DE10214259A1

DE10214259A1 - Collector unit for lighting systems with a wavelength <193 nm

Info

Publication number: DE10214259A1
Application number: DE2002114259
Authority: DE
Inventors: Markus Weis
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2002-03-28
Filing date: 2002-03-28
Publication date: 2003-10-23
Also published as: JP2005522026A; AU2003218676A1; EP1490733A1; WO2003083579A1

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Kollektoreinheit für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge 193 nm, bevorzugt 126 nm, besonders bevorzugt im Bereich der EUV-Wellenlängen, auf die Strahlen eines Strahlbüschels, die von einem Objekt in einer Objektebene ausgehend auftreffen, mit DOLLAR A - mindestens einer Spiegelschale, die die Strahlen des vom Objekt ausgehenden Strahlbüschels aufnimmt und eine optische Wirkung aufweist, wobei die Strahlen des Strahlbüschels unter einem Winkel DOLLAR A - 20 DEG zur Oberflächentangente der Spiegelschale auftreffen. DOLLAR A Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß DOLLAR A - auf mindestens einem Teil der Spiegelschale eine periodische Struktur mit mindestens einer Gitterperiode aufgebracht ist.The invention relates to a collector unit for lighting systems with a wavelength of 193 nm, preferably 126 nm, particularly preferably in the range of the EUV wavelengths, on the rays of a bundle of rays which impinge on an object in an object plane, with DOLLAR A - at least one mirror shell, which absorbs the rays of the bundle of rays emanating from the object and has an optical effect, the rays of the bundle of rays impinging on the surface tangent of the mirror shell at an angle DOLLAR A - 20 °. DOLLAR A The invention is characterized in that DOLLAR A - a periodic structure with at least one grating period is applied to at least part of the mirror shell.

Description

Die Erfindung betrifft eine Kollektoreinheit für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, insbesondere bevorzugt Wellenlängen im EUV-Bereich mit mindestens einer Spiegelschale, die die Strahlen eines Strahlbüschels, das von einem Objekt ausgeht, aufnimmt und eine optische Wirkung in bezug auf die Strahlen des Strahlbüschels aufweist. The invention relates to a collector unit for lighting systems with a Wavelength 19 193 nm, preferably nm 126 nm, particularly preferably wavelengths in EUV area with at least one mirror shell that reflects the rays of a Tuft of rays that emanates from an object and has an optical effect in relation on the rays of the beam.

Bevorzugt treffen die Strahlen des Strahlbüschels unter einem Winkel < 20° zur Oberflächentangente der Spiegelschale auf. The rays of the bundle of rays preferably strike at an angle of <20 ° Surface tangent of the mirror shell.

Des weiteren stellt die Erfindung auch ein Beleuchtungssystem mit einem derartigen Kollektor, einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem erfindungsgemäßen Beleuchtungssystem sowie ein Verfahren zur Belichtung von Mikrostrukturen zur Verfügung. Furthermore, the invention also provides a lighting system with such Collector, a projection exposure system with an inventive Lighting system and a method for the exposure of microstructures for Available.

Genestete Kollektoren für Wellenlängen ≤ 193 nm, insbesondere Wellenlängen im Bereich der Röntgenstrahlen sind aus einer Vielzahl von Schriften bekanntgeworden. Nested collectors for wavelengths ≤ 193 nm, especially wavelengths in the The field of x-rays has become known from a large number of documents.

So zeigt die US 5,768,339 einen Kollimator für Röntgenstrahlen, wobei der Kollimator mehrere genestete paraboloidförmige Reflektoren aufweist. Der Kollimator gemäß der US 5,768,339 dient dazu, ein isotrop abgestrahltes Strahlbündel einer Röntgen- Lichtquelle in einen parallelen Strahl zu formen. No. 5,768,339 shows a collimator for X-rays, the collimator has several nested paraboloidal reflectors. The collimator according to US 5,768,339 serves to radiate an isotropically emitted beam of an X-ray Shape the light source into a parallel beam.

Aus der US-A-1865441 ist ein genesteter Kollektor für Röntgenstrahlen bekanntgeworden, der wie im Falle der US 5,768,339 dazu dient, von einer Quelle abgegebene isotrope Röntgenstrahlen zu einem parallelen Strahlbündel zu kollimieren. From US-A-1865441 is a nested collector for X-rays has become known, which, as in the case of US Pat Collimate isotropic X-rays into a parallel beam.

Die US 5,763,930 zeigt einen genesteten Kollektor für eine Pinch-Plasma- Lichtquelle, der dazu dient, die von der Lichtquelle abgegebene Strahlung zu sammeln und in einen Lichtleiter zu bündeln. US 5,763,930 shows a nested collector for a pinch plasma Light source that serves to emit the radiation emitted by the light source collect and bundle in a light guide.

Die US 5,745,547 zeigt mehrere Anordnungen von Multikanaloptiken, die dazu dienen, durch Mehrfachreflexionen die Strahlung einer Quelle, insbesondere Röntgenstrahlung, in einem Punkt zu bündeln. The US 5,745,547 shows several arrangements of multi-channel optics that go with it serve, by multiple reflections, the radiation of a source, in particular X-rays to bundle in one point.

Um eine besonders hohe Transmissionseffizienz zu erreichen, schlägt die Erfindung gemäß der US 5,745,547 elliptisch geformte Reflektoren vor. In order to achieve a particularly high transmission efficiency, the invention proposes according to US 5,745,547 elliptically shaped reflectors.

Aus der DE 30 01 059 C2 ist für die Verwendung in Röntgenstrahlen- Lithographiesystemen eine Anordnung bekanntgeworden, die parabolische zwischen Röntgenstrahlquelle und Maske angeordnete genestete Spiegel aufweist. Diese Spiegel sind so angeordnet, daß die divergierenden Röntgenstrahlen zu einem parallel verlaufenden Ausgangsstrahlbüschel geformt werden. DE 30 01 059 C2 is for use in X-ray radiation Lithography systems have become known an arrangement that is parabolic between X-ray source and mask arranged nested mirrors. This Mirrors are arranged so that the diverging X-rays form one parallel output beam tufts are formed.

Die Anordnung gemäß der DE 30 01 059 dient wiederum lediglich dazu, für die Röntgenstrahl-Lithographie eine gute Kollimation zu erreichen. The arrangement according to DE 30 01 059 in turn only serves the purpose of X-ray lithography to achieve good collimation.

Die aus der WO 99/27542 bekanntgewordene Anordnung von genesteten Reflektoren dient bei einem Röntgenstrahl-Proximity-Lithographie-System dazu, daß Licht einer Lichtquelle zu refokussieren, so daß eine virtuelle Lichtquelle ausgebildet wird. Die genesteten Schalen können Ellipsoidform aufweisen. The arrangement of nested known from WO 99/27542 In an X-ray proximity lithography system, reflectors serve to emit light refocusing a light source so that a virtual light source is formed. The nested shells can have an ellipsoidal shape.

Aus der US 6,064,072 ist ein genesteter Reflektor für hochenergetische Photonenquellen bekanntgeworden, der dazu dient, die divergierenden Röntgenstrahlen zu einem parallel verlaufenden Strahlbüschel zu formen. No. 6,064,072 is a nested reflector for high-energy Photon sources are known, which serves to diverging the X-rays to form a parallel bundle of rays.

Die WO 00/63922 zeigt einen genesteten Kollektor, der dazu dient, den Neutronenstrahl zu kollimieren. WO 00/63922 shows a nested collector, which serves the Collimate neutron beam.

Aus der WO 01/08162 ist ein genesteter Kollektor für Röngtenstrahlen bekanntgeworden, der sich durch eine Oberflächenrauigkeit der inneren, reflektierenden Fläche, der einzelnen Spiegelschalen von weniger als 12 Å rms auszeichnet. Die in der WO 01/08162 gezeigten Kollektoren umfassen auch Systeme mit Mehrfachreflexionen, insbesondere auch Woltersysteme, und zeichnen sich durch eine hohe Auflösung, wie sie beispielsweise für die Röntgenlithographie gefordert wird, aus. WO 01/08162 is a nested collector for X-rays become known, which is characterized by a surface roughness of the inner, reflective Area that distinguishes individual mirror shells of less than 12 Å rms. The in the Collectors shown in WO 01/08162 also include systems with Multiple reflections, especially Woltersystems, and are characterized by a high Resolution, as required for example for X-ray lithography.

Ein weiteres Problem bei Beleuchtungssystemen für Wellenlängen ≤ 100 nm neben der Kollektion der von der Lichtquelle abgegebenen Strahlung besteht darin, daß die Lichtquellen derartiger Beleuchtungssysteme auch Strahlung einer Wellenlänge emittieren, die zu einer unerwünschten Belichtung des lichtsensitiven Objekts in der Waferebene des Projektionsbelichtungssystem führen kann und optische Komponenten des Belichtungssystems, wie beispielsweise Multilayer-Spiegel, durch derartige Strahlung unzulässig erwärmt werden und schnell degradieren Zum Ausfiltern derartiger unerwünschter Strahlung können beispielsweise Transmissionsfilter aus Zirkon verwandt werden. Derartige Filter haben aber den Nachteil hoher Lichtverluste. Des weiteren können sie sehr leicht durch Wärmebelastung zerstört werden. Ein weiteres Problem von Beleuchtungsoptiken für die EUV-Lithographie besteht darin, daß die Lichtverluste mit der Anzahl der optischen Komponenten stark wachsen. Another problem with lighting systems for wavelengths ≤ 100 nm besides The collection of radiation emitted by the light source is that the Light sources of such lighting systems also emit radiation of one wavelength emit that lead to an undesired exposure of the light sensitive object in the Wafer plane of the projection exposure system can lead and optical components the exposure system, such as multilayer mirrors, by such Radiation is warmed inadmissible and degrades quickly Such unwanted radiation can, for example, transmission filters made of zircon be used. However, such filters have the disadvantage of high light losses. Of furthermore, they can be destroyed very easily by thermal stress. Another one The problem with illumination optics for EUV lithography is that the Light losses grow strongly with the number of optical components.

Aufgabe der Erfindung ist es somit, eine Kollektoreinheit für ein Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie mit Wellenlängen ≤ 193 nm, vorzugsweise < 126 nm, besonders bevorzugt für Wellenlängen im EUV-Bereich anzugeben, das zum einen den Anforderungen an die Uniformität und Telezentrie, die für Beleuchtungsoptiken erforderlich sind, gerecht wird, zum anderen eine spektrale Filterung auf die Nutzwellenlänge ermöglicht. Insbesondere soll verhindert werden, daß Strahlung anderer Wellenlängen als die Nutzwellenlänge in das Beleuchtungssystem gelanget. Des weiteren soll das Bauteil kompakt sein und bei einer Verwendung in einem EUV- Beleuchtungssystem die dort auftretenden Lichtverluste minimiert werden. The object of the invention is therefore a collector unit for a lighting system for microlithography with wavelengths ≤ 193 nm, preferably <126 nm, particularly preferred to specify for wavelengths in the EUV range, on the one hand the Uniformity and telecentricity requirements for lighting optics are required, on the other hand spectral filtering on the Usable wavelength enables. In particular, the aim is to prevent radiation from others Wavelengths entered the lighting system as the useful wavelength. Of the component should also be compact and, when used in an EUV Lighting system the light losses occurring there are minimized.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch eine Kollektoreinheit mit mindestens einer Spiegelschale gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 gelöst, die sich dadurch auszeichnet, daß mindestens auf einem Teil der Spiegelschale eine periodische Struktur mit mindestens einer Gitterperiode aufgebracht ist. Durch das Aufbringen einer periodischen Struktur auf die Spiegelschale wird das auf die Spiegelschale auftreffende Strahlbüschel gebeugt. Die Foki der unterschiedlichen Beugungsordnungen liegen in unterschiedlichen Ebenen. Ordnet man in einer Ebene, in der eine Beugungsordnung fokussiert wird, beispielsweise eine Blende an, so können die anderen Beugungsordnungen, die in andere Raumwinkelelemente abgelenkt werden, nicht durch die Blende hindurch treten und damit nicht in das nachfolgende Beleuchtungssystem gelangen. Auf diese Art und Weise kann eine Trennung der Nutzstrahlung, die beispielsweise bei 13,5 nm liegt und Strahlung anderen Wellenlängen, insbesondere Wellenlängen ≥ 100 nm, die in der 0. Beugungsordnung zu finden sind, verhindert werden. Des weiteren ist es möglich, durch einen solchen Aufbau das Eindringen von der Lichtquelle austretenden Partikeln in ein nachfolgendes Beleuchtungssystem zu verhindern. According to the invention, this object is achieved by a collector unit with at least a mirror shell solved according to the preamble of claim 1 characterized in that at least on part of the mirror shell periodic structure with at least one grating period is applied. By the Applying a periodic structure to the mirror shell will do so on the mirror shell impinging bundles of rays bent. The focus of the different Diffraction orders are on different levels. If you arrange in one level, in one Diffraction order is focused, for example at an aperture, so the other diffraction orders that are deflected into other solid angle elements, do not step through the panel and therefore not into the next one Lighting system. In this way, a separation of the Useful radiation, which is, for example, 13.5 nm and radiation of other wavelengths, in particular wavelengths ≥ 100 nm, which can be found in the 0th diffraction order, be prevented. Furthermore, it is possible with such a structure Penetration of particles emerging from the light source into a subsequent one To prevent lighting system.

Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Kollektors ist, daß der effektive Austrittsraum des gebeugten Lichtbüschels länger ist als bei einem System, bei dem der genestete Kollektor und das ebene Gitter zwei getrennte Bauteile sind. Dies hat mehrere Vorteile. Zum einen kann bei gleicher Dispersion wie bei einem System mit genestetem Kollektor und getrenntem planen Gitterelement eine geringere Bandbreite erzielt werden, zum anderen ist die Separation der unterschiedlichen Beugungsordnungen größer als bei einem System mit genestetem Kollektor und getrenntem planen Gitterelement. Bei einem Einsatz in einem Beleuchtungssystem kann dann der Abstand im Lichtweg von der Lichtquelle bis zum Kollektor bei vergleichbarer Liniendichte gegenüber einem ebenen Gitterelement verkürzt und so ein Beleuchtungssystem sehr kompakt aufgebaut werden. Another advantage of the collector according to the invention is that the effective The exit space of the diffracted light bundle is longer than in a system in which the nested collector and the flat grid are two separate components. this has several advantages. Firstly, with the same dispersion as with a system nested collector and separate plan grid element a smaller bandwidth on the other hand is the separation of the different Diffraction orders larger than in a system with a nested collector and a separate one plan grid element. When used in a lighting system, the Distance in the light path from the light source to the collector with comparable Line density shortened compared to a flat grid element and so on Lighting system can be built very compact.

Durch die Zusammenfassung der sammelnden Eigenschaften eines Kollektors mit den filternden Eigenschaften eines Spektralfilters bei dem erfindungsgemäßen Bauelement kann ein optisches Element im Beleuchtungssystem entfallen, so daß die Transmission des Beleuchtungssystems um ungefähr 30% erhöht werden kann. By summarizing the collecting properties of a collector with the filtering properties of a spectral filter in the invention Component can be omitted an optical element in the lighting system, so that Transmission of the lighting system can be increased by approximately 30%.

Um besonders hohe Beugungseffizienzen zu erreichen, ist in einer vorteilhaften Ausführungsform vorgesehen, das Gitter als Blaze-Gitter mit einem Blaze-Winkel ε auszubilden. In order to achieve particularly high diffraction efficiencies, one is advantageous Embodiment provided, the grating as a blaze grating with a blaze angle ε train.

Besonders bevorzugt ist es, wenn die Kollektoreinheit eine Vielzahl von Spiegelschalen umfaßt, die rotationssymmetrisch zu einer Rotationsachse angeordnet sind. Jeder Spiegelschale ist dann ein Ringaperturelement der objektseitigen Apertur zugeordnet. It is particularly preferred if the collector unit has a plurality of Includes mirror shells, which are arranged rotationally symmetrical to an axis of rotation. Each mirror shell is then a ring aperture element of the aperture on the object side assigned.

Rotationssymmetrisch aufgebaute Kollektoren haben weitere Vorteile. So läßt sich bei einem zu einer Rotationsachse rotationssymmetrischen Kollektor die Uniformität der Ausleuchtung in einer Ebene und die Form der auszuleuchtenden Pupille besser als bei Beleuchtungssystemen mit beispielsweise einem planen Gitterelement kontrollieren. Des weiteren haben derartige rotationssymmetrische Komponenten in einem Beleuchtungssystem Vorteile bei der Ausrichtung der einzelnen Komponenten zueinander. Ein weiterer Vorteil ist das symmetrische Verhalten, zum Beispiel bei Erwärmung. Rotationally symmetrical collectors have further advantages. So you can in the case of a collector that is rotationally symmetrical with respect to an axis of rotation, the uniformity the illumination in one plane and the shape of the pupil to be illuminated better than in lighting systems with, for example, a flat grid element check. Furthermore, such rotationally symmetrical components in a lighting system Advantages when aligning the individual components to each other. Another advantage is the symmetrical behavior, for example with Warming.

Der durch die Kollektoreinheit ausgeleuchtete Bereich liegt beispielsweise in einer Ebene und besteht aus Ringelementen, wobei bevorzugt jedem Ringelement ein Ringaperturelement zugeordnet ist. Die Ringaperturelemente und die zugeordneten Ringelemente überlappen in einer vorteilhaften Ausführungsform nicht und die Ringelemente schließen in der Ebene weitgehend kontinuierlich aneinander. The area illuminated by the collector unit is, for example, in one Level and consists of ring elements, preferably each ring element Ring aperture element is assigned. The ring aperture elements and the associated In an advantageous embodiment, ring elements do not overlap and Ring elements are largely continuous in the plane.

Mit der genesteten Kollektoreinheit gemäß der Erfindung kann eine weitgehend gleichmäßige Ausleuchtung in einer Ebene erreicht werden. Durch die Kombination der optischen, beispielsweise sammelnden, Wirkung des Kollektors für die von der Lichtquelle ausgesandten Strahlung und der Filterung auf die Nutzwellenlänge in einem einzigen Bauelement gemäß der Erfindung kann die Transmission bei Beleuchtungssystemen erhöht und die Baulänge des Beleuchtungssystems erheblich reduziert werden. With the nested collector unit according to the invention, one can largely uniform illumination can be achieved on one level. Through the combination the optical, for example collecting, effect of the collector for that of the Light source emitted radiation and filtering to the useful wavelength in a single component according to the invention, the transmission at Lighting systems increased and the overall length of the lighting system significantly be reduced.

Die Spiegelschalen können bevorzugt ein ringförmiges Segment eines Ellipsoids, eines Paraboloids oder eines Hyperboloids sein. Für ein Paraboloid ergibt sich ein vollständig paralleles Strahlenbündel und somit eine im Unendlichen liegende Lichtquelle. The mirror shells can preferably be an annular segment of an ellipsoid, a paraboloid or a hyperboloid. For a paraboloid there is a completely parallel bundle of rays and thus an infinite one Light source.

Sind die Schalen Ausschnitte von Ellipsoiden, so wird ein konvergentes Strahlbündel ausgebildet. Kollektoren mit Schalen, die Ausschnitte von Hyperboloide sind, führen zu einem divergierenden Strahlbündel. If the shells are cutouts from ellipsoids, a convergent beam is created educated. Collectors with shells that are cutouts of hyperboloids guide to a diverging beam.

Um eine weitgehend homogene Ausleuchtung bzw. uniforme Ausleuchtung zu erhalten, ist es vorteilhaft, wenn der Kollektor so viele Schalen als möglich umfaßt. Bevorzugt weist der erfindungsgemäße Kollektor mehr als vier, besonders bevorzugt mehr als sieben und insbesondere bevorzugt mehr als zehn Reflektoren in einer schalenförmigen Anordnung auf. Ein weiterer Vorteil ist, daß die Divergenz der in die Blendenebene gebeugten Teilstrahlbüschel der jeweiligen Spiegelschale mit zunehmender Anzahl an Spiegelschalen reduziert wird und so eine bessere Trennung der unterschiedlichen Beugungsordnungen in der Blendenebene erreicht wird. To ensure a largely homogeneous illumination or uniform illumination received, it is advantageous if the collector comprises as many shells as possible. The collector according to the invention preferably has more than four, particularly preferably more than seven and particularly preferably more than ten reflectors in one bowl-shaped arrangement. Another advantage is that the divergence in the Particle bundle of the respective mirror shell diffracted with the diaphragm plane increasing number of mirror shells is reduced and thus a better separation of the different diffraction orders in the aperture plane is achieved.

Bevorzugt ist es, wenn die Vielzahl der um eine gemeinsame Rotationsachse angeordneten Spiegelschalen so ausgebildet sind, daß an einer Spiegelschale Mehrfachreflexionen auftreten. It is preferred if the plurality of about a common axis of rotation arranged mirror shells are designed so that on a mirror shell Multiple reflections occur.

Durch Mehrfachreflexionen an einer Schale können die Reflexionswinkel klein gehalten werden. Besonders Systeme mit gerader Anzahl von Reflexionen sind unempfindlich gegenüber Dejustagen, insbesondere Verkippungen gegenüber der optischen Achse, die bei rotationssymmetrischen Systemen die Rotationsachse ist. Due to multiple reflections on a dish, the reflection angles can be small being held. Especially systems with an even number of reflections are insensitive to misalignments, especially tilting to the optical axis, which is the axis of rotation in rotationally symmetrical systems.

Die Reflektivität verhält sich bei Reflexion unter streifendem Einfall mit kleinen Einfallswinkeln von weniger als 20° relativ zur Oberflächentangente bei Materialien wie Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Kohlenstoff oder Gold nahezu linear mit dem Einfallswinkel relativ zur Oberflächentangente, so daß die Reflexionsverluste für eine Reflexion unter beispielsweise 16° oder zwei Reflexionen unter 8° annähernd dieselben sind. Für die maximal erreichbare Apertur des Kollektors ist es jedoch vorteilhaft, mehr als eine Reflexion zu verwenden. The reflectivity behaves when reflecting under grazing incidence with small Angles of incidence of less than 20 ° relative to the surface tangent in materials such as Ruthenium, rhodium, palladium, silver, carbon or gold almost linear with the angle of incidence relative to the surface tangent, so that the reflection losses for a reflection below 16 °, for example, or two reflections below 8 ° approximately are the same. However, it is for the maximum achievable aperture of the collector advantageous to use more than one reflection.

Besonders bevorzugt sind Systeme mit zwei Reflexionen. Kollektoren mit zwei Reflexionen können beispielsweise als Woltersysteme mit einem ersten Segment einer Spiegelschale, das ein ringförmiger Ausschnitt eines Hyperboloides ist, und einem zweiten Segment einer Spiegelschale, die ein ringförmiger Ausschnitt eines Ellipsoides ist, ausgebildet sein. Systems with two reflections are particularly preferred. Collectors with two Reflections can be, for example, as Woltersystems with a first segment Mirror bowl, which is an annular section of a hyperboloid, and one second segment of a mirror shell, which is an annular section of a Ellipsoides is to be trained.

Woltersysteme sind aus der Literatur, beispielsweise aus Wolter, Annalen der Physik 10, 94-114, 1952, bekannt. Betreffend Woltersysteme mit einer reelen Schnittweite, d. h. einem reellen Zwischenbild der Quelle, die durch die Kombination einer Hyperboloidfläche mit einer Ellipsoidfläche gebildet wird, wird auf J. Optics, Vol. 15, 270-280, 1984 verwiesen. Woltersystems are known from the literature, for example from Wolter, Annalen der Physik 10 , 94-114 , 1952 . Regarding Woltersystems with a real focal length, ie a real intermediate image of the source, which is formed by the combination of a hyperboloid surface with an ellipsoid surface, reference is made to J. Optics, Vol. 15, 270-280, 1984.

Ein besonderer Vorteil von Woltersystemen ist, daß bei einem Woltersystem mit zwei Reflexionen mit Einfallswinkeln kleiner 20° relativ zur Oberflächentangente eine Kollektionsapertur von beipielsweise NA_max ~ 0.985 entsprechend einem Aperturwinkel von 80° gewählt werden kann, wobei man sich immer noch im hochreflektierenden Bereich der Reflexion unter streifendem Einfall mit einer Reflektivität > 70% befindet. A particular advantage of Woltersystems is that in a Woltersystem with two reflections with angles of incidence less than 20 ° relative to the surface tangent, a collection aperture of, for example, NA _max ~ 0.985 corresponding to an aperture angle of 80 ° can be selected, while still being in the highly reflective range of the reflection under grazing incidence with a reflectivity> 70%.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß das periodische Gitter auf das zweite Segment einer Schale eines Woltersystems aufgebracht ist. In a preferred embodiment of the invention it is provided that the periodic grating applied to the second segment of a shell of a Woltersystem is.

In einem derartigen Fall ist das erste Segment bevorzugt ein Ausschnitt eines Hyperboloids mit einem virtuellen Fokus. Das zweite Segment ist derart ausgebildet, daß es eine fokussierende Wirkung aufweist. Dies kann dadurch erreicht werden, daß bei einem linearen Gitter mit konstanter Liniendichte die Fläche des zweiten Segmentes im Meridonalschnitt konkav gekrümmt ist. Unter einem Meridonalschnitt wird in vorliegender Anmeldung ein Schnitt, der die optische Achse umfasst, verstanden. Die fokussierende Wirkung des zweiten Segementes kann auch durch eine Variation der Liniendichte erreicht werden. In einem solchen Fall kann die Fläche im Meridonalschnitt eben oder auch konvex sein. Bei beispielsweise ebener Fläche im Merdionalschnitt hat das zweite um die optische Achse rotationssymmetrische Segment dann die Form eines Kegelstumpfes. In such a case, the first segment is preferably a section of one Hyperboloids with a virtual focus. The second segment is designed that it has a focusing effect. This can be achieved that with a linear grid with constant line density, the area of the second Segment is concavely curved in the meridional section. Under a meridional incision in the present application, a section comprising the optical axis is Roger that. The focusing effect of the second segment can also be achieved through a Variation in line density can be achieved. In such a case, the area in the Meridional section flat or convex. For example, on a flat surface in Merdional section has the second one rotationally symmetrical about the optical axis Segment then the shape of a truncated cone.

Alternativ kann das Gitter auch auf das erste Segment aufgebracht sein oder auf beide Segmente. Gitter auf beiden Segmenten sind bevorzugt, wenn eine große spektrale Reinheit angestrebt wird; Gitter auf dem ersten Segment, wenn beispielsweise verhindert werden soll, daß die 0.-te Ordnung aus dem Kollektor austritt, sondern auf der Rückseite der benachbarten Spiegelschale absorbiert wird. Eine Blende zum Abblocken des Lichts der nicht genutzten Ordnung kann dann entfallen. Alternatively, the grid can also be applied to or onto the first segment both segments. Grids on both segments are preferred if a large one spectral purity is sought; Grid on the first segment if for example, to prevent the 0th order from leaving the collector, but is absorbed on the back of the neighboring mirror shell. An aperture to block the light of the unused order can then be omitted.

Die periodische Struktur auf dem zweiten Segment, die bevorzugt ein Blaze-Gitter mit einer Blaze-Tiefe B bzw. einem Blaze-Winkel ε ist, kann beispielsweise entweder in den Kern für die galvano-plastische Abformung der einzelnen Spiegelschalen durch Diamantdrehen eingebracht werden oder alternativ durch Ritzen des Gitters in eine auf die Spiegelschalen aufgebrachte Beschichtung, beispielsweise eine Goldbeschichtung. The periodic structure on the second segment that prefers a blaze grating with a blaze depth B or a blaze angle ε can, for example, either in the core for the galvano-plastic impression of the individual mirror shells by diamond turning or alternatively by scratching the grid in a coating applied to the mirror shells, for example one Gold coating.

Wird die Kollektoreinheit so ausgebildet, daß nicht genutzte Beugungsordnungen aus der Einheit austreten, so ergibt sich gegenüber planaren Gitterelementen der Vorteil, daß die Lichtintensität der austretenden Beugungsordnungen auf ein Ringelement verteilt wird. Hierdurch kann die Wärmebelastung auf einem Blendenelement gegenüber herkömmlichen planaren Gitterelementen erheblich verringert werden. The collector unit is designed so that unused diffraction orders emerge from the unit, there is the advantage over planar lattice elements that the light intensity of the emerging diffraction orders on a ring element is distributed. As a result, the heat load on a panel element compared to conventional planar lattice elements can be significantly reduced.

Neben der Kollektoreinheit stellt die Erfindung auch ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Kollektoreinheit zur Verfügung. Das Beleuchtungssystem ist bevorzugt ein doppelt facettiertes Beleuchtungssystem mit einem ersten optischen Element mit ersten Rasterelementen und einem zweiten optischen Element mit zweiten Rasterelementen, wie in der US 6,198,793 B1 gezeigt, deren Offenbarungsgehalt vollumfänglich in die Anmeldung mit aufgenommen wird. In addition to the collector unit, the invention also provides an illumination system such a collector unit available. The lighting system is preferred a double-faceted lighting system with a first optical element first raster elements and a second optical element with second Raster elements, as shown in US 6,198,793 B1, their disclosure content is fully included in the registration.

Die ersten und/oder zweiten Rasterelemente können Planfacetten oder Facetten mit sammelnder bzw. zerstreuender Wirkung sein. The first and / or second raster elements can have facets or facets collecting or dispersing effect.

Das Beleuchtungssystem umfassend den erfindungsgemäßen Kollektor findet bevorzugt in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie Verwendung, wobei eine derartige Projektionsbelichtungsanlage in der PCT/EP 00/07258 gezeigt ist, deren Offenbarungsgehalt vollumfänglich in die vorliegende Anmeldung mit aufgenommen wird. Projektionsbelichtungsanlagen umfassen ein der Beleuchtungseinrichtung nachgeordnetes Projektionsobjektiv, beispielsweise ein 4-Spiegel- Projektionsobjektiv wie in der US 6,244,717 B1 dargestellt, deren Offenbarungsgehalt vollumfänglich in die vorliegende Anmeldung mitaufgenommen wird. The lighting system comprising the collector according to the invention is found preferably used in a projection exposure system for microlithography, such a projection exposure system is shown in PCT / EP 00/07258 is, the disclosure content in full in the present application is recorded. Projection exposure systems include one of the Projection lens arranged downstream of the lighting device, for example a 4-mirror Projection lens as shown in US 6,244,717 B1, the Disclosure content is fully included in the present application.

Die Erfindung soll nachfolgend anhand der Zeichnungen beispielhaft beschrieben werden. The invention is described below by way of example with reference to the drawings become.

Es zeigen: Show it:

Fig. 1 eine Prinzipskizze eines Kollektors mit einem Gitter, das auf die zweite Spiegelschale aufgebracht ist Fig. 1 is a schematic diagram of a collector with a grid which is applied to the second mirror shell

Fig. 2 die Ausleuchtung in einer hinter dem Kollektor angeordneten Blendenebene für eine Schale des Kollektors, wobei die Ausleuchtung der verschiedenen Beugungsordnungen gezeigt ist Fig. 2 shows the illumination in a diaphragm plane arranged behind the collector for a bowl of the collector, the illumination of the different diffraction orders being shown

Fig. 3 eine Spiegelschale mit einem ersten Segment, das das ringförmige Segment einer Hyperbel ist, und einem zweiten Segment, das als Mantellinie einen Kreis hat, und auf das ein Gitter aufgebracht ist im Meridonalschnitt Fig. 3 shows a mirror shell with a first segment, which is the annular segment of a hyperbola, and a second segment, which has a circle as the generatrix, and to which a grating is applied in a meridional section

Fig. 4a das zweite Segment der in Fig. 3 gezeigten Schalenfläche mit aufgebrachtem Gitter und eingezeichneten Winkeln zur Herleitung der Linienzahldichte auf dem Gitter im Meridonalschnitt Fig. 4a, the second segment of the shell surface shown in Fig. 3 with mounted grating and angles plotted to derive the number of lines on the grid density in meridional

Fig. 4b das erste Segment der in Fig. 3 gezeigten Schalenfläche zur Herleitung des Radius bzw. der Krümmung der Hyperboloidfläche im Meridonalschnitt FIG. 4b, the first segment in Fig. 3 shown shell surface for the derivation of the radius or the curvature of the hyperboloidal surface in meridional

Fig. 5 Ausschnitt eines Blaze-Gitters Fig. 5 section of a Blaze grid

Fig. 6 ein EUV-Projektionsbelichtungssystem mit einem erfindungsgemäßen genesteten Kollektor. Fig. 6 shows an EUV projection exposure system with a nested collector according to the invention.

In Fig. 1 sind von einem genesteten Kollektor gemäß der Erfindung exemplarisch zwei Schalen im Meridonalschnitt gezeigt, wobei jede Spiegelschale 100, 102 ein Woltersystem mit einem ersten ringförmigen Segment 100.1, 102.1 mit einer ersten optischen Fläche 100.2, 102.2 und einem zweiten ringförmigen Segment 100.3, 102.3 mit einer zweiten optischen Fläche 100.4, 102.4 aufweist. Die einzelnen Schalen 100, 102 sind rotationssymmetrisch um die x-Achse bzw. die optische Achse HA angeordnet. Wie man aus Fig. 1 erkennt, grenzen die Ringaperturelemente 110, 112, die den jeweiligen Spiegelschalen 100, 102 zugeordnet sind, weitgehend aneinander an, d. h. die objektseitige Apertur des in Fig. 1 gezeigten Kollektors zeigt zwischen den einzelnen Ringaperturelementen nur eine Lücke bedingt durch die finite Dicke der Spiegelschalen. Die Ringaperturelemente der jeweiligen Spiegelschale nehmen ein Teillichtbüschel des von einer Lichtquelle 105, beispielsweise einer Laser-Plasma-Quelle, abgestrahlten Lichtbüschels auf. Durch geeignete Wahl der Parameter der auf das zweite Segment 100.3, 102.3 aufgebrachten periodischen Strukturen bzw. Gitterelemente ist es wie nachfolgend aufgezeigt möglich, daß für sämtliche Schalen unabhängig von dem aufgenommenen Ringaperturelement und der Schale die Teillichtbüschel unterschiedlicher Schalen für eine bestimmte Beugungsanordnung, hier der +1. Beugungsanordnung 129, in ein und denselben Fokus 127 der Blendenebene 125 gebeugt werden. In FIG. 1 by way of example two trays are shown in meridional of a nested collector according to the invention, each mirror shell 100, 102, a Wolter system comprising a first annular segment, 100.1, 102.1 with a first optical surface 100.2, 102.2 and a second annular segment, 100.3, 102.3 with a second optical surface 100.4 , 102.4 . The individual shells 100 , 102 are arranged rotationally symmetrically about the x-axis or the optical axis HA. As can be seen from FIG. 1, the ring aperture elements 110 , 112 which are assigned to the respective mirror shells 100 , 102 largely adjoin one another, ie the object-side aperture of the collector shown in FIG. 1 shows only a gap between the individual ring aperture elements due to the finite thickness of the mirror shells. The ring aperture elements of the respective mirror shell receive a partial light bundle of the light bundle emitted by a light source 105 , for example a laser plasma source. By appropriate selection of the parameters of the periodic structures or lattice elements applied to the second segment 100.3 , 102.3 , it is possible, as shown below, that the partial light tufts of different shells for a specific diffraction arrangement, here the +, for all shells, irrespective of the ring aperture element and the shell picked up 1. Diffraction arrangement 129 , are diffracted into one and the same focus 127 of the diaphragm plane 125 .

Bei der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform schließen auch die erste optische Fläche 100.2, 102.2 und die zweite optische Fläche 100.4, 102.4 ohne Lücke direkt aneinander an. In the embodiment shown in FIG. 1, the first optical surface 100.2 , 102.2 and the second optical surface 100.4 , 102.4 also directly adjoin one another without a gap.

Alternativ kann vorgesehen sein, daß die erste optische Fläche 100.2, 102.2 und die zweite optische Fläche 100.4, 102.4 nicht direkt aneinander anschließen. Zwischen den optischen Flächen gibt es dann je eine Lücke bzw. einen ungenutzten Bereich. Im ungenutzten Bereich können dann beispielsweise Kühleinrichtungen zur Kühlung der Spiegelschalen angeordnet werden. Alternatively, it can be provided that the first optical surface 100.2 , 102.2 and the second optical surface 100.4 , 102.4 do not connect directly to one another. There is then a gap or an unused area between the optical surfaces. Cooling devices for cooling the mirror shells can then be arranged in the unused area, for example.

Des weiteren ist beim Kollektor gemäß Fig. 1 eine im Inneren der innersten Spiegelschale angeordnete Blende 130 gezeigt. Genestete, reflektive Kollektoren weisen wegen der endlichen Größe der Spiegelschalen notwendigerweise eine zentrale Abschattung auf, d. h. unterhalb eines bestimmten Aperturwinkels NA_min kann die Strahlung der Quelle nicht aufgenommen werden. Die Blende 130 verhindert, daß direkt durch die zentrale Schale gelangendes Licht nicht als Falschicht in das nachfolgende Beleuchtungssystem gelangt. Furthermore, a diaphragm 130 arranged in the interior of the innermost mirror shell is shown in the collector according to FIG. 1. Nested, reflective collectors necessarily have central shadowing due to the finite size of the mirror shells, ie below a certain aperture angle NA _min the radiation from the source cannot be recorded. Aperture 130 prevents light passing directly through the central shell from entering the subsequent lighting system as a folded layer.

In Fig. 1 dargestellt sind auch die nicht in die Blendenebene 125 fokussierten Beugungsordnungen für das Gitter auf dem zweiten Segment der zweiten Spiegelschale, nämlich die 0. Beugungsordnung 131 und die +2. Beugungsordnung 133, gezeigt. Are shown in FIG. 1, the non-focused in the aperture plane 125 diffraction orders of the grating on the second segment of the second mirror shell, namely, the 0 th diffraction order 131 and +2. Diffraction order 133 shown.

In Fig. 2 ist die Ausleuchtung mit einem erfindungsgemäßen Kollektor für eine Spiegelschale hier der zweiten Spiegelschale 102 in der Blendenebene 125 gezeigt. In FIG. 2, the illumination is shown with an inventive collector for a mirror shell here the second mirror shell 102 in the diaphragm plane 125th

Die Blendenebene 125 wird durch die z- und y-Achse eines Koordinatensystems, dessen Ursprung mit der Lage der reellen Lichtquelle 105 zusammenfällt, definiert. Dieses Koordinatensystem ist in Fig. 1 gezeigt. The aperture plane 125 is defined by the z and y axes of a coordinate system, the origin of which coincides with the position of the real light source 105 . This coordinate system is shown in Fig. 1.

Wie aus Fig. 2 zu erkennen, ist in der Blendenebene 125, die vorliegend die Papierebene ist, die +1. Ordnung 129 fokussiert und weist einen Durchmesser ΔR₁ auf. Andere Ordnungen als die +1. Ordnung, beispielsweise die +2. Ordnung oder die 0. Ordnung erscheinen als Ringe in der Blendenebene, da sie aufgrund des konvergenten Strahlengang gegenüber der Blendenebene defokussiert sind. Dies ist in Fig. 1 sehr gut zu erkennen. Der Fokus der 0. Ordnung 150 liegt vor der Blendenebene 125, der Fokus 151 der +2. Ordnung hinter der Blendenebene 125 in x-Richtung. Die Breite der kreisförmigen Ausleuchtung der 0. Ordnung beträgt ΔR₀, die der +2. Ordnung ΔR₂. Der mittlere Abstand der jeweiligen Beugungsordnung zur optischen Achse beträgt R₂ bzw. R₀. As can be seen from FIG. 2, the aperture plane 125 , which in the present case is the paper plane, is +1. Order 129 focuses and has a diameter ΔR ₁ . Orders other than +1. Order, for example the +2. Order or the 0th order appear as rings in the diaphragm plane because they are defocused due to the convergent beam path compared to the diaphragm plane. This can be seen very well in FIG. 1. The focus of the 0th order 150 lies in front of the aperture plane 125 , the focus 151 of the +2. Order behind the aperture level 125 in the x direction. The width of the circular illumination of the 0th order is ΔR ₀ , that of the +2. Order ΔR ₂ . The mean distance between the respective diffraction order and the optical axis is R ₂ or R ₀ .

Durch Einbringen einer kreisförmigen Blende 154 mit Radius R₃ kann die 0. und 2. Ordnung in der Blendenebene 125 ausgeblendet werden. Auf diese Art und Weise ist es möglich, die in anderen Ordnungen enthaltenen Wellenlängen vollständig auszublenden und zu verhindern, daß diese in ein hinter dem erfindungsgemäßen Kollektor angeordnetes Beleuchtungssystem eintreten. By inserting a circular aperture 154 with radius R ₃ , the 0th and 2nd order in the aperture plane 125 can be masked out. In this way it is possible to completely block out the wavelengths contained in other orders and to prevent them from entering a lighting system arranged behind the collector according to the invention.

In Fig. 3 ist nochmals eine Schale eines erfindungsgemäßen genesteten Kollektors mit zwei Segmenten 102.1, 102.3 dargestellt. Das erste Segment 102.1 mit einer ersten optischen Fläche ist eine Hyperbel-Fläche, die das Licht von der Lichtquelle 105 aufnimmt. Dort liegt auch der Ursprung des für die weitere Ableitung benutzten Referenzkoordinatensystems. Den Abstand vom Koordinatenursprung zum Zentrumspunkt 170.1 des ersten Segmentes 102.1 im Meridonalschnitt projeziert auf die x- Achse wird mit x₁ bezeichnet. Der Abstand vom Zentrumspunkt 170.1 des ersten Segmentes 102.1 im Meridonalschnitt zum virtuellen Fokus 172 projeziert auf die x- Achse wird mit x₁' bezeichnet. Aufgrund der Ausgestaltung des ersten Segmentes 102.1 als Hyperbel weist diese einen virtuellen Fokus 172 auf und bildet die reelle Lichtquelle 105 in eine virtuelle Lichtquelle ab. Die virtuelle Lichtquelle wiederum wird von dem zweiten Segment 102.3 mit einer zweiten optischen Fläche, auf das das Gitterelement aufgebracht ist, für die +1. Beugungsordnung 129 in die Blendenebene 125 abgebildet. In Fig. 3 sind auch die 0. Beugungsordnung 131 und die +2. Beugungsordnung 133 gezeigt. Den Abstand von der virtuellen Lichtquelle, die im virtuellen Fokus 172 liegt, zum Zentrumspunkt 170.3 des zweiten Segmentes 102.3 im Meridonalschnitt projeziert auf die x-Achse wird mit x₂ bezeichnet, der Abstand vom Zentrumspunkt 170.3 des zweiten Segmentes zum Fokus 127 der +1. Beugungsordnung projeziert auf die x-Achse wird im Meridonalschnitt mit x₂' bezeichnet. In Fig. 3 is again a shell of a nested collector according to the invention with two segments 102.1, 102.3 shown. The first segment 102.1 with a first optical surface is a hyperbolic surface that receives the light from the light source 105 . This is also where the origin of the reference coordinate system used for further derivation lies. The distance from the coordinate origin to the center point 170.1 of the first segment 102.1 projected in the meridional section onto the x axis is denoted by x ₁ . The distance from the center point 170.1 of the first segment 102.1 in the meridional section to the virtual focus 172 projected onto the x-axis is denoted by x ₁ '. Due to the configuration of the first segment 102.1 as a hyperbola, it has a virtual focus 172 and maps the real light source 105 into a virtual light source. The virtual light source is in turn emitted by the second segment 102.3 with a second optical surface, on which the grating element is applied, for the +1. Diffraction order 129 shown in the aperture plane 125 . In Fig. 3 are also the 0th diffraction order 131 and the +2. Diffraction order 133 shown. The distance from the virtual light source, which lies in the virtual focus 172 , to the center point 170.3 of the second segment 102.3 projected in the meridional section onto the x-axis is denoted by x ₂ , the distance from the center point 170.3 of the second segment to the focus 127 of the +1. Diffraction order projected onto the x axis is referred to as x ₂ 'in the meridional section.

Nachfolgend soll für einen genesteten Kollektor mit einer Vielzahl von um eine gemeinsame Achse HA rotationssymmetrischen Spiegelschalen mit zwei Segmenten ein Ausführungsbeispiel gegeben werden, das eine Gitterstruktur im Bereich der zweiten Reflexion, d. h. auf der zweiten optischen Fläche des zweiten Segmentes, trägt. Dadurch soll erreicht werden, daß breitbandige EUV-Strahlung, wie sie beispielsweise von Plasmaquellen erzeugt wird, gefiltert wird. Die charakteristischen Größen des Systems, die Ausgangspunkt für die nachfolgende Berechnung sind in Tabelle 1 angegeben. Tabelle 1 Charakteristische Größen des Systems

In the following, an embodiment is to be given for a nested collector with a plurality of mirror shells with two segments that are rotationally symmetrical about a common axis HA and that carries a grating structure in the region of the second reflection, ie on the second optical surface of the second segment. This is intended to filter broadband EUV radiation, such as that generated by plasma sources, for example. The characteristic sizes of the system and the starting point for the subsequent calculation are given in Table 1. Table 1 Characteristic sizes of the system

Bei den Systemen mit zwei Segmenten geschieht die Abbildung der Quelle auf die Blende in zwei Schritten. Die erste optische Reflexionsfläche des ersten Segmentes 102.1 ist als Hyperboloid-Fläche ausgebildet, um eine virtuellen Fokus 172 für die zweite optische Reflexionsfläche des zweiten Segmentes 102.3 zu schaffen. Dort ist eine Gitterstruktur eingebracht, die das Licht spektral aufspalten. Die Fläche des zweiten Spiegelsegmentes 102.3 ist dabei toroidal gekrümmt, d. h. die Mantellinie ist kreisförmig und die Toroidfläche weist in der Meridonalebene eine Krümmung bzw. einen Radius auf. Die Gitterliniendichten und der Radius der Toroidfläche muß nun so berechnet werden, daß der Fokus der +1. Beugungsordnung in der Blendenebene zu liegen kommt. Alle anderen Ordnungen, sowie die 0. Beugungsordnung erscheinen in der Blendenebene als konzentrische Ringe um diesen Fokus und werden durch die Blende aufgehalten. Günstigerweise wird das Gitter als Blaze-Gitter ausgeführt um ein maximale Beugungseffizienz zu erreichen. Die Gitterliniendichte des Gitters wird so gewählt, daß die Ordnungen ausreichend getrennt sind, um eine gute Filterfunktion zu erreichen. Schließlich soll die Geometrie des Gitters möglichst so gewählt sein, daß die Aberrationen minimal sind. In systems with two segments, the mapping of the source to the aperture is done in two steps. The first optical reflection surface of the first segment 102.1 is designed as a hyperboloid surface in order to create a virtual focus 172 for the second optical reflection surface of the second segment 102.3 . There is a lattice structure that spectrally split the light. The surface of the second mirror segment 102.3 is toroidally curved, ie the surface line is circular and the toroidal surface has a curvature or a radius in the meridional plane. The grid line densities and the radius of the toroid surface must now be calculated so that the focus of the +1. Diffraction order comes to lie in the aperture plane. All other orders, as well as the 0th diffraction order, appear in the aperture plane as concentric rings around this focus and are held up by the aperture. The grating is advantageously designed as a blaze grating in order to achieve maximum diffraction efficiency. The grid line density of the grid is chosen so that the orders are sufficiently separated to achieve a good filter function. Finally, the geometry of the grid should be chosen so that the aberrations are minimal.

Nachfolgend werden die Formeln, aus denen sich die Gitterkonstante, der Blaze- Winkel, der Radius der Toroidfläche des zweiten Segmentes im Meridonalschnitt und die Parameter der Hyperboloidfläche ergeben, hergeleitet. The formulas that make up the lattice constant, the blaze Angle, the radius of the toroidal surface of the second segment in the meridonal section and the parameters of the hyperboloid surface are derived.

Zunächst werden die grundsätzliche Geometrie mit den Hauptabständen festgelegt. Daran anschließend werden die Gitterfläche und die Hyperboloidfläche mit ihren Parametern festgelegt. Schließlich werden die Ausdehnungen der Flächen so bestimmt, daß sich eine möglichst lückenlose Übertragung der Apertur ergibt. First, the basic geometry with the main distances are determined. Then the grid area and the hyperboloid area with their Parameters. Finally, the extents of the surfaces are determined that the transmission of the aperture is as complete as possible.

Die Abstände zwischen Quelle, erster Abbildung und zweiter Abbildung werden wie nachfolgend beschrieben festgelegt. Die in der nachfolgenden Ableitung angegebenen Größen können sämtlich Fig. 3, 4a und 4b entnommen werden. The distances between the source, first figure and second figure are defined as described below. The sizes specified in the following derivation can all be found in FIGS. 3, 4a and 4b.

In Fig. 3 ist eine Spiegelschale mit einem ersten Segment 102.1 und einem zweiten Segment 102.3 gezeigt. In Fig. 4a ist detaillierter das zweite Segment 102.3 der Spiegelschale mit den für die Ableitung erforderlichen Größen und in Fig. 4b das erste Segment 102.1 mit den für die Ableitung erforderlichen Größen dargestellt. FIG. 3 shows a mirror shell with a first segment 102.1 and a second segment 102.3 . In Fig. 4a is shown in more detail, the second segment 102.3 of the mirror shell with necessary for the derivation of sizes, and in Fig. 4b the first segment of 102.1 with the required for the derivation of sizes.

Ausgehend vom Abstand x_g projeziert auf die x-Achse zwischen Quelle 105 und dem Fokus 127 in der Blendenebene 125 wird die Abbildung in zwei ungefähr gleiche Abbildungsschritte aufgeteilt. Dadurch wird erreicht, daß die inzidenten Winkel für keine der Reflexionen übermäßig groß wird. Starting from the distance x _g projected onto the x-axis between the source 105 and the focus 127 in the diaphragm plane 125 , the image is divided into two approximately identical imaging steps. This ensures that the incident angle does not become excessively large for any of the reflections.

Für den ersten Abbildungsschritt wird die axiale Objektweite x₁ und Bildweite x'₁ definiert, bzw. für den zweiten Abbildungsschritt: x₂ und x'₂. Diese sind die auf die optische Achse projizierten Schnittweiten, wie in Fig. 3 eingezeichnet. Damit gilt:

x_g = x₁ + x'₁ + x₂ + x'₂
The axial object width x ₁ and image width x ' _{1 are} defined for the first imaging step, and for the second imaging step: x ₂ and x' ₂ . These are the focal lengths projected onto the optical axis, as shown in FIG. 3. The following applies:

x _g = x ₁ + x ' ₁ + x ₂ + x' ₂

Die Abbildungsmaßstäbe der einzelnen Abbildungsschritte sind:

The illustration scales of the individual illustration steps are:

und der gesamten Abbildung ist:

M_g = M₁M₂
and the whole figure is:

M _g = M ₁ M ₂

Schließlich muß für jedes zweite Spiegelsegment 102.3 der Durchmesser festgelegt werden. Hierzu wird der Radius r am Zentrumspunkt 170.3 des zweiten Spiegelsegmentes 102.3 definiert. Der Zentrumspunkt 170.3 des zweiten Spiegelsegmentes 102.3 wurde in Fig. 3 definiert; der Radius r ist der radiale Abstand des Zentrumspunktes 170.3 von der optischen Achse HA. Finally, the diameter must be defined for every second mirror segment 102.3 . For this purpose, the radius r is defined at the center point 170.3 of the second mirror segment 102.3 . The center point 170.3 of the second mirror segment 102.3 was defined in FIG. 3; the radius r is the radial distance of the center point 170.3 from the optical axis HA.

Aus den Abständen x₂, x'₂ und r ergeben sich die Abstände zwischen Quellpunkt der Abbildung, hier dem virtuellen Fokus 172 und Zentrumspunkt 170.3, der mit s₂, bezeichnet wird sowie zwischen Zentrumspunkt 170.3 und Bildpunkt, hier dem Fokus der 1. Ordnung 127 in der Blendenebene 125, der mit s₂' bezeichnet wird. Es gilt:

s₂ und s₂' bezeichnet somit die nicht projezierten Abstände. The distances x ₂ , x ' ₂ and r result in the distances between the source point of the image, here the virtual focus 172 and center point 170.3 , which is denoted by s ₂ , and between the center point 170.3 and image point, here the focus of the 1st order 127 in the aperture plane 125 , which is denoted by s ₂ '. The following applies:

s ₂ and s ₂ 'thus designate the non-projected distances.

Die Gitterliniendichte n ergibt sich aus der Forderung, daß die 0. Beugungsordnung mit ausreichenden Abstand g von der 1. Ordnung in der Blendenebene 125 getrennt ist. Der Abstand g für die Zentrumsstrahlen 174.1 des in die 1. Ordnung gebeugten Teilichtbüschels und 174.0 des in die 0. Ordnung gebeugten Teillichtbüschels sind in Fig. 4a gezeigt. The grating line density n results from the requirement that the 0th diffraction order is separated from the 1st order in the diaphragm plane 125 by a sufficient distance g. The distance g for the center rays 174.1 of the partial light bundle bent in the 1st order and 174.0 of the partial light bundle bent into the 0th order are shown in FIG. 4a.

Ausgehend von der Quellgröße und unter Beachtung des Abbildungsmaßstabes ergibt sich die Größe des Bildes der Lichtquelle im Fokus 127 der 1. Beugungsordnung im Bereich der Blendenebene 125. Es gilt nun zu fordern, daß die 0. Beugungsordnung um ein Vielfaches der Bildgröße davon entfernt ist. Hier kann z. B. angenommen werden, daß bei zehnfachem Abstand f eine ausreichende Trennung der Nutzwellenlänge von der sonstigen Strahlung erreicht wird:

g = f.d"

D" bezeichnet den Durchmesser des Bildes der Lichtquelle 105 in der Blendenebene 125. Der Durchmesser D der Lichtquelle 105 ist wie in Tabelle 1 angegeben. Starting from the source size and taking into account the imaging scale, the size of the image of the light source in focus 127 of the first diffraction order in the area of the aperture plane 125 results. It is now necessary to demand that the 0th diffraction order is a multiple of the image size away from it. Here z. B. it can be assumed that a sufficient separation of the useful wavelength from the other radiation is achieved at ten times the distance f:

g = fd "

D "denotes the diameter of the image of the light source 105 in the diaphragm plane 125. The diameter D of the light source 105 is as given in Table 1.

Nun kann aus dieser Bedingung für die Trennung der 0. und 1. Beugungsordnung, d. h. den Abstand g die notwendigen Beugungswinkel α und β gegenüber der Flächennormalen 180 im Zentrumspunkt 170.3 des zweiten Segmentes sowie der Verkippung γ der Flächennormalen 180 im Zentrumspunkt 170.3 gegenüber der y- Achse bestimmt werden. Dazu wird zunächst der Winkel δ zwischen den Zentrumsstrahlen 174.1, 174.0 zwischen 0. und 1. Beugungsordnung berechnet, der wie folgt mit dem geforderten Abstand g in der Blendeneben 125 korreliert ist:

außerdem ergeben sich die Winkel α', β' der einfallenden und ausfallenden Teilichtbüschel der 1. Ordnung bezogen auf die y-Achse:

From this condition for the separation of the 0th and 1st diffraction order, ie the distance g, the necessary diffraction angles α and β with respect to the surface normal 180 in the center point 170.3 of the second segment and the tilt γ of the surface normals 180 in the center point 170.3 with respect to the y- Axis can be determined. For this purpose, the angle δ between the center beams 174.1 , 174.0 between the 0th and 1st diffraction orders is first calculated, which is correlated with the required distance g in the diaphragm plane 125 as follows:

In addition, the angles α ', β' of the incoming and outgoing partial light tufts of the 1st order result in relation to the y-axis:

Nun können die gesuchten Winkel bestimmt werden:

α = (α' - β' - δ)/2

γ = α - α'

β = β' - γ
Now the searched angles can be determined:

α = (α '- β' - δ) / 2

γ = α - α '

β = β '- γ

Unter Zuhilfenahme der Beugungsformel:

sinα + sinβ = n.k.λ

kann nun die Linienzahldichte n für die Nutzwellenlänge berechnet werden für die +1. Beugungsordnung mit k = 1. Außerdem ergibt sich der Blaze-Winkel zu:

ε = (|α| - |β|)/2
With the help of the diffraction formula:

sinα + sinβ = nkλ

the line number density n for the useful wavelength can now be calculated for the +1. Diffraction order with k = 1. In addition, the blaze angle results in:

ε = (| α | - | β |) / 2

Der Radius RM des zweiten Spiegelsegmentes im Meridonalschnitt, d. h. die Krümmung der um die optische Achse HA rotationssymmetrischen Fläche wird über die Fokusbedingung für Toroidgitter bestimmt. Die Fokusbedingung fordert F₂₀ = 0. Diese Bedingung kann Handbook on Synchrotron Radiation, Vol. 2, Kap. 4. "Diffraction grating optics", edited by G. V. Marr, Elsevier Science auf S.69 entnommen werden. The radius RM of the second mirror segment in the meridional section, ie the curvature of the surface which is rotationally symmetrical about the optical axis HA, is determined via the focus condition for toroid gratings. The focus condition requires F ₂₀ = 0. This condition can be found in the Handbook on Synchrotron Radiation, Vol. 2, Chap. 4. "Diffraction grating optics", edited by GV Marr, Elsevier Science on p.69.

Aus der Bedingung F₂₀ = 0 folgt dann für den Radius RM der Toroidfläche im Meridonalschnitt:

The condition F ₂₀ = 0 then follows for the radius RM of the toroid surface in the meridonal section:

Nachdem die charakteristischen Größen für das zweite Spiegelsegment, das das Gitter trägt, berechnet wurden, sollen nunmehr die charakteristischen Größen für das erste Spiegelsegment 170.1 mit einer hyperbelförmigen Fläche 200 im Meridonalschnitt abgeleitet werden. Bezüglich der Bezeichnungen wird auf Fig. 4b verwiesen. Die allgemeine Gleichung für eine Hyperbel im Meridonalschnitt, d. h. in der x- y-Ebene wie in Fig. 4b dargestellt mit dem einen Scheitel am Koordinatenursprung ist:

After the characteristic sizes for the second mirror segment that carries the grating have been calculated, the characteristic sizes for the first mirror segment 170.1 with a hyperbolic surface 200 in the meridional section are now to be derived. With regard to the designations, reference is made to FIG. 4b. The general equation for a hyperbola in the meridional section, ie in the xy plane as shown in Fig. 4b with one vertex at the origin of the coordinate is:

Die hyperbolische Fläche ergibt sich einerseits aus der Bedingung, daß der Quellpunkt und der virtuelle Fokus 172 der Lichtquelle 105 mit den Brennpunkten der Hyperbel gleichgesetzt wird. Dies ist dann der Fall, wenn der Abstand zwischen den Brennpunkten der Hyperbel gerade 2c entspricht. Andererseits gilt für jeden Punkt der Hyperbel, daß die Differenz der Abstände zu den Brennpunkten gerade 2a ist. Schließlich gilt für die Hyperbel der Zusammenhang:

The hyperbolic surface arises on the one hand from the condition that the source point and the virtual focus 172 of the light source 105 are equated with the focal points of the hyperbola. This is the case if the distance between the focal points of the hyperbola corresponds to 2c. On the other hand, the hyperbola applies to each point that the difference between the distances from the focal points is just 2a. Finally, the relationship applies to the hyperbola:

Damit können die Konstanten der Hyperbel bestimmt werden. Zunächst berechnet man 2c = x₁ + x'₁. Nun geht man von dem Randpunkt der Gitterfläche aus, an der die Hyperbel anschließen soll, woraus sich a, und damit auch b ergeben. This allows the constants of the hyperbola to be determined. First calculate 2c = x ₁ + x ' ₁ . Now one starts from the edge point of the lattice surface to which the hyperbola should connect, from which a, and thus b, result.

Betreffend die Grundsätze der Beugung an Gittern wird auf Handbook on Synchrotron Radiation, Vol. 2, Kap. 4. "Diffraction grating optics", edited by G. V. Marr, Elsevier Science verwiesen. Regarding the principles of diffraction on gratings is on Handbook on Synchrotron Radiation, Vol. 2, Chap. 4. "Diffraction grating optics", edited by G.V. Marr, Elsevier Science referenced.

In Tabelle 2 ist ein 6-schaliger genesteter, um die Hauptachse HA rotationssymmetrischer Kollektor gemäß der Erfindung angegeben. Jede Schale weist ein erstes und ein zweites Segment auf mit einer ersten und einer zweiten optischen Fläche auf, die vorliegend mit den Segmenten übereinstimmt. Das erste Segment ist eine hyperboloidförmige Fläche und auf das zweite Segment ist die periodische Gitterstruktur aufgebracht ist. In Table 2 is a 6-shell nested around the major axis HA specified rotationally symmetrical collector according to the invention. Each bowl has a first and a second segment with a first and a second optical surface on the in the present case matches the segments. The first segment is one hyperboloidal surface and on the second segment is the periodic lattice structure is applied.

Die in Tabelle 2 verwandten Größen sind sämtlich zuvor definiert worden. Das gewählte Referenzkoordinatensystem liegt mit seinem Ursprung (0,0,0) am Ort der Lichtquelle 105. The sizes related in Table 2 have all been previously defined. The selected reference coordinate system lies with its origin (0,0,0) at the location of the light source 105 .

Es bezeichnet:
x₁: Abstand in Richtung der x-Achse von Lichtquelle 105 zum Zentrumspunkt 170.1 des ersten Spiegelsegmentes
x₁': Abstand in Richtung der x-Achse von virtuellem Fokus 172 zum Zentrumspunkt 170.1 des ersten Spiegelsegmentes
x₂: Abstand in Richtung der x-Achse von virtuellem Fokus 172 zum Zentrumspunkt 170.3 des zweiten Spiegelsegmentes
x₂': Abstand in Richtung der x-Achse vom Fokuspunkt 127 der 1. Ordnung zum Zentrumspunkt des zweiten Spiegelsegmentes
x_g: x₁: Abstand in Richtung der x-Achse von Lichtquelle 105 zum Fokuspunkt 127 der 1. Beugungsordnung
M₁: erster Abbildungsmaßstab
M₂: zweiter Abbildungsmaßstab
M_g: Abbildungsmaßstab der gesamten Abbildung
x_1a: x-Koordinate des Beginns des ersten Segmentes
x_1e: x-Koordinate des Endes des ersten Segmentes
y_1a: y-Koordinate des Beginns des ersten Segmentes
y_1e: y-Koordinate des Ende des ersten Segmentes
a, b: Parameter der Hyperbel
x_2a: x-Koordinate des Beginns des zweiten Segmentes
x_2e: x-Koordinate des Endes des zweiten Segmentes
y_1a: y-Koordinate des Beginns des zweiten Segmentes
y_2e: y-Koordinate des Endes des zweiten Segmentes
RM: Radius des zweiten Segmentes in der Meridonalebene
n: Linienzahldichte des Gitters
α: Winkel des einfallenden Zentrumsstrahls gegenüber der Normalen im Zentrumspunkt der zweiten Spiegelschale
β: Winkel des in die 1. Ordnung gebeugten Zentrumsstrahls gegenüber der Normalen im Zentrumspunkt der zweiten Spiegelschale
ε: Blazewinkel
λ_min: minimale Wellenlänge, die durch die Blende hindurchtritt
λ_max: maximale Wellenlänge, die durch die Blende hindurchtritt Tabelle 2 6-schaliger genesteter Kollektor mit Gitterstruktur

It denotes:
x ₁ : Distance in the direction of the x-axis from light source 105 to center point 170.1 of the first mirror segment
x ₁ ': Distance in the direction of the x-axis from virtual focus 172 to center point 170.1 of the first mirror segment
x ₂ : Distance in the direction of the x-axis from virtual focus 172 to center point 170.3 of the second mirror segment
x ₂ ': Distance in the direction of the x-axis from the focus point 127 of the 1st order to the center point of the second mirror segment
x _g : x ₁ : Distance in the direction of the x-axis from light source 105 to focus point 127 of the 1st diffraction order
M ₁ : first image scale
M ₂ : second image scale
M _g : image scale of the entire image
x _1a : x coordinate of the beginning of the first segment
x _1e : x coordinate of the end of the first segment
y _1a : y coordinate of the beginning of the first segment
y _1e : y coordinate of the end of the first segment
a, b: parameters of the hyperbola
x _2a : x coordinate of the start of the second segment
x _2e : x coordinate of the end of the second segment
y _1a : y coordinate of the start of the second segment
y _2e : y coordinate of the end of the second segment
RM: radius of the second segment in the meridonal plane
n: line number density of the grid
α: Angle of the incident center beam with respect to the normal at the center point of the second mirror shell
β: Angle of the center beam diffracted into the 1st order with respect to the normal at the center point of the second mirror shell
ε: Blaze angle
λ _min : minimum wavelength that passes through the aperture
λ _max : maximum wavelength that passes through the aperture Table 2 6-shell nested collector with a lattice structure

In Fig. 5 ist ein Blaze-Gitter mit annähernd dreieckförmigen Furchenprofil gezeigt. Die Bezugsziffer 201 bezeichnet den auf das Blaze-Gitter mit der Gitterperiode P auftreffenden Strahl; 202 den am Gitter in die 0. Ordnung reflektierten und 204 den in die +1. Ordnung gebeugten Strahl, 206 den in die -1. Ordnung gebeugten Strahl. 208 bezeichnet die Gitternormale, α den Winkel des einfallenden Strahls gegenüber der Normalen 208 und β den Winkel des in die +1. Ordnung gebeugten Strahls. Für den Blaze-Winkel ergibt sich in Abhängigkeit von der zuvor genannten Größen die nachfolgende Gleichung:

In Fig. 5 is a blazed grating is shown with an approximately triangular groove profile. Reference numeral 201 denotes the beam striking the blaze grating with the grating period P; 202 that reflected on the grid in the 0th order and 204 that in the +1. Order diffracted beam, 206 den in the -1. Order diffracted beam. 208 denotes the grid normal, α the angle of the incident beam with respect to the normal 208 and β the angle of the +1. Order diffracted beam. The following equation results for the blaze angle depending on the quantities mentioned above:

Die Blazetiefe B ergibt sich bei vorgegebenem Blaze-Winkel ε und Linizahldichte n zu

B = n tan ε

wobei der mit dem Winkel α gegenüber der Gitternormalen 208 einfallende Strahl 201 mit der zum Blaze-Winkel ε gehörenden Blaze-Effizienz unter dem Beugungswinkel β gegenüber der Gitternormalen 208 in die +1. Ordnung in Richtung auf die Blendenebene, die vorliegend nicht dargestellt ist, gebeugt wird. The blaze depth B results for a given blaze angle ε and line number density n

B = n tan ε

where the beam 201 incident with the angle α with respect to the grating normal 208 with the blaze efficiency belonging to the blaze angle ε at the diffraction angle β with respect to the grating normal 208 into +1. Order in the direction of the diaphragm plane, which is not shown here, is diffracted.

Die optischen Komponenten und der Strahlverlauf einiger Lichtstrahlen einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem genesteten Kollektor gemäß der Erfindung sind in Fig. 6 gezeigt. The optical components and the beam path of some light beams of a projection exposure system with a nested collector according to the invention are shown in FIG. 6.

Der erfindungsgemäße Kollektor weist auf dem zweiten Segment eine periodische Gitterstruktur auf. Zusammen mit der Blende 1202, die in der Nähe des Zwischenbildes Z der Quelle in der +1. Beugungsordnung angeordnet ist, kann damit ungewünschte Strahlung mit beispielsweise Wellenlängen wesentlich größer als der gewünschten Wellenlänge, im vorliegenden Fall 13.5 nm, vom Eintritt in den Teil des hinter der Blende 1202 liegenden Beleuchtungssystems abgehalten werden. The collector according to the invention has a periodic lattice structure on the second segment. Together with the aperture 1202 , which is near the intermediate image Z of the source in the +1. Diffraction order is arranged, unwanted radiation with, for example, wavelengths much greater than the desired wavelength, in the present case 13.5 nm, can be prevented from entering the part of the lighting system behind the aperture 1202 .

Die Blende 1202 kann auch dazu dienen, den Raum 1204 umfassende Lichtquelle 1000 und den genesteten Kollektor 1003 vom nachfolgenden Beleuchtungssystem 1206 räumlich und druckmäßig zu trennen Durch eine räumliche beziehungsweise eine druckmäßige Trennung kann verhindert werden, daß Verschmutzungen, die von der Lichtquelle herrühren in das hinter der Blende 1202 liegende Beleuchtungssystem gelangen. The aperture 1202 may also serve the space 1003 spatially and in terms of pressure to separate 1204 comprehensive light source 1000 and the nested collector from the subsequent illumination system 1206 through a spatial or a pressure-uniform separation can be prevented from pollution originating from the light source in the rear lighting system located at the aperture 1202 .

Das in Fig. 6 gezeigte Beleuchtungssystem umfaßt einen genesteten Kollektor 1003 gemäß der Erfindung Das erste optische Element 1102 umfaßt 122 erste Rasterelemente mit einer Ausdehnung von jeweils 54 mm × 2.75 mm. Das zweite optische Element 1104 weist 122 den ersten Rasterelementen zugeordneten zweiten Rasterelementen mit einem Durchmesser von jeweils 10 mm auf. The lighting system shown in FIG. 6 comprises a nested collector 1003 according to the invention. The first optical element 1102 comprises 122 first raster elements, each with an extension of 54 mm × 2.75 mm. The second optical element 1104 has 122 second raster elements assigned to the first raster elements, each with a diameter of 10 mm.

Die optischen Elemente 1106, 1108 und 1110 dienen im wesentlichen dazu, das Feld in der Objektebene 1114 zu formen. Das Retikel in der Objektebene ist eine Reflexionsmaske. Das Retikel ist in dem als Scanning-System ausgelegten EUV- Projektionssystem in die eingezeichnete Richtung 1116 verfahrbar. Die Austrittspupille des Beleuchtungssystems wird weitgehend homogen ausgeleuchtet. Die Austrittspupille fällt mit der Eintrittspupille eines nachfolgenden Projektionsobjektives zusammen. Die Eintrittspupille des Projektionsobjektives ist nicht dargestellt. Sie befindet sich an der Stelle des Schnittpunktes des vom Retikel reflektierten Hauptstrahles mit der optischen Achse des Projektionsobjektives. The optical elements 1106 , 1108 and 1110 essentially serve to shape the field in the object plane 1114 . The reticle in the object plane is a reflection mask. The reticle can be moved in the drawn direction 1116 in the EUV projection system designed as a scanning system. The exit pupil of the lighting system is largely homogeneously illuminated. The exit pupil coincides with the entrance pupil of a subsequent projection lens. The entrance pupil of the projection lens is not shown. It is located at the point of intersection of the main beam reflected by the reticle with the optical axis of the projection lens.

Ein Projektionsobjektiv 1126 beispielsweise mit sechs Spiegeln 1128.1, 1128.2, 1128.3, 1128.4, 1128.5, 1128.6 gemäß der US-Patentanmeldung 09/503640 bildet das Retikel auf das zu belichtende Objekt 1124 ab. A projection objective 1126, for example with six mirrors 1128.1 , 1128.2 , 1128.3 , 1128.4 , 1128.5 , 1128.6 according to the US patent application 09/503640, images the reticle onto the object 1124 to be exposed.

Claims

1. Collector unit for lighting systems with a wavelength of 19 193 nm, preferably 126 126 nm, particularly preferably in the range of EUV wavelengths, onto the rays of a bundle of rays that impinge on an object in an object plane

1. 1.1 at least one mirror sheep, which receives the rays of the bundle of rays emanating from the object and has an optical effect, characterized in that

2. 1.3 a periodic structure with at least one grating period is applied to at least part of the mirror shell.

2. Collector unit according to claim 1, characterized in that the rays of the beam at an angle of ≤ 20 ° to the surface tangent of the Hit the mirror bowl.

3. Collector unit according to claim 1 or 2, characterized in that the Mirror shells arranged rotationally symmetrical to an axis of rotation are.

4. Collector unit according to claim 3, characterized in that the Collector unit comprises a plurality of rotationally symmetrical mirror shells, which are arranged one inside the other around a common axis of rotation.

5. Collector unit according to claim 4, characterized in that everyone Mirror shell is a ring aperture element of an aperture on the object side, which is formed by a the light source arranged at the object level receives radiated light, is assigned and the ring aperture elements do not overlap.

6. Collector unit according to one of claims 1 to 5, characterized in that the mirror shells are annular segments of aspheres.

7. Collector unit according to claim 6, characterized in that the Mirror bowl is an annular segment of an ellipsoid, or paraboloid or a hyperboloid.

8. Collector unit according to one of claims 1 to 7, characterized in that at least one mirror shell has a first segment with a first optical and a second segment with a second optical surface.

9. Collector unit according to claim 8, characterized in that the periodic structure is applied to the second segment.

10. Collector unit according to claim 8, characterized in that the periodic structure on the first segment or on the first and second segment is applied.

11. Collector unit according to one of claims 8 to 10, characterized in that the first annular segment is a section of a hyperboloid.

12. Collector unit according to one of claims 1 to 11, characterized in that that the periodic structure is a blaze grating with blaze angle ε.

13. Collector unit according to one of claims 1 to 12, characterized in that that the expansion of the mirror shells in the direction of the axis of rotation is different and the extension is chosen such that the grid is not diffracted 0th order from the back of the neighboring mirror shell is absorbed so that no light of the 0th order emerges from the collector unit.

14. Illumination system for wavelengths ≤ 193 nm, in particular <126 nm, particularly preferably in the EUV range

1. 14.1 a light source

2. 14.2 at least one collector unit

3. 14.3 a level to be illuminated,

characterized in that

1. 14.4 the collector unit is a collector unit according to one of claims 1 to 13.

15. Lighting system according to claim 14, characterized in that the Lighting system between the collector unit and the one to be illuminated Plane comprises a plane conjugated to the light source, in which an intermediate image the light source is formed.

16. Illumination system for wavelengths ≤ 193 nm according to one of the claims 14 to 15, characterized in that in or near the intermediate image Aperture is arranged.

17. EUV projection exposure system with

1. 17.1 a lighting system according to one of claims 13 to 16,

2. 17.2 a mask which is illuminated by the lighting system,

3. 17.3 a projection lens for imaging the mask

4. 17.4 a light sensitive object.