DE10318003A1

DE10318003A1 - Gas-regulating/maintaining system used in a projection illumination system for the manufacture of semiconductor elements comprises a gas chamber subjected to a pressure that is higher than ambient pressure

Info

Publication number: DE10318003A1
Application number: DE2003118003
Authority: DE
Inventors: Bernhard Dipl.-Ing. Gellrich
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2003-04-19
Filing date: 2003-04-19
Publication date: 2004-11-04

Abstract

System for regulating and maintaining a gas atmosphere in an optical system, especially in an objective (2), comprises at least one optical element positioned in a first inner gas chamber (6) that is separated from a second outer gas chamber (8) by an inner sleeve (7). The two gas chambers are provided with gas inlets (10, 11) and gas outlets (12, 13). At least one of the two gas chambers is subjected to a pressure that is higher than the ambient pressure. An independent claim is also included for a projection illumination system with an illumination system and a projection objective used in the manufacture of semiconductor elements. Preferred Features: Each gas chamber is subjected to a pressure that is higher than ambient pressure.

Description

Die Erfindung betrifft ein System zum Einstellen und Aufrechterhalten einer Gasatmosphäre in einem optischen System, insbesondere in einem Objektiv mit wenigstens einem optischen Element, das in einem ersten inneren Gasraum liegt, der durch einen Innenmantel von einem zweiten äußeren Gasraum abgetrennt ist, wobei der zweite Gasraum durch einen Außenmantel von der Umgebung abgetrennt ist und wobei beide Gasräume mit getrennten Gaseinlass- und Gasauslassöffnungen versehen sind.The The invention relates to an adjustment and maintenance system a gas atmosphere in an optical system, in particular in a lens with at least an optical element located in a first inner gas space, which is separated from a second outer gas space by an inner jacket, the second gas space through an outer jacket from the environment is separated and both gas spaces with separate gas inlet and gas outlet openings are provided.

Die Erfindung betrifft auch eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem Beleuchtungssystem und einem Projektionsobjekiv zur Herstellung von Halbleiterelementen.The The invention also relates to a projection exposure system with a Lighting system and a projection lens for manufacturing of semiconductor elements.

Bei Beleuchtungssystemen mit Lichtquellen, die Strahlen mit sehr kurzen Wellenlängen, insbesondere mit 157 nm oder kürzer emittieren, entstehen Probleme bezüglich Kontamination aufgrund von Wasser, Sauerstoff und Kohlenwasserstoffen, welche die Transmission verringern. Kontaminationen erfolgen dabei durch Diffusionen von außen, durch Dichtungen oder schmale Spalte in das optische System. Es ist deshalb bereits bekannt, im Inneren eines Objektives eine hochreine Atmosphäre durch Spülen mit entsprechend gereinigtem Spülgas oder durch Aufbauen eines Überdrucks mit einer Inkaufnahme von Leckagen nach außen und einem kontinuierlichen Nachfüllen zum Aufrechterhalten des Überdrucks mit entsprechend gereinigten Gasen zu schaffen.at Lighting systems with light sources, the rays with very short Wavelengths, in particular with 157 nm or shorter emit, problems arise due to contamination of water, oxygen and hydrocarbons, which affect the transmission reduce. Contamination occurs through diffusion of Outside, through seals or narrow gaps in the optical system. It is therefore already known, a high-purity inside a lens the atmosphere by rinsing with appropriately cleaned purge gas or by building up an overpressure with an acceptance of leaks to the outside and a continuous refill to maintain the overpressure with appropriately cleaned gases.

Abgeschlossene Gasräume sind jedoch bei diesen kurzen Wellenlängen nicht mehr ausreichend. Die Gasatmosphäre im Objektivinneren ist nämlich in diesem Fall extrem rein. Dadurch ist der Partialdruck für die Kontaminationsbestandteile außerhalb des Objektivs so groß, dass trotz einer Abschottung durch unvermeidbare Undichtigkeiten Diffusionen in das Objektivinnere stattfinden. Darüber hinaus spielen kontaminierte Räume, welche von einem konventionellen Spülgasstrom nicht erreicht werden können, als Kontaminationsquelle eine immer größere Rolle, weil von ihnen aus eine Kontamination der reinen Gasräume über längere Zeit erfolgen kann.completed gas Facilities are no longer sufficient at these short wavelengths. The gas atmosphere is inside the lens extremely pure in this case. This is the partial pressure for the contamination components outside of the lens so big that despite foreclosure due to unavoidable leaks Diffusions take place inside the lens. Furthermore play contaminated spaces, which cannot be achieved by a conventional purge gas flow can as Contamination source play an increasingly important role because of them contamination of the pure gas spaces can take place over a long period of time.

Aus der WO 99/50892 ist es bereits bekannt, die optischen Elemente in einem Objektiv durch zwei Gaskammern von der Umgebung abzutrennen. Die innere Kammer ist dabei mit inaktivem Gas bzw. inertem Gas gefüllt, während die äußere Kammer als "Zwischenpuffer" gegenüber der Umgebungsluft dient. Das in der äußeren Kammer enthaltene Gas soll sauberer sein als das der Umgebungsluft. Beide Kammern sollen dabei gasdicht sein.Out WO 99/50892 already discloses the optical elements in to separate a lens from the environment through two gas chambers. The inner chamber is filled with inactive gas or inert gas, while the outer chamber as an "intermediate buffer" compared to the Ambient air serves. That in the outer chamber contained gas should be cleaner than that of the ambient air. Both chambers should be gastight.

Aus der EP 1 004 937 A2 ist ein Projektionsobjektiv bekannt, bei dem mehrere hintereinander gereihte Kammern vorgesehen sind, welche sich unabhängig voneinander öffnen lassen. Zu Servicezwecken sollen dabei einzelne Kammern geöffnet werden können, wobei die übrigen Kammern abgedichtet und gegebenenfalls separat gespült bleiben.From the EP 1 004 937 A2 a projection lens is known in which a plurality of chambers are provided, which can be opened independently of one another. For service purposes, individual chambers should be able to be opened, the other chambers being sealed and possibly being rinsed separately.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein System der eingangs erwähnten Art derart zu verbessern, dass Kontaminationen aus der Umgebung in ein optisches System, insbesondere ein Objektiv, weitgehend verhindert werden.The The present invention has for its object a system of mentioned at the beginning Kind to improve in such a way that contamination from the environment in an optical system, especially a lens, largely prevented become.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass der zweite Gasraum über eine oder mehrere Kapillaröffnungen mit der Umgebung verbunden ist, und dass beide Gasräume jeweils unter einem Druck stehen, der höher ist als der Umgebungsdruck.According to the invention Task solved by that the second gas space over one or more capillary openings connected to the environment, and that both gas spaces each to be under pressure that is higher is than the ambient pressure.

Erfindungsgemäß wird nunmehr nicht mehr eine vollständige Abschottung der einzelnen Gasräume entsprechend dem Stand der Technik versucht, sondern es werden bewusst Kapillaröffnungen geschaffen, durch die eine Verbindung des inneren Gasraumes mit dem äußeren Gasraum und zwischen den äußeren Gasraum und der Umgebung geschaffen ist. In bekannter Weise werden die Ga se in den beiden Gasräumen kontinuierlich oder diskontinuierlich ausgetauscht.According to the invention no longer a complete one Isolation of the individual gas rooms tried according to the state of the art, but become aware of it capillary created by connecting the inner gas space with the outer gas space and between the outer gas space and the environment is created. In a known manner, the Ga se in the two gas rooms exchanged continuously or discontinuously.

In einer sehr vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass auch der erste Gasraum über eine oder mehrere Kapillaröffnungen mit dem zweiten Gasraum verbunden ist.In A very advantageous development of the invention is provided that even the first gas space over one or more capillary openings is connected to the second gas space.

Da in einer weiteren sehr vorteilhaften Ausgestaltung zusätzlich vorgesehen ist, dass in dem inneren Gasraum ein höherer Druck herrscht als in dem äußeren Gasraum wird dafür gesorgt, dass durch den Überdruck ein Gasstrom über die Kapillaröffnungen in Richtung zu dem zweiten, äußeren Gasraum stattfindet, wobei Kontamination mitgenommen wird. Da auch der äußere Gasraum noch unter einem Druck steht, der höher ist als der Umgebungsdruck findet dann ein weiterer Gasaustausch auch mit der Atmosphäre statt.There provided in a further very advantageous embodiment is that there is a higher pressure in the inner gas space than in the outer gas space will for that worried that by the overpressure a gas flow over the capillary openings towards the second, outer gas space takes place, taking contamination with it. Since also the outer gas space is still under a pressure that is higher than the ambient pressure finds then another gas exchange also takes place with the atmosphere.

Anstelle des Versuches eine vollständige Abdichtung zu erreichen, was sich in der Praxis aufgrund von Diffusionen über Dichtungen und andere Verbindungsstellen nahezu nicht durchsetzen lässt, wird nunmehr durch den erfindungsgemäßen Überdruck und die Kapillaröffnung dafür gesorgt, dass gezielt ein Gasaustausch stattfindet. Dieser Gasaustausch findet allerdings gezielt nur nach außen statt, wodurch Kontaminationen vermieden werden können. Auch wenn durch hohe unterschiedliche Partialdrücke ein "Kontaminationstransfer" gegen die Gasströmungsrichtung stattfinden würde, lässt sich im inneren Gasraum eine höhere Reinheit aufrechterhalten, da der äußere Gasraum als Puffer wirkt und durch einen kontinuierlichen oder diskontinuierlichen Gasaustausch in dem äußeren Gasraum von außen eingedrungene Schadstoffe bereits aus diesem Gasraum ausgetragen werden. Auf diese Weise wird ebenfalls verhindert, dass Kontamination von außen bis in den inneren Gasraum durchdringt.Instead of trying to achieve a complete seal, which is almost impossible to achieve in practice due to diffusion through seals and other connection points, the overpressure according to the invention and the capillary opening now ensure that gas exchange takes place in a targeted manner. However, this gas exchange takes place only to the outside, which means that contamination can be avoided. Even if a "contamination transfer" against the gas is caused by high different partial pressures direction of flow would take place, a higher level of purity can be maintained in the inner gas space, since the outer gas space acts as a buffer and pollutants that have penetrated from the outside are already discharged from this gas space by a continuous or discontinuous gas exchange in the outer gas space. This also prevents contamination from penetrating from the outside into the inner gas space.

Als Gase kann man für den inneren Gasraum Helium und für den äußeren Gasraum Stickstoff oder ein anderes inertes Gas verwenden.As Gases can be used for the inner gas space helium and for the outer gas space Use nitrogen or another inert gas.

Die erfindungsgemäßen Kapillaröffnungen können durch zusätzlich angebrachte Bohrungen geschaffen werden. Die zusätzlich angebrachten Kapillarbohrungen verbinden dabei vorzugsweise Bereiche, welche von der Gasströmung nicht oder nur teilweise erfasst werden, mit dem jeweils äußeren Gasraum.The Capillary openings according to the invention can be through additionally drilled holes are created. The additional capillary holes preferably connect areas which are not affected by the gas flow or only partially recorded with the respective outer gas space.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung können die Kapillaröffnungen so ausgestaltet sein oder mit einer entsprechenden Einrichtung versehen sein, dass der Gasstrom durch die Kapillaröffnungen in seiner Menge beeinflusst werden kann.In In an advantageous embodiment, the capillary openings be designed or provided with a corresponding device be that the gas flow through the capillary openings affects its amount can be.

Der äußere Mantel des Objektives ist im allgemeinen mit einer Temperierungseinrichtung versehen. Zusätzlich kann nunmehr auch die Zwischenwand zwischen dem inneren Gasraum und dem äußeren Gasraum als Innenmantel mit einer Temperierungseinrichtung versehen sein. Durch die erfindungsgemäße Gasströmung wird auf diese Weise nicht nur eine Wärmeabfuhr durch Wärmestrahlung, sondern auch durch Konvektion erreicht, womit eine bessere Temperaturregelung für das Objektiv möglich wird.The outer coat The lens is generally equipped with a tempering device Mistake. additionally can now also the partition between the inner gas space and the outer gas space be provided as an inner jacket with a temperature control device. Due to the gas flow according to the invention in this way not just heat dissipation through heat radiation, but also achieved by convection, which means better temperature control for the Objective possible becomes.

Eine vorteilhafte weitere Ausbildung der Erfindung kann darin bestehen, dass im Bereich des ersten Gasraumes angeordnete Einrichtungen, wie Manipulatoren, welche nicht oder nur teilweise von Gas umströmt werden, gegenüber dem ersten Gasraum abgekapselt und über Kapillaröffnungen mit dem zweiten Gasraum oder direkt mit der Umgebung verbunden sind. Auf diese Weise wird vermieden, dass Kontaminationsbestandteile aus diesen schlecht gespülten Bereichen in den inneren Gasraum gelangen.A advantageous further development of the invention can consist in that devices arranged in the area of the first gas space, like manipulators that are not or only partially flowed around by gas, across from encapsulated in the first gas space and via capillary openings are connected to the second gas space or directly to the environment. This will avoid contamination components from these badly rinsed Areas in the inner gas space.

In gleicher Weise können im Bereich des zweiten Gasraumes angeordnete Einrichtungen, welche nicht oder nur teilweise von Gas umströmt werden, über Kapillaröffnungen mit der Umgebung verbunden sein.In same way Devices arranged in the area of the second gas space, which are not or only partially flowed around by gas, via capillary openings be connected to the environment.

Durch die erfindungsgemäße Lösung ist es nicht unbedingt erforderlich, dass das Gas in den einzelnen Kammern ständig ausgetauscht werden muss, sondern es können gegebenenfalls nur periodisch Spülungen vorgenommen werden. Dies gilt insbesondere für den inneren Gasraum. Zumindest kann auch bei einem kontinuierlichen Gasaustausch der Gasstrom reduziert werden, was ebenfalls zu einer Einsparung führt.By is the solution according to the invention it is not essential that the gas in each chamber constantly needs to be replaced, but it may only be periodic rinses be made. This applies in particular to the inner gas space. At least it can the gas flow is reduced even with a continuous gas exchange become, which also leads to a saving.

Die Kapillaröffnungen können in vorteilhafter Weise auch an Verbindungsstellen des Objektives, z.B. von Fassungen, bedingt durch entsprechende Spalte geschaffen werden.The capillary can advantageously also at connection points of the lens, e.g. of versions due to the corresponding column.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen ergeben sich aus den übrigen Unteransprüchen und aus dem nachfolgend anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen Ausführungsbeispiel.Further advantageous refinements and developments result from the rest dependent claims and from the principle described below with reference to the drawing Embodiment.

Die Figur zeigt schematisch eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem Beleuchtungssystem 1, das als Lichtquelle z.B. einen Laser beinhaltet, der Strahlen mit einer Wellenlänge von 157nm oder kürzer emmitiert. Zwischen dem Beleuchtungssystem 1 und einem Projektionsobjektiv 2 befindet sich ein Retikel 3, in welchem die auf einen Wafer 4 in verkleinertem Maßstab abzubildende Struktur eingebracht ist. Auf dem Wafer 4 werden entsprechend die herzustellenden Halbleiterelemente belichtet.The figure schematically shows a projection exposure system with an illumination system 1 , which contains, for example, a laser as a light source, which emits beams with a wavelength of 157 nm or shorter. Between the lighting system 1 and a projection lens 2 there is a reticle 3 in which the on a wafer 4 structure to be reproduced on a reduced scale. On the wafer 4 the semiconductor elements to be produced are exposed accordingly.

In dem Projektionsobjektiv 2 sind eine Vielzahl von optischen Elementen z.B. Linsen 5 in einem ersten Gasraum 6 angeordnet, der durch einen Innenmantel 7 von einem zweiten, äußeren Gasraum 8 abgetrennt ist. Der äußere Gasraum 8 ist durch einen Außenmantel 9 des Projektionsobjektivs 2 von der Umgebung abgetrennt. In den inneren Gasraum 6 mündet eine Gaseinlassöffnung 10 und in den äußeren Gasraum 8 mündet eine weitere Gaseinlassöffnung 11. Auf der der Einlassseite gegenüberliegenden Seite befindet sich jeweils für den inneren Gasraum 6 eine Gasauslassöffnung 12 mit einer Auslassleitung und eine Gasauslassöffnung 13 mit einer Auslassleitung für den äußeren Gasraum 8.In the projection lens 2 are a variety of optical elements such as lenses 5 in a first gas room 6 arranged by an inner jacket 7 from a second, outer gas space 8th is separated. The outer gas space 8th is through an outer jacket 9 of the projection lens 2 separated from the environment. In the inner gas room 6 opens a gas inlet opening 10 and in the outer gas space 8th opens another gas inlet opening 11 , On the side opposite the inlet side is for the inner gas space 6 a gas outlet 12 with an outlet line and a gas outlet opening 13 with an outlet pipe for the outer gas space 8th ,

Zusätzlich sorgen im Bereich von Fassungen Dichtungen 14 und 15 für eine Abdichtung.In addition, seals ensure in the area of sockets 14 and 15 for a seal.

In den Innenmantel 7 sind ein oder mehrere über den Umfang verteilt angeordnete Kapillaröffnungen 16 vorgesehen, die eine Verbindung zwischen dem inneren Gasraum 6 und dem äußeren Gasraum 8 herstellen. Weitere Kapillaröffnungen befinden sich in dem Außenmantel 9 zwischen dem jeweils äußeren Gasraum 8 und der Umgebung. Zusätzlich oder anstelle der Kapillaröffnungen 16 können auch schmale Spalte 17 an Verbindungsstellen von Flanschen als Kapillaröffnungen dienen.In the inner jacket 7 are one or more capillary openings distributed over the circumference 16 provided a connection between the inner gas space 6 and the outer gas space 8th produce. Additional capillary openings are in the outer jacket 9 between the respective outer gas space 8th and the surrounding area. In addition to or instead of the capillary openings 16 can also have narrow gaps 17 serve as capillary openings at the connection points of flanges.

Der innere Gasraum 6 wird über die Gaseinlassöffnung 10 und die Gasaunlassöffnung 12 mit Helium kontinuierlich oder diskontinuierlich durchströmt. Der äußere Gasraum 8 wird mit reinem Stickstoff über die Gaseinlassöffnung 11 und die Gasauslassöffnung 13 entsprechend durchströmt. Der Druck in dem inneren Gasraum 6 ist dabei höher eingestellt als der Druck in dem äußeren Gasraum 8.The inner gas space 6 is about the gas outlet opening 10 and the gas outlet opening 12 flowed through continuously or discontinuously with helium. The outer gas space 8th with pure nitrogen through the gas inlet opening 11 and the gas outlet 13 flows accordingly. The pressure in the inner gas space 6 is set higher than the pressure in the outer gas space 8th ,

Kapillaröffnungen 16 können auch im Bereich der Gasauslassöffnungen 12 oder 13 oder in deren Auslassleitungen angeordnet werden.capillary 16 can also be in the area of the gas outlet openings 12 or 13 or be arranged in their outlet lines.

Wie aus der Figur weiterhin ersichtlich ist, sind ein oder mehrere Bereiche bzw. Einrichtungen 18a, die sich im Inneren des inneren Gasraumes 6 befinden gegenüber diesem Gasraum abgedichtet. In diesen Bereichen können sich z.B. Manipulatoren zur Verstellung von Fassungen der optischen Elemente 5 befinden. Die Bereiche 18a sind ebenfalls über Kapillaröffnungen 16 in dem Innenmantel 7 mit dem äußeren Gasraum 8 verbunden. Auf diese Weise wird ein Transfer von Kontaminationssubstanzen in den inneren Gasraum 6 vermieden. Die Bereiche bzw. Einrichtungen 18a können selbstverständlich auch gegenüber dem inneren Gasraum 6 abgedichtet sein und nur über die Kapillaröffnungen 16 mit dem äußeren Gasraum 8 oder auch direkt mit der Umgebung verbunden sein.As can also be seen from the figure, one or more areas or facilities 18a that are inside the inner gas space 6 are sealed against this gas space. In these areas there can be manipulators for adjusting the frames of the optical elements 5 are located. The areas 18a are also via capillary openings 16 in the inner jacket 7 with the outer gas space 8th connected. In this way, a transfer of contaminants into the inner gas space 6 avoided. The areas or facilities 18a can of course also with respect to the inner gas space 6 be sealed and only through the capillary openings 16 with the outer gas space 8th or be directly connected to the environment.

Ähnliches gilt für Bereiche oder Einrichtungen 18b, die sich im äußeren Gasraum 8 befinden und die ebenfalls über Kapillar öffnungen 16 mit der Umgebung verbunden sind.The same applies to areas or institutions 18b that are in the outer gas space 8th located and also through capillary openings 16 are connected to the environment.

Der Außenmantel 9 kann außenseitig mit einer Temperierungseinrichtung 19 versehen sein, die beliebig ausgestaltet sein kann. Zusätzlich oder alternativ kann der Innenmantel 7 oder auch der Außenmantel 9 ebenfalls mit Temperierungseinrichtungen 20 im Gasraum 8 versehen sein, die in der Figur nur prinzipmäßig angedeutet sind. Als Temperierungseinrichtungen sind z.B. im Inneren des Mantels angeordnete Rohre oder Schläuche, in denen Kühlflüssigkeit zirkuliert, verwendbar. Ebenso können Wärmeleitbänder, Kühlrippen, Peltierelemente, Heat-Pipes oder ähnliches verwendet werden. Zur Messung der jeweiligen Temperaturen können Sensoren im Inneren oder an der Oberfläche des Innenmantels 7 und/oder des Außenmantels 9 vorgesehen sein.The outer jacket 9 can be externally with a temperature control device 19 be provided, which can be configured as desired. Additionally or alternatively, the inner jacket 7 or the outer jacket 9 also with temperature control devices 20 in the gas room 8th be provided, which are only indicated in principle in the figure. Pipes or hoses in which coolant circulates can be used, for example, as temperature control devices. Thermally conductive strips, cooling fins, Peltier elements, heat pipes or the like can also be used. Sensors can be used to measure the respective temperatures inside or on the surface of the inner jacket 7 and / or the outer jacket 9 be provided.

Der zweite, äußere Gasraum 8 kann ein integraler Bestandteil einer Halteeinrichtung für die optischen Elemente sein (nicht näher dargestellt). In diesem Falle sind die Gaseinlass- und Gasauslassöffnungen bzw. die Kapillaröffnungen durch Nuten und Löcher gebildet, die durch die Fassungen gebohrt sind. In diesem Falle ist kein Mantel separat außen herum angeordnet.The second, outer gas space 8th can be an integral part of a holding device for the optical elements (not shown in detail). In this case, the gas inlet and gas outlet openings or the capillary openings are formed by grooves and holes drilled through the sockets. In this case, no jacket is arranged separately around the outside.

Ebenso ist es auch möglich, den zweiten, äußeren Gasraum 8 als integralen Bestandteil einer Tragstruktur des optischen Systemes auszubilden (nicht näher dargestellt). In diesem Falle wird zur Tragstruktur abgedichtet und zwischen der Tragstruktur und den Fassungen wird gespült.It is also possible to use the second, outer gas space 8th to form as an integral part of a support structure of the optical system (not shown in detail). In this case, the support structure is sealed and rinsed between the support structure and the sockets.

Claims

System for setting and maintaining a gas atmosphere in an optical system, in particular in a lens with at least one optical element, which is in an optical system, in particular in a first inner gas space, which is separated by an inner jacket from a second outer gas space, the second gas space is separated from the surroundings by an outer jacket and both gas spaces are provided with separate gas inlet and gas outlet openings, characterized in that the second gas space ( 8th ) through one or more capillary openings ( 16 ) is connected to the environment and that both gas spaces ( 6 . 8th ) are each under a pressure that is higher than the ambient pressure.

System according to claim 1, characterized in that the first gas space ( 6 ) through one or more capillary openings ( 16 ) with the second gas space ( 8th ) connected is.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the pressure in the first gas space ( 6 ) is higher than in the second gas space ( 8th ).

System according to claim 3, characterized in that the pressures in the gas spaces ( 6 . 8th ) are adjustable.

System according to claim 1 or 2, characterized in that in the gas spaces ( 6 . 8th ) there are different gas concentrations.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the gas in the first gas space ( 6 ) is interchangeable.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the gas in the second gas space ( 8th ) is interchangeable.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the capillary openings ( 16 ) are adjustable.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the capillary openings ( 16 ) in the area of the outlet openings ( 12 . 13 ) or the outlet lines.

System according to claim 2, characterized in that in the first gas space ( 6 ) Helium located.

System according to claim 1, characterized in that in the second gas space ( 8th ) Nitrogen.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the capillary opening as a column ( 17 ) at joints between the optical elements ( 5 ) and their versions are formed.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the second gas space ( 8th ) integral part of a holding device for the optical elements ( 5 ) is.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the second gas space ( 8th ) is an integral part of a support structure of the optical system.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the lens as a projection lens ( 2 ) is provided for semiconductor lithography.

System according to claim 15, characterized in that the projection objective ( 2 ) is intended for exposures with wavelengths of 157 nm and shorter.

System according to claim 1 or 2, characterized in that in the region of the first gas space ( 6 ) arranged facilities ( 18a ) like manipulators that are not or only partially flowed around by gas compared to the first gas space ( 6 ) encapsulated and via capillary openings ( 16 ) with the second gas space ( 8th ) or directly connected to the environment.

System according to claim 1 or 2, characterized in that in the region of the second gas space ( 8th ) arranged facilities ( 18b ), which are not or only partially flowed around by gas, are connected to the environment via capillary openings.

System according to claim 1 or 2, characterized in that the first gas space ( 6 ) with temperature control devices ( 20 ) is provided.

System according to claim 19, characterized in that the temperature control devices ( 20 ) on the inner jacket ( 7 ) or on the outer jacket ( 9 ) in one of the two gas rooms ( 6 . 8th ) are arranged.

Projection exposure system with a lighting system and a projection lens for the production of semiconductor elements, the projection lens being provided with at least one optical element which lies in a first inner gas space which is separated from a second outer gas space by an inner jacket, the second gas space being provided by an outer jacket is separated from the surroundings and both gas spaces are provided with separate gas inlet and gas outlet openings, characterized in that the second gas space ( 8th ) through one or more capillary openings ( 16 ) is connected to the environment and that both gas spaces ( 6 . 8th ) are each under a pressure that is higher than the ambient pressure.

Projection exposure system according to claim 21, characterized in that the first gas space ( 6 ) through one or more capillary openings ( 16 ) with the second gas space ( 8th ) connected is.