DE102022202938A1 - ARRANGEMENT AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM - Google Patents

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Abstract

Eine Anordnung (100) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (102), eine zweite Komponente (108), und eine die erste Komponente (102) mit der zweiten Komponente (108) wirkverbindende justierbare Schnittstelle (114, 116, 118, 120, 122), wobei die Schnittstelle (114, 116, 118, 120, 122) eine Justiereinrichtung (152) umfasst, welche die erste Komponente (102) mit der zweiten Komponente (108) flächig verspannt und welche dazu eingerichtet ist, die zweite Komponente (108) in mehreren Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente (102) zu justieren.An arrangement (100) for a projection exposure system (1), comprising a first component (102), a second component (108), and an adjustable interface (114, 116) which effectively connects the first component (102) to the second component (108), 118, 120, 122), the interface (114, 116, 118, 120, 122) comprising an adjusting device (152) which braces the first component (102) with the second component (108) and which is set up to do so. to adjust the second component (108) in several degrees of freedom relative to the first component (102).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Anordnung.The present invention relates to an arrangement for a projection exposure system and a projection exposure system with such an arrangement.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to produce microstructured components, such as integrated circuits. The microlithography process is carried out using a lithography system which has an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by means of the projection system onto a substrate, for example a silicon wafer, which is coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, in order to project the mask structure onto the light-sensitive coating of the substrate transferred to.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden.Driven by the pursuit of ever smaller structures in the production of integrated circuits, EUV lithography systems are currently being developed which use light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. In such EUV lithography systems, reflecting optics, i.e. mirrors, must be used instead of - as before - refracting optics, i.e. lenses, due to the high absorption of light of this wavelength by most materials.

In einem wie zuvor erläuterten Beleuchtungssystem oder Projektionssystem ist es erforderlich, Komponenten, wie beispielsweise Sensoren oder Optiken, mit hohen Anforderungen an die Positionsstabilität bei gleichzeitig hohen dynamischen Anforderungen zueinander auszurichten. Hierzu können nach betriebsinternen Erkenntnissen beispielsweise sogenannte Hexapoden oder Kugel-V-Nuten verwendet werden, um die Komponenten zueinander auszurichten. In a lighting system or projection system as explained above, it is necessary to align components, such as sensors or optics, with high requirements for position stability and at the same time high dynamic requirements. According to internal knowledge, so-called hexapods or spherical V-grooves can be used to align the components with one another.

Derartige Hexapoden umfassen üblicherweise sechs Stäbe, deren Anordnung so gewählt wird, dass alle sechs Freiheitsgrade im Raum gesperrt werden können. Pro Stab wird ein Freiheitsgrad in einer jeweiligen Stabrichtung gesperrt. Bei wie zuvor erwähnten Kugel-V-Nuten werden üblicherweise drei V-Nuten an einem ersten Körper mit drei Kugelflächen an einem zweiten Körper gepaart. Jede Kugel liegt in einer V-Nut mit je zwei Kugel-zu-Ebene-Berührungen, wodurch je zwei Freiheitsgrade gesperrt werden.Such hexapods usually comprise six rods, the arrangement of which is chosen so that all six degrees of freedom in space can be blocked. One degree of freedom is blocked in each member direction for each member. In spherical V-grooves as previously mentioned, three V-grooves on a first body are usually paired with three spherical surfaces on a second body. Each ball lies in a V-groove with two ball-to-plane contacts, locking two degrees of freedom.

Sowohl bei Hexapoden als auch bei Kugel-V-Nuten kann sich jedoch das Problem der geringen Steifigkeit der Verbindung, insbesondere niedrige Eigenfrequenzen, und der hohen lokalen Spannungen in einer Schnittstelle zwischen den Komponenten, insbesondere Gelenkspannungen im Hexapod oder Hertzsche Spannungen in den Kugel-V-Nuten, ergeben. Die hohen Spannungen verstärken das Risiko, dass an der Schnittstelle Positionsdrifts entstehen können. Dies gilt es zu verbessern.However, both hexapods and ball V-slots can face the problem of low stiffness of the connection, especially low natural frequencies, and high local stresses in an interface between the components, especially joint stresses in the hexapod or Hertzian stresses in the ball V -grooves, result. The high tensions increase the risk that position drifts can occur at the interface. This needs to be improved.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Anordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen.Against this background, an object of the present invention is to provide an improved arrangement for a projection exposure system.

Demgemäß wird eine Anordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Die Anordnung umfasst eine erste Komponente, eine zweite Komponente, und eine die erste Komponente mit der zweiten Komponente wirkverbindende justierbare Schnittstelle, wobei die Schnittstelle eine Justiereinrichtung umfasst, welche die erste Komponente mit der zweiten Komponente flächig verspannt und welche dazu eingerichtet ist, die zweite Komponente in mehreren Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente zu justieren.Accordingly, an arrangement for a projection exposure system is proposed. The arrangement comprises a first component, a second component, and an adjustable interface that effectively connects the first component to the second component, wherein the interface comprises an adjusting device which clamps the first component with the second component in a flat manner and which is designed to clamp the second component to be adjusted in several degrees of freedom relative to the first component.

Dadurch, dass die Justiereinrichtung die erste Komponente mit der zweiten Komponente flächig verspannt, wird das Auftreten von hohen lokalen Spannungen vermieden, wodurch sich Positionsdrifts an der Schnittstelle vermeiden lassen.The fact that the adjusting device braces the first component with the second component flatly prevents the occurrence of high local stresses, which means that position drifts at the interface can be avoided.

Die Anordnung kann Teil einer Beleuchtungsoptik oder einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage sein. Beispielsweise kann die erste Komponente ein sogenannter Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame) sein. Die zweite Komponente kann beispielsweise ein Messgerät oder Messinstrument, insbesondere ein Interferometer, sein. Die zweite Komponente kann jedoch beispielsweise auch ein optisches Element, insbesondere ein Spiegel, sein. Die erste Komponente und die zweite Komponente können grundsätzlich beliebige Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage sein. Dass die Schnittstelle die erste Komponente mit der zweiten Komponente „wirkverbindet“, bedeutet vorliegend insbesondere, dass die Schnittstelle die erste Komponente fest mit der zweiten Komponente verbindet. Dies kann beispielsweise mit Hilfe einer Schraubverbindung erfolgen.The arrangement can be part of an illumination optics or a projection optics of the projection exposure system. For example, the first component can be a so-called sensor frame. The second component can be, for example, a measuring device or measuring instrument, in particular an interferometer. However, the second component can also be, for example, an optical element, in particular a mirror. The first component and the second component can in principle be any components of the projection exposure system. In the present case, the fact that the interface “effectively connects” the first component to the second component means in particular that the interface firmly connects the first component to the second component. This can be done, for example, with the help of a screw connection.

Vorzugsweise ist der Anordnung ein Koordinatensystem mit einer ersten Raumrichtung oder x-Richtung, einer zweiten Raumrichtung oder y-Richtung und einer dritten Raumrichtung oder z-Richtung zugeordnet. Die Richtungen sind senkrecht zueinander orientiert. Jede Komponente weist sechs Freiheitsgrade, nämlich drei translatorische Freiheitsgrade jeweils entlang der x-Richtung, der y-Richtung und der z-Richtung sowie drei rotatorische Freiheitsgrade jeweils um die x-Richtung, die y-Richtung und die z-Richtung auf.Preferably, the arrangement is assigned a coordinate system with a first spatial direction or x-direction, a second spatial direction or y-direction and a third spatial direction or z-direction. The directions are oriented perpendicular to each other. Each component has six degrees of freedom, namely three translational degrees of freedom along the x-direction, the y-direction and the z-direction as well as three rotational ones Degrees of freedom around the x-direction, the y-direction and the z-direction.

Unter der „Position“ der jeweiligen Komponente sind deren Koordinaten oder die Koordinaten eines an der jeweiligen Komponente angebrachten Messpunkts bezüglich der x-Richtung, der y-Richtung und der z-Richtung zu verstehen. Unter der „Orientierung“ der jeweiligen Komponente sind insbesondere deren Verkippung oder die Verkippung des an der jeweiligen Komponente angebrachten Messpunkts bezüglich der x-Richtung, der y-Richtung und der z-Richtung zu verstehen. Unter der „Lage“ ist vorliegend sowohl die Position als auch die Orientierung der jeweiligen Komponente zu verstehen. Unter „Justieren“ oder „Ausrichten“ ist vorliegend zu verstehen, dass die jeweilige Komponente von einer Ist-Lage in eine Soll-Lage verbracht wird. Das heißt insbesondere, dass es mit Hilfe der justierbaren Schnittstelle möglich ist, die zweite Komponente gegenüber der ersten Komponente von einer Ist-Lage in eine Soll-Lage zu verbringen.The “position” of the respective component means its coordinates or the coordinates of a measuring point attached to the respective component with respect to the x-direction, the y-direction and the z-direction. The “orientation” of the respective component means in particular its tilting or the tilting of the measuring point attached to the respective component with respect to the x-direction, the y-direction and the z-direction. In this case, “location” means both the position and the orientation of the respective component. In this case, “adjusting” or “aligning” means that the respective component is moved from an actual position to a target position. This means in particular that with the help of the adjustable interface it is possible to move the second component from an actual position to a target position compared to the first component.

Die Justiereinrichtung kann auch als Ausrichteinrichtung oder als Spacer-Einrichtung bezeichnet werden. Die Justiereinrichtung kann auch als Fixier- und Spacersystem bezeichnet werden. Die Justiereinrichtung ist bevorzugt zumindest abschnittsweise innerhalb der Komponenten platziert. Daher kann die Justiereinrichtung auch als interne Justiereinrichtung bezeichnet werden. Dass die Justiereinrichtung die erste Komponente mit der zweiten Komponente „flächig“ verspannt, bedeutet vorliegend insbesondere, dass die zweite Komponente mit ihrer gesamten Fläche, beispielsweise mit einer Unterseite auf einer Oberseite der ersten Komponente aufliegt. Unter „flächig“ ist vorliegend insbesondere kein punktförmiger oder linienförmiger Kontakt zu verstehen.The adjustment device can also be referred to as an alignment device or as a spacer device. The adjustment device can also be referred to as a fixation and spacer system. The adjusting device is preferably placed at least in sections within the components. Therefore, the adjustment device can also be referred to as an internal adjustment device. In the present case, the fact that the adjusting device clamps the first component with the second component “surface-wise” means in particular that the second component rests with its entire surface, for example with an underside, on an upper side of the first component. In this case, “area” does not mean point-shaped or linear contact.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst die Schnittstelle einen Abstandshalter, der flächig an der ersten Komponente und an der zweiten Komponente anliegt und der mit Hilfe der Justiereinrichtung zwischen der ersten Komponente und der zweiten Komponente verspannt ist.According to one embodiment, the interface comprises a spacer which rests flatly on the first component and on the second component and which is clamped between the first component and the second component with the aid of the adjusting device.

Der Abstandshalter kann auch als Spacer bezeichnet werden. Der Abstandshalter liegt bevorzugt jeweils mit seiner gesamten Oberfläche an der ersten Komponente und an der zweiten Komponente auf.The spacer can also be referred to as a spacer. The spacer preferably rests with its entire surface on the first component and on the second component.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Abstandshalter dazu eingerichtet, die zweite Komponente in einem translatorischen Freiheitsgrad und in zwei rotatorischen Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente zu justieren.According to a further embodiment, the spacer is designed to adjust the second component in one translational degree of freedom and in two rotational degrees of freedom relative to the first component.

Der eine translatorische Freiheitsgrad ist insbesondere entlang der z-Richtung orientiert. Dieser translatorische Freiheitsgrad kann durch eine Dicke des Abstandshalters beeinflusst werden. Die zwei rotatorischen Freiheitsgrade umfassen jeweils einen rotatorischen Freiheitsgrad um die x-Richtung und einen rotatorischen Freiheitsgrad um die y-Richtung. Die beiden rotatorischen Freiheitsgrade können durch eine keilförmige Ausgestaltung des Abstandshalters verwirklicht werden.The one translational degree of freedom is oriented in particular along the z-direction. This translational degree of freedom can be influenced by a thickness of the spacer. The two rotational degrees of freedom each include a rotational degree of freedom about the x-direction and a rotational degree of freedom about the y-direction. The two rotational degrees of freedom can be achieved by a wedge-shaped design of the spacer.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind mehrere Schnittstellen vorgesehen, die einen gemeinsamen Abstandshalter umfassen.According to a further embodiment, several interfaces are provided which include a common spacer.

Für den Fall, dass nur eine Schnittstelle vorgesehen ist, ist die Justiereinrichtung mittig durch den Abstandshalter hindurchgeführt. Die Anordnung kann beispielsweise genau eine Schnittstelle, drei Schnittstellen, vier Schnittstellen oder fünf oder mehr als fünf Schnittstellen umfassen. So ist beispielsweise eine Anordnung mit drei Schnittstellen vorteilhaft, da breiter abgestützt werden kann und dadurch eine steifere Verbindung erhalten werden kann. Jedoch ist die Überbestimmtheit bei dem Vorsehen von drei Schnittstellen noch gering, wodurch die Deformation der zweiten Komponente gering gehalten wird. Vorteilhafterweise befinden sich sämtliche Schnittstellen in einer Ebene. Dies erleichtert die Fertigung der Kontaktflächen der ersten Komponente und der zweiten Komponente, da diese als Ebenen ausgestaltet werden können. Ferner ist dies auch vorteilhaft hinsichtlich des Ausdehnungsverhaltens bei Erwärmung, da keine seitlichen Kräfte auf die Komponenten einwirken und diese deformieren könnten. Hierdurch wird verhindert, dass Verspannungen oder Störkräfte entstehen, die aus unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten resultieren.In the event that only one interface is provided, the adjusting device is guided centrally through the spacer. The arrangement can, for example, include exactly one interface, three interfaces, four interfaces or five or more than five interfaces. For example, an arrangement with three interfaces is advantageous because the support can be wider and a stiffer connection can therefore be obtained. However, the overdetermination is still low when three interfaces are provided, which means that the deformation of the second component is kept low. Advantageously, all interfaces are located on one level. This facilitates the production of the contact surfaces of the first component and the second component, since these can be designed as planes. Furthermore, this is also advantageous with regard to the expansion behavior when heated, since no lateral forces can act on the components and deform them. This prevents tension or disruptive forces from occurring that result from different thermal expansion coefficients.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Abstandshalter eine plattenförmige oder eine keilförmige Geometrie, wobei der Abstandshalter bevorzugt einteilig oder mehrteilig ist.According to a further embodiment, the spacer comprises a plate-shaped or a wedge-shaped geometry, wherein the spacer is preferably in one piece or in several parts.

Unter „plattenförmig“ ist vorliegend eine Geometrie zu verstehen, die durchgehend dieselbe Dicke aufweist. In diesem Fall ist eine Oberseite des Abstandshalters parallel zu einer Unterseite desselben angeordnet. Der Abstandshalter kann beispielsweise aus einem beliebigen Werkstoff gefertigt sein. Unter einer „keilförmigen“ Geometrie ist vorliegend eine Geometrie zu verstehen, bei der die Oberseite des Abstandshalters schräg zu der Unterseite orientiert ist. Die Schräge kann dabei in zwei Raumrichtungen verkippt sein, so dass zwei rotatorische Freiheitsgrade justiert werden können.In the present case, “plate-shaped” means a geometry that has the same thickness throughout. In this case, an upper side of the spacer is arranged parallel to a lower side thereof. The spacer can, for example, be made of any material. In the present case, a “wedge-shaped” geometry is to be understood as meaning a geometry in which the top of the spacer is oriented obliquely to the bottom. The slope can be tilted in two spatial directions so that two rotational degrees of freedom can be adjusted.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Justiereinrichtung durch einen in dem Abstandshalter vorgesehenen Durchbruch hindurchgeführt.According to a further embodiment, the adjusting device is guided through an opening provided in the spacer.

Für den Fall, dass einem Abstandshalter mehrere Justiereinrichtungen zugeordnet sind, umfasst der Abstandshalter mehrere Durchbrüche, durch die die Justiereinrichtungen hindurchgeführt sind. Es kann alternativ auch für jede Justiereinrichtung ein eigener Abstandshalter vorgesehen sein. Alternativ können beispielsweise auch für zwei Justiereinrichtungen ein gemeinsamer Abstandshalter und für eine weitere Justiereinrichtung ein eigener Abstandshalter vorgesehen werden.In the event that a spacer is assigned several adjusting devices, the spacer comprises several openings through which the adjusting devices are passed. Alternatively, a separate spacer can also be provided for each adjustment device. Alternatively, for example, a common spacer can be provided for two adjustment devices and a separate spacer can be provided for another adjustment device.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Justiereinrichtung ein durch die erste Komponente hindurchgeführtes Schraubeninsert und eine durch die zweite Komponente hindurchgeführte Schraube, die in das Schraubeninsert eingeschraubt ist, um die erste Komponente mit der zweiten Komponente zu verspannen.According to a further embodiment, the adjusting device comprises a screw insert passed through the first component and a screw passed through the second component, which is screwed into the screw insert in order to brace the first component with the second component.

Mit Hilfe der Justiereinrichtung kann somit eine Vorspannkraft auf die Komponenten und den Abstandshalter aufgebracht werden. Das Schraubeninsert kann darüber hinaus auch durch einen in dem Abstandshalter vorgesehenen Durchbruch und zumindest teilweise durch einen in der zweiten Komponente vorgesehenen Durchbruch hindurchgeführt werden. Die Schraube hingegen kann durch den in der zweiten Komponente vorgesehenen Durchbruch, den Durchbruch des Abstandshalters und den Durchbruch der ersten Komponente hindurchgeführt werden.With the help of the adjusting device, a preload force can be applied to the components and the spacer. The screw insert can also be passed through an opening provided in the spacer and at least partially through an opening provided in the second component. The screw, on the other hand, can be passed through the opening provided in the second component, the opening of the spacer and the opening of the first component.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt das Schraubeninsert mit einem Flanschabschnitt an der ersten Komponente an und ist mit einem sich aus dem Flanschabschnitt heraus erstreckenden Gewindeabschnitt berührungsfrei durch einen in der ersten Komponente vorgesehenen Durchbruch hindurchgeführt.According to a further embodiment, the screw insert rests with a flange section on the first component and is guided without contact through an opening provided in the first component with a threaded section extending out of the flange section.

Der Flanschabschnitt ist vorzugsweise scheibenförmig. Insbesondere liegt der Flanschabschnitt an einer Unterseite der ersten Komponente an. Der Flanschabschnitt kann mit der Unterseite verklebt werden, wie es beispielsweise bei keramischen Werkstoffen, Glaswerkstoffen oder glaskeramischen Werkstoffen sinnvoll sein kann. Bei metallischen Werkstoffen kann das Schraubeninsert auch angeschraubt oder monolithisch in einer Komponente gefertigt werden. Der Gewindeabschnitt ist vorzugsweise zylinderförmig und umfasst ein Innengewinde, in das die Schraube eingeschraubt ist. Ein Außendurchmesser des Gewindeabschnitts ist kleiner als ein Innendurchmesser des Durchbruchs der ersten Komponente, so dass der Gewindeabschnitt nicht in Kontakt mit dem Durchbruch der ersten Komponente gerät. Der Gewindeabschnitt wird somit berührungsfrei durch den Durchbruch hindurchgeführt.The flange section is preferably disc-shaped. In particular, the flange section rests on an underside of the first component. The flange section can be glued to the underside, as can be useful, for example, with ceramic materials, glass materials or glass-ceramic materials. For metallic materials, the screw insert can also be screwed on or manufactured monolithically in a component. The threaded section is preferably cylindrical and includes an internal thread into which the screw is screwed. An outer diameter of the threaded section is smaller than an inner diameter of the opening of the first component, so that the threaded section does not come into contact with the opening of the first component. The threaded section is thus guided through the opening without contact.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Schraube berührungsfrei durch einen in der zweiten Komponente vorgesehenen Durchbruch hindurchgeführt und in den Gewindeabschnitt eingeschraubt.According to a further embodiment, the screw is passed through a breakthrough provided in the second component without contact and screwed into the threaded section.

Der in der zweiten Komponente vorgesehene Durchbruch ist vorzugsweise stufenförmig und umfasst einen ersten Abschnitt sowie einen zweiten Abschnitt, wobei der zweite Abschnitt einen größeren Durchmesser aufweist als der erste Abschnitt. Der zweite Abschnitt grenzt an den Abstandshalter an. Ein Durchmesser der Schraube ist derart bemessen, dass dieser kleiner ist als ein Durchmesser des ersten Abschnitts des Durchbruchs der zweiten Komponente. Somit kontaktiert die Schraube den Durchbruch der zweiten Komponente nicht. Die Schraube umfasst vorzugsweise einen Schraubenkopf, welcher sich an der zweiten Komponente abstützt, einen Schraubenschaft und einen sich an den Schraubenschaft anschließenden Gewindeabschnitt, welcher in den Gewindeabschnitt des Schraubeninserts eingeschraubt ist.The opening provided in the second component is preferably step-shaped and comprises a first section and a second section, the second section having a larger diameter than the first section. The second section is adjacent to the spacer. A diameter of the screw is dimensioned such that it is smaller than a diameter of the first section of the opening of the second component. The screw therefore does not contact the opening of the second component. The screw preferably comprises a screw head, which is supported on the second component, a screw shaft and a threaded section adjoining the screw shaft, which is screwed into the threaded section of the screw insert.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Schraubeninsert einen Kugelabschnitt, der zumindest abschnittsweise in einer mit der zweiten Komponente verbundenen Hülse aufgenommen ist.According to a further embodiment, the screw insert comprises a spherical section which is accommodated at least in sections in a sleeve connected to the second component.

Der Kugelabschnitt umfasst zumindest abschnittsweise die Form einer Kugel. Die Verwendung einer kugelförmigen Geometrie ist dahingehend vorteilhaft, dass diese nicht sensitiv auf Verkippungen ist. Der Kugelabschnitt kann auch als kugelkalottenförmig bezeichnet werden. Der Kugelabschnitt ist rohrförmig, so dass die Schraube durch den Kugelabschnitt hindurchgeführt werden kann. Der Kugelabschnitt ist mit Hilfe eines im Vergleich zu dem Gewindeabschnitt dünnwandigen Verbindungsabschnitts mit dem Gewindeabschnitt des Schraubeninserts verbunden. Die Hülse ist vorzugsweise eine Metallhülse. Die Hülse ist in dem zweiten Abschnitt des Durchbruchs der zweiten Komponente aufgenommen. Dabei ist die Hülse derart bemessen, dass diese Seitenwände des zweiten Abschnitts des Durchbruchs der zweiten Komponente nicht kontaktiert. Die Hülse ist beispielsweise aus Stahl, insbesondere aus Edelstahl, gefertigt. Der Kugelabschnitt kontaktiert eine Innenwand der Hülse, wodurch an dem Kugelabschnitt und an der Hülse Störkräfte entstehen können. Diese Störkräfte entstehen jedoch lokal nur an dem Kugelabschnitt und an der Hülse und sind durch die Verspannung der Komponenten und des Abstandshalters mit Hilfe der Schraube und des Schraubeninserts klein genug, um nicht zu einer Drift der zweiten Komponente zu führen.The spherical section has the shape of a sphere, at least in sections. The use of a spherical geometry is advantageous in that it is not sensitive to tilting. The spherical section can also be referred to as spherical cap-shaped. The ball section is tubular so that the screw can be passed through the ball section. The ball section is connected to the threaded section of the screw insert using a thin-walled connecting section compared to the threaded section. The sleeve is preferably a metal sleeve. The sleeve is accommodated in the second section of the opening of the second component. The sleeve is dimensioned such that it does not come into contact with the side walls of the second section of the opening of the second component. The sleeve is made, for example, of steel, in particular stainless steel. The ball section contacts an inner wall of the sleeve, whereby disruptive forces can arise on the ball section and on the sleeve. However, these disruptive forces arise locally only on the ball section and on the sleeve and are small enough due to the tensioning of the components and the spacer with the help of the screw and the screw insert so as not to lead to a drift of the second component.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Kugelabschnitt relativ zu der Hülse drei rotatorische Freiheitsgrade und zwei translatorische Freiheitsgrade.According to a further embodiment, the spherical section comprises three relative to the sleeve rotational degrees of freedom and two translational degrees of freedom.

Durch die kugelförmige Geometrie kann der Kugelabschnitt gegenüber der Hülse um die x-Richtung und die y-Richtung verkippen und sich um die z-Richtung verdrehen. Ferner umfasst der Kugelabschnitt einen translatorischen Freiheitsgrad entlang der z-Richtung. Die Hülse beziehungsweise die Innenwand der Hülse umfasst vorzugsweise eine langlochförmige Geometrie, so dass sich die Hülse gegenüber dem Kugelabschnitt je nach Orientierung der Hülse in einem translatorischen Freiheitsgrad, beispielsweise entlang der x-Richtung, verlagern kann. Mit Hilfe dreier Hülsen kann eine statische Bestimmtheit erreicht werden.Due to the spherical geometry, the spherical section can tilt relative to the sleeve about the x-direction and the y-direction and rotate about the z-direction. Furthermore, the spherical section includes a translational degree of freedom along the z-direction. The sleeve or the inner wall of the sleeve preferably comprises an elongated hole-shaped geometry, so that the sleeve can shift relative to the spherical section in a translational degree of freedom, for example along the x-direction, depending on the orientation of the sleeve. With the help of three sleeves a static specificity can be achieved.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Hülse eine Innenwand, mit welcher der Kugelabschnitt in Kontakt ist, wobei die Innenwand eine langlochförmige Geometrie aufweist, so dass die Hülse relativ zu dem Kugelabschnitt translatorisch verschiebbar ist.According to a further embodiment, the sleeve comprises an inner wall with which the spherical section is in contact, the inner wall having an elongated hole-shaped geometry, so that the sleeve is translationally displaceable relative to the spherical section.

Die Hülse kann in federndem Kontakt mit dem Kugelabschnitt sein. Alternativ kann zwischen der Innenwand der Hülse und dem Kugelabschnitt auch ein Spiel vorgesehen sein. Die Innenwand weist in der Aufsicht vorzugsweise eine ovale Geometrie auf.The sleeve can be in resilient contact with the ball section. Alternatively, play can also be provided between the inner wall of the sleeve and the ball section. The inner wall preferably has an oval geometry when viewed from above.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Hülse zum Justieren der zweiten Komponente relativ zu der ersten Komponente austauschbar oder zumindest teilweise austauschbar.According to a further embodiment, the sleeve for adjusting the second component is interchangeable or at least partially interchangeable relative to the first component.

Die Hülse kann mehrteilig ausgeführt sein. Beispielsweise kann ein in der Hülse vorgesehener Durchbruch, der von der Innenwand begrenzt ist, in der Hülse seitlich verschoben sein. Je nach Anordnung und Orientierung des Durchbruchs kann durch einen Austausch der Hülse oder durch einen Austausch eines Teils der Hülse die zweite Komponente beliebig justiert werden.The sleeve can be made in several parts. For example, an opening provided in the sleeve, which is delimited by the inner wall, can be displaced laterally in the sleeve. Depending on the arrangement and orientation of the opening, the second component can be adjusted as desired by replacing the sleeve or by replacing part of the sleeve.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Anordnung mehrere Schnittstellen, wobei jede Schnittstelle eine Justiereinrichtung aufweist, und wobei die zweite Komponente mit Hilfe der Justiereinrichtungen in drei translatorischen Freiheitsgraden und in drei rotatorischen Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente justierbar ist.According to a further embodiment, the arrangement comprises a plurality of interfaces, each interface having an adjusting device, and the second component being adjustable in three translational degrees of freedom and in three rotational degrees of freedom relative to the first component with the aid of the adjusting devices.

Beim Verschieben der Hülse entlang dem Kugelabschnitt ergibt sich beispielsweise ein translatorischer Freiheitsgrad entlang der Innenwand der Hülse. Eine keilige Ausgestaltung des Abstandshalters ergibt zwei rotatorische Freiheitsgrade. Durch das Zusammenspiel mehrerer Justiereinrichtungen ergeben sich ein weiterer rotatorischer Freiheitsgrade und zwei translatorische Freiheitsgrade, die justiert werden können.When moving the sleeve along the spherical section, for example, a translational degree of freedom arises along the inner wall of the sleeve. A wedge-shaped design of the spacer results in two rotational degrees of freedom. The interaction of several adjustment devices results in a further rotational degree of freedom and two translational degrees of freedom that can be adjusted.

Ferner wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Anordnung vorgeschlagen.Furthermore, a projection exposure system with such an arrangement is proposed.

Die Projektionsbelichtungsanlage kann mehrere derartige Anordnungen umfassen. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für „Extreme Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektionsbelichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für „Deep Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.The projection exposure system can include several such arrangements. The projection exposure system can be an EUV lithography system. EUV stands for “Extreme Ultraviolet” and describes a wavelength of working light between 0.1 nm and 30 nm. The projection exposure system can also be a DUV lithography system. DUV stands for “Deep Ultraviolet” and describes a wavelength of work light between 30 nm and 250 nm.

„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.In the present case, “on” is not necessarily to be understood as limiting it to exactly one element. Rather, several elements, such as two, three or more, can also be provided. Any other counting word used here should not be understood to mean that there is a limitation to exactly the number of elements mentioned. Rather, numerical deviations upwards and downwards are possible, unless otherwise stated.

Die für die Anordnung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Projektionsbelichtungsanlage entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the arrangement apply accordingly to the proposed projection exposure system and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments that are not explicitly mentioned. The person skilled in the art will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

  • 1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie;
  • 2 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 3 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 4 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 5 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 6 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 7 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 8 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 9 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 10 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 11 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform einer Schnittstelle für die Anordnungen gemäß 2 bis 10;
  • 12 zeigt eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 13 zeigt eine weitere schematische Aufsicht der Anordnung gemäß 12; und
  • 14 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Hülse für die Schnittstelle gemäß 11.
Further advantageous refinements and aspects of the invention are the subject of the subclaims and the exemplary embodiments of the invention described below. The invention is further explained in more detail using preferred embodiments with reference to the accompanying figures.
  • 1 shows a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography;
  • 2 shows a schematic sectional view and a schematic top view of an embodiment of an arrangement for the projection exposure system according to 1 ;
  • 3 shows a schematic sectional view and a schematic top view of a wide area ren embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 4 shows a schematic sectional view and a schematic top view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 5 shows a schematic sectional view and a schematic top view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 6 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 7 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 8th shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 9 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 10 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 11 shows a schematic sectional view of an embodiment of an interface for the arrangements according to 2 until 10 ;
  • 12 shows a schematic top view of a further embodiment of an arrangement for the projection exposure system 1 ;
  • 13 shows a further schematic top view of the arrangement 12 ; and
  • 14 shows a schematic top view of an embodiment of a sleeve for the interface according to 11 .

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.In the figures, identical or functionally identical elements have been given the same reference numerals, unless otherwise stated. Furthermore, it should be noted that the representations in the figures are not necessarily to scale.

1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. 1 shows an embodiment of a projection exposure system 1 (lithography system), in particular an EUV lithography system. One embodiment of a lighting system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, lighting optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6. In an alternative embodiment, the light source 3 can also be provided as a module separate from the other lighting system 2. In this case, the lighting system 2 does not include the light source 3.

Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.A reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed. The reticle 7 is held by a reticle holder 8. The reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.

In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.In the 1 For explanation purposes, a Cartesian coordinate system with an x-direction x, a y-direction y and a z-direction z is shown. The x-direction x runs perpendicularly into the drawing plane. The y-direction y is horizontal and the z-direction z is vertical. The scanning direction is in the 1 along the y-direction y. The z direction z runs perpendicular to the object plane 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.The projection exposure system 1 includes projection optics 10. The projection optics 10 is used to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12. The image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0 ° is also between the object plane 6 and the Image level 12 possible.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.A structure on the reticle 7 is imaged on a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12. The wafer 13 is held by a wafer holder 14. The wafer holder 14 can be displaced in particular along the y-direction y via a wafer displacement drive 15. The displacement, on the one hand, of the reticle 7 via the reticle displacement drive 9 and, on the other hand, of the wafer 13 via the wafer displacement drive 15 can take place in synchronization with one another.

Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Γauelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Γauelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The light source 3 is an EUV radiation source. The light source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light. The useful radiation 16 in particular has a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm. The light source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (Laser Produced Plasma, plasma generated with the help of a laser) or a DPP source (Gas Discharged Produced Plasma). It can also be a synchrotron-based radiation source. The light source 3 can be a free electric nen laser (English: Free Electron Laser, FEL).

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The illumination radiation 16, which emanates from the light source 3, is focused by a collector 17. The collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloid reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be in grazing incidence (GI), i.e. with angles of incidence greater than 45 °, or in normal incidence (Normal Incidence, NI), i.e. with angles of incidence smaller than 45 ° Illumination radiation 16 is applied. The collector 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress false light.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the collector 17, the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focus plane 18. The intermediate focus plane 18 can represent a separation between a radiation source module, having the light source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.The lighting optics 4 comprises a deflection mirror 19 and, downstream of it in the beam path, a first facet mirror 20. The deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with an effect that influences the bundle beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter which separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a wavelength that deviates from this. If the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4, which is optically conjugate to the object plane 6 as a field plane, it is also referred to as a field facet mirror. The first facet mirror 20 includes a large number of individual first facets 21, which can also be referred to as field facets. Of these first facets 21 are in the 1 just a few are shown as examples.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.The first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or part-circular edge contour. The first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.Like, for example, from the DE 10 2008 009 600 A1 is known, the first facets 21 themselves can also each be composed of a large number of individual mirrors, in particular a large number of micromirrors. The first facet mirror 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system). For details see the DE 10 2008 009 600 A1 referred.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.Between the collector 17 and the deflection mirror 19, the illumination radiation 16 runs horizontally, i.e. along the y-direction y.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .A second facet mirror 22 is located downstream of the first facet mirror 20 in the beam path of the illumination optics 4. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the lighting optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1 , the EP 1 614 008 B1 and the US 6,573,978 .

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23. In the case of a pupil facet mirror, the second facets 23 are also referred to as pupil facets.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.The second facets 23 can also be macroscopic facets, which can have, for example, round, rectangular or even hexagonal edges, or alternatively they can be facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to the DE 10 2008 009 600 A1 referred.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.The second facets 23 can have flat or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integrator) bezeichnet.The lighting optics 4 thus forms a double faceted system. This basic principle is also known as the honeycomb condenser (Fly's Eye Integrator).

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.It may be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugate to a pupil plane of the projection optics 10. In particular, the second facet mirror 22 can be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as is the case, for example, in FIG DE 10 2017 220 586 A1 is described.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.With the help of the second facet mirror 22, the individual first facets 21 are imaged into the object field 5. The second facet mirror 22 is the last bundle-forming or actual one Lich the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.In a further embodiment of the illumination optics 4, not shown, transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which contributes in particular to the imaging of the first facets 21 into the object field 5. The transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the lighting optics 4. The transmission optics can in particular include one or two mirrors for perpendicular incidence (NI mirror, normal incidence mirror) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GI mirror, gracing incidence mirror).

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.The lighting optics 4 has the version in the 1 is shown, after the collector 17 exactly three mirrors, namely the deflection mirror 19, the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.In a further embodiment of the lighting optics 4, the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the lighting optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.The imaging of the first facets 21 into the object plane 6 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics is generally only an approximate image.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered consecutively according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.

Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.At the one in the 1 In the example shown, the projection optics 10 includes six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible. The projection optics 10 is a double obscured optics. The penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16. The projection optics 10 has an image-side numerical aperture that is larger than 0.5 and which can also be larger than 0.6 and, for example, 0.7 or can be 0.75.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without an axis of rotational symmetry. Alternatively, the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one axis of rotational symmetry of the reflection surface shape. The mirrors Mi, like the mirrors of the lighting optics 4, can have highly reflective coatings for the lighting radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.The projection optics 10 has a large object image offset in the y direction y between a y coordinate of a center of the object field 5 and a y coordinate of the center of the image field 11. This object image offset in the y direction y can be in be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe Bx, By in x- und y-Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe Bx, By der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (6x, By) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab 6 bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab 6 bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.The projection optics 10 can in particular be anamorphic. In particular, it has different imaging scales Bx, By in the x and y directions x, y. The two imaging scales Bx, By of the projection optics 10 are preferably (6x, By) = (+/- 0.25, /+- 0.125). A positive magnification 6 means an image without image reversal. A negative sign for the image scale 6 means an image with image reversal.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.The projection optics 10 thus leads to a reduction in size in the x direction x, that is to say in the direction perpendicular to the scanning direction, in a ratio of 4:1.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.The projection optics 10 leads to a reduction of 8:1 in the y direction y, that is to say in the scanning direction.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.Other image scales are also possible. Image scales of the same sign and absolutely the same in the x and y directions x, y, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .The number of intermediate image planes in the x and y directions x, y in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or, depending on the design of the projection optics 10, can be different. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x and y directions x, y are known from US 2018/0074303 A1 .

Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.One of the second facets 23 is assigned to exactly one of the first facets 21 to form an illumination channel for illuminating the object field 5. This can in particular result in lighting based on Köhler's principle. The far field is broken down into a large number of object fields 5 using the first facets 21. The first facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the second facets assigned to each of these 23.

Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homögen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.The first facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an assigned second facet 23, superimposed on one another, in order to illuminate the object field 5. The illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%. Field uniformity can be achieved by overlaying different lighting channels.

Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.By arranging the second facets 23, the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be geometrically defined. By selecting the illumination channels, in particular the subset of the second facets 23 that guide light, the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be adjusted. This intensity distribution is also referred to as the lighting setting or lighting pupil filling.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.A likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by redistributing the illumination channels.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.Further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular the entrance pupil of the projection optics 10 are described below.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.The projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.The entrance pupil of the projection optics 10 cannot regularly be illuminated precisely with the second facet mirror 22. When imaging the projection optics 10, which images the center of the second facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point. However, an area can be found in which the pairwise distance of the aperture beams becomes minimal. This surface represents the entrance pupil or a surface conjugate to it in local space. In particular, this surface shows a finite curvature.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.It may be that the projection optics have 10 different positions of the entrance pupil for the tangential and sagittal beam paths. In this case, an imaging element, in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.

Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.At the in the 1 As shown in the arrangement of the components of the illumination optics 4, the second facet mirror 22 is arranged in a surface conjugate to the entrance pupil of the projection optics 10. The first facet mirror 20 is tilted relative to the object plane 6. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the second facet mirror 22.

In einer wie zuvor erläuterten Beleuchtungsoptik 4 oder Projektionsoptik 10 ist es erforderlich, Komponenten, wie beispielsweise Sensoren oder optische Elemente, mit hohen Anforderungen an die Positionsstabilität bei gleichzeitig hohen dynamischen Anforderungen zueinander auszurichten. Hierzu können beispielsweise sogenannte Hexapoden oder Kugel-V-Nuten verwendet werden, um die Komponenten zueinander auszurichten oder zu justieren. Hier kann sich jedoch das Problem der geringen Steifigkeit der Verbindung, insbesondere niedrige Eigenfrequenzen, und der hohen lokalen Spannungen in einer Schnittstelle zwischen den Komponenten, insbesondere Gelenkspannungen im Hexapod oder Hertzsche Spannungen in der Kugel-V-Nuten, ergeben. Die hohen Spannungen verstärken das Risiko, dass an der Schnittstelle Positionsdrifts entstehen können.In an illumination optics 4 or projection optics 10 as explained above, it is necessary to align components, such as sensors or optical elements, with high requirements for position stability and at the same time high dynamic requirements. For this purpose, so-called hexapods or ball V-grooves can be used, for example, to align or adjust the components to one another. However, the problem of low stiffness of the connection, in particular low natural frequencies, and high local stresses in an interface between the components, in particular joint stresses in the hexapod or Hertzian stresses in the ball V-slots, can arise here. The high tensions increase the risk that position drifts can occur at the interface.

2 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Anordnung 100 für eine Beleuchtungsoptik 4 oder eine Projektionsoptik 10. Die Anordnung 100 umfasst eine erste Komponente 102. Die erste Komponente 102 kann beispielsweise ein sogenannter Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame) sein. Die erste Komponente 102 umfasst eine Unterseite 104 und eine Oberseite 106. Die erste Komponente 102 kann plattenförmig sein. Die erste Komponente 102 kann jedoch grundsätzlich jede beliebige Geometrie aufweisen. 2 shows a schematic sectional view and a schematic top view of an embodiment of an arrangement 100 for an illumination optics 4 or a projection optics 10. The arrangement 100 comprises a first component 102. The first component 102 can, for example, be a so-called sensor frame. The first component 102 includes a bottom 104 and a top 106. The first component 102 can be plate-shaped. However, the first component 102 can basically have any geometry.

Neben der ersten Komponente 102 umfasst die Anordnung 100 eine zweite Komponente 108. Die zweite Komponente 108 kann beispielsweise ein Sensor oder ein Messinstrument sein. Die zweite Komponente 108 kann jedoch auch ein optisches Element der Beleuchtungsoptik 4 oder der Projektionsoptik 10 sein. Die zweite Komponente 108 umfasst eine Unterseite 110 und eine Oberseite 112. Die zweite Komponente 108 kann beispielsweise mit ihrer Unterseite 110 auf der Oberseite 106 der ersten Komponente 102 auf.In addition to the first component 102, the arrangement 100 includes a second component 108. The second component 108 can be, for example, a sensor or a measuring instrument. However, the second component 108 can also be an optical element of the lighting optics 4 or the projection optics 10. The second component 108 includes a bottom 110 and a top 112. The second component 108 can, for example, have its bottom 110 on the top 106 of the first component 102.

Zwischen der ersten Komponente 102 und der zweiten Komponente 108 ist genau eine Schnittstelle 114 vorgesehen, welche die Komponenten 102, 108 miteinander verbindet. Die Schnittstelle 114 kann eine Verschraubung sein oder eine Verschraubung umfassen. Die Schnittstelle 114 kann auch als Verbindungspunkt, Verbindungsstelle oder als Verbindungseinrichtung bezeichnet werden. Der Aufbau der Schnittstelle 114 wird nachfolgend noch erläutert.Between the first component 102 and the second component 108, exactly one interface 114 is provided, which connects the components 102, 108 to one another. The interface 114 may be a screw connection or include a screw connection. The interface 114 may also be referred to as a connection point, connection point or connection device. The structure of the interface 114 will be explained below.

3 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. Die Anordnung 100 gemäß der 3 unterscheidet sich von der Anordnung 100 gemäß der 2 nur dadurch, dass nicht eine Schnittstelle 114, sondern drei Schnittstellen 114, 116, 118 vorgesehen sind, die dreieckförmig angeordnet sind. 3 shows a schematic sectional view and a schematic top view of a further embodiment of an arrangement 100. The arrangement 100 according to 3 differs from the arrangement 100 according to the 2 only in that not one interface 114, but three interfaces 114, 116, 118 are provided, which are arranged in a triangular shape.

4 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. Die Anordnung 100 gemäß der 4 unterscheidet sich von der Anordnung 100 gemäß der 2 nur dadurch, dass nicht eine Schnittstelle 114, sondern vier Schnittstellen 114, 116, 118, 120 vorgesehen sind, die in Form eines Rechtecks angeordnet sind. Drei der Schnittstellen 114, 116, 118, 120 können auch in Form eines Dreiecks angeordnet sein, wobei die vierte der Schnittstellen 114, 116, 118, 120 in einer Mitte des Dreiecks platziert ist. Die Schnittstellen 114, 116, 118, 120 können grundsätzlich beliebig angeordnet werden. 4 shows a schematic sectional view and a schematic top view of a further embodiment of an arrangement 100. The arrangement 100 according to 4 differs from the arrangement 100 according to the 2 only in that not one interface 114, but four interfaces 114, 116, 118, 120 are provided, which are arranged in the shape of a rectangle. Three of the interfaces 114, 116, 118, 120 may also be arranged in the shape of a triangle, with the fourth of the interfaces 114, 116, 118, 120 being placed in a center of the triangle. The interfaces 114, 116, 118, 120 can basically be arranged arbitrarily.

5 zeigt eine schematische Schnittansicht sowie eine schematische Aufsicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. Die Anordnung 100 gemäß der 5 unterscheidet sich von der Anordnung 100 gemäß der 2 nur dadurch, dass nicht eine Schnittstelle 114, sondern fünf Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122 vorgesehen sind. 5 shows a schematic sectional view and a schematic top view of a further embodiment of an arrangement 100. The arrangement 100 according to 5 differs from the arrangement 100 according to the 2 only in that not one interface 114, but five interfaces 114, 116, 118, 120, 122 are provided.

Die Lösung des einführend genannten Problems des Auftretens von hohen Spannungen wird erreicht durch ein planares Anschrauben (Engl.: Plane Mounting) mit Hilfe der Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122 und einem nachfolgend noch zu erläuternden innenliegendes Spacersystem beziehungsweise einer Justiereinrichtung zur Justage der Komponenten 102, 108.The solution to the problem mentioned in the introduction of the occurrence of high voltages is achieved by planar screwing (Plane Mounting) using the interfaces 114, 116, 118, 120, 122 and an internal spacer system or an adjusting device for adjustment, which will be explained below the components 102, 108.

Das planare Anschrauben erfolgt, wie zuvor erwähnt, an verschiedenen Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122. Beispielsweise ist, wie in der 2 gezeigt, eine Ein-Punkt-Verschraubung möglich. Diese ist erweiterbar um beliebig viele Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122. Besonders günstig ist zum einem das Vorsehen nur einer Schnittstelle 114, da dadurch wenig Deformationen in den Komponenten 102, 108 erzeugt werden.As previously mentioned, the planar screwing takes place at different interfaces 114, 116, 118, 120, 122. For example, as in the 2 shown, a one-point screw connection is possible. This can be expanded to include any number of interfaces 114, 116, 118, 120, 122. On the one hand, it is particularly advantageous to provide only one interface 114, since this creates little deformation in the components 102, 108.

Auch eine wie in der 3 gezeigte Drei-Punkt-Verschraubung ist günstig, da eine breitere Abstützung möglich ist und dadurch eine steifere Verbindung erhalten werden kann. Jedoch ist die Überbestimmtheit einer derartigen Verbindung noch gering, wodurch die Deformationen der Komponenten 102, 108 gering gehalten werden kann. Das Vorsehen nur einer Schnittstelle 114 ist günstig ausgestaltet, wenn eine Schraube zur Krafterbringung zentral angeordnet ist und axial um die Schraube Auflagepads der beiden Komponenten 102, 108 vorgesehen sind, damit die Schraubenkraft die beiden Komponenten 102, 108 symmetrisch über die Auflagepads verspannt.Also one like that 3 The three-point screw connection shown is favorable because wider support is possible and a stiffer connection can therefore be obtained. However, the overdetermination of such a connection is still low, which means that the deformations of the components 102, 108 can be kept low. The provision of only one interface 114 is advantageous if a screw is arranged centrally to generate force and support pads of the two components 102, 108 are provided axially around the screw so that the screw force clamps the two components 102, 108 symmetrically over the support pads.

Vorteilhaft ist auch, wenn sich die Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122 alle in einer gemeinsamen Ebene befinden. Dies erleichtert zum einem die Fertigung der Kontaktflächen der Komponenten 102, 108, insbesondere die Oberseite 106 und die Unterseite 110. Ferner ist dies jedoch auch hinsichtlich des Ausdehnungsverhaltens der Komponenten 102, 108 bei Erwärmung vorteilhaft, da keine seitlichen Kräfte die Komponenten 102, 108 deformieren können und sich beide Komponenten 102, 108 gleichmäßig ohne Verspannungen und/oder Störkräfte zusammen thermal ausdehnen können. Verspannungen und/oder Störkräfte können durch unterschiedliche thermale Zeitkonstanten, unterschiedlich verwendete Materialien oder dergleichen entstehen.It is also advantageous if the interfaces 114, 116, 118, 120, 122 are all on a common level. On the one hand, this facilitates the production of the contact surfaces of the components 102, 108, in particular the top 106 and the bottom 110. Furthermore, however, this is also advantageous with regard to the expansion behavior of the components 102, 108 when heated, since no lateral forces deform the components 102, 108 can and both components 102, 108 can expand thermally together evenly without tension and / or disruptive forces. Tensions and/or disruptive forces can arise from different thermal time constants, different materials used or the like.

6 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. Die 6 veranschaulicht das zuvor erläuterte thermische Ausdehnungsverhalten der Komponenten 102, 108. In einem, beispielsweise wärmebedingt, ausgedehnten Zustand sind die Komponenten in der 6 mit den Bezugszeichen 102', 108' versehen. Da die Kontaktflächen zwischen den Komponenten 102, 108, nämlich die Oberseite 106 und die Unterseite 110 eben sind, beeinträchtigen sich die Komponenten 102, 108 nicht gegenseitig und können sich gemeinsam homogen ausdehnen, wie in der 6 mit Hilfe von Pfeilen 124, 126, 128, 130, 132, 134 angedeutet ist. Die Komponenten 102, 108 können sich weniger gegeneinander verspannen. Hierdurch wird das Auftreten von Störkräften an wie zuvor erwähnten Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122 zwischen den Komponenten 102, 108 reduziert. 6 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement 100. The 6 illustrates the previously explained thermal expansion behavior of the components 102, 108. In an expanded state, for example due to heat, the components are in the 6 provided with the reference numbers 102', 108'. Since the contact surfaces between the components 102, 108, namely the top 106 and the bottom 110, are flat, the components 102, 108 do not affect each other and can expand together homogeneously, as in the 6 is indicated with the help of arrows 124, 126, 128, 130, 132, 134. The components 102, 108 can tense less against each other. This reduces the occurrence of disruptive forces at interfaces 114, 116, 118, 120, 122 between the components 102, 108 as mentioned above.

7 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. Hierbei wird angenommen, dass die zweite Komponente 108 ein Messgerät, insbesondere ein Positionsmessgerät, beispielsweise ein Interferometer, ist, das einen Messstrahl 136 mit einer Messrichtung entlang der y-Richtung y zu einem optischen Element 138, beispielsweise einem Spiegel, sendet. Die zweite Komponente 108 kann auch ein kapazitiver Sensor sein, der eine Position eines kapazitiven Targets anstelle des optischen Elements 138 entlang der y-Richtung y misst. 7 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement 100. It is assumed here that the second component 108 is a measuring device, in particular a position measuring device, for example an interferometer, which has a measuring beam 136 with a measuring direction direction along the y direction y to an optical element 138, for example a mirror. The second component 108 may also be a capacitive sensor that measures a position of a capacitive target instead of the optical element 138 along the y-direction y.

8 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. In diesem Fall wird davon ausgegangen, dass die zweite Komponente 108 ein Positionsmessgerät, wie beispielsweise ein Encoder oder ein kapazitiver Sensor, ist. Ein Messstrahl 136 kann entlang der z-Richtung z, der x-Richtung x und/oder der y-Richtung y verlaufen. Ein Encodermaßstab ist mit dem Bezugszeichen 138 versehen. Der Messstrahl 136 verläuft besonders bevorzugt entlang der z-Richtung z. 8th shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement 100. In this case it is assumed that the second component 108 is a position measuring device, such as an encoder or a capacitive sensor. A measuring beam 136 can run along the z-direction z, the x-direction x and/or the y-direction y. An encoder scale is provided with the reference numeral 138. The measuring beam 136 particularly preferably runs along the z-direction z.

9 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. In diesem Fall wird davon ausgegangen, dass die zweite Komponente 108 ein optisches Element, wie beispielsweise ein Spiegel der Beleuchtungsoptik 4 oder der Projektionsoptik 10, ist. An beliebigen Flächen der zweiten Komponente 108 können Messstrahlen 136 oder ganz allgemein Lichtstrahlen, insbesondere Beleuchtungsstrahlung 16, reflektiert werden. 9 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement 100. In this case, it is assumed that the second component 108 is an optical element, such as a mirror of the illumination optics 4 or the projection optics 10. Measuring beams 136 or more generally light beams, in particular illumination radiation 16, can be reflected on any surfaces of the second component 108.

Die zweite Komponente 108 weist grundsätzlich sechs Freiheitsgrade, nämlich drei laterale oder translatorische Freiheitsgrade jeweils entlang der x-Richtung x, der y-Richtung y und der z-Richtung z auf und drei rotatorische Freiheitsgrade oder Kippfreiheitsgrade jeweils um die x-Richtung x, die y-Richtung y und die z-Richtung z auf.The second component 108 basically has six degrees of freedom, namely three lateral or translational degrees of freedom each along the x-direction x, the y-direction y and the z-direction z and three rotational degrees of freedom or tilting degrees of freedom each about the x-direction x y-direction y and the z-direction z.

Unter der „Position“ der zweiten Komponente 108 sind demgemäß die Koordinaten der zweiten Komponente oder eines an der zweiten Komponente 108 vorgesehenen Messpunkts bezüglich der x-Richtung x, der y-Richtung y und der z-Richtung z zu verstehen. Unter der „Orientierung“ der zweiten Komponente 108 ist demgemäß deren Verkippung um die x-Richtung x, die y-Richtung y und/oder die z-Richtung z zu verstehen. Mit anderen Worten ist unter der „Orientierung“ eine Rotation im Vergleich zu einer Lateralposition zu verstehen. Unter der „Lage“ der zweiten Komponente 108 ist sowohl deren Position als auch deren Orientierung zu verstehen. Unter „Justieren“ oder „Ausrichten“ der zweiten Komponente 108 ist ein Verbringen derselben von einer Ist-Lage in eine Soll-Lage zu verstehen. Entsprechendes gilt für die erste Komponente 102.The “position” of the second component 108 is accordingly to be understood as meaning the coordinates of the second component or a measuring point provided on the second component 108 with respect to the x-direction x, the y-direction y and the z-direction z. The “orientation” of the second component 108 is therefore understood to mean its tilting about the x-direction x, the y-direction y and/or the z-direction z. In other words, “orientation” means a rotation compared to a lateral position. The “location” of the second component 108 is to be understood as meaning both its position and its orientation. “Adjusting” or “aligning” the second component 108 means moving it from an actual position to a target position. The same applies to the first component 102.

Um nun die zweite Komponente 108 zu justieren oder auszurichten, ist ein Spacer oder Abstandshalter 140 zwischen der Oberseite 106 der ersten Komponente 102 und der Unterseite 110 der zweiten Komponente 108 platziert. Mit Hilfe des Abstandshalters 140 lassen sich bis zu drei Freiheitsgrade, nämlich im Maximalfall zwei rotatorische Freiheitsgrade und ein translatorischer Freiheitsgrad, justieren.In order to now adjust or align the second component 108, a spacer or spacer 140 is placed between the top 106 of the first component 102 and the bottom 110 of the second component 108. With the help of the spacer 140, up to three degrees of freedom can be adjusted, namely in the maximum case two rotational degrees of freedom and one translational degree of freedom.

Die rotatorischen Freiheitsgrade können durch eine Keiligkeit des Abstandshalters 140 in die jeweilige Richtung erreicht werden. Der translatorische Freiheitsgrad kann durch eine Dicke des Abstandshalters 140 beeinflusst werden. Vorliegend können mit Hilfe des in den 7 bis 9 gezeigten Abstandshalters 140 zwei rotatorische Freiheitsgrade um die x-Richtung x sowie um die y-Richtung y und ein translatorischer Freiheitsgrad entlang der z-Richtung z justiert werden. Der Anordnung 100 können die zuvor erläuterten Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122 zugeordnet sein, die durch den Abstandshalter 140 hindurchgeführt sind.The rotational degrees of freedom can be achieved by wedging the spacer 140 in the respective direction. The translational degree of freedom can be influenced by a thickness of the spacer 140. In this case, with the help of the in the 7 until 9 shown spacer 140 two rotational degrees of freedom around the x-direction x and around the y-direction y and a translational degree of freedom along the z-direction z can be adjusted. The arrangement 100 can be assigned the previously explained interfaces 114, 116, 118, 120, 122, which are passed through the spacer 140.

10 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Anordnung 100. Im Unterschied zu den Ausführungsformen der Anordnung 100 gemäß den 7 bis 9 umfasst die Anordnung 100 gemäß der 10 einen keilförmigen Abstandshalter 140. Mit Hilfe dieses keilförmigen Abstandshalters 140 ist eine Justierung der zweiten Komponente 108 um einen rotatorischen Freiheitsgrad um die x-Richtung x, einen rotatorischen Freiheitsgrad um die y-Richtung y und einen translatorischen Freiheitsgrad entlang der z-Richtung z möglich. 10 shows a schematic sectional view of a further embodiment of an arrangement 100. In contrast to the embodiments of the arrangement 100 according to 7 until 9 includes the arrangement 100 according to 10 a wedge-shaped spacer 140. With the help of this wedge-shaped spacer 140, an adjustment of the second component 108 by a rotational degree of freedom around the x-direction x, a rotational degree of freedom around the y-direction y and a translational degree of freedom along the z-direction z is possible.

Vorzugsweise wird für alle Schnittstellen 114, 116, 118, 120, 122 genau ein Abstandshalter 140 in Form einer monolithische Platte (Engl.: Monospacer) verwendet, da dadurch im Vergleich zu mehreren individuellen Abstandshaltern 140 bei einem einteiligen Abstandshalter 140 die Toleranzen reduziert werden können. Es können jedoch auch einzelne Abstandshalter 140 pro Schnittstelle 114, 116, 118, 120, 122 verwendet werden. Das heißt, dass auch ein mehrteiliger Aufbau vorgesehen sein kann. In diesem Fall ist jedoch für eine richtige Orientierung der Kipps der Abstandshalter 140 zu sorgen. Auch Mischformen mit verschiedenen Anordnungen von Abstandshaltern 140 sind möglich. Beispielsweise kann ein Abstandshalter 140 für zwei Schnittstellen 114, 116 und ein weiterer Abstandshalter für eine dritte Schnittstelle 118 vorgesehen sein.Preferably, exactly one spacer 140 in the form of a monolithic plate (monospacer) is used for all interfaces 114, 116, 118, 120, 122, since this allows the tolerances to be reduced in comparison to several individual spacers 140 for a one-piece spacer 140 . However, individual spacers 140 can also be used per interface 114, 116, 118, 120, 122. This means that a multi-part structure can also be provided. In this case, however, correct orientation of the tilts of the spacers 140 must be ensured. Mixed forms with different arrangements of spacers 140 are also possible. For example, a spacer 140 can be provided for two interfaces 114, 116 and another spacer for a third interface 118.

Durch das vollflächige Aufliegen des Abstandshalters 140 zwischen den Komponenten 102, 108 ist die Steifigkeit der Anbindung kaum beeinträchtigt und es können sehr hohe Eigenfrequenzen der Anordnung 100 erreicht werden. Es ist ferner vorteilhaft, die Komponenten 102, 108 und den oder die Abstandshalter 140 aus demselben Werkstoff oder einem thermal angepassten Material zu fertigen, so dass es zu keinen thermalen Verspannungen kommen kann. Thermale Verspannungen können bei Überschreiten einer Schraubenkraft durch verschiedene Betriebs- und Montagezustände zu einer nicht komplett reversiblen Verschiebung der Komponenten 102, 108 führen, bei der Verspannungen in der Verbindung eingefroren werden. Lösen sich diese eingefrorenen Verspannungen, kommt es zu ungewollten, sprunghaften Positionsverschiebungen (Engl.: Thermal Snapping).Because the spacer 140 rests over the entire surface between the components 102, 108, the rigidity of the connection is hardly affected and very high natural frequencies of the arrangement 100 can be achieved. It is also advantageous to manufacture the components 102, 108 and the spacer(s) 140 from the same material or a thermally adapted material so that there is no thermal distortion problems can come. If a screw force is exceeded due to various operating and assembly states, thermal stresses can lead to a not completely reversible displacement of the components 102, 108, in which stresses in the connection are frozen. If these frozen tensions are released, unwanted, sudden position shifts occur (English: thermal snapping).

11 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform einer wie zuvor erwähnten Schnittstelle 114. Die Schnittstellen 116, 118, 120, 122 können identisch wie die Schnittstelle 114 aufgebaut sein. Nachfolgend wird jedoch nur auf die Schnittstelle 114 eingegangen. 11 shows a schematic sectional view of an embodiment of an interface 114 as mentioned above. The interfaces 116, 118, 120, 122 can be constructed identically to the interface 114. However, only interface 114 will be discussed below.

Die erste Komponente 102 umfasst eine Bohrung oder einen Durchbruch 142, der die erste Komponente 102 vollständig durchbricht. Der Durchbruch 142 kann eine zylinderförmige Innenwandung aufweisen. Auch der Abstandshalter 140 weist eine Bohrung oder einen Durchbruch 144 auf. Der Durchbruch 144 kann ein Langloch sein, dessen Hauptausdehnungsrichtung sich entlang der x-Richtung x erstreckt. Die Form des Durchbruchs 144 ist jedoch grundsätzlich beliebig. Beispielsweise kann der Durchbruch 144 auch kreisrund oder rechteckig sein. Ferner weist auch die zweite Komponente 108 einen Durchbruch 146 auf. Der Durchbruch 146 kann ebenfalls ein Langloch sein. Auch die Geometrie des Durchbruchs 146 ist beliebig. Der Durchbruch 146 ist gestuft aufgebaut und umfasst einen ersten Abschnitt 148 sowie einen zweiten Abschnitt 150. Der zweite Abschnitt 150 ist von seinem Querschnitt her größer als der erste Abschnitt 148.The first component 102 includes a hole or a breakthrough 142 that completely breaks through the first component 102. The opening 142 can have a cylindrical inner wall. The spacer 140 also has a hole or a breakthrough 144. The breakthrough 144 can be an elongated hole whose main direction of expansion extends along the x-direction x. However, the shape of the breakthrough 144 is basically arbitrary. For example, the opening 144 can also be circular or rectangular. Furthermore, the second component 108 also has a breakthrough 146. The breakthrough 146 can also be an elongated hole. The geometry of the breakthrough 146 is also arbitrary. The opening 146 has a stepped structure and includes a first section 148 and a second section 150. The cross section of the second section 150 is larger than the first section 148.

Die Schnittstelle 114 umfasst eine Einstelleinrichtung oder Justiereinrichtung 152. Die Justiereinrichtung 152 kann auch als Fixier- und Spacersystem bezeichnet werden. Die Justiereinrichtung 152 umfasst ein Schraubeninsert 154, das zumindest abschnittsweise in den Durchbrüchen 142, 144, 146 aufgenommen ist. Das Schraubeninsert 154 ist rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 156 aufgebaut. Die Symmetrieachse 156 kann gleichzeitig auch eine Symmetrieachse des Durchbruchs 142 der ersten Komponente 102 sein. Das Schraubeninsert 154 ist derart in dem Durchbruch 142 aufgenommen, dass es diesen nicht kontaktiert.The interface 114 includes an adjustment device or adjusting device 152. The adjusting device 152 can also be referred to as a fixing and spacer system. The adjusting device 152 comprises a screw insert 154, which is accommodated at least in sections in the openings 142, 144, 146. The screw insert 154 is constructed rotationally symmetrical to a central or symmetry axis 156. The axis of symmetry 156 can also be an axis of symmetry of the opening 142 of the first component 102. The screw insert 154 is accommodated in the opening 142 in such a way that it does not contact it.

Das Schraubeninsert 154 umfasst einen plattenförmigen oder flachen kreiszyliderförmigen Flanschabschnitt 158, der an der Unterseite 104 der ersten Komponente 102 anliegt. Der Flanschabschnitt 158 kann mit der Unterseite 104 verklebt sein. Aus dem Flanschabschnitt 158 erstreckt sich ein zylinderförmiger Gewindeabschnitt 160 in den Durchbruch 142 hinein. Der Gewindeabschnitt 160 weist eine rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 156 aufgebaute Gewindebohrung 162 auf. Der Gewindeabschnitt 160 endet auf Höhe eines außenseitig an dem Gewindeabschnitt 160 vorgesehenen umlaufenden Absatzes 164. Auch innenseitig weist der Gewindeabschnitt 160 einen derartigen Absatz 166 auf, an dem die Gewindebohrung 162 endet.The screw insert 154 comprises a plate-shaped or flat circular cylinder-shaped flange section 158 which rests on the underside 104 of the first component 102. The flange section 158 can be glued to the underside 104. A cylindrical threaded section 160 extends from the flange section 158 into the opening 142. The threaded section 160 has a threaded bore 162 that is rotationally symmetrical to the axis of symmetry 156. The threaded section 160 ends at the level of a circumferential shoulder 164 provided on the outside of the threaded section 160. The threaded section 160 also has such a shoulder 166 on the inside, at which the threaded bore 162 ends.

Auf Höhe des Absatzes 164 verjüngt sich ein Querschnitt des Schraubeninserts 154 derart, dass sich ein Außendurchmesser des Schraubeninserts 154 verkleinert. An den Gewindeabschnitt 160 schließt sich somit ein im Vergleich zu dem Gewindeabschnitt 160 dünnwandigerer Verbindungsabschnitt 168 an, der rohrförmig ist. Der Verbindungsabschnitt 168 ist rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 156 aufgebaut.At the level of paragraph 164, a cross section of the screw insert 154 tapers in such a way that an outer diameter of the screw insert 154 is reduced. The threaded section 160 is thus adjoined by a connecting section 168 which is thinner-walled than the threaded section 160 and is tubular. The connecting section 168 is constructed rotationally symmetrical to the axis of symmetry 156.

An den Verbindungsabschnitt 168 schließt sich ein Kugelabschnitt 170 an. Der Kugelabschnitt 170 ist außenseitig zumindest abschnittsweise kugelförmig oder kugelkalottenförmig. Unter einer „Kugelkalotte“ ist vorliegend ein Kugelabschnitt zu verstehen. Innenseitig ist der Kugelabschnitt 170 zylinderförmig. Der Kugelabschnitt 170 bildet zusammen mit dem Verbindungsabschnitt 168 eine kreiszylinderförmige Innenfläche 172, die rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 156 aufgebaut ist. Der Verbindungsabschnitt 168 und der Kugelabschnitt 170 sind somit hohl. Der Kugelabschnitt 170 ragt in den zweiten Abschnitt 150 des Durchbruchs 146 hinein.A spherical section 170 adjoins the connecting section 168. The spherical section 170 is at least partially spherical or spherical cap-shaped on the outside. In the present case, a “spherical cap” is understood to mean a spherical section. On the inside, the spherical section 170 is cylindrical. The spherical section 170, together with the connecting section 168, forms a circular cylindrical inner surface 172, which is constructed rotationally symmetrical to the axis of symmetry 156. The connecting section 168 and the ball section 170 are therefore hollow. The ball section 170 projects into the second section 150 of the opening 146.

Das Schraubeninsert 154 kann ein einteiliges, insbesondere ein materialeinstückiges Bauteil, sein. „Einteilig“ oder „einstückig“ bedeutet vorliegend, dass das Schraubeninsert 154 nicht aus mehreren Bauteilen zusammengesetzt ist, sondern ein durchgehendes Bauteil bildet. „Materialeinstückig“ bedeutet vorliegend, dass das Schraubeninsert 154 durchgehend aus demselben Material gefertigt ist. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Das Schraubeninsert 154 kann auch mehrteilig aufgebaut sein. Beispielsweise ist das Schraubeninsert 154 oder dessen Einzelteile aus Stahl, insbesondere aus Edelstahl, gefertigt. Es können auch Invar, Nickelbasislegierungen, wie beispielsweise Inconel™, Titan oder Molybdänbasislegierungen, wie beispielsweise Titanzirkonmolybdän (TZM), Anwendung finden.The screw insert 154 can be a one-piece component, in particular a one-piece material component. “One-piece” or “one-piece” means in the present case that the screw insert 154 is not composed of several components, but rather forms a continuous component. “One-piece material” in this case means that the screw insert 154 is made entirely of the same material. However, this is not absolutely necessary. The screw insert 154 can also be constructed in several parts. For example, the screw insert 154 or its individual parts are made of steel, in particular stainless steel. Invar, nickel-based alloys such as Inconel™, titanium or molybdenum-based alloys such as titanium zirconium molybdenum (TZM) can also be used.

Neben dem Schraubeninsert 154 umfasst die Justiereinrichtung 152 eine Schraube 174, die in der 11 nur abschnittsweise gezeigt ist. Die Schraube 174 umfasst einen nicht gezeigten Schraubenkopf, einen zylinderförmigen Schaftabschnitt 176, der durch den Durchbruch 146, den Kugelabschnitt 170 und den Verbindungsabschnitt 168 hindurchgeführt ist, und einen Gewindeabschnitt 178, der in die Gewindebohrung 162 des Schraubeninserts 154 eingeschraubt ist. Der Gewindeabschnitt 178 endet an einer ringförmig umlaufenden Stirnfläche 180. Die Schraube 174 ist ebenfalls aus Stahl, insbesondere aus Edelstahl, gefertigt. Die Schraube 174 ist so durch den Durchbruch 146 hindurchgeführt, dass sie diesen nicht kontaktiert.In addition to the screw insert 154, the adjusting device 152 includes a screw 174, which is in the 11 is only shown in sections. The screw 174 comprises a screw head, not shown, a cylindrical shaft section 176, which is passed through the opening 146, the ball section 170 and the connecting section 168, and a threaded section 178 which is inserted into the Threaded hole 162 of the screw insert 154 is screwed in. The threaded section 178 ends at an annularly circumferential end face 180. The screw 174 is also made of steel, in particular stainless steel. The screw 174 is passed through the opening 146 so that it does not contact it.

Die Justiereinrichtung 152 weist ferner eine Hülse 182 auf, die in dem zweiten Abschnitt 150 des Durchbruchs 146 der zweiten Komponente 108 aufgenommen ist. Beispielsweise ist die Hülse 182 in den zweiten Abschnitt 150 eingeklebt. Die Hülse 182 ist derart ausgestaltet, dass diese eine Innenwandung des zweiten Abschnitts 150 nicht kontaktiert, so dass zwischen der Hülse 182 und dem zweiten Abschnitt 150 radial ein Spalt 184, insbesondere ein Luftspalt, vorgesehen ist.The adjusting device 152 also has a sleeve 182 which is accommodated in the second section 150 of the opening 146 of the second component 108. For example, the sleeve 182 is glued into the second section 150. The sleeve 182 is designed in such a way that it does not contact an inner wall of the second section 150, so that a gap 184, in particular an air gap, is provided radially between the sleeve 182 and the second section 150.

Die Hülse 182 ist mit einer Stirnseite 186 des zweiten Abschnitts 150 fest verbunden. Die Hülse 182 weist eine Innenwand 188 auf. Die Hülse 182 kann im einfachsten Fall zylinderförmig sein. Die Hülse 182 kann jedoch auch eine ovale Geometrie oder eine rechteckförmige Geometrie mit abgerundeten Ecken aufweisen. Die Innenwand 188 kann demgemäß eine langgestreckte oder langlochförmige Geometrie aufweisen. Der Kugelabschnitt 170 ist in Kontakt mit der Innenwand 188. Es kann jedoch auch ein gewisses Spiel zwischen dem Kugelabschnitt 170 und der Innenwand 188 vorgesehen sein.The sleeve 182 is firmly connected to an end face 186 of the second section 150. The sleeve 182 has an inner wall 188. In the simplest case, the sleeve 182 can be cylindrical. However, the sleeve 182 can also have an oval geometry or a rectangular geometry with rounded corners. The inner wall 188 can accordingly have an elongated or slot-shaped geometry. The ball section 170 is in contact with the inner wall 188. However, some play can also be provided between the ball section 170 and the inner wall 188.

Die Funktionalität der Justiereinrichtung 152 beziehungsweise der Schnittstelle 114 wird nachfolgend erläutert. Der Kugelabschnitt 170 weist aufgrund seiner Kugelform gegenüber der Hülse 182 drei rotatorische Freiheitsgrade, nämlich um die x-Richtung x, die y-Richtung y und die z-Richtung z auf. Ferner weist der Kugelabschnitt 170 einen translatorischen Freiheitsgrad entlang der z-Richtung z auf.The functionality of the adjustment device 152 or the interface 114 is explained below. Due to its spherical shape, the spherical section 170 has three rotational degrees of freedom relative to the sleeve 182, namely around the x-direction x, the y-direction y and the z-direction z. Furthermore, the spherical section 170 has a translational degree of freedom along the z-direction z.

Zum Justieren der zweiten Komponente 108 gegenüber der ersten Komponente 102 kann, wie in der 7 gezeigt, ein Messstrahl 136 zum Einsatz kommen. Mit Hilfe eines geeigneten Abstandshalters 140, dessen Geometrie beispielsweise berechnet werden kann, wird die zweite Komponente 108 dann justiert und so von ihrer Ist-Lage in ihre Soll-Lage verbracht. Aufgrund des Kugelabschnitts 170 kann sich die Hülse 182 mitsamt der zweiten Komponente 108 im Rahmen der Freiheitsgrade des Kugelabschnitts 170 gegenüber dem Kugelabschnitt 170 bewegen. Zwischen dem Kugelabschnitt 170 und der Hülse 182 können Störkräfte F wirken, die jedoch nur lokal auf die Hülse 182 und den Kugelabschnitt 170 wirken. Die Störkräfte F können aufgrund von unterschiedlichen wärmebedingten Ausdehnungen oder aufgrund von Verspannungen bei der Montage auftreten.To adjust the second component 108 relative to the first component 102, as in the 7 shown, a measuring beam 136 is used. With the help of a suitable spacer 140, the geometry of which can be calculated, for example, the second component 108 is then adjusted and thus moved from its actual position to its target position. Due to the spherical section 170, the sleeve 182 together with the second component 108 can move within the degrees of freedom of the spherical section 170 relative to the spherical section 170. Disturbance forces F can act between the ball section 170 and the sleeve 182, but these only act locally on the sleeve 182 and the ball section 170. The disruptive forces F can occur due to different heat-related expansions or due to tension during assembly.

Durch ein Anziehen der Schraube 174 werden die Komponenten 102, 108 und der Abstandshalter 140 miteinander verspannt. Auf die Schraube 174 wirkende Vorspannkräfte FV pressen die Komponenten 102, 108 und den Abstandshalter 140 zusammen. Die an der Hülse 182 entstehenden Störkräfte F wirken nur lokal, können aufgrund der wirkenden Vorspannkräfte FV jedoch die Lage der zweiten Komponente 108 nicht beeinflussen. Ein großer Vorteil dieser innenliegenden Justiereinrichtung 152 ist, dass die Störkräfte F, beispielsweise aufgrund einer wärmebedingten Ausdehnung, in der Justiereinrichtung 152 nicht zu einem Drift der zweiten Komponente 108 führen können, wenn die Vorspannkräfte FV groß genug sind und die zweite Komponente 108 umhüllend um die Justiereinrichtung 152 auf die erste Komponente 102 verspannen.By tightening the screw 174, the components 102, 108 and the spacer 140 are clamped together. Prestressing forces FV acting on the screw 174 press the components 102, 108 and the spacer 140 together. The disruptive forces F arising on the sleeve 182 only act locally, but cannot influence the position of the second component 108 due to the acting preload forces FV. A big advantage of this internal adjusting device 152 is that the disruptive forces F, for example due to thermal expansion, in the adjusting device 152 cannot lead to a drift of the second component 108 if the preload forces FV are large enough and the second component 108 is enveloping Clamp the adjusting device 152 on the first component 102.

12 und 13 zeigen jeweils eine weitere schematische Aufsicht der Anordnung 100 gemäß 3 mit drei Schnittstellen 114, 116, 118. Jede Schnittstelle 114, 116, 118 umfasst eine wie zuvor erläuterte Justiereinrichtung 152 mit einem Kugelabschnitt 170 und einer Hülse 182, die in diesem Fall langlochförmig ausgebildet sind. Die Kugelabschnitte 170 können jeweils Spiel in den Hülsen 182 haben oder mit Hilfe einer Anfederung spielfrei sein. 12 and 13 each show a further schematic top view of the arrangement 100 3 with three interfaces 114, 116, 118. Each interface 114, 116, 118 includes an adjusting device 152 as explained above with a ball section 170 and a sleeve 182, which in this case are designed in the shape of an elongated hole. The ball sections 170 can each have play in the sleeves 182 or be free of play with the help of a spring.

Wie in der 13 gezeigt, kann beispielsweise durch einen Austausch der Hülse 182 an der Schnittstelle 114 oder eines Austauschs aller Hülsen 182 an allen Schnittstellen 114, 116, 118 eine Verkippung der zweiten Komponente 108 um die z-Richtung z erzielt werden. Die verkippte zweite Komponente ist in der 11 mit dem Bezugszeichen 108' versehen.Like in the 13 shown, a tilting of the second component 108 about the z-direction z can be achieved, for example, by replacing the sleeve 182 at the interface 114 or by replacing all the sleeves 182 at all the interfaces 114, 116, 118. The tilted second component is in the 11 provided with the reference number 108'.

14 zeigt eine derartige auswechselbare Hülse 182, die unsymmetrisch aufgebaut ist. Bei der Hülse 182 begrenzt die Innenwand 188 einen die Hülse 182 durchbrechenden Durchbruch 190. Der Durchbruch 190 kann je nach gewollter Sollposition beliebig entlang der y-Richtung y verschoben sein. Die Hülse 182 kann mehrteilig sein, wobei dann nur Teile der Hülse 182 ausgetauscht werden. Die Justiereinrichtung 152 kann durch ein sogenanntes Spacern mit Hilfe tauschbarer Hülsen 182 mit jeweils verschobenen Langlochpositionen verstellt werden. Aber auch tauschbare Teile mit verschobenen Positionen der Kugelabschnitte 170 sind möglich. Je nach benötigter Anzahl an justierbaren Freiheitsgraden können an den Schnittstellen 114, 116, 118 ein bis drei tauschbare Teile verwendet werden. 14 shows such a replaceable sleeve 182, which is constructed asymmetrically. In the case of the sleeve 182, the inner wall 188 delimits an opening 190 which breaks through the sleeve 182. The opening 190 can be displaced as desired along the y-direction y, depending on the desired target position. The sleeve 182 can be in several parts, in which case only parts of the sleeve 182 are replaced. The adjusting device 152 can be adjusted by a so-called spacer with the help of exchangeable sleeves 182, each with shifted slot positions. But interchangeable parts with shifted positions of the ball sections 170 are also possible. Depending on the required number of adjustable degrees of freedom, one to three interchangeable parts can be used at the interfaces 114, 116, 118.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.Although the present invention has been described using exemplary embodiments, it can be modified in many ways.

BEZUGSZEICHENLISTEREFERENCE SYMBOL LIST

11
ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
22
BeleuchtungssystemLighting system
33
Lichtquellelight source
44
BeleuchtungsoptikIllumination optics
55
ObjektfeldObject field
66
ObjektebeneObject level
77
RetikelReticule
88th
RetikelhalterReticle holder
99
RetikelverlagerungsantriebReticle displacement drive
1010
ProjektionsoptikProjection optics
1111
BildfeldImage field
1212
BildebeneImage plane
1313
Waferwafers
1414
Waferhalterwafer holder
1515
WaferverlagerungsantriebWafer displacement drive
1616
BeleuchtungsstrahlungIllumination radiation
1717
Kollektorcollector
1818
ZwischenfokusebeneIntermediate focal plane
1919
UmlenkspiegelDeflecting mirror
2020
erster Facettenspiegelfirst facet mirror
2121
erste Facettefirst facet
2222
zweiter Facettenspiegelsecond facet mirror
2323
zweite Facettesecond facet
100100
Anordnungarrangement
102102
Komponentecomponent
102'102'
Komponentecomponent
104104
Unterseitebottom
106106
OberseiteTop
108108
Komponentecomponent
108'108'
Komponentecomponent
110110
Unterseitebottom
112112
OberseiteTop
114114
Schnittstelleinterface
116116
Schnittstelleinterface
118118
Schnittstelleinterface
120120
Schnittstelleinterface
122122
Schnittstelleinterface
124124
PfeilArrow
126126
PfeilArrow
128128
PfeilArrow
130130
PfeilArrow
132132
PfeilArrow
134134
PfeilArrow
136136
Messstrahlmeasuring beam
138138
optisches Elementoptical element
140140
AbstandshalterSpacers
142142
Durchbruchbreakthrough
144144
Durchbruchbreakthrough
146146
Durchbruchbreakthrough
148148
AbschnittSection
150150
AbschnittSection
152152
JustiereinrichtungAdjustment device
154154
SchraubeninsertScrew insert
156156
SymmetrieachseAxis of symmetry
158158
Flanschabschnittflange section
160160
GewindeabschnittThread section
162162
GewindebohrungThreaded hole
164164
AbsatzParagraph
166166
AbsatzParagraph
168168
Verbindungsabschnittconnection section
170170
KugelabschnittSpherical section
172172
InnenflächeInner surface
174174
Schraubescrew
176176
Schaftabschnittshaft section
178178
GewindeabschnittThread section
180180
Stirnflächeface
182182
Hülsesleeve
184184
Spaltgap
186186
Stirnseitefront side
188188
InnenwandInterior wall
190190
Durchbruch breakthrough
FF
Störkraftdisruptive force
FVFV
Vorspannkraftpreload force
M1M1
SpiegelMirror
M2M2
SpiegelMirror
M3M3
SpiegelMirror
M4M4
SpiegelMirror
M5M5
SpiegelMirror
M6M6
SpiegelMirror

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102008009600 A1 [0057, 0061]DE 102008009600 A1 [0057, 0061]
  • US 2006/0132747 A1 [0059]US 2006/0132747 A1 [0059]
  • EP 1614008 B1 [0059]EP 1614008 B1 [0059]
  • US 6573978 [0059]US 6573978 [0059]
  • DE 102017220586 A1 [0064]DE 102017220586 A1 [0064]
  • US 2018/0074303 A1 [0078]US 2018/0074303 A1 [0078]

Claims (15)

Anordnung (100) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (102), eine zweite Komponente (108), und eine die erste Komponente (102) mit der zweiten Komponente (108) wirkverbindende justierbare Schnittstelle (114, 116, 118, 120, 122), wobei die Schnittstelle (114, 116, 118, 120, 122) eine Justiereinrichtung (152) umfasst, welche die erste Komponente (102) mit der zweiten Komponente (108) flächig verspannt und welche dazu eingerichtet ist, die zweite Komponente (108) in mehreren Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente (102) zu justieren.Arrangement (100) for a projection exposure system (1), comprising a first component (102), a second component (108), and an adjustable interface (114, 116, 118, 120, 122) that effectively connects the first component (102) to the second component (108), wherein the interface (114, 116, 118, 120, 122) comprises an adjusting device (152) which braces the first component (102) with the second component (108) and which is designed to clamp the second component (108) in to adjust several degrees of freedom relative to the first component (102). Anordnung nach Anspruch 1, wobei die Schnittstelle (114, 116, 118, 120, 122) einen Abstandshalter (140) umfasst, der flächig an der ersten Komponente (102) und an der zweiten Komponente (108) anliegt und der mit Hilfe der Justiereinrichtung (152) zwischen der ersten Komponente (102) und der zweiten Komponente (108) verspannt ist.Arrangement according to Claim 1 , wherein the interface (114, 116, 118, 120, 122) comprises a spacer (140) which rests flatly on the first component (102) and on the second component (108) and which is positioned between with the aid of the adjusting device (152). the first component (102) and the second component (108) is braced. Anordnung nach Anspruch 2, wobei der Abstandshalter (140) dazu eingerichtet ist, die zweite Komponente (108) in einem translatorischen Freiheitsgrad und in zwei rotatorischen Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente (102) zu justieren.Arrangement according to Claim 2 , wherein the spacer (140) is designed to adjust the second component (108) in one translational degree of freedom and in two rotational degrees of freedom relative to the first component (102). Anordnung nach Anspruch 2 oder 3, wobei mehrere Schnittstellen (114, 116, 118, 120, 122) vorgesehen sind, die einen gemeinsamen Abstandshalter (140) umfassen.Arrangement according to Claim 2 or 3 , wherein several interfaces (114, 116, 118, 120, 122) are provided, which include a common spacer (140). Anordnung nach einem der Ansprüche 2-4, wobei der Abstandshalter (140) eine plattenförmige oder eine keilförmige Geometrie umfasst, und wobei der Abstandshalter (140) bevorzugt einteilig oder mehrteilig ist.Arrangement according to one of the Claims 2 - 4 , wherein the spacer (140) comprises a plate-shaped or a wedge-shaped geometry, and wherein the spacer (140) is preferably in one piece or in several parts. Anordnung nach einem der Ansprüche 2-5, wobei die Justiereinrichtung (152) durch einen in dem Abstandhalter (140) vorgesehenen Durchbruch (142) hindurchgeführt ist.Arrangement according to one of the Claims 2 - 5 , wherein the adjusting device (152) is passed through an opening (142) provided in the spacer (140). Anordnung nach einem der Ansprüche 1-6, wobei die Justiereinrichtung (152) ein durch die erste Komponente (102) hindurchgeführtes Schraubeninsert (154) und eine durch die zweite Komponente (108) hindurchgeführte Schraube (174) umfasst, die in das Schraubeninsert (154) eingeschraubt ist, um die erste Komponente (102) mit der zweiten Komponente (108) zu verspannen.Arrangement according to one of the Claims 1 - 6 , wherein the adjusting device (152) comprises a screw insert (154) passed through the first component (102) and a screw (174) passed through the second component (108), which is screwed into the screw insert (154) to the first component (102) with the second component (108). Anordnung nach Anspruch 7, wobei das Schraubeninsert (154) mit einem Flanschabschnitt (158) an der ersten Komponente (102) anliegt und mit einem sich aus dem Flanschabschnitt (158) herauserstreckenden Gewindeabschnitt (160) berührungsfrei durch einen in der ersten Komponente (102) vorgesehenen Durchbruch (142) hindurchgeführt ist.Arrangement according to Claim 7 , wherein the screw insert (154) rests with a flange section (158) on the first component (102) and with a threaded section (160) extending out of the flange section (158) without contact through an opening (142) provided in the first component (102). ) is passed through. Anordnung nach Anspruch 8, wobei die Schraube (174) berührungsfrei durch einen in der zweiten Komponente (108) vorgesehenen Durchbruch (146) hindurchgeführt und in den Gewindeabschnitt (160) eingeschraubt ist.Arrangement according to Claim 8 , wherein the screw (174) is guided without contact through an opening (146) provided in the second component (108) and screwed into the threaded section (160). Anordnung nach einem der Ansprüche 7-9, wobei das Schraubeninsert (154) einen Kugelabschnitt (170) umfasst, der zumindest abschnittsweise in einer mit der zweiten Komponente (108) verbundenen Hülse (182) aufgenommen ist.Arrangement according to one of the Claims 7 - 9 , wherein the screw insert (154) comprises a spherical section (170) which is received at least in sections in a sleeve (182) connected to the second component (108). Anordnung nach Anspruch 10, wobei der Kugelabschnitt (170) relativ zu der Hülse (182) drei rotatorische Freiheitsgrade und zwei translatorische Freiheitsgrade umfasst.Arrangement according to Claim 10 , wherein the ball section (170) comprises three rotational degrees of freedom and two translational degrees of freedom relative to the sleeve (182). Anordnung nach Anspruch 10 oder 11, wobei die Hülse (182) eine Innenwand (188) umfasst, mit welcher der Kugelabschnitt (170) in Kontakt ist, und wobei die Innenwand (188) eine langlochförmige Geometrie aufweist, so dass die Hülse (182) relativ zu dem Kugelabschnitt (170) translatorisch verschiebbar ist.Arrangement according to Claim 10 or 11 , wherein the sleeve (182) comprises an inner wall (188) with which the spherical section (170) is in contact, and wherein the inner wall (188) has an elongated hole-shaped geometry so that the sleeve (182) is relative to the spherical section (170 ) can be moved translationally. Anordnung nach einem der Ansprüche 10-12, wobei die Hülse (182) zum Justieren der zweiten Komponente (108) relativ zu der ersten Komponente (102) austauschbar oder zumindest teilweise austauschbar ist.Arrangement according to one of the Claims 10 - 12 , wherein the sleeve (182) is interchangeable or at least partially interchangeable for adjusting the second component (108) relative to the first component (102). Anordnung nach einem der Ansprüche 1-13, ferner umfassend mehrere Schnittstellen (114, 116, 118, 120, 122), wobei jede Schnittstelle (114, 116, 118, 120, 122) eine Justiereinrichtung (152) aufweist, und wobei die zweite Komponente (108) mit Hilfe der Justiereinrichtungen (152) in drei translatorischen Freiheitsgraden und in drei rotatorischen Freiheitsgraden relativ zu der ersten Komponente (102) justierbar ist.Arrangement according to one of the Claims 1 - 13 , further comprising a plurality of interfaces (114, 116, 118, 120, 122), each interface (114, 116, 118, 120, 122) having an adjusting device (152), and wherein the second component (108) with the aid of the adjusting devices (152) is adjustable in three translational degrees of freedom and in three rotational degrees of freedom relative to the first component (102). Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer Anordnung (100) nach einem der Ansprüche 1-14.Projection exposure system (1) with an arrangement (100) according to one of Claims 1 - 14 .
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
DE102008009600A1 (en) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror e.g. field facet mirror, for use as bundle-guiding optical component in illumination optics of projection exposure apparatus, has single mirror tiltable by actuators, where object field sections are smaller than object field
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102017220586A1 (en) 2017-11-17 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4763991A (en) * 1987-08-10 1988-08-16 Litton Systems, Inc. Adjustable six degree of freedom mount for optical components
JP4263317B2 (en) * 1999-09-06 2009-05-13 文化シヤッター株式会社 How to adjust the installation angle of structures
GB2426076A (en) * 2005-05-09 2006-11-15 Zeiss Carl Smt Ag Optical mount with movable wedges
JP2015079221A (en) * 2013-10-18 2015-04-23 三菱電機株式会社 Optical element support device and adjustment method of optical element support device
DE102019217629B4 (en) * 2019-11-15 2022-09-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of aligning an interferometer
DE102021201163A1 (en) * 2020-05-12 2021-11-18 Carl Zeiss Smt Gmbh METHOD OF MANUFACTURING A SPACER KIT AND SPACER KIT

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
EP1614008B1 (en) 2003-04-17 2009-12-02 Carl Zeiss SMT AG Optical element for a lighting system
DE102008009600A1 (en) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror e.g. field facet mirror, for use as bundle-guiding optical component in illumination optics of projection exposure apparatus, has single mirror tiltable by actuators, where object field sections are smaller than object field
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102017220586A1 (en) 2017-11-17 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Kornbluth, R. et al.: "Shape control of large lightweight mirrors with dielectric elastomer actuation", Smart Structures and Materials 2003: Electroactive Polymer Actuators and Devices (EAPAD), Yoseph Bar-Cohen, Editor, Proceedings of SPIE Vol. 5051, Seiten 143-158 (2003)

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