DE112005000216T5 - Electromagnetic wave shielding film and method of making the same - Google Patents

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DE112005000216T5
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blackening
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metal
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Inventor
Nobuo Naito
Fumihiro Arakawa
Tadahiro Masaki
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das
ein transparentes Substrat und
eine mit einer Haftmittelschicht auf eine Oberfläche des transparenten Substrats laminierte Metallnetzschicht,
eine erste, Kupfer-enthaltende Schwärzungsschicht, die auf einer Fläche der Metallnetzschicht auf der Seite des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine zweite Korrosionsschutzschicht, die ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, und die auf der anderen Fläche der Metallnetzschicht auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat ausgebildet ist, umfasst.
Sheet for shielding electromagnetic waves, the
a transparent substrate and
a metal mesh layer laminated with a bonding agent layer on a surface of the transparent substrate;
a first copper-containing blackening layer formed on one surface of the metal mesh layer on the side of the transparent substrate; and a second anticorrosive layer containing one or more metals selected from chromium, nickel, and silicon are formed on the other surface of the metal mesh layer on the side opposite to the transparent substrate.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Gebiet der ErfindungTerritory of invention

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen zur Verhinderung einer EMI (elektromagnetische (Wellen) Störung), die durch elektromagnetische Wellen verursacht wird, die durch Bildschirme wie z.B. Kathodenstrahlröhren (nachstehend auch als CRT's bezeichnet) und Plasmabildschirme (nachstehend auch als PDP's bezeichnet) erzeugt werden, und insbesondere ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das die Sichtbarkeit eines Bilds, das auf einer Anzeige bzw. einem Bildschirm angezeigt wird, nicht beeinträchtigt, und das in einer geringen Anzahl von Schritten hergestellt werden kann, und ein Verfahren zur Herstellung des Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen.The The present invention relates to a sheet for shielding electromagnetic Waves to prevent an EMI (electromagnetic interference), the caused by electromagnetic waves passing through screens such as. Cathode ray tubes (hereinafter also referred to as CRT's and plasma screens (hereinafter also referred to as PDPs) be, and in particular a sheet for shielding electromagnetic Ripples the visibility of an image on a display or a screen is displayed, not impaired, and that can be made in a small number of steps, and a method of manufacturing the electromagnetic shielding sheet Waves.

In dieser Beschreibung beziehen sich „Verhältnis", „Teil", „%" und dergleichen, die Anteile angeben, auf das Gewicht, falls nichts anderes angegeben ist, und das Symbol „/" gibt an, dass Schichten, die zusammen mit diesem Symbol aufgezählt werden, integral laminiert sind. „EMI", „NIR" und „PET" bezeichnen „elektromagnetische (Wellen) Störung", „Nahinfrarotstrahlen" bzw. „Polyethylenterephthalat" und es handelt sich dabei um Abkürzungen, Synonyme, funktionale Ausdrücke, gebräuchliche Bezeichnungen oder Begriffe, die in dem Fachgebiet verwendet werden.In this description refers to "ratio", "part", "%" and the like, indicate the proportions by weight unless otherwise stated is, and the symbol "/" indicates that layers, which are listed together with this symbol, integrally laminated are. "EMI", "NIR" and "PET" refer to "electromagnetic (Waves) interference "," near-infrared rays "or" polyethylene terephthalate "and it is to abbreviations, Synonyms, functional expressions, common Terms or terms used in the art.

Technischer Hintergrundtechnical background

Elektromagnetische Störungen haben in den letzten Jahren aufgrund von Fortschritten bei der Leistung elektrischer und elektronischer Geräte und auch aufgrund des zunehmenden Gebrauchs dieser Geräte zugenommen. Selbst Bildschirme wie CRT's und PDP's erzeugen elektromagnetische Wellen. Ein PDP ist eine Anordnung, die aus einem Glassubstrat, das eine Datenelektrode und eine Fluoreszenzschicht aufweist, und einem Glassubstrat, das eine transparente Elektrode aufweist, zusammengesetzt ist. Im Betrieb emittiert ein solcher Bildschirm nicht nur sichtbares Licht, aus dem ein Bild auf dem Bildschirm erzeugt wird, sondern auch elektromagnetische Wellen, Nahinfrarotstrahlen und Wärme in großen Mengen. Im Allgemeinen ist auf der Vorderseite eines PDP eine Frontplatte montiert, die ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen enthält, um die elektromagnetischen Wellen abzuschirmen, die der PDP erzeugt. Eine solche Frontplatte muss bei der Abschirmung elektromagnetischer Wellen mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz, die von der Vorderseite des Bildschirms emittiert werden, eine Effizienz von 30 dB oder mehr aufweisen. Die Frontplatte muss auch Nahinfrarotstrahlen mit Wellenlängen von 800 bis 1100 nm abschirmen, die von der Vorderseite des Bildschirms emittiert werden, da diese Strahlen eine Fehlfunktion anderer Geräte, wie z.B. von Videorekordern, verursachen.electromagnetic disorders have in recent years due to advances in performance electrical and electronic devices and also due to the increasing Use of these devices increased. Even screens like CRT's and produce PDP's electromagnetic waves. A PDP is an arrangement that consists of a Glass substrate, which has a data electrode and a fluorescent layer and a glass substrate having a transparent electrode has, is composed. In operation, such emits Screen not only visible light from which a picture on the Screen is generated, but also electromagnetic waves, Near infrared rays and heat in big Amounts. In general, on the front of a PDP is a front panel mounted, which is a sheet for shielding electromagnetic waves contains to shield the electromagnetic waves generated by the PDP. Such a front panel must be electromagnetic during shielding Waves with frequencies from 30 MHz to 1 GHz from the front of the screen are emitted, an efficiency of 30 dB or have more. The front panel also needs to use near-infrared rays wavelength from 800 to 1100 nm shield from the front of the screen be emitted because these rays malfunction other devices, such as e.g. of video recorders.

Um zu ermöglichen, dass ein Bild, das auf dem Bildschirm angezeigt wird, gut sichtbar bleibt, muss das Material zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen weniger sichtbar sein (wobei die nicht-Erkennbarkeit hoch ist) und es muss als Ganzes eine angemessene Transparenz aufweisen (Durchlässigkeit für sichtbares Licht).Around to enable that an image displayed on the screen is clearly visible remains, the material needs to shield electromagnetic waves be less visible (where the unrecognizability is high) and it must have adequate transparency as a whole (permeability for visible Light).

Ferner sind PDP's dadurch gekennzeichnet, dass sie große Bildschirme aufweisen, und Blätter zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen für solche PDP's sind groß (Außenabmessung), wobei deren Größen beispielsweise 621 × 831 mm für 37 Zoll-Bildschirme und 983 × 583 mm für 42 Zoll-Bildschirme betragen und noch größere Größen existieren. Diese Tatsache erfordert ein Herstellungsverfahren, das zur Handhabung großer Materialien zweckmäßig ist. Insgesamt müssen die Blätter zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen Abschirmungseigenschaften bezüglich elektromagnetischer Wellen aufweisen und aus weniger sichtbaren Materialien zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen mit einer angemessenen Transparenz hergestellt sein, so dass sie die Sichtbarkeit der angezeigten Bilder nicht beeinträchtigen, und es gibt einen Bedarf für ein Herstellungsverfahren, durch das ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen in einer geringen Anzahl von Schritten mit einer hohen Produktivität hergestellt werden kann.Further are PDP's by it that they are big Have screens, and leaves for shielding electromagnetic waves for such PDP's are large (outer dimension), the sizes of which are, for example 621 × 831 mm for 37 inch screens and 983 × 583 mm for 42 inch screens and even larger sizes exist. this fact requires a manufacturing process that handles large materials is appropriate. Total need the leaves for shielding electromagnetic waves shielding properties in terms of electromagnetic waves and less visible materials for shielding electromagnetic waves with a reasonable Transparency be made so that they have the visibility of the displayed Do not interfere with pictures and there is a need for a manufacturing method by which a sheet for shielding electromagnetic Waves made in a small number of steps with a high productivity can be.

Stand der TechnikState of technology

Zur Herstellung von Blättern zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die Metallnetzschichten enthalten, wurden üblicherweise die folgenden zwei Verfahren eingesetzt.to Production of leaves for shielding electromagnetic waves containing metal network layers, were customary the following two methods are used.

Eines der bekannten Verfahren besteht darin, dass eine elektrisch leitfähige Tinte oder eine lichtempfindliche Beschichtungsflüssigkeit, die einen Katalysator für ein chemisches Plattieren enthält, auf die gesamte Oberfläche eines transparenten Substrats aufgebracht wird, und die Beschichtung photolithographisch zu einem Netz ausgebildet wird, das dann mit einem Metall plattiert wird (vgl. z.B. die Patentdokumente 1 und 2). Dieses Verfahren ist jedoch dahingehend nachteilig, dass es, da die Metallschichtfläche auf der Seite des transparenten Substrats nicht geschwärzt werden kann, unmöglich ist, eine Verminderung der Bildsichtbarkeit zu vermeiden, die durch externes Licht, wie z.B. Sonnenlicht, das auf das Metallnetz fällt und von diesem reflektiert wird, verursacht wird. Ferner ist in dem Herstellungsverfahren dann, wenn eine elektrisch leitfähige Tinte verwendet wird, für das Plattieren einer längere Zeit erforderlich, da der elektrische Widerstand der elektrisch leitfähigen Tinte hoch ist, und daher ist die Produktivität niedrig. Ferner war dieses Verfahren auch dahingehend nachteilig, dass das Metallnetz in der Luft oxidiert wird und einer Änderung von Eigenschaften unterliegt, so dass es einen erhöhten elektrischen Widerstand aufweist, was zu einer Verschlechterung der Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen führt.One of the known methods is that an electroconductive ink or a photosensitive coating liquid containing a chemical plating catalyst is applied to the entire surface of a transparent substrate, and photolithographically coating the coating nem network is formed, which is then plated with a metal (see, for example, the patent documents 1 and 2). However, this method is disadvantageous in that, since the metal layer surface on the side of the transparent substrate can not be blackened, it is impossible to avoid a reduction in image visibility caused by external light such as sunlight falling on the metal mesh This is reflected, is caused. Further, in the manufacturing method, when an electroconductive ink is used, it is required for plating a longer time because the electric resistance of the electroconductive ink is high, and therefore the productivity is low. Further, this method has also been disadvantageous in that the metal net is oxidized in the air and undergoes a change of properties to have an increased electrical resistance, resulting in deterioration of the electromagnetic wave shielding properties.

Ein anderes bekanntes Verfahren ist wie folgt: Eine Kupfernetzschicht mit Linienteilen, die eine Vielzahl von Öffnungen definieren, wird mit einer Haftmittelschicht auf einen PET-Film (transparentes Substrat) laminiert, und die Oberflächen, Rückflächen und Seitenflächen der Linienteile der Kupfernetzschicht werden einer Schwärzungsbehandlung unterworfen (vgl. z.B. das Patentdokument 3). Die Schwärzungsbehandlung ist jedoch eine chemische Umwandlungsbehandlung und Nadelkristalle werden gebildet, so dass die so gebildete Schwärzungsschicht leicht abfällt oder verformt wird. Da darüber hinaus die Behandlung bei einer hohen Temperatur durchgeführt wird, neigt das Laminat dazu, sich zu rollen, und dessen Aussehen wird nachteilig beeinflusst.
Patentdokument 1: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 13088/2000,
Patentdokument 2: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 59079/2000, und
Patentdokument 3: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 9484/2002.
Another known method is as follows: A copper mesh layer having line portions defining a plurality of openings is laminated with an adhesive layer on a PET film (transparent substrate), and the surfaces, back surfaces, and side surfaces of the line portions of the copper mesh layer are subjected to a blackening treatment (See, for example, Patent Document 3). However, the blackening treatment is a chemical conversion treatment, and needle crystals are formed so that the thus formed blackening layer easily falls or is deformed. Moreover, since the treatment is performed at a high temperature, the laminate tends to roll and its appearance is adversely affected.
Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open Publication No. 13088/2000,
Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open Publication No. 59079/2000, and
Patent Document 3: Japanese Patent Laid-Open Publication No. 9484/2002.

Zusammenfassung der ErfindungSummary the invention

Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um die vorstehend beschriebenen Probleme im Stand der Technik zu lösen. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Bereitstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das eine angemessene Transparenz, hervorragende Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen, eine hervorragende nicht-Erkennbarkeit seines Netzes und ein hervorragendes Aussehen aufweist, das keiner Verschlechterung seiner Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen durch eine Metalloxidation unterliegt, und das die Sichtbarkeit eines auf einem Bildschirm angezeigten Bilds nicht beeinträchtigt, und eines Herstellungsverfahrens, mit dem das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen in einer geringen Anzahl von Schritten hergestellt werden kann.The The present invention has been made to be as described above To solve problems in the prior art. An object of the present The invention is therefore the provision of a sheet for shielding electromagnetic waves, which provide adequate transparency, excellent Shielding properties for electromagnetic waves, excellent non-recognizability its network and looks great, none Deterioration of its shielding properties for electromagnetic Waves undergo a metal oxidation, and that the visibility a picture displayed on a screen does not affect and a manufacturing process by which the sheet for shielding electromagnetic waves in a small number of steps can be produced.

Die vorliegende Erfindung ist ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das ein transparentes Substrat und eine mit einer Haftmittelschicht auf eine Oberfläche des transparenten Substrats laminierte Metallnetzschicht, eine erste, Kupfer-enthaltende Schwärzungsschicht, die auf einer Fläche der Metallnetzschicht auf der Seite des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine zweite Korrosionsschutzschicht, die ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, und die auf der anderen Fläche der Metallnetzschicht auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat ausgebildet ist, umfasst.The The present invention is a sheet for shielding electromagnetic Waves, which is a transparent substrate and one with an adhesive layer on a surface of the transparent substrate laminated metal mesh layer, a first, Copper-containing blackening layer, the one on a surface the metal mesh layer on the side of the transparent substrate is formed, and a second anticorrosive layer containing a or contains more metal (s), which is selected from chromium, nickel and silicon and are on the other surface of the metal mesh layer opposite the page the transparent substrate is formed comprises.

Die vorliegende Erfindung ist das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das ferner eine erste Korrosionsschutzschicht umfasst, die ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, und die zwischen der ersten Schwärzungsschicht und dem transparenten Substrat ausgebildet ist.The The present invention is the electromagnetic shielding sheet Shaft, further comprising a first corrosion protection layer, the contains one or more metal (s), which is selected from chromium, nickel and silicon and between the first blackening layer and the transparent one Substrate is formed.

Die vorliegende Erfindung ist das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, bei dem die Seitenflächen der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die auf dem transparenten Substrat vorliegen, und die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht vollständig mit einer zweiten Schwärzungsschicht bedeckt sind.The The present invention is the electromagnetic shielding sheet Waves where the side surfaces the first blackening layer, the metal layer and the second anticorrosion layer on the transparent substrate, and the front surface of the second anticorrosion layer completely with a second blackening layer are covered.

Die vorliegende Erfindung ist das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, bei dem die Seitenflächen der ersten Korrosionsschutzschicht, der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die auf dem transparenten Substrat vorliegen, und die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht vollständig mit einer zweiten Schwärzungsschicht bedeckt sind.The The present invention is the electromagnetic shielding sheet Waves where the side surfaces the first anti-corrosion layer, the first blackening layer, the metal layer and the second anticorrosive layer on the transparent substrate, and the front surface of the second Corrosion protection layer completely with a second blackening layer are covered.

Die vorliegende Erfindung ist das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, bei dem die zweite Schwärzungsschicht durch Plattieren ausgebildet worden ist und mindestens ein Metall, das aus Kupfer, Cobalt, Nickel, Zink, Molybdän, Zinn und Chrom ausgewählt ist, oder eine Verbindung jedweder dieser Metalle oder eine Legierung, die aus zwei oder mehr dieser Metalle besteht, umfasst.The present invention is the electromagnetic wave shielding sheet in which the second blackening layer has been formed by plating and at least one metal selected from copper, cobalt, nickel, zinc, molybdenum, tin and chromium, or a compound of any of them or an alloy consisting of two or more of these metals.

Die vorliegende Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das die Schritte des Herstellens einer Metallschicht, des aufeinander folgenden Bildens einer ersten Schwärzungsschicht und einer ersten Korrosionsschutzschicht auf der Fläche der Metallschicht auf der Seite eines transparenten Substrats, des Bildens einer zweiten Korrosionsschutzschicht auf der anderen Fläche der Metallschicht auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat, des Laminierens der Metallschicht und des transparenten Substrats mit einer Haftmittelschicht, wobei die Korrosionsschutzschicht dem transparenten Substrat gegenüber liegt, zur Bildung eines Laminats, und des Ätzens des Laminats zur Ausbildung der Metallschicht zu einem Netz umfasst.The The present invention is a method of making a sheet for shielding electromagnetic waves, comprising the steps of Producing a metal layer, sequentially forming a first blackening layer and a first anticorrosion layer on the surface of the Metal layer on the side of a transparent substrate, forming a second anti - corrosion layer on the other surface of the Metal layer on the side opposite to the transparent substrate, the Laminating the metal layer and the transparent substrate with an adhesive layer, wherein the anti-corrosion layer is the transparent Substrate opposite is to form a laminate, and the etching of the laminate for training the metal layer comprises a network.

Die vorliegende Erfindung ist das Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, bei dem mindestens eine der ersten Korrosionsschutzschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Nickel, Chrom und Silizium, und auch Zink und/oder Zinn, wenn sie anfänglich gebildet wird, ausgewählt ist bzw. sind, und das Zink und/oder Zinn von der ersten Korrosionsschutzschicht und/oder der zweiten Korrosionsschutzschicht in dem Schritt des Ätzens entfernt wird.The The present invention is the process for producing a sheet for shielding electromagnetic waves, wherein at least one the first corrosion protection layer and the second corrosion protection layer contains one or more metal (s), nickel, chromium and silicon, and also zinc and / or Tin, if it is initial is formed, selected is or, and the zinc and / or tin from the first corrosion protection layer and / or the second anticorrosion layer in the step of etching becomes.

Die vorliegende Erfindung ist das Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, bei dem nach dem Schritt des Ätzens die Seitenflächen der ersten Korrosionsschutzschicht, der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die in dem Laminat vorliegen, und die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht vollständig mit einer zweiten Schwärzungsschicht bedeckt werden.The The present invention is the process for producing a sheet for shielding electromagnetic waves, in which after the step of the etching the side surfaces the first anti-corrosion layer, the first blackening layer, the metal layer and the second anticorrosion layer used in the laminate, and the front surface of the second anticorrosion layer Completely with a second blackening layer to be covered.

Die vorliegende Erfindung stellt ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereit, das eine angemessene Transparenz, hervorragende Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen und eine hervorragende nicht-Erkennbarkeit seines Netzes aufweist, die Sichtbarkeit eines auf einem Bildschirm angezeigten Bilds nicht beeinträchtigt und keiner Verschlechterung der Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen durch die Oxidation einer Metallschicht unterliegt.The The present invention provides a sheet for shielding electromagnetic Waves ready, providing adequate transparency, excellent shielding properties for electromagnetic Waves and a great unknowability of his web has the visibility of one displayed on a screen Image not affected and no deterioration of the shielding properties for electromagnetic Waves undergo oxidation by a metal layer.

Die vorliegende Erfindung stellt ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereit, das eine angemessene Transparenz und hervorragende Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen aufweist und das die Reflexion von Licht von einem Netz insbesondere in einer hellen Umgebung besser verhindern kann, um das Netz weniger erkennbar zu machen und folglich die Sichtbarkeit eines auf einem Bildschirm angezeigten Bilds nicht zu beeinträchtigen.The The present invention provides a sheet for shielding electromagnetic Waves ready, with adequate transparency and excellent Shielding properties for has electromagnetic waves and that the reflection of light better prevent from a network, especially in a bright environment can make the network less recognizable and consequently the visibility a picture displayed on a screen.

Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereit, bei dem eine Korrosionsschutzschicht einfach gebildet werden kann und durch das ein sehr gut dauerbeständiges Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen erzeugt werden kann.The The present invention provides a process for the preparation of a Sheet for shielding electromagnetic waves ready, in which a corrosion protection layer can be easily formed and through this is a very good durable Sheet for shielding electromagnetic waves are generated can.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenShort description the drawings

1 ist eine Draufsicht auf ein erfindungsgemäßes Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, 1 is a plan view of an inventive sheet for shielding electromagnetic waves,

2 ist eine perspektivische Ansicht, die den in der 1 gezeigten Netzteil zeigt, 2 is a perspective view, the in the 1 shown power supply shows

3 ist eine Schnittansicht eines Netzteils eines erfindungsgemäßen Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, und 3 is a sectional view of a power supply of an electromagnetic wave shielding sheet according to the invention, and

4 ist eine Schnittansicht eines Netzteils eines erfindungsgemäßen Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen. 4 is a sectional view of a power supply of a sheet according to the invention for shielding electromagnetic waves.

Beste Art und Weise der Durchführung der ErfindungBest way of execution the invention

GrundlagenBasics

Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nachstehend unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Wie es in den 1 und 2 gezeigt ist, umfasst ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1 im Wesentlichen einen Netzteil 103 und gegebenenfalls einen Rahmenteil 101 um den Netzteil 103 zur Erdung. Wie es in der 3(A) gezeigt ist, bei der es sich um eine Schnittansicht handelt, umfasst das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1 ein transparentes Substrat 11 und eine Metallnetzschicht 21, die mit einer transparenten Haftmittelschicht 13 auf eine Fläche des transparenten Substrats 11 laminiert ist. Auf einer Fläche der Metallnetzschicht 21 auf der Seite des transparenten Substrats 11 ist eine erste Schwärzungsschicht 25A ausgebildet, wie es in der 3(A) gezeigt ist. In manchen anderen Figuren ist eine zweite Korrosionsschutzschicht 23B auf der anderen Fläche der Metallnetzschicht 21 auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat 11 ausgebildet. Alternativ können eine erste Schwärzungsschicht 25A und eine erste Korrosionsschutzschicht 23A aufeinander folgend auf der Fläche der Metallnetzschicht 21 auf der Seite des transparenten Substrats 11 ausgebildet werden, wie es in der 3(B) gezeigt ist.Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. As it is in the 1 and 2 1, an electromagnetic wave shielding sheet 1 basically comprises a power supply 103 and optionally a frame part 101 around the power supply 103 for grounding. As it is in the 3 (A) 1, which is a sectional view, includes the electromagnetic wave shielding sheet 1 a transparent substrate 11 and a metal mesh layer 21 covered with a transparent adhesive layer 13 on a surface of the transparent substrate 11 is laminated. On a surface of the metal mesh layer 21 on the side of the transparent substrate 11 is a first blackening layer 25A trained as it is in the 3 (A) is shown. In some other figures, a second corrosion protection layer is 23B on the other surface of the metal mesh layer 21 on the side opposite the transparent substrate 11 educated. Alternatively, a first blackening layer 25A and a first anti-corrosion layer 23A consecutively on the surface of the metal mesh layer 21 on the side of the transparent substrate 11 be trained as it is in the 3 (B) is shown.

In den 1 und 2 ist der Netzteil 103 aus den Linienteilen 107 zusammengesetzt, die eine Mehrzahl von Öffnungen 105 definieren. Die Linienteile 107 weisen die Metallschicht 21, die erste Schwärzungsschicht 25A und die optionale erste Korrosionsschutzschicht 23A, die sich auf der Fläche der Metallschicht 21 auf der Seite des transparenten Substrats 11 befinden, und die zweite Korrosionsschutzschicht 23B auf der anderen Fläche der Metallschicht 21 auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat 11 auf. Die 3(A) und 3(B) und die 4(A) und 4(B) sind Schnittansichten entlang der Linie A-A von 2, wobei die Linienteile 107 entlang der Linie B-B von 2 ausgebildet sind.In the 1 and 2 is the power adapter 103 from the line parts 107 composed of a plurality of openings 105 define. The line parts 107 have the metal layer 21 , the first blackening layer 25A and the optional first anti-corrosion layer 23A that are on the surface of the metal layer 21 on the side of the transparent substrate 11 and the second anti-corrosion layer 23B on the other surface of the metal layer 21 on the side opposite the transparent substrate 11 on. The 3 (A) and 3 (B) and the 4 (A) and 4 (B) are sectional views along the line AA of 2 , where the line parts 107 along the BB line of 2 are formed.

Ferner kann, wie es in der 4(A) gezeigt ist, eine zweite Schwärzungsschicht 25B so ausgebildet sein, dass sie die Vorderfläche (Oberfläche) und die Seitenflächen von [erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/erste Korrosionsschutzschicht 23A] in der Form eines Netzes bedeckt.Furthermore, as can be seen in the 4 (A) is shown, a second blackening layer 25B be formed so that they the front surface (surface) and the side surfaces of [first blackening layer 25A / Metal layer 21 / first corrosion protection layer 23A ] covered in the form of a net.

Wie es in der 4(B) gezeigt ist, kann eine zweite Schwärzungsschicht 25B so ausgebildet sein, dass sie die Vorderfläche (Oberfläche) und die Seitenflächen von [erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] in der Form eines Netzes bedeckt.As it is in the 4 (B) can be shown, a second blackening layer 25B be designed so that they the front surface (surface) and the side surfaces of [first anticorrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] covered in the form of a net.

Die vorstehend beschriebenen [erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B],[erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B], [erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/erste Korrosionsschutzschicht 23A/zweite Schwärzungsschicht 25B] und [erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B, zweite Schwärzungsschicht 25B] sind Schichten zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen und jede Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen umfasst den Netzteil 103, der als Bildanzeigeteil dient, und gegebenenfalls den Rahmenteil 101.The above-described first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ], [first corrosion protection layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ], [first blackening layer 25A / Metal layer 21 / first corrosion protection layer 23A / second blackening layer 25B ] and [first anti-corrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B , second blackening layer 25B ] are electromagnetic wave shielding layers, and each electromagnetic wave shielding layer includes the power supply 103 serving as an image display part, and optionally the frame part 101 ,

Verfahrenmethod

Bei der Herstellung des erfindungsgemäßen Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen werden die erste Korrosionsschutzschicht 23A und die zweite Korrosionsschutzschicht 23B so bereitgestellt, dass sie ein oder mehrere Metall(e) enthalten, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium (oder allen dieser Metalle) ausgewählt ist bzw. sind, wenn sie gebildet werden. Alternativ können diese Schichten so bereitgestellt werden, dass sie zusätzlich zu diesen Metallen Zink und/oder Zinn enthalten, wenn sie anfänglich gebildet werden, und das Zink und/oder Zinn in dem Zwischenschritt entfernt wird bzw. werden, so dass die Schichten schließlich das eine oder die mehreren Metall(e) enthalten, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium ausgewählt ist bzw. sind. Die anderen Schritte können in herkömmlicher Weise bewirkt werden.In the manufacture of the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention, the first anticorrosive layer becomes 23A and the second anticorrosion layer 23B prepared so as to contain one or more metals selected from chromium, nickel and silicon (or all of these metals) when formed. Alternatively, these layers may be provided to contain zinc and / or tin in addition to these metals when they are initially formed and the zinc and / or tin to be removed in the intermediate step such that the layers eventually become the one or the plurality of metal (s) selected from chromium, nickel and silicon. The other steps may be effected in a conventional manner.

Beispielsweise umfasst ein Verfahren zur Herstellung von [transparentes Substrat 11/Haftmittelschicht 13/erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B/zweite Schwärzungsschicht 25B], d.h. eines Laminats, das die größte Anzahl von Bestandteilsschichten umfasst, die Schritte (1) des Herstellens einer Metallschicht, (2) des Bildens einer ersten Schwärzungsschicht auf einer Fläche der Metallschicht und einer ersten und einer zweiten Korrosionsschutzschicht auf beiden Seiten der Metallschicht, (3) des Laminierens der Metallschicht und eines transparenten Substrats mit einem Haftmittel, wobei die erste Korrosionsschutzschicht dem transparenten Substrat gegenüber liegt, (4) des photolithographischen Ausbildens der ersten Korrosionsschutzschicht, der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die auf dem transparenten Substrat ausgebildet worden sind, zu einem Netzmuster, und (5) des Unterziehens des Netzmusters einer Schwärzungsbehandlung zur Bildung einer zweiten Schwärzungsschicht.For example, a method for producing [transparent substrate 11 / Adhesive layer 13 / first corrosion protection layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B / second blackening layer 25B ], ie, a laminate comprising the largest number of constituent layers, steps (1) of forming a metal layer, (2) forming a first blackening layer on one surface of the metal layer, and first and second anticorrosive layers on both sides of the metal layer, (3) laminating the metal layer and a transparent substrate with an adhesive, the first anticorrosion layer facing the transparent substrate, (4) photolithographically forming the first anticorrosive layer, the first blackening layer, the metal layer, and the second anticorrosive layer on the transparent substrate Substrate have been formed into a mesh pattern, and (5) subjecting the mesh pattern to a blackening treatment to form a second blackening layer.

Metallschichtmetal layer

Für die Metallschicht 21 kann ein Metall mit einer elektrischen Leitfähigkeit verwendet werden, die gut genug ist, um elektromagnetische Wellen zufrieden stellend abzuschirmen, wie z.B. Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Nickel oder Chrom. Von diesen Metallen sind Eisen und Kupfer bevorzugt, da sie eine hohe elektrische Leitfähigkeit (und auch eine hohe magnetische Permeabilität) aufweisen, die zur Ausbildung der Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen beiträgt, eine hervorragende Verarbeitbarkeit beim Ätzen zeigen und relativ billig sind. Kupfer ist bevorzugt, wenn insbesondere eine hohe elektrische Leitfähigkeit erforderlich ist, und Eisen ist bevorzugt, wenn zusätzlich zu einer elektrischen Leitfähigkeit eine hohe magnetische Permeabilität oder ein hoher Hystereseverlust erforderlich ist. Die Metallschicht kann nicht nur eine Schicht aus einem einzelnen Metall sein, sondern es kann sich auch um eine Legierungsschicht oder um eine mehrschichtige Schicht handeln. Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, wie z.B. unberuhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt und Aluminium-beruhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, Ni-Fe-Legierungen und Invarlegierungen sind hier als Eisenmaterialien bevorzugt. Wenn als Schwärzungsbehandlung eine kathodische Elektroabscheidung durchgeführt wird, ist es bevorzugt, eine Kupfer- oder Kupferlegierungsfolie als Metallschicht zu verwenden, da es einfach ist, auf einem solchen Material eine Schwärzungsschicht mittels Elektroabscheidung abzuscheiden. Obwohl sowohl eine gewalzte Kupferfolie als auch eine Elektrolytkupferfolie als Kupferfolie verwendet werden kann, ist eine Elektrolytkupferfolie aufgrund ihrer einheitlichen Dicke und ihrer Haftung an einer Schicht, die durch eine Schwärzungsbehandlung und/oder eine Chromatbehandlung gebildet worden ist, und da sie eine geringe Dicke von unter 10 μm aufweisen kann, bevorzugt. Die Dicke der Metallschicht 21 beträgt etwa 1 bis 100 μm und vorzugsweise 5 bis 20 μm. Wenn die Metallschicht 21 eine Dicke unter dem vorstehend genannten Bereich aufweist, weist sie einen erhöhten elektrischen Widerstandswert auf und zeigt somit einen beeinträchtigten Abschirmungseffekt für elektromagnetische Wellen, obwohl sie photolithographisch einfach zu einem Netz verarbeitet werden kann. Wenn die Metallschicht 21 eine Dicke über dem vorstehend genannten Bereich aufweist, kann sie nicht zu dem gewünschten feinen Netz ausgebildet werden. Folglich weist das Netz eine wesentlich verminderte Öffnungsrate und eine verminderte Lichtdurchlässigkeit auf, was zu einem kleineren Betrachtungswinkel und einer geringeren Bildsichtbarkeit führt.For the metal layer 21 For example, a metal having an electrical conductivity that is good enough to satisfactorily shield electromagnetic waves, such as gold, silver, copper, iron, nickel or chromium may be used. Of these metals, iron and copper are preferable because they have high electrical conductivity (and also high magnetic permeability), which contributes to the formation of electromagnetic wave shielding properties, exhibit excellent etching processability, and are relatively inexpensive. Copper is preferred when particularly high electrical conductivity is required, and iron is preferred when high magnetic permeability or high hysteresis loss is required in addition to electrical conductivity. The metal layer may not only be a single metal layer, but may also be an alloy layer or a multi-layer layer. Low-carbon steels, such as low-carbon unrefined steels and low-carbon aluminum-tempered steels, Ni-Fe alloys and invar alloys are preferred as iron materials herein. When cathodic electrodeposition is performed as a blackening treatment, it is preferable to use a copper or copper alloy foil as a metal layer because it is easy to electrodeposit a blackening layer on such a material. Although both a rolled copper foil and an electrolytic copper foil can be used as a copper foil, an electrolytic copper foil is less than a thickness due to its uniform thickness and adhesion to a layer formed by a blackening treatment and / or a chromate treatment May have 10 microns, preferably. The thickness of the metal layer 21 is about 1 to 100 microns, and preferably 5 to 20 microns. If the metal layer 21 has a thickness lower than the above-mentioned range, it has an increased electrical resistance value, and thus exhibits an impaired electromagnetic wave shielding effect, though it can be easily photolithographically processed into a mesh. If the metal layer 21 has a thickness over the above range, it can not be formed into the desired fine mesh. As a result, the mesh has a significantly reduced opening rate and reduced light transmission, resulting in a smaller viewing angle and less image visibility.

Die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht 21 beträgt etwa 0,1 bis 10 μm, vorzugsweise 0,5 bis 10 μm, als Rz-Wert angegeben. Wenn die Metallschicht 21 eine Oberflächenrauhigkeit unter diesem Bereich aufweist, findet eine Spiegelreflexion von externem Licht selbst dann statt, wenn sie einer Schwärzungsbehandlung unterworfen wird, und folglich wird die Bildsichtbarkeit vermindert. Wenn die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht 21 über dem vorstehend genannten Bereich liegt, breitet sich ein Haftmittel oder ein Photolack nach dessen Aufbringen nicht über der gesamten Oberfläche der Metallschicht aus oder umfasst Luft, so dass Luftblasen erzeugt werden. Die Oberflächenrauhigkeit Rz ist hier ein Mittelwert von 10 Messungen, die gemäß JIS-B0601 (Version 1994) erhalten worden sind.The surface roughness of the metal layer 21 is about 0.1 to 10 microns, preferably 0.5 to 10 microns, indicated as Rz value. If the metal layer 21 has a surface roughness below this range, mirror reflection of external light takes place even when subjected to a blackening treatment, and hence the image visibility is lowered. When the surface roughness of the metal layer 21 is above the above-mentioned range, an adhesive or a photoresist after it has been applied does not spread over the entire surface of the metal layer or comprises air, so that air bubbles are generated. The surface roughness Rz here is an average of 10 measurements obtained in accordance with JIS-B0601 (version 1994).

Erste SchwärzungsschichtFirst blackening layer

Eine Schwärzungsbehandlung zur Bildung der ersten Schwärzungsschicht 25A (die Bildung einer Schwärzungsschicht wird nachstehend als Schwärzungsbehandlung bezeichnet) wird durchgeführt, wenn die Metallschicht 21 noch im Zustand einer Einzelschicht vorliegt. Die Schwärzungsbehandlung kann durch Aufrauhen oder Schwärzen der Oberfläche der Metallschicht durchgeführt werden und die Abscheidung eines Metalls, einer Legierung, eines Metalloxids oder eines Metallsulfids oder verschiedene andere Techniken können für diese Behandlung verwendet werden. Bevorzugte Verfahren zur Durchführung der Schwärzungsbehandlung umfassen Plattieren und das Plattieren ermöglicht die Bildung einer Schwärzungsschicht auf der Metallschicht 21 mit einer guten Haftung und das einfache einheitliche Schwärzen der Oberfläche der Metallschicht 21. Bezüglich der Materialien zum Plattieren ist dann, wenn Kupfer für die Metallschicht verwendet wird, im Hinblick auf die Haftung an der Metallschicht ein Kupferenthaltendes Material bevorzugt. Insbesondere wird Kupfer selbst, eine Kupferenthaltende Verbindung oder eine Kupfer-enthaltende Legierung verwendet.A blackening treatment to form the first blackening layer 25A (the formation of a blackening layer is hereinafter referred to as blackening treatment) is performed when the metal layer 21 still present in the state of a single layer. The blackening treatment may be performed by roughening or blackening the surface of the metal layer, and the deposition of a metal, an alloy, a metal oxide or a metal sulfide or various other techniques may be used for this treatment. Preferred methods of performing the blackening treatment include plating, and plating allows the formation of a blackening layer on the metal layer 21 with good adhesion and easy uniform blackening of the surface of the metal layer 21 , As for the materials for plating, when copper is used for the metal layer, a copper-containing material is preferable from the viewpoint of adhesion to the metal layer. In particular, copper itself, a copper-containing compound or a copper-containing alloy is used.

Beispielsweise können Kupferoxid, Kupfersulfid oder eine Legierung oder Verbindung, die Kupfer als essentielle Komponente enthält, und mindestens ein Metall, das aus Cobalt, Nickel, Zink, Molybdän, Zinn und Chrom ausgewählt ist, verwendet werden. Wenn ein solches Kupfer-enthaltendes Metall in die erste Schwärzungsschicht 25A umgewandelt wird, kann zwischen der ersten Schwärzungsschicht 25A und der Metallschicht 21, insbesondere einer Kupferschicht, eine hervorragende Haftung erhalten werden. Wenn andere Metalle oder Verbindungen verwendet werden, kann die Metallschicht 21 nicht vollständig geschwärzt werden oder die Haftung der Schwärzungsschicht an der Metallschicht 21 ist unzureichend. Diese Schwierigkeiten treten signifikant in dem Fall auf, bei dem z.B. Cadmium zum Plattieren verwendet wird.For example, copper oxide, copper sulfide or an alloy or compound containing copper as an essential component and at least one metal selected from cobalt, nickel, zinc, molybdenum, tin and chromium may be used. When such a copper-containing metal in the first blackening layer 25A can be converted between the first blackening layer 25A and the metal layer 21 , in particular a copper layer, excellent adhesion can be obtained. If other metals or compounds are used, the metal layer may 21 not completely blackened or the adhesion of the blackening layer to the metal layer 21 is insufficient. These difficulties occur significantly in the case where, for example, cadmium is used for plating.

Bei der Verwendung von Kupfer selbst wird, da feine Teilchen von Kupfer auf der Metallschicht abgeschieden sind, reflektiertes Licht durch die feinen Teilchen verteilt oder partiell absorbiert, so dass die Menge des reflektierten Lichts pro Richtung vermindert wird, wodurch die Metallschicht geschwärzt wird. In diesem Fall beträgt die Oberflächenrauhigkeit der Schicht der feinen Kupferteilchen vorzugsweise etwa 0,1 bis 3 μm, wie es durch den Rz-Wert angegeben wird.at The use of copper itself, as fine particles of copper deposited on the metal layer, reflected light through the fine particles are distributed or partially absorbed, so that the Amount of reflected light per direction is reduced, causing the metal layer blackened becomes. In this case is the surface roughness the layer of fine copper particles preferably about 0.1 to 3 μm, like it is indicated by the Rz value.

Ein Plattierungsverfahren, das bevorzugt eingesetzt wird, wenn eine Kupferfolie als Metallschicht 21 verwendet wird, ist ein kathodisches Elektroabscheidungsplattieren, bei dem die Kupferfolie einer kathodischen Elektrolyse in einem Elektrolyten, wie z.B. Schwefelsäure, Kupfersulfat oder Cobaltsulfat unterworfen wird, wodurch kationische Teilchen auf der Kupferfolie abgeschieden werden. Die abgeschiedenen kationischen Teilchen rauen die Kupferfolie auf und führen gleichzeitig zu einer schwarzen Farbe der Kupferfolie. Obwohl die kationischen Teilchen entweder Kupferteilchen oder Teilchen einer Legierung aus Kupfer und einem anderen Metall sein können, sind Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen hier bevorzugt. Der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen beträgt vorzugsweise 0,1 bis 1 μm.A plating method which is preferably used when a copper foil as a metal layer 21 is a cathodic electrodeposition plating in which the copper foil is subjected to cathodic electrolysis in an electrolyte such as sulfuric acid, copper sulfate or cobalt sulfate, thereby depositing cationic particles on the copper foil. The deposited cationic particles roughen the copper foil and simultaneously lead to a black color of the copper foil. Although the cationic particles may be either copper particles or particles of an alloy of copper and another metal, copper-cobalt alloy particles are preferred herein. The average particle diameter of the copper-cobalt alloy particles is preferably 0.1 to 1 μm.

Die kathodische Elektroabscheidung ist zur Abscheidung von Teilchen mit einheitlicher Größe mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,1 bis 1 μm zweckmäßig. Ferner wird die Oberfläche der Kupferfolie bei der Behandlung mit einer hohen Stromdichte kathodisch und erzeugt reduzierenden Wasserstoff, so dass sie aktiviert wird, so dass zwischen der Kupferfolie und den Teilchen eine signifikant verbesserte Haftung erhalten werden kann. In dem Fall, bei dem der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen außerhalb des vorstehend beschriebenen Bereichs liegt, ist dann, wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen über dem vorstehend genannten Bereich liegt, die Schwärze der Kupferfolie unzureichend und darüber hinaus findet leicht ein Abfallen der Teilchen (auch als Abfallen der pulverförmigen Beschichtung bezeichnet) statt. Darüber hinaus weist die äußere Erscheinung der agglomerierten Teilchen eine schlechte Dichte auf und die Uneinheitlichkeit des Aussehens und der Lichtabsorption macht sich bemerkbar. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser unter dem vorstehend beschriebenen Bereich sind ebenfalls bezüglich des Schwärzungsvermögens unzureichend und können eine Reflexion von externem Licht nicht vollständig verhindern, so dass die Bildsichtbarkeit geringer wird.The Cathodic electrodeposition is for the deposition of particles with uniform size with one average particle diameter of 0.1 to 1 micron appropriate. Furthermore, the surface of the Copper foil cathodic when treated with a high current density and generates reducing hydrogen so that it becomes activated so that between the copper foil and the particles a significant improved adhesion can be obtained. In the case where the average particle diameter of the copper-cobalt alloy particles outside of the above-described range is when the average particle diameter of the copper-cobalt alloy particles over the above range, the blackness of the copper foil is insufficient and above In addition, the particles fall off easily (also as falling off the powdery one Coating called) instead. In addition, the external appearance indicates The agglomerated particles have a poor density and ununiformity Appearance and light absorption are noticeable. Copper-cobalt alloy particles having an average particle diameter below that described above Area are also regarding the blackening power insufficient and can not completely prevent a reflection of external light, so that the Image visibility is lower.

Erste und zweite KorrosionsschutzschichtFirst and second corrosion protection layer

Danach wird eine erste Korrosionsschutzschicht 23A auf der einen Fläche der Schwärzungsschicht 25A auf der Metallschicht 21 ausgebildet und eine zweite Korrosionsschutzschicht 23B wird auf der anderen Fläche der Metallschicht 21 ausgebildet. Die erste und die zweite Korrosionsschutzschicht 23A, 23B können auf beiden Seiten der Metallschicht 21 entweder gleichzeitig oder nacheinander ausgebildet werden. Die erste Korrosionsschutzschicht 23A und die zweite Korrosionsschutzschicht 23B weisen jeweils die Funktion des Schutzes der Oberfläche der ersten Schwärzungsschicht 25A und der Oberfläche der Metallschicht 21 vor einer Korrosion auf und darüber hinaus können diese Schichten dann, wenn Teilchen für die Schwärzungsbehandlung verwendet werden, das Abfallen oder die Verformung der Teilchen verhindern. Um ein Abfallen oder eine Verformung der Teilchen, mit denen die erste Schwärzungsschicht 25A ausgebildet ist, zu verhindern, ist es essentiell, die erste Korrosionsschutzschicht 23A bereitzustellen. Obwohl herkömmliche Korrosionsschutzschichten als erste Korrosionsschutzschicht 23A und/oder zweite Korrosionsschutzschicht 23B verwendet werden können, werden bzw. wird hier ein oder mehrere Metalle, das bzw. die aus Nickel, Chrom und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, als Materialien für diese Korrosionsschutzschichten verwendet. Beispielsweise sind Chrom, Nickel, Chrom + Nickel, Chrom + Nickel + Silizium und Oxide dieser Metalle bevorzugt und ein Material, das Chrom, Nickel und Silizium enthält, ist besonders bevorzugt. Die Dicke jeder Korrosionsschutzschicht beträgt etwa 0,001 bis 1 μm, vorzugsweise 0,001 bis 0,1 μm.Thereafter, a first corrosion protection layer 23A on one surface of the blackening layer 25A on the metal layer 21 trained and a second corrosion protection layer 23B becomes on the other surface of the metal layer 21 educated. The first and the second corrosion protection layer 23A . 23B can on both sides of the metal layer 21 be formed either simultaneously or sequentially. The first corrosion protection layer 23A and the second anticorrosion layer 23B each have the function of protecting the surface of the first blackening layer 25A and the surface of the metal layer 21 Before corrosion and, moreover, when particles are used for the blackening treatment, these layers may prevent the particles from falling off or deforming. To a drop or deformation of the particles with which the first blackening layer 25A is designed to prevent, it is essential to use the first anticorrosive coating 23A provide. Although conventional anticorrosive coatings as the first anticorrosive coating 23A and / or second corrosion protection layer 23B Here, one or more metals selected from nickel, chromium and silicon are used as materials for these anticorrosive layers. For example, chromium, nickel, chromium + nickel, chromium + nickel + silicon and oxides of these metals are preferable, and a material containing chromium, nickel and silicon is particularly preferable. The thickness of each anticorrosion layer is about 0.001 to 1 μm, preferably 0.001 to 0.1 μm.

Chrom, Nickel, Chrom + Nickel, Chrom + Nickel + Silizium oder ein Oxid von jedwedem dieser Metalle wird mit einem herkömmlichen Plattierungsverfahren zur Bildung einer Korrosionsschutzschicht abgeschieden und in der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, zunächst eine Schicht zu bilden, die zusätzlich zu einem oder mehreren Metall(en), das bzw. die aus Nickel, Chrom und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, Zink und/oder Zinn enthält.Chrome, Nickel, chromium + nickel, chromium + nickel + silicon or an oxide Any of these metals is made by a conventional plating process deposited to form a corrosion protection layer and in the present invention, it is preferable to first form a layer the additional to one or more metal (s) made of nickel, chromium and silicon selected is or are, contains zinc and / or tin.

In dem Fall, bei dem die erste Korrosionsschutzschicht 23A und die zweite Korrosionsschutzschicht 23B Nickel enthalten, zeigen diese Schichten eine beträchtlich verbesserte Korrosionsbeständigkeit und können das Abfallen der Schwärzungsschicht mit einer größeren Sicherheit verhindern, da das Nickel passiviert worden ist.In the case where the first anti-corrosion layer 23A and the second anticorrosion layer 23B Containing nickel, these layers exhibit considerably improved corrosion resistance and can prevent the blackening layer from falling off with greater certainty because the nickel has been passivated.

Um Silizium in die erste Korrosionsschutzschicht 23A und/oder die zweite Korrosionsschutzschicht 23B einzubringen, kann einem Plattierungsbad eine Silizium-enthaltende Verbindung, vorzugsweise eine Silizium-enthaltende Verbindung wie z.B. ein Silanhaftvermittler, zugesetzt werden. Da die erste Korrosionsschutzschicht 23A und/oder die zweite Korrosionsschutzschicht 23B, die Silizium enthält bzw. enthalten, eine signifikant verbesserte Korrosionsbeständigkeit zeigt bzw. zeigen, verbleibt eine solche Schicht selbst nach dem Schritt des Ablösens eines Photolacks mit einer alkalischen Lösung, der nach einem photolithographischen Verfahren bewirkt wird, das später beschrieben wird.To silicon in the first anticorrosion layer 23A and / or the second corrosion protection layer 23B For example, a silicon-containing compound, preferably a silicon-containing compound such as a silane coupling agent, may be added to a plating bath. Because the first corrosion protection layer 23A and / or the second corrosion protection layer 23B containing silicon containing a significantly improved corrosion resistance, such a layer remains even after the step of peeling a photoresist with an alkaline solution effected by a photolithographic process which will be described later.

Transparentes Substrattransparent substratum

Als transparentes Substrat 11 können verschiedene Materialien mit Transparenz, Isoliereigenschaften, Wärmebeständigkeit, mechanischer Festigkeit, usw., die gut genug sind, dass sie den Gebrauchs- und Herstellungsbedingungen widerstehen, verwendet werden. Beispiele für Materialien, die hier geeignet sind, umfassen Glas und transparente Harze. Glas umfasst Quarzglas, Borosilikatglas und Natronkalkglas, und es ist bevorzugt, ein nicht-Alkaliglas zu verwenden, das keine Alkalikomponenten enthält und das eine niedrige Wärmeausdehnungsrate und eine hervorragende Abmessungsstabilität und auch hervorragende Bearbeitungseigenschaften bei einer Hochtemperaturwärmebehandlung aufweist. Ein nicht-Alkaliglassubstrat kann so bereitgestellt werden, dass es auch als Substrat für eine Elektrode dient.As a transparent substrate 11 For example, various materials having transparency, insulating properties, heat resistance, mechanical strength, etc. that are good enough to withstand the conditions of use and manufacture can be used. Examples of materials suitable herein include glass and transparent resins. Glass includes quartz glass, borosilicate glass, and soda-lime glass, and it is preferred to use a non-alkali glass which does not contain alkali components and which has a low rate of thermal expansion and dimensional stability, and also excellent high temperature heat treatment processing properties. A non-alkali glass substrate may be provided so as to serve also as a substrate for an electrode.

Beispiele für transparente Harze, die hier geeignet sind, umfassen Polyesterharze, wie z.B. Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat, Polyethylennaphthalat, Terephthalsäure-Isophthalsäure-Ethylenglykol-Copolymere und Terephthalsäure-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere; Polyamidharze, wie z.B. Nylon 6; Polyolefinharze, wie z.B. Polypropylen und Polymethylpenten; Acrylharze, wie z.B. Polymethylmethacrylat; Styrolharze, wie z.B. Polystyrol und Styrol-Acrylnitril-Copolymere; Celluloseharze, wie z.B. Triacetylcellulose; Imidharze und Polycarbonat. Ein Blatt, ein Film, eine Platte oder dergleichen von jedwedem dieser Harze kann als transparentes Substrat verwendet werden.Examples for transparent Resins suitable herein include polyester resins, such as e.g. Polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, Terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymers and terephthalic acid cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymers; Polyamide resins, e.g. Nylon 6; Polyolefin resins, e.g. polypropylene and polymethylpentene; Acrylic resins, such as e.g. polymethyl methacrylate; Styrene resins, e.g. Polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers; Cellulose resins, such as e.g. triacetylcellulose; Imide resins and polycarbonate. A sheet, a film, a plate or the like of any of these Resins can be used as a transparent substrate.

Das transparente Substrat, bei dem es sich um einen Film, eine Platte oder dergleichen aus dem transparenten Harz handelt, kann aus einem Copolymerharz oder einem Gemisch (einschließlich einer Legierung), die als Hauptkomponente jedwedes der vorstehend aufgezählten Harze enthält, hergestellt sein, oder es kann sich auch um ein Laminat von zwei oder mehr Schichten handeln. Obwohl ein solches transparentes Substrat entweder ein orientierter oder ein nicht-orientierter Film sein kann, wird vorzugsweise ein mono- oder biaxial orientierter Film verwendet, um eine erhöhte Festigkeit zu erhalten. Im Allgemeinen beträgt die Dicke des transparenten Substrats etwa 12 bis 1000 μm. Die bevorzugte Dicke liegt jedoch bei 50 bis 700 μm und die optimale Dicke liegt bei 100 bis 500 μm, wenn für das transparente Substrat ein transparentes Harz verwendet wird. Wenn Glas für das transparente Substrat verwendet wird, beträgt die bevorzugte Dicke etwa 1000 bis 5000 μm. In jedem Fall kann ein transparentes Substrat mit einer Dicke unter dem vorstehend genannten Bereich keine ausreichend hohe mechanische Festigkeit aufweisen, so dass es sich kräuselt, wellig wird oder zerstört wird, während ein transparentes Substrat mit einer Dicke über dem vorstehend genannten Bereich eine übermäßig hohe Festigkeit aufweist, was im Hinblick auf die Kosten eine Verschwendung darstellt.The transparent substrate, which is a film, a plate or the like is made of the transparent resin, may consist of a Copolymer resin or a mixture (including an alloy), the as a main component, any of the above enumerated resins contains or it can also be a laminate of two or more layers act. Although such a transparent substrate either an oriented or a non-oriented film can be preferably uses a mono- or biaxially oriented film, to an increased To obtain strength. In general, the thickness of the transparent is Substrate about 12 to 1000 microns. However, the preferred thickness is 50 to 700 microns and the optimum Thickness is 100 to 500 μm, if for the transparent substrate is a transparent resin is used. If glass for the transparent substrate is used, the preferred thickness is about 1000 to 5000 μm. In any case, a transparent substrate with a thickness below the range mentioned above is not sufficiently high mechanical Have firmness so that it curls, becomes wavy or is destroyed, while a transparent substrate having a thickness above the above Range an overly high Strength, which is a waste in terms of cost represents.

Im Allgemeinen wird ein Film aus einem Polyesterharz, wie z.B. Polyethylenterephthalat oder Polyethylennaphthalat, ein Celluloseharzfilm oder eine Glasplatte zweckmäßig als transparentes Substrat verwendet, da es sowohl eine hervorragende Transparenz als auch eine hervorragende Wärmebeständigkeit aufweist und auch billig ist. Von diesen Materialien ist ein Polyethylenterephthalatfilm am meisten bevorzugt, da er nur schwer zerstörbar ist, ein geringes Gewicht aufweist und leicht geformt werden kann. Ein transparentes Substrat mit einer höheren Transparenz ist besser und die bevorzugte Transparenz, angegeben als Durchlässigkeit für sichtbares Licht, beträgt 80 % oder mehr.in the In general, a film of a polyester resin, e.g. polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a cellulose resin film or a glass plate appropriate as transparent substrate used as it is both an excellent Transparency as well as excellent heat resistance and also cheap is. Of these materials, a polyethylene terephthalate film is most preferably, because it is difficult to destroy, a low weight and can be easily shaped. A transparent substrate with a higher one Transparency is better and the preferred transparency is given as permeability for visible Light, amounts 80% or more.

Vor dem Aufbringen eines Haftmittels wird die Fläche des transparenten Substratfilms, die mit dem Haftmittel beschichtet werden soll, einer haftungsverbessernden Behandlung, wie z.B. einer Koronaentladungsbehandlung, einer Plasmabehandlung, einer Ozonbehandlung, einer Flammenbehandlung, einer Haftvermittlerbeschichtungsbehandlung (der Haftvermittler wird auch als Verankerungsmittel, haftförderndes oder haftungsverbesserndes Mittel bezeichnet), einer Vorwärmbehandlung, einer Staubentfernungsbehandlung, einer Vakuumabscheidung oder einer Alkalibehandlung unterzogen. In den Harzfilm können gegebenenfalls Additive wie z.B. Ultraviolettabsorptionsmittel, Füllstoffe, Weichmacher und Antistatikmittel einbezogen werden.In front the application of an adhesive, the surface of the transparent substrate film, which is to be coated with the adhesive, an adhesion-improving Treatment, such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, an ozone treatment, a flame treatment, a primer coating treatment (The bonding agent is also used as an anchoring agent, adhesion promoting or adhesion improving agent), a preheating treatment, a dust removal treatment, a vacuum deposition or a Subjected to alkali treatment. In the resin film may optionally additives such as. Ultraviolet absorbers, fillers, plasticizers and antistatic agents be included.

Laminierverfahrenlaminating

Das transparente Substrat 11 und die vorstehend beschriebene erste Korrosionsschutzschicht 23A oder die erste Schwärzungsschicht 25A, die sich auf der Metallschicht 21 befindet, werden mit einem Haftmittel 13 zur Bildung eines Laminats 1a laminiert. Dieses Laminierverfahren läuft wie folgt ab: Ein Haftmittelharz oder ein Gemisch von Haftmittelharzen wird in ein Fluid, wie z.B. einen Latex, eine wässrige Dispersion oder eine Lösung mit einem organischen Lösungsmittel überführt, der bzw. die dann auf die Oberfläche des transparenten Substrats 11 oder auf die Oberfläche der ersten Korrosionsschutzschicht 23A oder die Oberfläche der ersten Schwärzungsschicht 25A oder auf diese beiden Oberflächen durch ein herkömmliches Druck- oder Beschichtungsverfahren, wie z.B. Siebdruck, Tiefdruck, Kommabeschichten oder Walzenbeschichten gedruckt oder aufgebracht und gegebenenfalls getrocknet wird. Dann wird das gegenüber liegende Material auf die Haftmittelschicht gelegt und Druck wird ausgeübt und das Haftmittel wird dann gehärtet. Die Dicke der Haftmittelschicht (wenn sie getrocknet ist) beträgt etwa 0,1 bis 20 μm, vorzugsweise 1 bis 10 μm.The transparent substrate 11 and the above-described first anticorrosion layer 23A or the first blackening layer 25A that are on the metal layer 21 be located with an adhesive 13 to form a laminate 1a laminated. This lamination process proceeds as follows: An adhesive resin or mixture of adhesive resins is transferred to a fluid such as a latex, an aqueous dispersion, or an organic solvent solution, which is then applied to the surface of the transparent substrate 11 or on the surface of the first anti-corrosion layer 23A or the surface of the first blackening layer 25A or printed on these two surfaces by a conventional printing or coating process, such as screen printing, gravure, comma layers or roll coating, and optionally dried. Then the opposing material is placed on the adhesive layer and pressure is applied and the adhesive is then cured. The thickness of the adhesive layer (when dried) is about 0.1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm.

Insbesondere werden in dem Laminierverfahren üblicherweise die Metallschicht 21 und das transparente Substrat 11 in kontinuierlichen bandförmigen (aufgerollten) Formen verwendet. Insbesondere wird das Haftmittel auf die Metallschicht und/oder den Substratfilm in einem Zustand aufgebracht, bei dem es von einer Aufwickelrolle abgerollt und gestreckt wird, und dann getrocknet. Das andere Material wird auf diese Haftmittelschicht gelegt und Druck wird ausgeübt. Das erhaltene Material wird ferner einer Alterung (Alterung und Härtung) in einer Atmosphäre bei 30 bis 80°C für mehrere Stunden bis mehrere Tage, je nach Bedarf, unterzogen, wodurch ein gerolltes Laminat erhalten wird. Es ist bevorzugt, ein Verfahren zu verwenden, das vom Fachmann als Trockenlaminieren bezeichnet wird.In particular, in the lamination process, the metal layer usually becomes 21 and the transparent substrate 11 used in continuous band-shaped (rolled up) forms. Specifically, the adhesive is applied to the metal layer and / or the substrate film in a state of being unrolled and stretched by a take-up roll, and then dried. The other material is placed on this adhesive layer and pressure is applied. The obtained material is further subjected to aging (aging and hardening) in an atmosphere at 30 to 80 ° C for several hours to several days as occasion demands, thereby obtaining a rolled laminate. It is preferred to use a method which is referred to as dry lamination by those skilled in the art.

Trockenlaminierendry laminating

Das Trockenlaminieren ist ein Verfahren des Laminierens von zwei Arten von Materialien in der folgenden Weise: Durch ein Beschichtungsverfahren, wie z.B. Walzen-, Umkehrwalzen- oder Tiefdruckbeschichten wird ein Haftmittel, das in einem Lösungsmittel dispergiert oder gelöst ist, auf eines der zwei Materialien so aufgebracht, dass die getrocknete Schicht eine Dicke von etwa 0,1 bis 20 μm, vorzugsweise 1 bis 10 μm, aufweist, und das Lösungsmittel wird zur Bildung einer Haftmittelschicht verdampft. Sofort nach der Bildung der Haftmittelschicht wird das andere Laminiermaterial auf die Haftmittelschicht gelegt und dieses Laminat wird mehrere Stunden bis mehrere Tage bei 30 bis 80°C altern gelassen, um das Haftmittel zu härten. Das Haftmittel, das bei der Trockenlaminierung verwendet werden kann, umfasst Haftmittel, die aus wärmehärtenden Harzen hergestellt sind. Spezielle Beispiele für wärmehärtende Harzhaftmittel, die hier geeignet sind, umfassen Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel, die durch die Reaktion polyfunktioneller Isocyanate, wie z.B. Toluylendiisocyanat oder Hexamethylendiisocyanat mit Hydroxylgruppe-enthaltenden Verbindungen, wie z.B. Polyetherpolyolen oder Polyacrylatpolyolen, erhalten werden können; Acrylhaftmittel und Kautschukhaftmittel. Von diesen Haftmitteln sind Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel bevorzugt.The Dry lamination is a method of laminating two types of materials in the following way: By a coating process, such as. Roll, reverse roll or gravure coating becomes a Adhesive in a solvent dispersed or dissolved is applied to one of the two materials so that the dried Layer has a thickness of about 0.1 to 20 microns, preferably 1 to 10 microns, and the solvent is evaporated to form an adhesive layer. Immediately after the formation of the adhesive layer becomes the other laminating material placed on the adhesive layer and this laminate becomes several Hours to several days at 30 to 80 ° C aged to the adhesive to harden. The adhesive used in dry lamination can, includes adhesives made from thermosetting resins are. Special examples for thermosetting resin adhesives, suitable herein include two-part curing urethane adhesives, the polyfunctional isocyanates, e.g. toluene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate with hydroxyl group-containing compounds, such as. Polyether polyols or Polyacrylatpolyolen be obtained can; Acrylic adhesive and rubber adhesive. Of these adhesives are two-component-curing Urethane adhesive preferred.

Alternativ kann ein Verfahren verwendet werden, bei dem ein durch ionisierende Strahlung härtendes Harz als Haftmittel anstelle des wärmehärtenden Harzes verwendet wird und ionisierende Strahlung zur Härtung des Harzes angewandt wird. In diesem Fall wird als ionisierende Strahlung üblicherweise Ultraviolettlicht oder ein Elektronenstrahl verwendet.alternative For example, a method can be used in which a by ionizing Radiation curing resin as an adhesive instead of the thermosetting Resin is used and ionizing radiation to cure the Resin is applied. In this case, ionizing radiation is commonly used Ultraviolet light or an electron beam used.

Die [erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] in dem Laminat 1a von [transparentes Substrat 11/Haftmittelschicht/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] oder die [erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] in dem Laminat 1a von [transparentes Substrat 11/Haftmittelschicht/erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] werden photolithographisch zu einem Netzmuster ausgebildet.The [first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] in the laminate 1a from [transparent substrate 11 / Adhesive layer / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] or the [first anticorrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] in the laminate 1a from [transparent substrate 11 / Adhesive layer / first anti-corrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] are photolithographically formed into a mesh pattern.

Photolithographisches Verfahrenphotolithographic method

Eine Photolackschicht mit Netzmuster wird auf der Oberfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B in dem vorstehend beschriebenen Laminat 1a ausgebildet, diejenigen Abschnitte der Metallschicht 21, die nicht mit der Photolackschicht bedeckt sind, werden durch Ätzen entfernt und die Photolackschicht wird dann abgelöst, wodurch eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen in einem Netzmuster erhalten wird. Wie es in der 1 gezeigt ist, besteht die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen aus einem Netzteil 103 und einem optionalen Rahmenteil 101. Ferner weist der Netzteil 103, wie es in der 2 gezeigt ist, Linienteile 107 auf, wobei es sich um die restlichen Abschnitte der Metallschicht 21 handelt, durch die Öffnungen 105 definiert werden, während der Rahmenteil 101 keine Öffnungen 105 aufweist und vollständig aus der restlichen Metallschicht 21 besteht. Der Rahmenteil 101 ist optional und kann so bereitgestellt werden, dass er den Netzteil 103 umgibt oder mindestens einen Teil der Fläche um den Netzteil 103 bedeckt.A patterned photoresist layer is formed on the surface of the second anticorrosion layer 23B in the laminate described above 1a formed, those portions of the metal layer 21 which are not covered with the photoresist layer are removed by etching, and the photoresist layer is then peeled off, thereby obtaining an electromagnetic wave shielding layer in a mesh pattern. As it is in the 1 is shown, the electromagnetic wave shielding layer consists of a power supply 103 and an optional frame part 101 , Further, the power supply points 103 as it is in the 2 shown is line parts 107 on, which are the remaining portions of the metal layer 21 trades through the openings 105 be defined while the frame part 101 no openings 105 and completely made of the remaining metal layer 21 consists. The frame part 101 is optional and can be provided so that it has the power adapter 103 surrounds or at least part of the area around the power supply 103 covered.

Das vorstehend beschriebene Verfahren dient zur Verarbeitung des bandförmigen Laminats 1a in der Form einer kontinuierlich aufgewickelten Rolle. Während das Laminat 1a entweder kontinuierlich oder diskontinuierlich abgewickelt und transportiert wird, werden das Maskieren, das Ätzen und das Ablösen des Photolacks bei gestrecktem und nicht-losem Laminat durchgeführt. Als erstes wird das Maskieren in der folgenden Weise durchgeführt: Beispielsweise wird ein lichtempfindlicher Photolack auf die Metallschicht 21 aufgebracht und getrocknet, dieser Photolack wird einer Kontaktbelichtung unter Verwendung einer Originalplatte mit einem vorgegebenen Muster (das aus den Linienteilen des Netzteils und dem Rahmenteil besteht) unterzogen, und danach werden eine Entwicklung mit Wasser, eine Filmhärtungsbehandlung und eine Wärmebehandlung durchgeführt. Das Aufbringen des Photolacks wird in der folgenden Weise durchgeführt: Während das bandförmige aufgewickelte Laminat kontinuierlich oder diskontinuierlich abgewickelt und transportiert wird, wird ein Photolack, der aus Casein, PVA oder Gelatine hergestellt ist, auf die Seite der Metallschicht 21 des Laminats durch ein Verfahren wie z.B. Tauchen (Eintauchen), Vorhangbeschichten oder Flutbeschichten aufgebracht. Alternativ kann als Photolack ein Trockenfilmphotolack verwendet werden, wobei die Verwendung eines Trockenfilmphotolacks die Bearbeitungseffizienz verbessern kann. Wenn Casein als Photolack verwendet wird, wird die Wärmebehandlung üblicherweise durch Erwärmen durchgeführt und in diesem Fall ist es bevorzugt, die Temperatur des Erwärmens so niedrig wie möglich zu machen, um ein Kräuseln des Laminats zu verhindern.The method described above is for processing the band-shaped laminate 1a in the form of a continuously wound roll. While the laminate 1a either continuously or discontinuously unwound and transported, masking, etching and peeling of the photoresist are performed on stretched and non-loose laminate. First, masking is performed in the following manner. For example, a photosensitive photoresist is applied to the metal layer 21 and dried, this photoresist is subjected to contact exposure using an original plate having a predetermined pattern (consisting of the line parts of the power supply and the frame part), followed by development with water, a film hardening treatment and a heat treatment. The application of the photoresist is carried out in the following manner: While the band-shaped wound laminate is unwound and transported continuously or discontinuously, a photoresist made of casein, PVA or gelatin becomes the side of the metal layer 21 of the laminate by a method such as dipping, curtain coating or flood coating applied. Alternatively, a dry film resist can be used as the resist, and the use of a dry film resist can improve the processing efficiency. When casein is used as a photoresist, the heat treatment is usually carried out by heating, and in this case, it is preferable to make the temperature of heating as low as possible to prevent curling of the laminate.

Ätzenetching

Das Ätzen wird nach dem Maskieren durchgeführt. Da das Ätzen kontinuierlich durchgeführt wird, ist es bevorzugt, als Ätzmittel eine Eisen(III)- oder Kupfer(II)chloridlösung zu verwenden, die leicht umgewälzt werden kann. Ferner ist es möglich, diesen Ätzschritt durch die Verwendung von Einrichtungen zur Herstellung einer Schattenmaske für eine Kathodenstrahlröhre eines Farbfernsehgeräts durchzuführen, bei denen ein bandförmiges kontinuierliches Stahlausgangsmaterial, insbesondere eine dünne Platte mit einer Dicke von 20 bis 80 μm, geätzt wird. Insbesondere ist es möglich, die bestehenden Einrichtungen zur Herstellung der Schattenmaske zu verwenden und eine Reihe von Schritten vom Maskieren zum Ätzen kontinuierlich durchzuführen, so dass die Herstellungseffizienz extrem hoch ist. Nach dem Ätzen wird das Laminat einem Waschen mit Wasser, einem Ablösen des Photolacks mit einer alkalischen Lösung und einem Reinigen unterzogen und dann getrocknet.The etching becomes performed after masking. Because the etching carried out continuously it is preferred, as an etchant to use an iron (III) or copper (II) chloride solution that is light in weight be circulated can. It is also possible this etching step through the use of facilities to make a shadow mask for one cathode ray tube a color TV perform, where a band-shaped continuous steel starting material, in particular a thin plate with a thickness of 20 to 80 μm, etched becomes. In particular, it is possible the existing facilities for making the shadow mask to use and a series of steps from masking to etching continuously to do so that the manufacturing efficiency is extremely high. After etching is the laminate washing with water, peeling the photoresist with a alkaline solution and subjected to cleaning and then dried.

Mit der alkalischen Lösung, die zum Ablösen des Photolacks verwendet wird, wird das Zinn oder das Zink aus der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B, die zur Oberfläche hin freiliegt, eluiert. Zur Entfernung des Zinns oder Zinks aus der ersten Korrosionsschutzschicht 23A und der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B, die auf den beiden Flächen des Laminats vorliegen, wird die erste Korrosionsschutzschicht 23A, die auf der Metallschicht 21 ausgebildet ist, einer Alkalibehandlung unterzogen, bevor sie auf das transparente Substrat 11 laminiert wird, wodurch das Zinn oder das Zink im Vorhinein von der ersten Korrosionsschutzschicht 23A entfernt wird. Es ist daher nicht erforderlich, den Schritt des Entfernens des Zinns oder des Zinks von der ersten Korrosionsschutzschicht 23A und von der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B durchzuführen und folglich nimmt die Anzahl der Schritte als Ganzes nicht zu.With the alkaline solution used to dissolve the photoresist, the tin or zinc becomes the second anticorrosion layer 23B , which is exposed to the surface, elutes. To remove the tin or zinc from the first anticorrosion layer 23A and the second anticorrosion layer 23B , which are present on the two surfaces of the laminate, becomes the first anticorrosion layer 23A on the metal layer 21 is formed, subjected to alkali treatment, before being applied to the transparent substrate 11 is laminated, whereby the tin or zinc in advance from the first anti-corrosion layer 23A Will get removed. It is therefore not necessary to include the step of removing the tin or zinc from the first anti-corrosion layer 23A and from the second anticorrosion layer 23B and thus the number of steps as a whole does not increase.

Netznetwork

Der Netzteil 103 ist eine Fläche, die von dem Rahmenteil 101 umgeben ist. Der Netzteil 103 weist Linienteile 107 auf, die eine Mehrzahl von Öffnungen 105 definieren. Die Öffnungen 105 sind bezüglich der Form (Netzmuster) nicht beschränkt und die Form der Öffnungen 105 kann ein Dreieck, wie z.B. ein gleichseitiges Dreieck, ein Quadrat, wie z.B. ein regelmäßiges Quadrat, ein Rechteck, eine Raute oder ein Trapez, ein Polygon, wie z.B. ein Sechseck, ein Kreis, ein Oval oder dergleichen sein. Der Netzteil 103 ist eine Kombination aus einer Mehrzahl dieser Öffnungen 105. Im Hinblick auf die Öffnungsrate und die nicht-Erkennbarkeit des Netzes beträgt die Linienbreite W 50 μm oder weniger, vorzugsweise 20 μm oder weniger, und im Hinblick auf die Lichtdurchlässigkeit beträgt der Linienabstand P (Linienentfernung) 125 μm oder mehr, vorzugsweise 200 μm oder mehr. Die Öffnungsrate beträgt vorzugsweise 50 % oder mehr. Um das Auftreten von Moiré-Streifen oder dergleichen zu vermeiden, kann der Schrägwinkel (der Winkel zwischen dem Linienteil des Netzes und den Seiten des Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen) unter Berücksichtigung der Pixel- und Emissionseigenschaften eines Bildschirms zweckmäßig ausgewählt werden.The power supply 103 is a surface of the frame part 101 is surrounded. The power supply 103 has line parts 107 on which a plurality of openings 105 define. The openings 105 are not limited in shape (mesh pattern) and the shape of the openings 105 may be a triangle such as an equilateral triangle, a square such as a regular square, a rectangle, a rhombus or a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, an oval, or the like. The power supply 103 is a combination of a majority of these openings 105 , With respect to the opening rate and the unrecognizability of the net, the line width W is 50 μm or less, preferably 20 μm or less, and in view of the light transmittance, the line pitch P (line distance) is 125 μm or more, preferably 200 μm or more , The opening rate is preferably 50% or more. In order to prevent the occurrence of moiré fringes or the like, the skew angle (the angle between the line part of the mesh and the sides of the electromagnetic wave shielding sheet) may be properly selected in consideration of the pixel and emission characteristics of a screen.

Zweite SchwärzungsschichtSecond blackening layer

Obwohl das gleiche Material und das gleiche Verfahren, wie sie zur Bildung der ersten Schwärzungsschicht 25A verwendet werden, zur Bildung der zweiten Schwärzungsschicht 25B verwendet werden können, können auch Schwarzchrom, Schwarznickel, Nickellegierungen und dergleichen verwendet werden. Die Nickellegierungen, die hier geeignet sind, umfassen Nickel-Zink-Legierungen, Nickel-Zinn-Legierungen und Nickel-Zinn-Kupfer-Legierungen. Insbesondere weisen Nickellegierungen eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit und Schwärze auf. Ferner kann die zweite Schwärzungsschicht 25B so hergestellt werden, dass sie zusätzlich zu dem Schwärzungseffekt die Funktion zur Verhinderung einer Korrosion der Metallschicht 21 aufweist.Although the same material and the same process as used to form the first blackening layer 25A used to form the second blackening layer 25B can be used For example, black chrome, black nickel, nickel alloys and the like may also be used. The nickel alloys useful herein include nickel-zinc alloys, nickel-tin alloys, and nickel-tin-copper alloys. In particular, nickel alloys have excellent electrical conductivity and blackness. Furthermore, the second blackening layer 25B be prepared to have the function of preventing corrosion of the metal layer in addition to the blackening effect 21 having.

Im Allgemeinen sind die Teilchen, mit denen die zweite Schwärzungsschicht 25B ausgebildet wird, nadelförmig, so dass sie durch externe Kräfte leicht verformt werden und einer Veränderung des Aussehens unterliegen. Nickellegierungsteilchen werden jedoch nicht so leicht verformt und da die nachfolgenden Schritte mit der freiliegenden Fläche der zweiten Schwärzungsschicht 25B bewirkt werden, ist die Verwendung einer Nickellegierung mehr bevorzugt. Ein herkömmliches Elektroplattierungsverfahren oder stromloses Plattierungsverfahren kann zur Abscheidung einer Nickellegierung verwendet werden. Die Abscheidung einer Nickellegierung kann nach der Durchführung einer Nickelplattierung bewirkt werden.In general, the particles with which the second blackening layer 25B is formed needle-shaped, so that they are easily deformed by external forces and subject to a change in appearance. However, nickel alloy particles are not easily deformed and the subsequent steps are with the exposed surface of the second blackening layer 25B are effected, the use of a nickel alloy is more preferred. A conventional electroplating method or electroless plating method may be used to deposit a nickel alloy. Deposition of a nickel alloy may be effected after performing nickel plating.

Schwärzungsbehandlungblackening

Durch die Durchführung einer Schwärzungsbehandlung in der vorstehend beschriebenen Weise ist es möglich, die Vorderflächen (Oberflächen) der Linienteile (die Oberflächen der Vorwölbungen) und sogar die Seitenflächen der Linienteile (die Seitenflächen der Vorwölbungen) der Metallnetzschicht 21 zu schwärzen. Folglich wird die gemusterte Metallnetzschicht 21 vollständig mit der ersten Schwärzungsschicht 25A und der zweiten Schwärzungsschicht 25B bedeckt. Daher kann der Metallnetzteil (Linienteile) zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen elektromagnetische Wellen abschirmen, die von einem PDP erzeugt werden, und reflektiert weder externes Licht von Fluoreszenzlampen oder dergleichen, noch das Bildschirmlicht von dem PDP. Es ist somit möglich, auf dem PDP ein Bild mit hohem Kontrast in einem guten Zustand zu betrachten.By performing a blackening treatment in the above-described manner, it is possible to have the front surfaces (surfaces) of the line parts (the surfaces of the protrusions) and even the side surfaces of the line parts (the side surfaces of the protrusions) of the metal mesh layer 21 to blacken. Consequently, the patterned metal mesh layer becomes 21 completely with the first blackening layer 25A and the second blackening layer 25B covered. Therefore, the electromagnetic wave shielding metal line part (line parts) can shield electromagnetic waves generated by a PDP, and does not reflect any external light from fluorescent lamps or the like nor the screen light from the PDP. It is thus possible to view a high contrast image in good condition on the PDP.

In dieser Beschreibung werden das Aufrauhen und das Schwärzen zusammen als Schwärzungsbehandlung bezeichnet. Der bevorzugte Reflexionswert Y der Schwärzungsschicht beträgt etwa 15 oder weniger, vorzugsweise 5 oder weniger, mehr bevorzugt 2,0 oder weniger. Messungen des Reflexionswerts Y wurden unter Verwendung eines Spektrophotometers UV-3100PC (von Shimadzu Corp., Japan, hergestellt) bei einem Einfallswinkel von 5° (Wellenlänge: von 380 bis 780 nm) durchgeführt.In In this description, the roughening and the blackening become together as a blackening treatment designated. The preferred reflection value Y of the blackening layer is about 15 or less, preferably 5 or less, more preferably 2.0 or less. Measurements of the reflection value Y were made using Spectrophotometer UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corp., Japan) at an angle of incidence of 5 ° (wavelength: from 380 to 780 nm).

Die erfindungsgemäßen Blätter zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen können kombiniert mit anderen optischen Elementen als Frontplatten für PDP's verwendet werden. Beispielsweise kann eine Kombination des Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen und eines optischen Elements, das die Funktion der Absorption von Nahinfrarotstrahlen aufweist, Nahinfrarotstrahlen absorbieren, die von einem PDP emittiert werden, so dass sie die Fehlfunktion einer ferngesteuerten Vorrichtung, einer optischen Kommunikationsvorrichtung und dergleichen, die in der Nähe des PDP verwendet werden, verhindern kann. Ferner reflektiert eine Kombination des Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen und eines optischen Elements, das die Funktion des Verhinderns einer Reflexion und/oder eines Blendens von Licht aufweist, weder das Bildschirmlicht von einem PDP, noch externes Licht, das von Außen auf den PDP fällt, so dass sie die Bildsichtbarkeit verbessern kann.The sheets according to the invention Shielding of electromagnetic waves can be combined with others optical elements are used as front panels for PDP's. For example, can a combination of the sheet to shield electromagnetic Waves and an optical element that has the function of absorption of near-infrared rays, absorbing near-infrared rays, which are emitted by a PDP, causing them to malfunction a remote-controlled device, an optical communication device and the like, near the PDP can be used. Furthermore, a combination reflects the sheet for shielding electromagnetic waves and a optical element that has the function of preventing a reflection and / or a glare of light, neither the screen light from a PDP, still external light that falls on the PDP from outside, so that it can improve the image visibility.

In dem Fall, bei dem der Rahmenteil 101 bereitgestellt ist, wird dieser Teil auch gleichzeitig mit dem Netzteil 103 geschwärzt und somit intensiver schwarz, so dass ein Bildschirm, auf dem ein solches Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen montiert ist, hochklassig erscheint.In the case where the frame part 101 is provided, this part is also simultaneously with the power supply 103 blackened and thus more intense black, so that a screen on which such a sheet for shielding electromagnetic waves is mounted, high-class appears.

Darüber hinaus weist von den erfindungsgemäßen Blättern zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das Schwärzungsschichten auf beiden Seiten aufweist, eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen auf, bei der beide Oberflächen eine schwarze Farbe aufweisen, so dass ein solches Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen so auf einem PDP montiert werden kann, dass eine der Seiten auf den PDP gerichtet ist.Furthermore indicates from the leaves of the invention to Shielding electromagnetic waves a sheet for shielding electromagnetic waves, the blackening layers on both Has sides, a layer for shielding electromagnetic Waves on both surfaces have a black color, so that such a sheet for shielding electromagnetic waves can be mounted on a PDP that one of the pages is directed to the PDP.

Wenn ein flexibles Material für das transparente Substrat 11 verwendet wird, ist es möglich in jedem Schritt ein bandförmiges, kontinuierlich aufgerolltes (aufgewickeltes) transparentes Substrat zu verarbeiten, während es kontinuierlich oder diskontinuierlich abgewickelt und transportiert wird. Es kann folglich ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen in einer verminderten Anzahl von Schritten mit einer hohen Produktivität hergestellt werden, wobei zwei oder mehr Schritte zusammen in einem Schritt bewirkt werden.If a flexible material for the transparent substrate 11 is used, it is possible to process in each step a belt-shaped, continuously rolled (wound) transparent substrate while it is unwound and transported continuously or discontinuously. Thus, an electromagnetic wave shielding sheet can be manufactured in a reduced number of steps with a high productivity, causing two or more steps together in one step.

Modifizierte Ausführungsformenmodified embodiments

Die vorliegende Erfindung umfasst die folgenden Modifizierungen.

  • (1) Obwohl ein Laminierverfahren unter Verwendung eines Haftmittels zum Laminieren des transparenten Substrats 11 und von [Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21] verwendet worden ist, um das Laminat 1a zu bilden, ist es nicht erforderlich, das Haftmittel zu verwenden. Beispielsweise können, nachdem die Oberfläche des transparenten Substrats 11 elektrisch leitfähig gemacht worden ist, die erste Schwärzungsschicht 25A und die Metallschicht 21 auf dieser Oberfläche durch ein herkömmliches stromloses Plattierungsverfahren oder Elektroplattierungsverfahren gebildet werden.
  • (2) Nach dem Erhalten eines solchen Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1, wie es in der 3 oder der 4 gezeigt ist, kann die Oberfläche des Netzteils 103, die rau ist (aufgrund der Unregelmäßigkeiten, die durch die Linienteile 107 und die Öffnungen 105 bewirkt werden), durch Füllen der Öffnungen 105 mit einem transparenten Harz geglättet werden. Dadurch verbleiben keinerlei Luftblasen in den Öffnungen 105, wenn der Netzteil des Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen und ein anderes Element (ein transparentes Substrat, ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierender Filter, ein Antireflexionsfilter oder dergleichen) in dem späteren Schritt mit einer Haftmittelschicht laminiert werden. Es ist folglich möglich, eine Verminderung der Schärfe eines angezeigten Bilds zu vermeiden, die auftritt, wenn Luftblasen, die in den Öffnungen verbleiben, Licht streuen.
The present invention includes the following modifications.
  • (1) Although a laminating method using an adhesive for laminating the transparent substrate 11 and of [anticorrosive coating 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 ] has been used to laminate 1a it is not necessary to use the adhesive. For example, after the surface of the transparent substrate 11 has been made electrically conductive, the first blackening layer 25A and the metal layer 21 are formed on this surface by a conventional electroless plating method or electroplating method.
  • (2) After obtaining such a sheet for shielding electromagnetic waves 1 as it is in the 3 or the 4 shown can be the surface of the power supply 103 that is rough (due to the irregularities caused by the line parts 107 and the openings 105 be effected), by filling the openings 105 be smoothed with a transparent resin. As a result, no air bubbles remain in the openings 105 when the AC adapter of the electromagnetic wave shielding sheet and another member (a transparent substrate, a near-infrared ray absorbing filter, an antireflection filter or the like) are laminated with an adhesive layer in the later step. It is thus possible to avoid a reduction in the sharpness of a displayed image that occurs when air bubbles remaining in the openings scatter light.

BeispieleExamples

Die vorliegende Erfindung wird nachstehend genauer mittels Beispielen und eines Vergleichsbeispiels beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf die folgenden Beispiele beschränkt.The The present invention will be described more specifically below by way of examples and a comparative example. The present invention however, is not limited to the following examples.

Beispiel 1example 1

Eine Elektrolytkupferfolie mit einer Dicke von 10 μm wurde als Metallschicht 21 verwendet. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen (mittlerer Teilchendurchmesser: 0,3 μm) wurden mittels kathodischer Elektroabscheidung auf einer Oberfläche der Metallschicht 21 abgeschieden, wodurch eine Schwärzungsbehandlung zur Bildung einer ersten Schwärzungsschicht 25A durchgeführt wurde.An electrolytic copper foil with a thickness of 10 μm was used as a metal layer 21 used. Copper-cobalt alloy particles (average particle diameter: 0.3 μm) were deposited by cathodic electrodeposition on a surface of the metal layer 21 deposited, whereby a blackening treatment to form a first blackening layer 25A was carried out.

Anschließend wurde die andere Oberfläche der Metallschicht 21 auf der Seite gegenüber der Seite der ersten Schwärzungsschicht 25A einer Zinkplattierung und einer Chromatbehandlung unterzogen, wodurch eine zweite Korrosionsschutzschicht 23B, die Zink und Chrom enthielt, auf dieser Oberfläche der Metallschicht 21 ausgebildet wurde.Subsequently, the other surface of the metal layer 21 on the side opposite to the side of the first blackening layer 25A a zinc plating and a chromate treatment, whereby a second corrosion protection layer 23B containing zinc and chromium on this surface of the metal layer 21 was trained.

Die Kombination aus der Metallschicht 21, der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B und der ersten Schwärzungsschicht 25A wurde auf ein transparentes Substrat 11, das aus einem biaxial orientierten, 100 μm dicken PET-Film A4300 (Marke eines Polyethylenterephthalatfilms, von Toyobo Co., Ltd., Japan, hergestellt) hergestellt war, mit einer Haftmittelschicht 13 aus einem Zweikomponenten-härtenden Urethanhaftmittel laminiert, und dieses Laminat wurde 3 Tage bei 50°C altern gelassen, um ein Laminat 1a zu bilden. Für das Haftmittel wurde als Hauptmittel Takelack A-310 (Marke, von Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan, hergestellt), das aus einem Polyesterurethanpolyol bestand, und ein Härtungsmittel A-10 (Marke, von Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan, hergestellt), das aus Hexamethylendiisocyanat bestand, verwendet. Das Haftmittel wurde in einer Menge aufgebracht, so dass die getrocknete Haftmittelschicht eine Dicke von 7 μm aufwies.The combination of the metal layer 21 , the second anti-corrosion layer 23B and the first blackening layer 25A was on a transparent substrate 11 which was made of a biaxially oriented 100 μm PET film A4300 (a mark of a polyethylene terephthalate film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., Japan) with an adhesive layer 13 from a two-component curing urethane adhesive, and this laminate was aged at 50 ° C for 3 days to obtain a laminate 1a to build. As the main agent for the adhesive, Takelack A-310 (trademark, manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan) made of a polyesterurethane polyol and a curing agent A-10 (trademark, Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan , prepared) composed of hexamethylene diisocyanate. The adhesive was applied in an amount such that the dried adhesive layer had a thickness of 7 μm.

Die [erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] in dem Laminat 1a wurden photolithographisch in ein Netzmuster umgewandelt.The [first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] in the laminate 1a were photolithographically converted into a mesh pattern.

Unter Verwendung der bestehenden Herstellungsanlage für Schattenmasken für Farbfernsehgeräte wurde das Laminat in Form einer bandförmigen (aufgerollten) kontinuierlichen Bahn einer Reihe der Schritte vom Maskieren bis zum Ätzen unterzogen. Als erstes wurde ein lichtempfindlicher Casein-Photolack auf die gesamte Oberfläche des Laminats 1a durch Tauchen aufgebracht. Dieses Laminat wurde diskontinuierlich zur nächsten Station transportiert, wo eine Kontaktbelichtung mit ultraviolettem Licht von einer Quecksilberdampflampe unter Verwendung einer Negativmusterplatte zur Bildung eines Netzteils 103 mit Linienteilen mit einer Linienbreite W von 22 μm, einem Linienabstand P (Entfernung) von 300 μm und einem Schrägwinkel von 49 Grad durchgeführt wurde, wobei die Linienteile regelmäßige quadratische Öffnungen 105 definieren und ein 15 mm breiter Rahmenteil 101 den Netzteil 103 umgibt. Das Laminat wurde dann von einer Station zu einer weiteren Station zur Entwicklung mit Wasser, zur Filmhärtungsbehandlung und zur Wärmebehandlung durch Erwärmen transportiert. Das wärmebehandelte Laminat wurde weiter zur nächsten Station transportiert, wo ein Ätzen durch Sprühen einer wässrigen Eisen(III)-chloridlösung als Ätzmittel über das Laminat durchgeführt wurde, um Öffnungen 105 in dem Laminat herzustellen. Während das Laminat von einer Station zur nächsten Station überführt wurde, wurde das Laminat mit Wasser und mit einer alkalischen Lösung gewaschen, der Photolack wurde abgelöst und das in der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B enthaltene Zink wurde eluiert, wodurch eine Chrom-enthaltende zweite Korrosionsschutzschicht 23B erhalten wurde. Diese wurde mit Wasser gewaschen und dann durch Erwärmen getrocknet, um ein Netz zu bilden.Using the existing shadow mask manufacturing equipment for color television sets, the laminate was subjected to a series of steps from masking to etching in the form of a belt-shaped (rolled up) continuous web. First, a photosensitive casein photoresist was applied to the entire surface of the laminate 1a applied by dipping. This laminate was intermittently transported to the next station where ultraviolet light contact exposure of a mercury vapor lamp using a negative pattern plate to form a power supply 103 was performed with line parts with a line width W of 22 microns, a line spacing P (distance) of 300 microns and a skew angle of 49 degrees, the line parts regular square openings 105 define and a 15 mm wide frame part 101 the power supply 103 surrounds. The laminate was then transported from one station to another station for development with water, film hardening treatment and heat treatment by heating. The heat-treated laminate was further transported to the next station where a Etching was performed by spraying an aqueous ferric chloride solution as an etchant over the laminate to openings 105 in the laminate. As the laminate was transferred from one station to the next station, the laminate was washed with water and with an alkaline solution, the photoresist was peeled off and that in the second anticorrosion layer 23B contained zinc was eluted, creating a chromium-containing second corrosion protection layer 23B was obtained. This was washed with water and then dried by heating to form a net.

Beispiel 2Example 2

Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, jedoch wurden in dem Schritt zur Bildung der Korrosionsschutzschicht beide Seiten der Metallschicht 21 einer Korrosionsschutzbehandlung unterzogen, um eine [erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] zu bilden.An electromagnetic wave shield sheet was obtained in the same manner as in Example 1, but in the step of forming the anticorrosive layer, both sides of the metal layer became 21 subjected to anticorrosive treatment to obtain a [first anticorrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] to build.

Beispiel 3Example 3

Der Netzteil 103 des Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen von Beispiel 1 wurde ferner einer zweiten Schwärzungsbehandlung unterworfen. Unter Verwendung eines Gemischs aus einer wässrigen Nickelammoniumsulfatlösung (60 g/l Liter), einer wässrigen Zinksulfatlösung (7,5 g/l Liter) und einer wässrigen Natriumthiosulfatlösung (15 g/l Liter) als Plattierungsbad wurde die Behandlung 2 min unter den Bedingungen durchgeführt, dass die Badtemperatur und die Stromdichte 35°C bzw. 20 A/cm2 betrugen, um eine zweite Schwärzungsschicht 25B zu bilden. Folglich wurde ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1 erhalten, bei dem die Vorderfläche (Oberfläche), die Rückfläche und die Seitenflächen des Netzteils 103 vollständig geschwärzt waren.The power supply 103 The electromagnetic wave shielding sheet of Example 1 was further subjected to a second blackening treatment. Using a mixture of an aqueous nickel ammonium sulfate solution (60 g / liter), an aqueous zinc sulfate solution (7.5 g / liter) and a sodium thiosulfate aqueous solution (15 g / liter) as a plating bath, the treatment was carried out for 2 minutes under the conditions in that the bath temperature and the current density were 35 ° C and 20 A / cm 2 , respectively, around a second blackening layer 25B to build. As a result, a sheet for electromagnetic wave shielding was made 1 obtained in which the front surface (surface), the back surface and the side surfaces of the power supply 103 completely blackened.

Beispiel 4Example 4

Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, bei dem die Vorderfläche, die Rückfläche und die Seitenflächen von dessen Netzteil 103 vollständig geschwärzt waren, wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 3 erhalten, jedoch wurde das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen von Beispiel 2 verwendet.A shield for electromagnetic waves, in which the front surface, the back surface and the side surfaces of its power supply 103 was completely blackened, was obtained in the same manner as in Example 3 except that the electromagnetic wave shielding sheet of Example 2 was used.

Beispiel 5Example 5

Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1 wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, jedoch wurden in dem Schritt zur Bildung der Korrosionsschutzschicht beide Seiten der Metallschicht 21 einer Zinn-Nickel-Legierungsplattierung und auch einer Chromatbehandlung unterzogen, um eine [erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] zu bilden. Durch Eluieren von Zinn aus der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B, während der Photolack abgelöst wurde, wurde diese Schicht so ausgebildet, dass sie Nickel und Chrom enthielt.A sheet for shielding electromagnetic waves 1 was obtained in the same manner as in Example 1, but in the step of forming the anticorrosive layer, both sides of the metal layer became 21 a tin-nickel alloy plating and also subjected to a chromate treatment to a [first anti-corrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] to build. By eluting tin from the second anticorrosion layer 23B While the photoresist was peeled off, this layer was formed to contain nickel and chromium.

Beispiel 6Example 6

Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1 wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 erhalten, jedoch wurden in dem Schritt zur Bildung der Korrosionsschutzschicht beide Seiten der Metallschicht 21 einer Nickel-Zink-Legierungsplattierung, einer Chromatbehandlung und einer Silanhaftvermittlerbehandlung unterzogen, um eine [erste Korrosionsschutzschicht 23A/erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21/zweite Korrosionsschutzschicht 23B] zu bilden. Durch Eluieren von Zink aus der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B, während der Photolack abgelöst wurde, wurde diese Schicht so ausgebildet, dass sie Nickel, Chrom und Silizium enthielt.A sheet for shielding electromagnetic waves 1 was obtained in the same manner as in Example 2, but in the step of forming the anticorrosive layer, both sides of the metal layer 21 a nickel-zinc alloy plating, a chromate treatment and a Silanhaftvermittlerbehandlung subjected to a [first anti-corrosion layer 23A / first blackening layer 25A / Metal layer 21 / second corrosion protection layer 23B ] to build. By eluting zinc from the second anticorrosion layer 23B While the photoresist was peeled off, this layer was formed to contain nickel, chromium and silicon.

Vergleichsbeispiel 1Comparative Example 1

Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, jedoch wurde die Korrosionsschutzschicht nicht auf der Metallschicht 21 ausgebildet und als erste Schwärzungsschicht wurde zur Bildung von [erste Schwärzungsschicht 25A/Metallschicht 21] eine schwarze Schicht aus abgeschiedenem Cadmium gebildet.An electromagnetic wave shield sheet was obtained in the same manner as in Example 1, but the anticorrosive layer did not become on the metal layer 21 and formed as the first blackening layer to form [first blackening layer 25A / Metal layer 21 ] formed a black layer of deposited cadmium.

Bewertungrating

Eine Bewertung wurde bezüglich der Korrosionsbeständigkeit, der nicht-Erkennbarkeit und der Haftung durchgeführt.A Review was regarding the corrosion resistance, of non-recognizability and liability.

Die Korrosionsbeständigkeit wurde durch visuelles Untersuchen jedes Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bewertet, das einem Test bei hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit bei 60°C und 95 % relativer Luftfeuchtigkeit für 1000 Stunden unterzogen worden ist. Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Oberfläche keine Farbänderung aufwies, wurde als akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „O" bezeichnet, während ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Oberfläche eine signifikante Farbänderung aufwies, als nicht akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „x" bezeichnet wurde.The corrosion resistance was made electromagnetic by visually inspecting each sheet for shielding Waves rated that a test at high temperature and high humidity at 60 ° C and 95% relative humidity for 1000 hours is. A sheet for shielding electromagnetic waves, whose surface no color change was rated as acceptable and designated "O" rating while a Sheet for shielding electromagnetic waves whose surface is a significant color change was rated as unacceptable and rated "x".

Die nicht-Erkennbarkeit wurde durch visuelles Untersuchen des Netzteils jedes Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, auf das Licht eingestrahlt wurde, bewertet. Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Netzteil nicht erkennbar war, wurde als akzeptabel bewertet und mit der Bewertung

Figure 00230001
bezeichnet, ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Netzteil eine Farbänderung aufwies, jedoch in der Praxis unproblematisch erschien, wurde ebenfalls als akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „O" bezeichnet, und ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Netzteil offensichtlich erkennbar war, wurde als nicht akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „x" bezeichnet.The unrecognizability was evaluated by visually inspecting the power supply of each sheet for shielding electromagnetic waves to which light was irradiated. An electromagnetic wave shielding sheet whose power supply was undetectable was judged to be acceptable and evaluated
Figure 00230001
an electromagnetic wave shielding sheet whose power supply had a color change but appeared unproblematic in practice was also judged to be acceptable and rated "O", and an electromagnetic wave shielding sheet whose power supply was obviously recognizable, was rated unacceptable and designated "x".

Die Haftung der Schwärzungsschicht wurde durch Reiben der geschwärzten Oberfläche mit einem Faservlies, das mit Wasser getränkt war, und Untersuchen, ob die Schwärzungsschicht auf das Faservlies übertragen worden ist oder nicht, bewertet. Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Schwärzungsschicht auf das Faservlies übertragen worden ist, so dass sie das Vlies schwärzte, wurde als nicht akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „x" bezeichnet, ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Schwärzungsschicht nur kaum erkennbar verfärbt worden ist, wurde als akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „O" bezeichnet, und ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, dessen Schwärzungsschicht verfärbt wurde, das jedoch in der Praxis unproblematisch erschien, wurde ebenfalls als akzeptabel bewertet und mit der Bewertung „Δ" bezeichnet.The Adhesion of the blackening layer was by rubbing the blackened surface with a nonwoven soaked in water and examining whether the blackening layer transferred to the nonwoven fabric has or has not been evaluated. A sheet for shielding electromagnetic Waves, its blackening layer transferred to the nonwoven fabric so that she blackened the fleece was considered unacceptable rated and labeled "x", a sheet for shielding electromagnetic waves, whose blackening layer hardly recognizable discolored has been assessed as acceptable and designated as "O", and a sheet for shielding electromagnetic waves, its blackening layer discolored became, which appeared however without problem in practice, became also rated as acceptable and labeled "Δ".

Bewertungsergebnissereview results

Die Bewertungsergebnisse sind in der Tabelle 1 gezeigt.The Evaluation results are shown in Table 1.

Tabelle 1

Figure 00240001
Table 1
Figure 00240001

Die Blätter zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen der Beispiele 1 bis 6 wurden bezüglich jedes Bewertungsgegenstands als akzeptabel bewertet. Das Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen von Vergleichsbeispiel 1 wurde bezüglich der Haftung an der Schwärzungsschicht als akzeptabel bewertet, jedoch bezüglich der Korrosionsbeständigkeit als nicht akzeptabel bewertet. Darüber hinaus löste sich die Schwärzungsschicht in dem Zwischenschritt teilweise ab. Da solche Abschnitte Licht reflektieren, erschien der Netzteil teilweise glänzend, was dieses Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nicht akzeptabel macht.The electromagnetic wave shielding sheets of Examples 1 to 6 were evaluated as acceptable with respect to each evaluation item. The electromagnetic wave shielding sheet of Comparative Example 1 was judged to be acceptable in adhesion to the blackening layer, however evaluated as unacceptable in terms of corrosion resistance. In addition, the blackening layer partially dissolved in the intermediate step. Since such sections reflect light, the power supply appeared partially shiny, making this blade unacceptable for shielding electromagnetic waves.

Ferner wurde der Effekt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen mit dem KEC- Verfahren (ein Verfahren zur Messung elektromagnetischer Wellen, das von Kansai Electronic Industry Development Center, Japan, entwickelt worden ist) bestimmt. Alle Blätter zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen der Beispiele 1 bis 6 und des Vergleichsbeispiels 1 schwächten elektromagnetische Wellen mit Frequenzen von 30 MHz bis 1000 MHz mit Raten von 30 bis 60 dB ab, und es wurde folglich bestätigt, dass sie zufrieden stellend hervorragende Eigenschaften zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen aufwiesen.Further was the effect of shielding electromagnetic waves with the KEC procedure (A method for measuring electromagnetic waves, that of Kansai Electronic Industry Development Center, Japan is) determined. All leaves for shielding electromagnetic waves of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 attenuated electromagnetic waves with frequencies from 30 MHz to 1000 MHz at rates of 30 to 60 dB and it has therefore been confirmed that they have satisfactorily excellent shielding properties had electromagnetic waves.

ZusammenfassungSummary

Ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 1 umfasst ein transparentes Substrat 11 und eine erste Korrosionsschutzschicht 23A, eine erste Schwärzungsschicht 25A, eine Metallschicht 21 und eine zweite Korrosionsschutzschicht 23B, die aufeinander folgend auf dem transparenten Substrat 11 mittels einer Haftmittelschicht 13 ausgebildet sind. Eine zweite Schwärzungsschicht 25B ist so ausgebildet, dass sie die Seitenflächen der ersten Korrosionsschutzschicht 23A, der ersten Schwärzungsschicht 25A, der Metallschicht 21 und der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B sowie die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B vollständig bedeckt. Mindestens eine der ersten Korrosionsschutzschicht 23A und der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B enthält ein oder mehrere Metall(e), das bzw. die aus Nickel, Chrom und Silizium, und auch Zink und/oder Zinn, wenn sie anfänglich gebildet wird, ausgewählt ist bzw. sind, und das Zink und/oder Zinn wird von der ersten Korrosionsschutzschicht 23A und/oder der zweiten Korrosionsschutzschicht 23B in einem Zwischenschritt entfernt. (3)A sheet for shielding electromagnetic waves 1 comprises a transparent substrate 11 and a first anti-corrosion layer 23A , a first blackening layer 25A a metal layer 21 and a second corrosion protection layer 23B successively on the transparent substrate 11 by means of an adhesive layer 13 are formed. A second blackening layer 25B is designed to cover the side surfaces of the first anticorrosion layer 23A , the first blackening layer 25A , the metal layer 21 and the second anticorrosion layer 23B and the front surface of the second anticorrosion layer 23B completely covered. At least one of the first corrosion protection layer 23A and the second anticorrosion layer 23B contains one or more metals selected from nickel, chromium and silicon, and also zinc and / or tin when initially formed, and the zinc and / or tin is selected from the group consisting of first corrosion protection layer 23A and / or the second corrosion protection layer 23B removed in an intermediate step. ( 3 )

Claims (8)

Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das ein transparentes Substrat und eine mit einer Haftmittelschicht auf eine Oberfläche des transparenten Substrats laminierte Metallnetzschicht, eine erste, Kupfer-enthaltende Schwärzungsschicht, die auf einer Fläche der Metallnetzschicht auf der Seite des transparenten Substrats ausgebildet ist, und eine zweite Korrosionsschutzschicht, die ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, und die auf der anderen Fläche der Metallnetzschicht auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat ausgebildet ist, umfasst.Sheet for shielding electromagnetic waves, the a transparent substrate and one with an adhesive layer on a surface of the transparent substrate laminated metal mesh layer, a first, copper-containing blackening layer, the one on a surface the metal mesh layer on the side of the transparent substrate is formed, and a second anticorrosive layer containing a or contains more metal (s), which is selected from chromium, nickel and silicon and are on the other surface of the metal mesh layer opposite the page the transparent substrate is formed comprises. Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nach Anspruch 1, das ferner eine erste Korrosionsschutzschicht umfasst, die ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Chrom, Nickel und Silizium ausgewählt ist bzw. sind, und die zwischen der ersten Schwärzungsschicht und dem transparenten Substrat ausgebildet ist.Sheet for shielding electromagnetic waves according to claim 1, further comprising a first anticorrosion layer, containing one or more metal (s) made of chromium, Nickel and silicon selected is, and that between the first blackening layer and the transparent Substrate is formed. Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nach Anspruch 1, bei dem die Seitenflächen der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die auf dem transparenten Substrat vorliegen, und die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht vollständig mit einer zweiten Schwärzungsschicht bedeckt sind.Sheet for shielding electromagnetic waves according to claim 1, wherein the side surfaces of the first blackening layer, the metal layer and the second anticorrosive layer on the transparent substrate, and the front surface of the second anticorrosion layer completely with a second blackening layer are covered. Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nach Anspruch 2, bei dem die Seitenflächen der ersten Korrosionsschutzschicht, der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die auf dem transparenten Substrat vorliegen, und die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht vollständig mit einer zweiten Schwärzungsschicht bedeckt sind.Sheet for shielding electromagnetic waves according to claim 2, in which the side surfaces of the first anticorrosion layer, the first blackening layer, the metal layer and the second anticorrosive layer on the transparent substrate, and the front surface of the second anticorrosion layer completely with a second blackening layer are covered. Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nach Anspruch 3 oder 4, bei dem die zweite Schwärzungsschicht durch Plattieren ausgebildet worden ist und mindestens ein Metall, das aus Kupfer, Cobalt, Nickel, Zink, Molybdän, Zinn und Chrom ausgewählt ist, oder eine Verbindung jedweder dieser Metalle oder eine Legierung, die aus zwei oder mehr dieser Metalle besteht, umfasst.Sheet for shielding electromagnetic waves according to claim 3 or 4, wherein the second blackening layer is by plating has been formed and at least one metal made of copper, Cobalt, nickel, zinc, molybdenum, Tin and chrome selected is, or a compound of any of these metals or an alloy, which consists of two or more of these metals includes. Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, das die Schritte des Herstellens einer Metallschicht, des aufeinander folgenden Bildens einer ersten Schwärzungsschicht und einer ersten Korrosionsschutzschicht auf der Fläche der Metallschicht auf der Seite eines transparenten Substrats, des Bildens einer zweiten Korrosionsschutzschicht auf der anderen Fläche der Metallschicht auf der Seite gegenüber dem transparenten Substrat, des Laminierens der Metallschicht und des transparenten Substrats mit einer Haftmittelschicht, wobei die erste Korrosionsschutzschicht dem transparenten Substrat gegenüber liegt, zur Bildung eines Laminats, und des Ätzens des Laminats zur Ausbildung der Metallschicht zu einem Netz umfasst.A method of producing an electromagnetic wave shielding sheet comprising the steps of forming a metal layer, sequentially forming a first blackening layer and a first anti-corrosion layer on the surface of the metal layer on the side of a transparent substrate, forming a second anti-corrosion layer on the other surface the metal layer on the side ge over the transparent substrate, laminating the metal layer and the transparent substrate with an adhesive layer, the first anti-corrosion layer facing the transparent substrate, forming a laminate, and etching the laminate to form the metal layer into a mesh. Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nach Anspruch 6, bei dem mindestens eine der ersten Korrosionsschutzschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht ein oder mehrere Metall(e) enthält, das bzw. die aus Nickel, Chrom und Silizium, und auch Zink und/oder Zinn, wenn sie anfänglich gebildet wird, ausgewählt ist bzw. sind, und das Zink und/oder Zinn von der ersten Korrosionsschutzschicht und/oder der zweiten Korrosionsschutzschicht in dem Schritt des Ätzens entfernt wird.Method for producing a sheet for shielding Electromagnetic waves according to claim 6, wherein at least one the first corrosion protection layer and the second corrosion protection layer contains one or more metal (s), nickel, chromium and silicon, and also zinc and / or Tin, if it is initial is formed, selected is or, and the zinc and / or tin from the first corrosion protection layer and / or the second anticorrosion layer in the step of etching becomes. Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen nach Anspruch 6, bei dem nach dem Schritt des Ätzens die Seitenflächen der ersten Korrosionsschutzschicht, der ersten Schwärzungsschicht, der Metallschicht und der zweiten Korrosionsschutzschicht, die in dem Laminat vorliegen, und die Vorderfläche der zweiten Korrosionsschutzschicht vollständig mit einer zweiten Schwärzungsschicht bedeckt werden.Method for producing a sheet for shielding Electromagnetic waves according to claim 6, wherein after step of the etching the side surfaces the first anti-corrosion layer, the first blackening layer, the metal layer and the second anticorrosion layer used in the laminate, and the front surface of the second anticorrosion layer Completely with a second blackening layer to be covered.
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