DE10340705B4 - Metal core circuit board and method of manufacturing such a metal core board - Google Patents

Metal core circuit board and method of manufacturing such a metal core board Download PDF

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Abstract

Verfahren zum Herstellen von Metallkernleiterplatten (1) durch
Aufdrucken mittels Siebdruck einer ganzflächigen oder mind. mit einer Aussparung (4) versehenen polymeren Isolierschicht (3) auf einen Metallträger (2), wobei die ganzflächig aufgetragene Isolierschicht (3) nachträglich unter Ausbildung einer Aussparung (4) strukturiert wird,
thermisches Teilhärten der Isolierschicht (3) bei Verbindungstemperaturen (TV) von 50°C bis 100°C,
ganzflächiges Auflaminieren mittels Rollen einer Leiterschicht (7) bei Temperaturen (TW) von 100°C bis 150°C, Laminierdrücken (pW) von 2·105 Pa bis 5·105 Pa und Laminiergeschwindigkeiten (v) von 0,1 m/min bis 10 m/min unter Ausbildung einer definierten kontinuierlich verlaufenden Kantenstruktur an den Rändern der Aussparung und
Strukturieren der aufgebrachten Leiterschicht (7) unter Freilegung der Aussparungen (4).
Method for producing metal core circuit boards (1)
Printing by screen printing of a polymeric insulating layer (3) over the entire surface or at least provided with a recess (4), the insulating layer (3) applied over the entire area being subsequently structured to form a recess (4),
partial thermal curing of the insulating layer (3) at connection temperatures (TV) of 50 ° C to 100 ° C,
Whole-surface lamination by rolling a conductor layer (7) at temperatures (TW) of 100 ° C to 150 ° C, laminating pressures (pW) of 2 x 10 5 Pa to 5 x 10 5 Pa and laminating speeds (v) of 0.1 m / min to 10 m / min to form a defined continuous edge structure at the edges of the recess and
Structuring the applied conductor layer (7) exposing the recesses (4).

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Metallkernleiterplatte, auf eine Metallkernleiterplatte bzw. auf die Verwendung eines bestimmten Materials als Haftschicht beim Durchführen eines solchen Verfahrens.The The invention relates to a method of manufacturing a metal core board, on a metal core board or on the use of a particular Material as an adhesive layer in carrying out such a method.

Aus DE 41 18 397 A1 ist eine mit Halbleiterbauelementen bestückte Metallkernleiterplatte bekannt, welche einen Metallträger als Leiterplattenkern, eine isolierende Haftschicht auf dem Metallträger und eine Leiterschicht auf der isolierenden Haftschicht aufweist, wobei die isolierende Haftschicht den Metallträger und die Leiterschicht fest miteinander verbindet. Durch die Leiterschicht und die isolierende Haftschicht führt eine kantige Aussparung bis zum Metallträger hindurch. Im Bereich der Aussparung ist ein Halbleiterbauelement auf dem Metallträger aufgesetzt, um im Halbleiterbauelement erzeugte Wärme über den Metallträger abführen zu können.Out DE 41 18 397 A1 For example, there is known a metal core board equipped with semiconductor devices, which has a metal substrate as a printed circuit board core, an insulating adhesive layer on the metal substrate and a conductor layer on the insulating adhesive layer, the insulating adhesive layer firmly joining the metal substrate and the conductor layer. Through the conductor layer and the insulating adhesive layer leads an edged recess to the metal support. In the region of the recess, a semiconductor component is placed on the metal carrier in order to be able to dissipate heat generated in the semiconductor component via the metal carrier.

Allgemein bekannt ist die Fertigung einer solchen Leiterplatte durch das Aufbringen einer isolierenden Haftschicht auf einen als Leiterplattenkern dienenden Metallträger und das anschließende Aufsetzen einer Leiterschicht, deren Unterseite ebenfalls eine solche isolierende Haftschicht trägt, auf die isolierende Haftschicht, wobei die Verbindung unter Einsatz von Wärme erfolgt. Bekannt ist auch das Aufsetzen der Leiterschicht auf die Haftschicht unter Verwendung eines Laminierverfahrens, wobei der Metallträger mit der aufgebrachten Haftschicht unter Zuführung einer unterseitig beschichteten Metallfolie als Leiterschicht zwischen zwei Walzen hindurchgeführt wird.Generally the production of such a printed circuit board by applying is known an insulating adhesive layer on serving as a PCB core metal support and the subsequent one Placing a conductor layer whose underside also such wearing insulating adhesive layer, on the insulating adhesive layer, with the compound in use of heat he follows. Also known is the placement of the conductor layer on the Adhesive layer using a laminating method, wherein the metal support with the applied adhesive layer under the supply of a underside coated Metal foil is passed as a conductor layer between two rollers.

Bei der Fertigung einer solchen Anordnung wird gemäß DE 41 18 397 A1 nach dem Fertigstellen der mehrschichtigen Leiterplatte die isolierende Schicht im Bereich der gewünschten Aussparung ausgefräst. Allgemein bekannt ist auch das nachträgliche Wegätzen der Schichten oberhalb des Metallträgers zur Ausbildung einer solchen Aussparung. Erkennbar sind derartige Leiterplatten im Querschnitt an scharfkantigen Konturen der Aussparung, welche im Wesentlichen von der Oberfläche der Leiterplatte bis zur Oberfläche des Metallträgers geradlinig und senkrecht zu den Oberflächen verlaufen.In the manufacture of such an arrangement is according to DE 41 18 397 A1 after completion of the multilayer printed circuit board, the insulating layer milled out in the region of the desired recess. Also generally known is the subsequent etching away of the layers above the metal support to form such a recess. Visible are such printed circuit boards in cross-section at sharp-edged contours of the recess, which extend substantially straight from the surface of the circuit board to the surface of the metal carrier and perpendicular to the surfaces.

Als Stand der Technik werden weiterhin die DE 40 06 063 A1 , die DE 36 40 952 A1 und die DE 30 32 744 A1 genannt.As state of the art continue to be the DE 40 06 063 A1 , the DE 36 40 952 A1 and the DE 30 32 744 A1 called.

Die DE 30 32 744 A1 offenbart als besonderes Material für einen Film zur Beschichtung einer thermisch gut leitenden Metallplatte eine Dispersion von Metalloxidteilchen in einem organisch polymeren Klebstoff.The DE 30 32 744 A1 discloses, as a special material for a film for coating a thermally highly conductive metal plate, a dispersion of metal oxide particles in an organic polymeric adhesive.

Die DE 36 40 952 beschreibt ein Substrat zum Auftragen von Schaltstrukturen auf ein flächig ausgebildetes Bauelement, insbesondere eine Aluminiumplatte.The DE 36 40 952 describes a substrate for applying switching structures on a flat design element, in particular an aluminum plate.

Die DE 40 06 063 A1 offenbart ein Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte, wobei mittels eines Lasers und einer Maske ein Teil einer mit einer Substratschicht vereinigten Metallschicht freigelegt wird.The DE 40 06 063 A1 discloses a method for producing a printed circuit board, wherein a part of a metal layer combined with a substrate layer is exposed by means of a laser and a mask.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte mit einem Metallträger als Leiterplattenkern sowie eine Metallkernleiterplatte anzugeben, bei welchem Aussparungen in der Metallkernleiterplatte eine verbesserte Kontur aufweisen.The The object of the invention is a method for manufacturing a printed circuit board with a metal carrier as the PCB core as well to provide a metal core board, in which recesses have an improved contour in the metal core board.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren zum Herstellen einer Metallkernleiterplatte mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 bzw. eine Metallkernleiterplatte mit den Merkmalen des Patentanspruchs 7 gelöst.These The object is achieved by a method for producing a metal core circuit board with the features of patent claim 1 and a metal core board solved with the features of claim 7.

Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand abhängiger Ansprüche.advantageous Embodiments are the subject of dependent claims.

Verfahrensgemäß wird zum Herstellen einer Metallkernleiterplatte von den Verfahrensschritten des Aufbringens einer polymeren Isolierschicht auf einen als Leiterplattenkern dienenden Metallträger und des anschließenden Aufsetzens einer Leiterschicht auf die polymere Isolierschicht ausgegangen, wobei die Verbindung unter Einsatz von Wärme, welche entsprechend zugeführt wird, erfolgt. Das Aufbringen der polymeren Isolierschicht erfolgt gemäß der bevorzugten Ausführungsform vor dem Aufsetzen der Leiterschicht unter Ausbildung mindestens einer Aussparung in der Isolierschicht, so dass die Isolierschicht strukturiert auf den Metallträger aufgebracht wird. Möglich ist auch das Strukturieren nach dem Aufbringen der Isolierschicht. Außerdem erfolgt der Verfahrensablauf, d. h. das Aufbringen der Isolierschicht und das Aufsetzen der Leiterschicht unter zeitlichen und thermischen Parametern, wobei ein Randbereich der Isolierschicht zu der Aussparung hin verläuft, also einen hinsichtlich der Kontur fließenden Übergang ausbildet. Unter dem Randbereich der Isolierschicht zu der Aussparung ist insbesondere der Bereich der Isolierschicht zwischen dem Randbereich der aufgesetzten Leiterschicht zur Aussparung hin und dem Übergangsbereich der Isolierschicht zu dem Metallträger zu verstehen. Bei der Verwendung von Harz als Isolierschicht hat sich eine bevorzugte Verbindungstemperatur des Isolierschichtmaterials von etwa 50°C–100°C, vorzugsweise von 70°C–75°C, als besonders vorteilhaft erwiesen. Als Temperatur hat sich bei Verwendung einer Kupferfolie als Leiterschicht eine Temperatur für Laminierwalzen in einem geeignet gewählten Temperaturbereich von 100°C–150°C, vorzugsweise 130°C–140°C, insbesondere ca. 135°C, als besonders vorteilhaft erwiesen. Das Aufsetzen der Leiterschicht erfolgt gemäß erster Versuche vorzugsweise unter einem geeignet gewählten Laminierdruck von etwa 2·105 Pa–5·105 Pa, vorzugsweise ca. 4·105 Pa. Die Laminiergeschwindigkeit beim Aufsetzen der Leiterschicht, beispielsweise beim Laminieren und Durchführen zwischen zwei Laminier walzen von einer Seite der Leiterplattenkante bzw. Isolierschicht ausgehend zur gegenüberliegenden Seite hin, wird langsam gewählt und beträgt gemäß erster Versuche vorzugsweise etwa 2–10 m/min., besonders bevorzugt ca. 0,5 m/min.According to the method, for producing a metal core board from the steps of applying a polymeric insulating layer on serving as a printed circuit board core metal carrier and the subsequent placement of a conductor layer on the polymeric insulating layer is assumed, wherein the compound using heat, which is supplied accordingly takes place. The application of the polymeric insulating layer is carried out in accordance with the preferred embodiment prior to placement of the conductor layer to form at least one recess in the insulating layer, so that the insulating layer is applied structured on the metal support. Also possible is the structuring after the application of the insulating layer. In addition, the process sequence, ie the application of the insulating layer and the placement of the conductor layer under temporal and thermal parameters, wherein an edge region of the insulating layer extends to the recess, ie forms a transition with respect to the contour transition. The region of the insulating layer between the edge region of the applied conductor layer towards the recess and the transition region of the insulating layer to the metal carrier is to be understood as the region of the edge of the insulating layer relative to the recess. When using resin as an insulating layer, a preferred bonding temperature of the insulating layer material of about 50 ° C-100 ° C, preferably from 70 ° C-75 ° C, has proven to be particularly advantageous. When using a copper foil as the conductor layer temperature has a temperature for laminating rollers in a suitably selected temperature range of 100 ° C-150 ° C, preferably 130 ° C-140 ° C, ins special about 135 ° C, proved to be particularly advantageous. The conductor layer is deposited according to first experiments preferably under a suitably selected laminating pressure of about 2 × 10 5 Pa-5 × 10 5 Pa, preferably about 4 × 10 5 Pa. The lamination speed when placing the conductor layer, for example, during lamination and performing between two laminating rollers starting from one side of the circuit board edge or insulating layer to the opposite side, is selected slowly and is preferably about 2-10 m / min. According to first experiments, particularly preferred about 0.5 m / min.

Vorrichtungsgemäß entsteht somit eine Metallkernleiterplatte, welche einen Metallträger als Leiterplattenkern, eine polymere Isolierschicht auf dem Metallträger, eine Leiterschicht auf der Isolierschicht, wobei die Isolierschicht den Metallträger und die Leiterschicht fest miteinander verbindet, und eine Aussparung durch die Leiterschicht und die Isolierschicht hindurch zum Metallträger aufweist. Verfahrensbedingt ist die Metallkernleiterplatte dabei so ausgebildet, dass die Isolierschicht vom Bereich eines Randes der Leiterschicht zur Aussparung einerseits und andererseits vom Übergangsbereich zwischen Isolierschicht und dem Metallträger eine fließende Verlaufskontur aufweist. Für die Anwendung des Verfahrens bietet sich als Isolierschicht insbesondere Harz, vorzugsweise Harz mit Keramikanteilen an.Device arises according to Thus, a metal core board, which a metal support as Printed circuit board core, a polymeric insulating layer on the metal substrate, a Conductor layer on the insulating layer, wherein the insulating layer of the metal support and the conductor layer firmly interconnects, and a recess has through the conductor layer and the insulating layer to the metal support. Due to the process, the metal core board is designed in this way that the insulating layer from the region of an edge of the conductor layer to the recess on the one hand and on the other hand from the transition region between the insulating layer and the metal carrier a flowing one Contour contour has. For the application of the method offers itself as an insulating layer in particular Resin, preferably resin with ceramic components.

Als Metallträger wird vorzugsweise ein Trägermaterial aus Kupfer oder Aluminium verwendet, welches mit Blick auf die Wärmeabführung von einem in die Aussparung eingesetzten Halbleiterbauelement besonders gut geeignet ist.When metal support is preferably a carrier material made of copper or aluminum, which with a view to the heat dissipation of a semiconductor component used in the recess particularly is well suited.

Als Leiterschicht wird vorzugsweise eine Leiterplatte oder Leiterfolie verwendet, wobei als Material dafür Kupfer bevorzugt wird. Vor dem Aufsetzen der Leiterschicht auf die Isolierschicht ist es zur Erhöhung der Haftung besonders vorteilhaft, wenn von der Leiterschicht deren Seite, die nach dem Aufsetzen der Isolierschicht zugewandt ist, rau ist oder aufgeraut wird. Das Aufrauen kann dabei gemäß besonders bevorzugter Verfahrensweise auf mechanischem oder chemischem Wege durchgeführt werden.When Conductor layer is preferably a printed circuit board or conductor foil used as the material for copper is preferred. In front the placement of the conductor layer on the insulating layer, it is for increase the adhesion particularly advantageous if of the conductor layer whose Side, which faces after putting the insulating layer, is rough or roughened. The roughening can according to particularly preferred Procedure be carried out by mechanical or chemical means.

Die polymere Isolierschicht wird vorteilhafterweise mittels eines Siebdruckverfahrens strukturiert aufgebracht, wobei sich gemäß erster Versuche eine sehr langsame Rakelgeschwindigkeit von 0,2–0,7 m/min, vorzugsweise von ca. 0,5 m/min als besonders vorteilhaft erwiesen hat. Jedoch sind auch Rakelgeschwindigkeiten außerhalb dieser besonders bevorzugten Geschwindigkeitswerte einsetzbar.The polymeric insulating layer is advantageously by means of a screen printing process structured applied, wherein according to first attempts a very slow squeegee speed of 0.2-0.7 m / min, preferably from about 0.5 m / min has proved to be particularly advantageous. However, they are also squeegee speeds outside These particularly preferred speed values can be used.

Besonders vorteilhaft erweist sich gemäß erster Versuche das gezielte zeitliche und thermische Verarbeiten der Schicht nach deren Aufbringen auf den Metallträger und vor dem Aufsetzen der Leiterschicht in einer Art und Weise, dass die Isolierschicht vor dem Aufsetzen der Leiterschicht bereits teilweise ausgehärtet ist, wobei das Aushärten so weit erfolgt, dass die Leiterschicht beim Aufsetzen noch haftet. Entsprechend wird die Isolierschicht nicht vollständig ausgehärtet, wie dies für sich genommen bekannt wäre. Als besonders vorteilhaft hat sich eine sogenannte handtrockene Aushärtung als geeignet erwiesen.Especially advantageous proves according to the first Try the targeted temporal and thermal processing of the layer after its application to the metal support and before placing the Conductor layer in a way that the insulating layer in front already partially cured when the conductor layer is placed on, wherein curing so far done that the conductor layer still adheres when placed. Corresponding the insulating layer is not fully cured as it is taken alone would be known. Particularly advantageous is a so-called hand-dry curing proved to be suitable.

Die Leiterschicht wird vorzugsweise durch Auflaminieren auf die Isolierschicht aufgesetzt, wobei die Leiterschicht beim Aufsetzen auf eine geeignete Temperatur gebracht wird. Das Aufheizen kann durch entsprechend höheres Erhitzen von Andruckrollen und dgl. indirekt erfolgen, welche die Metallkernleiterplatte auf die Isolierschicht aufpressen. Eine Metallkernleiterplatte mit einer entsprechenden Aussparung kann vorteilhaft zum Aufsetzen eines Schaltungselements, z. B. Halbleiterbauelements, verwendet werden, da die Wärme des Schaltungselements über den Metallträger gut abgeführt werden kann.The Conductor layer is preferably by lamination on the insulating layer placed on, wherein the conductor layer when placed on a suitable temperature is brought. Heating can be done by heating up accordingly of pinch rollers and the like. Be made indirectly, which is the metal core board Press on the insulating layer. A metal core board with a corresponding recess can be advantageous for placing a Circuit element, z. B. semiconductor device, can be used because the heat of the circuit element via the metal carrier well drained can be.

Neben den vorstehend als bereits besonders bevorzugt erkannten Parameterbereichen hinsichtlich Temperaturen, Drücken und Geschwindigkeiten liegt eine Anwendung mit Parameterwerten außerhalb dieser Bereiche, insbesondere bei Verwendung anderer als der bislang getesteten Materialien, im Bereich des Durchführbaren.Next the above-mentioned as already particularly preferred parameter ranges in terms of temperatures, pressures and speeds is an application with parameter values outside these areas, especially when using other than the previous one tested materials, in the field of feasible.

Ein Ausführungsbeispiel wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:One embodiment will be explained in more detail with reference to the drawing. Show it:

1 eine Teilschnittdarstellung durch eine Metallkernleiterplatte während deren Fertigung zu Beginn eines Laminiervorgangs zum Aufsetzen einer Leiterschicht auf eine Isolierschicht; 1 a partial sectional view through a metal core board during its manufacture at the beginning of a lamination process for placing a conductor layer on an insulating layer;

2 einen Schnitt durch die Metallkernleiterplatte nach dem Laminiervorgang; und 2 a section through the metal core board after the lamination process; and

3 einen Schnitt durch die mit einer Aussparung endbearbeitete Metallkernleiterplatte, wobei in der Aussparung ein Halbleiterbauelement eingesetzt ist. 3 a section through the finished with a recess metal core circuit board, wherein in the recess, a semiconductor device is used.

Wie dies aus 1 ersichtlich ist, ist ein Zwischenschritt der Fertigung einer Metallkernleiterplatte 1 dargestellt, wobei der Metallkern durch einen Metallträger 2 ausgebildet wird, welcher als Leiterplattenkern dient. Gemäß bevorzugter Ausführungsformen besteht der Metallträger aus Kupfer oder Aluminium. Auch andere geeignete Materialien sind verwendbar.Like this 1 is apparent, is an intermediate step of manufacturing a metal core board 1 represented, wherein the metal core by a metal carrier 2 is formed, which serves as a circuit board core. According to preferred embodiments, the metal support is made of copper or aluminum. Other suitable materials are usable.

In einem ersten Verfahrensschritt wird auf den Metallträger 2 eine polymere Isolierschicht 3 aufgebracht und dabei oder ggf. nachfolgend strukturiert. Das Aufbringen der Isolierschicht 3 erfolgt bevorzugt mittels eines Siebdruckverfahrens, wobei eine Strukturierung vorgenommen wird. Gemäß erster Versuche hat sich für das Siebdruckverfahren eine langsame Rakelgeschwindigkeit von vorzugsweise ca. 0,5 m/min als vorteilhaft erwiesen.In a first process step is applied to the metal support 2 a polymeric insulating layer 3 on brought and thereby or possibly structured below. The application of the insulating layer 3 is preferably carried out by means of a screen printing process, wherein a structuring is carried out. According to the first experiments, a slow doctoring speed of preferably approximately 0.5 m / min has proved to be advantageous for the screen printing process.

Beim strukturierten Aufbringen der polymeren Isolierschicht werden eine oder mehrere Aussparungen 4 je nach Bedarf in der Isolierschicht 3 ausgebildet. Im Bereich der dargestellten Aussparung 4 bleibt somit die Oberfläche des Metallträgers 2 frei von dem Material der Isolierschicht 3. Der Randbereich zwischen dem Material der Isolierschicht 3 und der Aussparung 4 wird dabei durch einen Übergangsbereich von einem oberen Punkt bzw. Rand 5a, bis zu dem die Isolierschicht 3 kontinuierlich eben verläuft, und durch einen unteren Punkt bzw. Rand 5b definiert, welcher den Übergangspunkt des Materials der Isolierschicht 3 zu dem Metallträger 2 bildet, ab dem die isolierschichtfreie Aussparung 4 beginnt. Bei bekannten Ausführungsformen wird dieser Übergangsbereich 5a, 5b durch eine relativ zu den Oberflächen der Isolierschicht 3 und des Metallträgers 2 senkrechte oder nahezu senkrechte Wandung mit winkligen Übergängen im Bereich der beiden Übergangspunkte 5a, 5b ausgebildet. Je nach Ausgestaltung des strukturiert auftragenden Siebdruckverfahrens wird beim Schritt des Aufbringens der Isolierschicht 3 bereits eine Abrundung des Materialverlaufs im Bereich der Übergangspunkte 5a, 5b vorgenommen, so dass ein relativ zur senkrechten Wandung fließender, d. h. insbesondere kantenfreier Konturverlauf ausgebildet wird.In the structured application of the polymeric insulating layer, one or more recesses 4 as needed in the insulating layer 3 educated. In the area of the recess shown 4 thus remains the surface of the metal support 2 free of the material of the insulating layer 3 , The edge area between the material of the insulating layer 3 and the recess 4 is thereby replaced by a transition region from an upper point or edge 5a to which the insulating layer 3 continuously running, and by a lower point or edge 5b defining the transition point of the material of the insulating layer 3 to the metal carrier 2 forms, from which the isolierschichtfreie recess 4 starts. In known embodiments, this transition region 5a . 5b by a relative to the surfaces of the insulating layer 3 and the metal carrier 2 vertical or nearly vertical wall with angular transitions in the area of the two transition points 5a . 5b educated. Depending on the configuration of the structured screen-printing process, the insulating layer is applied during the application step 3 already a rounding off of the material flow in the area of the transition points 5a . 5b made, so that a relative to the vertical wall flowing, ie, in particular edge-free contour profile is formed.

Sofern das Material der aufgebrachten polymeren Isolierschicht 3 noch zu kalt und/oder zu wenig ausgehärtet ist, wird es einem Trocken- bzw. Aushärtungsprozess unterzogen. Zur Aushärtung wird die Anordnung aus dem Metallträger 2 mit der Isolierschicht 3 vorzugsweise in den Bereich einer Heizeinrichtung 6 geführt, welche das Material der Isolierschicht 3 aufheizt. Vor dem Aufsetzen einer Leiterschicht 7 wird die Isolierschicht 3 so weit, d. h. nur teilweise ausgehärtet, dass die Leiterschicht 7 beim Aufsetzen noch an der Isolierschicht 3 haften kann. Die Isolierschicht 3 wird somit nicht vollständig ausgehärtet sondern vorzugsweise bis zu einem sogenannten handtrockenen Zustand ausgehärtet. Dabei wird sie mittels der Heizeinrichtung 6 auf eine geeignete Verbindungstemperatur TV gebracht, die sich gemäß erster Versuche vorzugsweise in einem Temperaturbereich von 70°C–100°C, besonders bevorzugt 70°C–75°C, befindet.If the material of the applied polymeric insulating layer 3 is still too cold and / or too little cured, it is subjected to a drying or curing process. For curing, the arrangement of the metal support 2 with the insulating layer 3 preferably in the region of a heating device 6 led, which is the material of the insulating layer 3 heating up. Before putting on a conductor layer 7 becomes the insulating layer 3 so far, ie only partially cured, that the conductor layer 7 when putting on the insulating layer 3 can stick. The insulating layer 3 is thus not fully cured but preferably cured to a so-called hand-dry state. It is by means of the heater 6 brought to a suitable bonding temperature TV, which is preferably according to first experiments in a temperature range of 70 ° C-100 ° C, more preferably 70 ° C-75 ° C.

Die Leiterschicht 7 wird vorzugsweise als Leiterplatte oder Leiterfolie aus Kupfer oder ähnlichem geeigneten Material bereitgestellt. Vor dem Aufsetzen der Leiterschicht 7 auf die polymere Isolierschicht 3 wird die Seite der Leiterschicht 7, welche der Isolierschicht 3 beim bzw. nach dem Aufsetzen zugewandt ist, aufgeraut, sofern sie nicht bereits geeignet rau ist. Das Aufrauen kann in für sich bekannter Art und Weise chemisch oder mechanisch erfolgen.The conductor layer 7 is preferably provided as a printed circuit board or conductor foil made of copper or similar suitable material. Before putting on the conductor layer 7 on the polymeric insulating layer 3 becomes the side of the conductor layer 7 , which is the insulating layer 3 when facing or touchdown, roughened, if it is not already suitable rough. Roughening can be done chemically or mechanically in a manner known per se.

Bei der bevorzugten Ausführungsform erfolgt das Aufsetzen der Leiterschicht 7 durch das Zuführen der Leiterschicht 7 von einer Folienrolle 8 zu einer Laminiereinrichtung, von der in 1 lediglich zwei Laminierwalzen 9 dargestellt sind. Die Kupferschicht 7 wird dabei mit Hilfe der Laminierwalzen 9 mit einem Laminierdruck pW auf die Isolierschicht 3 aufgepresst. Erste Versuche mit einem Laminierdruck pW von etwa 2–5 bar, vorzugsweise ca. 4 bar, zeigten vorteilhafte Ergebnisse. Das Durchführen der Anordnung aus Metallträger 2, Isolierschicht 3 und der darauf aufzubringenden Leiterschicht 7 durch die Laminierwalzen 9 erfolgte bei ersten Versuchen mit einer Geschwindigkeit von 0,1–10 m/min, wobei sich ein Wert von 0,5 m/min als besonders vorteilhaft erwies. Zum Aufsetzen oder Auflaminieren wird die Leiterschicht 7 erwärmt, wobei dies vorzugsweise durch eine Aufheizung der Laminierwalzen 9 auf eine Temperatur TW erfolgt. Die bei ersten Versuchen verwendete Temperatur TW der Laminierwalzen 9 hatte Werte im Bereich von 100°C–150°C, wobei sich Temperaturwerte TW im Bereich von 135°C als besonders vorteilhaft erwiesen.In the preferred embodiment, the placement of the conductor layer takes place 7 by supplying the conductor layer 7 from a roll of film 8th to a laminating device, of which in 1 only two laminating rollers 9 are shown. The copper layer 7 is doing with the help of the laminating rollers 9 with a laminating pressure pW on the insulating layer 3 pressed. Initial tests with a laminating pressure pW of about 2-5 bar, preferably about 4 bar, showed advantageous results. Carrying out the arrangement of metal carrier 2 , Insulating layer 3 and the conductor layer to be applied thereon 7 through the laminating rollers 9 was carried out in first experiments at a rate of 0.1-10 m / min, with a value of 0.5 m / min proved to be particularly advantageous. For setting or lamination, the conductor layer 7 heated, preferably by heating the laminating rollers 9 to a temperature TW. The temperature TW of the laminating rollers used in the first experiments 9 had values in the range of 100 ° C-150 ° C, with temperature values TW in the range of 135 ° C proved to be particularly advantageous.

Der Vorgang des Aufbringens der Isolierschicht 3 auf den Metallträger 2 sowie des Aufsetzens der Leiterschicht 7 auf die Isolierschicht 3, welche zuvor strukturiert wurde, erfolgt somit unter Einsatz thermischer Energie. Gemäß bevorzugter Ausführungsvarianten erfolgt eine Erwärmung einerseits durch eine Heizeinrichtung 6 zum teilweisen Aushärten der auf den Metallträger 2 aufgebrachten Isolierschicht 3 und andererseits durch das Erwärmen der aufzusetzenden Leiterschicht 7 beim Laminierprozess. Hervorzuheben ist das Strukturieren der Isolierschicht 3 vor dem Aufsetzen der Leiterschicht 7 unter Ausbildung mindestens einer Aussparung 4 in der Isolierschicht 3, wobei das Strukturieren vorteilhafterweise bereits beim Siebdruckprozess vorgenommen wird.The process of applying the insulating layer 3 on the metal carrier 2 as well as the placement of the conductor layer 7 on the insulating layer 3 , which was previously structured, thus takes place using thermal energy. According to preferred embodiments, heating takes place on the one hand by a heating device 6 for partial curing of the on the metal support 2 applied insulating layer 3 and on the other hand by heating the conductor layer to be applied 7 during the lamination process. To emphasize is the structuring of the insulating layer 3 before placing the conductor layer 7 forming at least one recess 4 in the insulating layer 3 The structuring is advantageously already carried out during the screen printing process.

Weiterhin erfolgt der Verfahrensablauf unter einer Vielzahl zeitlicher und thermischer Parameter derart, dass der Übergangs- bzw. Randbereich 5a, 5b der polymeren Isolierschicht 3 zu dem isolierschichtfreien Bereich der Aussparung 4 hin mit einer fließenden Verlaufskontur verläuft bzw. ausgebildet wird. Beschrieben wurde bereits das Ausbilden eines verlaufenden Übergangs des Übergangsbereichs 5a, 5b beim strukturierten Aufbringen der Isolierschicht 3 auf den Metallträger 2. Zusätzlich oder alternativ findet ein Verlaufen des Übergangsbereichs 5a, 5b der Isolierschicht 3 beim Aufsetzen der Leiterschicht 7 auf die Isolierschicht 3 statt. Durch das Aufsetzen unter dem geeigneten Laminierdruck pW und mit der geeigneten Temperatur TW verläuft das Material der Isolierschicht 3 im Übergangsbereich 5a, 5b, wie dies aus 2 ersichtlich ist. Zusätzlich oder alternativ kann das Verlaufen des Materials der Isolierschicht im Übergangsbereich 5a, 5b auch durch das anschließende bzw. abschließende Vortrocknen und die Endaushärtung bei vorzugsweise 150°C über eine Stunde nach dem Laminieren erfolgen.Furthermore, the process sequence is carried out under a variety of temporal and thermal parameters such that the transition or edge region 5a . 5b the polymeric insulating layer 3 to the insulating layer-free region of the recess 4 out with a flowing course contour runs or is formed. It has already been described to form a running transition of the transition region 5a . 5b in the structured application of the insulating layer 3 on the metal carrier 2 , Additionally or alternatively, a bleeding of the transition region takes place 5a . 5b the insulating layer 3 when placing the conductor layer 7 on the insulating layer 3 instead of. By placing under the appropriate laminating pressure pW and at the appropriate temperature TW, the material of the insulating layer passes 3 in the transition area 5a . 5b like this 2 is apparent. Additionally or alternatively, the bleeding of the material of the insulating layer in the transition region 5a . 5b also by the subsequent or final pre-drying and final curing at preferably 150 ° C for one hour after lamination.

Wie aus 3 ersichtlich, werden in nachfolgenden Bearbeitungsschritten eine breitere Aussparung in der aufgesetzten Leiterschicht 7 oberhalb der Aussparung 4 der polymeren Isolierschicht 3 ausgebildet und in die Aussparung 4 ein Halbleiterbauelement 10 als Schaltungselement eingesetzt. Das Halbleiterbauelement 10 wird dabei mit seinem Körper direkt auf dem Metallträger 2 befestigt, so dass im Halbleiterbauelement 10 erzeugte Wärme über den Metallträger 2 abgeführt wird. In für sich bekannter Art und Weise wird das Halbleiterbauelement 10 mit beispielsweise Bond-Drähten 11 mit entsprechenden Bereichen der Leiterschicht 7, welche entsprechend strukturiert ist, elektrisch leitend verbunden. Wie aus der Schnittdarstellung ersichtlich, wird durch den beschriebenen Verfahrensablauf eine Metallkernleiterplatte 1 ausgebildet, welche im Bereich von Aussparungen 4, welche durch die polymere Isolierschicht 3 bis zum Metallträger 2 hindurch führen, eine fließende und/oder schräge Verlaufskontur im Übergangsbereich 5a, 5b der Isolierschicht 3 aufweisen.How out 3 can be seen, in subsequent processing steps a wider recess in the patch conductor layer 7 above the recess 4 the polymeric insulating layer 3 trained and in the recess 4 a semiconductor device 10 used as a circuit element. The semiconductor device 10 is doing with his body directly on the metal support 2 attached so that in the semiconductor device 10 generated heat over the metal carrier 2 is dissipated. In a manner known per se, the semiconductor component becomes 10 with, for example, bonding wires 11 with corresponding areas of the conductor layer 7 , which is structured accordingly, electrically conductively connected. As can be seen from the sectional view, the process described describes a metal core circuit board 1 formed, which in the area of recesses 4 passing through the polymeric insulating layer 3 to the metal carrier 2 lead through, a flowing and / or oblique contour in the transition area 5a . 5b the insulating layer 3 exhibit.

Als Material für die Haftschicht wird bevorzugt Harz, insbesondere Harz mit Keramikanteilen, verwendet, um das beschriebene Verfahren durchzuführen bzw. eine Leiterplatte derart zu fertigen.When Material for the adhesive layer is preferably used resin, in particular resin with ceramic components, to perform the described method or a circuit board to manufacture in such a way.

11
MetallkernleiterplatteMetal core printed circuit board
22
Metallträgermetal support
33
polymere Isolierschichtpolymeric insulating
44
Aussparung in 3 Recess in 3
5a, 5b5a, 5b
Übergangsbereich von 3 zu 4 Transition area of 3 to 4
66
Heizeinrichtungheater
TVTV
Verbindungstemperatur von 3 Connection temperature of 3
77
Leiterschicht/LeiterfolieConductor layer / conductor foil
88th
Folienrollefilm roll
99
Laminiereinrichtung/LaminierwalzenLaminator / laminating
TWTW
Temperaturtemperature
pWpw
Laminierdrucklamination
vv
Laminiergeschwindigkeitlaminating
1010
HalbleiterbauelementSemiconductor component
1111
Bond-DrähteBond wires

Claims (7)

Verfahren zum Herstellen von Metallkernleiterplatten (1) durch Aufdrucken mittels Siebdruck einer ganzflächigen oder mind. mit einer Aussparung (4) versehenen polymeren Isolierschicht (3) auf einen Metallträger (2), wobei die ganzflächig aufgetragene Isolierschicht (3) nachträglich unter Ausbildung einer Aussparung (4) strukturiert wird, thermisches Teilhärten der Isolierschicht (3) bei Verbindungstemperaturen (TV) von 50°C bis 100°C, ganzflächiges Auflaminieren mittels Rollen einer Leiterschicht (7) bei Temperaturen (TW) von 100°C bis 150°C, Laminierdrücken (pW) von 2·105 Pa bis 5·105 Pa und Laminiergeschwindigkeiten (v) von 0,1 m/min bis 10 m/min unter Ausbildung einer definierten kontinuierlich verlaufenden Kantenstruktur an den Rändern der Aussparung und Strukturieren der aufgebrachten Leiterschicht (7) unter Freilegung der Aussparungen (4).Method for producing metal core circuit boards ( 1 ) by printing by screen printing a full-area or at least. With a recess ( 4 ) provided polymeric insulating layer ( 3 ) on a metal support ( 2 ), wherein the full-surface applied insulating layer ( 3 ) subsequently with the formation of a recess ( 4 ), thermal partial hardening of the insulating layer ( 3 ) at connection temperatures (TV) of 50 ° C to 100 ° C, laminating all over by rolling a conductor layer ( 7 ) at temperatures (TW) of 100 ° C to 150 ° C, laminating pressures (pW) of 2 x 10 5 Pa to 5 x 10 5 Pa and laminating speeds (v) of 0.1 m / min to 10 m / min with formation a defined continuous edge structure at the edges of the recess and structuring the applied conductor layer ( 7 ) exposing the recesses ( 4 ). Verfahren nach Anspruch 1, bei dem als Metallträger (2) ein Trägermaterial aus Kupfer oder Aluminium verwendet wird.Process according to claim 1, in which as metal carrier ( 2 ) a support material of copper or aluminum is used. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als polymere Isolierschicht (3) Harz mit Keramikanteilen verwendet wird.A method according to claim 1 or 2, wherein as a polymeric insulating layer ( 3 ) Resin with ceramic components is used. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem als Material der Leiterschicht (7) Kupfer verwendet wird.Method according to one of Claims 1 to 3, in which, as the material of the conductor layer ( 7 ) Copper is used. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Leiterschicht (7) auf der der polymeren Isolierschicht (3) zugewandten Seite rauh ist oder aufgerauht wird.Method according to one of claims 1 to 4, wherein the conductor layer ( 7 ) on the polymeric insulating layer ( 3 ) facing side is rough or roughened. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die polymere Isolierschicht (3) mittels eines Siebdruckverfahrens strukturiert, insbesondere mit einer Rakelgeschwindigkeit von 0,2–0,7 m/min, vorzugsweise ca. 0,5 m/min, aufgebracht wird.Method according to one of claims 1 to 5, wherein the polymeric insulating layer ( 3 ) is structured by means of a screen printing process, in particular with a doctor speed of 0.2-0.7 m / min, preferably about 0.5 m / min applied. Metallkernleiterplatte (1) hergestellt nach einem Verfahren gemäß mindestens einem der Ansprüche 1–6, dadurch gekennzeichnet, dass die Aussparung (4) in einem Übergangsbereich (5a, 5b) von Isolierschicht (3) und Metallträger (2) eine kontinuierlich verlaufende Kantenstruktur aufweist.Metal core board ( 1 ) produced by a method according to at least one of claims 1-6, characterized in that the recess ( 4 ) in a transitional area ( 5a . 5b ) of insulating layer ( 3 ) and metal supports ( 2 ) has a continuous edge structure.
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