DE10345551A1 - Verfahren zum Charakterisieren einer Schicht - Google Patents
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Abstract
Ein Verfahren zum Charakterisieren einer Schicht (16), die in einer Mehrzahl von Bereichen (14) auf einem Substrat (10) angeordnet ist, wird an jedem einer Vielzahl von Messorten (22) je eine optische Messung ausführen, um je ein Messergebnis zu bestimmen, wobei das Messergebnis mit einer Schichtdicke auf dem Substrat (10) korreliert ist. Messergebnisse, die eine vorbestimmte Bedingung erfüllen, die für ein Messergebnis erfüllt ist, das an einem Messort (22) innerhalb einer der Mehrzahl von Bereichen (14) bestimmt wurde, werden ausgewählt. Die Schicht (16) wird anhand der ausgewählten Messergebnisse charakterisiert.
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US10254107B1 (en) * | 2016-04-12 | 2019-04-09 | Falex Corporation | Ellipsometer apparatus having measurement compensation |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5726455A (en) * | 1995-06-30 | 1998-03-10 | Stormedia, Inc. | Disk film optical measurement system |
DE19950559A1 (de) * | 1999-10-20 | 2001-05-17 | Steag Eta Optik Gmbh | Verfahren zum Bestimmen von geometrischen Strukturen auf oder in einem Substrat sowie von Materialparametern |
US20020142498A1 (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of inspecting process for manufacturing semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5416594A (en) * | 1993-07-20 | 1995-05-16 | Tencor Instruments | Surface scanner with thin film gauge |
US5719796A (en) | 1995-12-04 | 1998-02-17 | Advanced Micro Devices, Inc. | System for monitoring and analyzing manufacturing processes using statistical simulation with single step feedback |
IL130874A (en) * | 1999-07-09 | 2002-12-01 | Nova Measuring Instr Ltd | System and method for measuring pattern structures |
US6816806B2 (en) | 2001-05-31 | 2004-11-09 | Veeco Instruments Inc. | Method of characterizing a semiconductor surface |
JP3698075B2 (ja) | 2001-06-20 | 2005-09-21 | 株式会社日立製作所 | 半導体基板の検査方法およびその装置 |
US6927864B2 (en) * | 2002-08-05 | 2005-08-09 | Xyratex Technology Limited | Method and system for determining dimensions of optically recognizable features |
-
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-
2004
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5726455A (en) * | 1995-06-30 | 1998-03-10 | Stormedia, Inc. | Disk film optical measurement system |
DE19950559A1 (de) * | 1999-10-20 | 2001-05-17 | Steag Eta Optik Gmbh | Verfahren zum Bestimmen von geometrischen Strukturen auf oder in einem Substrat sowie von Materialparametern |
US20020142498A1 (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of inspecting process for manufacturing semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
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