DE10318805A1 - Catadioptric reduction lens with polarization beam splitter - Google Patents

Catadioptric reduction lens with polarization beam splitter Download PDF

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Abstract

Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat eine optische Achse, einen katadioptrischen ersten Objektivteil (103) mit einem Konkavspiegel (105) und einem physikalischen Strahlteiler (106) mit mindestens einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht (107) sowie einen zweiten, vorzugsweise dioptrischen Objektivteil (103). In dem Lichtweg, der den Konkavspiegel (105) einschließt, ist ein Rückreflexionsspiegel (110) zur Rückreflexion von aus dem Strahlteiler kommender Strahlung in Richtung des Strahlteilers angeordnet. Die hierdurch mögliche Mehrfachnutzung des Strahlteilers erlaubt neuartige Konstruktionen, insbesondere auch katadioptrische Projektionsobjektive mit koaxial zueinander angeordnetem Objekt- und Bildfeld.A catadioptric projection objective for imaging a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective has an optical axis, a catadioptric first objective part (103) with a concave mirror (105) and a physical beam splitter (106) with at least one polarization-selective beam splitter layer (107 ) and a second, preferably dioptric lens part (103). A back reflection mirror (110) is arranged in the light path, which encloses the concave mirror (105), for the back reflection of radiation coming from the beam splitter in the direction of the beam splitter. The multiple use of the beam splitter that is possible as a result enables novel constructions, in particular also catadioptric projection objectives with object and image fields arranged coaxially to one another.

Description

Die Erfindung betrifft ein katadioptrisches Reduktionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs.The The invention relates to a catadioptric reduction lens for imaging a pattern arranged in the object plane of the projection lens into the image plane of the projection lens.

Derartige Projektionsobjektive werden in Projektionsbelichtungsanlagen zur mikrolithographischen Herstellung von Halbleiterbauelementen und anderen feinstrukturierten Bauteilen verwendet. Sie dienen dazu, Muster von Fotomasken oder Strichplatten, die auch als Masken oder Retikel bezeichnet werden, auf einen mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichteten Gegenstand, beispielsweise einen Halbleiterwafer, mit höchster Auflösung in verkleinerndem Maßstab zu projizieren.such Projection lenses are used in projection exposure systems microlithographic production of semiconductor components and others finely structured components used. They serve patterns of photo masks or graticules, which are also used as masks or reticles can be referred to on a with a photosensitive layer coated object, for example a semiconductor wafer, with the highest resolution on a smaller scale to project.

Zur Erzeugung immer feinerer Strukturen wird versucht, einerseits die bildseitige numerische Apertur (NA) des Projektionsobjektivs zu vergrößern und andererseits immer kürzere Wellenlängen zu verwenden, vorzugsweise Ultraviolettlicht mit Wellenlängen von weniger als ca. 260nm. Da in diesem Wellenlängenbereich nur noch wenige ausreichend transparente Materialien zur Herstellung von optischen Komponenten zur Verfügung stehen, deren Abbekonstanten zudem relativ nahe beieinan der liegen, ist es schwierig, rein refraktive Systeme mit ausreichender Korrektur von Farbfehlern bereitzustellen. Daher werden für diesen Wellenlängenbereich vielfach katadioptrische Systeme verwendet, bei denen brechende und reflektierenden Komponenten, insbesondere also Linsen und abbildende Spiegel, kombiniert sind.to The attempt is being made to produce ever finer structures, on the one hand the numerical aperture (NA) of the projection objective enlarge and on the other hand, ever shorter wavelength to be used, preferably ultraviolet light with wavelengths of less than about 260nm. Since there are only a few left in this wavelength range sufficient transparent materials for the production of optical Components available stand, the constants of which are also relatively close to each other, it is difficult to use purely refractive systems with adequate correction to provide color errors. Therefore, for this wavelength range widely used catadioptric systems in which refractive and reflective components, in particular lenses and imaging Mirrors, are combined.

Bei der Nutzung von abbildenden Spiegelflächen ist es vorteilhaft, Strahlteiler einzusetzen, wenn eine obskurationsfreie und vignettierungsfreie Abbildung erreicht werden soll. Systeme mit geometrischer Strahlteilung sind möglich, haben jedoch den Nachteil, dass es sich zwingend um außeraxiale Systeme handelt. Dagegen sind axiale Systeme (On-Axis-Systeme) realisierbar, wenn ein physikalischer Strahlteiler verwendet wird. Hier haben sich physikalische Strahlteiler mit einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht durchgesetzt, die sich unter anderem durch hohe erzielbare Gesamttransmission auszeichnen.at the use of imaging mirror surfaces, it is advantageous to use beam splitters to be used if an obscuration-free and vignetting-free Figure should be achieved. Systems with geometric beam splitting are possible, However, they have the disadvantage that they are off-axis Systems. In contrast, axial systems (on-axis systems) can be implemented, if a physical beam splitter is used. Have here physical beam splitters with a polarization selective Beam splitter layer prevailed, which is characterized by high mark achievable total transmission.

In der EP 1 102 100 (entsprechend US Serial No. 09/711 256) sind verschiedene katadioptrische Reduktionsobjektive mit physikalischem Strahlteiler und hervorragendem Korrektionszustand beschrieben. Systeme der hier betrachteten Art haben eine optische Achse, einen katadioptrischen ersten Objektivteil und einen vorzugsweise dioptrischen zweiten Objektivteil. Der katadioptrische Objektivteil hat einen Konkavspiegel und einen physikalischen Strahlteiler (beam splitter cube, BSC) mit einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht, welche im folgenden auch als Polarisationsteilerschicht bezeichnet wird. Sie ist gegenüber der optischen Achse gekippt, wird mit weitgehend linear polarisiertem Licht beaufschlagt und vom eintretenden Licht einmal in Transmission und einmal in Reflexion genutzt. Hierbei wird entweder die von der Objektebene kommende Strahlung zunächst weitgehend vollständig in Richtung Konkavspiegel reflektiert und nach Drehung der Polarisationsrichtung im zweiten Durchtritt zum zweiten Objektivteil transmittiert oder es wird die von der Objektebene kommende Strahlung zunächst weitgehend voll ständig zum Konkavspiegel transmittiert und die von diesen reflektierte Strahlung nach Drehung der Polarisationsrichtung von der Strahlteilerschicht Richtung zweitem Objektivteil reflektiert. Der in dieser Anmeldung zitierte Stand der Technik zeigt weitere Projektionsobjektive mit physikalischem Strahlteiler und wird insoweit durch Bezugnahme zum Inhalt dieser Beschreibung gemacht.In the EP 1 102 100 (corresponding to US Serial No. 09/711 256) various catadioptric reduction lenses with physical beam splitters and excellent correction status are described. Systems of the type considered here have an optical axis, a catadioptric first objective part and a preferably dioptric second objective part. The catadioptric objective part has a concave mirror and a physical beam splitter (beam splitter cube, BSC) with a polarization-selective beam splitter layer, which is also referred to below as a polarization splitter layer. It is tilted with respect to the optical axis, is subjected to largely linearly polarized light and is used by the incoming light once in transmission and once in reflection. Here, either the radiation coming from the object plane is initially largely completely reflected in the direction of the concave mirror and, after rotation of the polarization direction, is transmitted in the second passage to the second lens part, or the radiation coming from the object plane is initially largely completely transmitted to the concave mirror and the radiation reflected by it after rotation of the polarization direction reflected by the beam splitter layer towards the second lens part. The prior art cited in this application shows further projection objectives with a physical beam splitter and is made the content of this description by reference.

Bei vielen Ausführungsformen solcher Projektionsobjektive wird mit Hilfe eines dem Strahlteiler nachgeschalteten Umlenkspiegels eine Parallelstellung von Objektebene und Bildebene erreicht, welche für einen Scannerbetrieb günstig ist. Derartige Konstruktionen haben jedoch den Nachteil, dass die optischen Achsen für Objekt und Bild gegeneinander parallel versetzt sind. Dieser Lateralversatz oder Achsversatz, der auch als Object-Image-Shift (OIS) bezeichnet wird, bringt Schwierigkeiten bei der Integration derartiger Objektive in eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit sich, da beispielsweise die Positionen der synchron beweglichen Retikel- und Wafer-Stages sowie geeignete Messvorrichtungen an den Lateralversatz anzupassen sind. Die Schwierigkeiten bei der Integration nehmen mit der Größe des Lateralversatzes zu.at many embodiments projection lenses of this type are connected downstream of the beam splitter Deflecting mirror a parallel position of the object plane and image plane achieved which for a scanner operation cheap is. However, such constructions have the disadvantage that the optical Axes for Object and image are offset parallel to each other. This lateral offset or axis offset, which is also referred to as an object image shift (OIS) brings difficulties in the integration of such lenses into a microlithographic projection exposure system, because, for example, the positions of the synchronously movable reticle and wafer stages as well as suitable measuring devices on the lateral offset are to be adjusted. Take away the difficulties of integration with the size of the lateral offset to.

Ein anderes, bei Systemen mit Polarisationsteilerschicht auftretendes Problem besteht darin, dass diese Schichten zumindest dann, wenn sie über einen größeren Inzidenzwinkelbereich betrieben werden, keine vollständige Separation zwischen s-Polarisation und p-Polarisation ermöglichen. Hierdurch kann "Falschlicht" entstehen, welches in störender Weise in die Bildebene gelangen und dort zur einer Verschlechterung des Kontrastes führen kann.On other that occurs in systems with a polarization splitter layer Problem is that these layers at least if them about one larger angle of incidence range operated, not a complete one Allow separation between s-polarization and p-polarization. This can result in "false light" which in a disturbing way get into the image plane and there deteriorate the Contrast can.

Neben den Systemen mit einem einzigen Konkavspiegel sind auch katadioptrische Projektionsobjektive mit zwei Konkavspiegeln bekannt, beispielsweise aus der EP 0 887 708 oder der JP 07-130606 . Diese Systeme sind für den Betrieb mit unpolarisiertem Licht ausgelegt und haben zwei im wesentlichen baugleiche Objektivteile, die jeweils einen Konkavspiegel aufweisen und separate Lichtwege bilden. Die Strahlteilerschicht dient dazu, dass auftreffende, unpolarisierte oder zirkular polarisierte Licht in einen Strahl mit p-Polarisation und einen Strahl mit s-Polarisation in Bezug auf die Ebene der Strahlteilerfläche aufzuteilen. Die verschieden polarisierten Strahlen fallen in zwei Lichtwegen zeitgleich auf die zugeordneten Konkavspiegel und werden nach Reflexion an diesen und Polarisationsdrehung an der Strahlteilerschicht wieder zu einem Strahl zusammengeführt, der den Strahlteiler in Richtung die Bildebene verlässt. Bei der EP 0 887 708 dient ein symmetrischer Aufbau dazu, die Wärmebelastung des Strahlteilers zu vergleichsmäßigen. Bei der JP 07-130 606 wird mit Hilfe der Strahlaufteilung eine Abbildung mit größerer Schärfentiefe angestrebt.In addition to the systems with a single concave mirror, catadioptric projection lenses with two concave mirrors are also known, for example from EP 0 887 708 or the JP 07-130606 , These systems are designed for operation with unpolarized light and have two essentially identical objective parts, each with a concave mirror and forming separate light paths. The beam splitter layer serves to to split incident, unpolarized or circularly polarized light into a beam with p-polarization and a beam with s-polarization with respect to the plane of the beam splitter surface. The differently polarized beams fall simultaneously on the assigned concave mirrors in two light paths and, after reflection on them and polarization rotation on the beam splitter layer, are brought together again to form a beam which leaves the beam splitter in the direction of the image plane. In the EP 0 887 708 a symmetrical structure serves to even out the thermal load on the beam splitter. In the JP 07-130 606 with the help of the beam distribution, an image with a greater depth of field is aimed for.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein katadioptrisches Projektionsobjektiv mit polarisationsselektiven Strahlteiler bereitzustellen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet. Insbesondere soll das Projektionsobjektiv konstruktiv einfach in bestehende Wafer-Stepper oder Wafer-Scanner einbaubar sein. Es soll vorzugsweise auch eine Abbildung im wesentlichen ohne störendes Falschlicht ermöglicht werden.The The invention is based on the object of a catadioptric projection objective provide with polarization-selective beam splitter, which the Avoids disadvantages of the prior art. In particular, that should Projection lens is structurally simple in existing wafer steppers or wafer scanners can be installed. It should preferably also be essentially an image without annoying false light allows become.

Zur Lösung dieser Aufgabe stellt die Erfindung ein katadioptrische Projektionsobjektiv mit den Merkmalen des Anspruchs 1 bereit. Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben. Der Wortlaut sämtlicher Ansprüche wird durch Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemacht.to solution the object of the invention is a catadioptric projection objective ready with the features of claim 1. Advantageous further training are in the dependent claims specified. The wording of all Expectations is made the content of the description by reference.

Ein erfindungsgemäßes katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat eine optische Achse, einen katadioptrischen ersten Objektivteil, der einen Konkavspiegel und einen physikalischen Strahlteiler mit mindestens einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht umfasst, sowie einen zweiten, vorzugsweise dioptrischen Objektivteil. In einem den Konkavspiegel einschließenden Lichtweg ist ein Rückreflexionsspiegel zur Rückreflexion der von dem Strahlteiler kommenden Strahlung in Richtung des Strahlteilers angeordnet.On Catadioptric projection lens according to the invention for imaging one in the object plane of the projection lens arranged pattern in the image plane of the projection lens has a optical axis, a catadioptric first lens part, the a concave mirror and a physical beam splitter with at least a polarization-selective beam splitter layer, and a second, preferably dioptric lens part. In one enclosing the concave mirror Light path is a back reflection mirror for back reflection of the radiation coming from the beam splitter in the direction of the beam splitter arranged.

Der Rückreflexionsspiegel befindet sich in dem von der Gesamtstrahlung durchlaufenden Lichtweg entweder vor oder hinter dem Konkavspiegel und wird im wesentlichen mit der gleichen Strahlungsenergie beaufschlagt wie der Konkavspiegel. Der Rückreflexionsspiegel sorgt dafür, dass der Strahlteiler mehr als einmal in Transmission und/oder mehr als einmal in Reflexion genutzt wird. Dabei sind Projektionsobjektive gemäß der Erfindung derart konstruiert, dass die auf eine Strahlteilerschicht auftreffende Strahlung entweder im wesentlichen s-polarisiert (elektrischer Feldvektor schwingt senkrecht zur Einfallsebene des Lichts) oder im wesentlichen p-polarisiert (elektrischer Feldvektor schwingt parallel zur Einfallsebene) ist. Dementsprechend wird die Strahlung in Abhängigkeit von ihrer Polarisationsvorzugsrichtung jeweils weitgehend vollständig reflektiert (bei s-Polarisation) oder im wesentlichen vollständig transmittiert (bei p-Polarisation).The Back reflection mirror is located in the light path through the total radiation either in front of or behind the concave mirror and becomes essentially with the same radiation energy as the concave mirror. The Back reflection mirror ensures that the beam splitter is in transmission and / or more than once than once used in reflection. There are projection lenses according to the invention constructed in such a way that the one striking a beam splitter layer Radiation either essentially s-polarized (electric field vector vibrates perpendicular to the plane of incidence of light) or essentially p-polarized (electric field vector vibrates parallel to the plane of incidence) is. Accordingly, the radiation becomes dependent on its preferred polarization direction each largely complete reflected (with s-polarization) or essentially completely transmitted (with p-polarization).

Der Rückreflexionsspiegel kann ein Planspiegel mit ebener Spiegelfläche sein. Die Spiegelfläche des Rückreflexionsspiegels kann auch eine geringfügige oder erhebliche Krümmung aufweisen, die beispielsweise zu Korrekturzwecken genutzt werden kann. Somit kann der Rückreflexionsspiegel auch ein Konkavspiegel oder ein konvexer Spiegel sein.The Back reflection mirror can be a plane mirror with a flat mirror surface. The mirror surface of the Back reflection mirror can also be a minor or significant curvature have, which can be used for correction purposes, for example. So the back reflection mirror also be a concave mirror or a convex mirror.

Die Mehrfachnutzung des Strahlteilers ermöglicht neuartige Konstruktionen von Projektionsobjektiven. Bei einer Ausführungsform verlaufen ein objektseitiger Teil der optischen Achse und ein bildseitiger Teil der opti schen Achse koaxial zueinander. Der eingangs erwähnte Lateralversatz (OIS) zwischen den optischen Achsen für Objekt und Bild kann dadurch vermieden werden. Derartige Projektionsobjektive sind ohne größere Schwierigkeiten in Projektionsbelichtungsanlagen integrierbar, die konstruktiv für die Aufnahme von rotationssymmetrischen, rein refraktiven Projektionsobjektiven ausgestattet sind, da konstruktive Änderungen an den Retikel- und Substrattischen und gegebenenfalls an den Messvorrichtungen nicht vorgenommen werden müssen. Generell sind Projektionsobjektive möglich, bei denen der laterale Abstand (OIS) zwischen objektseitigem Teil und bildseitigem Teil der optischen Achse deutlich kleiner als bei herkömmlichen katadioptrischen Projektionsobjektiven ist. Der laterale Abstand kann beispielsweise weniger als der maximal genutzte Durchmesser des Strahlteilers, gemessen in Richtung des Lateralversatzes, oder weniger als 50% oder 30% dieses Durchmessers betragen.The Multiple use of the beam splitter enables novel designs of projection lenses. In one embodiment, an object side Part of the optical axis and an image-side part of the optical rule Axis coaxial to each other. The lateral offset (OIS) mentioned above between the optical axes for This avoids object and image. Such projection lenses are without major difficulties Can be integrated in projection exposure systems that are constructive for the recording of rotationally symmetrical, purely refractive projection lenses are equipped because of design changes to the reticle and substrate tables and may not be carried out on the measuring devices have to. As a general rule projection lenses are possible, where the lateral distance (OIS) between the object-side part and part of the optical axis on the image side is significantly smaller than in usual is catadioptric projection lenses. The lateral distance can for example less than the maximum diameter used Beam splitter, measured in the direction of the lateral offset, or less than 50% or 30% of this diameter.

Es sind Ausführungsformen möglich, bei denen der Strahlteiler eine einzige Strahlteilerschicht hat, die von beiden Seiten bei entsprechender Polarisation des auftreffenden Lichtes reflektierend wirkt. Die Strahlteilerschicht kann somit als beidseitig reflektierende Schicht ausgebildet sein. Es sind auch Ausführungsformen möglich, bei denen eine einzige Strahlteilerschicht von beiden Seiten mit p-Polarisation beaufschlagt wird und für diese transmittierend sein soll. Hierfür sind beidseitig transmittierende Schichten vorgesehen. Es hat sich als günstig herausgestellt, wenn die als Mehrfach-Interferenz-Schichtsystem aufgebaute Strahlteilerschicht einen Schichtaufbau hat, der bezüglich einer innerhalb der Strahlteilerschicht liegenden Symmetrieebene im wesentlichen symmetrisch ist. Diese Spiegelsymmetrie kann sich auf die Materialfolge der aufeinanderfolgenden Schicht und/oder auf deren Schichtdicken beziehen.Embodiments are possible in which the beam splitter has a single beam splitter layer, which acts on both sides with a corresponding polarization of the incident light. The beam splitter layer can thus be formed as a layer reflecting on both sides. Embodiments are also possible in which a single beam splitter layer is subjected to p-polarization from both sides and is intended to be transmissive for this. For this purpose, transmitting layers are provided on both sides. It has proven to be advantageous if the beam splitter layer constructed as a multiple interference layer system has a layer structure which is essentially symmetrical with respect to a plane of symmetry lying within the beam splitter layer. This mirror symmetry can affect the material sequence of the successive layer and / or its layer refer to thick.

Es ist bekannt, dass polarisationsselektive Strahlteilerschichten insbesondere dann, wenn sie mit Licht aus einem größeren Inzidenzwinkelbereich betrieben werden, keine vollständige Trennung von s- und p-Polarisation bewirken, so dass ein kleiner Teil von s-polarisierten Licht durchgelassen und/oder ein kleiner Anteil von p-polarisiertem Licht reflektiert wird. Dies kann insbesondere bei Systemen mit geringem oder verschwindendem Lateralversatz zwischen objektseitigem und bildseitigem Teil der optischen Achse dazu führen, dass Falschlicht in die Bildebene gelangt. Als Falschlicht wird hier solches Licht bezeichnet, welches nicht den vom Design Idealerweise vorgegebenen Lichtweg durchläuft, sondern beispielsweise unter Umgehung eines der Abbildung dienenden Konkavspiegels direkt durch einen Strahlteiler in die Bildebene gelangt.It it is known that polarization-selective beam splitter layers in particular when operated with light from a wider range of incidence angles will not be a complete one Separation of s and p polarization cause a small portion of s-polarized light to pass through and / or a small proportion of p-polarized light is reflected. This can be particularly the case with systems with little or vanishing Lateral offset between the object-side and image-side part of the optical axis cause that false light gets into the image plane. As a false light here denotes light that is not ideally designed passes through the predetermined light path, but, for example, bypassing one that serves as an illustration Concave mirror directly through a beam splitter into the image plane arrives.

Zum Ausblocken von Falschlicht kann hinter dem Strahlteiler im zweiten Objektivteil eine Feldblende an geeigneter Stelle angeordnet sein. Bei Ausführungsformen, die zwischen Objektebene und Bildebene mindestens ein reelles Zwischenbild aufweisen, kann die Feldblende im Bereich des Zwischenbildes angeordnet sein. Bei Projektionsobjektiven mit einem Lateralversatz zwischen objektseitigem und bildseitigem Teil der optischen Achse bietet eine Feldblende eine sehr wirksame Möglichkeit der Vermeidung von Falschlicht. Sie kann insbesondere so angeordnet sein, dass die Blendenöffnung der Feldblende außerhalb einer Verlängerung eines von der Objektebene auf den Strahlteiler treffenden Strahlbündels liegt. Damit wird Strahlung, die von der Objektebene kommend direkt durch den Strahlteiler hindurchtritt, zuverlässig aufgeblendet und kann in der Bildebene keinen Falschlichtbeitrag leisten.To the Blocking out false light can be done behind the beam splitter in the second A field diaphragm can be arranged at a suitable point in the objective part. In embodiments, the at least one real intermediate image between the object level and the image level the field diaphragm can be arranged in the area of the intermediate image his. For projection lenses with a lateral offset between object-side and image-side part of the optical axis a field stop is a very effective way of avoiding False light. It can in particular be arranged so that the aperture the field stop outside an extension one of the beam strikes the beam splitter from the object plane. This means that radiation coming from the object plane passes directly through passes through the beam splitter, reliably fades in and can make no false light contribution in the image plane.

Eine besondere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass der Strahlteiler eine erste Strahlteilerschicht und mindestens eine zweite Strahlteilerschicht aufweist. Die für erfindungsgemäße Projektionsobjek tive typischen Mehrfachreflexionen im Strahlteiler können in diesem Fall auf mehrere Strahlteilerschichten verteilt werden.A special embodiment is characterized in that the beam splitter has a first beam splitter layer and has at least one second beam splitter layer. The projection objectives according to the invention typical multiple reflections in the beam splitter can in this case on several beam splitter layers be distributed.

Bei manchen Ausführungsformen ist vorgesehen, dass der Strahlteiler eine erste und eine zweite Strahlteilerschicht aufweist, die um einen Schichtabstand parallel versetzt zueinander angeordnet sind. Das Ausmaß des Schichtabstandes kann dazu genutzt werden, einen Lateralversatz zwischen objektseitigem und bildseitigem Teil der optischen Achse auf einen geeigneten Wert einzustellen. In Verbindung mit einer hinter dem Strahlteiler angeordneten Feldblende kann dies in der oben erwähnten Weise zur Ausblockung von Falschlicht benutzt werden, wenn durch geeignete Wahl des Schichtabstandes die Blendenöffnung außerhalb der Verlängerung des von der Objektebene kommenden Strahlbündels positioniert wird.at some embodiments it is provided that the beam splitter has a first and a second Beam splitter layer, which is parallel by a layer spacing are staggered. The extent of the layer spacing can to be used, a lateral offset between the object side and image-side part of the optical axis to a suitable value adjust. In conjunction with a field diaphragm located behind the beam splitter can do this in the above Way to block out false light when used by suitable choice of layer spacing the aperture outside the extension of the beam coming from the object plane is positioned.

Diese und weitere Merkmale gehen außer aus den Ansprüchen auch aus der Beschreibung und den Zeichnungen hervor, wobei die einzelnen Merkmale jeweils für sich allein oder zu mehreren in Form von Unterkombinationen bei einer Ausführungsform der Erfindung und auf anderen Gebieten verwirklicht sein und vorteilhafte sowie für sich schutzfähige Ausführungen darstellen können. Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden im folgenden näher erläutert.This and other features go out the claims also from the description and the drawings, the individual characteristics for each alone or in several in the form of sub-combinations an embodiment of the Invention and in other areas be realized and advantageous also for yourself protectable versions can represent. Embodiments of the Invention are illustrated in the drawings and are as follows explained in more detail.

1 zeigt schematisch eine erste Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektivs ohne Achsversatz zwischen objektseitigem und bildseitigem Teil der optischen Achse; 1 schematically shows a first embodiment of a projection lens according to the invention without an axis offset between the object-side and image-side part of the optical axis;

2 zeigt eine zweite Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektives mit einem Strahlteiler, dessen Strahltei lerschicht zweimal in Transmission und einmal in Reflexion genutzt wird; und 2 shows a second embodiment of a projection lens according to the invention with a beam splitter, the beam splitting layer is used twice in transmission and once in reflection; and

3 zeigt eine dritte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektives mit einem Strahlteiler, der zwei parallel versetzte Strahlteilerschichten aufweist. 3 shows a third embodiment of a projection lens according to the invention with a beam splitter that has two parallel beam splitter layers.

Bei der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen bezeichnet der Begriff "optische Achse" eine gerade Linie oder eine Folge von geraden Linienabschnitten durch die Krümmungsmittelpunkte der optischen Komponenten. Die optische Achse wird durch Umlenkspiegel oder reflektierende Flächen gefaltet. Die Lage eines objektseitigen Teils der optischen Achse wird durch die Lage der der Objektebene nächsten optischen Komponenten definiert. Die Lage des bildseitigen Teils der optischen Achse wird durch die Lage der der Bildebene nächsten optischen Komponenten definiert. Das Objekt ist in den Beispielen eine Maske (Retikel) mit dem Muster einer integrierten Schaltung, es kann sich auch um ein anderes Muster, beispielsweise eines Gitters, handeln. Das Bild wird in den Beispielen auf einem als Substrat dienenden, mit einer Photoresistschicht versehenen Wafer gebildet, jedoch sind auch andere Substrate, beispielsweise Elemente für Flüssigkristallanzeigen oder Substrate für optische Gitter möglich.at the following description of preferred embodiments denotes the Term "optical axis" a straight line or a series of straight line sections through the centers of curvature of the optical components. The optical axis is by means of a deflecting mirror or reflective surfaces folded. The position of a part of the optical axis on the object side is determined by the position of the optical components closest to the object plane Are defined. The position of the image-side part of the optical axis is by the position of the optical components closest to the image plane Are defined. In the examples, the object is a mask (reticle) with the pattern of an integrated circuit, it can also be about another pattern, such as a grid. The picture is in the examples on a serving as a substrate, with a Wafer provided with photoresist layer, but there are also other substrates, for example items for liquid crystal displays or substrates for optical grids possible.

In 1 ist schematisch der Aufbau einer ersten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen katadioptrischen Reduktionsobjektivs 100 gezeigt. Es dient dazu, ein in der Objektebene 101 angeordnetes Muster eines Retikels oder dergleichen in die Bildebene 102 in reduziertem Maßstab abzubilden, beispielsweise im Verhältnis 4:1. Das Projektionsobjektiv hat zwischen Objekt- und Bildebene einen katadioptrischen ersten Objektivteil 103 und dahinter einen rein dioptrischen zweiten Objektivteil 104.In 1 is a schematic structure of a first embodiment of a catadioptric reduction lens according to the invention 100 shown. It serves one in the object level 101 arranged pattern of a reticle or the like in the image plane 102 reproduce on a reduced scale, for example in a ratio of 4: 1. The projection lens has a catadioptric first lens part between the object and image plane 103 and behind it a purely dioptric second lens part 104 ,

Der katadioptrische Objektivteil 103 umfasst einen Konkavspiegel 105 und einen physikalische Strahlteiler 106 mit einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht 107, die auch als Polarisationsteilerschicht bezeichnet wird und gegenüber der optischen Achse um 45° gekippt ist. Dem Strahlteiler 106 ist ein ebener Rückreflexionsspiegel 110 zugeordnet, der auf der dem Konkavspiegel 103 gegenüberliegenden Seite des Strahlteilers so angeordnet ist, dass er Strahlung, welche vom Konkavspiegel 105 kommt und durch die Strahlteilerschicht 107 transmittiert wird, in Richtung des Strahlteilers bzw. der Strahlteilerschicht zurückreflektiert. Bei anderen Ausführungsformen kann anstelle des Planspiegels 110 ein konkav oder konvex gekrümmter Spiegel vorgesehen sein, um die optische Korrektur des Systems zu unterstützen.The catadioptric lens part 103 includes a concave mirror 105 and a physical beam splitter 106 with a polarization-selective beam splitter layer 107 , which is also referred to as a polarization splitter layer and is tilted by 45 ° with respect to the optical axis. The beam splitter 106 is a flat back reflection mirror 110 assigned to that on the the concave mirror 103 opposite side of the beam splitter is arranged so that it emits radiation from the concave mirror 105 comes and through the beam splitter layer 107 is transmitted, reflected back in the direction of the beam splitter or the beam splitter layer. In other embodiments, instead of the plane mirror 110 a concave or convex curved mirror may be provided to aid in optical correction of the system.

Zwischen der Objektebene 101 und dem Strahlteiler 106 ist positive Brechkraft angeordnet, die beispielhaft durch eine Positivlinse 111 symbolisiert ist. Auch Ausführungsformen, die in diesem Bereich negative Brechkraft aufweisen oder im wesentlichen brechkraftfrei sind, sind möglich. Die optischen Komponenten zwischen Objektebene 101 und Strahlteiler 106 definieren die Lage des objektseitigen Teils 112 der optischen Achse, um den des Objektfeld zentriert ist. Unmittelbar vor dem Strahlteiler ist ein Verzögerungselement 113 mit der Wirkung einer λ/4-Platte angeordnet, die beispielsweise als freistehende Platte oder als eine an die Eintrittsseite des Strahlteilers 106 angesprengte Platte ausgebildet sein kann. Zwischen dem Strahlteiler 106 und dem Konkavspiegel 105 können abweichend von der Darstellung eine oder mehrere Linsen angeordnet sein, beispielsweise eine oder mehrere Linsen mit negativer Brechkraft in der Nähe des Konkavspiegels. Dieser Objektteil enthält auch ein Verzögerungselement 114 mit der Wirkung einer λ/4-Platte, das beispielhaft als plattenförmiges Element dargestellt ist. Zwischen Strahlteiler 106 und Rückreflexionsspiegel 110 ist ein weiteres λ/4-Verzögerungselement 115 angeordnet. Der dioptrische Objektivteil 104 zwischen Strahlteiler und Bildebene 102 hat eine Vielzahl von Linsen, von denen beispielhaft eine Positivlinse 116 gezeigt ist. Die Krümmungsmittelpunkte der Linsen des dioptrischen Objektivteils 104 legen die Lage des bildseitigen Teils 117 der optischen Achse fest, um den das Bildfeld zentriert ist. Der objektseitige Teil 112 und der bildseitige Teil 117 der optischen Achse verlaufen koaxial, so dass Objektfeld und Bildfeld wie bei einem rotationssymmetrischen, rein refraktiven Projektionsobjektiv zueinander zentriert sind. Dies erleichtert den Einbau solcher Objektive in Projektionsbelichtungsanlagen erheblich.Between the object level 101 and the beam splitter 106 is arranged positive refractive power, which is exemplified by a positive lens 111 is symbolized. Embodiments which have negative refractive power in this area or are essentially free of refractive power are also possible. The optical components between object level 101 and beam splitter 106 define the position of the part on the object side 112 the optical axis around which the object field is centered. Immediately in front of the beam splitter is a delay element 113 arranged with the effect of a λ / 4 plate, for example as a free-standing plate or as one on the entry side of the beam splitter 106 blasted plate can be formed. Between the beam splitter 106 and the concave mirror 105 can be arranged differently from the illustration one or more lenses, for example one or more lenses with negative refractive power in the vicinity of the concave mirror. This object part also contains a delay element 114 with the effect of a λ / 4 plate, which is shown as an example as a plate-shaped element. Between beam splitter 106 and rear reflection mirror 110 is another λ / 4 delay element 115 arranged. The dioptric lens part 104 between beam splitter and image plane 102 has a variety of lenses, one of which is a positive lens 116 is shown. The centers of curvature of the lenses of the dioptric lens part 104 lay the location of the image-side part 117 the optical axis around which the image field is centered. The part on the object side 112 and the image part 117 The optical axis runs coaxially, so that the object field and image field are centered on one another as in a rotationally symmetrical, purely refractive projection objective. This considerably simplifies the installation of such lenses in projection exposure systems.

Das Projektionsobjektiv 100 ist für den Betrieb mit zirkular polarisiertem Eingangslicht ausgebildet. Nach Durchtritt durch die Objektebene, in der sich das Retikel befindet, wird das zirkular polarisierte Licht mittels der Verzögerungsplatte 113 in linear polarisiertes Licht umgewandelt, welches in Bezug auf die Strahlteilerschicht 107 s-polarisiert ist und von dieser weitgehend vollständig in Richtung zum Konkavspiegel 105 reflektiert wird. Das Licht trifft nach Durchtritt durch die λ/4-Platte 114 zirkularpolarisiert auf den Konkavspiegel und ist nach Reflexion an diesem und nochmaligem Durchtritt durch das Verzögerungselement 114 in Bezug auf die Strahlteilerschicht 107 p-polarisiert. Aufgrund der p-Polarisation wird dieses Licht von der Strahlteilerschicht 107 überwiegend transmittiert. Es trifft auf das zwischen Strahlteiler und Rückreflexionsspiegel 110 angeordnete Verzögerungselement 115, wird erneut in zirkulare Polarisation überführt, um nach Reflexion am Planspiegel 110 und zweitem Durchtritt durch die λ/4-Verzögerungsplatte 115 mit s-Polarisation vorzuliegen. Dieses Licht trifft nun auf die der Bildebene zugewandte Rückseite der Strahlteilerschicht 107 und wird von dieser Richtung Bildebene weitgehend vollständig reflektiert. Im Ergebnis liegen somit die Achsen der Strahlbündel auf der Objektseite, d.h. vor Eintritt in den Strahlteiler, und auf der Bildseite, d.h. nach Austritt aus der gegenüberliegenden Seite Strahlteilers, koaxial zueinander.The projection lens 100 is designed for operation with circularly polarized input light. After passing through the object plane in which the reticle is located, the circularly polarized light is generated by means of the retardation plate 113 converted to linearly polarized light which is related to the beam splitter layer 107 is s-polarized and largely completely towards the concave mirror 105 is reflected. The light hits after passing through the λ / 4 plate 114 circularly polarized on the concave mirror and is after reflection at this and repeated passage through the delay element 114 with respect to the beam splitter layer 107 p-polarized. Because of the p-polarization, this light is emitted by the beam splitter layer 107 predominantly transmitted. It hits that between the beam splitter and the back reflection mirror 110 arranged delay element 115 , is again converted into circular polarization in order to reflect on the plane mirror 110 and second passage through the λ / 4 delay plate 115 with s-polarization. This light now strikes the back of the beam splitter layer facing the image plane 107 and is largely completely reflected from this direction of the image plane. As a result, the axes of the beam bundles are coaxial to one another on the object side, ie before entering the beam splitter, and on the image side, ie after exiting from the opposite side of the beam splitter.

Im refraktiven Objektivteil 104 kann zwischen Strahlteiler und Bildebene noch eine weitere λ/4-Verzögerungseinrichtung vorgesehen sein, die das s-polarisierte Licht in zirkular polarisiertes Licht umwandelt, mit welchem dann die Abbildung im wesentlichen frei von durch Polarisationseffekte verursachte, strukturrichtungsabhängige Auflösungsunterschiede erfolgen kann.In the refractive lens part 104 For example, a further λ / 4 delay device can be provided between the beam splitter and the image plane, which converts the s-polarized light into circularly polarized light, with which the imaging can then take place essentially free of resolution differences depending on the structure direction and caused by polarization effects.

Die einzige Strahlteilerfläche 107 des Strahlteilers 106 wird somit zweimal in Reflexion genutzt, wobei zwischen der ersten und der zweiten Reflexion eine Transmission durch die Strahlteilerschicht erfolgt. Jeweils zwischen den Wechselwirkungen des Lichts mit der Strahlteilerschicht erfolgt eine Drehung der Polarisationsvorzugsrichtung des Lichtes um 90°.The only beam splitter area 107 of the beam splitter 106 is thus used twice in reflection, with a transmission through the beam splitter layer taking place between the first and the second reflection. Between the interactions of the light with the beam splitter layer, the polarization preferred direction of the light is rotated by 90 °.

Die beidseitig reflektierende Strahlteilerschicht 107 ist ein Interferenzschichtsystem mit einer Vielzahl von Schichten aus dielektrischem Material, wobei Schichten mit hochbrechendem und niedrigbrechendem Material abwechselnd übereinander angeordnet sind. Die beidseitige Reflexion wird dadurch gefördert, dass das Schichtsystem in Bezug auf eine mittig im Schichtsystem liegende Symmetrieebene im wesentlichen symmetrisch aufgebaut ist, so dass das von der Objektebene und das vom Rückreflexionsspiegel 110 kommende Licht im wesentlichen die gleiche Schichtenfolge "sehen".The beam splitter layer reflecting on both sides 107 is an interference layer system with a multiplicity of layers of dielectric material, layers with high refractive index and low refractive index material being arranged alternately one above the other. The reflection on both sides is promoted by the fact that the layer system is constructed essentially symmetrically with respect to a plane of symmetry lying centrally in the layer system, so that that of the object plane and that of the back reflection mirror 110 coming light essentially "see" the same layer sequence.

Das Projektionsobjektiv kann mit hohen numerischen Aperturen von typischer Weise mehr als 0,7 oder 0,8 betrieben werden. Die hohen Aperturen bedingen, dass Licht aus einem großen Inzidenzwinkelbereich von beispielsweise 45° ± (2° bis 10°) auf die Strahlteilerschicht fällt. Insbesondere unter diesen Bedingungen ist es möglich, dass ein kleiner Teil des s-polarisierten Lichtes von der Strahlteilerschicht transmittiert wird. Da dieses Licht nicht den vom optischen Design vorgesehen Lichtweg verfolgt, insbesondere den Konkavspiegel 105 verfehlt, kann sich von diesem Licht nur ein stark defokussiertes "Bild" in der Bildebene 102 ausbilden. Der Großteil dieses Falschlichts kann z.B. durch eine Blende an einem gegebenenfalls gebildeten Zwischenbild oder an anderer Stelle im Objektiv ausgeblockt werden. Die verbleibende, nahe am Hauptstrahl der Abbildung liegende Intensität kann im Bild toleriert werden, da sie gegebenenfalls nur einen niedrigen Untergrund repräsentiert.The projection lens can be operated with high numerical apertures, typically more than 0.7 or 0.8. The high apertures mean that light from a large incidence angle range of, for example, 45 ° ± (2 ° to 10 °) falls on the beam splitter layer. Under these conditions in particular, it is possible for a small part of the s-polarized light to be transmitted by the beam splitter layer. Since this light does not follow the light path provided by the optical design, especially the concave mirror 105 If this light is missed, only a strongly defocused "image" in the image plane can escape 102 form. The majority of this false light can be blocked out, for example, by a diaphragm on an intermediate image that may be formed or elsewhere in the lens. The remaining intensity, which is close to the main beam of the image, can be tolerated in the image, since it may represent only a low background.

Falschlicht in p-Polarisation kann beispielsweise aufgrund der Restreflektivität der Strahlteilerschicht 107 für p-polarisiertes Licht, Reflexionen an Retikel und Transmission an der Strahlteilerschicht 107 auftreten. Dieses Falschlicht kann durch einen geeigneten Polarisator abgefangen werden, falls dies erforderlich sein sollte.False light in p-polarization can occur, for example, due to the residual reflectivity of the beam splitter layer 107 for p-polarized light, reflections on reticles and transmission on the beam splitter layer 107 occur. This false light can be intercepted by a suitable polarizer if necessary.

In 2 ist eine zweite Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektivs gezeigt. Gleiche oder entsprechende Elemente tragen entsprechende Bezugszeichen wie bei der ersten Ausführungsform, jeweils erhöht um 100. Das Projektionsobjektiv 200 hat zwischen seiner Objektebene 201 und der nicht gezeigten Bildebene, die parallel zur Objektebene ausgerichtet ist, einen katadioptrischen Objektivteil 203 und einen hinter dem Strahlteiler 206 beginnenden dioptrischen Objektivteil 204, in welchem unmittelbar hinter dem Strahlteiler 206 ein ebener Umlenkspiegel 220 in 45° zur optischen Achse angeordnet ist. Der katadioptrische Objektivteil umfasst einen als Hauptspiegel dienenden Konkavspiegel 205, den Strahlteiler 206 und einen als Konkavspiegel ausgebildeten Rückreflexionsspiegel 210, der auf der der Objektebene 201 gegenüberliegenden Seite des Strahlteilers 206 angeordnet ist. Die in einem Winkel von 45° zum objektseitigen Teil 212 der optischen Achse gekippte Strahlteilerschicht 207 ist parallel zum Umlenkspiegel 220 derart ausgerichtet, dass ihre der Objektebene 201 zugewandte Eintrittsseite dem Konkavspiegel 205 abgewandt ist. Der objektseitige Teil 212 und der bildseitige Teil 217 der optischen Achse haben einen Achsabstand 230, der im wesentlichen mit dem senkrecht zu den optischen Achsen 212, 217 gemessenen Abstand zwischen Strahlteilerfläche 207 und Umlenkspiegel 220 übereinstimmt. Zwischen Objektebene und Strahlteiler, Strahlteiler und Konkavspiegel 205 sowie Strahlteiler und Rückreflexionsspiegel 210 sind jeweils Verzögerungselemente 213, 214, 215 mit der Wirkung von λ/4-Platten vorgesehen.In 2 a second embodiment of a projection lens according to the invention is shown. The same or corresponding elements have the same reference numerals as in the first embodiment, each increased by 100. The projection lens 200 has between its object level 201 and the image plane, not shown, which is aligned parallel to the object plane, a catadioptric lens part 203 and one behind the beam splitter 206 beginning dioptric lens part 204 , in which immediately behind the beam splitter 206 a flat deflecting mirror 220 is arranged at 45 ° to the optical axis. The catadioptric lens part comprises a concave mirror serving as the main mirror 205 , the beam splitter 206 and a rear reflection mirror designed as a concave mirror 210 that on the of the object level 201 opposite side of the beam splitter 206 is arranged. The at an angle of 45 ° to the object side 212 beam splitter layer tilted along the optical axis 207 is parallel to the deflecting mirror 220 aligned so that its the object plane 201 entrance side facing the concave mirror 205 is turned away. The part on the object side 212 and the image part 217 the optical axis have a center distance 230 which is essentially perpendicular to the optical axes 212 . 217 measured distance between beam splitter surface 207 and deflecting mirror 220 matches. Between object level and beam splitter, beam splitter and concave mirror 205 as well as beam splitters and rear reflection mirrors 210 are each delay elements 213 . 214 . 215 provided with the effect of λ / 4 plates.

Das Projektionsobjektiv 200 ist für einen Betrieb mit zirkular polarisiertem Licht ausgelegt, welches das Retikel durchsetzt und nach Durchtritt durch die λ/4-Platte 213 in Bezug auf die Strahlteilerschicht 207 p-polarisiert ist. Wird vom Beleuchtungssystem p-polarisiertes Licht bereitgestellt, so kann die Verzögerungseinrichtung 213 entfallen. Das p-polarisierte Licht wird von der Strahlteilerschicht 207 in Richtung des konkaven Rückreflexionsspiegels 210 durchgelassen, von diesem Richtung Strahlteilerfläche rückreflektiert und durch die im zweimaligen Durchtritt betriebene λ/4-Platten 215 in s-polarisiertes Licht umgewandelt, welches von der Strahlteilerschicht 207 Richtung Konkavspiegel 205 reflektiert wird. Nach zweimaligem Durchtritt durch die λ/4-Platte 214 und Reflexion am Konkavspiegel 205 trifft das nun wieder p-polarisierte Licht erneut auf die Strahlteilerschicht 207 und wird von dieser Richtung Umlenkspiegel 220 durchgelassen, welcher das Licht Richtung Bildebene umlenkt.The projection lens 200 is designed for operation with circularly polarized light, which passes through the reticle and after passing through the λ / 4 plate 213 with respect to the beam splitter layer 207 is p-polarized. If the illumination system provides p-polarized light, the delay device can 213 omitted. The p-polarized light is emitted by the beam splitter layer 207 towards the concave rear reflection mirror 210 transmitted, reflected from this direction by the beam splitter surface and through the λ / 4 plates operated in two passes 215 converted into s-polarized light from the beam splitter layer 207 Direction concave mirror 205 is reflected. After two passes through the λ / 4 plate 214 and reflection on the concave mirror 205 the p-polarized light hits the beam splitter layer again 207 and is deflecting mirror from this direction 220 transmitted, which deflects the light towards the image plane.

Bei dieser Ausführungsform wird die Strahlteilerschicht 207 somit zweimal in Transmission und bei der dazwischenliegenden Wechselwirkung in Reflexion betrieben.In this embodiment, the beam splitter layer 207 thus operated twice in transmission and with the interaction between them in reflection.

Das Abbildungssystem 200 ist objektseitig und bildseitig streng telezentrisch. Die Telezentrie im Objektraum wird durch die positive katadioptrische Gruppe mit dem konkaven Rückreflexionsspiegel 210 unmittelbar hinter dem Strahlteilerwürfel 206 sichergestellt. Diese Gruppe befindet sich im optischen Nahbereich der Objektebene, in dem die Randstrahlhöhen kleiner sind als die Hauptstrahlhöhe. Die positive Brechkraft die ser katadioptrischen Gruppe kann so bemessen sein, dass zwischen der Objektebene 201 und dem Strahlteilerwürfel keine positive Brechkraft erforderlich ist. Entsprechend hat die gezeigte Ausführungsform in diesem Objektivbereich zwischen Objektebene 201 und dem Strahlteiler 206 zusätzlich zum Verzögerungselement 213 lediglich eine planparallele Eintrittsplatte 221. Die positive Brechkraft der den konkaven Rückreflexionsspiegel 210 umfassenden positiven katadioptrischen Gruppe nach dem Strahlteilerwürfel kann so bemessen sein, dass wegen einer genügenden chromatischen Überkorrektion im Zwischenbild vor dem Haupt-Konkavspiegel 205 nur eine Negativlinse 222 erforderlich ist.The imaging system 200 is strictly telecentric on the object and image side. The telecentricity in the object space is determined by the positive catadioptric group with the concave back reflection mirror 210 immediately behind the beam splitter cube 206 ensured. This group is located in the optical close range of the object plane, in which the marginal beam heights are smaller than the main beam height. The positive refractive power of this catadioptric group can be such that between the object plane 201 and the beam splitter cube does not require a positive refractive power. Accordingly, the embodiment shown has in this objective area between the object plane 201 and the beam splitter 206 in addition to the delay element 213 just a plane-parallel entry plate 221 , The positive refractive power of the concave back reflection mirror 210 comprehensive positive catadioptric group after the beam splitter cube can be dimensioned such that due to sufficient chromatic over-correction in the intermediate image in front of the main concave mirror 205 just a negative lens 222 is required.

Die Ausführungsform gemäß 2 kommt ohne Positivlinsen im Bereich um den Strahlteiler aus und kann entsprechend materialsparend und kompakt aufgebaut sein. Es gibt auch Ausführungsformen, bei denen zwischen dem Strahlteiler und dem Rückreflexionsspiegel und/oder zwischen dem Strahlteiler und dem Umlenkspiegel 220 positive Brechkraft angeordnet ist.The embodiment according to 2 works without positive lenses in the area around the beam splitter and can be constructed in a material-saving and compact manner. There are also embodiments in which between the beam splitter and the back reflection mirror and / or between the beam splitter and the deflecting mirror 220 positive refractive power is arranged.

Anhand von 3 wird eine dritte Ausführungsform erläutert. Elemente und Baugruppen dieser Ausführungsform tragen Bezugszeichen, die denen von entsprechenden Elementen und Baugruppen der vorher erläuterten Ausführungsform, vermehrt um 100, entsprechen.Based on 3 a third embodiment will be explained. Elements and assemblies of this embodiment have reference numerals which correspond to those of corresponding elements and assemblies of the previously explained embodiment, increased by 100.

Das Projektionsobjektiv 300 hat zwischen Objektebene 301 und Bildebene 302 einen katadioptrischen erster Objektivteil 303 und dahinter einen dioptrischen zweiten Objektivteil 304. Der katadioptrische Objektivteilumfasst einen Konkavspiegel 305 und einen physikalischen Strahlteiler 306, dem auf der dem Hauptspiegel 305 gegenüberliegenden Seite ein ebener Rückreflexionsspiegel 310 zugeordnet ist. Der Strahlteiler 306 hat zwei Strahlteilerschichten 307 und 307', die jeweils um 45° gegenüber dem objektseitigen Teil 312 bzw. dem bildseitigen Teil 317 der optischen Achse gekippt sind. Der senkrecht zu diesen Teilen der opti scher Achse gemessene Schichtabstand 322 bestimmt den Achsabstand 323 zwischen den Teilen 312 und 317 der optischen Achse. Somit kann der Achsabstand bzw. Lateralversatz (OIS) 323 zwischen Objektfeld und Bildfeld durch geeignete Wahl der Dicke einer zwischen den Strahlteilerschichten 307, 307' anzuordnenden, planparallelen, transparenten Platte beliebig eingestellt werden.The projection lens 300 has between object level 301 and image plane 302 a catadioptric first lens part 303 and behind it a dioptric second lens part 304 , The catadioptric lens part includes a concave mirror 305 and a physical beam splitter 306 that on the the main mirror 305 on the opposite side is a flat reflection mirror 310 assigned. The beam splitter 306 has two beam splitter layers 307 and 307 ' , each by 45 ° to the object-side part 312 or the part on the image side 317 the optical axis are tilted. The layer distance measured perpendicular to these parts of the optical axis 322 determines the center distance 323 between the parts 312 and 317 the optical axis. Thus, the center distance or lateral offset (OIS) 323 between object field and image field by suitable choice of the thickness of one between the beam splitter layers 307 . 307 ' to be arranged, plane-parallel, transparent plate can be set as desired.

Das Projektionsobjektiv 300 hat zwischen Objektebene und Strahlteiler eine planparallele Eintrittsplatte 330 und eine zur Objektebene gekrümmte Positivlinse 331. Zwischen dem Strahlteiler und dem als Hauptspiegel dienenden Konkavspiegel 305 sind unmittelbar vor diesem zwei Negativ-Meniskuslinsen 332, 333 angeordnet, die zusammen mit diesem einen wesentlichen Beitrag zur chromatischen Korrektur des Systems leisten. Wie bei den anderen Ausführungsformen ist negative Linsenbrechkraft in der Nähe des Konkavspiegels 305 (bzw. 105 oder 205) geeignet, Farblängsfehler des zweiten Objektivteils zu kompensieren. Der katadioptrische Objektivteil ist so ausgelegt, dass mit Abstand hinter der Austrittsseite des Strahlteilers ein Zwischenbild 340 mit einem Abbildungsmaßstab zwischen ca. 0,95 und ca. 1,05 erzeugt wird. Dieses wird durch die Linsen des katadioptrischen Objektivteils 103 im verkleinerten Maßstab in die Bildebene 302 abgebildet. In der Nähe des Zwischenbildes sitzt eine Feldblende 334. Deren Blendenöffnung 335 kann in Bezug auf das von der Objektebene divergent ausgehende Strahlbündel 336 so angeordnet werden, dass eine Verlängerung dieses Strahlbündels durch den Strahlteiler hindurch außerhalb der Blendenöffnung die Ebene der Feldblende schneidet. Damit wird Licht, welches aufgrund unvollständiger Wirkung der Strahlteilerschichten direkt durch den Strahlteiler hindurch strahlt, vollständig ausgeblendet und kann nicht als Falschlicht in die Bildebene 303 gelangen.The projection lens 300 has a plane-parallel entry plate between the object plane and the beam splitter 330 and a positive lens curved to the object plane 331 , Between the beam splitter and the concave mirror serving as the main mirror 305 are immediately in front of this two negative meniscus lenses 332 . 333 arranged, which together with this make a significant contribution to the chromatic correction of the system. As with the other embodiments, negative lens power is near the concave mirror 305 (respectively. 105 or 205 ) suitable to compensate for longitudinal color errors of the second lens part. The catadioptric lens part is designed so that an intermediate image is located at a distance behind the exit side of the beam splitter 340 with a magnification between approximately 0.95 and approximately 1.05. This is due to the lenses of the catadioptric lens part 103 on a smaller scale in the image plane 302 displayed. A field diaphragm sits near the intermediate image 334 , Their aperture 335 can with respect to the beam of rays diverging from the object plane 336 be arranged so that an extension of this beam through the beam splitter intersects the plane of the field diaphragm outside the aperture. In this way, light which radiates directly through the beam splitter due to the incomplete effect of the beam splitter layers is completely masked out and cannot enter the image plane as false light 303 reach.

Es ist ersichtlich, dass der in die Bildebene gelangende Anteil von Falschlicht durch geeignete Einstellung des Achsversatzes 323 beliebig weit reduziert werden kann. Wird der Achsabstand beispielsweise kleiner gewählt, so dass ein Randanteil des Strahlbündels 336 noch in die Blendenöffnung 335 fallen kann, kann hierdurch ein geringfügiger Falschlichtanteil entstehen. Der Achsabstand 323 kann bei dieser Konstruktion somit in Abhängigkeit von dem in der Bildebene 303 tolerierbaren Falschlichtanteil eingestellt werden. It can be seen that the proportion of false light entering the image plane is suitably adjusted by the axis offset 323 can be reduced as much as desired. If the center distance is chosen to be smaller, for example, so that an edge portion of the beam 336 still in the aperture 335 can fall, this can result in a small proportion of false light. The wheelbase 323 can with this construction depending on that in the image plane 303 tolerable amount of false light can be set.

Das Projektionsobjektiv und das nicht gezeigte, vorgeschaltete Beleuchtungssystem wird so aufeinander abgestimmt, dass das von der Objektebene auf die erste Strahlteilerschicht 307 fallende Licht in Bezug zu dieser s-polarisiert ist und somit zum Konkavspiegel 305 reflektiert wird. Durch ein nicht gezeigtes λ/4-Verzögerungselement, welches zwischen Strahlteiler und Konkavspiegel 305 angeordnet ist und im zweifachen Durchtritt betrieben wird, wird das vom Konkavspiegel zurückkommende Licht bezüglich der Strahlteilerschicht 307 p-polarisiert und somit von dieser in Richtung der zweiten Strahlteilerschicht 307' transmittiert. Diese transmittiert das Licht weiter Richtung Planspiegel 310, vor dem sich ein λ/4-Verzögerungselement befindet. Somit ist das vom Spiegel 310 reflektierte und wieder in den Strahlteiler 306 eintretende Licht s-polarisiert und wird von der zweiten Strahlteilerschicht 307' Richtung Bildebene 303 reflektiert.The projection lens and the upstream lighting system, not shown, are coordinated with one another such that that from the object plane onto the first beam splitter layer 307 falling light in relation to this is s-polarized and thus to the concave mirror 305 is reflected. By a λ / 4 delay element, not shown, which is between the beam splitter and the concave mirror 305 is arranged and is operated in double passage, the light coming back from the concave mirror with respect to the beam splitter layer 307 p-polarized and thus from this towards the second beam splitter layer 307 ' transmitted. This transmits the light further towards the plane mirror 310 , in front of which there is a λ / 4 delay element. So that's from the mirror 310 reflected and back into the beam splitter 306 incoming light is s-polarized and is from the second beam splitter layer 307 ' Towards the image plane 303 reflected.

Der Strahlteiler ist somit so aufgebaut, dass der Lichtweg innerhalb des Strahlteilers zwei Transmissionen und zwei Reflexionen an einer Strahlteilerschicht umfasst, wobei an jeder der Strahlteilerschicht 307, 307' jeweils eine Reflexion und eine Transmission stattfindet. Die Interferenz-Mehrschichtsysteme für die Strahlteilerschichten können aufgrund dieser Nutzung einen geeigneten konventionellen Aufbau haben.The beam splitter is thus constructed such that the light path within the beam splitter comprises two transmissions and two reflections on a beam splitter layer, with each of the beam splitter layers 307 . 307 ' reflection and transmission take place. The interference multilayer systems for the beam splitter layers can have a suitable conventional structure due to this use.

Bei einer oder mehreren Ausführungsformen der Erfindung können die folgenden besonderen Merkmale einzeln oder in Kombination vorgesehen sein. Der zweite, normalerweise rein refraktive Objektivteil kann verkleinernd wirken, während der katadioptrische Objektivteil normalerweise eine Vergrößerung nahe 1 hat, d.h. nicht oder nur schwach verkleinernd oder vergrößernd wirkt. In der Nähe des Haupt-Konkavspiegels des katadioptrischen Teils ist vorzugsweise eine zerstreuende Linse oder Linsengruppe angeordnet, deren Linsenbrechkraft wesentlich zur Kompensation von Farblängsfehlern des zweiten Objektivteils beiträgt. Vorzugsweise sind hier mindestens zwei, insbesondere genau zwei Zerstreuungslinsen angeordnet. Der Linsendurchmesser der mindestens einen, in der Nähe des Konkavspiegels liegenden Negativlinse sollte etwa gleich oder größer sein als die Linsendurchmesser von Linsen im Bereich der bildnahen Blendenebene im zweiten Objektivteil. In der Regel ist eine physikalische Blende (Aperturblende) zur Begrenzung und Einstellung der genutzten Apertur vorgesehen. Sie ist normalerweise verstellbar. Je nach Konstruktion kann die physikalische Blende in der Nähe des Konkavspiegels im katadioptrischen Teil oder im Bereich der dazu konjugierten Blendenebene im refraktiven zweiten Objektivteil liegen.In one or more embodiments of the invention, the following special features can be provided individually or in combination. The second, normally purely refractive lens part can have a reducing effect, while the catadioptric lens part normally has a magnification close to 1, ie does not have a reducing effect or only slightly reduces or enlarges. A diverging lens or lens group is preferably arranged in the vicinity of the main concave mirror of the catadioptric part, the lens power of which contributes significantly to the compensation of longitudinal color errors of the second lens part. At least two, in particular exactly two, diverging lenses are preferably arranged here. The lens diameter of the at least one negative lens located in the vicinity of the concave mirror should be approximately the same or larger than the lens diameter of lenses in the area of the near-image diaphragm plane in the two lens part. As a rule, a physical diaphragm (aperture diaphragm) is provided to limit and adjust the aperture used. It is usually adjustable. Depending on the construction, the physical diaphragm can be in the vicinity of the concave mirror in the catadioptric part or in the region of the diaphragm plane conjugated to it in the refractive second objective part.

Es kann fertigungstechnisch günstig sein, alle Linsen oder zumindest 90% oder mehr der Linsen aus einem einzigen Material zu fertigen. Die Verwendung eines zweiten Materials für die chromatische Korrektur kann bei katadioptrischen Systemen ggf. vermieden werden. Als Linsenmaterial kann synthetisches Quarzglas benutzt werden, vor allem bei Arbeitswellenlängen von 248nm oder 193nm. Bei kürzeren Wellenlängen, insbesondere 157nm oder darunter, wird bevorzugt Fluoridkristallmaterial verwendet, insbesondere Kalziumfluorid (CaF2), ggf. auch Bariumfluorid oder Lithiumfluorid. Bei Verwendung von Fluoridkristallmaterialen ist zu beachten, dass diese Materialien intrinsische Doppelbrechung zeigen. Es kann günstig sein, Linsenmaterial mit mindestens zwei verschiedenen Kristallstrukturrichtungen bzw. kristallographischen Orientierungen einzusetzen, um die Doppelbrechung der Linsen mindestens teilweise zu kompensieren. Der Strahlteiler kann bei 248nm aus synthetischem Quarzglas gefertigt werden, bei 193nm kann wahlweise synthetisches Quarzglas oder Kalziumfluorid zum Einsatz kommen, für Wellenlängen von 157nm oder darunter wird bevorzugt Kalziumfluorid verwendet.In terms of manufacturing technology, it can be favorable to manufacture all lenses or at least 90% or more of the lenses from a single material. The use of a second material for the chromatic correction can possibly be avoided in catadioptric systems. Synthetic quartz glass can be used as the lens material, especially at working wavelengths of 248nm or 193nm. At shorter wavelengths, in particular 157 nm or less, fluoride crystal material is preferably used, in particular calcium fluoride (CaF 2 ), possibly also barium fluoride or lithium fluoride. When using fluoride crystal materials, it should be noted that these materials show intrinsic birefringence. It can be advantageous to use lens material with at least two different crystal structure directions or crystallographic orientations in order to at least partially compensate for the birefringence of the lenses. The beam splitter can be made from synthetic quartz glass at 248nm, synthetic quartz glass or calcium fluoride can be used at 193nm, calcium fluoride is preferred for wavelengths of 157nm or less.

Claims (25)

Katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs mit: einer optischen Achse; einem katadioptrischen ersten Objektivteil (103, 203, 303); der einen Konkavspiegel (105, 205, 305) und einen physikalischen Strahlteiler (106, 206, 306) mit mindestens einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht (107, 107'', 207, 307, 307'') umfasst, sowie einem zweiten Objektivteil (104, 204, 304), wobei in einem den Konkavspiegel (105, 205, 305) einschließenden Lichtweg ein Rückreflexionsspiegel (110, 210, 310) zur Rückreflexion von aus dem Strahlteiler kommenden Strahlung in Richtung des Strahlteilers (106, 206, 306) angeordnet ist.Catadioptric projection lens for imaging a pattern arranged in the object plane of the projection lens into the image plane of the projection lens with: an optical axis; a catadioptric first lens part ( 103 . 203 . 303 ); one concave mirror ( 105 . 205 . 305 ) and a physical beam splitter ( 106 . 206 . 306 ) with at least one polarization-selective beam splitter layer ( 107 . 107 '' . 207 . 307 . 307 '' ) and a second lens part ( 104 . 204 . 304 ), with the concave mirror ( 105 . 205 . 305 ) including a light reflection a reflection mirror ( 110 . 210 . 310 ) for the back reflection of radiation coming from the beam splitter in the direction of the beam splitter ( 106 . 206 . 306 ) is arranged. Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, bei dem der Rückreflexionsspiegel ein Planspiegel (110, 310) ist.Projection objective according to Claim 1, in which the back reflection mirror is a plane mirror ( 110 . 310 ) is. Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, bei dem der Rückreflexionsspiegel ein gekrümmter Spiegel, insbesondere ein Konkavspiegel (210) ist.Projection objective according to Claim 1, in which the rear reflection mirror is a curved mirror, in particular a concave mirror ( 210 ) is. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein objektseitiger Teil (112, 312) der optischen Achse und ein bildseitiger Teil (117, 317) der optischen Achse einen Achsabstand (323) aufweisen, der kleiner ist als der maximal genutzte Durchmesser des Strahlteilers, gemessen in Richtung des Achsabstandes.Projection objective according to one of the preceding claims, in which an object-side part ( 112 . 312 ) the optical axis and a part on the image side ( 117 . 317 ) the optical axis a center distance ( 323 ) which is smaller than the maximum diameter of the beam splitter used, measured in the direction of the center distance. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein objektseitiger Teil (112) der optischen Achse und ein bildseitiger Teil (117) der optischen Achse koaxial verlaufen.Projection objective according to one of the preceding claims, in which an object-side part ( 112 ) the optical axis and a part on the image side ( 117 ) of the optical axis run coaxially. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Strahlteilerschicht (107) als beidseitig reflektierende Schicht ausgebildet ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the beam splitter layer ( 107 ) is designed as a reflective layer on both sides. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Strahlteilerschicht (207) als beidseitig transmittierende Schicht ausgebildet ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the beam splitter layer ( 207 ) is designed as a layer that transmits on both sides. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Strahlteilerschicht (107, 207) ein Mehrfach-Interferenz-Schichtsystem mit einem Schichtaufbau ist, der bezüglich einer innerhalb der Strahlteilerschicht liegenden Symmetrieebene im wesentlichen symmetrisch ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the beam splitter layer ( 107 . 207 ) is a multiple interference layer system with a layer structure which is essentially symmetrical with respect to a plane of symmetry lying within the beam splitter layer. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem hinter dem Strahlteiler (306) im zweiten Objektivteil (304) eine Feldblende (334) angeordnet ist, wobei eine Blendenöffnung (335) der Feldblende außerhalb einer Verlängerung eines von der Objektebene (301) auf den Strahlteiler treffenden Strahlbündels (336) liegt.Projection objective according to one of the preceding claims, in which behind the beam splitter ( 306 ) in the second part of the lens ( 304 ) a field diaphragm ( 334 ) is arranged, with an aperture ( 335 ) the field diaphragm outside an extension of one of the object level ( 301 ) of the beam bundle hitting the beam splitter ( 336 ) lies. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zwischen der Objektebene und der Bildebene mindestens ein Zwischenbild (231, 340) erzeugt wird.Projection objective according to one of the preceding claims, in which at least one intermediate image (between the object plane and the image plane ( 231 . 340 ) is produced. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Strahlteiler (306) eine erste Strahlteilerschicht (307) und mindestens eine zweite Strahlteilerschicht (307') aufweist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the beam splitter ( 306 ) a first beam splitter layer ( 307 ) and at least one second beam splitter layer ( 307 ' ) having. Projektionsobjektiv nach Anspruch 11, bei dem die erste Strahlteilerschicht (307) und die zweite Strahlteilerschicht (307') um einen Schichtabstand (322) parallel versetzt zueinander angeordnet sind.Projection objective according to Claim 11, in which the first beam splitter layer ( 307 ) and the second beam splitter layer ( 307 ' ) by one layer distance ( 322 ) are staggered parallel to each other. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem ein Bereich zwischen Objektebene (201) und Strahlteiler (206) im wesentlichen brechkraftfrei ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which an area between the object plane ( 201 ) and beam splitter ( 206 ) is essentially free of refractive power. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zwischen Objektebene (201) und Strahlteiler (206) keine Positivlinse angeordnet ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which between the object plane ( 201 ) and beam splitter ( 206 ) no positive lens is arranged. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem eine im optischen Nahbereich der Objektebene (201) angeordnete positive Brechkraft im wesentlichen durch einen gekrümmten Rückreflexionsspiegel (210) bereitgestellt wird.Projection objective according to one of the preceding claims, in which one in the optical close range of the object plane ( 201 ) arranged positive refractive power essentially by a curved reflection mirror ( 210 ) provided. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem eine objektseitige Telezentrie im wesentlichen von einem in Reflexion wirksamen optischen Element (210) eingestellt wird.Projection objective according to one of the preceding claims, in which an object-side telecentricity essentially consists of an optical element ( 210 ) is set. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der zweite Objektivteil (104, 204, 304) rein refraktiv aufgebaut ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the second objective part ( 104 . 204 . 304 ) is constructed purely refractive. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der zweite Objektivteil (104, 204, 304) verkleinernd wirkt.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the second objective part ( 104 . 204 . 304 ) has a reducing effect. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem in der Nähe des Konkavspiegels (105, 205, 305) eine zerstreuende Linsengruppe angeordnet ist, insbesondere mit mindestens zwei Zerstreuungslinsen (332, 333).Projection objective according to one of the preceding claims, in which near the concave mirror ( 105 . 205 . 305 ) a diverging lens group is arranged, in particular with at least two diverging lenses ( 332 . 333 ). Projektionsobjektiv nach Anspruch 19, bei dem die mindestens eine Linse der zerstreuenden Linsengruppe einen Linsendurchmesser hat, der im wesentlichen gleich oder größer ist als Linsendurchmesser im Bereich einer bildfeldnahen Blendenebene des Projektionsobjektivs.A projection lens according to claim 19, wherein the at least one lens of the diverging lens group has a lens diameter which is substantially equal to or larger than the lens diameter in the area of an aperture plane of the projection lens close to the image field. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem eine Aperturblende, insbesondere mit verstellbarem Blendendurchmesser, in der Nähe des Konkavspiegels (105, 205, 305) oder im zweiten Objektivteil angeordnet ist.Projection objective according to one of the preceding claims, in which an aperture diaphragm, in particular with an adjustable diaphragm diameter, in the vicinity of the concave mirror ( 105 . 205 . 305 ) or is arranged in the second lens part. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem mindestens 90% aller transparenten optischen Komponenten, insbesondere aller Linsen, aus dem gleichen Material bestehen, wobei vorzugsweise alle transparenten optischen Komponenten, insbesondere alle Linsen, aus dem gleichen Material gefertigt sind.Projection lens according to one of the preceding Expectations, where at least 90% of all transparent optical components, especially all lenses, made of the same material, whereby preferably all transparent optical components, in particular all lenses are made of the same material. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem als Material für transparente optische Komponenten, insbesondere für die Linsen, bei Arbeitswellenlängen von 248nm oder 193nm synthetisches Quarzglas (SiO2) und bei Arbeitswellenlängen von 157nm oder darunter ein Fluoridkristallmaterial, insbesondere Kalziumfluorid (CaF2), verwendet wird.Projection objective according to one of the preceding claims, in which as a material for transparent optical components, in particular for the lenses, at working wavelengths of 248nm or 193nm synthetic quartz glass (SiO 2 ) and at working wavelengths of 157nm or below, a fluoride crystal material, in particular calcium fluoride (CaF 2 ), is used. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Strahlteiler (106, 206, 306) bei 248nm Arbeitswellenlänge aus synthetischem Quarzglas, bei 193nm Arbeitswellenlän ge aus synthetischem Quarzglas oder Kalziumfluorid und bei 157 nm Arbeitswellenlänge oder darunter aus Kalziumfluorid besteht.Projection objective according to one of the preceding claims, in which the beam splitter ( 106 . 206 . 306 ) at 248nm working wavelength from synthetic quartz glass, at 193nm working wavelength ge from synthetic quartz glass or calcium fluoride and at 157 nm working wavelength or below from calcium fluoride. Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem für die Herstellung von transparenten optischen Komponenten ein Fluoridkristallmaterial mit intrinsischer Doppelbrechung verwendet wird, insbesondere Kalziumfluorid, wobei das Fluoridkristallmaterial zur Kompensation von Doppelbrechung mit mindestens zwei Kristallorientierungen relativ zur optischen Achse verwendet wird.Projection lens according to one of the preceding Expectations, at the for the manufacture of transparent optical components a fluoride crystal material with intrinsic birefringence, in particular calcium fluoride, the fluoride crystal material to compensate for birefringence with at least two crystal orientations relative to the optical one Axis is used.
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