the smaller grid (e.g. F, F7, H, H7). The surface elements of the closely spaced lines together make up the density shading that normally surrounds a vignetted halftone dot on a 133 lines per inch screen, with, although generally gradual shading from one point to the next, a density minimum between two adjacent ones Surface elements is available. The grid shown in FIGS. 1, 2 and 3 can be produced by using the arrangements shown in FIGS. According to FIG. 4, the light from a light source K passes through a diaphragm L, which consists of an opaque plate provided with a pattern of openings. These holes correspond to the surrounding surface elements and the core of a single grid point on the contact grid. In FIG. 4, B3 'to B 9' denote those openings of the diaphragm which the surface elements B 3 to B 9 according to FIG. 2 generate. Part of a cross line grid, e.g. B. a photographic grid is shown at M. The pattern projected on the photosensitive material is denoted by N. In this figure, one of the openings is indicated between the lines of the photographic grid M. It can be seen that the pattern is transferred from the diaphragm L through the illustrated opening in the raster M onto the photosensitive material. Since in the photographic grid M actually a plurality of openings as shown in FIG. 5 is provided, a corresponding number of patterns are projected at N. For the sake of simplicity, only the central opening of the diaphragm L, which corresponds to B 4, is shown in FIG. 5. If a sufficient number of openings are provided in the grid M, a contact grid of the desired size can be produced. However, the latent image produced in this way in the photosensitive material does not yet show the required density distribution of the surface elements from the core to the edge of each raster point. It is therefore first produced with a low density and then exposed again by the second exposure step described below, the density distribution of the surface elements according to FIG. 3 being produced. In order to determine the density of the surface elements according to FIG. 3, the film is left in place following the first exposure step, and the diaphragm L according to FIG. 4 is replaced by a diaphragm O according to FIG. 6 replaced. This diaphragm O is provided with a series of openings in the form of concentric bands P, the width of which decreases from the center to the edges of the diaphragm. In addition, this diaphragm is rotated about the optical axis at an angle of 45 ° with respect to the position of the diaphragm L, so that when light falls through the second diaphragm on the grid M, the basic structure on the photosensitive material is a low density image of a Superimposed point, which corresponds to a normal grid point of a 133-line grid with normal vignetting. In this way, the density distribution of the surface elements according to FIG. 3 is achieved and the density minima between points B3, B4 and B5 of Fig. 3 are increased considerably to form the central core which has a center of maximum density and sides of decreasing density. The points of a 133-line grid of normal vignetting at Q are indicated in FIG. Of course, the grid according to the invention can also be produced in other ways; In particular, it is possible to design the diaphragm L so that it comprises more than one base point. The contact grid can also be produced in any desired color. Patent claims: 1. Kontaktraster für Reproduktionszwecke, dadurch gekennzeichnet, daß die Punkte des Rasters einen zentralen Kern hoher Dichte aufweisen, der von einem schachbrettartigen Muster umgeben ist, in welchem Flächenelemente minimaler Dichte mit Flächenelementen abwechseln, deren Dichte mit wachsendem Abstand von dem zentralen Kern abnimmt.1. Contact grid for reproduction purposes, characterized in that the points of the grid have a high-density central core formed by a checkerboard Pattern is surrounded in which surface elements of minimal density alternate with surface elements, whose density decreases with increasing distance from the central core. 2. Kontaktraster nach Anspruch 1 mit quadratisch angeordneten Rasterpunkten, dadurch gekennzeichnet, daß in der Mitte jedes von vier2. Contact grid according to claim 1 with grid points arranged in a square, characterized in that that in the middle each of four
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3885971A (en) * 1973-08-01 1975-05-27 Fuji Photo Film Co Ltd Contact screen and method for nonlinear transformations and filtering in coherent optical systems
US4600666A (en) * 1983-01-12 1986-07-15 Zink Edmund S Integrated photoscreen for making a halftone reproduction printing plate from a photograph
DE3339396A1 (en) * 1983-10-29 1985-05-09 Helmut 4800 Bielefeld Jahn Contact screen for reproduction technology

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE15494C (en) * WÜRTTEMBERGISCHE METALLWAARENFABRIK in Geifslingen Innovations in the manufacture of copper-clad iron sheets
CH31757A (en) * 1905-01-27 1905-08-31 Theodor Dittmann Grid for making autotypes
GB286340A (en) * 1926-11-04 1928-03-05 Arthur Ronald Trist Improvements in and relating to screens for photographic purposes, photo mechanical printing processes and the like
US1995958A (en) * 1933-03-03 1935-03-26 Photo Cast Inc Universal screen for preparing half-tones
DE716362C (en) * 1940-08-21 1942-01-31 Johannes Wimmer Process for producing master copies for autotypical gravure printing
GB628872A (en) * 1946-05-18 1949-09-06 Kodak Ltd Improved method of manufacturing contact half-tone screens
DE1105721B (en) * 1959-09-22 1961-04-27 Herbst & Illig Contact gravure screen
GB889107A (en) * 1955-06-23 1962-02-07 Hermann Eckerlin Improvements in or relating to contact screens for use in graphic reproduction

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE15494C (en) * WÜRTTEMBERGISCHE METALLWAARENFABRIK in Geifslingen Innovations in the manufacture of copper-clad iron sheets
CH31757A (en) * 1905-01-27 1905-08-31 Theodor Dittmann Grid for making autotypes
GB286340A (en) * 1926-11-04 1928-03-05 Arthur Ronald Trist Improvements in and relating to screens for photographic purposes, photo mechanical printing processes and the like
US1995958A (en) * 1933-03-03 1935-03-26 Photo Cast Inc Universal screen for preparing half-tones
DE716362C (en) * 1940-08-21 1942-01-31 Johannes Wimmer Process for producing master copies for autotypical gravure printing
GB628872A (en) * 1946-05-18 1949-09-06 Kodak Ltd Improved method of manufacturing contact half-tone screens
GB889107A (en) * 1955-06-23 1962-02-07 Hermann Eckerlin Improvements in or relating to contact screens for use in graphic reproduction
DE1105721B (en) * 1959-09-22 1961-04-27 Herbst & Illig Contact gravure screen

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Publication number Publication date
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