DE112005000218T5

DE112005000218T5 - Display front panel and method of making the same

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Publication number: DE112005000218T5
Application number: DE112005000218T
Authority: DE
Inventors: Nobuo Naito; Fumihiro Arakawa; Tadahiro Masaki
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2005-01-19
Filing date: 2005-01-19
Publication date: 2007-11-29

Abstract

Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte, umfassend ein transparentes Substrat, eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats durch eine erste, transparente Kleberschicht laminiert ist, und einen Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an die Fläche der metallischen Gitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist, umfassend die Schritte:
(1) Laminieren einer Metallschicht an wenigstens eine Fläche eines transparenten Substrats durch eine erste transparente Kleberschicht, wodurch ein Laminat erhalten ist,
(2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf der Metallschichtseite des Laminats, Ätzen der Metallschicht, um Abschnitte bzw. Teile derselben, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, zu entfernen, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht ausgebildet wird, die ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen und ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist, und
(3) Laminieren eines Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Films an die Seite des Gitterteils der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht und Füllen der Flächen- bzw....A method of manufacturing a display panel comprising a transparent substrate, a metal mesh layer laminated to at least one surface of the transparent substrate through a first transparent adhesive layer, and a near infrared ray shielding film attached to the surface of the metallic mesh layer laminated by a second transparent adhesive layer, comprising the steps of:
(1) laminating a metal layer to at least one surface of a transparent substrate through a first transparent adhesive layer, whereby a laminate is obtained,
(2) providing a lattice patterned resist layer on the metal layer side of the laminate, etching the metal layer to remove portions thereof not covered with the resist layer, and removing the resist layer, thereby forming a metal lattice layer comprising a lattice part a plurality of openings and a frame part around the grating part, and
(3) laminating a near-infrared ray shielding film to the side of the lattice portion of the metal mesh layer through a second transparent adhesive layer and filling the areal

Description

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte, die für das Verhindern von EMI (elektromagnetischer (Wellen) Interferenz) verwendbar ist, welche durch elektromagnetische Wellen, die von Bildschirmen bzw. Displays, wie Plasmabildschirmplatten (nachfolgend auch als PDPs bezeichnet), bewirkt ist, und zum Abschirmen von NIR (nahen Infrarotstrahlen), die von Displays bzw. Bildschirmen emittiert werden, und genauer auf eine Bildschirmvorderplatte, die exzellent in EMI Prevention, NIR Abschirmeigenschaften und Transparenz ist, die durch Laminieren einer Metallgitterschicht an ein transparentes Substrat durch eine transparente Kleberschicht hergestellt wird, in welcher die aufgerauhte Fläche bzw. Oberfläche der Kleberschicht, die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegt ist, mit einer weiteren Kleberschicht abgedeckt ist, durch welche ein naher Infrarotstrahlen abschirmender Film an die Metallgitterschicht laminiert wird, und auf ein Verfahren zur Herstellung der Bildschirmvorderplatte bzw. der Displayvorderplatte bzw. des Frontpaneels.The The present invention relates to a display front panel, the for preventing EMI (electromagnetic (wave) interference) usable by electromagnetic waves generated by Screens or displays, such as plasma display panels (hereinafter also referred to as PDPs), and for shielding NIR (near Infrared rays) emitted by displays or screens be, and more accurately on a screen front panel, the excellent in EMI Prevention, NIR shielding properties and transparency is the by laminating a metal grid layer to a transparent one Substrate is produced by a transparent adhesive layer, in which the roughened surface or surface the adhesive layer, at the openings the metal grid layer is exposed, covered with a further adhesive layer is through which a near infrared ray shielding film is laminated to the metal grid layer, and a method for producing the screen front panel or the display front panel or the front panel.

In dieser Beschreibung beruhen "Verhältnis", "Teil", "%" und dgl., welche Verhältnisse bzw. Proportionen anzeigen, auf einer Gewichtsbasis, außer sie ist anders spezifiziert, und das Symbol "/" bezeichnet, daß Schichten, die vor und nach diesem Symbol beschrieben sind, miteinander einstückig laminiert sind. "NIR", "UV" und "PET" sind Abkürzungen, Synonyme, funktionelle Ausdrücke, gemeinschaftliche Bezeichnungen oder Ausdrücke, die in der Technik ver wendet werden, welche "nahe Infrarotstrahlen", "Ultraviolettlicht", und "Polyethylenterephthalat" bezeichnen.In From this description, "Ratio", "Part", "%" and the like are based on what ratios or proportions, on a weight basis unless it is otherwise specified, and the symbol "/" indicates that layers, which are described before and after this symbol, laminated together in one piece are. "NIR", "UV" and "PET" are abbreviations, Synonyms, functional expressions, common names or terms used in the art which are "close Infrared rays "," ultraviolet light ", and" polyethylene terephthalate ".

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Elektromagnetische Wellen, welche elektromagnetische Einrichtungen generieren, beeinflussen andere elektromagnetische Einrichtungen bzw. Elemente nachteilig, und es wird behauptet, daß sie auch auf den menschlichen Körper und Tiere Einfluß besitzen, und eine Vielzahl von Maßnahmen wurde bereits ergriffen, um derartige elektromagnetische Wellen abzuschirmen. Insbesondere PDPs, welche kürzlich in Gebrauch gelangten, generieren elektromagnetische Wellen mit Frequenzen von 30 bis 130 MHz, so daß sie Computer oder computerunterstützte Vorrichtungen, die nahe den PDPs angeordnet sind, beeinflussen bzw. beeinträchtigen. Es ist daher wünschenswert, soweit wie möglich elektromagnetische Wellen, die von den PDPs emittiert sind, abzuschirmen.electromagnetic Waves that generate electromagnetic devices affect others Electromagnetic devices or elements disadvantageous, and it It is said that she too on the human body and animals have influence, and a variety of measures has already been taken to such electromagnetic waves shield. In particular, PDPs that have recently come into use generate electromagnetic waves with frequencies from 30 to 130 MHz, so that you Computer or computer aided Devices that are located near the PDPs influence or affect. It is therefore desirable as far as possible shield electromagnetic waves emitted by the PDPs.

Eine PDP ist eine Anordnung, bestehend aus einer Glasplatte, die eine Datenelektrode und eine fluoreszierende Schicht aufweist, und einer Glasplatte, die eine transparente Elektrode aufweist, mit einem Gas, wie Xenon oder Neon, das in einem Raum zwischen den zwei Glasplatten versiegelt bzw. eingeschlossen ist. PDPs können in großen Schirmgrößen bzw. Bildschirmgrößen hergestellt werden, verglichen mit konventionellen Bildschirmen bzw. Anzeigen, welche CRTs (Kathodenstrahlröhren) verwenden, und werden nun populär gemacht. Wenn sie betätigt werden, generieren derartige PDPs eine große Menge an unerwünschter Strahlung, umfassend elektromagnetische Wellen, nahe Infrarotstrahlen, unerwünschtes Licht mit spezifischen Wellenlängen und Wärme. Um diese elektromagnetischen Wellen, nahen Infrarotstrahlen und dieses unerwünschte Licht mit spezifischen Wellenlängen abzuschirmen oder zu kontrollieren bzw. zu steuern bzw. zu regeln, wird normalerweise eine Plasmadisplay- bzw. Bildschirmvorderplatte auf die Vorderseite einer PDP, welche eine Plasmaanzeige bzw. einen Plasmabildschirm ausbildet, montiert. Es wird von einer derartigen Plasmadisplayvorderplatte insbesondere gefordert, daß sie Abschirmeigenschaften für elektromagnetische Wellen und Abschirmeigenschaften für nahe Infrarotstrahlen besitzt.A PDP is an arrangement consisting of a glass plate, which is a Data electrode and a fluorescent layer, and a Glass plate having a transparent electrode, with a Gas, such as xenon or neon, in a space between the two glass plates sealed or enclosed. PDPs can be used in large screen sizes or Screen sizes produced compared to conventional screens or displays, which CRTs (cathode ray tubes) use, and are now becoming popular made. When she presses As a result, such PDPs generate a large amount of unwanted Radiation, including electromagnetic waves, near infrared rays, unwanted Light with specific wavelengths and Warmth. Around these electromagnetic waves, near infrared rays and this unwanted light with specific wavelengths to shield or control or control or regulate usually a plasma display or screen front panel on the front of a PDP, which is a plasma display or a Plasma screen forms, mounted. It is of such a Plasmadisplayvorderplatte in particular required that they shielding properties for electromagnetic Has waves and shielding properties for near infrared rays.

Allgemein ist es erforderlich, daß Bildschirmvorderplatten eine Effizienz (Funktion) von 30 dB oder mehr beim Abschirmen von elektromagnetischen Wellen mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz aufweisen, welche von Bildschirmen bzw. Displayelementen emittiert werden. Es ist auch erforderlich, daß sie nahe Infrarotstrahlen mit Wellenlängen von 800 bis 1.100 nm abschirmen, die von Bildschirmelementen emittiert werden, da diese Strahlen eine Fehlfunktion von ferngesteuerten Vorrichtungen, wie VTRs und Infrarotkommunikationseinrichtungen, bewirken.Generally it is necessary that screen front plates an efficiency (function) of 30 dB or more in shielding have electromagnetic waves with frequencies of 30 MHz to 1 GHz, which are emitted by screens or display elements. It is also necessary that they Shield near infrared rays with wavelengths from 800 to 1,100 nm, which are emitted by screen elements as these rays a malfunction of remotely controlled devices such as VTRs and Infrared communication devices cause.

Weiterhin müssen Bildschirmvorderplatten moderate Transparenz (die Eigenschaft zum Übertragen von sichtbaren Licht) und Helligkeit ebenso wie verschiedene Funktionen aufweisen, wie eine Funktion der Verstärkung bzw. Verbesserung der Bildsichtbarkeit, indem an Bildschirme die Eigenschaft des Verhinderns von Reflexion und Blenden von Fremdlicht und eine Funktion der Erhöhung von mechanischer Festigkeit verliehen wird.Farther have to Screen front panels moderate transparency (the property to transfer of visible light) and brightness as well as various functions such as a function of enhancing image enhancement, by turning on screens the property of preventing reflection and blinding extraneous light and a function of increasing mechanical Strength is awarded.

Insbesondere, wenn Bildschirmvorderplatten freigelegte, aufgerauhte Oberflächen aufweisen oder feine Luftblasen enthalten, welche im Verlaufe ihrer Herstellung inkorporiert wurden, reflektieren sie Licht unregelmäßig, um Trübungen zu vergrößern bzw. zu erhöhen. Derartige Bildschirmvorderplatten können den Bildkontrast absenken, wenn sie auf Bildschirmen bzw. Anzeigen bzw. Displays, wie PDPs, festgelegt bzw. montiert sind. Bildschirmvorderplatten müs sen daher eine derartige Transparenz besitzen, daß sie die Bildschirmsichtbarkeit nicht verschlechtern.Especially, if screen front panels have exposed, roughened surfaces or fine air bubbles, which in the course of their preparation were irregular, they reflect light irregularly opacities to enlarge or to increase. Such screen front panels can lower the image contrast, when viewed on screens or displays, such as PDPs, are fixed or mounted. Screen front panels must therefore sen have such transparency that they screen visibility do not worsen.

In einem konventionellen Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte ist jede Schicht, wie eine Schicht, die die Funktion des Verhinderns von elektromagnetischer Welleninterferenz (EMI) aufweist und eine Schicht, die die Funktion des Abschirmens von nahen Infrarotstrahlen (NIR) aufweist, auf jeder Seite eines transparenten Substrats ausgebildet, das aus einer zerbrechlichen Glasplatte, die groß in der Fläche und schwer im Gewicht ist, ausgebildet, während das transparente Substrat umgeschlagen wird. Daher war die Produktion einer Bildschirmvorderplatte schwierig, hat eine große Anzahl von Schritten erfordert und war teuer. Aus diesem Grund besteht eine Anforderung bzw. Nachfrage nach einem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte, mit welcher eine hochgenaue Bildschirmvorderplatte stabil und billig in einer kleineren Anzahl von Schritten hergestellt werden kann, während bestehende Anlagen und Techniken verwendet werden, und mit welchem die Bildschirmvorderplatte auf einem Bildschirm bzw. einer Anzeige bzw. einem Display leicht montiert bzw. festgelegt werden kann.In a conventional method for making a screen front plate is every layer, like a layer, that has the function of preventing of electromagnetic wave interference (EMI) and a Layer, which has the function of shielding near infrared rays (NIR), formed on each side of a transparent substrate, made of a fragile glass plate that is large in area and heavy in weight while the transparent substrate is turned over. Therefore, the production was a screen front plate difficult, has a large number requires steps and was expensive. For that reason, there is a request for a method of manufacturing a screen front panel with which a high-precision screen front panel Stable and cheap made in a smaller number of steps can be while existing equipment and techniques are used, and with which the screen front panel on a screen or a display or a display can be easily mounted or fixed.

Um weiterhin die Eigenschaft des Abschirmens von elektromagnetischen Wellen zu verbessern, müssen Bildschirmvorderplatten in den Rahmenteilen ihrer Metallgitterschichten freigelegte Seiten bzw. Flächen zum Erden aufweisen.Around continue the property of shielding from electromagnetic Need to improve waves Screen front panels in the frame parts of their metal grid layers uncovered pages or surfaces to earth.

Jedoch gab es bis dato keine Bildschirmvorderplatten, die allen Erfordernissen, die praktischen Niveaus von Abschirmeigenschaften für elektromagnetische Wellen, Abschirmeigenschaften für nahe Infrarotstrahlen, gezeigte Bildqualität, gezeigte Bildsichtbarkeit, mechanische Festigkeit und Leichtigkeit der Produktion sind, genügen.however So far, there have not been any front panels that meet all the requirements the practical levels of shielding properties for electromagnetic Waves, shielding properties for near infrared rays, image quality shown, image visibility shown, mechanical strength and ease of production are sufficient.

Ein transparentes, elektrisch leitfähiges, elektromagnetisches Wellenabschirmblatt, das durch Ausbilden eines transparenten Indiumzinnoxid (ITO) Films auf einem transparenten Film hergestellt wurde, wurde als ein elektromagnetische Wellen abschirmendes Blatt vorgeschlagen, das sowohl Durchsichteigenschaften als auch elektromagnetische Wellenabschirmeigenschaften aufweist (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungs-Publikationen Nr. 278800/1989 und Nr. 323101/1993). Jedoch ist ein derartiges elektromagnetische Wellen abschirmendes Blatt dahingehend nachteilig, daß es in der elektrischen Leitfähigkeit unzureichend ist und daß es in der Eigenschaft des Abschirmens von elektromagnetischen Wellen versagt bzw. fehlerhaft ist.One transparent, electrically conductive, electromagnetic A wave shield sheet formed by forming a transparent indium tin oxide (ITO) Films was made on a transparent film proposed as an electromagnetic wave shielding sheet, this has both see-through characteristics and electromagnetic wave shielding properties (see, for example, Japanese Patent Laid-Open Publications No. 278800/1989 and No. 323101/1993). However, such is Electromagnetic wave shielding sheet disadvantageous, that it in electrical conductivity is insufficient and that it is in the property of shielding electromagnetic waves failed or incorrect.

Um den obigen Nachteil zu überwinden, wurde kürzlich ein elektromagnetische Wellen abschirmendes Blatt vorgeschlagen, welches durch Laminieren eines Metallgitters, das durch Ätzen einer Metallfolie (Metallschicht) erhalten ist, auf einen transparenten Film produziert wird (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungs-Publikationen Nr. 119675/1999 und Nr. 210988/2001). Ein derartiges Metallgitter hat die Fähigkeit, elektromagnetische Wellen stark genug abzuschirmen, um starke, elektromagnetische Wellen, die von PDPs emittiert sind, abzuschirmen, jedoch weist es keine Fähigkeit auf, um nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen. Da weiterhin ein derartiges Metallgitter üblicherweise durch Laminieren einer Metallfolie und eines transparenten Substrats mit einer Schicht eines Klebers (Kleberschicht) und durch photolithographisches Ausbilden der Metallfolie in ein Gitter hergestellt wird, werden die Oberflächenunregelmäßigkeiten der Metallfolie auf die Fläche bzw. Oberfläche der Kleberschicht übertragen, die an den Öffnungen des Metallgitters freigelegt bzw. belichtet ist, um die Oberfläche aufzurauhen. Darüber hinaus tendieren feine Luftblasen dazu, in die Kleberschicht im Verlaufe des Laminierens der Metallfolie und des transparenten Substrats inkorporiert zu werden. Die Luftblasen, die auf eine derartige Weise inkorporiert sind, verschlechtern bzw. senken die Klebekraft der Kleberschicht ab und reflektieren Licht unregelmäßig, um den Kontrast eines Bilds, das auf einer Anzeige, wie einer PDP, angezeigt ist, von der Seite des transparenten Substrats her gesehen zu verschlechtern.Around overcome the above disadvantage was recently proposed an electromagnetic wave shielding sheet, which by laminating a metal grid, which by etching a Metal foil (metal layer) is obtained on a transparent Film is produced (see, for example, Japanese Patent Laid-Open Publications Nos. 119675/1999 and 210988/2001). Such a metal grid has the ability strong enough to shield electromagnetic waves strong, electromagnetic Shielding waves that are emitted by PDPs, however, points there is no ability on to shield near infrared rays. Since such a Metal mesh usually by laminating a metal foil and a transparent substrate with a layer of an adhesive (adhesive layer) and by photolithographic Forming the metal foil is made into a grid the surface irregularities the metal foil on the surface or surface transfer the adhesive layer, the at the openings of the metal grid is exposed to roughen the surface. About that In addition, fine air bubbles tend to be in the adhesive layer in the Course of laminating the metal foil and the transparent substrate to be incorporated. The bubbles in such a way are incorporated, worsen or reduce the adhesive force of the Glue layer and reflect light irregularly to the contrast of a Image displayed on a display, such as a PDP, from the Side of the transparent substrate seen deteriorate.

Um die oben beschriebene Rauhigkeit der Kleberschicht, die an den Öffnungen des Metallgitters freigelegt ist, zu verringern, schlägt das japanische Patent Nr. 3473310 ein derartiges Metallgitter vor, wie es in 6 gezeigt ist, das zusätzlich die Wirkung des Abschirmens von nahen Infrarotstrahlen besitzt. Wie dies in 6(A) gezeigt ist, ist eine Metallschicht 21 an ein transparentes Substrat 11 durch eine Schicht eines transparenten Klebers (Kleberschicht) 13 laminiert und lediglich Bereiche bzw. Teile der Metallschicht 21, welche den Öffnungen 105 entsprechen, sind photolithographisch entfernt; die verbleibende Metallschicht bildet eine Metallgitterschicht 21, bestehend aus einem Gitterteil 103, bestehend aus Linienteilen 107, und einem Rahmenteil 101 zum Erden, das das Gitterteil 103 umgibt. Nachfolgend, wie dies in 6(B) gezeigt ist, wird ein Harz, welches im Brechungsindex um 0,14 oder weniger von der Kleberschicht 13 unterschieden ist, auf das Gitterteil 103 der Metallgitterschicht 21 aufgebracht, um eine Harzschicht 30 zu bilden, um die Öffnungen 105 des Gitterteils 103 mit der Harzschicht 30 auszufüllen und um zur selben Zeit optisch die gerauhte Oberfläche R der Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 freigelegt ist, zu eliminieren, wodurch ein Trüben und ein Absinken im Kontrast, das durch unregelmäßige Reflektion von Licht und einem Absinken im Kontrast bewirkt ist, zu verhindern. Da nach, wie dies in 6(C) gezeigt ist, wird eine Beschichtung, enthaltend ein Absorptionsmittel im nahen Infrarot, auf die transparente Harzschicht 30 aufgebracht, um darauf einen Abschirmfilm 40 für nahe Infrarotstrahlen auszubilden. In diesem Verfahren ist es jedoch, da das Harz auf die Metallgitterschicht 21, die Oberflächenunregelmäßigkeiten aufweist, aufgebracht ist, wie dies in 6(B) gezeigt ist, nicht einfach, die Oberfläche des Harzfilms perfekt glatt zu machen. Folglich muß die transparente Harzschicht 30 auf ihrer Oberfläche Wicklungsmuster WP aufweisen, welche die Reflexion der Oberflächenunregelmäßigkeiten der Metallgitterschicht 21 darstellen. Weiterhin wird auch der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 40, der durch Aufbringen der Beschichtung auf die Oberfläche der transparenten Harzschicht 30 gebildet ist, ebenfalls nicht gleichmäßig in der Dicke (hat eine Dickenverteilung). Es bestand daher ein Problem, daß die Absorptionsleistung im nahen Infrarot ebenfalls nicht gleichmäßig wurde.In order to reduce the above-described roughness of the adhesive layer exposed at the openings of the metal mesh, Japanese Patent No. 3473310 proposes such a metal mesh as disclosed in US Pat 6 which additionally has the effect of shielding near infrared rays. Like this in 6 (A) is shown is a metal layer 21 to a transparent substrate 11 through a layer of a transparent adhesive (adhesive layer) 13 laminated and only areas or parts of the metal layer 21 which the openings 105 are photolithographically removed; the remaining metal layer forms a metal grid layer 21 consisting of a lattice part 103 , consisting of line parts 107 , and a frame part 101 to earth, the part of the lattice 103 surrounds. Below, like this in 6 (B) is shown, a resin which is in the refractive index by 0.14 or less from the adhesive layer 13 is different, on the grid part 103 the metal grid layer 21 applied to a resin layer 30 to form around the openings 105 of the lattice part 103 with the resin layer 30 fill and at the same time visually the roughened surface R of the adhesive layer 13 at the openings 105 is exposed to eliminate, whereby a turbidity and a decrease in contrast, which is caused by irregular reflection of light and a decrease in contrast, to prevent. Because after, like this in 6 (C) is shown, a coating containing a near infrared absorbent on the transparent resin layer 30 applied to it a shielding film 40 for near infrared rays. However, in this process it is because the resin on the metal grid layer 21 , which has surface irregularities, is applied, as in 6 (B) is not easy to make the surface of the resin film perfectly smooth. Consequently, the transparent resin layer must 30 have winding patterns WP on their surface which reflect the surface irregularities of the metal grid layer 21 represent. Furthermore, the near infrared ray shielding film also becomes 40 by applying the coating to the surface of the transparent resin layer 30 is also not uniform in thickness (has a thickness distribution). Therefore, there was a problem that the near infrared absorption power also did not become uniform.

Weiterhin waren in elektromagnetische Wellen abschirmenden Komponenten, welche als Bildschirmvorderplatten verwendet wurden, elektromagnetische Wellen abschirmende Klebefilme bekannt, welche zufriedenstellend mit externen Elektroden zum Erden verbunden werden können und welche exzellent in den elektromagnetische Wellen abschirmenden Eigenschaften, Infrarotstrahlen-Abschirmeigenschaften, Transparenz und Nicht-Erkennbarkeit sind, ebenso wie Komponenten, die derartige elektromagnetische Wellen abschirmende Klebefilme verwenden (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungs-Publikationen Nr. 15533/2003, Nr. 66854/2003, und Nr. 324431/2002). Um jedoch die Bildschirmvorderplatten, die in der japanischen Patentoffenlegungs-Publikation Nr. 15533/2003 beschrieben sind, herzustellen, ist es notwendig, einen Anschlußbereich zum Erden durch Entfernen der oberen Schicht durch einen Laserstrahl oder dgl. auszubilden. Um die Bildschirmvorderplatte, die in der japanischen Patentoffenlegungs-Publikation Nr. 66854/2003 beschrieben ist, herzustellen, ist es notwendig, einen Anschlußbereich lediglich durch Entfernen von einer oberen Schicht an der Kante der Vorderplatte auszubilden. Um die Displayvorderplatte bzw. Bildschirmvorderplatte, wie sie in der japanischen Patentoffenlegungs-Publikation Nr. 324431/2002 beschrieben ist, herzustellen, ist es notwendig, eine Elektrode (Anschlußbereich) mittels einer Silberpaste oder einem leitfähigen Klebeband herzustellen. Die Bildschirmvorderplatten, die in diesen Patentpublikationen beschrieben sind, sind somit dahingehend nachteilig, daß für die Herstellung zusätzlich der Schritt des Ausbildens eines Anschlußbereichs erforderlich ist und daß dieser Schritt zusätzliche Einrichtungen und Materialien erfordert, welche zu einem Kostenanstieg führen.Farther were in electromagnetic wave shielding components, which used as screen front panels, electromagnetic Wave shielding adhesive films known which satisfactory can be connected to external electrodes for grounding and which excellently shield in the electromagnetic waves Features, infrared ray shielding properties, transparency and non-recognizability, as well as components such use electromagnetic wave shielding adhesive films (see For example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 15533/2003, No. 66854/2003, and No. 324431/2002). However, in order to as described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 15533/2003 It is necessary to establish a connection area for grounding by removing the upper layer by a laser beam or the like to train. To the screen front plate, which in the Japanese Patent Laid-Open Publication No. 66854/2003 It is necessary to establish a connection area merely by removing an upper layer at the edge form the front plate. To the display front panel or screen front panel, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 324431/2002 It is necessary to produce an electrode (Connection area) by means of a silver paste or a conductive adhesive tape. The screen front panels described in these patent publications are thus disadvantageous to the effect that for the production additionally the Step of forming a terminal area is required and that one Step extra Facilities and materials required, which leads to an increase in costs to lead.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung wurde getätigt, um die oben beschriebenen Probleme im Stand der Technik zu lösen. Ein Ziel bzw. Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Bildschirm- bzw. Display- bzw. Anzeigevorderplatte zur Verfügung zu stellen, umfassend ein transparentes Substrat und eine Metallgitterschicht, die an das transparente Substrat durch eine transparente Kleberschicht laminiert ist, die die Eigenschaft des Verhinderns von EMI und die Eigenschaft des Abschirmens von NIR aufweist, die gleichmäßig in der Fähigkeit NIR abzuschirmen ist, keinerlei unregelmäßige Reflexion von Licht durch die Kleberschicht, die an den Öffnungen der Metallgitterschicht frei gelegt ist, bewirkt, eine derartige Transparenz aufweist, um nicht die Displaysichtbarkeit zu verschlechtern; und ein Verfahren zum Herstellen der Bildschirmvorderplatte zur Verfügung zu stellen.The The present invention has been made to to solve the above-described problems in the prior art. One The aim or object of the present invention is therefore, a Screen or display or display front panel available comprising a transparent substrate and a metal grid layer, which is laminated to the transparent substrate through a transparent adhesive layer that is the property of preventing EMI and the property having the shielding of NIR uniform in ability NIR is shielded, no irregular reflection of light through the adhesive layer, which at the openings of the Metal grid layer is exposed, causes such transparency so as not to degrade the display visibility; and a method for making the screen front panel available put.

Ein weiteres Ziel bzw. ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist es, eine Bildschirmvorderplatte zur Verfügung zu stellen, die in dem Rahmenteil ihrer Metallgitterschicht eine freigelegte bzw. belichtete Oberfläche zum Erden aufweist und um ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Bildschirmvorderplatte zur Verfügung zu stellen.One Another object or object of the present invention is it to provide a video front panel in the Frame part of their metal grid layer an exposed or exposed surface for grounding and a method for producing such Screen front plate available to deliver.

Um die oben beschriebenen Ziele bzw. Aufgaben zu erfüllen, stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Display- bzw. Anzeigevorderplatte zur Verfügung, umfassend ein transparentes Substrat, eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats durch eine erste, transparente Kleberschicht laminiert ist und einen nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an die Fläche der metallischen Gitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist, umfassend die Schritte: (1) Laminieren einer Metallschicht an wenigstens eine Fläche eines transparenten Substrats durch eine erste, transparente Kleberschicht, wodurch ein Laminat erhalten ist, (2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf der Metallschichtseite des Laminats, Ätzen der Metallschicht, um Abschnitte bzw. Teile derselben, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, zu entfernen, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht ausgebildet wird, die ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen und ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist und (3) Laminieren eines nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films an die Seite des Gitterteils der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht und Füllen der Flächen- bzw. Oberflächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht, die an den Öffnungen des Gitterteils freigelegt sind, mit der zweiten Kleberschicht, um die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Fläche der ersten Kleberschicht transparent zu machen.Around to meet the objectives and tasks described above the present invention provides a method of producing a display screen or Display front panel available, comprising a transparent Substrate, a metal grid layer, which at least one surface of the transparent substrate through a first, transparent adhesive layer laminated and a near infrared ray shielding film, the to the surface the metallic grid layer through a second, transparent adhesive layer laminated, comprising the steps of: (1) laminating a metal layer to at least one surface a transparent substrate through a first, transparent adhesive layer, whereby a laminate is obtained, (2) providing a grid patterned one Resist layer on the metal layer side of the laminate, etching the Metal layer to sections or parts of the same, which is not covered with the resist layer, remove, and remove the Resist layer, whereby a metal mesh layer is formed, a grating part with a plurality of openings and a frame part around the grating part, and (3) laminating a near infrared ray shielding film to the side of the lattice portion of the metal mesh layer through a second transparent adhesive layer and filling the Surface or surface irregularities the first layer of adhesive exposed at the openings of the lattice part are, with the second layer of adhesive around the exposed or exposed, roughened surface make the first layer of adhesive transparent.

In dem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Display- bzw. Anzeigevorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, daß sowohl das Laminieren der Metallschicht an das transparente Substrat als auch das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films an die Metallschicht durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wobei kontinuierliche Filme durch ein Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Weiterhin ist es bei dem Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films auf die Metallschichtseite durch das Aufwickellade- und -entladesystem bevorzugt, daß wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht freigelegt wird, indem eine Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films kleiner als jene der Metallschicht in dem Laminatfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht, laufen bzw. ablaufen werden.In the method of manufacturing a display panel according to the present invention, it is preferable that both laminating the metal layer to the transparent substrate and laminating the metal substrate near infrared ray shielding film to the metal layer are carried out by dry lamination, wherein continuous films are laminated by a take-up loading and unloading system. Further, in laminating the near infrared ray shielding film to the metal layer side by the takeup charge and discharge system, it is preferable that at least one edge portion of the frame portion of the metal layer be exposed by making a width of the near infrared ray shielding film smaller than that of the metal layer in the laminate film wherein the width refers to a size in a direction perpendicular to a direction in which the near infrared ray shielding film and the laminate film containing the metal layer will run.

Die vorliegende Erfindung stellt auch eine Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte zur Verfügung, umfassend ein transparentes Substrat, eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats mittels einer ersten, transparenten Kleberschicht laminiert ist, und einen nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an eine Fläche der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist, die Metallgitterschicht ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen aufweist, die zweite Kleberschicht Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht ausfüllt, die an den Öffnungen des Gitterteils freigelegt sind, um die freigelegte aufgerauhte Fläche der ersten Kleberschicht transparent zu machen.The The present invention also provides a display front panel available, comprising a transparent substrate, a metal grid layer attached to at least an area of the transparent substrate by means of a first, transparent Adhesive layer is laminated, and a near infrared rays shielding Film attached to a surface the metal grid layer through a second, transparent adhesive layer laminated, the metal mesh layer is a mesh part with a Having a plurality of openings, the second adhesive layer surface or surface irregularities fills in the first layer of adhesive, the at the openings of the grid part are exposed to the exposed roughened Area of to make the first adhesive layer transparent.

In der Bildschirmvorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, daß die Metallgitterschicht weiterhin ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist und daß wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils freigelegt ist, ohne durch den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film abgedeckt zu sein.In the screen front panel according to the present Invention it is preferred that the Metal grid layer also has a frame part around the grid part and that at least an edge portion of the frame part is exposed without passing through the to be covered near infrared rays shielding film.

In dem Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine hochgenaue Bildschirmvorderplatte, die die Eigenschaft des Verhinderns von EMI und die Eigenschaft des Abschirmens von NIR aufweist, die gleichmäßig in der Fähigkeit zum Abschirmen von NIR ist, die keinerlei unregelmäßige Reflexion von Licht durch die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegte Kleberschicht aufweist und die Transparenz aufweist, um nicht die Bildschirmsichtbarkeit zu verschlechtern, stabil und billig in einer kleinen Anzahl von Schritten durch die Verwendung von den bestehenden Anlagen bzw. Einrichtungen und Technologien hergestellt werden.In the method for producing a screen front panel according to the present invention Invention can be a high-precision screen front plate, which is the property of preventing EMI and the property of shielding from NIR, which is uniform in the ability for shielding from NIR, which is not any irregular reflection of light through the at the openings the metal grid layer has exposed adhesive layer and the transparency so as not to degrade screen visibility, stable and cheap in a small number of steps through the Use of existing facilities or technologies getting produced.

Weiterhin ist es gemäß dem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte der vorliegenden Erfindung bevorzugt, daß sowohl das Laminieren der Metallschicht auf das transparente Substrat als auch das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films auf die Metallschicht durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wodurch kontinuierliche Filme durch das Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Wenn Trockenlaminieren angewandt wird, ist es möglich, mit hoher Produktivität und hoher Ausbeute eine Bildschirmvorderplatte durch die Verwendung der bestehenden Anlagen bzw. Einrichtungen und Techniken in einem kontinuierlichen Verfahren des Aufwickellade- und -entladesystems herzustellen.Farther it is according to the procedure for making a screen front panel of the present invention preferred that both laminating the metal layer on the transparent substrate as also laminating the near infrared ray shielding film be carried out on the metal layer by dry lamination, whereby continuous films through the take-up loading and unloading system be laminated. When dry lamination is used, it is possible, with high productivity and high yield a screen front plate by the use existing installations or facilities and techniques in one continuous process of the take-up loading and unloading system manufacture.

Weiterhin ist es gemäß dem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte der vorliegenden Erfindung bevorzugt beim Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films auf die Seite der Metallschicht durch das Aufwickellade- und -entladesystem wenigstens einen Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht freizulegen, indem eine Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films kleiner als jene der Metallschicht in dem Laminierfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht, laufen bzw. ablaufen. Indem dies ausgeführt wird, ist es leicht möglich, in dem Rahmenteil der Metallschicht einen freigelegten Bereich auszubilden, der für das Erden verwendbar ist, ohne gesondert einen Schritt des Abschälens und Entfernens einer Beschichtung, eines Films oder dgl. von dem Rahmenteil der Metallschicht auszuführen. Darüber hinaus kann die Bildschirmvorderplatte leicht auf einem Bildschirm bzw. einem Display montiert werden.Farther it is according to the procedure for making a screen front panel of the present invention preferred in laminating the near infrared ray shielding Films on the side of the metal layer through the winding loading and unloading system at least one edge portion of the frame part of the metal layer expose by shielding a width of the near infrared rays Film smaller than that of the metal layer made in the lamination film is, where the width is perpendicular to a size in one direction refers to a direction in which the near infrared rays shielding film and the laminate film containing the metal layer, run or expire. By doing this, it is easily possible in form an exposed area of the frame part of the metal layer, the for the earth is usable, without separately a step of peeling and removing a coating, a film or the like. From the frame part of Perform metal layer. Furthermore can the screen front panel easily on a screen or to be mounted on a display.

Andererseits wird gemäß der vorliegenden Erfindung eine Bildschirmvorderplatte zur Verfügung gestellt, umfassend ein transparentes Substrat und eine Metallgitterschicht, die auf das transparente Substrat durch eine transparente Kleberschicht laminiert ist, die die Eigenschaft des Verhinderns von EMI und die Eigenschaft des Abschirmens von NIR aufweist, die gleichmäßig bzw. gleichbleibend in der Fähigkeit und Abschirmen von NIR ist, selbst wenn die erste Kleberschicht einige Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten aufweist, die keine unregelmäßige Reflexion von Licht durch die Kleberschicht bewirkt, die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegt ist und die Transparenz aufweist, um nicht die Bildschirmsichtbarkeit zu verschlechtern.on the other hand is according to the present invention a screen front panel provided comprising transparent substrate and a metal grid layer, which on the transparent substrate laminated by a transparent adhesive layer that is the property of preventing EMI and the property of shielding of NIR which is uniform in the ability and shielding of NIR, even if the first adhesive layer some surface or surface irregularities that does not have irregular reflection caused by light through the adhesive layer, which at the openings the metal grid layer is exposed and has the transparency, so as not to degrade the screen visibility.

Weiterhin ist es gemäß der Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte der vorliegenden Erfindung bevorzugt, daß wenigstens ein Kantenabschnitt bzw. Kantenbereich des Rahmenteils der Metallgitterschicht für das Erden freigelegt ist. Indem dies so ausgeführt wird, wird es möglich, die Bildschirmvorderplatte zu erden, um die Fähigkeit der Bildschirmplatte, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, weiter zu verbessern, und darüber hinaus kann die Bildschirmvorderplatte auf einem Bildschirm bzw. einem Display einfach festgelegt werden.Furthermore, according to the display front panel of the present invention, it is preferable that at least one edge portion of the frame part of the metal mesh layer for grounding be exposed. By doing so, it becomes possible to ground the screen front plate to reduce the screen disk's ability to shield electromagnetic waves. To further improve, and moreover, the screen front panel can be easily set on a screen or a display.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

1 ist eine Draufsicht, die eine Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung zeigt; 1 Fig. 10 is a plan view showing a screen front plate according to an embodiment of the present invention;

2 ist eine perspektivische Ansicht, die das Gitterteil der Metallgitterschicht in der Bildschirmvorderplatte, die in 1 gezeigt ist, zeigt; 2 FIG. 16 is a perspective view showing the lattice portion of the metal grid layer in the screen front plate shown in FIG 1 shown shows;

3 ist eine Schnittansicht, die ein Hauptteil der Bildschirmvorderplatte gemäß der Ausbildung der vorliegenden Erfindung zeigt; 3 Fig. 10 is a sectional view showing a main part of the screen front plate according to the embodiment of the present invention;

4 ist eine Schnittansicht, die eine modifizierte Metallschicht zur Verwendung in einer Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung zeigt; 4 Fig. 10 is a sectional view showing a modified metal layer for use in a screen front plate according to an embodiment of the present invention;

5 sind Schnittansichten eines Hauptteils der Bildschirmvorderplatte zum Erklären eines Verfahrens zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung; und 5 13 are sectional views of a main part of the screen front plate for explaining a method of manufacturing a screen front plate according to an embodiment of the present invention; and

6 sind Schnittansichten eines Hauptteils einer Bildschirmvorderplatte zum Erklären eines konventionellen Verfahrens zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte. 6 11 are sectional views of a main part of a screen front plate for explaining a conventional method of manufacturing a screen front plate.

BESTE ART DER AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNGBEST WAY OF THE EXECUTION OF INVENTION

Ausbildungen der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben werden.training The present invention will be described below with reference to FIG the accompanying drawings will be described.

Ein Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung wird zuerst unter Bezugnahme auf 5 erklärt.A method of manufacturing a display face plate according to an embodiment of the present invention will first be described with reference to FIG 5 explained.

Wie in 5 gezeigt, umfaßt ein Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung die Schritte (1) Laminieren einer Metallschicht 21 an wenigstens eine Fläche bzw. Oberfläche eines transparenten Substrats 11 durch eine Schicht aus einem transparenten Kleber (erste Kleberschicht) 13, wodurch ein Laminat erhalten wird (5(A)), (2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf einer Fläche der Metallschicht 21 des Laminats, Ätzen der Metallschicht 21, um Abschnitte bzw. Bereiche derselben zu entfernen, die nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht 21 gebildet wird, die ein Gitterteil 103 aufweist, bestehend aus einer Mehrzahl von Linienteilen 107 und einer Mehrzahl von Öffnungen 105, und ein Rahmenteil 101 rund um das Gitterteil 103 (siehe 1, eine Draufsicht) (5(B)), und (3) Laminieren eines vorgeformten, nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 auf Flächen des Gitterteils 103 und des Rahmenteils 101 der Metallgitterschicht 21 durch eine Schicht aus einem transparenten Kleber (zweite Kleber schicht) 33, und Füllen bzw. Verfüllen von Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt sind, mit der zweiten Kleberschicht 33, um optisch die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 zu eliminieren, wodurch die aufgerauhte Oberfläche R transparent gemacht wird (5(C)).As in 5 As shown in Fig. 1, a method of manufacturing a screen front plate according to this embodiment comprises the steps of (1) laminating a metal layer 21 to at least one surface of a transparent substrate 11 through a layer of a transparent adhesive (first adhesive layer) 13 , whereby a laminate is obtained ( 5 (A) ), (2) providing a grid-patterned resist layer on a surface of the metal layer 21 of the laminate, etching the metal layer 21 to remove portions thereof that are not covered with the resist layer, and removing the resist layer, thereby forming a metal mesh layer 21 is formed, which is a lattice part 103 comprising, consisting of a plurality of line parts 107 and a plurality of openings 105 , and a frame part 101 around the lattice part 103 (please refer 1 , a top view) ( 5 (B) and (3) laminating a preformed near infrared ray shielding film 41 on surfaces of the lattice part 103 and the frame part 101 the metal grid layer 21 through a layer of a transparent adhesive (second layer of adhesive) 33 , and filling of surface irregularities R of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 are exposed with the second adhesive layer 33 optically the exposed roughened surface R of the first adhesive layer 13 to eliminate, making the roughened surface R transparent ( 5 (C) ).

In dem Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung ist es bevorzugt, daß sowohl das Laminieren der Metallschicht 21 an das transparente Substrat 11 als auch das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 an die Metallschicht 21 durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wobei kontinuierliche Filme durch ein Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Weiterhin ist es in diesem Verfahren bevorzugt, daß wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freigelegt bzw. belichtet wird, indem eine Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 kleiner als jene der Metallschicht 21 in dem Laminatfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm, enthaltend das transparente Substrat 11 und die Metallschicht 21, laufen bzw. geführt werden (siehe 3).In the method of manufacturing a screen face plate according to this embodiment, it is preferable that both the lamination of the metal layer 21 to the transparent substrate 11 as well as laminating the near infrared ray shielding film 41 to the metal layer 21 by dry laminating, whereby continuous films are laminated by a take-up loading and unloading system. Furthermore, it is preferred in this method that at least one edge portion of the frame part 101 the metal layer 21 is exposed by exposing a width of the near infrared ray shielding film 41 smaller than that of the metal layer 21 is made in the laminate film, wherein the width refers to a size in a direction perpendicular to a direction in which the near infrared ray shielding film 41 and the laminate film containing the transparent substrate 11 and the metal layer 21 , run or run (see 3 ).

Die Bildschirmvorderplatte 1, die durch das oben beschriebene Herstellungsverfahren hergestellt wird, umfaßt, wie dies in 1 bis 3 gezeigt ist, das transparente Substrat 11, die Metallgitterschicht 21, die auf wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats 11 durch die erste, transparente Kleberschicht 13 laminiert ist, und den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41, der an die Flächen des Metallgitterteils 103 und des Rahmenteils 101 der Me tallgitterschicht 21 durch die zweite, transparente Kleberschicht 33 laminiert ist.The screen front plate 1 , which is produced by the manufacturing method described above, comprises, as in 1 to 3 is shown, the transparent substrate 11 , the metal grid layer 21 placed on at least one surface of the transparent substrate 11 through the first transparent adhesive layer 13 laminated, and the near infrared ray shielding film 41 attached to the surfaces of the metal mesh part 103 and the frame part 101 the metal tallgitterschicht 21 through the second, transparent adhesive layer 33 is laminated.

Wie dies in 1 bis 3 gezeigt ist, weist die Metallgitterschicht 21 das Gitterteil 103, bestehend aus einer Mehrzahl von Linienteilen 107 und einer Mehrzahl von Öffnungen 105, und das Rahmenteil 101 rund um das Gitterteil 103 auf; und die zweite Kleberschicht 33 füllt die Flächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt sind, auf, um die freigelegte, aufgerauhte Fläche bzw. Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 transparent zu machen. Weiterhin, wie dies in 3 gezeigt ist, wird wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freigelegt, ohne daß sie mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 abgedeckt ist. In 2 sind die zweite Kleberschicht 33 und der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41, für die Einfachheit des Verständnisses der Konstruktion des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 weggelassen.Like this in 1 to 3 is shown, the metal grid layer 21 the lattice part 103 consisting of a plurality of line parts 107 and a plurality of openings 105 , and the frame part 101 around the lattice part 103 on; and the second adhesive layer 33 fills the surface irregularities of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 are exposed on the exposed roughened surface R of the first adhesive layer 13 make it transparent. Continue, as in 3 is shown, at least one edge portion of the frame part 101 the metal layer 21 uncovered without interfering with the near infrared ray shielding film 41 is covered. In 2 are the second layer of adhesive 33 and the near infrared ray shielding film 41 , for the simplicity of understanding the construction of the lattice part 103 the metal layer 21 omitted.

Die Details des Verfahrens zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung werden beschrieben, indem nachfolgend die oben beschriebenen Schritte in dem Herstellungsverfahren gemeinsam mit Materialien, die in den entsprechenden Schritten zu verwenden sind, aufeinanderfolgend erklärt werden.The Details of the method for making a screen front plate according to this Training will be described below by following the above Steps in the manufacturing process together with materials, which are to be used in the corresponding steps, consecutively explained become.

[Erster Schritt][First step]

Der erste Schritt, der in 5(A) gezeigt ist, ist der Schritt des Laminierens einer Metallschicht 21 an ein transparentes Substrat 11 durch eine Schicht aus einem transparenten Kleber (erste Kleberschicht) 13, wodurch ein Laminat erhalten wird.The first step in 5 (A) is shown, the step of laminating a metal layer 21 to a transparent substrate 11 through a layer of a transparent adhesive (first adhesive layer) 13 , whereby a laminate is obtained.

(Transparentes Substrat)(Transparent substrate)

Eine Vielzahl von Materialien, die Transparenz, isolierende Eigenschaften, Wärmebeständigkeit, mechanische Festigkeit und dgl. aufweisen, die gut genug sind, um den Betriebsbedingungen und den Herstellungsbedingungen zu widerstehen, können als das transparente Substrat 11 verwendet werden. Beispiele dieser Materialien, die hier verwendbar sind, umfassen Glas und transparente Harze.A variety of materials having transparency, insulating properties, heat resistance, mechanical strength and the like, which are good enough to withstand the operating conditions and the production conditions, can be used as the transparent substrate 11 be used. Examples of these materials usable herein include glass and transparent resins.

Die Materialien, die für das transparente Substrat 11 verwendbar sind, beinhalten Glas, Silikatglas, Borsilikatglas und Kalknatronglas, und es ist bevorzugt, nichtalkalisches Glas zu verwenden, welches keine Alkalikomponenten beinhaltet bzw. enthält und welches eine niedrige thermische Expansionsrate bzw. -geschwindigkeit aufweist und exzellent in der Dimensionsstabilität und auch in den Bearbeitungseigenschaften in der Hochtemperaturwärmebehandlung ist. Wenn ein derartiges Nicht-Alkaliglas verwendet wird, kann das transparente Substrat ausgebildet werden, um als ein Substrat für eine Elektrode zu dienen.The materials responsible for the transparent substrate 11 usable include glass, silicate glass, borosilicate glass and soda-lime glass, and it is preferable to use non-alkaline glass which does not contain alkali components and which has a low thermal expansion rate and excellent in dimensional stability and also in working properties in high-temperature heat treatment. When such a non-alkali glass is used, the transparent substrate may be formed to serve as a substrate for an electrode.

Andererseits beinhalten transparente Harze, die für das transparente Substrat 11 verwendbar sind, Polyesterharze, wie Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat, Polyethylennaphthalat, Terephthalsäure-Isophthalsäure-Ethylenglycol-Copolymere und Terephthalsäure-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere; Polyamidharze, wie Nylon 6; Polyolefinharze, wie Polypropylen und Polymethylpenten; Acrylharze, wie Polymethylmethacrylat; Styrolharze, wie Polystyrol- und Styrol-Acrylnitril-Copolymere; Zelluloseharze, wie Triacetylzellulose; Imidharze; und Polycarbonate. Ein Blatt, Film, eine Platte oder dgl. aus irgendeinem dieser Harze kann als das transparente Substrat verwendet werden.On the other hand, transparent resins include those for the transparent substrate 11 usable are polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymers and terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymers; Polyamide resins, such as nylon 6; Polyolefin resins such as polypropylene and polymethylpentene; Acrylic resins, such as polymethylmethacrylate; Styrene resins, such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers; Cellulose resins such as triacetyl cellulose; imide; and polycarbonates. A sheet, a film, a plate or the like of any of these resins can be used as the transparent substrate.

Ein aus einem transparenten Harz gefertigtes, transparentes Substrat 11 kann aus einem Copolymerharz oder einer Mischung (beinhaltend eine Legierung), enthaltend als eine Hauptkomponente irgendeines der oben aufgezählten Harze, gefertigt sein und kann auch ein Laminat aus zwei oder mehreren Schichten sein. Ein derartiges transparentes Substrat 11 kann entweder ein gerichteter bzw. orientierter oder nicht-orientierter bzw. nicht-gerichteter Film sein; um jedoch eine erhöhte Festigkeit zu erhalten, ist es bevorzugt, einen mono- oder biaxialen, gerichteten Film zu verwenden.A transparent substrate made of a transparent resin 11 may be made of a copolymer resin or a mixture (including an alloy) containing as a main component of any of the above enumerated resins, and may also be a laminate of two or more layers. Such a transparent substrate 11 can be either a directed or non-oriented or non-directed film; however, to obtain increased strength, it is preferred to use a mono- or biaxial directional film.

Allgemein ist es bevorzugt, daß das transparente Substrat 11, das aus einem transparenten Harz gefertigt ist, eine Dicke von etwa 12 bis 1000 μm, bevorzugter 50 bis 700 μm, optimal 100 bis 500 μm, aufweist. Andererseits sind etwa 1000 bis 5000 μm allgemein für die Dicke des transparenten Substrats, das aus Glas gefertigt ist, geeignet. In jedem Fall kann ein transparentes Substrat mit einer Dicke kleiner als dem obigen Bereich nicht eine ausreichend hohe, mechanische Festigkeit aufweisen, so daß es sich verwindet, wellig wird oder bricht; während ein transparentes Substrat mit einer Dicke größer als dem obigen Bereich eine exzessiv hohe Festigkeit aufweist, welche aus dem Gesichtspunkt der Kosten verschwenderisch ist.Generally it is preferred that the transparent substrate 11 , which is made of a transparent resin, has a thickness of about 12 to 1000 microns, more preferably 50 to 700 microns, optimally 100 to 500 microns. On the other hand, about 1000 to 5000 μm is generally suitable for the thickness of the transparent substrate made of glass. In any case, a transparent substrate having a thickness smaller than the above range may not have a sufficiently high mechanical strength to twist, curl or break; while a transparent substrate having a thickness greater than the above range has an excessively high strength, which is wasteful from the viewpoint of cost.

Im allgemeinen wird geeigneterweise ein Film aus einem Polyesterharz, wie einem Polyethylenterephthalat oder Polyethylennaphthalat, ein Zelluloseharzfilm oder eine Glasplatte als das transparente Substrat 11 verwendet, da es (sie) exzellent sowohl in der Transparenz als auch der Wärmebeständigkeit und auch billig ist. Von diesen Materialien ist ein Polyethylenterephthalatfilm am meisten bevorzugt, da er schwer zu brechen ist, leicht im Gewicht und leicht zu formen ist. Ein transparentes Substrat, das eine höhere Transparenz aufweist, ist verwendbarer und die bevorzugte Transparenz des transparenten Substrats, ausge drückt als eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht, ist bzw. beträgt 80 % oder mehr.In general, a film of a polyester resin such as a polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a cellulose resin film or a glass plate as the transparent substrate is suitably used 11 used because it is excellent in both transparency and heat resistance and also cheap. Of these materials, a polyethylene terephthalate film is most preferred because it is hard to break, light in weight, and easy to mold. A transparent substrate having a higher transparency is more usable and the preferable transparency of the transparent substrate expressed as a visible light transmittance is 80% or more.

Vor der Anwendung eines Klebers kann das transparente Substrat 11 (z.B. ein transparenter Substratfilm), das mit dem Kleber zu beschichten ist, einer haftfördernden Behandlung, wie einer Coronaentladebehandlung, Plasmabehandlung, Ozonbehandlung, Flämmbehandlung, Primerbeschichtungsbehandlung (auch als Verankerung, adhäsionsfördernde oder adhäsionsverbesserndes Agens), Vorheizbehandlung, Staubentfernungsbehandlung, Vakuumabscheidung oder Alkalibehandlung, unterworfen werden. Additive, wie ultraviolettes Licht, Absorbentien, Füllstoffe, Weichmacher und antistatische Agentien, können gegebenenfalls in transparente Harzfilme, die für das transparente Substrat 11 oder dgl. verwendbar sind, inkorporiert sein bzw. werden.Before applying an adhesive, the transparent substrate 11 (eg, a transparent substrate film) to be coated with the adhesive, adhesion promoting treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer coating treatment (also as anchorage, adhesion promoting or adhesion promoting agent), Vor heat treatment, dust removal treatment, vacuum deposition or alkali treatment. Additives such as ultraviolet light, absorbents, fillers, plasticizers, and antistatic agents may optionally be incorporated in transparent resin films that are transparent to the substrate 11 or the like. Be used, be incorporated or be.

(Metallschicht)(Metal layer)

Metalle, welche eine elektrische Leitfähigkeit aufweisen, die gut genug ist, um zufriedenstellend elektromagnetische Wellen abzuschirmen, wie Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Nickel und Chrom, können als ein Material für die Metallschicht 21 verwendet werden. Die Metallschicht 21 kann eine Schicht aus nicht nur einem einzigen Metall sein, sondern auch eine Legierung, und kann auch aus entweder einer Einzelschicht oder mehreren Schichten zusammengesetzt sein. Spezifisch sind hier niedriggekohlte Stähle, wie niedriggekohlte, unberuhigte Stähle, niedriggekohlte, aluminiumfreie Stähle, Ni-Fe-Legierungen und Invarlegierungen, als Eisenmaterialien bevorzugt. Wenn kathodische Elektroabscheidung als eine Schwärzungsbehandlung ausgeführt wird, ist es bevorzugt, eine Kupferfolie oder eine Kupferlegierungsfolie als eine Metallschicht zu verwenden, da sie leicht als eine Schwärzungsschicht auf einem derartigen Material elektroabzuscheiden ist.Metals having electrical conductivity good enough to satisfactorily shield electromagnetic waves such as gold, silver, copper, iron, nickel and chromium can be used as a material for the metal layer 21 be used. The metal layer 21 For example, a layer may be not only a single metal but also an alloy, and may also be composed of either a single layer or multiple layers. Specifically, here, low-carbon steels such as low-carbon, low-calorie steels, low-carbon aluminum-free steels, Ni-Fe alloys, and invar alloys are preferable as iron materials. When cathodic electrodeposition is performed as a blackening treatment, it is preferable to use a copper foil or a copper alloy foil as a metal layer because it is easy to electrodeposit as a blackening layer on such a material.

Obwohl es möglich ist, sowohl eine gewalzte Kupferfolie als auch eine elektrolytische Kupferfolie als die Kupferfolie zu verwenden, ist eine elektrolytische Kupferfolie bevorzugt, da sie gleichmäßig in der Dicke ist und von exzellenter Anhaftung an eine Schicht, die durch eine Schwärzungsbehandlung und/oder eine Chromatbehandlung gebildet ist, und da sie eine Dicke von weniger als 10 μm aufweisen kann.Even though it possible is, both a rolled copper foil and an electrolytic To use copper foil as the copper foil is an electrolytic Copper foil is preferred since it is uniform in thickness and of excellent adhesion to a layer caused by a blackening treatment and / or a chromate treatment is formed, and since it has a thickness of less than 10 μm can have.

Die Dicke der Metallschicht 21 ist etwa von 1 bis 100 μm und vorzugsweise von 5 bis 20 μm. Wenn die Metallschicht 21 eine Dicke kleiner als der obige Bereich aufweist, weist sie, obwohl sie einfach photolithographisch in ein Gitter bearbeitet werden kann, einen erhöhten, elektrischen Widerstandswert auf und hat somit eine verschlechterte, elektromagnetische Wellenabschirmwirkung. Wenn andererseits die Metallschicht 21 eine Dicke von mehr als dem obigen Bereich aufweist, kann sie nicht in das gewünschte, feine Gitter bearbeitet werden. Folglich hat das Gitter eine abgesenkte, wesentliche Öffnungsrate und eine abgesenkte Lichtdurchlässigkeit, was zu einem Absinken in dem Sichtwinkel und zu einer Verschlechterung der Bildsichtbarkeit führt.The thickness of the metal layer 21 is about from 1 to 100 microns, and preferably from 5 to 20 microns. If the metal layer 21 Although it has a thickness smaller than the above range, although it can easily be photolithographically processed into a grating, it has an increased electrical resistance and thus has a degraded electromagnetic wave shielding effect. On the other hand, if the metal layer 21 has a thickness of more than the above range, it can not be machined into the desired fine mesh. As a result, the grating has a lowered substantial opening rate and lowered light transmittance, resulting in a decrease in the viewing angle and a deterioration of the image visibility.

Für die Metallschicht 21 wird eine Metallschicht, die eine Oberfläche bzw. Fläche mit einer derartigen Oberflächenrauhigkeit aufweist, daß ein mittlerer Oberflächenrauhigkeitswert von 10 Messungen, Rz, erhalten in Übereinstimmung mit JIS-B0601 (1994 Version), von 0,5 bis 10 μm beträgt, bis dato vorzugsweise bzw. günstigerweise verwendet. Dies deshalb, da, wenn die Metallschicht 21 eine Oberflächenrauhigkeit von mehr als der obigen aufweist, sich ein Kleber oder ein Resist nach seiner Aufbringung nicht über die gesamte Oberfläche ausbreitet oder das Inkorporieren von Luft bewirkt bzw. verursacht, um Luftblasen zu enthalten. Jedoch kann gemäß der vorliegenden Erfindung eine Metallschicht mit einer beliebigen Oberflächenrauhigkeit als die Metallschicht 21 verwendet werden. Selbstverständlich ist es effektiver, eine Metallschicht 21 mit einer derartigen Oberflächenrauhigkeit zu verwenden, daß der Rz Wert von 0,5 bis 10 μm beträgt.For the metal layer 21 For example, a metal layer having a surface having a surface roughness such that an average surface roughness value of 10 measurements, Rz, obtained in accordance with JIS-B0601 (1994 version) is from 0.5 to 10 μm, has been preferable to date or favorably used. This is because, if the metal layer 21 has a surface roughness of more than the above, an adhesive or a resist does not spread over the entire surface after its application or causes the incorporation of air to contain air bubbles. However, according to the present invention, a metal layer having an arbitrary surface roughness may be used as the metal layer 21 be used. Of course it is more effective, a metal layer 21 to use with a surface roughness such that the Rz is from 0.5 to 10 microns.

(Schwärzungsschicht)(Blackening)

In dieser Ausbildung kann die oben beschriebene Metallschicht, die auf wenigstens einer Fläche derselben eine Schwärzungsschicht und/oder eine antikorrosive Schicht oder andere fakultative Schichten aufweist, als die Metallschicht 21 verwendet werden. Spezifisch kann eine Metallschicht 21 verwendet werden, die auf jeder Seite eine Schwärzungsschicht und eine antikorrosive Schicht (ein Laminat aus einer antikorrosiven Schicht 23A/einer Schwärzungsschicht 25A/einer Metallschicht 21/einer Schwärzungsschicht 25B/einer antikorrosiven Schicht 23B) aufweist, wie dies in 4 gezeigt ist.In this embodiment, the above-described metal layer having on at least one surface thereof a blackening layer and / or an anti-corrosive layer or other optional layers may be used as the metal layer 21 be used. Specifically, a metal layer 21 used on each side of a blackening layer and an anti-corrosive layer (a laminate of an anti-corrosive layer 23A / a blackening layer 25A / a metal layer 21 / a blackening layer 25B / an anti-corrosive layer 23B ), as shown in FIG 4 is shown.

Von diesen Schichten sind die Schwärzungsschichten 25A, 25B Schichten, die durch Unterwerfen der Flächen der Metallschicht 21 einer Aufrauhungsbehandlung und/oder Schwärzungsbehandlung erhalten werden. Für die Schwärzungsbehandlung kann jedes Verfahren, worin ein Metall, eine Legierung, ein Metalloxid oder Metallsulfid durch eine Vielzahl von Techniken abgeschieden wird, angewandt werden. Bevorzugte Verfahren, die für das Ausführen der Schwärzungsbehandlung geeignet sind, beinhalten Plattieren. Plattieren macht es möglich, einfach bzw. leicht eine Schwärzungsschicht auf der Metallschicht 21 auszubilden und die Oberfläche der Metallschicht 21 gleichmäßig zu schwärzen. Wenigstens ein Metall, gewählt aus Kupfer, Kobalt, Zink, Nickel, Molybdän, Zinn und Chrom, oder eine Verbindung derselben kann als ein Material für das Plattieren verwendet werden. Wenn die anderen Metalle oder Verbindungen ver wendet werden, kann die Metallschicht 21 nicht vollständig geschwärzt werden oder die Anhaftung der Schwärzungsschicht an der Metallschicht 21 ist unzureichend. Diese Probleme treten signifikant in einem Fall auf, wo beispielsweise Cadmium für das Plattieren verwendet wird.Of these layers are the blackening layers 25A . 25B Layers made by subjecting the surfaces of the metal layer 21 a roughening treatment and / or blackening treatment. For the blackening treatment, any method in which a metal, an alloy, a metal oxide or metal sulfide is deposited by a variety of techniques can be employed. Preferred methods suitable for carrying out the blackening treatment include plating. Plating makes it possible, easily or slightly, a blackening layer on the metal layer 21 form and the surface of the metal layer 21 evenly blacken. At least one metal selected from copper, cobalt, zinc, nickel, molybdenum, tin and chromium or a compound thereof may be used as a material for plating. When the other metals or compounds are used, the metal layer may 21 not completely blackened or the adhesion of the blackening layer to the metal layer 21 is insufficient. These problems occur significantly in a case where, for example, cadmium is used for plating.

Ein Plattierverfahren, das günstigerweise angewandt wird, wenn eine Kupferfolie als die Metallschicht 21 verwendet wird, ist kathodisches Elektroabscheidungsplattieren, in welchen die Kupferfolie einer kathodischen Elektrolyse in einem Elektrolyten, wie Schwefelsäure, Kupfersulfat oder Kobaltsulfat, unterworfen wird, wodurch kationische Teilchen auf der Kupferfolie abgeschieden werden. Die kationischen Teilchen, die auf der Oberfläche der Metallschicht 21 in der oben beschriebenen Weise abgeschieden sind, rauhen diese Oberfläche stärker auf und zur selben Zeit machen sie die Metallschicht schwarz in der Farbe. Obwohl Kupferteilchen ebenso wie Teilchen von Kupferlegierungen oder anderen Metallen als kationische Teilchen verwendet werden können, ist es hier bevorzugt, Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen zu verwenden. Der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen ist vorzugsweise von 0,1 bis 1 μm. Die kathodische Elektroabscheidung, die oben beschrieben ist, ist für das Abscheiden von gleichmäßig dimensionierten Teilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,1 bis 1 μm geeignet. Weiterhin wird die Oberfläche der Kupferfolie, wenn sie mit einer hohen Stromdichte behandelt wird, kathodisch und generiert reduzierenden Wasserstoff, der aktiviert wird, so daß eine signifikant verbesserte Anhaftung zwischen der Kupferfolie und den Teilchen erzielt werden kann.A plating method that is favorably applied when a copper foil is used as the metal layer 21 is cathodic electrodeposition plating, in which the copper foil a cathodic electrolysis in an electrolyte such as sulfuric acid, copper sulfate or cobalt sulfate, whereby cationic particles are deposited on the copper foil. The cationic particles on the surface of the metal layer 21 deposited in the manner described above, roughen this surface more and at the same time make the metal layer black in color. Although copper particles as well as particles of copper alloys or other metals may be used as cationic particles, it is preferable to use copper-cobalt alloy particles here. The average particle diameter of the copper-cobalt alloy particles is preferably from 0.1 to 1 μm. The cathodic electrodeposition described above is suitable for the deposition of uniformly sized particles having an average particle diameter of 0.1 to 1 μm. Furthermore, the surface of the copper foil, when treated with a high current density, becomes cathodic and generates reducing hydrogen which is activated so that significantly improved adhesion between the copper foil and the particles can be achieved.

Wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen außerhalb des oben beschriebenen Bereichs gemacht wird bzw. liegt, tritt das folgende Pro blem auf. Wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen größer als der obige Bereich gemacht wird, wird die Metallschicht nicht zufriedenstellend geschwärzt und darüber hinaus tritt ein Abfallen bzw. Herunterfallen der abgeschiedenen Teilchen (ebenfalls als Abfallen der Pulverbeschichtung) leicht auf. Zusätzlich wird das externe Aussehen der agglomerierten Teilchen schlecht in der Dichte und das Aussehen und die Lichtabsorption werden merkbar nicht gleichmäßig. Andererseits sind Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser kleiner als der oben beschriebene Bereich ebenfalls unzureichend in ihrer Fähigkeit, die Metallschicht zu schwärzen, und können nicht vollständig die Reflexion von Fremdlicht zum Absenken der Bildsichtbarkeit vermeiden.If the average particle diameter of the copper-cobalt alloy particles outside of the range described above, this occurs following problem. When the mean particle diameter of the Copper-cobalt alloy particles greater than the above range is made, the metal layer is not satisfactorily blackened and about that In addition, falling or falling of the deposited occurs Particles (also as falling off the powder coating) easily on. additionally The external appearance of the agglomerated particles becomes poor density and appearance and light absorption become noticeable not even. on the other hand are copper-cobalt alloy particles having an average particle diameter smaller than the range described above also insufficient in their ability to blacken the metal layer, and can not completely the Avoid reflection of extraneous light to reduce image visibility.

(Antikorrosive Schichten)(Anti-corrosive layers)

Die antikorrosiven Schichten 23A, 23B haben die Funktion, die Oberflächen bzw. Flächen der Metallschicht 21 und die Schwärzungsschichten 25A, 25B vor Korrosion zu schützen. Zusätzlich, wenn Teilchen verwendet werden, um Schwärzungsschichten 25A, 25B auszubilden (Schwärzungsbehandlung) verhindern die antikorrosiven Schichten 23A, 23B das Abfallen bzw. Herunterfallen oder die Deformation der Teilchen und darüber hinaus machen sie die Schwärzungsschichten 25A, 25B schwärzer. In einem Zeitraum, bevor die Metallschicht 21 an das transparente Substrat 11 laminiert ist, ist es notwendig, die Teilchen der Schwärzungsschichten 25A, 25B vor dem Herunterfallen und vor Verschlechterung zu schützen, so daß die antikorrosiven Schichten 23A, 23B vor dem Laminieren der Metallschicht 21 an das transparente Substrat 11 ausgebildet werden müssen.The anticorrosive layers 23A . 23B have the function, the surfaces or surfaces of the metal layer 21 and the blackening layers 25A . 25B to protect against corrosion. In addition, when particles are used to blackening layers 25A . 25B Forming (blackening treatment) prevent the anti-corrosive layers 23A . 23B the falling off or the deformation of the particles and beyond make them the blackening layers 25A . 25B blacker. In a period before the metal layer 21 to the transparent substrate 11 is laminated, it is necessary, the particles of the blackening layers 25A . 25B To protect against falling and deterioration, so that the anticorrosive layers 23A . 23B before laminating the metal layer 21 to the transparent substrate 11 must be trained.

Konventionelle antikorrosive Schichten können als die antikorrosiven Schichten 23A, 23B verwendet werden und Me talle, wie Chrom, Zink, Nickel, Zinn und Kupfer, Legierungen davon, Oxide dieser Metalle, sind als ein Material für die antikorrosiven Schichten 23A, 23B verwendbar. Vorzugsweise werden Chromverbindungsschichten, die durch Ausführen eines Plattierens mit Zink, gefolgt durch eine Chromatbehandlung, erhalten werden, als die antikorrosiven Schichten 23A, 23B verwendet. Um einen Widerstand gegenüber Säuren zu erhöhen, welcher erforderlich ist, wenn ein Ätzen und ein Waschen mit einer Säure ausgeführt werden, ist es bevorzugt, eine Siliziumverbindung in die antikorrosiven Schichten 23A, 23B zu inkorporieren, und eine derartige Siliziumverbindung beinhaltet ein Silan-Kopplungsagens. Die antikorrosiven Schichten 23A, 23B, die aus den oben beschriebenen Materialien gefertigt sind, sind auch exzellent in der Anhaftung an den Schwärzungsschichten 25A, 25B (insbesondere eine Kupfer-Kobalt-Legierungspartikelschicht) und an der ersten Kleberschicht 13 (insbesondere einem härtbaren Zwei-Komponenten-Urethanharzkleber).Conventional anticorrosive layers can be considered the anticorrosive layers 23A . 23B and metals such as chromium, zinc, nickel, tin and copper, alloys thereof, oxides of these metals are used as a material for the anticorrosive layers 23A . 23B usable. Preferably, chromium compound layers obtained by performing plating with zinc followed by chromate treatment are used as the anticorrosive layers 23A . 23B used. In order to increase resistance to acids which is required when etching and washing with an acid are carried out, it is preferable to form a silicon compound in the anticorrosive layers 23A . 23B and such a silicon compound includes a silane coupling agent. The anticorrosive layers 23A . 23B made of the above-described materials are also excellent in adhesion to the blackening layers 25A . 25B (In particular, a copper-cobalt alloy particle layer) and on the first adhesive layer 13 (especially a curable two-component urethane resin adhesive).

Ein konventionelles Plattierverfahren kann verwendet werden, um eine Schicht aus irgendeinem der obigen Metalle, wie Chrom, Zink, Nickel, Zinn und Kupfer, Legierungen davon und Oxide dieser Metalle, auszubilden. Um eine Chromverbindungsschicht auszubilden, kann beispielsweise ein konventionelles Plattieren oder eine Chromatbehandlung (Chromsäuresalz) ausgeführt werden. Eine Seite des geschwärzten Substrats kann der Chromatbehandlung unterworfen werden, welche durch Beschichten oder Flußbeschichten durchgeführt wird, oder beide Seiten des geschwärzten Substrats können gleichzeitig einer Chromatbehandlung unterworfen werden, welche durch Tauchen ausgeführt wird.One Conventional plating method can be used to make a Layer of any of the above metals, such as chromium, zinc, nickel, Tin and copper, alloys thereof and oxides of these metals, form. For example, to form a chromium compound layer conventional plating or chromate treatment (chromic acid salt) accomplished become. One side of the blackened Substrate may be subjected to the chromate treatment, which by coating or flux coating carried out or both sides of the blackened substrate can simultaneously be one Be subjected to chromate treatment, which is carried out by dipping.

Die Dicke der antikorrosiven Schichten 23A, 23B ist etwa 0,001 bis 10 μm, vorzugsweise 0,01 bis 1 μm.Thickness of anticorrosive layers 23A . 23B is about 0.001 to 10 microns, preferably 0.01 to 1 micron.

(Chromatbehandlung)(Chromate)

Chromatbehandlung ist jene, daß eine Chromatbehandlungsflüssigkeit auf ein zu behandelndes Material aufgebracht wird. Um eine Chromatbehandlungsflüssigkeit aufzubringen, können Walzenbeschichten, Streichen, Gummiwalzenbeschichten, elektrostatisches Sprühen, Tauchbeschichten oder dgl., angewandt werden und die aufgebrachte Chromatbehandlungsflüssigkeit wird ohne, daß sie mit Wasser gewaschen wird, getrocknet. Eine wäßrige Lösung, enthaltend Chromsäure, wird üblicherweise als die Chromatbehandlungsflüssigkeit verwendet. Spezifische Beispiele von Chromatbehandlungsflüssigkeiten, die hier verwendbar sind, beinhalten Alsurf 1000 (Handelsname einer Chromatbehandlungsflüssigkeit, hergestellt von Nippon Paint Co., Ltd., Japan) und PM-284 (Handelsname einer Chromatbehandlungsflüssigkeit, hergestellt von Nippon Parkerizing Co., Ltd. Japan).Chromate treatment is that a chromate treatment liquid is applied to a material to be treated. In order to apply a chromate treatment liquid, roll coating, brushing, rubber roller coating, electrostatic spraying, dip coating or the like can be applied, and the applied chromate treatment liquid is allowed to react with Water is washed, dried. An aqueous solution containing chromic acid is commonly used as the chromate treatment liquid. Specific examples of chromate treatment liquids usable herein include Alsurf 1000 (trade name of a chromate treatment liquid manufactured by Nippon Paint Co., Ltd., Japan) and PM-284 (trade name of a chromate treatment liquid manufactured by Nippon Parkerizing Co., Ltd. Japan) ,

Es ist bevorzugt ein Zinkplattieren vor der oben beschriebenen Chromatbehandlung durchzuführen. Wenn ein Zinkplattieren so ausgeführt wird, kann die Schwärzungsschicht/antikorrosive Schicht (zwei Schichten aus Zinkschicht/Chromatbehandlungsschicht) erhalten werden, und diese Struktur kann eine weitere Verstärkung der interlaminaren Verbindung bzw. des interlaminaren Bondens, der Antikorrosion und des Schwärzungseffekts mit sich bringen.It is preferably zinc plating prior to the above-described chromate treatment perform. When zinc plating is carried out like this, the blackening layer / anticorrosive Layer (two layers of zinc layer / chromate treatment layer) can be obtained, and this structure can further enhance the interlaminar compound or interlaminar bonding, anti-corrosion and the blackening effect entail.

(Verfahren des Laminierens)(Method of lamination)

Das transparente Substrat 11 und die Metallschicht 21 werden mit einer Schicht eines transparenten Klebers (erste Kleberschicht) 13 laminiert und der Querschnittsabschnitt dieses Laminats ist in 5(A) gezeigt. Dieses Verfahren des Laminierens ist wie folgt: ein Kleberharz wird in ein Latex, eine wäßrige Dispersion oder eine organische Lösungsmittellösung eingebracht, welche dann auf die Oberfläche des transparenten Substrats 11 und/oder die Metallschicht 21 durch ein konventionelles Druck- oder Beschich tungsverfahren, wie Siebdrucken, Tiefdrucken, Kommadrucken oder Walzbeschichten, gedruckt oder aufgebracht wird und wird, falls dies notwendig ist, getrocknet; auf diese Kleberschicht wird das andere Glied überlagert und Druck wird ausgeübt. Die Dicke von einer derartigen ersten Kleberschicht 13 (wenn sie getrocknet ist) ist etwa 0,1 bis 20 μm, vorzugsweise 1 bis 10 μm. Es ist bevorzugt, daß die erste Kleberschicht 13 transparent ist und daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 so klein wie möglich ist. Spezifisch ist es bevorzugt, daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 0,14 oder weniger beträgt.The transparent substrate 11 and the metal layer 21 be with a layer of a transparent adhesive (first layer of adhesive) 13 laminated and the cross-sectional portion of this laminate is in 5 (A) shown. This method of lamination is as follows: an adhesive resin is introduced into a latex, an aqueous dispersion or an organic solvent solution, which is then applied to the surface of the transparent substrate 11 and / or the metal layer 21 is printed or applied by a conventional printing or coating method such as screen printing, gravure printing, comma printing or roll coating, and is dried if necessary; on this layer of adhesive, the other member is superimposed and pressure is applied. The thickness of such a first adhesive layer 13 (when dried) is about 0.1 to 20 microns, preferably 1 to 10 microns. It is preferred that the first adhesive layer 13 is transparent and that the difference in refractive index between the first adhesive layer 13 and the second adhesive layer 33 as small as possible. Specifically, it is preferable that the difference in the refractive index between the first adhesive layer 13 and the second adhesive layer 33 0.14 or less.

Spezifisch wird nach dem Aufbringen eines Klebers auf die Oberfläche der Metallschicht 21 und/oder des transparenten Substrats 11 und dem Trocknen des aufgebrachten Klebers das andere Glied auf die Kleberschicht überlagert und Druck wird dann ausgeübt. Vorzugsweise werden die zwei Schichten durch ein Verfahren, das durch die Fachleute als Trockenlaminieren bezeichnet wird, laminiert.Specifically, after applying an adhesive to the surface of the metal layer 21 and / or the transparent substrate 11 and drying the applied adhesive, the other member is superimposed on the adhesive layer and pressure is then applied. Preferably, the two layers are laminated by a method called dry laminating by those skilled in the art.

(Trockenlaminieren)(Dry laminating)

Trockenlaminieren ist ein Verfahren des Laminierens von zwei Gliedern in der folgenden Weise: durch ein Beschichtungsverfahren, wie eine Walze, Umkehrwalze oder ein Tiefdrucken, wird ein Kleber, der in einem Lösungsmittel dispergiert oder gelöst ist, auf eines der zwei Glieder aufgebracht, um einen Film so auszubilden, daß der Film, nachdem er getrocknet ist eine Dicke von etwa 0,1 bis 20 μm aufweist, vorzugsweise 1 bis 10 μm, und das Lösungsmittel wird verdampft, wodurch eine Kleberschicht ausgebildet wird; unmittelbar nach dem Ausbilden der Kleberschicht wird das andere Laminierglied auf die Kleberschicht überlagert; und dieses Laminat wird bei 30 bis 80 °C für mehrere Stun den bis mehrere Tage gealtert, falls dies notwendig ist, um den Kleber auszuhärten. Das Material für die Kleberschicht, die in diesem Trockenlaminieren verwendbar ist, beinhaltet thermohärtende Kleber und Kleber, welche in ionisierender Strahlung, wie ultraviolettem Licht (UV) oder Elektronenstrahlen (EB), härten.dry laminating is a method of laminating two members in the following Way: by a coating method, such as a roller, reverse roller or a gravure, a glue that is in a solvent dispersed or dissolved is applied to one of the two limbs so as to form a film that the Film, when dried, has a thickness of about 0.1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm, and the solvent is evaporated, whereby an adhesive layer is formed; immediate after forming the adhesive layer becomes the other lamination member superimposed on the adhesive layer; and this laminate is at 30 to 80 ° C for several hours to several Days aged, if necessary, to cure the adhesive. The Material for the adhesive layer usable in this dry lamination includes thermosetting Adhesives and adhesives, which in ionizing radiation, such as ultraviolet Light (UV) or electron beams (EB), harden.

Spezifische Beispiele von thermohärtenden Klebern, die hier verwendbar sind, beinhalten härtbare Zwei-Komponeten-Urethankleber, die durch die Reaktion von polyfunktionellen Isocyanaten, wie Tolyol, Diisocyanat oder Hexamethylendiisocyanat mit Hydroxygruppen enthaltenden Verbindungen, wie Polyetherpolyolen oder Polyacrylatpolyolen, erhalten werden; acrylische Kleber; und Gummikleber. Von diesen sind die härtbaren Zwei-Komponenten-Urethankleber bevorzugt. In einem Fall, wo ein thermohärtender bzw. wärmehärtender Kleber verwendet wird, wird nach dem Laminieren der zwei Glieder die Verbindung der zwei Glieder durch Härten des Klebers in einer Umgebung von Raumtemperatur oder einer angehobenen bzw. höheren Temperatur vervollständigt.specific Examples of thermosetting adhesives, usable herein include two-component curable urethane adhesives by the reaction of polyfunctional isocyanates, such as tolyol, Diisocyanate or hexamethylene diisocyanate containing hydroxy groups Compounds such as polyether polyols or polyacrylate polyols; acrylic adhesives; and rubber glue. These are the hardenable ones Two-component urethane adhesive preferred. In a case where one thermosetting or thermosetting Glue is used after lamination of the two limbs the connection of the two members by hardening the adhesive in an environment from room temperature or a raised or higher temperature.

Andererseits in einem Fall, wo ein durch ionisierende Strahlung härtendes Harz, welches in ionisierender Strahlung, wie ultraviolettem Licht (UV) oder Elektronenstrahlen (EB), härtet (reagiert), als der Kleber verwendet wird, wird nach dem Laminieren der zwei Glieder mit einer Schicht aus einem derartigen Kleber das Verbinden der Glieder durch Härten des Klebers durch Anwenden bzw. Aufbringen einer ionisierende Strahlung darauf vervollständigt.on the other hand in a case where an ionizing radiation-curing Resin, which in ionizing radiation, such as ultraviolet light (UV) or electron beam (EB) cures (reacts) as the glue is used after laminating the two members with a Layer of such adhesive connecting the links through hardening of the adhesive by applying an ionizing radiation completed on it.

[Zweiter Schritt][Second step]

Der zweite Schritt, der in 5(B) gezeigt ist, ist der Schritt des photolithographischen Ausbildens der Metallschicht 21, die auf das transparente Substrat 11 laminiert ist, in ein Siebmuster.The second step, in 5 (B) is the step of photolithographically forming the metal layer 21 pointing to the transparent substrate 11 is laminated in a sieve pattern.

(Photolithographie)(Photolithography)

Eine Metallgitterschicht 21, welche als eine elektromagnetische Wellen abschirmende Schicht dient, ist ausgebildet durch: photolithographisches Ausbilden einer gittergemusterten Resistschicht auf der Oberfläche der Metallschicht 21 des Laminats, Ätzen der Metallschicht 21, um Abschnitte bzw. Teile derselben, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, zu entfernen und Abstreifen der Resistschicht.A metal grid layer 21 which as one electromagnetic wave shielding layer is formed by: photolithographically forming a grid-patterned resist layer on the surface of the metal layer 21 of the laminate, etching the metal layer 21 to remove portions of the same which are not covered with the resist layer and stripping the resist layer.

Die metallische Gitterschicht 21, die in der oben beschriebenen Weise hergestellt ist, hat ein Gitterteil 103 und ein Rahmenteil 101 um das Gitterteil 103, wie dies in 1 in einer Draufsicht gezeigt ist. Weiterhin, wie dies in 2 einer perspektivischen Ansicht und in 3 einer Schnittansicht gezeigt ist, besteht das Gitterteil 103 aus einer Mehrzahl bzw. Vielzahl von Linienteilen 107 (die verbleibenden Teile der Metallschicht) und einer Mehrzahl bzw. Vielzahl von Öffnungen 105, die durch die Linienteile 107 definiert sind. Das Rahmenteil 101 besteht vollständig aus der verbleibenden Metallschicht, die keine Öffnungen aufweist. Das Rahmenteil 101 ist fakultativ und kann so zur Verfügung gestellt sein, daß es das Gitterteil 103 umgibt oder sich wenigstens über einen Teil des Bereichs, der das Gitterteil 103 umgibt, erstreckt.The metallic grid layer 21 , which is made in the manner described above, has a grating part 103 and a frame part 101 around the lattice part 103 like this in 1 is shown in a plan view. Continue, as in 2 a perspective view and in 3 a sectional view is shown, there is the grating part 103 from a plurality or plurality of line parts 107 (the remaining parts of the metal layer) and a plurality of openings 105 passing through the line parts 107 are defined. The frame part 101 consists entirely of the remaining metal layer, which has no openings. The frame part 101 is optional and can be provided so that it is the lattice part 103 surrounds or at least over part of the area that the grid part 103 surrounds, extends.

Auch in diesem zweiten Schritt wird ein bandförmiges Laminat in dem Zustand einer kontinuierlich aufgewickelten Rolle bearbeitet. Während nämlich ein derartiges Laminat entweder kontinuierlich oder intermittierend in einem gestreckten bzw. gedehnten und nicht gelockerten Zustand zugeführt wird, werden das Maskieren, Ätzen und das Resistabstreifen ausgeführt.Also in this second step, a belt-shaped laminate in the state processed a continuously wound roll. Namely while a such laminate either continuously or intermittently in a stretched or stretched and not relaxed state is fed will be masking, etching and the resist stripe is executed.

(Maskieren)(Mask)

Ein Maskieren wird beispielsweise auf die folgende Weise ausgeführt: zuerst wird ein photoempfindlicher Resist auf die Metallschicht 21 aufgebracht und getrocknet; diese Resistschicht wird einem Kontaktbelichten unter Verwendung einer Originalplatte mit einem vorbestimmten Muster (einem Muster entsprechend den Linienteilen 107 des Gitterteils 103 und dem Rahmenteil 101) unterworfen; danach werden Entwicklung mit Wasser, Filmhärtungsbehandlung und ein Trocknen bzw. Ofentrocknen ausgeführt. Der Resist wird in der folgenden Weise aufgebracht: Während kontinuierlich oder intermittierend das bandartige Laminat in dem Zustand einer kontinuierlich aufgewickelten Rolle abgewickelt und zugeführt wird, wird ein Resist, der aus Kasein, PVA oder Gelatine gebildet ist, auf die Metallschicht 21 des Laminats durch ein derartiges Verfahren wie Tauchen (Immersion), Streichen oder Flußbeschichten aufgebracht. Alternativ kann ein trockener Filmresist als der Resist verwendet werden; die Verwendung eines trockenen Filmresists kann die Arbeitseffizienz verbessern. Wenn Kasein für den Resist verwendet wird, wird das oben beschriebene Trocknen üblicherweise in einer erwärmten Umgebung ausgeführt und in diesem Fall ist es wünschenswert, das Trocknen bei einer so niedrigen Temperatur wie möglich auszuführen, um das Laminat am Aufrollen bzw. Zurückziehen zu hindern.Masking is carried out, for example, in the following manner: first, a photosensitive resist is applied to the metal layer 21 applied and dried; This resist layer is subjected to contact exposure using an original plate having a predetermined pattern (a pattern corresponding to the line parts 107 of the lattice part 103 and the frame part 101 ) subjected; then development with water, film hardening treatment and drying or oven drying are carried out. The resist is applied in the following manner: While continuous or intermittent, the tape-like laminate is unwound and fed in the state of a continuously wound roll, a resist formed of casein, PVA or gelatin is coated on the metal layer 21 of the laminate by such a method as immersion, brushing or flow coating. Alternatively, a dry film resist may be used as the resist; the use of a dry film resist can improve the work efficiency. When casein is used for the resist, the above-described drying is usually carried out in a heated environment, and in this case, it is desirable to carry out the drying at a temperature as low as possible to prevent the laminate from being rolled up.

(Ätzen)(Etching)

Das Ätzen des Laminats wird nach dem Maskieren des Laminats in der oben beschriebenen Weise ausgeführt. Da das Laminat in dieser Ausbildung kontinuierlich geätzt wird, ist es bevorzugt, als ein Ätzmittel eine Eisen- oder Kupferchloridlösung zu verwenden, welche leicht zirkuliert werden kann.The etching of the Laminate becomes after masking the laminate in the above described Way executed. Since the laminate is continuously etched in this embodiment, it is preferred as an etchant an iron or copper chloride solution to use, which can be easily circulated.

Das Ätzen des Laminats kann durch die Verwendung einer Einrichtung und von Verfahren, welche grundsätzlich die selben, wie jene für die Verwendung in der Herstellung von Lochmasken für Kathodenstrahlröhren oder Farb-TVs sind, durchgeführt werden, in welchen bandförmige, kontinuierliche Stahlgrundlagen bzw. -basisplatten (insbesondere eine dünne Platte mit einer Dicke von 20–80 μm) geätzt werden. Es ist somit für das Ätzen des Laminats möglich, die bestehenden Einrichtungen für die Herstellung von Lochmasken zu verwenden und kontinuierlich eine Serie von Schritten von einem Maskieren bis zu einem Ätzen auszuführen, so daß die Produktionseffizienz extrem hoch ist.The etching of the Laminate can be obtained by the use of a device and methods which basically the same as those for the use in the production of shadow masks for cathode ray tubes or Color TVs are to be performed in which band-shaped, continuous steel bases or base plates (in particular a thin plate with a thickness of 20-80 microns) are etched. It is thus for the etching the laminate possible, the existing facilities for to use the production of shadow masks and continuously one Series of steps from masking to etching, so on that the Production efficiency is extremely high.

Das in der oben beschriebenen Weise geätzte Laminat wird einem Waschen mit Wasser, Abstreifen des Resists mit einer alkalischen Lösung und einem Reinigen unterworfen und wird dann getrocknet.The Laminated in the manner described above is a washing with water, stripping the resist with an alkaline solution and subjected to cleaning and is then dried.

(Gitterteil)(Grating portion)

Das Gitterteil 103 der Metallgitterschicht 21 ist ein Bereich, der durch das Rahmenteil 101 umgeben ist. Das Gitterteil 103 hat Linienteile 107, welche eine Mehrzahl von Öffnungen 105 definieren. Es gibt keine Beschränkungen betreffend die Form der Öffnungen 105 (Gittermuster) und Beispiele der Form der Öffnungen 105, die hier verwendbar sind, umfassen Dreiecke, wie gleichseitige Dreiecke, Quadrate, wie regelmäßige Quadrate, Rechtecke, Rhomben und Trapezoide, Polygone, wie ein Hexagon, Kreise und Ovale. Das Gitterteil 103 kann Öffnungen aufweisen, welche eine Kombination von Öffnungen mit zwei oder mehreren unterschiedlichen Formen sind.The lattice part 103 the metal grid layer 21 is an area that passes through the frame part 101 is surrounded. The lattice part 103 has line parts 107 which has a plurality of openings 105 define. There are no restrictions on the shape of the openings 105 (Grid pattern) and examples of the shape of the openings 105 Usable here include triangles such as equilateral triangles, squares such as regular squares, rectangles, rhombuses and trapezoids, polygons such as a hexagon, circles and ovals. The lattice part 103 may have openings which are a combination of openings with two or more different shapes.

Aus dem Gesichtspunkt der Öffnungsrate des Gitterteils 103 und aus der Nicht-Erkennbarkeit dieses Teils ist es bevorzugt, daß die Linienbreite W der Linienteile 107 des Gitterteils 103 (siehe 2) 50 μm oder weniger, vorzugsweise 20 μm oder weniger, beträgt. Aus dem Gesichtspunkt der Lichtdurchlässigkeit ist es bevorzugt, daß der Abstand zwischen den Linien (Linienzwischenraum) P in den Linienteilen 107 (siehe 2) 125 μm oder mehr, vorzugsweise 200 μm oder mehr, beträgt. Die Öffnungsrate ist vorzugsweise 50 % oder mehr. Um das Auftreten von Moirestreifen oder dgl. zu vermeiden, kann der Neigungswinkel (der Winkel zwischen den Linienteilen 107 des Gitterteils 103 und den Seiten (Kanten) der Displayvorderplatte bzw. der Bildschirmvorderplatte 1 (elektromagnetisches Wellenabschirmblatt)) geeignet unter Berücksichtigung der Bildpunkt- und Emissionseigenschaften eines Bildschirms gewählt werden.From the viewpoint of the opening rate of the grille part 103 and from the non-recognizability of this part, it is preferable that the line width W of the line parts 107 of the lattice part 103 (please refer 2 ) Is 50 μm or less, preferably 20 μm or less. From the viewpoint of light transmittance, it is preferable that the distance between the lines (line space) P in the line line len 107 (please refer 2 ) Is 125 μm or more, preferably 200 μm or more. The opening rate is preferably 50% or more. In order to avoid the occurrence of moire stripes or the like, the inclination angle (the angle between the line parts 107 of the lattice part 103 and the sides (edges) of the display front panel and the screen front panel, respectively 1 (electromagnetic wave shielding sheet)) are suitably selected in consideration of the pixel and emission characteristics of a screen.

Wie dies in 5(B) gezeigt ist, ist die Oberfläche der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt bzw. belichtet ist, aufgerauht (übertragen) durch die Oberflächenunregelmäßigkeiten von jenen Abschnitten der Metallschicht 21, welche durch Ätzen entfernt wurden, und verbleibt als eine aufgerauhte Oberfläche R. Eine derartige aufgerauhte Oberfläche R diffundiert Licht unregelmäßig, um eine Trübung bzw. einen Schleier zu erhöhen, und wenn eine Vorderplatte mit einer derartigen aufgerauhten Oberfläche auf einen Bildschirm, wie eine PDP, angebracht bzw. montiert wird, ist der Kontrast eines Bilds, das auf dem Bildschirm angezeigt ist, abgesenkt und die Bildsichtbarkeit ist somit verschlechtert.Like this in 5 (B) is shown, the surface of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 is exposed, roughened (transferred) by the surface irregularities of those portions of the metal layer 21 which has been removed by etching and remains as a roughened surface R. Such roughened surface R diffuses light irregularly to increase haze, and when a faceplate having such a roughened surface on a screen such as a PDP is mounted, the contrast of an image displayed on the screen is lowered and the image visibility is thus deteriorated.

[Dritter Schritt][Third step]

Der dritte Schritt, der in 5(C) gezeigt ist, ist der Schritt des Laminierens eines vorgeformten, nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 auf die Seiten des Gitterteils 103 und des Rahmenteils 101 der Metallgitterschicht 21 mittels einer Schicht eines transparenten Klebers (zweite Kleberschicht) 33.The third step in 5 (C) is the step of laminating a preformed near infrared ray shielding film 41 on the sides of the lattice part 103 and the frame part 101 the metal grid layer 21 by means of a layer of a transparent adhesive (second adhesive layer) 33 ,

(Verfahren des Laminierens)(Method of lamination)

Das Material für die zweite Kleberschicht 33 und das Verfahren des Laminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 auf die Metallschicht 21 können dasselbe wie das Material für die erste Kleberschicht 13 und das Verfahren des Laminierens der Metallschicht 21 auf das transparente Substrat 11 sein.The material for the second adhesive layer 33 and the method of laminating the near infrared ray shielding film 41 on the metal layer 21 may be the same as the material for the first layer of adhesive 13 and the method of laminating the metal layer 21 on the transparent substrate 11 be.

Ein härtbarer Zwei-Komponenten-Urethankleber wird für die zweite Kleberschicht 33 bevorzugt. Um weiterhin optisch die aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 zu eliminieren, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt bzw. belichtet ist, ist es wünschenswert, daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 so klein wie möglich ist, vorzugsweise 0,14 oder weniger. Ein derartig kleiner Unterschied im Brechungsindex kann leicht erzielt werden, wenn derselbe Kleber verwendet wird, um die erste Kleberschicht 13 und die zweite Kleberschicht 33 auszubilden.A curable two-component urethane adhesive is used for the second layer of adhesive 33 prefers. To further optically the roughened surface R of the first adhesive layer 13 to eliminate that at the openings 105 of the lattice part 103 the metal layer 21 is exposed, it is desirable that the difference in refractive index between the first adhesive layer 13 and the second adhesive layer 33 is as small as possible, preferably 0.14 or less. Such a small difference in refractive index can be easily achieved when the same adhesive is used to form the first adhesive layer 13 and the second adhesive layer 33 train.

Trockenlaminieren ist ein bevorzugtes Verfahren des Laminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 an die Metallschicht 21.Dry lamination is a preferred method of laminating the near infrared ray shielding film 41 to the metal layer 21 ,

Wenigstens das Gitterteil 103 der Metallschicht 21 mit der zweiten Kleberschicht 33 abzudecken, reicht für den Zweck und in dem Schritt des Trockenlaminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 an die Metallschicht 21, kann nur das Gitterteil 103 mit einem Kleber durch intermittierendes Beschichten beschichtet werden. Indem ein Kleber in einer derartigen Weise aufgebracht wird, ist es möglich, wenigstens einen Kantenabschnitt (üblicherweise vier Kantenabschnitte) des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freizulegen bzw. belichten. In diesem Fall ist es in dem Laminierverfahren des Aufwickellage- und -entladesystems, in welchem die Metallschicht 21 und der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 in Form von bandartigen, kontinuierlichen Filmen (Geweben) zugeführt werden und laminiert werden, während sie in der längeren Richtung laufen, möglich, wenn die Breite des nahen Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 schmäler gemacht ist als jene der Metallschicht 21, um gleich der Kleberaufbringbreite zu sein, wobei die Breite sich auf die Größe einer Richtung senkrecht zu der Richtung, in welche der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm, beinhaltend das transparente Substrat 11 und die Metallschicht 21, laufen, zum Freilegen bzw. Belichten für ein Erden von wenigstens einem der zwei Kantenabschnitte in der Bandlaufrichtung des Rahmenteils 101 zu dehnen bzw. zu recken. In diesem Fall werden die anderen zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101, die senkrecht auf die Bandlaufrichtung gedehnt bzw. gereckt sind, mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 abgedeckt und die Abschnitte des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41, welche diese Kantenabschnitte des Rahmenteils 101 abdecken, können entweder belassen werden wie sie sind oder geeignet entfernt werden. Selbstverständlich kann ein nahe Infrarotstrahlen abschirmender Film 41 mit einer größeren Breite verwendet werden und der Abschnitt des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41, welcher wenigstens einen Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 abdeckt, kann durch ein konventionelles Halbstanzverfahren oder dgl. entfernt werden.At least the grid part 103 the metal layer 21 with the second adhesive layer 33 is sufficient for the purpose and in the step of dry lamination of the near infrared ray shielding film 41 to the metal layer 21 , only the grid part can 103 be coated with an adhesive by intermittent coating. By applying an adhesive in such a manner, it is possible to have at least one edge portion (usually four edge portions) of the frame part 101 the metal layer 21 to expose or expose. In this case, it is in the lamination process of the take-up roll and discharge system in which the metal layer 21 and the near infrared ray shielding film 41 in the form of tape-like continuous films (cloths) and laminated while running in the longer direction, possible when the width of the near infrared ray-shielding film 41 made narrower than that of the metal layer 21 to be equal to the adhesive application width, the width being the size of a direction perpendicular to the direction in which the near infrared ray shielding film 41 and the laminate film including the transparent substrate 11 and the metal layer 21 , Running, for exposing for grounding at least one of the two edge portions in the tape running direction of the frame part 101 to stretch or stretch. In this case, the other two edge portions of the frame part 101 which are stretched perpendicular to the tape running direction, with the near infrared ray shielding film 41 covered and the portions of the near infrared ray shielding film 41 which these edge portions of the frame part 101 Cover can either be left as they are or removed appropriately. Of course, a near infrared ray shielding film 41 be used with a larger width and the portion of the near infrared ray shielding film 41 , which at least one edge portion of the frame part 101 can be removed by a conventional semi-punching method or the like.

Weiterhin ist es möglich, die zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101, die in der Bandlaufrichtung gespannt bzw. gereckt sind, durch Aufbringen von lediglich einem Kleber auf das Gitterteil 103 und eine Metallschicht 21 und die zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101 freizulegen bzw. zu belichten, die senkrecht zu der Bandlaufrichtung gedehnt bzw. gereckt sind, wobei die Aufbringbreite des Klebers an beiden Breitenenden abgesenkt ist. In diesem Fall ist, wenn die Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 kleiner als jene der Metallschicht 21 gemacht ist, um gleich der Kleberaufbringbreite zu sein, das Rahmenteil 101 (die zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101) nicht mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 abgedeckt, so daß der Schritt des Entfernens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 nicht notwendig ist.Furthermore, it is possible, the two edge portions of the frame part 101 , which are stretched in the strip running direction, by applying only an adhesive to the grid part 103 and a metal layer 21 and the two edge portions of the frame part 101 expose or expose perpendicular to the strip running direction, wherein the application width of the adhesive is lowered at both width ends. In In this case, if the width of the near infrared ray shielding film is 41 smaller than that of the metal layer 21 is made to be equal to the Kleberaufbringbreite, the frame part 101 (the two edge portions of the frame part 101 ) not with the near infrared ray shielding film 41 covered, so that the step of removing the near infrared ray shielding film 41 is not necessary.

(Nahe Infrarotstrahlen abschirmender Film)(Near infrared rays shielding film)

Der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 ist ein vorgeformter Film, welcher wenigstens nahe Infrarotstrahlen mit spezifischen Wellenlängen absorbiert. Die spezifischen Wellenlängen von nahen Infrarotstrahlen sind hier etwa 800 bis 1100 nm. Es ist insbesondere wünschenswert, daß der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 80 % oder mehr, bevorzugter 90 % oder mehr, der nahen Infrarotstrahlen mit Wellenlängen in dem Bereich von 800 bis 1100 nm absorbiert. Der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41, welcher nahe Infrarotstrahlen mit den spezifischen Wellenlängen bis zu diesem Ausmaß absorbiert, kann eine Fehlfunktion von ferngesteuerten Vorrichtungen, wie VTRs und von Infrarotkommunikationseinrichtungen, verhindern.The near infrared ray shielding film 41 is a preformed film which absorbs at least near infrared rays having specific wavelengths. Here, the specific wavelengths of near infrared rays are about 800 to 1100 nm. It is particularly desirable that the near infrared ray shielding film 41 80% or more, more preferably 90% or more, absorbing near infrared rays having wavelengths in the range of 800 to 1100 nm. The near infrared ray shielding film 41 which absorbs near infrared rays having the specific wavelengths to this extent, can prevent malfunction of remote-controlled devices such as VTRs and infrared communication devices.

Es ist bevorzugt für den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41, Materialien zu verwenden, enthaltend Absorbentien für nahes Infrarot (die als "NIR Absorbentien" bezeichnet sind), die nahe Infrarotstrahlen mit den spezifischen Wellenlängen absorbieren. Jegliche Absorbentien für nahes Infrarot sind hier verwendbar und es ist möglich, Färbemittel zu verwenden, die eine große Absorption in dem Bereich von nahem Infrarot zeigen, die hohe Durchlässigkeit für Licht in dem sichtbaren Lichtbereich besitzen und die keine große Absorption in den spezifischen Wellenlängen in dem Bereich sichtbaren Lichts zeigen. Allgemein ist ein großer Teil des Lichts in dem Bereich sichtbaren Lichts, der von PDPs emittiert ist, oranges Licht, welches aus dem Emissionsspektrum von Neonatomen stammt, so daß ein Färbemittel, welches Licht von etwa 590 nm absorbiert, auch inkorporiert werden kann. Beispiele von Färbemitteln, die für das nahe Infrarotabsorbens verwendbar sind, beinhalten Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen, Immoniumverbindungen, Diimmoniumverbindungen, Naphthalocyaninverbindungen, Naphthalochinonverbindungen, Anthrachinonverbindungen und Dithiolkomplexe. Diese Färbemittel können entweder alleine oder als eine Mischung von zwei oder mehreren Färbemitteln verwendet werden.It is preferable for the near infrared ray shielding film 41 To use materials containing near infrared absorbents (referred to as "NIR absorbents") that absorb near infrared rays at the specific wavelengths. Any near infrared absorbents are usable here, and it is possible to use colorants showing a large absorption in the near infrared region, having high transmittance of light in the visible light region, and having no large absorption in the specific wavelengths in the Show visible light area. Generally, much of the light in the visible light region emitted by PDPs is orange light originating from the emission spectrum of neon atoms, so that a colorant which absorbs light of about 590 nm can also be incorporated. Examples of colorants usable for the near infrared absorbent include cyanine compounds, phthalocyanine compounds, immonium compounds, diimmonium compounds, naphthalocyanine compounds, naphthaloquinone compounds, anthraquinone compounds and dithiol complexes. These colorants may be used either alone or as a mixture of two or more colorants.

Derartige Filme, wie ein Film, in welchem ein Färbemittel für das Absorbens nahe Infrarot dispergiert ist, und ein Film, der durch Anwenden eines Färbemittels gemeinsam mit einem Bindemittel als eine Tinte und Trocknen des Tintenfilms erhalten wurde, können als der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 verwendet werden, und Beispiele von Filmen, die für den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 verwendbar sind, beinhalten kommerziell verfügbare Filme, enthaltend NIR Absorbentien (z.B. Handelsnamen Nr. 2832, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan).Such films as a film in which a coloring agent for the absorbent is dispersed near infrared and a film obtained by applying a coloring agent together with a binder as an ink and drying the ink film may be used as the near infrared ray shielding film 41 and examples of films used for the near infrared ray shielding film 41 usable include commercially available films containing NIR absorbents (eg, trade name No. 2832, manufactured by Toyobo Co., Ltd., Japan).

Wenn der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 an die Metallschicht 21 in der oben beschriebenen Weise laminiert ist, werden nahe Infrarotstrahlen, die von PDPs emittiert werden, absorbiert, so daß die Fehlfunktion von ferngesteuerten bzw. -geregelten Vorrichtungen, wie VTRs, und von Infrarotkommunikationseinrichtungen, welche nahe der PDPs verwendet werden, vermeidbar ist.When the near infrared ray shielding film 41 to the metal layer 21 is laminated in the manner described above, near infrared rays emitted from PDPs are absorbed, so that the malfunction of remote controlled devices such as VTRs and infrared communication devices used near the PDPs is avoidable.

Wenn der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 auf das Laminat aus dem transparenten Substrat 11/der ersten Kleberschicht 13/der Metallschicht 21 (in der Form eines Gitters) durch die zweite, transparente Kleberschicht 33 in der oben beschriebenen Weise laminiert ist, werden die Oberflächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt bzw. belichtet ist, mit der zweiten Kleberschicht 33 verfüllt, wodurch die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschichten 13 geglättet ist bzw. wird.When the near infrared ray shielding film 41 on the laminate from the transparent substrate 11 / the first adhesive layer 13 / the metal layer 21 (in the form of a grid) through the second transparent adhesive layer 33 is laminated in the manner described above, the surface irregularities of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 the metal layer 21 exposed with the second adhesive layer 33 filled, whereby the exposed or exposed, roughened surface R of the first adhesive layers 13 is smoothed or is.

Das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 wird durch Trockenlaminieren ausgeführt. Der Kleber, welcher verwenden wird, um die zweite Kleberschicht 33 auszubilden, ist von einer ein Lösungsmittel löslichen Art und seine Viskosität ist etwa 1 bis 1000 cps. Daher befeuchtet der Kleber für die zweite Kleberschicht 33 in zufriedenstellender Weise eine Seite, an welcher der Kleber aufgebracht ist, verbreitet sich gut auf der Oberfläche und kann, selbst wenn die Seite Unregelmäßigkeiten aufweist, die Unregelmäßigkeiten ausfüllen.The lamination of the near infrared ray shielding film 41 is carried out by dry lamination. The adhesive that will use to make the second layer of adhesive 33 is of a solvent-soluble type and its viscosity is about 1 to 1000 cps. Therefore, the adhesive for the second adhesive layer moistens 33 Satisfactorily, a side to which the adhesive is applied spreads well on the surface and, even if the side has irregularities, can fill in the irregularities.

Indem so der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 laminiert wird, wird die aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt ist, wie dies in 5(B) gezeigt ist, eliminiert (die Grenzfläche zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 ist optisch eliminiert), so daß eine unregelmäßige Reflexion von Licht unterdrückt ist. Daher ist, selbst wenn die Vorderplatte auf einer Anzeige bzw. einem Bildschirm, wie einer PDP, festgelegt ist, der Kontrast eines Bilds, das auf dem Bildschirm angezeigt ist, ver stärkt und die Bildsichtbarkeit kann somit verbessert werden.By doing so, the near infrared ray shielding film 41 is laminated, the roughened surface R of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 the metal layer 21 is exposed, as in 5 (B) is shown eliminated (the interface between the first adhesive layer 13 and the second adhesive layer 33 is optically eliminated), so that an irregular reflection of light is suppressed. Therefore, even if the front panel is set on a display such as a PDP, the contrast of an image displayed on the screen is enhanced, and the image visibility can thus be improved.

In einer konventionellen Bildschirmvorderplatte war es unvermeidbar, daß Luft in den Öffnungen des Gitterteils inkorporiert ist, um Luftblasen auszubilden, wenn die Metallgitterschicht und das andere Glied, das mit dem druckempfindlichen Kleber beschichtet ist, laminiert werden. Aus diesem Grund mußte der Schritt des Entfernens der Luftblasen durch Entlüftung, damit sich der Kleber in alle Ecken der Öffnungen ausbreitet, damit diese transparent werden, bis dato spezifisch ausgeführt werden. Dieser Schritt ist ein chargenweises Verfahren, welches beispielsweise in der folgenden Weise ausgeführt wird: Die Bildschirmvorderplatte wird in einem druckbeständigen, teuren, geschlossenen Behälter, wie einem Autoklaven, angeordnet, wird auf eine Temperatur von etwa 30 bis 100 °C erhitzt und wird entweder durch ein unter Druck setzen oder ein Dekomprimieren und unter Druck setzen und Dekomprimieren des geschlossenen Behälters für einen Zeitraum von 30 bis 60 Minuten behandelt. Im Gegensatz dazu ist ein derartiger ineffizienter Schritt für das Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung nicht erforderlich.In a conventional front panel, it was inevitable that air in the Öffnun the lattice member is formed to form air bubbles when the metal mesh layer and the other member coated with the pressure-sensitive adhesive are laminated. For this reason, the step of removing the air bubbles by venting so that the adhesive spreads to all the corners of the openings to make them transparent has had to be carried out to date specifically. This step is a batch process, which is carried out, for example, in the following manner: The screen front plate is placed in a pressure-resistant, expensive, closed container, such as an autoclave, is heated to a temperature of about 30 to 100 ° C and is either by pressurizing or decompressing and pressurizing and decompressing the closed container for a period of 30 to 60 minutes. In contrast, such an inefficient step is not required for the method of manufacturing a screen front plate according to this embodiment.

Weiterhin wird der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 an die Metallschicht 21 trocken laminiert und dieses Laminieren wird üblicherweise durch das Aufwickellade- und -entladesystem ausgeführt, in welchem kontinuierliche bandartige Filme (Bahnen) laminiert werden, während sie laufen bzw. ablaufen. Wenn daher die Breite, die Größe in der Richtung senkrecht zur Laufrichtung des nahen Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 kleiner als jene der Metallschicht 21 gemacht ist und die zwei Filme, während sie laufen, laminiert werden, indem der nahe Infrarot strahlen abschirmende Film 41 zu einer Seite versetzt ist oder in dem Zentrum positioniert ist, ist es leicht möglich, wenigstens einen Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freizulegen.Furthermore, the near infrared ray shielding film becomes 41 to the metal layer 21 dry laminated, and this lamination is usually carried out by the take-up loading and unloading system in which continuous belt-like films (sheets) are laminated while running. Therefore, when the width, the size in the direction perpendicular to the running direction of the near infrared ray shielding film 41 smaller than that of the metal layer 21 The two films are laminated while they are being run by laminating the near infrared shielding film 41 is offset to one side or positioned in the center, it is easily possible, at least one edge portion of the frame part 101 the metal layer 21 expose.

Indem der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht 21, zum Laufen bzw. Ablaufen veranlaßt werden, wobei der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 zu einer Seite versetzt ist, ist es möglich, die Seite von wenigstens einem aus dem oberen, unteren, rechten oder linken Abschnitt des Rahmenteils 101, der das Siebteil 103 umgibt, freizulegen. Indem der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm veranlaßt werden, mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 im Zentrum positioniert zu laufen, ist es möglich, die Seiten von wenigstens zwei aus dem oberen, unteren, rechten und linken Abschnitt des Rahmenteils 101, der das Gitterteil 103 umgibt, freizulegen.By the near infrared ray shielding film 41 and the laminate film containing the metal layer 21 , caused to run, with the near infrared rays shielding film 41 is offset to one side, it is possible, the side of at least one of the upper, lower, right or left portion of the frame part 101 that's the sieve part 103 surrounds, uncover. By the near infrared ray shielding film 41 and the laminate film are caused to be mixed with the near infrared ray shielding film 41 positioned in the center to run, it is possible to see the sides of at least two of the upper, lower, right and left portions of the frame part 101 , the part of the grid 103 surrounds, uncover.

Das Rahmenteil 101 der Metallschicht 21 ist somit wenigstens teilweise freigelegt bzw. belichtet und das freigelegte bzw. belichtete Teil kann für ein Erden verwendet werden. Es ist daher nicht notwendig, einen Anschluß (durch gesondertes Abstreifen und Entfernen einer Beschichtung eines Films oder dgl. von dem Rahmenteil der Metallschicht), was bis dato ausgeführt wurde, auszubilden.The frame part 101 the metal layer 21 is thus at least partially exposed or exposed and the exposed or exposed part can be used for grounding. It is therefore not necessary to form a terminal (by separately stripping and removing a coating of a film or the like from the frame portion of the metal layer), which has heretofore been carried out.

Obwohl weiterhin der Schritt des Laminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 bis dato gesondert von dem Schritt des Aufbringens eines transparenten Harzes auf das Gitterteil 103 der Metallschicht 21 ausgeführt wurde, wird er in dieser Ausbildung gleichzeitig mit dem Schritt des Glättens der aufgerauhten Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt ist, so durch geführt, daß die Anzahl der Schritte, die erforderlich sind, kleiner ist.Although still the step of laminating the near infrared ray shielding film 41 hitherto separate from the step of applying a transparent resin to the mesh member 103 the metal layer 21 is executed, it becomes in this embodiment simultaneously with the step of smoothing the roughened surface R of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 the metal layer 21 is exposed, so performed by that the number of steps that are required is smaller.

Weiterhin ist das Trockenlaminieren eine Basistechnik für die Fachleute und die Bildschirmvorderplatte der Ausbildung kann leicht durch Trockenlaminieren hergestellt werden, indem die bestehenden Einrichtungen und Techniken mit hoher Produktivität und hohen Ausbeuten verwendet werden.Farther Dry lamination is a basic technique for the professionals and the on-screen front panel the training can be easily made by dry lamination, By using existing facilities and techniques with high productivity and high Yields are used.

Da weiterhin der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41, der in einer vorbestimmten Dicke ausgeführt ist, durch Trockenlaminieren laminiert ist, ist die nahe Infrarotstrahlen absorbierende Schicht gleichmäßig in der Dicke, weist keine Unebenheiten oder Änderungen innerhalb der gleichen Ebene in der Dicke, wie dies in 5(C) gezeigt ist, auf. Es ist daher möglich, das Problem zu lösen, daß eine nahe Infrarotstrahlen absorbierende Schicht, die durch Beschichtung ausgebildet ist, nicht gleichmäßig in der Dicke sein kann, wie dies in 6(C) gezeigt ist.Furthermore, the near infrared ray shielding film 41 laminated in a predetermined thickness laminated by dry lamination, the near infrared ray absorbing layer is uniform in thickness, has no unevenness or changes in the same plane in thickness as shown in FIG 5 (C) is shown on. It is therefore possible to solve the problem that a near-infrared-ray absorbing layer formed by coating can not be uniform in thickness as shown in FIG 6 (C) is shown.

Weiterhin ist zusätzlich zu dem Trockenlaminieren Photolithographie auch eine Basistechnik für die Fachleute, so daß das Verfahren der Erfindung vorteilhaft ist.Farther is additional for dry lamination photolithography also a basic technique for the Professionals, so that Method of the invention is advantageous.

In allen Schritten in dem Herstellungsverfahren ist es möglich, ein kontinuierliches, aufgewickeltes bzw. aufgerolltes, bandartiges Laminat zu bearbeiten, während es kontinuierlich oder intermittierend gemeinsam mit dem transparenten Substrat 11 des Laminats, das aus einem flexiblen Material gefertigt ist, zugeführt wird. Die Bildschirmvorderplatte kann daher mit hoher Produktivität in einer kleinen Anzahl von Schritten hergestellt werden, zwei oder mehrere Schritte, die gemeinschaftlich in einem Schritt ausgeführt sind, und darüber hinaus können die bestehenden Herstellungsanlagen für die Produktion verwendet werden.In all steps in the manufacturing process, it is possible to process a continuous, coiled, belt-like laminate while continuously or intermittently sharing it with the transparent substrate 11 of the laminate made of a flexible material is supplied. The screen front plate can therefore be manufactured with high productivity in a small number of steps, two or more steps, which are collectively carried out in one step, and moreover, the existing production equipment can be used for the production.

(Modifizierte Ausbildungen)(Modified training)

Die vorliegende Erfindung umfaßt die folgenden Modifikationen.

(1) Die obige Ausbildung wurde unter Bezugnahme auf den Fall beschrieben, wo das transparente Substrat 11 und der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 Flexibilität besitzen und durch das Aufwickellade- und -entladesystem bearbeitet werden. Jedoch in einem Fall, wo sie nicht flexibel sind, können ebene Blätter verwendet werden. In diesem Fall können die ebenen Blätter nicht kontinuierlich bearbeitet werden, sondern können bearbeitet werden, während sie intermittierend zugeführt werden, und es können dieselben Effekte und Wirkungen bzw. Funktionen erzielt werden wie jene, die erhalten werden, wenn die Blätter durch das Aufwickellade- und -entladesystem bearbeitet werden, mit der Ausnahme der Effekte, die charakteristisch erhalten werden, wenn das Verfahren durch das Aufwickellade- und -entladesystem bearbeitet bzw. durchgeführt wird.
(2) Die Bildschirm- bzw. Anzeigevorderplatte 1 gemäß der oben beschriebenen Ausbildung kann mit verschiedenen, nicht einschränkenden Gliedern, wie optischen Komponenten, die die Funktion des Verhinderns von Reflexion und/oder Blenden von Licht besitzen, und Verstärkungen, die mechanische Festigkeit aufweisen, kombiniert werden. Wenn die Bildschirmvorderplatte mit derartigen Gliedern kombiniert wird, ist die Reflexion von Bildlicht von einer PDP und Fremdlicht, das in die Anzeige bzw. den Bildschirm von außen eintritt, unterdrückt und die Sichtbarkeit eines Bilds, das auf einem Bildschirm angezeigt ist, ist somit verbessert. Darüber hinaus ist es möglich, die Bildschirmvorderplatte vor Beschädigung zu schützen, welche durch externe Kräfte bewirkt ist.

The present invention includes the following modifications.

(1) The above education has been referred to me to the case where the transparent substrate 11 and the near infrared ray shielding film 41 Own flexibility and are processed by the winding loading and unloading system. However, in a case where they are not flexible, even leaves can be used. In this case, the flat sheets can not be processed continuously, but can be processed while being fed intermittently, and the same effects and effects as those obtained when the sheets are wound by the take-up tray and unloading system are processed, with the exception of the effects that are characteristically obtained when the process is processed by the take-up loading and unloading system.
(2) The front panel or display panel 1 According to the above-described constitution, various non-limiting members such as optical components having the function of preventing reflection and / or fading of light and reinforcements having mechanical strength can be combined. When the on-screen front panel is combined with such members, the reflection of image light from a PDP and extraneous light entering the display from the outside is suppressed and the visibility of an image displayed on a screen is thus improved. In addition, it is possible to protect the screen front panel from damage caused by external forces.

BEISPIELEEXAMPLES

Spezifische Beispiele der oben beschriebenen Ausbildung werden nachfolgend gegeben.specific Examples of the above-described embodiment will be given below.

Beispiel 1example 1

Es wurde eine 10-μm dicke, elektrolytische Kupferfolie in der Form einer Bahn, die an einer Fläche eine Schwärzungsschicht, die aus Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen gefertigt ist, als die Metallschicht hergestellt. Ein 100-μm dicker, biaxial gerichteter bzw. gereckter PET Film A4300 (Handelsname von Polyethylenterephthalat, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan) in der Form einer Bahn, die dieselbe Breite wie jene der elektrolytischen Kupferfolie aufweist, wurde als das transparente Substrat hergestellt. Das transparente Substrat und die Metallschicht (die Schwärzungsschichtseite) wurden mit dem ersten Kleber trocken laminiert, der aus einer Schicht aus einem transparenten, härtbaren Zwei-Komponenten-Urethankleber gefertigt ist und wurden dann bei 50 °C für 3 Tage getrocknet, wodurch ein Laminat erhalten wird. Für den Kleber wurde als ein Hauptagens Takelack A-310 (Handelsname von Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan), bestehend aus Polyestherurethanpolyol, und ein Härtungsagens A-10 (Handelsname, hergestellt von Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan), bestehend aus Hexamethylendiisocyanat, verwendet. Der Kleber wurde in einer derartigen Menge aufgebracht, daß die getrocknete Kleberschicht eine Dicke von 7 μm aufwies.It became a 10-μm thick, electrolytic copper foil in the form of a web, the a surface a blackening layer, which is made of copper-cobalt alloy particles, as the Metal layer produced. A 100-μm thick, biaxially oriented or stretched PET film A4300 (trade name of polyethylene terephthalate, manufactured by Toyobo Co., Ltd., Japan) in the form of a sheet, having the same width as that of the electrolytic copper foil, was prepared as the transparent substrate. The transparent Substrate and the metal layer (the blackening layer side) were dry laminated with the first adhesive, which consists of one coat a transparent, curable two-component urethane adhesive is made and were then dried at 50 ° C for 3 days, thereby a laminate is obtained. For the glue was used as a main agent Takelack A-310 (trade name Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan) consisting of polyesterurethane polyol, and a curing agent A-10 (trade name, manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan) consisting of hexamethylene diisocyanate. The glue was applied in such an amount that the dried adhesive layer a thickness of 7 microns had.

Die Schwärzungsschicht/die Metallschicht in dem Laminat, das in der oben beschriebenen Weise erhalten ist, wurden photolithographisch in ein Gitter gefertigt, wodurch ein Muster, bestehend aus einem Gitterteil und einem Rahmenteil, gebildet wird, die Draufsicht des Musters ist in 1 gezeigt. Unter Verwendung der bestehenden Herstellungsanlage für Lochmasken von Farb-TVs wurde das Laminat in der Form einer kontinuierlichen, bandartigen Bahn einer Serie von Schritten von Maskieren bis Ätzen unterworfen (die durch das Aufwickellade- und -entladesystem ausgeführt werden).The blackening layer / metal layer in the laminate obtained in the above-described manner was photolithographically made into a lattice, thereby forming a pattern consisting of a lattice part and a frame part, the plan view of the pattern being in FIG 1 shown. Using the existing shadow mask manufacturing equipment of color TVs, the laminate in the form of a continuous, belt-like web was subjected to a series of steps from masking to etching (carried out by the take-up loading and unloading system).

Zuerst wurde ein Kasein-Negativphotoresist auf die gesamte Metallschichtseite des Laminats durch Flußbeschichten aufgebracht. Dieses Laminat wurde intermittierend zu der nächsten Station geführt, wo die Resistschicht einem Kontaktbelichten mit Licht durch eine negative Gittermusterplatte (bestehend aus Linienteilen, die Transparenz aufweisen, und Öffnungen, die Licht abschirmende Eigenschaften besitzen) unterworfen wurde. Während das Laminat von einer Station zur nächsten transferiert wird, wurden Entwicklung mit Wasser, Filmhärten und Trocknen durch Wärme ausgeführt. Das ausgehärtete Laminat wurde weiter zur nächsten Station gefördert, wo das Laminat durch Sprühen einer wäßrigen Eisenchloridlösung, einem Ätzmittel, über das Laminat geätzt wurde, um Öffnungen in dem Laminat auszubilden. Während das Laminat von einer Station zur nächsten transferiert wird, wurden Waschen mit Wasser, Resist abstreifen, Reinigen und Trocknen durch Erhitzen bzw. Erwärmen ausgeführt, wodurch eine Metallgitterschicht, bestehend aus einem Gitterteil, das Öffnungen in der Form von regelmäßigen Quadraten aufweist, und einem 15 mm breiten Rahmenteil rund um das Gitterteil erhalten wurde, wobei die Weiten bzw. Breiten der Linien, die die Öffnungen definieren, 10 μm betrugen, der Abstand zwischen den Linien, (der Linienzwischenraum) 300 μm ist, der Neigungswinkel (der Winkel zwischen den Linien und der Seite des Substrats) 49 Grad betrug.First became a casein negative photoresist on the entire metal layer side of the laminate by flow coating applied. This laminate became intermittent to the next station guided, where the resist layer is exposed to light by a contact negative grid pattern plate (consisting of line parts, the transparency have, and openings, have the light-shielding properties) was subjected. While the laminate was transferred from one station to the next Development with water, film hardening and drying by heat executed. The cured one Laminate went on to the next one Station promoted, where the laminate by spraying an aqueous ferric chloride solution, an etchant, over the Etched laminate was to openings in the laminate. While the laminate was transferred from one station to the next Wash with water, remove the resist, clean and dry by heating or heating executed whereby a metal grid layer consisting of a grid part, the openings in the form of regular squares and a 15 mm wide frame part around the grating part was obtained, with the widths or widths of the lines that the openings define 10 μm the distance between the lines, (the line interval) 300 μm, the angle of inclination (the angle between the lines and the side of the substrate) was 49 degrees.

Derselbe transparente, härtbare Zwei-Komponenten-Urethankleber, wie jener, der für die erste Kleberschicht verwendet wurde, wurde auf die Oberfläche der Metallgitterschicht, die in der oben beschriebenen Weise hergestellt wurde, aufgebracht, um die zweite Kleberschicht auszubilden, welche dann getrocknet wurde. Auf diese zweite Kleberschicht wurde ein vorausgebildeter NIR Film Nr. 2832 (Handelsname eines nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan) laminiert und dieser wurde bei 50 °C für drei Tage getrocknet bzw. gealtert, wodurch ein Laminat erhalten wird. Die Öffnungen des Gitterteils der Metallschicht wurden somit mit dem härtbaren Zwei-Komponenten-Urethankleber (für die zweite Kleberschicht) verfüllt, so daß die aufgerauhte Fläche bzw. Oberfläche der ersten Kleberschicht, die an den Öffnungen freigelegt war, eliminiert wurde, und die Oberfläche der zweiten Kleberschicht wurde mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der gleichmäßig in der Dicke ist, abgedeckt. Es wurde somit eine Bildschirmvorderplatte erhalten mit einer ebenen und glatten Oberfläche, die einen Querschnitt, wie in 5(C) gezeigt, aufweist.The same two-component transparent curable urethane adhesive as that used for the first adhesive layer was applied to the surface of the metal mesh layer prepared in the manner described above to form the second adhesive layer, which was then dried. On top of this second layer of adhesive was formed a preformed NIR film # 2832 (trade name of near infrared rays) Menden Films, manufactured by Toyobo Co., Ltd., Japan) and this was dried at 50 ° C for three days, thereby obtaining a laminate. Thus, the apertures of the lattice portion of the metal layer were filled with the curable two-component urethane adhesive (for the second adhesive layer) so that the roughened surface of the first adhesive layer exposed at the openings was eliminated and the surface of the first adhesive layer second adhesive layer was covered with the near infrared ray shielding film, which is uniform in thickness. Thus, a screen front plate was obtained with a flat and smooth surface having a cross section as in 5 (C) shown.

Beispiel 2Example 2

Eine Bildschirmvorderplatte wurde in derselben Weise, wie in Beispiel 1, erhalten, mit der Ausnahme, daß die Breite des NIR Films 15 mm schmäler als jene der Metallschicht ausgebildet wurde und daß das transparente Substrat und die Metallschicht trocken laminiert wurden, wobei die zwei Blätter an einer Kante, die sich in der Filmlaufrichtung erstreckt, ausgerichtet waren. Die auf diese Weise erhaltene Bildschirmvorderplatte war jene, in welcher ein Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht nicht mit dem NIR Film abgedeckt war und in einer Breite von 15 mm freigelegt war.A Screen front plate became in the same way as in example 1, obtained, except that the width of the NIR film 15 mm narrower was formed as that of the metal layer and that the transparent Substrate and the metal layer were dry laminated, the two leaves aligned at an edge that extends in the film running direction were. The screen front panel obtained in this way was those in which an edge portion of the frame part of the metal layer was not covered with the NIR movie and in a width of 15 mm was exposed.

Beispiel 3Example 3

Eine Bildschirmvorderplatte wurde in derselben Weise, wie in Beispiel 1, erhalten, mit der Ausnahme, daß eine 10 μm dicke, elektrolytische Kupferfolie, die an jeder Seite eine Schwärzungsschicht, die aus Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen gefertigt war und eine antikorrosive Schicht, die durch Chromatbehandlung ausgebildet war, aufweist, als die Metallschicht verwendet wurde.A Screen front plate became in the same way as in example 1, with the exception that a 10 micron thick, electrolytic copper foil, which have a blackening layer on each side, which was made of copper-cobalt alloy particles and a anticorrosive layer formed by chromate treatment when the metal layer was used.

(Auswertung)(Evaluation)

Die Bildschirmvorderplatten wurden in bezug auf Trübung, gesamte Lichtdurchlässigkeit, Sichtbarkeit, Fähigkeit, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, und Fähigkeit, nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen, evaluiert bzw. ausgewertet. Die Trübung wurde in Übereinstimmung mit JIS-K7136 bestimmt und die gesamte Lichtdurchlässigkeit wurde in Übereinstimmung mit JIS-K7361-1 unter Verwendung eines Colorimeters HM150 (Handelsname, hergestellt von Murakami Color Research Laboratory, Japan) gemessen.The Screen front panels have been screened for haze, total light transmission, Visibility, ability to to shield electromagnetic waves, and ability to near infrared rays shielded, evaluated or evaluated. The turbidity was in agreement determined with JIS-K7136 and the entire light transmission was in accordance with JIS-K7361-1 using a HM150 colorimeter (trade name, manufactured by Murakami Color Research Laboratory, Japan).

Die Sichtbarkeit wurde in der folgenden Weise evaluiert: Die Bildschirmvorderplatte wurde auf die Vorderseite einer PDP, "WOOO" (Handelsname, hergestellt von Hitachi, Ltd., Japan) montiert und ein Testmuster, ein weißes durchgezogenes bzw. einteiliges Bild und ein schwarzes durchgezogenes bzw. einteiliges Bild wurden aufeinanderfolgend auf dem Bildschirm angezeigt und wurden visuell an einem Punkt 50 Zentimeter entfernt von der Anzeige bzw. dem Display beobachtet mit Sichtwinkeln von 0 bis 80 Grad. Spezifisch wurden Beobachtungen betreffend Helligkeit, Kontrast und Reflexion sowie Blenden von Fremdlicht zu dem Zeitpunkt der schwarzen Anzeige und die Unebenheit der Schwärzungsschicht zum Zeitpunkt der weißen Anzeige getätigt.The Visibility was evaluated in the following way: The screen front panel was placed on the front of a PDP, "WOOO" (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd., Japan) and a test pattern, a white one solid or one-piece image and a black solid or one-piece image were consecutively on the screen displayed and were visually removed at a point 50 centimeters from the display or the display observed with viewing angles of 0 to 80 degrees. Specifically, observations were made regarding brightness, Contrast and reflection as well as blinding of extraneous light at the time the black indicator and the roughness of the blackening layer at the time of the white Display made.

Die Fähigkeit, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, wurde durch das KEC Verfahren (ein Verfahren der Messung von elektromagnetischen Wellen, das durch Kansai Electronic Industry Development Center, Japan, entwickelt wurde) bestimmt.The Ability, shielding electromagnetic waves was by the KEC method (A method of measurement of electromagnetic waves caused by Kansai Electronic Industry Development Center, Japan was decided.

Die Fähigkeit, nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen, wurde durch ein Spektrophotometer "best-570" (hergestellt von Nippon Bunko Kabushiki Kaisha, Japan) bestimmt.The Ability, to shield near infrared rays was measured by a spectrophotometer "best-570" (manufactured by Nippon Bunko Kabushiki Kaisha, Japan).

Als ein Ergebnis hatten die Bildschirmvorderplatten der Beispiele 1 und 2 einen Trübungswert von 2,1 und eine gesamte Lichtdurchlässigkeit von 58,2 und waren auch in der Sichtbarkeit exzellent.When a result had the screen front plates of Examples 1 and 2, a haze value of 2.1 and a total light transmittance of 58.2 and were also excellent in visibility.

Die Bildschirmvorderplatte von Beispiel 3 war gleich jener von Beispiel 1 im Trübungswert und der gesamten Lichtdurchlässigkeit, jedoch war sie in der Sichtbarkeit überlegen bzw. besser.The The front panel of Example 3 was the same as that of Example 1 in the turbidity value and the total light transmission, however, she was superior in visibility or better.

Betreffend die Fähigkeit, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, unterdrückten bzw. dämpften alle Bildschirmvorderplatten der Beispiele 1 bis 3 mit Raten von 30 bis 60 dB, elektromagnetische Wellen, die Frequenzen von 30 MHz bis 1000 MHz aufwiesen und wurden somit als eine zufriedenstellend exzellente Eigenschaft, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, besitzend bestätigt.Concerning the ability, shielding electromagnetic waves, all suppressed or dampened Screen front panels of Examples 1 to 3 at rates of 30 to 60 dB, electromagnetic waves, the frequencies from 30 MHz to 1000 MHz and were thus considered to be a satisfactorily excellent Property to shield electromagnetic waves owning confirmed.

Weiterhin ließen betreffend die Fähigkeit, nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen, die gesamten Gitterteile der Bildschirmvorderplatten der Beispiele 1 bis 3 10 % bis 5 % Licht mit Wellenlänge von 800 bis 1100 nm durch; diese Durchlässigkeiten waren ausreichend und die Streuung in der Durchlässigkeit war gering.Farther could concerning the ability to approach Shield infrared rays, the entire lattice parts of the screen front panels Examples 1 to 3 10% to 5% light with wavelength of 800 to 1100 nm through; these permeabilities were sufficient and the scatter in the permeability was low.

ZusammenfassungSummary

Ein Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung umfaßt die Schritte (1) Laminieren einer Metallschicht 21 auf wenigstens eine Fläche eines transparenten Substrats 11 mit einer ersten transparenten Kleberschicht 13, wodurch ein Laminat erhalten wird, (2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf einer Fläche der Metallschicht 21 des Laminats, Ätzen der Metallschicht 21, um Abschnitte bzw. Teile derselben zu entfernen, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht 21 ausgebildet wird, die ein Gitterteil 103 mit einer Mehrzahl von Öffnungen 105 und ein Rahmenteil 101 um das Gitterteil 103 aufweist, und (3) Laminieren eines nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 des Gitterteils 103 auf der Seite der Metallgitterschicht 21 mittels einer zweiten, transparenten Kleberschicht 33 und Füllen bzw. Verfüllen der Flächenunregelmäßigkeiten R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt sind, mit der zweiten, transparenten Kleberschicht 33, um die freigelegte, aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 transparent zu machen.A method of manufacturing a display front panel according to the present invention comprises the steps of (1) laminating a metal layer 21 on at least one surface of a transparent substrate 11 with a first transparent adhesive layer 13 whereby a laminate is obtained, (2) providing a grid-patterned resist layer on a surface of the metal layer 21 of the laminate, etching the metal layer 21 to remove portions thereof which are not covered with the resist layer, and removing the resist layer, thereby forming a metal mesh layer 21 is formed, which is a lattice part 103 with a plurality of openings 105 and a frame part 101 around the lattice part 103 and (3) laminating a near infrared ray shielding film 41 of the lattice part 103 on the side of the metal grid layer 21 by means of a second, transparent adhesive layer 33 and filling the surface irregularities R of the first adhesive layer 13 at the openings 105 of the lattice part 103 are exposed, with the second, transparent adhesive layer 33 to the exposed, roughened surface R of the first adhesive layer 13 make it transparent.

Claims

Method for producing a screen or A display front panel comprising a transparent substrate, a Metal grid layer on at least one surface of the transparent substrate is laminated by a first, transparent adhesive layer, and a near infrared ray shielding film attached to the surface of the metallic grid layer through a second, transparent adhesive layer laminated, comprising the steps: (1) laminating one Metal layer on at least one surface of a transparent substrate through a first transparent adhesive layer, creating a laminate is obtained (2) Providing a grid-patterned resist layer on the metal layer side of the laminate, etching the metal layer Sections or parts thereof which do not match the resist layer are covered, remove, and removing the resist layer, causing a metal grid layer is formed, which has a grid part with a plurality of openings and has a frame part around the grid part, and (3) lamination of a near infrared ray shielding film to the side of the Lattice part of the metal grid layer through a second, transparent Adhesive layer and filling the area or surface irregularities the first layer of adhesive exposed at the openings of the lattice part are, with the second layer of adhesive around the exposed or exposed, roughened surface make the first layer of adhesive transparent.

The method of claim 1, wherein both the lamination the metal layer to the transparent substrate as well as the lamination of the near infrared ray shielding film to the metal layer Dry lamination performed being continuous films through a take-up loading and unloading system be laminated.

The method of claim 2, wherein in lamination of the near infrared ray shielding film to the metal layer side by the take-up loading and unloading at least one edge portion of the Frame part of the metal layer is exposed by a width of near-infrared rays shielding film smaller than that of the metal layer in the laminate film is made, the width being perpendicular to a size in one direction to a direction in which the near-infrared rays shield Film and the laminate film containing the metal layer run or will expire.

Screen or display front panel comprising: one transparent substrate, a metal grid layer attached to at least an area of the transparent substrate by means of a first, transparent Adhesive layer is laminated, and a near-infrared rays shielding film attached to an area of the metal grid layer laminated by a second, transparent adhesive layer, the Metal mesh layer, a mesh part with a plurality of openings the second adhesive layer has surface irregularities fills in the first layer of adhesive, the at the openings of the lattice part are exposed to the exposed, roughened area make the first layer of adhesive transparent.

Screen or display front panel according to claim 4, wherein the metal grid layer further comprises a frame part around the grating part and at least one edge portion of the frame part is exposed without shielding by the near-infrared rays Movie to be covered.