DE112008000693T5 - Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür - Google Patents

Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür Download PDF

Info

Publication number
DE112008000693T5
DE112008000693T5 DE112008000693T DE112008000693T DE112008000693T5 DE 112008000693 T5 DE112008000693 T5 DE 112008000693T5 DE 112008000693 T DE112008000693 T DE 112008000693T DE 112008000693 T DE112008000693 T DE 112008000693T DE 112008000693 T5 DE112008000693 T5 DE 112008000693T5
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
membrane
support structure
assembly
layer
microphone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE112008000693T
Other languages
English (en)
Inventor
Peter V. Hoffman Estates Loeppert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Knowles Electronics LLC
Original Assignee
Knowles Electronics LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Knowles Electronics LLC filed Critical Knowles Electronics LLC
Publication of DE112008000693T5 publication Critical patent/DE112008000693T5/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R7/00Diaphragms for electromechanical transducers; Cones
    • H04R7/16Mounting or tensioning of diaphragms or cones
    • H04R7/18Mounting or tensioning of diaphragms or cones at the periphery
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R19/00Electrostatic transducers
    • H04R19/01Electrostatic transducers characterised by the use of electrets
    • H04R19/016Electrostatic transducers characterised by the use of electrets for microphones
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R25/00Deaf-aid sets, i.e. electro-acoustic or electro-mechanical hearing aids; Electric tinnitus maskers providing an auditory perception

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)

Abstract

Eine Vorrichtung zum Wandeln zwischen einem akustischen Signal und einem elektrischen Signal, umfassend:
eine Rückplattenanordnung umfassend eine geladene Lage und eine leitfähige Lage; und
eine Membrananordnung, welche in einem vorbestimmten Abstand von der Rückplattenanordnung positioniert ist, wobei die Membrananordnung eine Haltestruktur und eine Membran umfasst, wobei die Membran in Reaktion auf ein akustisches Signal vibriert und monolithisch an der Haltestruktur angeordnet ist, wobei die Haltestruktur und die Membran aus einem gemeinsamen Material geformt sind.

Description

  • QUERVERWEISE ZU VERWANDTEN ANMELDUNGEN
  • Die vorliegende Anmeldung ist eine Fortsetzungsanmeldung der US-Patentanmeldung Nr. 11/742,252, welche am 30. April 2007 eingereicht wurde, welche gemäß 35 U. S. C §119 (e) den Nutzen bezüglich der vorläufigen US Anmeldung Nr. 60/895,798, welche am 20. März 2007 eingereicht wurde, beansprucht und welche mit Silizium Elektret Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür betitelt ist, wobei hierdurch deren Offenbarung in ihrer Gesamtheit unter Bezugnahme für sämtliche Zwecke hierin aufgenommen ist.
  • HINTERGRUND
  • Herkömmliche Elektretkondensatormikrofone verwenden metallisierte Mylarfilme, welche über einen Metallring gespannt sind und mit Klebstoff an diesem angebracht sind, um als Membran zu wirken. Die Spannung dieser Ring-/Filmanordnung ist ein wesentlicher Faktor bei der Festlegung der Empfindlichkeit des Mikrofons. Temperatur- und Feuchtigkeitsveränderungen beeinflussen die Ring-/Filmanordnung und der Klebstoff, welcher dazu verwendet wird den Film an dem Ring anzubringen, kann einem Kriechen ausgesetzt sein. Dies führt zu einer Instabilität über die Zeit und die Umweltveränderungen hinweg. Dies ist insbesondere dann ein Problem, wenn aufeinander abgestimmte Paare verwendet werden, da diese dazu tendieren, über die Zeit hinweg in ihrer Leistung auseinanderzudriften. Eine Nachfrage nach einem Mikrofon existiert, welches eine Ring-/Filmanordnung aufweist, welche gleichmäßig expandiert wenn sich die Temperatur verändert und welche keinen Klebstoff für das Anbringen der Ring-/Filmanordnung erfordert. Weiterhin ist der Film weniger empfindlich bezüglich Feuchtigkeit, wodurch er ein stabileres Leistungsvermögen über eine Zeitperiode hinweg ergibt.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Für ein vollständigeres Verständnis der Offenbarung sollte Bezug genommen werden auf die folgende detaillierte Beschreibung und auf die beigefügten Zeichnungen, wobei:
  • 1 eine Explosionsansicht ist, welche eine Mikrofonanordnung zeigt, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthält;
  • 2 eine perspektivische Ansicht der Mikrofonanordnung der 1 ist, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthält;
  • 3 eine vergrößerte Teilansicht eines Antriebsabschnitts der Mikrofonanordnung ist, welche in 1 gezeigt ist, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthält;
  • 4A bis 4D Querschnittsansichten einer Membrananordnung sind, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthalten;
  • 5 eine Schnittansicht ist, welche die Membrananordnung der 4D zeigt, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthält;
  • 6 eine vergrößerte Schnittansicht der Membrananordnung ist, welche in 5 gezeigt ist, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthält; und
  • 7 eine Draufsicht auf einen Wafer zur Ausformung einer Mehrzahl von Membrananordnungen ist, welche die Lehren der vorliegenden Erfindung enthalten.
  • Bewanderte Fachleute werden erkennen, dass die Elemente in den Figuren zum Zwecke der Einfachheit und Klarheit gezeigt sind. Es wird weiter erkannt werden, dass bestimmte Aktionen und/oder Schritte in einer bestimmten Reihenfolge des Auftretens beschrieben oder gezeigt sein können, wobei die Fachleute verstehen werden, dass eine solche Spezifität bezüglich der Abfolge nicht tatsächlich erforderlich ist. Es wird ebenso verstanden werden, dass die Begriffe und Ausdrücke, welche hierin verwendet werden, deren übliche Bedeutung haben, so wie sie solchen Begriffen und Ausdrücken bezüglich der entsprechenden Befragungsgebiete und Lehren zugeordnet werden, außer dort, wo hierin spezifische Bedeutungen anderweitig festgelegt werden.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
  • Während die vorliegende Offenbarung empfänglich für unterschiedliche Modifikationen und alternative Formen ist, werden bestimmte Ausführungsbeispiele exemplarisch in den Zeichnungen gezeigt werden und diese Ausführungsbeispiele werden hierin detailliert beschrieben werden. Es wird verstanden werden, dass diese Offenbarung jedoch nicht dazu gedacht ist, die Erfindung auf die besonderen beschriebenen Formen zu beschränken, sondern im Gegenteil, dass die Erfindung dazu gedacht ist sämtliche Modifikationen, Alternativen und Äquivalente, welche in den Geist und den Umfang der Erfindung, so wie sie durch die angehängten Ansprüche definiert ist, zu umfassen.
  • 1 zeigt eine Explosionsansicht eines Wandlers 100, welcher in nahezu jedem Typ von Hörvorrichtungen, wie beispielsweise Ohrhörern, Kopfhörern, kabellosen Bluetooth Hörsprechgarnituren, Einsatzohrhörer, schnurlose UWB Hörsprechgarnituren, Hörhilfen oder ähnlichem verwendet werden kann. Die Hörhilfen können hinter dem Ohr (BTE), im Ohr (ITE), im Kanal (ITC), vollständig im Kanal (CC), kombinierte BTE/ITE, kombinierte BTE/ITC, kombinierte BTE/CIC und ähnliche sein. Andere Typen von Hörvorrichtungen sind möglich. Der Wandler 100 kann ein Empfänger, ein Lautsprecher, ein Mikrofon, ein kombinierter Empfänger und Mikrofon, Dualmikrofone, abhängig von deren gewünschten Anwendungen, sein. In dem Ausführungsbeispiel, welches gezeigt ist, ist der Wandler 100 ein Mikrofon. Das Mikrofon 100 umfasst ein Gehäuse, welches ein Obergehäuse 106 und ein Untergehäuse 104 umfasst, welche miteinander durch jegliche bekannten Techniken verbunden sind. Das Mikrofon 100 umfasst weiterhin eine Membrananordnung 110, ein Zwischenstück 116, eine Rückplattenanordnung 118, welche gemeinsam einen Antriebsabschnitt 140 bilden. Mehr Details über die Ausbildung des Antriebsabschnitts werden folgen.
  • Zumindest eine Öffnung 108 ist an dem Bodengehäuse 104 durch jegliche bekannte Techniken eingeformt, um es akustischen Wellen zu ermöglichen einzutreten und mit dem Antriebsabschnitt 140, welcher innerhalb der Gehäuse 104, 106 angeordnet ist, zu interagieren. Eine elektronische Vorrichtung (nicht gezeigt), welche an einer Leiterplatine (PCB) 120 installiert ist, ist innerhalb der Gehäuse 104, 106 angeordnet. Die elektronische Vorrichtung kann ein integrierter Schaltkreis (IC)-Chip, ein Kondensator, ein Widerstand, eine Induktivität oder eine andere passive Vorrichtungen sein, abhängig von den gewünschten Anwendungen. Es wird verstanden werden, dass eine oder mehrere Chips und elektronische Komponenten umfasst sein können. In einem Ausführungsbeispiel ist die Vorrichtung ein Hybridschaltkreis. Der Hybridschaltkreis umfasst einen Impedanzentkopplungsschaltkreis (nicht gezeigt) wie z. B. einen Quellenfolger-Feldeffekttransistor (FET) IC. Das PCB 120 kann drei Verbindungskabel 126, 128, 130 umfassen, welche eine Erdung, einen Stromversorgungseingang und einen Ausgang für das prozessierte elektrische Signal, das zu einem Geräusch korrespondiert, welches durch den Antriebsabschnitt des Mikrofons 100 übertragen wurde, bereitstellen. Wie gezeigt, ist ein Verbindungsdraht 124, welcher an dem Antriebsabschnitt 140 angeordnet ist, elektrisch mit dem PCB 120 mittels des Verbindungsdrahts 126 gekoppelt. Wenn das PCB 120 und der Antriebsabschnitt 140 in ihrer endgültigen oder geschlossenen Position innerhalb des unteren Gehäuses 104 angeordnet sind, werden die Ober- und Untergehäuse 104, 106 fest miteinander befestigt, wobei die inneren Komponenten in ihren Positionen verriegelt werden. Eine flexible Schaltkreisanordnung 122 wird dann auf der oberen Oberfläche des Gehäuses 102 installiert, um eine elektrische Verbindung mit den Komponenten innerhalb der Hörvorrichtung (nicht gezeigt) bereitzustellen. Die flexible Schaltkreisanordnung 122 umfasst eine Mehrzahl von Anschlüssen 136, welche einen Erdungsanschluss, einen Ausgangsanschluss und einen Energieanschluss bereitstellen. Eine Mehrzahl von Lötfeldern 138 an dem flexiblen Schaltkreis 134 der Anordnung 122 sind elektrisch mit den Anschlüssen 136 verbunden. Die Kabel 126, 128, 130 des PCB 129 erstrecken sich durch eine Öffnung 132 hindurch, welche an dem Obergehäuse 106 eingeformt ist, und sind elektrisch mit den Anschlüssen 136 der Anordnung 122 verbunden.
  • 2 zeigt eine perspektivische Ansicht eines Mikrofons 100, welches die Lehren der vorliegenden Erfindung beinhaltet. Eine Membrananordnung 110 (so wie in 1 gezeigt) als ein Teil eines Antriebsabschnitts 140 ist innerhalb eines Gehäuses 102 angeordnet. Eine flexible Schaltkreisanordnung 122 ist fest an der oberen Oberfläche des Gehäuses 102 angebracht. Das Gehäuse 102 umfasst ein erstes Gehäuse 104 und ein zweites Gehäuse 106, welches an dem ersten Gehäuse 104 mittels bekannter Technik angebracht ist. Während das Gehäuse 102 eine zylindrische Form hat, wird verstanden werden, dass jegliche Gehäuseformen oder Konfigurationen, die für jegliche gewünschte Anwendung geeignet sind, ausreichend sein können, umfassend eine nahezu quadratische Form, eine rechteckige Form oder jegliche andere gewünschte Geometrie und Größe. Das Gehäuse 102 kann aus einer Vielzahl von Materialien hergestellt sein, wie z. B. rostfreiem Stahl, abwechselnden Lagen von leitfähigen und nicht leitfähigen Materialien (beispielsweise mit Metallpartikeln beschichtetes Plastik) oder ähnlichem.
  • 3 zeigt einen Antriebsabschnitt 140, welcher innerhalb eines Untergehäuses 104 des Mikrofons 100, so wie es in 1 gezeigt ist, angeordnet ist. Der Antriebsabschnitt 140 umfasst eine Membrananordnung 110, eine Rückplattenanordnung 118 und ein Zwischenstück 116. Das Zwischenstück 116, welches eine Dicke aufweist, ist zwischen der Membrananordnung 110 und der Rückplattenanordnung 118 platziert. Das Zwischenstück 116 ist in Form einer ringförmigen Ringform vorgesehen und korrespondiert zu der inneren Konfiguration des Untergehäuses 104. Es kann typischerweise aus einem elektrisch isolierenden Material wie Polyethylen Terephthalat (PET), Polyimid, Plastik oder ähnlichem hergestellt sein. Andere Typen von Materialien sind möglich. Alternativ kann das Zwischenstück aus einem Satz von metallähnlichen Materialien ausgewählt werden, wie beispielsweise Nickel oder rostfreiem Stahl.
  • Die Rückplattenanordnung 118 in der Form einer Scheibenform weist einen zentralen Abschnitt 142, zumindest eine Reliefsektion 144, von denen drei in 1 gezeigt sind, und zumindest eine Vorstülpung 146, von denen drei in 1 gezeigt sind, auf und ist an dem Zwischenstück 116 installiert. Es wird verstanden werden, dass eine Rückplattenanordnung 118, die jegliche Art von Formen oder Konfigurationen annehmen kann, geeignet sein kann, umfassend eine nahezu quadratische Form, eine Scheibenform, eine rechteckige Form oder jegliche andere gewünschte Geometrie und Größe mit oder ohne Rückplattenhalterung, und diese zu der Konfiguration des Zwischenstücks 116 korrespondieren kann. Die Rückplattenanordnung 118 umfasst eine leitfähige Lage 118a und eine geladene Lage 118b. Die geladene Lage 118b kann ausgewählt sein aus einem Satz von Materialien, welche thermoplastische Materialien mit guten Ladungsspeicherungscharakteristika, einer guten chemischen Widerstandsfähigkeit und einer hohen Temperaturstabilität aufweisen. In einem Ausführungsbeispiel kann die geladene Lage 118b ein fluoriertes Ethylenpropylenmaterial sein, welches herkömmlicherweise unter der Handelsbezeichnung TEFLON erhältlich ist, oder jegliche ähnliche Materialien. Andere Materialtypen sind möglich. Die leitfähige Lage 118a ist aus einem elektrisch leitfähigen Material, wie beispielsweise rostfreiem Stahl, Gold, einem Metallpartikel beschichteten Polymer oder ähnlichem, hergestellt, zum Übertragen von Signalen aus der geladenen Lage 118b. Andere Materialtypen sind möglich. Eine optionale Polymerlage (nicht gezeigt) kann an der leitfähigen Lage 118a durch jegliche bekannten Techniken angebracht sein.
  • Die Membrananordnung 110 umfasst eine Haltestruktur 112 und eine Membran 114. Mehr Details über die Ausformung der Membrananordnung werden hierin in größerem Detail diskutiert werden. Wie in 3 gezeigt, wird die geladene Lage 118b der Rückplattenanordnung 118 direkt der Membran 114 der Membrananordnung 110 ausgesetzt und ist von der Membrananordnung durch das Zwischenstück 116 separiert. Die Bodenoberfläche der Haltestruktur 112 steht in Kontakt mit der inneren Wand des Untergehäuses 104. Die Membran 114 der Membrananordnung 110 ist typischerweise einer akustischen Öffnung 108 ausgesetzt, welche von der Membran 114 durch die Haltestruktur 112 separiert ist. Ein optionales Dämpfungselement (nicht gezeigt) kann an dem Untergehäuse 104 angebracht sein, um zu verhindern, dass Schmutz in das Untergehäuse 104 durch die Öffnung 108 eintritt, welcher den Antriebsabschnitt 140 beschädigen könnte.
  • 4A bis 4D zeigen ein Beispiel des Herstellens einer Membrananordnung 110, wie sie in einem Mikrofon 100 verwendet wird. Silikon-auf-Isolator (SOI) Wafer 200, welche herkömmlicherweise unter der Handlebezeichnung UNIBOND von Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. erhältlich sind, oder jegliche ähnliche Materialien werden verwendet. Andere Materialtypen sind möglich, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen. Die Wafer 200 umfassen eine erste Lage eines Einkristallsilikons 202, welcher eine gleichmäßige Dicke von ungefähr 1 μm aufweisen, eine Mittellage 206 und einen Handhabungswafer 204. Die Mittellage 206 ist typischerweise ein Silikondioxidfilm; andere Filmmaterialien sind jedoch möglich. Wie in 4B gezeigt, sind die erste Silikonlage 202 und der Film 206 am Umfang geätzt, unter Verwendung von reaktivem Ionenätzen (RIE) (nicht gezeigt). Andere Ätztypen sind möglich. Alternativ kann der Umfang des Films 206 in dem letzten Schritt des Herstellens der Membrananordnung 110 geätzt werden, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen. Ein Abschnitt der ersten Lage 202 wird selektiv geätzt, um ein Einstichloch 148 (engl.: pierce hole) auszuformen. Mehr als ein Einstichloch kann für gewünschte Anwendungen möglich sein. Ein Abschnitt der Zwischenlage 206, welche der Umgebung durch das Einstichloch 108 ausgesetzt ist, wird dann geätzt. Die erste Lage 202 formt eine Membran 114 der Membrananordnung 110 aus.
  • Nun, Bezug nehmend auf 4C, wird der Handhabungswafer 204 dann von hinten geätzt, um eine Haltestruktur 112 der Membrananordnung 110 auszuformen. Der Ätzprozess kann z. B. tiefes reaktives Ionenätzen (DRIE) sein. Andere Typen des Ätzens sind möglich. Die zweite Oberfläche des Films 206, welche der Umgebung ausgesetzt ist, wird dann entfernt, unter Verwendung jeglicher herkömmlicher Ätzlösung (nicht gezeigt), wobei die Membran 114, so wie in 4D gezeigt, gelöst wird. Wie früher bereits erwähnt, werden der Umfang des Films 206 und die zweite Oberfläche des Films 206, welche der Umgebung ausgesetzt sind, in einem einzelnen Prozess geätzt, nachdem die Haltestruktur 112 geformt ist.
  • Die 5 bis 6 zeigen eine Membrananordnung 110 für ein Mikrofon 100. Die Membrananordnung 110 umfasst eine Haltestruktur 112 und eine Membran 114. Die Haltestruktur 112 in der Art einer ringförmigen Ringform und korrespondierend zu der internen Konfiguration des Gehäuses umfasst einen äußeren Durchmesser von ungefähr 1,0 mm bis 3,0 mm, wie beispielsweise 3,0 mm, ungefähr 2,5 mm, ungefähr 2,2 mm, ungefähr 2,0 mm, ungefähr 1,5 mm oder ungefähr 1,0 mm. Die Haltestruktur 112 hat einen inneren Durchmesser von ungefähr 0,5 mm bis 2,0 mm, wie beispielsweise ungefähr 2,0 mm, ungefähr 1,8 mm, ungefähr 1,5 mm, ungefähr 1,0 mm oder ungefähr 0,5 mm. Die Dicke der Haltestruktur ist ungefähr 80 μm bis 200 μm, wie beispielsweise ungefähr 200 μm, ungefähr 150 μm, ungefähr 125 μm, ungefähr 100 μm oder ungefähr 80 μm. Die Membran 114 in der Form einer Scheibe wird mit der Haltestruktur 112 durch die mittlere Oxidlage 206 (wie in 4D) in Kontakt gehalten. Die Dicke der Membran 114 ist ungefähr 0,5 μm bis 2,0 μm, wie beispielsweise ungefähr 2,0 μm, ungefähr 1,5 μm, ungefähr 1,0 μm oder ungefähr 0,5 μm. Es wird verstanden werden, dass die Größe der Haltestruktur 112 und die Dicke der Membran 114 zu der Konfiguration des Mikrofons korrespondieren, abhängig von den gewünschten Anwendungen. Ein Einstichloch 148, mit einem Durchmesser von kleiner als 75 μm, wie beispielsweise kleiner als 60 μm, wie beispielsweise kleiner als 50 μm, wie beispielsweise kleiner als 40 μm, wie beispielsweise kleiner als 30 μm, wie beispielsweise kleiner als 20 μm, wie beispielsweise kleiner als 15 μm, wie beispielsweise kleiner als 13 μm, wie beispielsweise kleiner als 10 μm, wie beispielsweise kleiner als 8 μm, ist an der Membran 114 ausgeformt, so wie in 6 gezeigt. Das Einstichloch 148 wird verwendet, um die tieffrequente Dämpfung des Mikronfons 100 zu regeln. Ein Vorteil der Siliziummembrananordnung ist, dass kein Klebstoff erforderlich ist, da die Membran und die Haltestruktur in einem einzigen Prozess hergestellt werden. Die Siliziummembrananordnung expandiert gleichmäßig, wenn sich die Temperatur verändert, da der Ring und die Membran aus dem identischen Material zusammengesetzt sind. Weiterhin reagiert die Membran nicht auf Veränderungen der Feuchtigkeit. Da die Membrananordnung eine monolithische Siliziumstruktur ist, können aufeinander abgestimmte Paare von Wandlern über eine längere Zeitperiode hinweg garantiert werden.
  • 7 zeigt eine Draufsicht auf einen Wafer 300 zum Ausformen einer Mehrzahl von Membrananordnungen. Der Wafer 300 wird dann auf einem Schneideband (nicht gezeigt) installiert und nachfolgend entlang einer Schneidestraße 302 geschnitten, um eine Mehrzahl von Membrananordnungen 110 zu produzieren. Das Schneiden kann realisiert werden unter Verwendung einer Säge, eines Lasers, oder durch Ritzen und Brechen. Andere Beispiele von Schneideprozessen sind möglich.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele dieser Erfindung sind hierin beschrieben, umfassend der beste Modus zur Ausführung der Erfindung, welcher den Erfindern bekannt ist. Es sollte verstanden werden, dass die gezeigten Ausführungsbeispiele nur exemplarisch sind und nicht als den Schutzumfang der Erfindung limitierend anzusehen sind.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Vorrichtung zum Wandeln zwischen einem akustischen Signal und einem elektrischen Signal, umfasst eine Rückplattenanordnung umfassend eine geladene Lage und eine leitfähige Lage und eine Membrananordnung, welche in einem vorbestimmten Abstand von der Rückplattenanordnung angeordnet ist. Die Membrananordnung umfasst eine Haltestruktur und eine Membran, wobei die Membran in Reaktion auf ein akustisches Signal vibriert und monolithisch an der Haltestruktur geformt ist, wobei die Haltestruktur und die Membran aus einem gemeinsamen Material zusammengesetzt werden, welches eine thermomechanische Eigenschaft aufweist. Die Vorrichtung umfasst weiterhin ein Zwischenstück, eine Leiterplatte (PCB) und ein Gehäuse. Das Zwischenstück ist zwischen der Rückplattenanordnung und der Membrananordnung ausgeformt, wobei diese zusammen einen Antriebsabschnitt ausbilden. Der Antriebsabschnitt und das PCB sind in dem Gehäuse angeordnet.

Claims (22)

  1. Eine Vorrichtung zum Wandeln zwischen einem akustischen Signal und einem elektrischen Signal, umfassend: eine Rückplattenanordnung umfassend eine geladene Lage und eine leitfähige Lage; und eine Membrananordnung, welche in einem vorbestimmten Abstand von der Rückplattenanordnung positioniert ist, wobei die Membrananordnung eine Haltestruktur und eine Membran umfasst, wobei die Membran in Reaktion auf ein akustisches Signal vibriert und monolithisch an der Haltestruktur angeordnet ist, wobei die Haltestruktur und die Membran aus einem gemeinsamen Material geformt sind.
  2. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei das Material Silizium ist.
  3. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei die Membrananordnung aus einem Silizium-auf-Isolator Wafer geformt ist.
  4. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei die Haltestruktur eine Dicke von ungefähr 80 bis ungefähr 200 μm aufweist.
  5. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei die Haltestruktur einen äußeren Durchmesser und einen inneren Durchmesser umfasst.
  6. Vorrichtung gemäß Anspruch 5, wobei der äußere Durchmesser der Haltestruktur zwischen 1,0 und 3,0 mm beträgt.
  7. Vorrichtung gemäß Anspruch 5, wobei der innere Durchmesser der Haltestruktur zwischen 0,5 und 2,0 mm beträgt.
  8. Vorrichtung gemäß Anspruch 3, wobei die Membran eine Dicke von ungefähr 0,5 bis 2,0 μm aufweist.
  9. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei zur Definition eines Antriebsabschnitts ein Zwischenstück zwischen der Rückplattenanordnung und der Membrananordnung geformt ist.
  10. Vorrichtung gemäß Anspruch 9, wobei das Zwischenstück aus einem Material geformt ist, welches ausgewählt ist aus der Gruppe umfassend Polyethylen Terephthalat (PET), Polyimid, Plastik, Plastikgemische, faserverstärktes Plastik und Kombinationen derer.
  11. Vorrichtung gemäß Anspruch 9, wobei das Zwischenstück ein metallähnliches Material ist.
  12. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei zumindest ein Einstichloch an der Membrananordnung geformt ist, um die Frequenz zu regulieren, um barometrischen Druck bereitzustellen, oder für eine Kombination dieser.
  13. Vorrichtung gemäß Anspruch 12, wobei das Einstichloch einen Durchmesser von ungefähr 8 μm und ungefähr 75 μm hat.
  14. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei die Vorrichtung ein Mikrofon ist.
  15. Mikrofon zur Verwendung in einer Hörhilfe umfassend: eine Rückplattenanordnung umfasst eine geladene Lage, wobei die geladene Lage ein fluoriertes Ethylenpropylenähnliches Material ist; und eine Membrananordnung, welche in einem vorbestimmten Abstand von der Rückplattenanordnung positioniert ist, wobei die Membrananordnung eine Haltestruktur und eine Membran umfasst, wobei die Membran in Reaktion auf ein akustisches Signal vibriert und monolithisch an der Haltestruktur angeordnet ist, wobei die Haltestruktur und die Membran aus einem Einkristallsilizium geformt sind; wobei die Rückplattenanordnung und die Membrananordnung miteinander gekoppelt sind, um einen Antriebabschnitt auszuformen.
  16. Mikrofon gemäß Anspruch 15, wobei ein Zwischenstück zwischen der Rückplattenanordnung und der Membrananordnung geformt ist.
  17. Vorrichtung gemäß Anspruch 15, wobei die Dicke der Haltestruktur ungefähr 125 μm ist.
  18. Vorrichtung gemäß Anspruch 15, wobei die Haltestruktur einen äußeren Durchmesser von ungefähr 2,2 mm hat.
  19. Vorrichtung gemäß Anspruch 15, wobei die Haltestruktur einen inneren Durchmesser von ungefähr 1,8 mm hat.
  20. Vorrichtung gemäß Anspruch 15, wobei die Membran eine Dicke von ungefähr 1 μm hat.
  21. Mikrofon gemäß Anspruch 15, wobei die Rückplattenanordnung eine leitfähige Lage umfasst, benachbart zu der geladenen Lage.
  22. Verfahren zum Herstellen einer Membrananordnung zur Verwendung in einem Mikrofon, wobei die Membrananordnung eine Haltestruktur und ein Membran aufweist, wobei das Verfahren umfasst: Bereitstellen eines Silizium-auf-Isolator Wafers, welcher eine erste Lage, eine Zwischenlage und einen Handhabungswafer aufweist; Ätzen eines Umfangs der ersten Lage, um eine Membran zu formen; weiter selektives Ätzen eines Lochs durch die erste Lage hindurch benachbart zu dem Durchmesser der ersten Lage, um ein Einstichloch zu formen; selektives Rückätzen des Handhabungswafers, um eine Haltestruktur zu formen; und Entfernen eines Abschnitts der unbedeckten Zwischenlage unter Verwendung eines Ätzmittels, um eine Membran zu formen, welche von der Haltestruktur gehalten ist.
DE112008000693T 2007-03-20 2008-02-18 Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür Withdrawn DE112008000693T5 (de)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US89579807P 2007-03-20 2007-03-20
US60/895,798 2007-03-20
US11/742,252 2007-04-30
US11/742,252 US20080232631A1 (en) 2007-03-20 2007-04-30 Microphone and manufacturing method thereof
PCT/US2008/054203 WO2008115643A1 (en) 2007-03-20 2008-02-18 Microphone and manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE112008000693T5 true DE112008000693T5 (de) 2010-02-11

Family

ID=39766311

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE112008000693T Withdrawn DE112008000693T5 (de) 2007-03-20 2008-02-18 Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20080232631A1 (de)
DE (1) DE112008000693T5 (de)
WO (1) WO2008115643A1 (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8401209B2 (en) * 2009-04-23 2013-03-19 Knowles Electronics, Llc Microphone having diaphragm ring with increased stability
SE534314C2 (sv) * 2009-11-10 2011-07-05 Goeran Ehrlund Elektroakustisk omvandlare
US20130284537A1 (en) * 2012-04-26 2013-10-31 Knowles Electronics, Llc Acoustic Assembly with Supporting Members
US9398378B2 (en) * 2012-12-26 2016-07-19 Kyocera Corporation Acoustic generator, acoustic generating apparatus, and electronic apparatus
US9398389B2 (en) 2013-05-13 2016-07-19 Knowles Electronics, Llc Apparatus for securing components in an electret condenser microphone (ECM)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5160870A (en) * 1990-06-25 1992-11-03 Carson Paul L Ultrasonic image sensing array and method
US5856914A (en) * 1996-07-29 1999-01-05 National Semiconductor Corporation Micro-electronic assembly including a flip-chip mounted micro-device and method
US6532293B1 (en) * 2000-02-08 2003-03-11 Knowles Electronics Llc Acoustical transducer with reduced parasitic capacitance
US6847090B2 (en) * 2001-01-24 2005-01-25 Knowles Electronics, Llc Silicon capacitive microphone
US7062058B2 (en) * 2001-04-18 2006-06-13 Sonion Nederland B.V. Cylindrical microphone having an electret assembly in the end cover
US7136496B2 (en) * 2001-04-18 2006-11-14 Sonion Nederland B.V. Electret assembly for a microphone having a backplate with improved charge stability
US6844484B2 (en) * 2001-07-31 2005-01-18 The State Of Israel - Ministry Of Agriculture & Rural Development Arabidopsis BIO2 gene promoter
US7329933B2 (en) * 2004-10-29 2008-02-12 Silicon Matrix Pte. Ltd. Silicon microphone with softly constrained diaphragm

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008115643A1 (en) 2008-09-25
US20080232631A1 (en) 2008-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69611983T2 (de) Mikrofonsystem mit in situ verminderter Beschleunigungsempfindlichkeit
DE102014116129B4 (de) MEMS mit zwei Wandlerelementen
DE102004011148B3 (de) Mikrophon und Verfahren zum Herstellen eines Mikrophons
US9661408B2 (en) Packages and methods for packaging
DE102010062149B4 (de) MEMS-Mikrophonhäusung und MEMS-Mikrophonmodul
DE102014108962A1 (de) Elektronische Vorrichtung mit einem großen Rückvolumen für einen elektromechanischen Wandler
DE60217215T2 (de) Zylindrisches Mikrofon mit einer Elektretanordnung im Enddeckel
DE112018005833T5 (de) Sensorpaket mit eindringschutz
US7239714B2 (en) Microphone having a flexible printed circuit board for mounting components
US7040173B2 (en) Pressure sensor and method for operating a pressure sensor
US20100119097A1 (en) Microphone device and manufacturing method thereof
DE112014004684T5 (de) Integrierte Lautsprechereinheit
WO2006089638A1 (de) Elektrisches modul mit einem mems-mikrofon
DE102011086722A1 (de) Mikromechanische Funktionsvorrichtung, insbesondere Lautsprechervorrichtung, und entsprechendes Herstellungsverfahren
DE102014216742B4 (de) Stapel aus einem MEMS-Chip und einem Schaltungs-Chip
DE102010040370A1 (de) MEMS-Mikrofon-Package
DE102019125815A1 (de) Schallwandlereinheit zum Erzeugen und/oder Erfassen von Schallwellen im hörbaren Wellenlängenbereich und/oder im Ultraschallbereich
KR101339909B1 (ko) 마이크로폰 패키지
DE112008000693T5 (de) Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür
DE102011007549A1 (de) Gehäustes akustisches Wandlergerät mit Abschirmung von elektromagnetischer Interferenz
DE102011084393A1 (de) Mikromechanische Funktionsvorrichtung, insbesondere Lautsprechervorrichtung, und entsprechendes Herstellungsverfahren
US20220286786A1 (en) High volume manufacturing of micro electrostatic transducers
EP1707030A1 (de) Kondensatormikrofon des parallelogrammtyps für smd
US20090097687A1 (en) Diaphragm for a Condenser Microphone
DE102016106122B4 (de) Wandlerpackage mit integrierter Dichtung und Verfahren zu dessen Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee