DE1230147B - Method and device for the production of a bundle of rays of electrically conductive gaseous matter in a vacuum chamber - Google Patents
Method and device for the production of a bundle of rays of electrically conductive gaseous matter in a vacuum chamberInfo
- Publication number
- DE1230147B DE1230147B DEE25556A DEE0025556A DE1230147B DE 1230147 B DE1230147 B DE 1230147B DE E25556 A DEE25556 A DE E25556A DE E0025556 A DEE0025556 A DE E0025556A DE 1230147 B DE1230147 B DE 1230147B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrically conductive
- matter
- bundle
- rays
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/54—Plasma accelerators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F6/00—Superconducting magnets; Superconducting coils
- H01F6/06—Coils, e.g. winding, insulating, terminating or casing arrangements therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/16—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL
Int. Cl.:Int. Cl .:
H05hH05h
Deutsche Kl.: 21g-61/00German class: 21g-61/00
Nummer: 1230147Number: 1230147
Aktenzeichen: E 25556 VIII c/21 gFile number: E 25556 VIII c / 21 g
Anmeldetag: 20. September 1963 Filing date: September 20, 1963
Auslegetag: 8. Dezember 1966Opening day: December 8, 1966
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Strahlenbündels elektrisch leitender gasförmiger
Materie in einer Vakuumkammer, bei dem zuerst ein Strahl aus kondensierter Materie erzeugt
und danach die Materieteilchen in dem Strahlenbündel verdampft und ionisiert werden, sowie eine Vorrichtung
zur Durchführung des Verfahrens.
. Bekanntlich ist für zahlreiche wissenschaftliche und gewerbliche Anwendungen die Herstellung einer
Materie im Vakuum erforderlich, deren Form, elekirische Leitfähigkeit, Dichte, chemische und isotopische
Zusammensetzung bestimmte Werte haben müssen.The invention relates to a method for producing a beam of electrically conductive gaseous matter in a vacuum chamber, in which a beam of condensed matter is first generated and then the matter particles in the beam are evaporated and ionized, and a device for carrying out the method.
. It is well known that numerous scientific and industrial applications require the production of a material in a vacuum, the shape, electrical conductivity, density, chemical and isotopic composition of which must have certain values.
Insbesondere für Dichten in der Größenordnung von 1 g/cm3 läßt sich diese Materie ausgehend vom festen Aggregatzustand der zu behandelnden Substanz erzielen, sofern die entsprechenden thermodynamischen Bedingungen in diesem Zustand zufriedenstellend sind. Für Dichten unter 10~10 g/cm3 lassen sich geradlinige Materieanordnungen mittels Molekülbündeln erzeugen.In particular, for densities of the order of magnitude of 1 g / cm 3 , this matter can be obtained starting from the solid state of aggregation of the substance to be treated, provided that the corresponding thermodynamic conditions are satisfactory in this state. For densities below 10 ~ 10 g / cm 3 , straight arrangements of matter can be created by means of molecule bundles.
Zwischen diesen beiden Dichtegrenzen kann man entweder einen Gasstrahl von Überschallgeschwindigkeit, dessen Länge vor dem Verschwinden infolge der praktischen Unmöglichkeit des Erzielens einer über etwa 10 liegenden Mach-Zahl stark eingeschränkt ist und dessen Dichte infolge der begrenzten Pumpleistung der das System evakuierenden Vakuumpumpen nur gering sein kann, oder eine Einheit aus festen oder flüssigen Teilchen verwenden, wobei dann die gewollte Dichte mittels geeigneter Wahl der Abmessungen und der Konzentration der Teilchen erzielt wird.Between these two density limits one can either use a gas jet at supersonic speed, its length before disappearing due to the practical impossibility of achieving an over Mach number lying around 10 is severely limited and its density due to the limited pump power the vacuum pumps evacuating the system can only be small, or one unit Use solid or liquid particles, then the desired density by means of a suitable choice of Dimensions and the concentration of the particles is achieved.
Materieanordnungen mit einer zwischen 10~10 und 10~6 g/cm3 liegenden Dichte, deren Herstellung erzielt oder vorgeschlagen worden ist, werden entweder durch die Kondensation eines Gases bei seinem Durchtritt durch die gekühlte Düse mit nachfolgender Trennung des Gas-Tröpfchen-Gemisches, wobei dann die Tröpfchen die Materieanordnung mit einer durchschnittlichen Dichte von 1O-10 bis 10~9 g/cm3 bilden, oder durch die Kondensation eines Gases an ionisierten Zentren erzeugt, auf die das Austreiben des Gas-Tröpfchen-Gemisches und danach die Abscheidung des Gases von den Tröpfchen folgt, wobei der Tröpfchenstrahl ebenfalls die Materieanordnung bildet, deren durchschnittliche Dichte zwischen ΙΟ"10 und 10-6 g/cm3 liegt.Arrangements of matter with a density between 10 ~ 10 and 10 ~ 6 g / cm 3 , the production of which has been achieved or proposed, are either produced by the condensation of a gas as it passes through the cooled nozzle with subsequent separation of the gas-droplet mixture, in which case the droplets form the configuration of matter with an average density of 1O -10 to 10 -9 g / cm 3, or generates a gas of ionized centers by the condensation, to which the expulsion of the gas-droplet mixture and then the deposition of the gas followed by the droplets, wherein the droplets beam also forms the configuration of matter, their average density between ΙΟ "10 and 10- 6 g / cm 3.
Es sind auch schon Strahlenbündel elektrisch leitender gasförmiger Materie in einer Vakuumkammer hergestellt worden, indem zuerst ein Strahl aus kondensierter Materie erzeugt und danach die Materie-Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Strahlenbündels elektrisch leitender gasförmiger Materie in einer VakuumkammerThere are also bundles of rays of electrically conductive gaseous matter in a vacuum chamber has been produced by first generating a beam of condensed matter and then the matter process and a device for producing a beam of electrically conductive gaseous rays Matter in a vacuum chamber
Anmelder:Applicant:
Europäische Atomgemeinschaft (EURATOM),European Atomic Energy Community (EURATOM),
BrüsselBrussels
Vertreter:Representative:
Dipl.-Ing. R. Müller-BörnerDipl.-Ing. R. Müller-Borner
und Dipl.-Ing. H. H. Wey, Patentanwälte,and Dipl.-Ing. H. H. Wey, patent attorneys,
Berlin 33, Podbielskiallee 68Berlin 33, Podbielskiallee 68
Als Erfinder benannt:
Marcel Haegi,
Charles Maisonnier,
Grottaferrata, Rom (Italien)Named as inventor:
Marcel Haegi,
Charles Maisonnier,
Grottaferrata, Rome (Italy)
Beanspruchte Priorität:Claimed priority:
Belgien vom 29. Oktober 1962 (498 951)Belgium of October 29, 1962 (498 951)
teilchen in dem Strahlenbündel verdampft und ionisiert werden.. Hierbei wurde von den vorerwähnten durch Kondensation eines Gases erzeugten Materieanordnungen ausgegangen, so daß sich auf diese Weise nur die genannten, sehr geringen Materiedichten im ionisierten Strahlenbündel erreichen lassen.particles are vaporized and ionized in the beam Assumed arrangements of matter generated by condensation of a gas, so that on this In this way, only the mentioned, very low matter densities can be achieved in the ionized radiation beam.
Auch in der deutschen Patentschrift 1180 073 ist ein Verfahren zum Erzeugen eines geradlinigen Materiestrahles im Inneren eines geschlossenen Hochvakuumraumes vorgeschlagen.The German patent specification 1180 073 also describes a method for generating a straight jet of matter Proposed inside a closed high vacuum space.
Ziel der Erfindung ist die Erweiterung der Dichtebereiche dieser bekannten Materiestrahlen, nämlich elektrisch leitender ionisierter gasförmiger Materiestrahlenbündel. Sie betrifft insbesondere die Herstellung elektrisch leitender Materien mit einer unteren Dichte von etwa 10~4 g/cm3.The aim of the invention is to expand the density ranges of these known matter jets, namely electrically conductive ionized gaseous matter beams. It relates particularly to the production of electrically conductive material particles with a lower density of about 10 -4 g / cm 3.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Strahlenbündels elektrisch leitender gasförmiger Materie in einer Vakuumkammer, bei dem zuerst ein Strahl aus kondensierter Materie erzeugt und danach die Materieteilchen in dem Strahlenbündel verdampft und ionisiert werden, wird erfindungsgemäß derart durchgeführt, daß das zum Bilden des Strahlenbündels vorgesehene elektrisch leitende Material in Pulverform mit zwei ein Gleichspannungsfeld erzeugenden Elek-A method for producing a beam of electrically conductive gaseous matter in a Vacuum chamber in which a jet of condensed matter is generated first and then the particles of matter are vaporized and ionized in the radiation beam, is carried out according to the invention in such a way that that the electrically conductive material provided for forming the beam is in powder form with two elec-
609 730/322609 730/322
troden in Berührung gebracht wird, die dadurch elektrisch geladenen Pulverteilchen in dem Gleichspannungsfeld beschleunigt und zu einem Strahlenbündel formiert und die Teilchen des Strahlenbündels einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt werden.electrodes is brought into contact, the thereby electrically charged powder particles in the DC voltage field accelerated and formed into a bundle of rays and the particles of the bundle of rays a exposed to electromagnetic radiation.
Das Heraustreiben des Pulvers aus dem Zwischenelektrodenraum kann durch eine in einer der Elektroden angebrachten Öffnung hindurch erfolgen.The driving out of the powder from the interelectrode space can be done by one in one of the electrodes made opening through.
Die Ionisierung der Materie kann vermehrt werden, indem man in der Materieanordnung einen elektrischen Eßlfsstrom fließen läßt.The ionization of matter can be increased by creating an electrical in the arrangement of matter Eßlfsstrom lets flow.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird eine Vorrichtung vorgeschlagen, bestehend aus einer vakuumdichten Kammer mit daran angeschlossenen Vakuumpumpen, die erfindungsgemäß derart ausgebildet ist, daß in der Kammer zwei ebene, horizontale Elektroden mit ungebördeltem Rand in Abstand voneinander angeordnet sind, die an eine elektrische Gleichspannungsquelle angeschlossen sind und von denen die untere mit pulverförmigem elektrisch leitendem Material oberflächlich beladene mit einer zentralen Öffnung versehen ist, und daß seitlich von dem aus der Öffnung der unteren Elektrode austretenden Strahlenbündel in Abstand von den Elektroden eine Anordnung zur Erzeugung eines Lichtbogens angeordnet ist.To carry out the method according to the invention, a device is proposed, consisting from a vacuum-tight chamber with vacuum pumps connected to it, which according to the invention is designed such that in the chamber two flat, horizontal electrodes with unflared Edge are arranged at a distance from each other, which is connected to an electrical DC voltage source and of which the lower one is superficially loaded with powdery electrically conductive material is provided with a central opening, and that laterally from the opening of the lower Electrode exiting beam at a distance from the electrodes an arrangement for generating an arc is arranged.
Insbesondere ist es vorteilhaft zur Vermeidung von Verunreinigungen, wenn die Elektrode zur Erzeugung des Lichtbogens aus einem Material besteht, welches in dem zum Bilden des Strahlenbündels vorgesehenen Pulver enthalten ist.In particular, it is advantageous to avoid contamination if the electrode is used for production of the arc consists of a material which is provided in that for forming the beam Powder is included.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand der beigefügten, beispielsweise jedoch nicht beschränkend eine praktische Ausführungsform der Erfindung darstellenden Zeichnung, deren einzige Figur einen schematischen Querschnitt durch die Vorrichtung zur Herstellung einer elektrisch leitenden Materie nach der Erfindung veranschaulicht, näher erläutert.The invention is described below with reference to the appended, but not restrictive, for example a practical embodiment of the invention showing drawing, the single figure of which is a schematic cross section through the device for producing an electrically conductive material illustrated according to the invention, explained in more detail.
Die Figur zeigt eine mittels einer Vakuumpumpe 2 evakuierte abgedichtete Kammer 1. Diese Kammer 1 enthält zwei einander gegenüberliegend angeordnete flache Elektroden 3 und 4, die über abgedichtete und isolierte Durchtrittsstellen 5 und 6 an eine elektrische Hochspannungsquelle 7 mit einer Spannung von beispielsweise 2 · 104 V angeschlossen sind. Die Elektroden 3 und 4 sind an ihrem Außenumfang mit konvexen Randleisten 8 und 9 versehen, deren Aufgabe nachstehend noch näher zu erläutern ist. Die untere Elektrode 3, auf der das zu ionisierende Pulver 10 angeordnet wird, weist in ihrer Mitte- eine kleine Öffnung 11 auf. Als Pulver kann man beispielsweise Körnchen aus Lithiumhydrid und Aluminiumhydrid (LiAlH4) mit einem Durchmesser von 10~3 cm verwenden. The figure shows a sealed chamber 1 evacuated by means of a vacuum pump 2. This chamber 1 contains two flat electrodes 3 and 4 arranged opposite one another, which are connected via sealed and insulated passage points 5 and 6 to an electrical high-voltage source 7 with a voltage of, for example, 2 · 10 4 V are connected. The electrodes 3 and 4 are provided on their outer circumference with convex edge strips 8 and 9, the task of which will be explained in more detail below. The lower electrode 3, on which the powder 10 to be ionized is arranged, has a small opening 11 in its center. As the powder, for example, granules of lithium hydride and aluminum hydride (LiAlH 4 ) with a diameter of 10 -3 cm can be used.
In einem der Achse der Öffnung 11 benachbarten Bereich und etwas weiter von ihr entfernt sind zwei Elektroden 12,13, beispielsweise aus Aluminium (da dieses Metall in dem Pulver vorhanden ist), angeordnet, zwischen denen man einen Lichtbogen 14 von sehr hoher Intensität, beispielsweise 2 · 104 A, übergehen lassen kann. Die Speisung dieses Lichtbogens erfolgt über zwei abgedichtete und isolierte Durchtrittsstellen 15,16 mit Hilfe der Entladung eines Kondensators 17, dessen Stromkreis durch eine Funkenstrecke 18 geschlossen wird. Dieser Kondensator hat eine Kapazität in der Größenordnung von einem Mikrofarad und wird mit einer Spannung von etwa 20 kV aufgeladen. Die Zündung des Lichtbogens 14 im Vakuum wird mittels kalter Elektronenemission erzielt.In an area adjacent to the axis of the opening 11 and a little further away from it, two electrodes 12, 13, for example made of aluminum (since this metal is present in the powder), between which an arc 14 of very high intensity, for example 2 · 10 4 A, can pass. This arc is fed via two sealed and insulated passage points 15, 16 with the aid of the discharge of a capacitor 17, the circuit of which is closed by a spark gap 18. This capacitor has a capacitance in the order of one microfarad and is charged with a voltage of around 20 kV. The ignition of the arc 14 in a vacuum is achieved by means of cold electron emission.
Die vorstehend beschriebene Vorrichtung arbeitet wie folgt: Die durch den Kontakt mit der Elektrode 3 aufgeladenen Körnchen des Pulvers 10 werden durch die andere Elektrode 4 angezogen, an der sie ihre Polarität wechseln und (auf die Elektrode 3) zurückfallen. Es entsteht ein stationärer Zustand, bei dem jederzeit die Anzahl der sich pro Zeiteinheit abwärtsThe device described above operates as follows: The contact with the electrode 3 Charged granules of the powder 10 are attracted by the other electrode 4 on which they are Change polarity and fall back (on electrode 3). A steady state arises in which at any time the number of moving downwards per unit of time
ίο bewegenden Teilchen gleich der der sich aufwärts bewegenden Teilchen ist (s. Pfeile f). Die Randleisten 8 und 9 der Elektroden schieben die Teilchen, die über die Ränder hinaus zu entweichen versuchen, auf elektrostatischem und mechanischem Weg in das Innere des Zwischenelektrodenraumes zurück.ίο moving particles is the same as that of the particles moving upwards (see arrows f). The edge strips 8 and 9 of the electrodes push the particles, which try to escape beyond the edges, back into the interior of the space between the electrodes by electrostatic and mechanical means.
Schließlich entweichen die sich abwärts bewegenden Teilchen durch die Öffnung 11 hindurch zum Bilden eines geradlinigen Strahls 19. Die durch den Lichtbogen 14 ausgesandte intensive Strahlung 20Finally, the particles moving downwards escape through the opening 11 to the Forming a rectilinear beam 19. The intense radiation 20 emitted by the arc 14
ao verflüchtigt und ionisiert diesen — durch eine Konstellation von untereinander isolierten Pulverkörnchen gebildeten — Strahl und wandeln ihn somit in eine elektrisch leitende Materieanordnung um, und zwar in einer ausreichend kurzen Zeitspanne, damit die Gasdiffusion keine Zeit hat, die Materieanordnung zu zerstören.ao volatilizes and ionizes it - through a constellation formed by powder grains isolated from one another - and thus convert it into an electrically conductive arrangement of matter, in a sufficiently short period of time, with it the gas diffusion does not have time to destroy the arrangement of matter.
Obwohl im vorliegenden Ausführungsbeispiel ein geradliniger Teilchenstrahl dargestellt ist, kann man die Bewegungsbahn des Teilchenstrahls auch krümmen, indem man ihn, falls eine nicht geradlinige Materieanordnung erforderlich ist, der Einwirkung eines elektrischen Hilfsfeldes aussetzt.Although a straight particle beam is shown in the present exemplary embodiment, one can The path of movement of the particle beam can also be bent by moving it, if it is not a straight one Material arrangement is required, exposed to the action of an auxiliary electrical field.
Die Erfindung findet in zahlreichen Fällen auf dem Gebiet der Forschung Anwendung: Speisung von Reaktoren mit Kernfusion, Erzeugung intensiver Magnetfelder, sehr hohe Radiofrequenzen, Plasmakanonen (Plasmatrons), Raumfahrzeugantrieb usw. Die gewerblichen Anwendungen sind ebenfalls sehr bedeutend: Als Beispiel seien schnellwirkende Hoch-Spannungsschalter von hoher Leistung genannt.The invention has numerous applications in the field of research: feeding of Nuclear fusion reactors, generation of intense magnetic fields, very high radio frequencies, plasma cannons (Plasmatrons), spacecraft propulsion, etc. The commercial uses are also very great Significant: Fast-acting high-voltage switches with high performance are mentioned as an example.
Claims (3)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
BE498951 | 1962-10-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1230147B true DE1230147B (en) | 1966-12-08 |
Family
ID=3844717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEE25556A Pending DE1230147B (en) | 1962-10-29 | 1963-09-20 | Method and device for the production of a bundle of rays of electrically conductive gaseous matter in a vacuum chamber |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3395307A (en) |
BE (1) | BE624165A (en) |
DE (1) | DE1230147B (en) |
GB (1) | GB1032446A (en) |
LU (1) | LU44422A1 (en) |
NL (1) | NL299056A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA976599A (en) * | 1971-04-08 | 1975-10-21 | Senichi Masuda | Electrified particles generating apparatus |
RU2566620C2 (en) * | 2013-12-24 | 2015-10-27 | Сергей Николаевич Зубов | Method and fuel for compound-synthesis, air jet engine running on compound-synthesis and turbomachine unit to this end (versions) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3239717A (en) * | 1962-02-26 | 1966-03-08 | Goodrich High Voltage Astronau | Method and apparatus for dispersing glomerate particles |
-
0
- NL NL299056D patent/NL299056A/xx unknown
- BE BE624165D patent/BE624165A/xx unknown
-
1963
- 1963-09-11 LU LU44422D patent/LU44422A1/xx unknown
- 1963-09-20 DE DEE25556A patent/DE1230147B/en active Pending
- 1963-10-17 US US317012A patent/US3395307A/en not_active Expired - Lifetime
- 1963-10-25 GB GB42267/63A patent/GB1032446A/en not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
None * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LU44422A1 (en) | 1963-11-13 |
NL299056A (en) | |
US3395307A (en) | 1968-07-30 |
GB1032446A (en) | 1966-06-08 |
BE624165A (en) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1814802A1 (en) | Device for inducing nuclear fusions | |
DE1765169B1 (en) | PLASMA GENERATOR WITH MAGNETIC FOCUSING AND WITH ADDITIONAL GAS INLET | |
DE1222589B (en) | Device for generating a space-charge-neutralized beam of charged particles | |
DE2552783A1 (en) | METHOD AND ARRANGEMENT FOR GENERATING IONS | |
DE19962160A1 (en) | Extreme UV and soft X-ray radiation source e.g. for extreme UV lithography, has auxiliary electrode behind opening in one main gas discharge electrode for increasing energy conversion efficiency | |
DE3424449A1 (en) | SOURCE FOR NEGATIVE IONS | |
DE1142262B (en) | Device for the production of thin metal layers by ion neutralization | |
DE1087718B (en) | Method and device for trapping atomic ions to ignite a plasma | |
DE1190590B (en) | Ion source | |
DE1230147B (en) | Method and device for the production of a bundle of rays of electrically conductive gaseous matter in a vacuum chamber | |
DE1917843C3 (en) | Device for generating intense ion bundles through charge exchange between a plasma and a to | |
DE2314284A1 (en) | ION SPRAYER VACUUM PUMP | |
DE3000451A1 (en) | VACUUM VAPORIZATION SYSTEM | |
DE1228750B (en) | Atomizing ion getter pump | |
DE880244C (en) | Method and device for applying in particular metallic protective layers to preferably band-shaped carriers | |
DE3208086C2 (en) | Using a plasma cannon | |
DE2342376A1 (en) | DEVICE FOR APPLYING THIN LAYERS UNDER VACUUM | |
DE2052014A1 (en) | Ion thruster | |
DE102021127146B3 (en) | Device for charging bulk material with accelerated electrons | |
DE2025987A1 (en) | Ion source | |
DE2712829C3 (en) | Ion source | |
DE2228117A1 (en) | HOLLOW CATHODE DUOPLASMATRON ION SOURCE | |
DD141932B1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR PARTICLE CURRENCY AND HIGH-RATE COATING | |
DE736568C (en) | Process for carrying out chemical reactions with the aid of electrical glow discharge under negative pressure, in particular for NH synthesis | |
DE102021127145A1 (en) | Device for charging bulk material with accelerated electrons |