DE1157808B - Polarisationseinrichtung - Google Patents

Polarisationseinrichtung

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DE1157808B
DE1157808B DEL42361A DEL0042361A DE1157808B DE 1157808 B DE1157808 B DE 1157808B DE L42361 A DEL42361 A DE L42361A DE L0042361 A DEL0042361 A DE L0042361A DE 1157808 B DE1157808 B DE 1157808B
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DE
Germany
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plate
polarization
oscillation
plane
beam path
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DEL42361A
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English (en)
Inventor
Dr Klaus Weber
Dipl-Math Franz Kornder
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Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Original Assignee
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Description

  • Polarisationseinrichtung Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Unterdrückung der durch ungleiche Reflexionen und/oder Brechungen der Vertikal- bzw. Horizontalkomponente bewirkten Drehungen der Schwingungsebene, die eine unerwünschte Aufhellung bei Polarisationseinrichtungen hervorrufen.
  • Aus den Fresnelschen Foi-meln folgt, daß eine linear polarisierte Welle infolge der ungleichen Reflexion der Vertikal- und Forizontalkomponente eine Drehung erfährt (s. >Lehrbuch der Experimentalphysik« von L. Bergmann und Ci. Schaefer, III. Band, 1. Teil: »Wellenoptik«, erschienen im Verlag Walter de Gruyter & Co., Berlin, 1956, S. 332/333). Ist TE das Azimut der einfallenden Welle gegen die Einfallsebene und x bzw. ß der Einfalls- bzw. Brechungswinkel, so gilt nach einmaliger Brechung für das Azimut der gebrochenen Welle tg (f G # tg #fp- - cos (,x - Dabei bedeutet ipe das Azimut der gebrochenen Welle. Erfährt eine Wellz in einem optischen System m Brechungen, so folgt für das Azimut einer in-mal gebrochenen Welle Als Folge dieser Brechungen treten in der Pupille zentrierter optischer Systeme Kurven gleicher Drehungen bzw. Schwingungsrichtungen auf, die durch Hyperbelscharen angenähert werden können.
  • Es ist bekannt, daß man durch Einfügung einer 2/2-Platte in eine lineai polarisierte Welle, deren Schwingungsrichtung von der Hauptschwingungsrichtung der 2./2-Platte uni einen Winkel y abweicht, eine Drehung der Schwingungsrichtung um einen Winkel 2y erreicht, wobei die neue Schwingungsriuhtung in bezug auf die Hauptschwingungsrichtung der 2/2-Platte spiegelsymmetrisch liegt. In der Zeichnung ist in Fig. 1 diese Wirkung dargestellt. Dabei bedeutet S die Hauptschwingungsrichtung der )./-'?-Platte, P die Schwingungsrichtung der einfallenden polarisierten Welle, die mit der Hauptschwingungsrichtung S den Winkel y bildet. Die 212-Platte spaltet die Schwingung P auf in die Komponenten E, und E#.. Infolge des Gangunterschiedes von 2/2 superponieren sich beide Komponenten zu der linearen Schwingung P' mit den Komponenten F-, und -E" so daß zwischen der Hauptschwingungsrichtung S und der Schwingungsrichtung der linear polarisierten Welle nach dem Durchgang durch die 2/2-Platte der Winkel -y auftritt. Durch Ausnutzung dieser Eigenschaft einer 2/2-Platte wurde bereits die unerwünschte Aufhellung bei Polarisationseinrichtungen wenigstens teilweise dadurch aufgehoben, daß man eine solche A/2-Platte in einer bequem erreichbaren Stelle des optischen Systems einfügte und dadurch eine angenäherte Kompensation der Drehungen vor und hinter dieser Platte erreichte. Allerdings ist auf diese Art natürlich nur in begrenztem Umfang eine Unterdrückung der Aufhellung möglich.
  • Eine ideale Kompensation wäre selbstverständlich dann erreichbar. wenn man die )./2-Platte hinsichtlich der durch die einzelnen Flächen eines optischen Systems erfolgenden Drehungen in der Symmetrieebene einsetzen könnte. Dies wird an Hand der Fig. 2 bis 6 im einzelnen erläutert. In der Fig. 2 ist schematisch ein optisches System lediglich durch seine brechenden Flächen symbolisiert, wobei in der Mitte dieses Systems ein paralleler Strahlengang vorhanden sein möge. In diesem parallelen Strahlengang ist eine A/2-Platte angeordnet. Die dargestellten optisch wirksamen Flächen sollen dabei sowohl vor als auch hinter der 2/2-Platte so beschaffen sein, daß die Summe der Drehungen der Schwingungsrichtung einer linear polarisierten Welle vor der 2./2-Platte gleich der Summe dieser Drehungen hinter der 2/2-Platte ist.
  • In der Fig. 3 ist ein Querschnitt der Eintrittspupille des Systems dargestellt. Ein Strahl treffe diese Pupille in Q mit der Schwingungsrichtung P und dem Azimut q-E. Nach Durchsetzen des vor der 2/2-Platte (Fig. 2) liegenden Systems 1 sei die Schwingungsrichtung P um den Winkel ö gedreht. Das Azimut der neuen Schwingungsrichtung P' gegen die Einfallsebene ist dann ö (Fig. 4).
  • Nach Durchsetzen der 2/2-Platte ergibt sich dann, wie in der Fig. 5 dargestellt, eine Drehung des Azimuts der Schwingungsrichtung gegen die Einfallsebene um -2b, wenn die Hauptschwingungsrichtung der 2/2-Platte parallel zur ursprünglichen Schwingungsrichtung P der in das System einfallenden Welle liegt, wie in der Erläuterung zu Fig. 1 dargestellt wurde. Die Schwingungsrichtung P#" - nach der A/2-Platte weist demnach gegenüber der ursprünglichen Schwingungsrichtung P einen Winkel -b auf. Hat das optische System hinter der A/2-Platte hinsichtlich der Drehung der Schwingungsebene dieselben Eigenschaften wie das System vor der 2/2-Platte, d. h. dreht dieses System insgesamt die Schwingungsrichtung um einen Winkel +ö, so fällt die Schwingungsrichtung der aus dem System austretenden Welle P"' mit der Schwingungsrichtung P der einfallenden Welle zusammen. Damit wäre eine vollständige Kompensation erreicht, was bei Einfügung eines derartigen Systems zwischen zwei gekreuzten Polarisatoren zu einer idealen Auslöschung führen würde.
  • Unter Ausnutzung dieser Erkenntnis ist daher schon vorgeschlagen worden, eine Polarisationseinrichtung aus zwei identischen Teilsystemen aufzubauen und zwischen diese Systeme eine )./2-Platte einzufügen.
  • Eine solche Anordnung ist natürlich außerordentlich aufwendig, insbesondere deshalb, weil ja für jede einzelne Komponente eines Teilsystems die Identität mit der entsprechenden Komponente des anderen Teilsystems gefordert werden muß.
  • Es ist daher in der gleichen Auslegeschrift auch bereits der Vorschlag gemacht worden, an Stelle der Verdoppelung des optischen Systems die 2/2-Platte an einer mechanisch erreichbaren Stelle eines einfachen Systems einzufügen und die Symmetrisierung der vor und hinter dieser Platte angeordneten Teilsysteme dadurch zu erreichen, daß in einem Teilsystem zusätzliche optische Mittel, die im übrigen aber den Strahlengang optisch nicht beeinflussen, vorgesehen werden. Diese zusätzlichen optischen Mittel bestehen nach dem Vorschlag der Auslegeschrift aus praktisch brechkraftlosen Menisken, deren Herstellung jedoch außerordentlich kompliziert und daher teuer ist.
  • Nach der vorliegenden Erfindung kann man jedoch auf einfachste Weise eine Symmetrisierung der vor und hinter einer 2./2-Platte angeordneten Teilsysteme einer Polarisationseinrichtung erreichen. Erfindungsgemäß ist auf mindestens einer optischen Fläche dieser Teilsysteme eine reflexerhöhende dielektrische Schicht angeordnet, die eine Symmetrisierung der die Schwingungsebene drehenden Eigenschaften der beiderseits der 2/2-Platte angeordneten optischen Glieder erzwingt. Eine solche reflexerhöhende dielektrische Schicht kann in bekannter Weise als Doppelschicht aus TiO, und SiO, ausgebildet sein. Die Eigenschaften dieser Schichten sind im Zusammenhang mit der Reflexminderung optisch wirksamer Flächen seit nahezu 30 Jahren bekannt, so daß hier auf eine nähere Erläuterung verzichtet werden kann. Diese reflexerhöhenden Schichten können dabei sowohl auf gekrümmten als auch auf ebenen Flächen der Systeme angeordnet sein. Als gekrümmte Flächen bieten sich ohne weiteres die vorhandenen Linsenflächen (auch Kittflächen) an, als ebene Flächen können Filterflächen oder die Innenflächen des Polarisators oder Analysators, die Flächen von Objektträgern, aber auch die Flächen der 2/2-Platten selbst dienen. Verwendet man 2./2-Platten aus optisch einachsigem Material, dann ist es zweckmäßig, die reflexerhöhende dielektrische Schicht an einer Stelle vorzusehen, die schräg von den Strahlenbündeln durchsetzt wird, während die A/2-Platte von möglichst parallelen Bündeln senkrecht durchsetzt werden soll. Bei der Verwendung von A/2-Platten aus optisch zweiachsigem Material werden erfindungsgemäß sowohl die reflexerhöhenden Schichten als auch die 2/2-Platten schräg durchsetzt.
  • Ist eine A/2-Platte aus zweiachsigem Material, senkrecht zur Mittellinie geschnitten, hergestellt und nicht im parallelen Strahlengang angeordnet, so macht sich die von der Durchstrahlungsrichtung abhängige Lage der Hauptschwingungsrichtung bemerkbar. Der Verlauf der Isogyren eines zweiachsigen Kristalls, der senkrecht zur Mittellinie geschnitten ist, ist in dem »Lehrbuch der Kristalloptik« von F. Pockels, erschienen in B. G. Teubners Sammlung von Lehrbüchern auf dem Gebiete der Mathematischen Wissenschaften mit Einschluß ihrer Anwendungen, Bd. XIX, 1906, auf den Seiten 252 und 253 beschrieben. Aus dieser Darstellung ist in ähnlicher Weise, wie oben für die 2/2-Platte aus optisch einachsigem Material ausgeführt, zu entnehmen, daß eine #L/2-Platte aus optisch zweiachsigem Material eine Drehung der Schwingungsebene in gleicher Weise bewirkt, wenn sie von einem schräg einfallenden Bündel durchsetzt wird.
  • Bei der Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung an einem Polarisationsmikroskop hat es sich als vorteilhaft erwiesen, zwischen Polarisator und Objekt einerseits und Objekt und Analysator andererseits je eine 2/2-Platte anzuordnen, derart, daß sowohl im beleuchtenden als auch im abbildenden Strahlengang durch zusätzliche Anwendung der erfindungsgemäßen reflexerhöhenden Schichten jeweils eine Kompensation der Drehungen der Schwingungsebene erreicht wird. Es ist dann ohne weiteres möglich, verschiedene Kondensoren und verschiedene Objektive am Mikroskop unabhängig voneinander zu wechseln.
  • In den Zeichnungen sind schematisch einige Ausführungsformen dargestellt, denen jeweils der Strahlengang in einem Mikroskop zugrunde gelegt worden ist.
  • In der Fig. 7 werden die von einer Lichtquelle ausgehenden Strahlen von einem Polarisator 2 polarisiert und durch einen Kondensator 3 durch eine A/2-Platte 4 auf das Objekt 5 gelenkt. Das Objekt 5 wird mittels eines Objektivs 6 durch einen Analysator 7 abgebildet und durch ein Okular 8 betrachtet. Auf einer der Linsenflächen des Kondensators 3 ist eine reflexerhöhende dielektrische Schicht 9 vorgesehen. Bei dieser Darstellung sind der Einfachheit halber der Kondensator durch zwei, das Objektiv durch drei Linsen und das Okular durch eine Linse symbolisiert. Wie bereits oben erwähnt, wird die 2./2-Platte 4 je nach ihrer optischen Beschaffenheit entweder an einer Stelle im beleuchtenden Strahlengang angeordnet, die senkrecht durch mindestens nahezu parallel Lichtstrahlen durchsetzt wird, oder aber im divergenten oder konvergenten Strahlengang.
  • In der Anordnung nach Fig. 8 ist zusätzlich bei sonst gleichem Aufbau und gleicher Bezifferung ein Filter 10 vorgesehen. Dabei ist die reflexerhöhende Schicht 9a auf dem Filter an Stelle einer der Kondensorlinsen angeordnet.
  • Die Anordnung nach Fig. 9 unterscheidet sich von der nach der Fig. 2 lediglich dadurch, daß die reflexerhöhende Schicht 9b auf der Innenseite des Polarisators anstatt auf einer der Kondensorflächen angeordnet ist. In der Fig. 10 ist ein Polarisationsmikroskop dargestellt, bei dem sowohl auf der Beleuchtungsseite als auch auf der Abbildungsseite je eine #/2-Platte 4a bzw. 4b vorgesehen ist. Durch die Anordnung einer reflexerhöhenden Schicht9c auf der 2./2-Platte im Beleuchtungsstrahlengang ist eine Kompensation der die Polarisationsebene drehenden Eigenschaften zwischen Polarisator und Objekt erreicht. Durch Anordnung einer weiteren rellexerhöhenden Schicht 9d auf einer der Flächen des Objektivs ist außerdem eine Kompensation der Drehungen zwischen Objekt und Analysator durchgeführt.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Vorrichtung zur Unterdrückung der durch ungleiche Reflexionen und/oder Brechungen der Vertikal- bzw. Horizontalkomponente bewirkten Drehungen der Schwingungsebene hervorgerufenen unerwünschten Aufhellung bei Polarisationseinrichtungen, die mit einer )./2-Platte zwischen den zwischen Polarisator und Analysator angeordneten optischen Gliedern (Linsen, Filtern, Objektträgern) ausgerüstet ist, dadurch gekennzeichnet, daß zur Symmetrisierung der die Polarisationsebene drehenden Eigenschaften der beiderseits der 2/2-Platte angeordneten optischen Glieder mindestens eine reflexerhöhende dielektrische Schicht auf einer der vorhandenen optischen Flächen vorgesehen ist.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung einer A/2-Platte aus optisch einachsigem Material diese im mindestens nahezu parallelen Strahlengang angeordnet ist. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung einer 2/2-Platte aus optisch zweiachsigem Material diese im konvergenten oder divergenten Strahlengang angeordnet ist. 4. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie bei einem Polarisationsmikroskop angewandt wird und daß je eine %/2-Platte im beleuchtenden und im abbildenden Strahlengang'vorgesehen ist und daß sowohl die zwischen Polarisator und Objekt einerseits als auch die zwischen Objekt und Analysator andererseits angeordneten optischen Mittel mittels der beiden 2/2-Platten und reflexerhöhenden Schichten je für sich hinsichtlich ihrer die Polarisationsebene drehenden Eigenschaften symmetrisiert sind. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 121834; Optik, 3 (1949), S. 499 bis 503.
DEL42361A 1962-06-29 1962-06-29 Polarisationseinrichtung Pending DE1157808B (de)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5300756A (en) * 1991-10-22 1994-04-05 General Scanning, Inc. Method for severing integrated-circuit connection paths by a phase-plate-adjusted laser beam

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FR2149311B1 (de) * 1971-08-19 1974-05-10 Anvar

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DE1121834B (de) * 1957-11-05 1962-01-11 American Optical Corp Optisches Polarisationssystem

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CH403334A (de) 1965-11-30
AT240071B (de) 1965-05-10

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