DE1232274B

DE1232274B - Cathode ray tube with a vertical deflection system consisting of two sections

Info

Publication number: DE1232274B
Application number: DEG40224A
Authority: DE
Inventors: Mooshi Rahmin Namordi; Svend Erik Havn
Original assignee: General Electric Co
Current assignee: General Electric Co
Priority date: 1963-04-04
Filing date: 1964-03-28
Publication date: 1967-01-12
Also published as: GB1061744A; US3177395A; ES298199A1; NL6403596A

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND FEDERAL REPUBLIC OF GERMANY

DEUTSCHESGERMAN

PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Int. CL:Int. CL:

HOIjHOIj

Deutsche Kl.: 21 g-13/23 German class: 21 g- 13/23

Nummer: 1232 274Number: 1232 274

Aktenzeichen: G 40224 VIII c/21 gFile number: G 40224 VIII c / 21 g

Anmeldetag: 28. März 1964 Filing date: March 28, 1964

Auslegetag: 12. Januar 1967Opened on: January 12, 1967

Die Erfindung bezieht sich auf eine Kathodenstrahlröhre mit einem Strahlerzeugungssystem für einen Elektronenstrahl, mit einem Horizontalablenksystem, durch das der Elektronenstrahl in einer zu einer Auffangelektrode parallelen Ebene parallel verschoben wird, und mit einem aus zwei Abschnitten bestehenden Vertikalablenksystem, von denen der eine Abschnitt eine der Auffangelektrode gegenüberliegende und mit der Röhrenrückwand verbundene und eine weitere Ablenkplatte enthält, die eine Verengung vor dem Raum zwischen der Auffangelektrode und der Röhrenrückwand bilden, während der andere Abschnitt aus einem mit der einen Ablenkplatte über einen leitenden Überzug auf der Röhrenrückwand verbundenen hochohmigen Überzug besteht, mit dem die restliche Röhrenrückwand bedeckt ist und an dessen der einen Ablenkplatte entfernten Seite ein konstantes Potential liegt.The invention relates to a cathode ray tube with a beam generating system for an electron beam, with a horizontal deflection system, through which the electron beam in a to a collecting electrode parallel plane is moved in parallel, and with one of two sections existing vertical deflection system, one section of which is opposite to the collecting electrode and connected to the tube back wall and includes a further baffle which is a Constriction in front of the space between the collecting electrode and the tube rear wall while the other section of one with the one baffle over a conductive coating on the tube back wall connected high-resistance coating with which the rest of the tube rear wall is covered and on the side of which is remote from a deflection plate there is a constant potential.

Bei einer derartigen, bereits vorgeschlagenen Kathodenstrahlröhre weist die maximale Amplitude der Ablenksignale für die Vertikalablenkung einen sehr hohen Wert von einigen Kilovolt auf. Während statische Potentiale in der Größenordnung von Kilovolt durch relativ wenig aufwendige Schaltungen erzeugt werden können, bereitet die Herstellung von Ablenksignalen in dieser Größenordnung noch beträchtliche Schwierigkeiten, besonders, wenn Halbleiterschaltungen verwendet werden sollen, die zur Herstellung von flachen, kompakten Kathodenstrahlröhren erwünscht sind.In such a previously proposed cathode ray tube, the maximum amplitude of Deflection signals for vertical deflection have a very high value of a few kilovolts. While static potentials in the order of magnitude of kilovolts through relatively inexpensive circuits can be generated, the production of deflection signals of this order of magnitude is still considerable Difficulties, especially if semiconductor circuits are to be used that are used for Manufacture of flat, compact cathode ray tubes are desirable.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Kathodenstrahlröhre vorzuschlagen, bei der die Amplituden der Ablenksignale für die Vertikalablenkung möglichst klein gehalten werden können.The invention is therefore based on the object of proposing a cathode ray tube in which the Amplitudes of the deflection signals for the vertical deflection can be kept as small as possible.

Bei der eingangs beschriebenen Kathodenstrahlröhre ist dazu gemäß der Erfindung die weitere Ablenkplatte von der Auffangelektrode isoliert angeordnet. In the cathode ray tube described at the outset, the further deflection plate is for this purpose according to the invention arranged isolated from the collecting electrode.

Die Erfindung wird nun in Form eines Ausführungsbeispiel an Hand der Figuren näher erläutert. The invention will now be explained in more detail in the form of an exemplary embodiment with reference to the figures.

F i g. 1 zeigt eine Kathodenstrahlröhre von vorn;F i g. Fig. 1 shows a cathode ray tube from the front;

F i g. 2 zeigt eine Seitenansicht der Kathodenstrahlröhre nach der F i g. 1;F i g. Figure 2 shows a side view of the cathode ray tube of Figure 2. 1;

Fig.3 zeigt einen Schnitt längs der LinieA-A der Fig. 1 bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung;Fig. 3 shows a section along the line A-A of Fig. 1 in a preferred embodiment of the invention;

F i g. 4 und 6 zeigen weitere Ausführungsbeispiele nach der Erfindung;F i g. 4 and 6 show further embodiments according to the invention;

F i g. 5 zeigt die Ablenkeigenschaften des Vertikalablenksystems bei verschiedenen maximalen Amplituden der Ablenksignale.F i g. 5 shows the deflection properties of the vertical deflection system at different maximum amplitudes the deflection signals.

Kathodenstrahlröhre mit einem aus zwei
Abschnitten bestehenden VertikalablenksystemCathode ray tube with one of two
Sections of the existing vertical deflection system

Anmelder:Applicant:

General Electric Company,
Schenectady, N. Y. (V. St. A.)General Electric Company,
Schenectady, NY (V. St. A.)

Vertreter:Representative:

Dr.-Ing. W. Reichel, Patentanwalt,Dr.-Ing. W. Reichel, patent attorney,

Frankfurt/M., Parkstr. 13Frankfurt / M., Parkstr. 13th

Als Erfinder benannt:Named as inventor:

Mooshi Rahmin Namordi, Syracuse, N. Y.;Mooshi Rahmin Namordi, Syracuse, N. Y .;

Svend Erik Havn, Liverpool, N. Y. (V. St. A.)Svend Erik Havn, Liverpool, N.Y. (V. St. A.)

Beanspruchte Priorität:Claimed priority:

V. St. v. Amerika vom 4. April 1963 (270 743) - -V. St. v. America April 4, 1963 (270 743) - -

In den F i g. 1 und 2 ist zunächst eine flache Kathodenstrahlröhre gezeigt, die man in drei Teile einteilen kann. Der erste Teil/, in dem der Bildschirm 16 untergebracht ist, enthält den einen Abschnitt des Vertikalablenksystems, im zweiten Teil VD befindet sich der zweite Abschnitt des Vertikalablenksystems und im dritten Teil HD wird der Elektronenstrahl in horizontaler Richtung abgelenkt und außerdem gebündelt.In the F i g. 1 and 2, a flat cathode ray tube is shown first, which can be divided into three parts. The first part /, in which the screen 16 is accommodated, contains one section of the vertical deflection system, the second part VD contains the second section of the vertical deflection system and the third part HD deflects the electron beam in the horizontal direction and also focuses it.

Das evakuierte Gehäuse, das vorzugsweise aus Glas besteht, besitzt im Teil / eine Vorderwand und eine dazu parallele Rückwand, und der Raum zwisehen beiden ist ziemlich flach. Am unteren Ende des Teiles / ist die Vorderwand mit einer Einbuchtung versehen, so daß im anschließenden Teil VD der Röhre der Abstand zwischen paralleler Vorder- und Rückwand geringer, vorzugsweise kleiner als die Hälfte dieses Abstands im oberen Teil der Röhre ist. Der Teil HD der Röhre, der etwa die gleiche Tiefe wie die Verengung im Teil VD aufweist, ist in einer der Ecken mit einem schräg verlaufenden Hals versehen, in dem ein Strahlerzeugungssystem 2 angeordnet ist, das einen zum Bildschirm parallelen Elektronenstrahl 3 herstellt.The evacuated housing, which is preferably made of glass, has in part / a front wall and a rear wall parallel thereto, and the space between the two is fairly flat. At the lower end of the part / the front wall is provided with an indentation so that in the adjoining part VD of the tube the distance between the parallel front and rear walls is less, preferably less than half this distance in the upper part of the tube. The part HD of the tube, which has approximately the same depth as the constriction in part VD , is provided in one of the corners with an inclined neck in which a beam generating system 2 is arranged which produces an electron beam 3 parallel to the screen.

Zur Horizontalablenkung sind hier zwei Horizontalablenksysteme vorgesehen, von denen das eine ein Magnetjoch 6 aufweist, das zwei Polschuhe 4 trägt und in bekannter Weise mit einer Ablenkspule 8 verbunden ist, die an einer Spannungsquelle 10 liegt, welche Ablenksignale liefert. Auf diese Weise wirdFor horizontal deflection, two horizontal deflection systems are provided here, one of which has a magnet yoke 6 which carries two pole shoes 4 and in a known manner with a deflection coil 8 is connected, which is connected to a voltage source 10, which supplies deflection signals. That way will

609 757/311609 757/311

der Elektronenstrahl 3 parallel zur Bildschirmebene zwischen einer äußersten linken Bahn 3' zu einer äußersten rechten Bahn 3" abgelenkt. Anschließend tritt der Elektronenstrahl durch das zweite Horizontalablenksystem, das aus zwei Polschuhen 12 besteht, die am einen Ende durch einen Magneten 14 verbunden sind und den Elektronenstrahl derart beeinflussen, daß er nach der Ablenkung im zweiten Horizontalablenksystem stets vertikal gerichtet ist, gleichgültig, an welcher Stelle er eingetreten ist. Auf diese Weise liegen alle Elektronenbahnen nach der gesamten Horizontalablenkung beider Ablenksysteme parallel zueinander in einer zum Bildschirm parallelen Ebene. Die zueinander parallelen Elektronenstrahlen werden anschließend im Vertikalablenksystem auf den Bildschirm oder eine Auffangelektrode umgelenkt.the electron beam 3 parallel to the screen plane between an extreme left path 3 'to one outermost right path 3 "deflected. The electron beam then passes through the second horizontal deflection system, which consists of two pole pieces 12 which are connected at one end by a magnet 14 are and affect the electron beam in such a way that it after the deflection in the second Horizontal deflection system is always directed vertically, regardless of where it has occurred. on in this way all electron orbits lie after the total horizontal deflection of both deflection systems parallel to each other in a plane parallel to the screen. The electron beams parallel to each other are then placed on the screen or a collecting electrode in the vertical deflection system diverted.

Ein Ausführungsbeispiel für das Vertikalablenksystem ist in der Fig. 3 gezeigt. Die im folgenden mehrmals verwendeten Ausdrücke »schwachleitender oder hochohmiger Überzug« und »leitender Überzug« werden für Überzüge verwendet, die eine Spannungsquelle entweder nur wenig belasten oder nur einen geringen Spannungsabfall verursachen.An exemplary embodiment for the vertical deflection system is shown in FIG. 3. The following the expressions "weakly conductive or high-resistance coating" and "more conductive" are used several times Coating «are used for coatings that either only slightly load a voltage source or cause only a small voltage drop.

Nach Fig. 3 ist eine Auffangelektrode 16, z. B. ein Bildschirm, vorgesehen, die aus einer Leuchtstoffschicht besteht oder eine solche enthält, die auf das aus Glas bestehende Gehäuse aufgebracht und mit einem für Elektronen durchlässigen Aluminiumüberzug 20 bedeckt ist. Ein schwachleitender Überzug 22, z. B. aus Chromoxyd, kann auf dem oberen Teil der Röhreninnenwand niedergeschlagen und elektrisch mit dem Aluminiumüberzug verbunden sein. Ein weiterer schwachleitender Überzug 24 ist auf der Röhrenrückwand ausgebildet und bedeckt diese bis zu einer Verbindungsstelle 27, an der sie an einen leitenden Überzug 26 angrenzt, der den restlichen Teil der Röhrenrückwand bedeckt und bis in den Teil VD ausgedehnt ist. Der leitende Überzug 26 dient z. B. zum Anlegen von Ablenksignalen an die eine Seite des Überzugs 24. An der entfernt von der Verbindungsstelle 27 liegenden Seite des Überzugs 24, an der dieser an den schwachleitenden Überzug 22 angrenzt, kann eine leitende Verbindung 28 zwischen diesen beiden Überzügen vorgesehen sein, die mit einer Elektrode 34 versehen und leicht verstellbar angeordnet ist.According to Fig. 3, a collecting electrode 16, for. B. a screen is provided, which consists of a phosphor layer or contains one which is applied to the housing made of glass and covered with an aluminum coating 20 permeable to electrons. A low-conductivity coating 22, e.g. B. made of chromium oxide, can be deposited on the upper part of the inner wall of the tube and electrically connected to the aluminum coating. Another weakly conductive coating 24 is formed on the tube rear wall and covers it up to a junction 27 at which it is adjacent to a conductive coating 26 which covers the remaining part of the tube rear wall and extends into part VD . The conductive coating 26 is used, for. B. for applying deflection signals to one side of the coating 24. On the side of the coating 24 remote from the junction 27, where it is adjacent to the weakly conductive coating 22, a conductive connection 28 can be provided between these two coatings, the is provided with an electrode 34 and arranged to be easily adjustable.

Der eine Abschnitt des Vertikalablenksystems, der Teil VD, enthält als Verlängerung des Überzugs 26 einen Streifen oder eine Ablenkplatte 25. Auf der gegenüberliegenden Seite ist an der Vorderwand der Röhre ein leitender Überzug 21 vorgesehen, der eine Verlängerung des metallischen Überzugs 20 ist. Die Form des Überzugs 21 kann durch eine entsprechende Ausbildung der Innenseite der Einbuchtung der Röhre im Teil VD hergestellt werden, auf der der Überzug aufgetragen wird. Der Überzug 21 ist bis in die Nähe der Verengung zwischen der Vorder- und Rückwand der Röhre ausgedehnt. Über einen Anschluß 21' können die Überzüge 20 und 21 auf ein vorgewähltes Potential gelegt werden. Der Anschluß 21' kann dabei entweder mit dem Überzug 20 oder mit dem Überzug 21 verbunden sein.One section of the vertical deflection system, part VD, contains a strip or baffle 25 as an extension of the coating 26. On the opposite side, a conductive coating 21, which is an extension of the metallic coating 20, is provided on the front wall of the tube. The shape of the coating 21 can be produced by a corresponding design of the inside of the indentation of the tube in the part VD on which the coating is applied. The coating 21 is extended to near the constriction between the front and rear walls of the tube. The coatings 20 and 21 can be placed on a preselected potential via a connection 21 '. The connection 21 ′ can be connected either to the cover 20 or to the cover 21.

Zur Verkleinerung des Leuchtfiecks dient der zweite Abschnitt des Vertikalablenksystems, der im wesentlichen aus dem hochohmigen Überzug 24 besteht. Durch Anlegen der Ablenksignale an eine Elektrode 26' und ein konstantes Potential an die Elektrode 34 bildet sich zwischen der Verbindungsstelle 27 und der Verbindung 28 ein Potentialgradient aus, der ein elektrisches Feld mit variabler Stärke erzeugt, das zur Auffangelektrode 16 hin gerichtet ist. Dieses Feld lenkt den Strahl in eine Bahn 33 um, auf der der Strahl mit viel kleinerem Einfallswinkel als ohne Gegenwart des Feldes auf die Auffangelektrode 16 trifft. Die Wirkung des Feldes nimmt jedoch in Richtung der Verbindungsstelle 27 immer mehr ab undThe second section of the vertical deflection system, which essentially consists of the high-resistance coating 24. By applying the deflection signals to an electrode 26 'and a constant potential at the electrode 34 is formed between the connection point 27 and the connection 28 from a potential gradient which generates an electric field of variable strength, the is directed towards the collecting electrode 16. This field deflects the beam in a path 33 on the the beam with a much smaller angle of incidence than without the presence of the field on the collecting electrode 16 meets. However, the effect of the field decreases more and more in the direction of the connection point 27 and

ίο wird an der Verbindungsstelle 27 schließlich vernachlässigbar klein. Ein kleinerer Einfallswinkel als auf einer Bahn, die ohne Anwesenheit des Feldes eingeschlagen wird, wird jedoch in den unterhalb der Verbindungsstelle 27 liegenden Teilen der Röhre ebenfalls erreicht, weil sich dort die Wirkung des ersten Abschnitts des Vertikalablenksystems stärker bemerkbar macht. Auch auf einer Bahn 31 hat der Strahl daher einen für alle Zwecke geeigneten Einfallswinkel. ίο is ultimately negligible at connection point 27 small. A smaller angle of incidence than on a path without the presence of the field is taken, but is in the parts of the tube lying below the connection point 27 also achieved because the effect of the first section of the vertical deflection system is stronger there makes noticeable. The beam therefore also has an angle of incidence suitable for all purposes on a path 31.

Zur Erhöhung der Empfindlichkeit der Vertikalablenkung ist auf der Vorderwand der Röhre ein weiterer, von dem leitenden Überzug 21 elektrisch isolierter Überzug 23 vorgesehen, der direkt gegenüber der Ablenkplatte 25 liegt. Die beiden Überzüge 23 und 25 bilden als Ablenkplatten den einen Abschnitt des Vertikalablenksystems. Die Ablenkplatte 23 kann über einen Anschluß 23' auf ein vorgewähltes Potential gelegt werden. Die Hauptaufgabe der voneinander isolierten Überzüge besteht darin, die Durchgangszeit der Elektronen durch die Verengung vor dem Raum zwischen der Auffangelektrode und der Röhrenrückwand zu vergrößern, damit die Zeitspanne vergrößert wird, während der das Vertikalablenksystem den Elektronenstrahl beeinflußt. Zur Lösung dieser Aufgabe wird der Überzug 23 auf einTo increase the sensitivity of the vertical deflection there is a on the front wall of the tube further, from the conductive coating 21 electrically insulated coating 23 is provided, the directly opposite the baffle 25 lies. The two coatings 23 and 25 form one section as deflector plates of the vertical deflection system. The deflection plate 23 can be selected via a connection 23 'on a Potential. The main task of the isolated from each other coatings is the Time of passage of the electrons through the constriction in front of the space between the collecting electrode and the tube back wall to increase the amount of time during which the vertical deflection system affects the electron beam. To solve this problem, the coating 23 is on a

. geringeres Potential als der Überzug 21 gelegt. Hierzu müssen nicht unbedingt getrennte Anschlüsse 21' und 23' vorgesehen werden, sondern die Überzüge 21 und 23 können auch durch innere hochohmige Leitungen verbunden werden, wobei der Überzug mit einem innen liegenden Punkt geringen Potentials oder mit dem Erdpotential verbunden wird.. lower potential than the coating 21 applied. This does not necessarily require separate connections 21 ' and 23 'are provided, but the coatings 21 and 23 can also be through internal high-resistance Lines are connected, the coating with an internal point of low potential or connected to the earth potential.

Zur Erzielung einer maximalen Ablenkempfindlichkeit wird weiterhin der Überzug 21 vorzugsweise vom unteren Teil der Auffangelektrode 16 in Rich-Furthermore, the coating 21 is preferred for maximum deflection sensitivity from the lower part of the collecting electrode 16 in the direction

. tung auf die Rückwand der Röhre und dann nach unten geführt, so daß er die Form einer Kurve mit stetig zunehmender Steigung aufweist. Der Überzug 23, der elektrisch von dem Überzug 21 isoliert ist, ist geometrisch eine Fortsetzung der Oberfläche, die durch den Überzug 21 gebildet wird und sich nach unten bis in den Teil VD des Vertikalablenksystems erstreckt, in dem sie in Form eines Streifens oder einer Platte endet, die zusammen mit dem Streifen oder der Platte 25 auf der Röhrenrückwand die Verengung der Kathodenstrahlröhre begrenzt. Die durch die Überzüge 21 und 23 festgelegte Oberfläche kann verschiedene Formen annehmen. In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist die Oberfläche als Parabel ausgebildet.. device on the back wall of the tube and then down so that it has the shape of a curve with a steadily increasing slope. The coating 23, which is electrically isolated from the coating 21, is geometrically a continuation of the surface which is formed by the coating 21 and extends down to the part VD of the vertical deflection system, in which it is in the form of a strip or a plate ends which, together with the strip or the plate 25 on the tube rear wall, limits the narrowing of the cathode ray tube. The surface defined by the coatings 21 and 23 can take various forms. In a preferred embodiment, the surface is designed as a parabola.

Bei elektrischer Isolierung der Überzüge 21 und 23 können in diesem Abschnitt des Vertikalablenksystems zwei elektrische Felder mit voneinander unabhängigen Feldstärken vorgegeben bzw. Spannungen unterschiedlicher Größe an die entsprechenden Überzüge gelegt werden.With electrical insulation of the coatings 21 and 23 can in this section of the vertical deflection system two electric fields with independent field strengths or voltages different sizes can be placed on the corresponding covers.

Aus Gründen der Wirtschaftlichkeit und der einfacheren Herstellung wird der Überzug 21 im allge-For reasons of economy and simpler production, the coating 21 is generally

meinen auf das gleiche Potential wie der Überzug 20 gelegt und ist deshalb direkt mit ihm verbunden. Das dem Überzug 23 gegebene Potential wird auf eine vorgewählte Potentialdifferenz bezüglich des Potentials am Überzug 21 eingestellt. Macht man das Potential am Übergang 23 kleiner als am Überzug 21, dann wird die Geschwindigkeit der Elektronen in der Verengung verringert. Eine Verringerung der Elektronengeschwindigkeit in der Verengung ergibt eine längere Durchgangszeit durch diesen Bereich, wodurch die elektrischen Felder einen längeren Einfluß auf die Bahn des Elektronenstrahls ausüben bzw. die erforderliche Ablenkung des Strahls durch geringere Feldstärkeschwankungen und damit geringere Spannungsschwankungen erreicht wird. Es ergibt sich eine Röhre mit größerer Empfindlichkeit der Vertikalablenkung. mine placed on the same potential as the coating 20 and is therefore directly connected to it. The potential given to the coating 23 is set to a preselected potential difference with respect to the Potential on the coating 21 set. If the potential at the junction 23 is made smaller than at the coating 21, then the speed of the electrons in the constriction is reduced. A decrease in the speed of electrons in the constriction results in a longer transit time through this area, thereby the electric fields exert a longer influence on the path of the electron beam or the required deflection of the beam due to lower field strength fluctuations and thus lower voltage fluctuations is achieved. The result is a tube with greater sensitivity to vertical deflection.

Die Breite 29 der Verengung, die durch die Ablenkplatten 23 und 25 festgelegt ist, ist veränderbar. Eine Verringerung der Breite 29 erhöht die Ablenkempfindlichkeit. Auch die Bereiche, die mit den Überzügen 21 und 23 versehen sind, können verändert werden. Eine Vergrößerung der horizontalen Breite 30 des Überzugs 23 erhöht die Empfindlichkeit der Vertikalablenkung.The width 29 of the constriction, which is defined by the baffles 23 and 25, is variable. Reducing the width 29 increases the deflection sensitivity. The areas that are provided with the coatings 21 and 23 can also be changed will. Increasing the horizontal width 30 of the coating 23 increases the sensitivity the vertical deflection.

Die Ablenkempfindlichkeit kann nicht mehr gesteigert werden, wenn der Elektronenstrahl 3 auf den Überzug 23 und nicht mehr auf die Auffangelektrode 16 trifft, wenn der untere Teil der Auffangelektrode 16 abgetastet werden soll. Der Elektronenstrahls trifft um so leichter auf den Überzug 23, je größer die Ablenkempfindlichkeit ist. Dabei ist es gleichgültig, durch welche Parameter oder Kombinationen von Parametern die Ablenkempfindlichkeit eingestellt wird.The deflection sensitivity can no longer be increased when the electron beam 3 hits the Coating 23 and no longer hits the collecting electrode 16 when the lower part of the collecting electrode 16 is to be scanned. The larger the electron beam, the easier it is to strike the coating 23 the deflection sensitivity is. It does not matter which parameters or combinations are used the deflection sensitivity is set by parameters.

Gute Ergebnisse lassen sich z. B. mit einer Kathodenstrahlröhre nach der F i g. 3 erhalten, wenn die Breite 29 1 cm beträgt, die Breite 30 etwa gleich der Breite 29 ist und ein Potential von 7 kV an den Überzug 23 gelegt wird. Gleichzeitig werden an den leitenden Überzug 26 über den Anschluß 26' Ablenksignale gelegt, die aus einer Spannungsquelle 32 entnommen werden und deren maximale bzw. minimale Amplituden 6,1 bzw. 1,8 kV betragen. Der Strahl 3 wird dabei zwischen einer Bahn 33 und einer Bahn 31 abgelenkt.Good results can be achieved e.g. B. with a cathode ray tube according to FIG. 3 received when the Width 29 is 1 cm, the width 30 is approximately equal to the width 29 and a potential of 7 kV at the Coating 23 is placed. At the same time, deflection signals are applied to conductive coating 26 via terminal 26 ' placed, which are taken from a voltage source 32 and their maximum or minimum Amplitudes are 6.1 and 1.8 kV, respectively. The beam 3 is between a path 33 and a path 31 distracted.

Eine flache Kathodenstrahlröhre nach der F i g. 3, die jedoch mit einer einzigen, vom Überzug 20 ausgehenden Äquipotentialfläche an Stelle der beiden getrennten Überzüge 21 und 23 ausgestattet ist, benötigt dagegen Ablenksignale, deren Amplituden zwischen 8,2 kV und 1,6 kV schwanken. Die Differenz zwischen der maximalen und der minimalen Amplitude der Ablenksignale beträgt also bei einer Röhre, die nicht die beschriebene Verbesserung aufweist, 6,6 kV, während die gleiche Differenz bei einer beschriebenen Kathodenstrahlröhre nur 4,3 kV beträgt, was einer Verbesserung von über 35% entspricht. Eine derartige Erhöhung der Ablenkempfindlichkeit verringert die Anforderungen, die an die Spannungsquelle 32 zu stellen sind, beträchtlich.A flat cathode ray tube according to FIG. 3, but with a single starting from the cover 20 Equipotential area in place of the two separate coatings 21 and 23 is required on the other hand, deflection signals whose amplitudes fluctuate between 8.2 kV and 1.6 kV. The difference between the maximum and the minimum amplitude of the deflection signals is therefore at one Tube that does not have the improvement described, 6.6 kV, while the same difference with a described cathode ray tube is only 4.3 kV, which corresponds to an improvement of over 35%. Such an increase in deflection sensitivity reduces the requirements placed on the Voltage source 32 are to be provided, considerably.

Die F i g. 4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, das auf der Röhrenrückwand einen hochohmigen Überzug 41 enthält, der sich bis zur Verengung erstreckt, wo er mit einem leitenden Streifen oder einer Ablenkplatte 42 verbunden ist, an die über einen Anschluß 42' die Spannungsquelle 32 für die Ablenksignale angeschlossen ist.The F i g. 4 shows another embodiment, which contains a high-resistance coating 41 on the rear wall of the tube, which extends up to the constriction, where it is connected to a conductive strip or baffle 42 to the across a terminal 42 'is connected to the voltage source 32 for the deflection signals.

Auf der gegenüberliegenden Seite ist mit dem IeK tenden Überzug 20 ein leitender Überzug 43 elektrisch verbunden, der vorzugsweise eine Verlange-, rung des Überzugs 20 ist. Er verläuft vom unteren Ende der Auffangelektrode 16 auf die Rückwand zu und abwärts bis zu einer Begrenzung in der Nähe der Verengung, wobei er sich auf einer Kurve mit stetig wachsender Steigung hält. Vom Ende des Überzugs 43 ist ein leitender Streifen oder eine AblenkplatteOn the opposite side is the IeK tend coating 20 is electrically connected to a conductive coating 43, which preferably has a demand, tion of the coating 20 is. It runs from the lower end of the collecting electrode 16 towards the rear wall and down to a limit near the narrowing, being on a curve with steadily increasing slope. From the end of the coating 43 is a conductive strip or baffle

ίο 44 horizontal versetzt angeordnet, die zusammen mit der Ablenkplatte 42 die Verengung begrenzt. Die Breite 45 der Verengung ist daher durch den horizontalen Abstand zwischen den Ablenkplatten 42 und 44 gegeben.ίο 44 arranged horizontally offset, which together with the baffle 42 limits the constriction. The width 45 of the constriction is therefore due to the horizontal Distance between the baffles 42 and 44 given.

Die Vorteile der beiden Ausführungsbeispiele werden an Hand der F i g. 5 klarer. Damit ein echter Vergleich möglich ist, sind die Kurven in der Fig. 5 größtenteils durch Verwendung einer Kathodenstrahlröhre nach der F i g. 4 aufgetragen worden.The advantages of the two exemplary embodiments are illustrated in FIGS. 5 clearer. So a real one As comparison is possible, the curves in Figure 5 are made largely by using a cathode ray tube according to FIG. 4 has been applied.

Auf der Ordinate sind die Ablenkspannungen in kV und auf der Abszisse der Abstand vom oberen Ende der Auffangelektrode aufgetragen.The deflection voltages in kV are on the ordinate and the distance from the upper end is on the abscissa applied to the collecting electrode.

Der Abstand vom oberen zum unteren Ende der Auffangelektrode 16 beträgt 10 cm. Die Ordinaten der F i g. 5 zeigen die Ablenkspannungen für einen vollständigen Abtastzyklus. Die Differenz der maximalen und minimalen Amplituden der Abtastsignale ist ein Maß für die Empfindlichkeit der Vertikalablenkung. Die Kurve 51 zeigt die Ablenkempfindlichkeit einer flachen Kathodenstrahlröhre nach der F i g. 4, die nicht die beschriebene Verbesserung enthält, sondern bei der der Überzug 43 auf einer parabolischen Kurve stetig vom unteren Ende der Anfangelektrode 16 bis zur Verengung verläuft, d. h.The distance from the upper to the lower end of the collecting electrode 16 is 10 cm. The ordinates the F i g. 5 show the deflection voltages for a full scan cycle. The difference in the maximum and minimum amplitudes of the scanning signals is a measure of the sensitivity of the vertical deflection. Curve 51 shows the deflection sensitivity of a flat cathode ray tube according to FIG F i g. 4, which does not contain the improvement described, but in which the coating 43 is on a parabolic curve runs steadily from the lower end of the starting electrode 16 to the constriction, d. H.

bei der die isolierte Ablenkplatte 44 fehlt. Die Breite der Verengung beträgt etwa 1,25 cm. Es sind Ablenksignale erforderlich, deren Amplitudendifferenz zwischen dem Minimum und dem Maximum 9,3 kV beträgt, wenn ein vollständiger Abtastzyklus erreicht werden soll.where the isolated baffle 44 is absent. The width of the constriction is about 1.25 cm. They are distraction signals required, the difference in amplitude between the minimum and the maximum 9.3 kV if a full sampling cycle is to be achieved.

Die Kurve 52 zeigt die Ablenkempfindlichkeit einer Kathodenstrahlröhre nach der F i g. 4, bei der die Breite 45 der Verengung 1 cm beträgt. Hierbei werden die Potentiale der Ablenkplatte 44 auf die gleichen Werte wie die der Überzüge 20 und 43 eingestellt, nämlich auf 10 kV. Die Kurve 52 dient dazu, die Erhöhung der Ablenkempfindlichkeit bei Verminderung der Breite der Verengung zu zeigen. Die Differenz der maximalen und minimalen Amplituden der Abtastsignale beträgt 7,IkV. Durch diese Änderung allein wird die Ablenkempfindlichkeit gegenüber der des bekannten Ausführungsbeispiels, dem die Kurve 51 entspricht, also um mehr als 2O°/o erhöht.Curve 52 shows the deflection sensitivity of a cathode ray tube according to FIG. 4, at the the width 45 of the constriction is 1 cm. Here, the potentials of the deflection plate 44 to the the same values as those of the coatings 20 and 43, namely 10 kV. The curve 52 is used to to show the increase in deflection sensitivity as the width of the narrowing is decreased. the The difference between the maximum and minimum amplitudes of the scanning signals is 7. IkV. Through this The only change is the deflection sensitivity compared to that of the known embodiment, to which curve 51 corresponds, that is to say increased by more than 20%.

Die Kurve 53 entsteht bei Verwendung einer Kathodenstrahlröhre, welche mit den in F i g. 4 angegebenen Potentialen arbeitet. Das Potential der Ablenkplatte 44 wird hier auf 7 kV gelegt. Das Ergebnis ist eine weitere Verkleinerung der Differenz zwischen minimaler und maximaler Amplitude der Ablenksignale auf 6,3 kV. Die Empfindlichkeit ist gegenüber der der Kurve 51 um mehr als 30% höher.The curve 53 arises when using a cathode ray tube, which with the in FIG. 4 specified Potential works. The potential of the baffle 44 is set to 7 kV here. The result is a further reduction in the difference between the minimum and maximum amplitude of the deflection signals to 6.3 kV. The sensitivity is more than 30% higher than that of curve 51.

Die Kurve 54 entsteht bei Verwendung des Ausführungsbeispiels nach der F i g. 6, bei dem der hochohmige Überzug wie bei dem Ausführungsbeispiel nach der F i g. 4 über die gesamte Röhrenrückwand ausgedehnt ist. Der erste Abschnitt des Vertikalablenksystems ist ähnlich wie bei dem Ausführungs-The curve 54 arises when using the exemplary embodiment according to FIG. 6, in which the high-resistance Coating as in the embodiment according to FIG. 4 over the entire back wall of the tube is extended. The first section of the vertical deflection system is similar to the embodiment

beispiel nach der Fig. 3. Das Ausführungsbeispiel nach F i g. 6 besitzt eine noch höhere Empfindlichkeit der Vertikalablenkung als das Ausführungsbeispiel nach der F i g. 4. Die Differenz zwischen der minimalen und maximalen Amplitude der Ablenksignale beträgt nur 5,7 kV, was eine 40%ige Verringerung gegenüber der Empfindlichkeit bei dem der Kurve zugrunde gelegten Ausführungsbeispiel bedeutet.example according to FIG. 3. The embodiment according to FIG. 6 has an even higher sensitivity the vertical deflection than the embodiment according to FIG. 4. The difference between the minimum and maximum amplitude of the deflection signals is only 5.7 kV, which is a 40% reduction compared to the sensitivity in the embodiment on which the curve is based.

Claims

Claims: IO

1. Cathode ray tube with a beam generating system for an electron beam, with a horizontal deflection system, through which the electron beam in one direction to a collecting electrode parallel plane is moved in parallel, and with one consisting of two sections Vertical deflection system, one section of which is opposite to the collecting electrode and connected to the tube back wall and includes a further baffle which is a Form a constriction in front of the space between the collecting electrode and the back wall of the tube, while the other section consists of one with the one baffle over a conductive coating connected high-

ohmic coating with which the rest of the tube rear wall is covered and on which the a side remote from a deflection plate has a constant potential, characterized in that that the further deflection plate (23) is arranged insulated from the collecting electrode (16).

2. Cathode ray tube according to claim 1, characterized in that between the further Deflector plate (23) and the lower end of the collecting electrode (16) with this lower one End connected coating (21) is provided on the tube inner wall.

3. Cathode ray tube according to claim 2, characterized in that the coating (21) from the lower end of the collecting electrode (16) is formed as a surface with a steadily increasing slope is.

4. Cathode ray tube according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the further Deflector plate (23) geometrically represents a continuation of the coating (21).

5. Cathode ray tube according to one or more of claims 1 to 4, characterized in that the horizontal width (30) of the further deflector plate (23) is approximately equal to the width of the constriction (29) .

For this purpose 2 sheets of drawings