DE102023204394A1 - Method for minimizing pressure fluctuations and projection exposure system - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft Verfahren zur Minimierung der Druckschwankungen (60,71,74,77) in einer Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie mit mindestens einer Komponente (30) mit einem Fluidkanal (31) und einer Vorrichtung (40,70) mit einer Fluidleitung (41) zur Bereitstellung eines Fluids (32) zum Durchströmen des Fluidkanals (31), wobei die Vorrichtung (40,70) mindestens einen Sensor (51,52,57) zur Erfassung einer Druckschwankung im Fluid und mindestens einen Aktuator (53,58) zur Erzeugung einer Druckschwankung im Fluid (32) umfasst, umfassend folgende Verfahrensschritte:- Erfassung der Druckschwankung (60,71,74,77) in der Fluidleitung (41)- Bestimmung eines Aktuatorsignals auf Basis der erfassten Druckschwankungen (60,71)- Erzeugung einer Druckschwankung (61,72,75) im Fluid (32) mit dem Aktuator (53,58) zur Kompensation der erfassten Druckschwankungen (60,71,74,77) im Fluid (32).Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie mit mindestens einer Komponente (30) mit einem Fluidkanal (31) und einer Vorrichtung (40,70) mit einer Fluidleitung (41) zur Bereitstellung eines Fluids (32) zum Durchströmen des Fluidkanals (31). Die Vorrichtung (40,70) umfasst dabei mindestens einen Sensor (51,52,58) zur Erfassung einer Druckschwankung (60,71,74) im Fluid, eine Steuerungseinheit (50) zur Bestimmung eines Aktuatorsignals und mindestens einen Aktuator (53,58) zur Erzeugung einer Druckschwankung (61,72,75) zur Kompensation von Druckschwankungen (60,71,74) im Fluid (32) und zeichnet sich dadurch aus, dass der Sensor (51,57) in Richtung zur Komponente (30) vor dem Aktuator (53,58) angeordnet ist.The invention relates to methods for minimizing pressure fluctuations (60,71,74,77) in a projection exposure system (1,101) for semiconductor lithography with at least one component (30) with a fluid channel (31) and a device (40,70) with a fluid line (41) for providing a fluid (32) to flow through the fluid channel (31), wherein the device (40,70) comprises at least one sensor (51,52,57) for detecting a pressure fluctuation in the fluid and at least one actuator (53,58) for generating a pressure fluctuation in the fluid (32), comprising the following method steps:- detecting the pressure fluctuation (60,71,74,77) in the fluid line (41)- determining an actuator signal based on the detected pressure fluctuations (60,71)- generating a pressure fluctuation (61,72,75) in the fluid (32) with the actuator (53,58) for compensating the detected pressure fluctuations (60,71,74,77) in the fluid (32).The invention further relates to a projection exposure system (1,101) for semiconductor lithography with at least one component (30) with a fluid channel (31) and a device (40,70) with a fluid line (41) for providing a fluid (32) to flow through the fluid channel (31). The device (40,70) comprises at least one sensor (51,52,58) for detecting a pressure fluctuation (60,71,74) in the fluid, a control unit (50) for determining an actuator signal and at least one actuator (53,58) for generating a pressure fluctuation (61,72,75) for compensating pressure fluctuations (60,71,74) in the fluid (32) and is characterized in that the sensor (51,57) is arranged in front of the actuator (53,58) in the direction of the component (30).

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Minimierung von Druckschwankungen in Fluidleitungen einer Projektionsbelichtungsanlage und eine Projektionsbelichtungsanlage.The invention relates to a method for minimizing pressure fluctuations in fluid lines of a projection exposure system and to a projection exposure system.

Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithografie unterliegen extrem hohen Anforderungen an die Abbildungsqualität, um die gewünschten mikroskopisch kleinen Strukturen möglichst fehlerfrei herstellen zu können. In einem Lithografieprozess oder einem Mikrolithografieprozess beleuchtet ein Beleuchtungssystem eine fotolithografische Maske, die auch als Retikel bezeichnet wird. Das durch die Maske hindurchtretende Licht oder das von der Maske reflektierte Licht wird von einer Projektionsoptik auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes, in der Bildebene der Projektionsoptik angebrachtes Substrat (beispielsweise einen Wafer) projiziert, um die Strukturelemente der Maske auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Die Anforderungen an die Positionierung der Abbildung auf dem Wafer und die Intensität des durch das Beleuchtungssystem bereitgestellten Lichts werden mit jeder neuen Generation erhöht, was zu einer höheren Wärmelast auf den optischen Elementen führt.Projection exposure systems for semiconductor lithography are subject to extremely high requirements for image quality in order to be able to produce the desired microscopically small structures with as little error as possible. In a lithography process or a microlithography process, an illumination system illuminates a photolithographic mask, also known as a reticle. The light passing through the mask or the light reflected from the mask is projected by a projection optics onto a substrate (for example a wafer) coated with a light-sensitive layer (photoresist) and mounted in the image plane of the projection optics in order to transfer the structure elements of the mask onto the light-sensitive coating of the substrate. The requirements for the positioning of the image on the wafer and the intensity of the light provided by the illumination system are increased with each new generation, which leads to a higher heat load on the optical elements.

In Fällen hoher Wärmelast kann es von Vorteil sein, insbesondere die als Spiegel ausgebildeten optischen Elemente in EUV-Projektionsbelichtungsanlagen, also in Anlagen, die mit elektromagnetischer Strahlung der Wellenlänge zwischen 1nm und 120nm, insbesondere bei 13,5nm betrieben werden, durch eine Wasserkühlung zu temperieren. Auch in DUV-Projektionsbelichtungsanlagen, also in Anlagen, die mit elektromagnetischer Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen 120nm und 300nm betrieben werden, können wassergekühlte Spiegel zum Einsatz kommen. Diese Spiegel umfassen Fluidkanäle, die von temperiertem Wasser durchströmt werden und dadurch die Wärme von der optischen Wirkfläche, also der von dem zur Abbildung der Strukturelemente genutzten Licht beaufschlagten Spiegeloberfläche, wegführen. Das Wasser wird von einem Wasserkabinett aufbereitet und bereitgestellt, wobei das Wasserkabinett über Fluidleitungen mit dem Spiegel verbunden ist. Dabei muss jegliche dynamische bzw. mechanische Anregung, sowohl über die Zuleitungen und Ableitungen des temperierten Wassers übertragene Anregungen, als auch über die sogenannte Fluidakustik, also die im Wasser selbst übertragenen Anregungen, vermieden werden, da jede derartige Anregung die abbildenden Prozesse der Projektionsbelichtungsanlage stört.In cases of high heat load, it can be advantageous to use water cooling to control the temperature of the optical elements designed as mirrors in EUV projection exposure systems, i.e. in systems that are operated with electromagnetic radiation with a wavelength between 1 nm and 120 nm, in particular at 13.5 nm. Water-cooled mirrors can also be used in DUV projection exposure systems, i.e. in systems that are operated with electromagnetic radiation with a wavelength between 120 nm and 300 nm. These mirrors comprise fluid channels through which tempered water flows, thereby conducting the heat away from the optical effective surface, i.e. the mirror surface exposed to the light used to image the structural elements. The water is prepared and provided by a water cabinet, which is connected to the mirror via fluid lines. Any dynamic or mechanical excitation, both excitations transmitted via the supply and discharge lines of the tempered water, as well as via the so-called fluid acoustics, i.e. the excitations transmitted in the water itself, must be avoided, since any such excitation disturbs the imaging processes of the projection exposure system.

Die Anregungen im Wasser treten überwiegend in Form von Druckschwankungen auf und führen einerseits zu einer Positionsänderung der Spiegel und andererseits zu einer Deformation der optischen Wirkfläche der Spiegel, wobei beide Störungen einen negativen Einfluss auf die Abbildungsqualität der Projektionsbelichtungsanlage haben.The excitations in the water occur predominantly in the form of pressure fluctuations and lead on the one hand to a change in the position of the mirrors and on the other hand to a deformation of the optical effective surface of the mirrors, whereby both disturbances have a negative influence on the image quality of the projection exposure system.

Um die beschriebenen Effekte zu reduzieren, wird bereits bei aus dem Stand der Technik bekannten Lösungen eine Reihe von Maßnahmen ergriffen. Dazu zählt beispielsweise eine Optimierung der Gestaltung der Fluidkanäle im Spiegel, aber auch der Zu- oder Ableitungen zu dem bzw. von dem Spiegel; ebenso passive Dämpfungselemente, wie beispielsweise Helmholz-Resonatoren, welche zumindest Druckschwankungen in einem bestimmten Frequenzbereich dämpfen. Weiterhin ist die Kompensation von Druckschwankungen durch aktive Regelungen mit Aktuatorik und Sensorik bekannt. Durch die mit jeder Generation steigenden Produktanforderungen sind die bisher getroffenen Maßnahmen jedoch oftmals nicht mehr ausreichend, um die oben beschriebenen Anforderungen zu erfüllen.In order to reduce the effects described, a number of measures are already being taken in solutions known from the state of the art. These include, for example, optimizing the design of the fluid channels in the mirror, but also the supply and discharge lines to and from the mirror; as well as passive damping elements such as Helmholz resonators, which at least dampen pressure fluctuations in a certain frequency range. The compensation of pressure fluctuations through active control with actuators and sensors is also known. However, due to the increasing product requirements with each generation, the measures taken so far are often no longer sufficient to meet the requirements described above.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, welches die Druckschwankungen in den Fluidleitungen minimiert. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung bereitzustellen, welche die oben beschriebenen Nachteile des Standes der Technik beseitigt.The object of the present invention is to provide a method which minimizes the pressure fluctuations in the fluid lines. A further object of the invention is to provide a device which eliminates the disadvantages of the prior art described above.

Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren und eine Vorrichtung mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.This object is achieved by a method and a device having the features of the independent claims. The subclaims relate to advantageous developments and variants of the invention.

Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Reduzierung von Druckschwankungen in einem Fluid in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie mit mindestens einer Komponente mit einem Fluidkanal und einer Vorrichtung mit einer Fluidleitung zur Bereitstellung eines Fluids zum Durchströmen des Fluidkanals, wobei die Vorrichtung mindestens einen Sensor zur Erfassung einer Druckschwankung im Fluid und mindestens einen Aktuator zur Erzeugung einer Druckschwankung im Fluid umfasst, umfasst folgende Verfahrensschritte:

  • - Erfassung der Druckschwankung in der Fluidleitung.
  • - Bestimmung eines Aktuatorsignals auf Basis der erfassten Druckschwankung.
  • - Erzeugung einer Druckschwankung im Fluid mittels des Aktuators zur Kompensation der erfassten Druckschwankungen im Fluid.
A method according to the invention for reducing pressure fluctuations in a fluid in a projection exposure system for semiconductor lithography with at least one component with a fluid channel and a device with a fluid line for providing a fluid to flow through the fluid channel, wherein the device comprises at least one sensor for detecting a pressure fluctuation in the fluid and at least one actuator for generating a pressure fluctuation in the fluid, comprises the following method steps:
  • - Detection of pressure fluctuations in the fluid line.
  • - Determination of an actuator signal based on the detected pressure fluctuation.
  • - Generation of a pressure fluctuation in the fluid by means of the actuator to compensate for the detected pressure fluctuations in the fluid.

Das Verfahren nutzt dabei die überwiegend von Kopfhörern bekannte Geräuschunterdrückung durch destruktive Auslöschung von akustischen Anregungen in Form von Druckschwankungen. Die Druckschwankungen im üblicherweise als Wasser ausgebildeten Fluid setzen sich oftmals aus einem systematischen Anteil und einem zufälligen Anteil zusammen.The method uses the noise suppression known mainly from headphones through destructive cancellation of acoustic stimuli in the form of pressure fluctuations. Pressure fluctuations in a fluid usually formed as water often consist of a systematic component and a random component.

Der systematische Anteil zeichnet sich dadurch aus, dass er vorhersagbar ist und periodisch oder singulär sein kann. Ein periodischer Anteil kehrt in einem definierten Zeitintervall periodisch wieder, also ist mindestens für dieses Zeitintervall vorhersagbar. Die periodischen Druckschwankungen können sowohl als kontinuierliche Druckschwankungen, beispielsweise mit einem durchgehenden Sinusverlauf, als auch mit Pausen auftreten. Ein singulärer Anteil tritt entweder nur einmalig auf oder wiederholt sich zumindest in einem definierten Zeitintervall nicht.The systematic component is characterized by the fact that it is predictable and can be periodic or singular. A periodic component recurs periodically in a defined time interval, so it is predictable at least for this time interval. The periodic pressure fluctuations can occur both as continuous pressure fluctuations, for example with a continuous sinusoidal curve, and with pauses. A singular component either occurs only once or at least does not repeat itself in a defined time interval.

Der zufällige Anteil zeichnet sich durch nicht vorhersagbare Druckschwankungen aus, wobei die zufälligen Anteile ebenfalls periodisch oder singulär ausgebildet sein können.The random component is characterized by unpredictable pressure fluctuations, whereby the random components can also be periodic or singular.

Die Ursache für systematische Schwankungen können eine Pumpe oder regelmäßig wiederkehrende Anregungen wie eine Bewegung eines Bauteils in der Projektionsbelichtungsanlage sein. Die systematischen und zufälligen Druckschwankungen können dabei auch sehr weit außerhalb der Spiegel in der Anlage erzeugt werden, wie beispielsweise in einer anderen Komponente des Objektivs oder in dem Wasserkabinett.The cause of systematic fluctuations can be a pump or regularly recurring excitations such as the movement of a component in the projection exposure system. The systematic and random pressure fluctuations can also be generated very far outside the mirrors in the system, for example in another component of the lens or in the water cabinet.

In einer ersten Ausführungsform des Verfahrens kann ein systematischer Anteil der Druckschwankungen bestimmt werden. Dabei werden die erfassten Druckschwankungen zur Identifizierung mit vorbestimmten und bekannten Druckschwankungsverläufen, welche beispielsweise in einer Datenbank einer Steuerungseinheit der Vorrichtung hinterlegt sind, verglichen, wodurch die systematischen Anteile erkannt werden können.In a first embodiment of the method, a systematic component of the pressure fluctuations can be determined. In this case, the detected pressure fluctuations are compared with predetermined and known pressure fluctuation profiles, which are stored, for example, in a database of a control unit of the device, for identification purposes, whereby the systematic components can be identified.

Daneben kann der zufällige Anteil der Druckschwankungen bestimmt werden, wobei dieser dem verbleibenden Anteil der Druckschwankungen nach der Identifizierung der systematischen Anteile entsprechen kann, also die nicht identifizierbaren Anteile der Druckschwankungen enthält.In addition, the random portion of the pressure fluctuations can be determined, whereby this can correspond to the remaining portion of the pressure fluctuations after the identification of the systematic portions, i.e. it contains the unidentifiable portions of the pressure fluctuations.

Weiterhin können die vorhersagbaren Anteile und die zufälligen Anteile in periodische und aperiodische Anteile zerlegt werden. Dabei kann der periodische Anteil in einem vorbestimmten Zeitintervall und/oder kontinuierlich erfasst werden. Das vorbestimmte Zeitintervall kann beispielsweise die Dauer zwischen zwei Belichtungen eines Wafers sein.Furthermore, the predictable parts and the random parts can be broken down into periodic and aperiodic parts. The periodic part can be recorded in a predetermined time interval and/or continuously. The predetermined time interval can be, for example, the duration between two exposures of a wafer.

In einer weiteren Ausführungsform kann die Steuerungseinheit das Aktuatorsignal zur Kompensation der Druckschwankungen auf Basis eines Modells bestimmen. Die Modelle können beispielsweise ein Laufzeitmodell der Druckschwankungen im Fluid unter Berücksichtigung der Geometrie der Fluidleitungen und Fluidkanäle sowie der Komponente und anderer für die Komponente spezifischen Eigenschaften umfassen.In a further embodiment, the control unit can determine the actuator signal for compensating the pressure fluctuations based on a model. The models can, for example, include a runtime model of the pressure fluctuations in the fluid, taking into account the geometry of the fluid lines and fluid channels as well as the component and other properties specific to the component.

Insbesondere kann die Steuerungseinheit das Aktuatorsignal zur Kompensation der Druckschwankungen für jeden der bestimmten Anteile der Druckschwankungen auf Basis eines auf den jeweiligen Anteil abgestimmten Modells bestimmen. Die Modelle können sich dabei im Aufbau des Modells und/oder der verwendeten Modellparameter unterscheiden. Dies hat den Vorteil, dass die Güte der Kompensation gegenüber einem nicht optimierten Modell verbessert werden kann.In particular, the control unit can determine the actuator signal for compensating the pressure fluctuations for each of the specific components of the pressure fluctuations based on a model tailored to the respective component. The models can differ in the structure of the model and/or the model parameters used. This has the advantage that the quality of the compensation can be improved compared to a non-optimized model.

Insbesondere kann ein Auslöser die Zuordnung der systematischen Anteile zu den korrespondierenden Modellen bewirken. Der Auslöser wird beispielsweise bei einer positiven Identifizierung bei der Analyse der Druckschwankungen aktiviert, so dass das Aktuatorsignal für den so bestimmten systematischen Anteil mit einem für diesen Anteil in der Steuerungseinheit hinterlegten Modell bestimmt wird. Alternativ kann der Auslöser von einer anderen Komponente der Projektionsbelichtungsanlage oder über eine globale Ansteuerung an die Steuerungseinheit der Vorrichtung übermittelt werden. In diesem Fall kann über die globale Ansteuerung beispielweise beim Auslösen einer Bewegung einer Komponente, welche eine systematische Druckschwankung bewirkt, ein Auslöser an die lokale Steuerungseinheit übermittelt werden, welcher derart ausgebildet ist, dass die Steuerungseinheit den Zeitpunkt des Eintreffens der systematischen Druckschwankung an der Vorrichtung und die Form der Druckschwankungen umfasst. Dieser bewirkt daraufhin, dass das Aktuatorsignal zur Kompensation des so bestimmten systematischen Anteils der Druckschwankungen ebenfalls mit einem dafür optimierten und/oder im Vorfeld kalibrierten Modell bestimmt werden kann. Die Steuerungseinheit verwendet also zur Bestimmung der Aktuatorsignale auf Basis der Druckschwankungen für jeden der bestimmten Anteile ein für diesen optimiertes und/oder kalibriertes Modell.In particular, a trigger can cause the systematic components to be assigned to the corresponding models. The trigger is activated, for example, in the event of a positive identification during the analysis of the pressure fluctuations, so that the actuator signal for the systematic component thus determined is determined using a model stored for this component in the control unit. Alternatively, the trigger can be transmitted from another component of the projection exposure system or via a global control to the control unit of the device. In this case, a trigger can be transmitted to the local control unit via the global control, for example when a movement of a component is triggered which causes a systematic pressure fluctuation, which is designed in such a way that the control unit includes the time at which the systematic pressure fluctuation arrives at the device and the form of the pressure fluctuations. This then means that the actuator signal for compensating the systematic component of the pressure fluctuations thus determined can also be determined using a model that is optimized for this purpose and/or calibrated in advance. The control unit therefore uses a model optimized and/or calibrated for each of the specific components to determine the actuator signals based on the pressure fluctuations.

Insbesondere können die Aktuatorsignale zur Kompensation der Druckschwankungen zur Verwendung in einer Vorsteuerung bestimmt werden. In diesem Fall ist der Sensor in Richtung zur Komponente vor dem Aktuator angeordnet. Die hohe Schallgeschwindigkeit in Wasser von 1500 m/s bedingt, dass sich die Druckschwankungen prinzipiell auch entgegen der Flussrichtung des Fluids ausbreiten können. Die Bezeichnung „in Richtung zur Komponente“ ist unabhängig von der Fließrichtung des Fluids und soll klarstellen, dass die sich in Richtung zur Komponente ausbreitenden Druckschwankungen unabhängig von der Flussrichtung des Fluids kompensiert werden sollen. Dadurch kann im Bereich der Komponente die Druckschwankung im Fluid im Idealfall derart minimiert worden sein, dass diese bei null oder zumindest in einem die Abbildungsqualität nicht beeinflussenden Bereich liegt.In particular, the actuator signals can be determined for use in a pilot control to compensate for the pressure fluctuations. In this case, the sensor is arranged in the direction of the component in front of the actuator. The high speed of sound in water of 1500 m/s means that the pressure fluctuations can in principle also spread against the flow direction of the fluid. The term "in the direction of the component" is independent of the flow direction of the fluid and is intended to clarify that the pressure fluctuations spreading in the direction of the component are to be compensated regardless of the flow direction of the fluid. In this way, the pressure fluctuation in the fluid in the area of the component can ideally be minimized to such an extent that it is zero or at least in a range that does not affect the image quality.

In einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens kann ein zweiter in Richtung zur Komponente nach dem Aktuator angeordneter Sensor die nicht kompensierten Druckschwankungen erfassen. Die nicht kompensierten Druckschwankungen sind ein Maß der Güte der Kompensation und eine Analyse dieser kann einerseits die zu Verbesserung der Güte als auch zur Prüfung einer ausreichenden Kompensation verwendet werden.In a further embodiment of the method, a second sensor arranged downstream of the actuator in the direction of the component can detect the uncompensated pressure fluctuations. The uncompensated pressure fluctuations are a measure of the quality of the compensation and an analysis of these can be used both to improve the quality and to check whether compensation is sufficient.

Insbesondere kann mindestens ein Modell der Steuerungseinheit zur Bestimmung des Aktuatorsignale zur Kompensation der Druckschwankungen auf Basis der nicht kompensierten Druckschwankungen angepasst werden. Dabei können die verwendeten Modelle und/oder Modellparameter angepasst werden und so die durch die Vorsteuerung bewirkte Güte der Kompensation der Druckschwankungen weiter verbessert werden.In particular, at least one model of the control unit for determining the actuator signals for compensating the pressure fluctuations can be adapted on the basis of the uncompensated pressure fluctuations. The models and/or model parameters used can be adapted and the quality of the compensation of the pressure fluctuations caused by the feedforward control can thus be further improved.

Daneben kann die Steuerungseinheit ein Aktuatorsignal auf Basis der nicht kompensierten periodischen Anteile zur Verwendung in einer aktiven Regelung bestimmen. Dies gilt sowohl für die systematischen als auch für die zufälligen periodischen Anteile. Auf Basis der mit dem in Richtung zur Komponente ersten Sensor erfassten Druckschwankungen kann dabei die Dauer, insbesondere der zufälligen periodischen Anteile überprüft werden. Detektiert die Steuerungseinheit, dass eine zufällige periodische Druckschwankung endet, kann das rückgeführte Aktuatorsignal zur Kompensation nahezu zeitgleich gestoppt werden, so dass das rückgeführte Aktuatorsignal keine parasitären Druckschwankungen bewirkt.In addition, the control unit can determine an actuator signal based on the non-compensated periodic components for use in an active control system. This applies to both the systematic and the random periodic components. The duration, in particular of the random periodic components, can be checked based on the pressure fluctuations detected by the first sensor in the direction of the component. If the control unit detects that a random periodic pressure fluctuation is ending, the feedback actuator signal can be stopped almost simultaneously for compensation, so that the feedback actuator signal does not cause any parasitic pressure fluctuations.

Weiterhin können ein erster Aktuator und ein zweiter Aktuator in Verbindung mit den Sensoren die erfassten Druckschwankungen in zwei Stufen kompensieren. Falls in Richtung zur Komponente vor dem ersten Aktuator ein weiterer Sensor angeordnet ist, umfasst eine erste Stufe in Richtung zur Komponente diesen Sensor, gefolgt von dem Aktuator und wiederum gefolgt von einem zweiten Sensor. Dadurch können, wie weiter oben erläutert, die Druckschwankungen mittels einer Vorsteuerung mit dem Aktuator und dem ersten Sensor kompensiert werden und die nicht kompensierten Druckschwankungen mit dem zweiten Sensor erfasst werden. Die nicht kompensierten Druckschwankungen können zur Optimierung der Modelle und/oder Modellparameter und zur Rückführung eines Korrektursignals zur aktiven Regelung derselben Anwendung finden.Furthermore, a first actuator and a second actuator in conjunction with the sensors can compensate for the detected pressure fluctuations in two stages. If another sensor is arranged in the direction of the component upstream of the first actuator, a first stage in the direction of the component includes this sensor, followed by the actuator and then followed by a second sensor. As explained above, the pressure fluctuations can be compensated for by means of a pilot control with the actuator and the first sensor and the uncompensated pressure fluctuations can be detected with the second sensor. The uncompensated pressure fluctuations can be used to optimize the models and/or model parameters and to feed back a correction signal for active control of the same.

Die zweite Stufe umfasst in Richtung zur Komponente den zweiten Sensor, den zweiten Aktuator und einen dritten Sensor. Diese zweite Stufe weist denselben Aufbau wie die erste Stufe auf, wobei die zweite Stufe dabei lediglich die nach der ersten Stufe im Fluid verbleibenden Druckschwankungen kompensieren muss. Dadurch können die verbleibenden Druckschwankungen gegenüber einer einstufigen Kompensation vorteilhafterweise weiter minimiert werden.The second stage comprises the second sensor, the second actuator and a third sensor in the direction of the component. This second stage has the same structure as the first stage, whereby the second stage only has to compensate for the pressure fluctuations remaining in the fluid after the first stage. This advantageously allows the remaining pressure fluctuations to be further minimized compared to a single-stage compensation.

Daneben kann die Steuerungseinheit auf Basis einer Druckschwankung kalibriert werden. Die zur Kalibrierung verwendeten Druckschwankungen können durch den in Richtung zur Komponente ersten Aktuator erzeugt werden. Dies hat den Vorteil, dass während des Betriebs auftretende Veränderungen in der Steuerungseinheit und/oder einem Sensor oder einem Aktuator erfasst und durch Anpassung der Modelle und/oder der Modellparameter korrigiert werden können.In addition, the control unit can be calibrated based on a pressure fluctuation. The pressure fluctuations used for calibration can be generated by the first actuator in the direction of the component. This has the advantage that changes occurring during operation in the control unit and/or a sensor or an actuator can be recorded and corrected by adjusting the models and/or the model parameters.

Abhängig von der Anzahl und Anordnung der Aktuatoren und Sensoren können die Druckschwankungen durch eine Vorsteuerung und optional einer zusätzlichen aktiven Regelung kompensiert werden. Dabei kann durch die Erfassung der nicht kompensierten Anteile das mindestens eine Modell und/oder dessen Modellparameter kontinuierlich zur Verbesserung der Güte der Kompensation der Druckschwankungen angepasst werden. Die Anzahl und Anordnung an Vorsteuerungen und aktiven Regelungen können dabei entsprechend der Anforderungen der jeweiligen Vorrichtungen bestimmt werden.Depending on the number and arrangement of the actuators and sensors, the pressure fluctuations can be compensated by a pilot control and optionally an additional active control. By recording the uncompensated parts, at least one model and/or its model parameters can be continuously adjusted to improve the quality of the compensation of the pressure fluctuations. The number and arrangement of pilot controls and active controls can be determined according to the requirements of the respective devices.

Eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie umfasst mindestens eine Komponente mit einem Fluidkanal und eine Vorrichtung mit einer Fluidleitung zur Bereitstellung eines Fluids zum Durchströmen des Fluidkanals. Dabei umfasst die Vorrichtung mindestens einen Sensor zur Erfassung von Druckschwankungen, eine Steuerungseinheit zur Bestimmung eines Aktuatorsignals und einen Aktuator zur Erzeugung einer Druckschwankung zur Kompensation der Druckschwankungen im Fluid.A projection exposure system according to the invention for semiconductor lithography comprises at least one component with a fluid channel and a device with a fluid line for providing a fluid to flow through the fluid channel. The device comprises at least one sensor for detecting pressure fluctuations, a control unit for determining an actuator signal and an actuator for generating a pressure fluctuation to compensate for the pressure fluctuations in the fluid.

Erfindungsgemäß ist der Sensor in Richtung zur Komponente vor dem Aktuator angeordnet. Auf Basis der Schallgeschwindigkeit im Wasser von 1500 m/s und einem durch den in Projektionsbelichtungsanlagen begrenzten Bauraum vorbestimmten Abstand zwischen Sensor und Aktuator von kleiner gleich 50 mm ergibt sich ein Zeitbudget zur Bereitstellung der kompensierenden Druckschwankung von 33 µs. Innerhalb dieses Zeitbudgets muss die Druckschwankung im Fluid erfasst und ein Aktuatorsignal bestimmt und erzeugt werden, welches zur Kompensierung der Druckschwankung im Fluid mit dieser überlagert wird. Weiterhin kann die Laufzeit der zur Kompensation erzeugten Druckschwankungen vom Aktuator bis zur Fluidleitung, also dem Ort der Kompensation berücksichtigt werden. Diese Anforderungen entsprechen ungefähr den Anforderungen von im Ohr getragenen Kopfhörern, ausgehend von einer Schallgeschwindigkeit in Luft von 343m/s und einem Abstand zwischen Sensor und Aktuator von ca. 10 mm. Zur Minimierung der zwischen Sensor und Aktuator in das System eingebrachten und nicht korrigierbaren Druckschwankungen, ist der Abstand zwischen Sensor und Aktuator vorteilhafter Weise so gering wie möglich.According to the invention, the sensor is arranged in front of the actuator in the direction of the component. Based on the speed of sound in water of 1500 m/s and a distance between sensor and actuator of less than or equal to 50 mm, which is predetermined by the installation space limited in projection exposure systems, a time budget of 33 µs results for providing the compensating pressure fluctuation. Within this time budget, the pressure fluctuation in the fluid must be recorded and an actuator signal must be determined and generated, which is superimposed on the pressure fluctuation in the fluid to compensate for it. Furthermore, the runtime can be the pressure fluctuations generated for compensation from the actuator to the fluid line, i.e. the location of the compensation, must be taken into account. These requirements correspond approximately to the requirements of headphones worn in the ear, based on a speed of sound in air of 343 m/s and a distance between sensor and actuator of approx. 10 mm. To minimize the pressure fluctuations introduced into the system between sensor and actuator and which cannot be corrected, the distance between sensor and actuator is advantageously as small as possible.

Insbesondere kann die Vorrichtung in Richtung zur Komponente nach dem Aktuator einen zweiten Sensor aufweisen. Dieser bestimmt die nicht kompensierten Druckschwankungen im Fluid und kann wie weiter oben beschrieben zur Optimierung der verwendeten Modelle und/oder Modellparameter und zur aktiven Regelung der periodischen Anteile der Druckschwankungen dienen.In particular, the device can have a second sensor in the direction of the component after the actuator. This determines the uncompensated pressure fluctuations in the fluid and can be used, as described above, to optimize the models and/or model parameters used and to actively control the periodic components of the pressure fluctuations.

Weiterhin kann die Vorrichtung einen zweiten Aktuator in Richtung zur Komponente vor dem ersten Sensor der Vorrichtung aufweisen. Dadurch können periodische Druckschwankungen durch eine aktive Regelung mit diesem zweiten Aktuator in Verbindung mit dem in Richtung zur Komponente nach dem Aktuator angeordneten ersten Sensor kompensiert werden. Die nicht kompensierten Druckschwankungen können durch eine Vorsteuerung auf Basis der mit dem Sensor erfassten nicht kompensierten Druckschwankungen und dem in Richtung zur Komponente nach dem Sensor angeordneten Aktuator realisiert werden, wie weiter oben bereits erläutert. Daneben kann der in Richtung zur Komponente nach dem zweiten Aktuator angeordnete zweite Sensor die nicht kompensierten Druckschwankungen erfassen, auf deren Basis die Modelle und/oder Modellparameter der Steuerungseinheit für die Vorsteuerung angepasst werden. Weiterhin kann dadurch, wie weiter oben beschrieben, die Steuerungseinheit und die zwei Sensoren und der dazwischen angeordnete Aktuator kalibriert werden.Furthermore, the device can have a second actuator in the direction of the component before the first sensor of the device. This allows periodic pressure fluctuations to be compensated by active control with this second actuator in conjunction with the first sensor arranged after the actuator in the direction of the component. The uncompensated pressure fluctuations can be implemented by a feedforward control based on the uncompensated pressure fluctuations detected by the sensor and the actuator arranged after the sensor in the direction of the component, as already explained above. In addition, the second sensor arranged after the second actuator in the direction of the component can detect the uncompensated pressure fluctuations, on the basis of which the models and/or model parameters of the control unit for the feedforward control are adapted. Furthermore, as described above, the control unit and the two sensors and the actuator arranged between them can be calibrated.

In einer weiteren Ausführungsform kann die Vorrichtung einen weiteren Sensor in Richtung zur Komponente vor dem zweiten Aktuator aufweisen. Dieser ermöglicht, wie weiter oben bereits erläutert, eine zweistufige Kompensation, welche einen höheren Grad der Kompensation der Druckschwankungen ermöglicht.In a further embodiment, the device can have a further sensor in the direction of the component in front of the second actuator. As already explained above, this enables a two-stage compensation, which enables a higher degree of compensation of the pressure fluctuations.

Weiterhin kann im Fall eines Ausfalls einer der Aktuatoren oder einer der Sensoren die Steuerungseinheit derart ausgebildet sein, dass die Druckschwankungen mit den verbleibenden Sensoren und Aktuatoren weiterhin kompensiert werden können. Fällt beispielsweise der in Richtung zur Komponente hintere Aktuator aus, kann mit den ersten beiden Sensoren und dem dazwischenliegenden Aktuator weiterhin eine einstufige Kompensation der Druckschwankungen aufrechterhalten werden. Je nachdem, welche weiteren Aktuatoren oder Sensoren ausfallen, kann auch beim Ausfall eines weiteren Sensors oder Aktuators eine Kompensation weiterhin sichergestellt werden. Das System weist also eine gewisse Redundanz auf, welche beispielsweise einen Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage bis zum Austausch der Vorrichtung weiter ermöglichen kann.Furthermore, in the event of a failure of one of the actuators or one of the sensors, the control unit can be designed in such a way that the pressure fluctuations can still be compensated with the remaining sensors and actuators. If, for example, the actuator at the rear in the direction of the component fails, a single-stage compensation of the pressure fluctuations can still be maintained with the first two sensors and the actuator in between. Depending on which other actuators or sensors fail, compensation can still be ensured even if another sensor or actuator fails. The system therefore has a certain degree of redundancy, which can, for example, enable the projection exposure system to continue to operate until the device is replaced.

Insbesondere kann der Aktuator in einem mit der Fluidleitung verbundenen Fluidleitungsabschnitt angeordnet sein. Durch Reibung an der Fluidleitungswand kann sich über den Querschnitt keine konstante Druckschwankung in der Fluidleitung ausbilden. Der Fluidleitungsabschnitt kann bewirken, dass die vom Aktuator erzeugte Druckschwankung ein vergleichbares Geschwindigkeitsprofil der Druckschwankungen über den Querschnitt des Fluidleitungsabschnitts ausbildet, bevor diese auf die im Fluid vorhandenen Druckschwankungen trifft.In particular, the actuator can be arranged in a fluid line section connected to the fluid line. Due to friction on the fluid line wall, no constant pressure fluctuation can form in the fluid line across the cross section. The fluid line section can cause the pressure fluctuation generated by the actuator to form a comparable speed profile of the pressure fluctuations across the cross section of the fluid line section before it encounters the pressure fluctuations present in the fluid.

Insbesondere kann der Fluidleitungsabschnitt in einem Winkel kleiner als 90 Grad zwischen der Richtung der vom Aktuator erzeugten Druckschwankung und der im Fluid vorhandenen Druckschwankungen angeordnet sein. Dies kann durch die zumindest teilweise parallelen Anteile der Druckschwankungen eine Verbesserung der Überlagerung der Druckschwankungen insbesondere im Bereich der Fluidleitungswandungen bewirken.In particular, the fluid line section can be arranged at an angle of less than 90 degrees between the direction of the pressure fluctuation generated by the actuator and the pressure fluctuations present in the fluid. This can improve the superposition of the pressure fluctuations, particularly in the area of the fluid line walls, due to the at least partially parallel components of the pressure fluctuations.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

  • 1 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie,
  • 2 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die DUV-Projektionslithografie,
  • 3 eine erste Ausführungsform eines Details der Erfindung, und
  • 4 eine weitere Ausführungsform eines Details der Erfindung.
In the following, embodiments and variants of the invention are explained in more detail with reference to the drawing.
  • 1 schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography,
  • 2 schematic meridional section of a projection exposure system for DUV projection lithography,
  • 3 a first embodiment of a detail of the invention, and
  • 4 a further embodiment of a detail of the invention.

Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 1 sowie deren Bestandteile sind hierbei nicht einschränkend verstanden.In the following, first with reference to the 1 The essential components of a projection exposure system 1 for microlithography are described by way of example. The description of the basic structure of the projection exposure system 1 and its components are not to be understood as restrictive.

Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem die Lichtquelle 3 nicht.An embodiment of an illumination system 2 of the projection exposure system 1 has in addition to a radiation source 3, an illumination optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6. In an alternative embodiment, the light source 3 can also be provided as a module separate from the rest of the lighting system. In this case, the lighting system does not include the light source 3.

Beleuchtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.A reticle 7 arranged in the object field 5 is illuminated. The reticle 7 is held by a reticle holder 8. The reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.

In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 6.In the 1 For explanation purposes, a Cartesian xyz coordinate system is shown. The x-direction runs perpendicular to the drawing plane. The y-direction runs horizontally and the z-direction runs vertically. The scanning direction runs in the 1 along the y-direction. The z-direction is perpendicular to the object plane 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.The projection exposure system 1 comprises a projection optics 10. The projection optics 10 serves to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12. The image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0° between the object plane 6 and the image plane 12 is also possible.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.A structure on the reticle 7 is imaged onto a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12. The wafer 13 is held by a wafer holder 14. The wafer holder 14 can be displaced via a wafer displacement drive 15, in particular along the y-direction. The displacement of the reticle 7 on the one hand via the reticle displacement drive 9 and the wafer 13 on the other hand via the wafer displacement drive 15 can be synchronized with one another.

Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The radiation source 3 is an EUV radiation source. The radiation source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light. The useful radiation has in particular a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm. The radiation source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (laser produced plasma, plasma generated using a laser) or a DPP source (gas discharged produced plasma, plasma generated by gas discharge). It can also be a synchrotron-based radiation source. The radiation source 3 can be a free-electron laser (FEL).

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45° gegenüber der Normalenrichtung der Spiegeloberfläche, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The illumination radiation 16 that emanates from the radiation source 3 is bundled by a collector 17. The collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloidal reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be exposed to the illumination radiation 16 in grazing incidence (GI), i.e. with angles of incidence greater than 45° relative to the normal direction of the mirror surface, or in normal incidence (NI), i.e. with angles of incidence less than 45°. The collector 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress stray light.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the collector 17, the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focal plane 18. The intermediate focal plane 18 can represent a separation between a radiation source module, comprising the radiation source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.The illumination optics 4 comprise a deflection mirror 19 and a first facet mirror 20 arranged downstream of this in the beam path. The deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with a beam-influencing effect beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter which separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a different wavelength. If the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4 which is optically conjugated to the object plane 6 as a field plane, it is also referred to as a field facet mirror. The first facet mirror 20 comprises a plurality of individual first facets 21, which are also referred to below as field facets. Of these facets 21, only one is shown in the 1 only a few examples are shown.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.The first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or partially circular edge contour. The first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen. As for example from the EN 10 2008 009 600 A1 As is known, the first facets 21 themselves can also be composed of a plurality of individual mirrors, in particular a plurality of micro mirrors. The first facet mirror 20 can in particular be designed as a micro roelectromechanical system (MEMS system). For details, please refer to the EN 10 2008 009 600 A1 referred to.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung.Between the collector 17 and the deflection mirror 19, the illumination radiation 16 runs horizontally, i.e. along the y-direction.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .In the beam path of the illumination optics 4, a second facet mirror 22 is arranged downstream of the first facet mirror 20. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the illumination optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from the US 2006/0132747 A1 , the EP 1 614 008 B1 and the US$6,573,978 .

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23. In the case of a pupil facet mirror, the second facets 23 are also referred to as pupil facets.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.The second facets 23 can also be macroscopic facets, which can be round, rectangular or hexagonal, for example, or alternatively facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to the EN 10 2008 009 600 A1 referred to.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.The second facets 23 can have planar or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Fly's Eye Integrator) bezeichnet.The illumination optics 4 thus forms a double-faceted system. This basic principle is also known as a honeycomb condenser (Fly's Eye Integrator).

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der Pupillenfacettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.It may be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugated to a pupil plane of the projection optics 10. In particular, the pupil facet mirror 22 can be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as is the case, for example, in the EN 10 2017 220 586 A1 described.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.With the help of the second facet mirror 22, the individual first facets 21 are imaged in the object field 5. The second facet mirror 22 is the last bundle-forming or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.In a further embodiment of the illumination optics 4 (not shown), a transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which contributes in particular to the imaging of the first facets 21 in the object field 5. The transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the illumination optics 4. The transmission optics can in particular comprise one or two mirrors for vertical incidence (NI mirrors, normal incidence mirrors) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GI mirrors, gracing incidence mirrors).

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den Feldfacettenspiegel 20 und den Pupillenfacettenspiegel 22.The illumination optics 4 has in the version shown in the 1 As shown, after the collector 17 there are exactly three mirrors, namely the deflection mirror 19, the field facet mirror 20 and the pupil facet mirror 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.In a further embodiment of the illumination optics 4, the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the illumination optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.The imaging of the first facets 21 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics into the object plane 6 is usually only an approximate imaging.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.

Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.In the 1 In the example shown, the projection optics 10 comprises six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible. The penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16. The projection optics 10 are doubly obscured optics. The projection optics 10 have a numerical aperture on the image side that is greater than 0.5 and can also be greater than 0.6 and can be, for example, 0.7 or 0.75.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without a rotational symmetry axis. Alternatively, the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one rotational symmetry axis of the reflection surface shape. The mirrors Mi can, just like the mirrors of the illumination optics 4, have highly reflective coatings for the illumination radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.The projection optics 10 have a large object-image offset in the y-direction between a y-coordinate of a center of the object field 5 and a y-coordinate of the center of the image field 11. This object-image offset in the y-direction can be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.The projection optics 10 can in particular be anamorphic. In particular, it has different image scales βx, βy in the x and y directions. The two image scales βx, βy of the projection optics 10 are preferably (βx, βy) = (+/- 0.25, +/- 0.125). A positive image scale β means an image without image inversion. A negative sign for the image scale β means an image with image inversion.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.The projection optics 10 thus leads to a reduction in the ratio 4:1 in the x-direction, i.e. in the direction perpendicular to the scanning direction.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.The projection optics 10 leads to a reduction of 8:1 in the y-direction, i.e. in the scanning direction.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.Other image scales are also possible. Image scales with the same sign and absolutely the same in the x and y directions, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .The number of intermediate image planes in the x- and y-direction in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or can be different depending on the design of the projection optics 10. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x- and y-direction are known from US 2018/0074303 A1 .

Jeweils eine der Pupillenfacetten 23 ist genau einer der Feldfacetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die Feldfacetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 23.Each of the pupil facets 23 is assigned to exactly one of the field facets 21 to form an illumination channel for illuminating the object field 5. This can result in particular in illumination according to the Köhler principle. The far field is broken down into a plurality of object fields 5 using the field facets 21. The field facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the pupil facets 23 assigned to them.

Die Feldfacetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.The field facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an associated pupil facet 23, superimposing one another, to illuminate the object field 5. The illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%. The field uniformity can be achieved by superimposing different illumination channels.

Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.By arranging the pupil facets, the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be defined geometrically. By selecting the illumination channels, in particular the subset of the pupil facets that guide light, the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be set. This intensity distribution is also referred to as the illumination setting.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.A likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by a redistribution of the illumination channels.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.In the following, further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular of the entrance pupil of the projection optics 10 are described.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.The projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.The entrance pupil of the projection optics 10 cannot usually be illuminated precisely with the pupil facet mirror 22. When the projection optics 10 images the center of the pupil facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point. However, a surface can be found in which the pairwise determined distance of the aperture rays is minimal. This surface represents the entrance pupil or a surface conjugated to it in spatial space. In particular, this surface shows a finite curvature.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.It is possible that the projection optics 10 have different positions of the entrance pupil for the tangential and the sagittal beam path. In this case, an imaging element, in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.

Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der Pupillenfacettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der Feldfacettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist.In the 1 In the arrangement of the components of the illumination optics 4 shown, the pupil facet mirror 22 is arranged in a surface conjugated to the entrance pupil of the projection optics 10. The field facet mirror 20 is arranged tilted to the object plane 6. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19.

Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane which is defined by the second facet mirror 22.

2 zeigt schematisch im Meridionalschnitt eine weitere Projektionsbelichtungsanlage 101 für die DUV-Projektionslithografie, in welcher die Erfindung eben-falls zur Anwendung kommen kann. 2 shows schematically in meridional section a further projection exposure system 101 for DUV projection lithography, in which the invention can also be used.

Der Aufbau der Projektionsbelichtungsanlage 101 und das Prinzip der Abbildung ist vergleichbar mit dem in 1 beschriebenen Aufbau und Vorgehen. Gleiche Bauteile sind mit einem um 100 gegenüber 1 erhöhten Bezugszeichen bezeichnet, die Bezugszeichen in 2 beginnen also mit 101.The structure of the projection exposure system 101 and the principle of imaging is comparable to that in 1 described structure and procedure. Identical components are provided with a 100 1 raised reference numerals, the reference numerals in 2 So start with 101.

Im Unterschied zu einer wie in 1 beschriebenen EUV-Projektionsbelichtungsanlage 1 können auf Grund der größeren Wellenlänge der als Nutzlicht verwendeten DUV-Strahlung 116 im Bereich von 100 nm bis 300 nm, insbesondere von 193 nm, in der DUV-Projektionsbelichtungsanlage 101 zur Abbildung beziehungsweise zur Beleuchtung refraktive, diffraktive und/oder reflexive optische Elementen 117, wie beispielsweise Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen verwendet werden. Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst dabei im Wesentlichen ein Beleuchtungssystem 102, einen Retikelhalter 108 zur Aufnahme und exakten Positionierung eines mit einer Struktur versehenen Retikels 107, durch welches die späteren Strukturen auf einem Wafer 113 bestimmt werden, einen Waferhalter 114 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 113 und einem Projektionsobjektiv 110, mit mehreren optischen Elementen 117, die über Fassungen 118 in einem Objektivgehäuse 119 des Projektionsobjektives 110 gehalten sind.In contrast to a 1 Due to the longer wavelength of the DUV radiation 116 used as useful light in the range from 100 nm to 300 nm, in particular from 193 nm, in the EUV projection exposure system 1 described, refractive, diffractive and/or reflective optical elements 117, such as lenses, mirrors, prisms, cover plates and the like, can be used in the DUV projection exposure system 101 for imaging or for illumination. The projection exposure system 101 essentially comprises an illumination system 102, a reticle holder 108 for receiving and precisely positioning a reticle 107 provided with a structure, by means of which the later structures on a wafer 113 are determined, a wafer holder 114 for holding, moving and precisely positioning this wafer 113 and a projection lens 110 with a plurality of optical elements 117, which are held via mounts 118 in a lens housing 119 of the projection lens 110.

Das Beleuchtungssystem 102 stellt eine für die Abbildung des Retikels 107 auf dem Wafer 113 benötigte DUV-Strahlung 116 bereit. Als Quelle für diese Strahlung 116 kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung 116 wird in dem Beleuchtungssystem 102 über optische Elemente derart geformt, dass die DUV-Strahlung 116 beim Auftreffen auf das Retikel 107 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.The illumination system 102 provides DUV radiation 116 required for imaging the reticle 107 on the wafer 113. A laser, a plasma source or the like can be used as a source for this radiation 116. The radiation 116 is shaped in the illumination system 102 via optical elements such that the DUV radiation 116 has the desired properties with regard to diameter, polarization, shape of the wavefront and the like when it strikes the reticle 107.

Der Aufbau der nachfolgenden Projektionsoptik 101 mit dem Objektivgehäuse 119 unterscheidet sich außer durch den zusätzlichen Einsatz von refraktiven optischen Elementen 117 wie Linsen, Prismen, Abschlussplatten prinzipiell nicht von dem in 1 beschriebenen Aufbau und wird daher nicht weiter beschrieben.The structure of the subsequent projection optics 101 with the lens housing 119 does not differ in principle from that in 1 described structure and is therefore not described further.

3 zeigt ein Detail einer in der 1 und der 2 erläuterten Projektionsbelichtungsanlagen 1, 101, welches eine Vorrichtung 40 zur Bereitstellung eines Fluids 32 zum Durchströmen eines Fluidkanals 31 einer Komponente 30 darstellt. Die Komponente 30 kann beispielsweise als ein in der 1 und der 2 beschriebenes optisches Element Mx, 117 einer Projektionsbelichtungsanlage 1, 101 ausgebildet sein. Die Vorrichtung 40 umfasst eine Fluidleitung 41, welche über eine Anbindung 33 mit der Komponente 30 und dem Fluidkanal 31 verbunden ist. Die Vorrichtung 40 umfasst weiterhin einen Aktuator 53 und zwei jeweils vor und hinter dem Aktuator 53 angeordnete Sensoren 51, 52. Der Aktuator 53 und die Sensoren 51, 52 sind über Verbindungen 54.1, 54.2, 55 mit einer Steuerungseinheit 50 verbunden. Der in Richtung zur Komponente 30 erste Sensor 51 erfasst eine im Fluid 32 vorhandene Druckschwankung 60, auf deren Basis die Steuerungseinheit 50 basierend auf einem Laufzeitmodell ein Aktuatorsignal zur Kompensation der Druckschwankung 60 bestimmt. Der Aktuator 53 erzeugt aus dem von der Steuerungseinheit 50 übertragenen Aktuatorsignal eine Druckschwankung 61 zur Kompensation der mit dem ersten Sensor 51 erfassten Druckschwankung 60. Der zweite Sensor 52 erfasst die im Fluid 32 verbliebene Druckschwankungen 63, welche ebenfalls an die Steuerungseinheit 50 übertragen werden und von dieser ebenfalls zur Bestimmung des Aktuatorsignals verwendet werden. Die Steuerungseinheit 50 ist zum Austausch von Signalen zur Energieübertragung, zum Datenaustausch und zur Übertragung von Auslösern über ein Interface 56 mit einer globalen Ansteuerung 80 verbunden. Die Steuerungseinheit 50 ist dabei derart ausgelegt, dass zur Kompensation der Druckschwankungen 60 kein ständiger Datenaustausch mit der globalen Ansteuerung 80 notwendig ist. 3 shows a detail of a 1 and the 2 explained projection exposure systems 1, 101, which represents a device 40 for providing a fluid 32 for flowing through a fluid channel 31 of a component 30. The component 30 can, for example, be a 1 and the 2 described optical element Mx, 117 of a projection exposure system 1, 101. The device 40 comprises a fluid line 41, which is connected to the component 30 and the fluid channel 31 via a connection 33. The device 40 further comprises an actuator 53 and two sensors 51, 52 arranged in front of and behind the actuator 53. The actuator 53 and the sensors 51, 52 are connected to a control unit 50 via connections 54.1, 54.2, 55. The first sensor 51 in the direction of the component 30 detects a pressure fluctuation 60 present in the fluid 32, on the basis of which the control unit 50 determines an actuator signal for compensating the pressure fluctuation 60 based on a runtime model. The actuator 53 generates a pressure fluctuation 61 from the actuator signal transmitted by the control unit 50 to compensate for the pressure fluctuation 60 detected by the first sensor 51. The second sensor 52 detects the pressure fluctuations 63 remaining in the fluid 32, which are also transmitted to the control unit 50 and are also used by the latter to determine the actuator signal. The control unit 50 is connected to a global control 80 via an interface 56 to exchange signals for energy transmission, data exchange and the transmission of triggers. The control unit 50 is designed in such a way that no constant data exchange with the global control 80 is necessary to compensate for the pressure fluctuations 60.

Der Aktuator 53 ist am Boden eines mit der Fluidleitung 41 verbundenen topfförmigen Fluidleitungsabschnitts 44 angeordnet. Der Fluidleitungsabschnitt 44 bewirkt, dass die durch den Aktuator 53 erzeugten Druckschwankungen 61 ein ähnliches Geschwindigkeitsprofil über den Querschnitt des Fluidleitungsabschnitts 44 ausbilden wie die Druckschwankungen 60 in der Fluidleitung 41. Das Geschwindigkeitsprofil wird beispielsweise durch Reibung an der Wandung der Fluidleitung 41 bzw. des Fluidleitungsabschnitts 44 beeinflusst. Weiterhin ist der Fluidleitungsabschnitt 44 in einem Winkel kleiner als 90° zur Fluidleitung 41 angeordnet, so dass die über den Querschnitt des Fluidleitungsabschnitts 44 profilierte Druckschwankung so parallel wie möglich zu einer in der Fluidleitung 41 verlaufenden Druckschwankung 60 auf diese trifft. Die Sensoren 51, 52 sind in der in der 3 dargestellten Ausführungsform jeweils am Boden eines topfförmigen Fluidleitungsabschnitts 43.1, 43.2 angeordnet. Die Fluidleitungsabschnitte 43.1, 43.2 bewirken ein über den Querschnitt ähnliches Geschwindigkeitsprofil der Druckschwankung 60 wie bereits für den Fluidleitungsabschnitt 44 des Aktuators 53 beschrieben und sind senkrecht zur Fluidleitung 41 ausgebildet. Alternativ können die Sensoren 51, 52 auch direkt in der Wandung der Fluidleitung 41 angeordnet sein. Die Laufzeit der kompensierenden Druckschwankungen 61 auf Grund des Abstandes zwischen Aktuator 53 und der Fluidleitung 41, sowie die Laufzeit der Druckschwankung 60 vom Schnittpunkt des Fluidleitungsabschnitts 43.1 des Sensors 51 mit der Fluidleitung 41 und dem Sensor 51 werden von der Steuerungseinheit 50 bei der Bestimmung des Aktuatorsignals berücksichtigt. Die vom Aktuator 53 erzeugte Druckschwankung 61 wird derart mit der Druckschwankung 60 überlagert, dass sich beim Überlagern 62 die beiden Druckschwankungen 60, 61 idealerweise vollständig oder nahezu vollständig kompensieren. Diese Kompensation der durch den Sensor 51 erfassten Druckschwankung 60 wird mittels einer Kombination einer Vorsteuerung auf Basis der durch den Sensor 51 erfassten Druckschwankung 60, einer Anpassung des mindestens einen Modells zur Bestimmung des Aktuatorsignals und einer aktiven Regelung auf Basis der durch den Sensor 52 erfassten Druckschwankungen 63 realisiert. Aufgrund des geringen zur Verfügung stehenden Bauraums beträgt der Abstand zwischen Sensor 51 und Aktuator 53 in der in der 3 dargestellten Ausführungsform lediglich 50 mm. Daraus ergibt sich über die Schallgeschwindigkeit in Wasser von 1500m/s ein Zeitbudget von 33µs für das Erfassen der Druckschwankungen 60, der Bestimmung und Erzeugung der zur Kompensation verwendeten Druckschwankungen 61 und die Laufzeit der Druckschwankungen 61 vom Aktuator 53 zum Schnittpunkt mit der Fluidleitung 41. Der Abstand zwischen Aktuator 53 und dem zweiten Sensor 52 ist ebenfalls vorteilhafterweise kleiner gleich 50 mm, wodurch die Bandbreite der Regelung lediglich durch die Signalverarbeitungsgeschwindigkeit der Steuerungseinheit 50 bestimmt wird. Je kleiner der Abstand, desto geringer die Gefahr, dass zwischen Sensor 51 und Aktuator 53 neue, nicht mehr durch den Sensor 51 erfassbare, parasitäre Druckschwankungen in das Fluid 32 eingebracht werden. 4 zeigt ein Detail einer Projektionsbelichtungsanlage 1, 101 mit einer weiteren Ausführungsform einer Vorrichtung 70 zur Kompensation von Druckschwankungen im Fluid 32. Die Vorrichtung 70 weist zusätzlich zu den Sensoren 51, 52 und dem Aktuator 53 der in der 3 erläuterten Vorrichtung 40 in Richtung zur Komponente 30 vor dem Sensor 51 einen weiteren Aktuator 58 und einen weiteren Sensor 57 auf. Der Sensor 57 ist über eine Verbindung 54.3 und der Aktuator 58 über eine Verbindung 55.2 mit der Steuerungseinheit 50 verbunden. Die Steuerungseinheit 50 bestimmt aus den mit dem Sensor 57 erfassten Druckschwankungen 71 einen systematischen Anteil 71.1 und einen zufälligen Anteil 71.2, wozu die erfassten Druckschwankungen 71 analysiert und die systematischen Anteile 71.1 durch den Vergleich mit bekannten in einer Datenbank hinterlegten systematischen Druckschwankungen bestimmt werden. Bei positiver Identifizierung wird ein Auslöser erzeugt, welcher bewirkt, dass das Aktuatorsignal zur Kompensation des bestimmten systematischen Anteils 71.1 auf Basis eines für diesen Anteil 71.1 optimierten und im Vorfeld kalibrierten Modells bestimmt wird. Es können dabei prinzipiell mehr als nur ein systematischer Anteil 71.1 bestimmt werden, so dass die Bestimmung des Aktuatorsignals in mehr als nur einem Modell erfolgen kann, welche vor der Übertragung des Aktuatorsignals durch lineare Überlagerung wieder zu einem Aktuatorsignal zusammengeführt werden. Die auf die identifizierten Anteile optimierten Modelle haben den Vorteil, dass dadurch im Vergleich zur Verwendung eines einzigen Modells für die gesamte Druckschwankung ein geringerer Regelfehler erzeugt wird, also nach der Kompensation geringere Druckschwankungen 74, 77 verbleiben.The actuator 53 is arranged at the bottom of a cup-shaped fluid line section 44 connected to the fluid line 41. The fluid line section 44 causes the pressure fluctuations 61 generated by the actuator 53 to form a similar speed profile over the cross section of the fluid line section 44 as the pressure fluctuations 60 in the fluid line 41. The speed profile is influenced, for example, by friction on the wall of the fluid line 41 or the fluid line section 44. Furthermore, the fluid line section 44 is at an angle small less than 90° to the fluid line 41, so that the pressure fluctuation profiled over the cross section of the fluid line section 44 hits the fluid line 41 as parallel as possible to a pressure fluctuation 60 running in the fluid line 41. The sensors 51, 52 are arranged in the 3 In the embodiment shown, the sensors 51, 52 are each arranged at the bottom of a pot-shaped fluid line section 43.1, 43.2. The fluid line sections 43.1, 43.2 produce a speed profile of the pressure fluctuation 60 that is similar across the cross-section to that already described for the fluid line section 44 of the actuator 53 and are designed perpendicular to the fluid line 41. Alternatively, the sensors 51, 52 can also be arranged directly in the wall of the fluid line 41. The transit time of the compensating pressure fluctuations 61 due to the distance between the actuator 53 and the fluid line 41, as well as the transit time of the pressure fluctuation 60 from the intersection point of the fluid line section 43.1 of the sensor 51 with the fluid line 41 and the sensor 51 are taken into account by the control unit 50 when determining the actuator signal. The pressure fluctuation 61 generated by the actuator 53 is superimposed on the pressure fluctuation 60 in such a way that the two pressure fluctuations 60, 61 ideally compensate each other completely or almost completely when superimposed 62. This compensation of the pressure fluctuation 60 detected by the sensor 51 is realized by means of a combination of a pre-control based on the pressure fluctuation 60 detected by the sensor 51, an adaptation of the at least one model for determining the actuator signal and an active control based on the pressure fluctuations 63 detected by the sensor 52. Due to the small installation space available, the distance between the sensor 51 and the actuator 53 in the 3 illustrated embodiment is only 50 mm. This results in a time budget of 33 µs for the detection of the pressure fluctuations 60, the determination and generation of the pressure fluctuations 61 used for compensation and the running time of the pressure fluctuations 61 from the actuator 53 to the intersection with the fluid line 41, based on the speed of sound in water of 1500 m/s. The distance between the actuator 53 and the second sensor 52 is also advantageously less than or equal to 50 mm, whereby the bandwidth of the control is determined only by the signal processing speed of the control unit 50. The smaller the distance, the lower the risk that new parasitic pressure fluctuations that can no longer be detected by the sensor 51 will be introduced into the fluid 32 between the sensor 51 and the actuator 53. 4 shows a detail of a projection exposure system 1, 101 with a further embodiment of a device 70 for compensating pressure fluctuations in the fluid 32. The device 70 has, in addition to the sensors 51, 52 and the actuator 53 of the 3 explained device 40 has a further actuator 58 and a further sensor 57 in front of the sensor 51 in the direction of the component 30. The sensor 57 is connected to the control unit 50 via a connection 54.3 and the actuator 58 via a connection 55.2. The control unit 50 determines a systematic component 71.1 and a random component 71.2 from the pressure fluctuations 71 detected by the sensor 57, for which purpose the detected pressure fluctuations 71 are analyzed and the systematic components 71.1 are determined by comparison with known systematic pressure fluctuations stored in a database. If the identification is positive, a trigger is generated which causes the actuator signal to compensate for the determined systematic component 71.1 to be determined on the basis of a model optimized for this component 71.1 and calibrated in advance. In principle, more than just one systematic component 71.1 can be determined, so that the actuator signal can be determined in more than just one model, which are combined again to form an actuator signal by linear superposition before the actuator signal is transmitted. The models optimized for the identified components have the advantage that a smaller control error is generated for the entire pressure fluctuation compared to using a single model, i.e. smaller pressure fluctuations 74, 77 remain after compensation.

Der zusätzliche Sensor 57 ermöglicht auch eine zweistufige Kompensation der Druckschwankungen 71, wobei die Wirkungsweise der beiden Stufen am Beispiel der ersten Stufe nachfolgend beschrieben wird. Die erste Stufe umfasst den Sensor 57, den Aktuator 58, den Sensor 53 und die Steuerungseinheit 50. Die vom Sensor 57 erfassten Druckschwankungen 71 werden zunächst in der Steuerungseinheit 50 analysiert und falls vorhanden in systematische Druckschwankungen 71.1 und zufällige Druckschwankungen 71.2 zerlegt, welche wiederum in periodische und aperiodische Druckschwankungen, welche aus Gründen der Übersichtlichkeit nicht dargestellt sind, zerlegt werden. Auf Basis dieser zerlegten Anteile 71.1, 71.2 werden Aktuatorsignale zur Kompensation der Druckschwankungen 71 mit auf die Anteile 71.1, 71.2 optimierten Modellen zur Verwendung in einer Vorsteuerung von der Steuerungseinheit 50 bestimmt und nachfolgend über eine lineare Überlagerung wieder zu einem Aktuatorsignal zusammengefügt. Das Aktuatorsignal erzeugt eine Druckschwankung 72, welche die Druckschwankungen 71 durch destruktive Auslöschung 73 kompensiert. Die verbleibenden Druckschwankungen 74 werden vom Sensor 53 erfasst und ebenfalls an die Steuerungseinheit 50 über die Verbindung 54.1 übermittelt. Die verbleibenden Druckschwankungen 74 werden zur Optimierung der Modelle und/oder deren Modellparameter in der Steuerungseinheit 50 verwendet. The additional sensor 57 also enables a two-stage compensation of the pressure fluctuations 71, whereby the operation of the two stages is described below using the example of the first stage. The first stage comprises the sensor 57, the actuator 58, the sensor 53 and the control unit 50. The pressure fluctuations 71 detected by the sensor 57 are first analyzed in the control unit 50 and, if present, broken down into systematic pressure fluctuations 71.1 and random pressure fluctuations 71.2, which in turn are broken down into periodic and aperiodic pressure fluctuations, which are not shown for reasons of clarity. On the basis of these broken down components 71.1, 71.2, actuator signals for compensating the pressure fluctuations 71 are determined by the control unit 50 using models optimized for the components 71.1, 71.2 for use in a pilot control and are then reassembled into an actuator signal via a linear superposition. The actuator signal generates a pressure fluctuation 72, which compensates for the pressure fluctuations 71 by destructive cancellation 73. The remaining pressure fluctuations 74 are detected by the sensor 53 and also transmitted to the control unit 50 via the connection 54.1. The remaining pressure fluctuations 74 are used to optimize of the models and/or their model parameters in the control unit 50.

Zusätzlich kann der periodische Anteil der verbliebenen Druckschwankungen 74 bestimmt und zur aktiven Regelung der periodischen Anteile an den Aktuator 58 übermittelt werden. Die zweite Stufe umfasst den Sensor 51, den Aktuator 53, den Sensor 52 und die Steuerungseinheit 50 und hat die gleiche Funktionsweise wie die erste Stufe, wobei in der zweiten Stufe lediglich die verbliebenen Druckschwankungen 74 durch die vom Aktuator 53 erzeugten Druckschwankungen 75 durch destruktive Auslöschung 76 kompensiert werden müssen. Die nicht kompensierten Druckschwankungen 77 nach der zweiten Stufe werden von dem Sensor 52 erfasst und zur Verbesserung der Güte der Kompensation der Druckschwankungen 74 durch Anpassung der Modelle und/oder Modellparameter und optional zur aktiven Regelung der periodischen Druckschwankungen verwendet.In addition, the periodic portion of the remaining pressure fluctuations 74 can be determined and transmitted to the actuator 58 for active control of the periodic portions. The second stage comprises the sensor 51, the actuator 53, the sensor 52 and the control unit 50 and functions in the same way as the first stage, whereby in the second stage only the remaining pressure fluctuations 74 have to be compensated by the pressure fluctuations 75 generated by the actuator 53 through destructive cancellation 76. The uncompensated pressure fluctuations 77 after the second stage are recorded by the sensor 52 and used to improve the quality of the compensation of the pressure fluctuations 74 by adapting the models and/or model parameters and optionally for active control of the periodic pressure fluctuations.

Ein weiterer Vorteil des zusätzlichen Sensors 57 ist, dass eine einstufige Kompensation der Druckschwankungen 71 auch beim Ausfall eines Sensors 51, 52, 57 oder eines Aktuators 53, 58 weiterhin möglich ist, die Vorrichtung 70 also eine Redundanz aufweist.A further advantage of the additional sensor 57 is that a single-stage compensation of the pressure fluctuations 71 is still possible even if a sensor 51, 52, 57 or an actuator 53, 58 fails, thus the device 70 has redundancy.

Der zusätzliche Aktuator 58 kann auch zur Kalibrierung der Steuerungseinheit 50 und den Sensoren 51, 52 und dem Aktuator 53 verwendet werden. Dabei wird durch den Aktuator 58 eine vorbestimmte Druckschwankung in das Fluid 32 eingebracht. Dadurch können über die Zeit auftretende Änderungen in der Steuerungseinheit 50 und den Sensoren 51, 52 und dem Aktuator 53 bestimmt und durch Anpassung der Regelparameter in der Steuerungseinheit 50 kompensiert werden.The additional actuator 58 can also be used to calibrate the control unit 50 and the sensors 51, 52 and the actuator 53. In this case, a predetermined pressure fluctuation is introduced into the fluid 32 by the actuator 58. As a result, changes occurring over time in the control unit 50 and the sensors 51, 52 and the actuator 53 can be determined and compensated by adjusting the control parameters in the control unit 50.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
22
BeleuchtungssystemLighting system
33
StrahlungsquelleRadiation source
44
BeleuchtungsoptikLighting optics
55
ObjektfeldObject field
66
ObjektebeneObject level
77
RetikelReticle
88th
RetikelhalterReticle holder
99
RetikelverlagerungsantriebReticle displacement drive
1010
ProjektionsoptikProjection optics
1111
BildfeldImage field
1212
BildebeneImage plane
1313
WaferWafer
1414
WaferhalterWafer holder
1515
WaferverlagerungsantriebWafer relocation drive
1616
EUV-StrahlungEUV radiation
1717
Kollektorcollector
1818
ZwischenfokusebeneIntermediate focal plane
1919
UmlenkspiegelDeflecting mirror
2020
FacettenspiegelFaceted mirror
2121
FacettenFacets
2222
FacettenspiegelFaceted mirror
2323
FacettenFacets
3030
Komponentecomponent
3131
FluidkanalFluid channel
3232
FluidFluid
3333
AnbindungConnection
4040
Vorrichtungcontraption
4141
FluidleitungFluid line
43.1-43.343.1-43.3
Fluidleitungsabschnitt SensorFluid line section sensor
4444
Fluidleitungsabschnitt AktuatorFluid line section actuator
5050
SteuerungseinheitControl unit
5151
Sensorsensor
5252
SenorSir
5353
AktuatorActuator
54.1-54.354.1-54.3
Verbindung SensorConnection Sensor
5555
Verbindung AktuatorConnection actuator
5656
Interface globale AnsteuerungInterface global control
5757
Sensorsensor
5858
AktuatorActuator
6060
Druckschwankung Sensor 1Pressure fluctuation sensor 1
6161
Druckschwankung AktuatorPressure fluctuation actuator
6262
Kompensation DruckschwankungenCompensation of pressure fluctuations
6363
Druckschwankung Sensor 2Pressure fluctuation sensor 2
7070
Vorrichtungcontraption
71,71.1,71.271,71.1,71.2
Druckschwankung Sensor 1Pressure fluctuation sensor 1
7272
Druckschwankung Aktuator 1Pressure fluctuation actuator 1
7373
destruktive Auslöschungdestructive extinction
7474
Druckschwankung Sensor 2Pressure fluctuation sensor 2
7575
Druckschwankungen Aktuator 2Pressure fluctuations actuator 2
7676
destruktive Auslöschungdestructive extinction
7777
Druckschwankungen Sensor 3Pressure fluctuations sensor 3
8080
Globale AnsteuerungGlobal control
101101
ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
102102
BeleuchtungssystemLighting system
107107
RetikelReticle
108108
RetikelhalterReticle holder
110110
ProjektionsoptikProjection optics
113113
WaferWafer
114114
WaferhalterWafer holder
116116
DUV-StrahlungDUV radiation
117117
optisches Elementoptical element
118118
FassungenFrames
119119
ObjektivgehäuseLens housing
M1-M6M1-M6
SpiegelMirror
ss
Abstand Aktuator FluidleitungDistance actuator fluid line

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

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Claims (20)

Verfahren zur Reduzierung von Druckschwankungen (60,71,74,77) in einem Fluid (32) in einer Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie mit mindestens einer Komponente (30) mit einem Fluidkanal (31) und einer Vorrichtung (40,70) mit einer Fluidleitung (41) zur Bereitstellung des Fluids (32) zum Durchströmen des Fluidkanals (31), wobei die Vorrichtung (40,70) mindestens einen Sensor (51,52,57) zur Erfassung einer Druckschwankung im Fluid (32) und mindestens einen Aktuator (53,58) zur Erzeugung einer Druckschwankung im Fluid (32) umfasst, umfassend folgende Verfahrensschritte: - Erfassung der Druckschwankung (60,63,71,74,77) in der Fluidleitung (41) - Bestimmung eines Aktuatorsignals auf Basis der erfassten Druckschwankung (60,71) - Erzeugung einer Druckschwankung (61,72,75) im Fluid (32) mittels des Aktuators (53,58) zur Kompensation der erfassten Druckschwankung (60,63,71,74,77) im Fluid (32).Method for reducing pressure fluctuations (60,71,74,77) in a fluid (32) in a projection exposure system (1,101) for semiconductor lithography with at least one component (30) with a fluid channel (31) and a device (40,70) with a fluid line (41) for providing the fluid (32) to flow through the fluid channel (31), wherein the device (40,70) comprises at least one sensor (51,52,57) for detecting a pressure fluctuation in the fluid (32) and at least one actuator (53,58) for generating a pressure fluctuation in the fluid (32), comprising the following method steps: - detecting the pressure fluctuation (60,63,71,74,77) in the fluid line (41) - determining an actuator signal based on the detected pressure fluctuation (60,71) - generating a pressure fluctuation (61,72,75) in the fluid (32) by means of the actuator (53,58) to compensate for the detected pressure fluctuation (60,63,71,74,77) in the fluid (32). Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein systematischer Anteil (71.1) der Druckschwankungen (71) bestimmt wird.Procedure according to Claim 1 , characterized in that a systematic component (71.1) of the pressure fluctuations (71) is determined. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein zufälliger Anteil (71.2) der Druckschwankungen (71) bestimmt wird.Method according to one of the Claims 1 or 2 , characterized in that a random portion (71.2) of the pressure fluctuations (71) is determined. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die systematischen Anteile (71.1) und die zufälligen Anteile (71.2) in aperiodische und periodische Anteile zerlegt werden.Procedure according to Claim 3 , characterized in that the systematic components (71.1) and the random components (71.2) are decomposed into aperiodic and periodic components. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Steuerungseinheit (50) ein Aktuatorsignal zur Kompensation der Druckschwankungen (60,63,71,74,77) auf Basis mindestens eines Modells bestimmt.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a control unit (50) determines an actuator signal for compensating the pressure fluctuations (60,63,71,74,77) on the basis of at least one model. Verfahren nach einem der Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungseinheit (50) das Aktuatorsignal zu Kompensation der Druckschwankungen (60,63,71,74,77) für jeden der bestimmten Anteile der Druckschwankungen (71.1,71.2) auf Basis eines auf den jeweiligen Anteil (71.1,71.2) abgestimmten Modells bestimmt.Method according to one of the Claim 4 , characterized in that the control unit (50) determines the actuator signal for compensating the pressure fluctuations (60,63,71,74,77) for each of the specific components of the pressure fluctuations (71.1,71.2) on the basis of a model adapted to the respective component (71.1,71.2). Verfahren nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Auslöser die Zuordnung der Anteile (71.1, 71.2) zu den korrespondierenden Modellen der Steuerungseinheit (50) bewirkt.Method according to one of the Claims 5 or 6 , characterized in that a trigger causes the allocation of the components (71.1, 71.2) to the corresponding models of the control unit (50). Verfahren nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungseinheit (50) das Aktuatorsignal zur Verwendung in einer Vorsteuerung bestimmt.Method according to one of the Claims 5 or 6 , characterized in that the control unit (50) determines the actuator signal for use in a pilot control. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein zweiter in Richtung zur Komponente (30) nach dem Aktuator (53) angeordneter Sensor (52) die nicht kompensierten Druckschwankungen (63,74,77) erfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a second sensor (52) arranged in the direction of the component (30) after the actuator (53) detects the uncompensated pressure fluctuations (63,74,77). Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Modell der Steuerungseinheit (50) zur Bestimmung des Aktuatorsignals auf Basis der nicht kompensierten Druckschwankungen (63,74,77) angepasst wird.Procedure according to Claim 9 , characterized in that at least one model of the control unit (50) for determining the actuator signal is adapted on the basis of the uncompensated pressure fluctuations (63,74,77). Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungseinheit (50) ein Aktuatorsignal auf Basis der nicht kompensierten periodischen Anteile zur Verwendung in einer aktiven Regelung bestimmt.Method according to one of the Claims 9 or 10 , characterized in that the control unit (50) determines an actuator signal based on the uncompensated periodic components for use in an active control. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein erster Aktuator (53) und ein zweiter Aktuator (58) in Verbindung mit den Sensoren (51,52,57) die erfassten Druckschwankungen (71,74,77) in zwei Stufen kompensieren.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a first actuator (53) and a second actuator (58) in conjunction with the sensors (51, 52, 57) compensate the detected pressure fluctuations (71, 74, 77) in two stages. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungseinheit (50) auf Basis einer durch den in Richtung zur Komponente (30) vor dem Sensor (51,52) angeordneten zweiten Aktuator (58) erzeugten Druckschwankung kalibriert wird.Procedure according to Claim 12 , characterized in that the control unit (50) is calibrated on the basis of a pressure fluctuation generated by the second actuator (58) arranged in front of the sensor (51,52) in the direction of the component (30). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie mit mindestens einer Komponente (30) mit einem Fluidkanal (31) und einer Vorrichtung (40,70) mit einer Fluidleitung (41) zur Bereitstellung eines Fluids (32) zum Durchströmen des Fluidkanals (31), wobei die Vorrichtung (40,70) mindestens einen Sensor (51,52,58) zur Erfassung von Druckschwankungen (60,63,71,74,77) im Fluid, eine Steuerungseinheit (50) zur Bestimmung eines Aktuatorsignals und mindestens einen Aktuator (53,58) zur Erzeugung einer Druckschwankung (61,72,75) zur Kompensation der Druckschwankungen (60,63,71,74,77) im Fluid (32) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass der Sensor (51,57) in Richtung zur Komponente (30) vor dem Aktuator (53,58) angeordnet ist.Projection exposure system (1,101) for semiconductor lithography with at least one component (30) with a fluid channel (31) and a device (40,70) with a fluid line (41) for providing a fluid (32) to flow through the fluid channel (31), wherein the device (40,70) comprises at least one sensor (51,52,58) for detecting pressure fluctuations (60,63,71,74,77) in the fluid, a control unit (50) for determining an actuator signal and at least one actuator (53,58) for generating a pressure fluctuation (61,72,75) for compensating the pressure fluctuations (60,63,71,74,77) in the fluid (32), characterized in that the sensor (51,57) is arranged in the direction of the component (30) in front of the actuator (53,58). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (40,70) in Richtung zur Komponente (30) nach dem Aktuator (53,58) einen zweiten Sensor (51,52) aufweist.Projection exposure system (1,101) according to Claim 14 , characterized in that the device (40,70) has a second sensor (51,52) in the direction of the component (30) after the actuator (53,58). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 14 oder 150, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (40,70) einen zweiten Aktuator (58) in Richtung zur Komponente (30) vor dem ersten Sensor (51) der Vorrichtung (40,70) aufweist.Projection exposure system (1,101) according to Claim 14 or 150, characterized in that the device (40,70) has a second actuator (58) in the direction of the component (30) in front of the first sensor (51) of the device (40,70). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (40,70) einen weiteren Sensor (57) in Richtung zur Komponente (30) vor dem zweiten Aktuator (58) aufweist.Projection exposure system (1,101) according to Claim 16 , characterized in that the device (40,70) has a further sensor (57) in the direction of the component (30) in front of the second actuator (58). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass im Fall eines Ausfalls eines der Aktuatoren (53,58) oder eines der Sensoren (51,52,57) die Steuerungseinheit (50) derart ausgebildet ist, dass die Druckschwankungen (60,61,74) mit den verbleibenden Sensoren (51,52,57) und Aktuatoren (53,58) kompensiert werden.Projection exposure system (1,101) according to Claim 17 , characterized in that in the event of a failure of one of the actuators (53,58) or one of the sensors (51,52,57), the control unit (50) is designed such that the pressure fluctuations (60,61,74) are compensated with the remaining sensors (51,52,57) and actuators (53,58). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach einem der Ansprüche 14 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (53,58) in einem mit der Fluidleitung (41) verbundenen Fluidleitungsabschnitt (43.1,43.2) angeordnet ist.Projection exposure system (1,101) according to one of the Claims 14 until 18 , characterized in that the actuator (53,58) is arranged in a fluid line section (43.1,43.2) connected to the fluid line (41). Projektionsbelichtungsanlage (1,101) nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Fluidleitungsabschnitt (43.1,43.2) in einem Winkel kleiner als 90 Grad zwischen der Richtung der vom Aktuator (53,58) erzeugten Druckschwankung (61,72,75) und der im Fluid (32) vorhandenen Druckschwankungen (60,71,74) angeordnet ist.Projection exposure system (1,101) according to Claim 19 , characterized in that the fluid line section (43.1,43.2) is arranged at an angle of less than 90 degrees between the direction of the pressure fluctuation (61,72,75) generated by the actuator (53,58) and the pressure fluctuations (60,71,74) present in the fluid (32).
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