DE102021203470A1 - Verfahren zur Herstellung eines Spiegels eines Lithographiesystems - Google Patents

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Erik Loopstra
Eric Eva
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Carl Zeiss SMT GmbH
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegels (12) eines Lithographiesystems. Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden ein erstes Spiegelteil (13) und ein zweites Spiegelteil (14) bereitgestellt, wobei im ersten Spiegelteil (13) Kühlkanäle (18) ausgebildet sind, die im Bereich einer ersten Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen (19) aufweisen und/oder im zweiten Spiegelteil (14) Kühlkanäle (18) ausgebildet sind, die im Bereich einer zweiten Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen (19) aufweisen. Das erste Spiegelteil (13) und das zweite Spiegelteil (14) werden einander derart angenähert, dass sich zunächst ein Teilbereich der ersten Verbindungsfläche (15) und ein Teilbereich der zweiten Verbindungsfläche (16) berühren und eine gemeinsame Berührungsfläche (24) ausbilden und durch ein Fortsetzen der Annäherung des ersten Spiegelteils (13) und des zweiten Spiegelteils (14) in einer Richtung (25) entlang der Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen (19) die gemeinsame Berührungsfläche (24) vergrößert wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Spiegels eines Lithographiesystems. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Spiegel eines Lithographiesystems, ein Beleuchtungssystem, ein Projektionsobjektiv und ein Lithographiesystem.
  • Lithographiesysteme werden insbesondere bei der Herstellung von Halbleitern eingesetzt und weisen in der Regel ein Beleuchtungssystem und ein Projektionsobjektiv auf. Das Beleuchtungssystem erzeugt aus dem Licht einer Lichtquelle eine gewünschte Lichtverteilung zur Beleuchtung einer Maske, die häufig auch als Retikel bezeichnet wird. Unter Licht ist dabei allgemein elektromagnetische Strahlung zu verstehen, d. h. es erfolgt keine Beschränkung auf eine bestimmte Wellenlänge. Demgemäß werden die Begriffe „Licht“ und „Strahlung“ im Folgenden synonym verwendet, d. h. eine Lichtquelle kann auch als Strahlungsquelle bezeichnet werden, eine Lichtverteilung kann auch als Strahlungsverteilung bezeichnet werden usw. Mit dem Projektionsobjektiv wird die Maske auf ein lichtempfindliches Material abgebildet, das beispielsweise auf einen Wafer oder ein anderes Substrat, insbesondere aus einem HalbleiterMaterial, aufgebracht ist. Auf diese Weise wird das lichtempfindliche Material mit einem durch die Maske vorgegebenen Muster strukturiert belichtet. Da die Maske winzige Strukturelemente aufweist, die mit hoher Präzision auf das Substrat übertragen werden sollen, ist es erforderlich, dass das Beleuchtungssystem präzise und reproduzierbar eine gewünschte Lichtverteilung erzeugt und die Abbildung durch das Projektionsobjektiv präzise und reproduzierbar erfolgt.
  • Das Beleuchtungssystem und das Projektionsobjektiv können neben weiteren optischen Elementen wenigstens einen Spiegel im Lichtweg aufweisen, der das Licht durch Reflexion an seiner optischen Fläche in einer vorgegebenen Weise ablenkt. Wie die Lichtablenkung im Einzelnen erfolgt, hängt von der Form der optischen Fläche ab. Die optische Fläche kann beispielsweise als eine metallische Schicht oder als eine Abfolge von Schichten mit alternierenden Brechungsindizes ausgebildet sein.
  • Da der Spiegel nicht vollständig reflektiert, sondern einen Teil des Lichts absorbiert und in Wärme umwandelt, heizt sich der Spiegel im Betrieb auf. Diese Temperaturerhöhung führt zu einer Verformung der optischen Fläche des Spiegels und beeinflusst dadurch die Lichtablenkung an der optischen Fläche. Falls der Spiegel ein Bestandteil des Beleuchtungssystem ist, weicht die vom Beleuchtungssystem erzeugte Lichtverteilung bei einer Verformung der optischen Fläche des Spiegels von der Vorgabe ab. Falls der Spiegel ein Bestandteil des Projektionsobjektivs ist, führt eine Verformung der optischen Fläche des Spiegels bei der Abbildung durch das Projektionsobjektiv zu Abbildungsfehlern.
  • Mit zunehmender Miniaturisierung in der Halbleiterfertigung müssen die Beleuchtung und die Abbildung der Maske mit immer höherer Präzision durchgeführt werden. Das führt dazu, dass immer mehr Einflussfaktoren berücksichtigt werden müssen, die bislang noch toleriert werden konnten oder bereits vorhandene Maßnahmen zur Kompensation der Einflussfaktoren verbessert oder durch bessere Maßnahmen ersetzt werden müssen.
  • Es ist bereits bekannt, dem Aufheizen eines Spiegels eines Lithographiesystems durch Kühlen des Spiegels entgegenzuwirken. So offenbart die nicht vorveröffentlichte DE 102020208648.6 einen Spiegel mit einem Spiegelkörper, der ein erstes Spiegelteil, ein zweites Spiegelteil, eine optische Fläche zur Reflexion von Licht und mehrere Kühlkanäle umfasst.
  • Ein Problem bei mehrteilig ausgebildeten Spiegeln stellt die Verbindung der einzelnen Spiegelteile in einer Weise dar, welche die hohen Anforderungen an Optikteile für die Lithographie erfüllt. Beispielsweise besteht beim Verbinden der Spiegelteile das Risiko, dass Luft oder ein sonstiges Gas zwischen den Spiegelteilen eingeschlossen und dadurch beispielsweise die Festigkeit der Verbindung herabgesetzt wird. Außerdem können Gaseinschlüsse die interferometrische Vermessung des Spiegels negativ beeinflussen. Weiterhin können Gaseinschlüsse eine Verformung der optischen Fläche des Spiegels hervorrufen, die vom Umgebungsdruck und/oder der Temperatur des eingeschlossenen Gases abhängen kann. Es besteht auch das Risiko, dass sich im Material des Spiegels gelöstes Gas im Laufe der Zeit im Bereich der Gaseinschlüsse ansammelt und dadurch die eingeschlossenen Gasvolumina zunehmen und deren negative Effekte ebenfalls größer werden. Zudem können durch lokale Spannungen, die durch die Gaseinschlüsse verursacht werden, Driftbewegungen im Bereich der Verbindung der Spiegelteile hervorgerufen werden, aus denen wiederum eine Verformung der optischen Fläche des Spiegels resultieren kann.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Herstellung eines Spiegels eines Lithographiesystems zu vereinfachen und insbesondere die Verbindung zweier Spiegelteile mit hoher Präzision und sehr gut reproduzierbar zu ermöglichen. Gaseinschlüsse zwischen den Spiegelteilen sollen verhindert oder zumindest auf ein vertretbares Maß reduziert werden.
  • Diese Aufgabe wird durch die Merkmalskombination des Anspruchs 1 gelöst.
  • Beim erfindungsgemäßen Verfahren zum Herstellen eines Spiegels eines Lithographiesystems werden ein erstes Spiegelteil und ein zweites Spiegelteil bereitgestellt, wobei im ersten Spiegelteil Kühlkanäle ausgebildet sind, die im Bereich einer ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen aufweisen und/oder im zweiten Spiegelteil Kühlkanäle ausgebildet sind, die im Bereich einer zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen aufweisen. Das erste Spiegelteil und das zweite Spiegelteil werden einander derart angenähert, dass sich zunächst ein Teilbereich der ersten Verbindungsfläche und ein Teilbereich der zweiten Verbindungsfläche berühren und eine gemeinsame Berührungsfläche ausbilden und durch ein Fortsetzen der Annäherung des ersten Spiegelteils und des zweiten Spiegelteils in einer Richtung entlang der Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen die gemeinsame Berührungsfläche vergrößert wird.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, dass die Herstellung eines Spiegels eines Lithographiesystems vereinfacht wird und zwei Spiegelteile mit hoher Präzision und sehr gut reproduzierbar miteinander verbunden werden können. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren kann das zweite Spiegelteil sehr kontrolliert an das erste Spiegelteil angesprengt werden, d. h. durch Van-der-Waals-Kräfte zwischen dem Material des zweiten Spiegelteils und dem Material des ersten Spiegelteils im Bereich der gemeinsamen Berührungsfläche mit dem ersten Spiegelteil verbunden werden. Dabei können Gaseinschlüsse zwischen der ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und der zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils weitgehend vermieden werden, da das Gas entlang der Kühlkanal-Öffnungen entweichen kann. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass sich das zweite Spiegelteil beim Fortsetzen der Annäherung an das erste Spiegelteil fortwährend auf das erste Spiegelteil abstützen kann.
  • Die Übergangszone zwischen der gemeinsamen Berührungsfläche, innerhalb derer das zweite Spiegelteil bereits an das erste Spiegelteil angesprengt ist und dem nicht angesprengten Bereich der ersten und zweiten Verbindungsfläche wird auch als Ansprengfront bezeichnet. Die Ansprengfront bewegt sich durch die Fortsetzung der Annäherung des ersten Spiegelteils und des zweiten Spiegelteils kontrolliert in einer gewünschten Richtung fort. Dieses sukzessive Ansprengen hat den Vorteil, dass die relative Ausrichtung der beiden Spiegelteile zueinander während des gesamten Ansprengvorgangs sehr genau kontrolliert werden kann und ein ungewünschtes spontanes Ansprengen vermieden werden kann. Durch die Bewegung der Ansprengfront parallel zu den Kühlkanal-Öffnungen können zudem Sprünge der Ansprengfront, die durch querverlaufende Kühlkanal-Öffnungen verursacht werden könnten, vermieden werden und das damit einhergehende Risiko eines diskontinuierlichen Ansprengens und etwaiger davon verursachter Materialspannungen gering gehalten werden. Außerdem besteht zu jedem Zeitpunkt des Ansprengvorgangs eine Verbindung zwischen dem Bereich der Ansprengfront und der Umgebung, so dass ein Entweichen des Gases aus diesem Bereich jederzeit gewährleistet ist.
  • Die Annäherung des ersten Spiegelteils und des zweiten Spiegelteils kann in einer Richtung fortgesetzt werden, die in einem spitzen Winkel zu den Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen verläuft. Insbesondere kann die Annäherung des ersten Spiegelteils und des zweiten Spiegelteils in einer Richtung parallel zu den Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen fortgesetzt werden. Die daraus resultierende Bewegung der Ansprengfront in einem spitzen Winkel und insbesondere parallel zu den Kühlkanälen begünstigt die Entlüftung des Zwischenraums zwischen der ersten und der zweiten Verbindungsfläche und reduziert das Risiko von Gaseinschlüssen.
  • Vor der Annäherung des ersten Spiegelteils und des zweiten Spiegelteils kann das zweite Spiegelteil temporär mit einem Substrat verbunden werden. Dadurch kann dem zweiten Spiegelteil während der Herstellung des Spiegels eine höhere mechanische Stabilität verliehen und dadurch beispielsweise die Handhabung erleichtert werden.
  • Bezogen auf eine Wellenlänge λ von 633 nm kann die Form der ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und/oder der zweiten Verbindungsfläche des zweiten Verbindungsteils von einer vorgegebenen Form um weniger als λ/2, bevorzugt weniger als λ/10, abweichen. Die erste Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und/oder die zweite Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils kann eine Rauheit von weniger als 5 nm, bevorzugt weniger als 1 nm, aufweisen. Unter dem Begriff „Rauheit“ werden dabei die statistisch verteilten Abweichungen von einer glatten Oberfläche subsumiert. Präzise geformte und glatte Verbindungsflächen erleichtern das Ansprengen, reduzieren das Risiko von Gaseinschlüssen und erhöhen die Belastbarkeit der Verbindung. Vor dem Ansprengen kann eine der beiden Verbindungsflächen an die tatsächliche Form der anderen der beiden Verbindungsflächen angepasst werden. Auf diese Weise kann die Präzision noch weiter gesteigert werden.
  • Die Kühlkanal-Öffnungen können parallel zueinander verlaufen. Bei dieser Ausgestaltung kann die gemeinsame Berührungsfläche zwischen dem ersten Spiegelteil und dem zweiten Spiegelteil zunächst in einem Randbereich der ersten Verbindungsfläche und der zweiten Verbindungsfläche ausgebildet werden.
  • Ebenso ist es auch möglich, dass die Kühlkanal-Öffnungen jeweils in einer Richtung von einem zentralen Ort der ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und/oder der zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils radial nach außen verlaufen. Bei dieser Ausgestaltung kann die gemeinsame Berührungsfläche zwischen dem ersten Spiegelteil und dem zweiten Spiegelteil zunächst in einem zentralen Bereich der ersten Verbindungsfläche und der zweiten Verbindungsfläche ausgebildet werden.
  • Bei einer Ausgestaltung beträgt der lichte Abstand zwischen benachbarten Kühlkanal-Öffnungen nicht mehr als 15 mm. Vorzugsweise beträgt der lichte Abstand zwischen benachbarten Kühlkanal-Öffnungen nicht mehr als 5 mm. Geringe Abstände zwischen den Kühlkanal-Öffnungen erleichtern die Entlüftung während des Ansprengens.
  • Die Querabmessungen der Kühlkanäle können 0,2 bis 10 mm betragen. Die Tiefe der Kühlkanäle, d. h. die Querabmessung ungefähr senkrecht zur ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils oder zur zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils, kann größer sein als die Breite der Kühlkanäle, d. h. die Querabmessung senkrecht zur Tiefe. Insbesondere kann die Tiefe der Kühlkanäle mehr als das Doppelte der Breite der Kühlkanäle betragen. Dadurch besteht bei gleichem Strömungsquerschnitt ein geringeres Risiko einer Verformung der optischen Fläche des Spiegels, da der Flächenanteil der durch die Kühlkanäle gebildeten Hohlräume parallel zur optischen Fläche geringer ist als bei breiten Kühlkanälen, die eine geringe Tiefe aufweisen.
  • Im ersten Spiegelteil können Hilfskanäle ausgebildet sein, die im Bereich der ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen aufweisen und/oder im zweiten Spiegelteil können Hilfskanäle ausgebildet sein, die im Bereich der zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen aufweisen. Die Hilfskanäle haben den Vorteil, dass während des Ansprengens auch Bereiche zuverlässig entlüftet werden können, in denen keine Kühlkanäle ausgebildet sind.
  • Die Kühlkanal-Öffnungen und die Hilfskanal-Öffnungen können wenigstens paarweise eine im Wesentlichen identische Orientierung aufweisen. Auf diese Weise können die Hilfskanäle als eine Fortsetzung der Kühlkanäle wirken.
  • Die Hilfskanäle können separat von den Kühlkanälen ausgebildet sein. Die Hilfskanäle können von den Kühlkanälen fluidisch getrennt sein. Dadurch können etwaige negative Auswirkungen auf den Fluidstrom durch die Kühlkanäle vermieden werden.
  • Weiterhin kann vorgesehen sein, dass die Hilfskanäle fluidisch mit der Umgebung des Spiegels verbunden sind. Dies erleichtert während der Herstellung die Entlüftung des Bereichs zwischen dem ersten Spiegelteil und dem zweiten Spiegelteil und ermöglicht beim fertigen Spiegel einen Druckausgleich mit der Umgebung und verhindert die Ausbildung von Druckunterschieden und damit einhergehenden unerwünschten mechanischen Einwirkungen. Alternativ dazu ist es aber auch möglich, die Hilfskanäle von der Umgebung des Spiegels zu trennen. Beispielsweise können die Hilfskanäle durch eine flexible Membran von der Umgebung des Spiegels getrennt sein. Dies führt zwar zu einer fluidischen Trennung, erlaubt aber noch eine gewisse Kopplung des Drucks. Dadurch ist bis zu einem gewissen Maß ein Druckausgleich zwischen dem Inneren der Hilfskanäle und der Umgebung des Spiegels möglich. Es kann aber eine noch stärkere Abschottung der Hilfskanäle von der Umgebung erfolgen, die auch eine Entkopplung bzgl. des Drucks bewirkt. Bei dieser Variante besteht auch die Möglichkeit, im Inneren der Hilfskanäle unabhängig vom Umgebungsdruck einen gewünschten Druck einzustellen, der z. B. eine Verformung der optischen Fläche des Spiegels zur Folge hat und auf diese Weise einen druckgesteuerten Manipulator zu realisieren. Die Trennung der Hilfskanäle von der Umgebung des Spiegels erfolgt in der Regel erst nach der Verbindung der Spiegelteile, um die Entlüftung über die Hilfskanäle während der Verbindung der Spiegelteile nicht zu beeinträchtigen.
  • Die erste Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und/oder die zweite Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils kann eine Krümmung aufweisen. Dies hat den Vorteil, dass sämtliche Kühlkanäle in einem ungefähr identischen Abstand zur optischen Fläche des Spiegels angeordnet werden können. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass das zweite Spiegelteil mit einer im Wesentlichen konstanten Dicke ausgebildet werden kann. Die Krümmung kann der Krümmung der optischen Fläche des Spiegels entsprechen. Insbesondere kann eine der Verbindungsflächen konvex und die andere konkav gekrümmt sein. Dabei kann insbesondere die konvexe Krümmung stärker ausgeprägt sein als die konkave Krümmung, d. h. beispielsweise einen mittleren Krümmungsradius mit einem kleineren Absolutbetrag aufweisen. Das hat den Vorteil, dass ein örtlich sequentielles Ansprengen sichergestellt werden kann, da die Entfernung zwischen den beiden Verbindungsflächen mit zunehmendem Abstand von der Ansprengfront zunimmt. Die Gefahr eines unerwünschten Ansprengens in einem Abstand von der Ansprengfront wird reduziert. Außerdem wird das Risiko von Gaseinschlüssen reduziert.
  • Die Krümmung der ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils kann so ausgebildet sein, dass sie unterschiedliche mittlere Krümmungsradien aufweist und nicht rotationssymmetrisch ist und/oder die Krümmung der zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils kann so ausgebildet sein, dass sie unterschiedliche mittlere Krümmungsradien aufweist und nicht rotationssymmetrisch ist.
  • Die Annäherung des ersten Spiegelteils und des zweiten Spiegelteils kann entlang einer Richtung fortgesetzt werden, in der die erste Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und/oder die zweite Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils den mittleren Krümmungsradius mit dem kleinsten Absolutbetrag aufweist. Demgemäß kann das Ansprengen entlang des mittleren Krümmungsradius mit dem kleinsten Absolutbetrag durchgeführt werden. Dies hat Vorteile bzgl. des Annäherns der Verbindungsfläche und bzgl. der Entlüftung.
  • Es besteht auch die Möglichkeit, dass das erste Spiegelteil eine erste Verbindungsfläche aufweist, die plan ausgebildet ist oder einen mittleren Krümmungsradius mit einem großen Absolutbetrag, insbesondere einen mittleren Krümmungsradius mit einem Absolutbetrag von mehr als 10 m entlang wenigstens einer Richtung aufweist. Dann kann ein dünnes zweites Spiegelteil, insbesondere ein zweites Spiegelteil einer Dicke von 0,5 bis 10 mm, verwendet werden, das eine plan ausgebildete zweite Verbindungsfläche aufweist. Ein derart dünnes zweites Spiegelteil hat den Vorteil, dass dessen zweite Verbindungsfläche verformt und dadurch an die Form der ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils angepasst werden kann. Somit kann der Aufwand für die Herstellung eines zweiten Spiegelteils mit einer gekrümmten zweiten Verbindungsfläche entfallen.
  • Auf einer zur zweiten Verbindungsfläche entgegengesetzten Fläche des zweiten Spiegelteils kann ein Bereich für eine Ausbildung einer optischen Fläche vorgesehen sein. Die Kühlkanal-Öffnungen können jeweils mit dem größten Teil ihrer Längserstreckung lateral innerhalb dieses Bereichs angeordnet sein. Dies ermöglicht eine effiziente Kühlung des Bereichs, der einen besonders großen Einfluss auf eine temperaturbedingte Verformung der optischen Fläche hat. Die Hilfskanal-Öffnungen können jeweils mit dem größten Teil ihrer Längserstreckung lateral außerhalb des Bereichs für die Ausbildung der optischen Fläche liegen.
  • Weiterhin können die Kühlkanäle parallel zur optischen Fläche verlaufen. Dies ermöglicht eine besonders gleichmäßige Kühlung der optischen Fläche. Insbesondere können die Kühlkanäle bis auf einen Abstand von 1 bis 6 mm an die optische Fläche heranreichen. Die Formabweichung zwischen der zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils und der optischen Fläche kann maximal 3 mm, vorzugsweise nicht mehr als 200 µm, betragen.
  • Das erste Spiegelteil und das zweite Spiegelteil können nach dem Ansprengen durch Bonden miteinander verbunden werden. Bonden ermöglicht eine sehr starke und dauerhafte Verbindung, die mit vertretbarem Aufwand hergestellt werden kann. Durch das Bonden kann das Material des ersten Spiegelteils direkt mit dem Material des zweiten Spiegelteils verbunden werden. Dadurch können die bei einer Verwendung von Klebstoffen auftretenden Nachteile vermieden werden. Insbesondere können durch das Bonden kovalente Bindungen zwischen dem Material des ersten Spiegelteils und dem Material des zweiten Spiegelteils ausgebildet werden.
  • Die Erfindung betrifft weiterhin einen Spiegel eines Lithographiesystems. Der erfindungsgemäße Spiegel weist ein erstes Spiegelteil, ein zweites Spiegelteil, eine optische Fläche zur Reflexion von Licht, mehrere Kühlkanäle und mehrere Hilfskanäle auf. Das erste Spiegelteil und das zweite Spiegelteil sind im Bereich einer ersten Verbindungsfläche des ersten Spiegelteils und einer zweiten Verbindungsfläche des zweiten Spiegelteils starr miteinander verbunden. Die Kühlkanäle weisen im Bereich der ersten Verbindungsfläche oder der zweiten Verbindungsfläche langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen auf. Die Hilfskanäle weisen im Bereich der ersten Verbindungsfläche oder der zweiten Verbindungsfläche langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen auf.
  • Der erfindungsgemäße Spiegel ist vergleichsweise einfach herstellbar und weist kaum Gaseinschlüsse zwischen der ersten und der zweiten Verbindungsfläche auf.
  • Wenigstens einige der Kühlkanal-Öffnungen können jeweils mit dem größten Teil ihrer Längserstreckung innerhalb des lateralen Bereichs der optischen Fläche liegen und wenigstens einige der Hilfskanal-Öffnungen können jeweils mit dem größten Teil ihrer Längserstreckung außerhalb des lateralen Bereichs der optischen Fläche liegen.
  • Weiterhin können wenigstens einige der Kühlkanal-Öffnungen und wenigstens einige der Hilfskanal-Öffnungen eine im Wesentlichen identische Orientierung aufweisen. Insbesondere können die Kühlkanal-Öffnungen und die Hilfskanal-Öffnungen wenigstens paarweise eine im Wesentlichen identische Orientierung aufweisen.
  • Die Kühlkanäle und die Hilfskanäle können voneinander fluidische getrennt sein.
  • Die Hilfskanäle können mit der Umgebung des Spiegels fluidisch verbunden sein. Das ermöglicht einen Druckausgleich in den Hilfskanälen. Die Hilfskanäle können auch von der Umgebung des Spiegels fluidisch getrennt ausgebildet sein. Dadurch kann verhindert werden, dass Verunreinigungen in die Hilfskanäle gelangen und/oder von den Hilfskanälen in die Umgebung gelangen und z. B. die optische Fläche verunreinigen. Insbesondere können die Hilfskanäle durch eine flexible Membran von der Umgebung des Spiegels getrennt sein, die wenigstens einen teilweisen Druckausgleich zwischen den Hilfskanälen und der Umgebung ermöglicht.
  • Weiterhin ist es möglich, dass die Hilfskanäle drucktechnisch von der Umgebung des Spiegels isoliert sind. Bei dieser Ausführungsform besteht die Möglichkeit, den Druck in den Hilfskanälen zu steuern und auf diese Weise einen druckgesteuerten Manipulator zu realisieren.
  • Das erste Spiegelteil kann eine größere Dicke aufweisen als das zweite Spiegelteil. Dies ermöglicht eine effiziente Kühlung der optischen Fläche und gleichzeitig eine große mechanische Stabilität des Spiegels.
  • Der Spiegel kann alternativ oder zusätzlich einen oder mehrere der für das erfindungsgemäße Verfahren offenbarten optionalen Parameter und/oder sonstigen Merkmale aufweisen.
  • Die Erfindung betrifft weiterhin ein Beleuchtungssystem mit einem erfindungsgemäßen Spiegel.
  • Außerdem betrifft die Erfindung ein Projektionsobjektiv mit einem erfindungsgemäßen Spiegel.
  • Schließlich betrifft die Erfindung ein Lithographiesystem mit einem erfindungsgemäßen Beleuchtungssystem und/oder einem erfindungsgemäßen Projektionsobjektiv.
  • Die Erfindung wird nachstehend anhand der in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert.
  • Es zeigen
    • 1 ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäß ausgebildeten Lithographiesystems in einer schematischen Darstellung,
    • 2 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäß ausgebildeten Lithographiesystems in einer schematischen Darstellung,
    • 3 ein Ausführungsbeispiel eines Spiegels, das mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurde, in einer schematischen Schnittdarstellung,
    • 4 das in 3 dargestellte erste Ausführungsbeispiel des Spiegels in einer weiteren schematischen Schnittdarstellung,
    • 5 eine Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils an das Unterteil in einer schematischen Schnittdarstellung analog zu 4,
    • 6 ein Oberteil und ein Unterteil in einer schematischen Schnittdarstellung analog zu 4,
    • 7 eine Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils an das Unterteil in einer schematischen Aufsicht,
    • 8 eine weitere Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils an das Unterteil in einer 7 entsprechenden Darstellung,
    • 9 eine weitere Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils an das Unterteil in einer 7 entsprechenden Darstellung,
    • 10 eine weitere Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils an das Unterteil in einer 7 entsprechenden Darstellung.
  • 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäß ausgebildeten Lithographiesystems in einer schematischen Darstellung. Das dargestellte Lithographiesystem ist für einen Betrieb mit Licht im DUV-Bereich ausgelegt. Dabei steht DUV für „Deep Ultraviolett“. Insbesondere kann das Lithographiesystem für einen Betrieb mit Licht der Wellenlänge 193 nm ausgelegt sein.
  • Das Lithographiesystem weist ein Beleuchtungssystem 1 und ein Projektionsobjektiv 2 auf. Der innere Aufbau des Beleuchtungssystems 1 und der innere Aufbau des Projektionsobjektivs 2, die beispielsweise jeweils optische Komponenten, Sensoren, Manipulatoren usw. umfassen können, sind nicht im Einzelnen dargestellt. Beim Projektionsobjektiv 2 ist stellvertretend für dessen optische Komponenten ein Spiegel M angedeutet. Der Spiegel M kann mit Hilfe eines Kühlmediums gekühlt werden, das von einer Kühleinrichtung 3 bereitgestellt wird. Bei dem Kühlmedium handelt es sich um ein Fluid, beispielsweise Wasser. Zusätzlich oder alternativ kann das Beleuchtungssystem 1 über einen gekühlten Spiegel M und eine zugehörige Kühleinrichtung 3 verfügen. Das Projektionsobjektiv 2 und/oder das Beleuchtungssystem 1 können auch mehrere gekühlte Spiegel M und Kühleinrichtungen 3 aufweisen. Als weitere optische Komponenten können beim Beleuchtungssystem 1 und beim Projektionsobjektiv 2 beispielsweise Linsen und weitere Spiegel - gekühlt oder ungekühlt - vorhanden sein.
  • Das für den Betrieb des Lithographiesystems benötigte Licht wird von einer Lichtquelle 4 erzeugt. Bei der Lichtquelle 4 kann es sich insbesondere um einen Excimer-Laser, beispielsweise um einen Argonfluorid-Laser handeln, der Licht der Wellenlänge 193 nm erzeugt.
  • Zwischen dem Beleuchtungssystem 1 und dem Projektionsobjektiv 2 ist eine Reticlestage 5 angeordnet, auf der eine Maske 6, auch als Reticle oder Retikel bezeichnet, fixiert ist. Die Reticlestage 5 verfügt über einen Antrieb 7. In Lichtrichtung gesehen nach dem Projektionsobjektiv 2 ist eine Substratstage 8 angeordnet, die ein Substrat 9, beispielsweise einen Wafer, trägt und einen Antrieb 10 aufweist.
  • Weiterhin ist in 1 noch eine Steuereinrichtung 11 dargestellt, die mit dem Beleuchtungssystem 1, dem Projektionsobjektiv 2, der Kühleinrichtung 3, der Lichtquelle 4, der Reticlestage 5 bzw. deren Antrieb 7 und der Substratstage 8 bzw. deren Antrieb 10 verbunden ist.
  • Das Lithographiesystem dient dazu, die Maske 6 mit hoher Präzision auf das Substrat 9 abzubilden. Hierzu wird die Maske 6 mit Hilfe des Beleuchtungssystems 1 beleuchtet und die beleuchtete Maske 6 mit Hilfe des Projektionsobjektivs 2 auf das Substrat 9 abgebildet. Im Einzelnen wird folgendermaßen vorgegangen:
    • Das Beleuchtungssystem 1 formt das von der Lichtquelle 4 erzeugte Licht mittels seiner optischen Komponenten in genau definierter Weise um und lenkt es auf die Maske 6. Je nach Ausführungsform kann das Beleuchtungssystem 1 so ausgebildet sein, dass es die gesamte Maske 6 oder lediglich einen Teilbereich der Maske 6 beleuchtet. Das Beleuchtungssystem 1 ist in der Lage, die Maske 6 so zu beleuchten, dass an jedem beleuchteten Punkt der Maske 6 nahezu identische Lichtverhältnisse herrschen. Insbesondere sind die Lichtintensität und die Winkelverteilung des auftreffenden Lichts für jeden beleuchteten Punkt der Maske 6 nahezu identisch.
  • Das Beleuchtungssystem 1 ist in der Lage, die Maske 6 wahlweise mit Licht einer Vielzahl verschiedener Winkelverteilungen zu beleuchten. Diese Winkelverteilungen des Lichts werden auch als Beleuchtungssettings bezeichnet. Das gewünschte Beleuchtungssetting wird in der Regel in Abhängigkeit von den auf der Maske 6 ausgebildeten Strukturelementen ausgewählt. Relativ häufig werden beispielsweise Dipol- oder Quadrupol-Beleuchtungssettings verwendet, bei denen das Licht aus zwei bzw. aus vier verschiedenen Richtungen auf jeden beleuchteten Punkt der Maske 6 trifft. Je nach Ausbildung des Beleuchtungssystems 1 kann die Erzeugung der verschiedenen Beleuchtungssettings beispielsweise mittels verschiedener diffraktiver optischer Elemente in Verbindung mit einer Zoom-Axikon-Optik oder mittels Spiegel-Arrays erfolgen, die jeweils eine Vielzahl nebeneinander angeordneter und hinsichtlich ihrer Winkellage einzeln einstellbarer kleiner Spiegel aufweisen.
  • Die Maske 6 kann beispielsweise als eine Glasplatte ausgebildet sein, die für das vom Beleuchtungssystem 1 zugeführte Licht transparent ist und auf der opake Strukturen, beispielsweise in Form einer Chrom-Beschichtung, aufgebracht sind.
  • Das Lithographiesystem kann so ausgebildet sein, dass die gesamte Maske 6 gleichzeitig vom Beleuchtungssystem 1 beleuchtet wird und in einem einzigen Belichtungsschritt vom Projektionsobjektiv 2 vollständig auf das Substrat 9 abgebildet wird.
  • Alternativ kann das Lithographiesystem auch so ausgebildet sein, dass lediglich ein Teilbereich der Maske 6 zur gleichen Zeit vom Beleuchtungssystem 1 beleuchtet wird und der Antrieb 7 der Reticlestage 5 von der Steuereinrichtung 11 so angesteuert wird, dass die Maske 6 während der Belichtung des Substrats 9 relativ zum Beleuchtungssystem 1 bewegt wird und dadurch der beleuchtete Teilbereich über die gesamte Maske 6 wandert. Das Substrat 9 wird durch eine darauf abgestimmte Ansteuerung des Antriebs 10 der Substratstage 8, bei der auch die Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektivs 2 berücksichtigt werden, synchron bewegt, so dass der jeweils beleuchtete Teilbereich der Maske 6 auf einen dafür vorgesehenen Teilbereich des Substrats 9 abgebildet wird. Diese Bewegung der Maske 6 und des Substrats 9 wird auch als Scannen bezeichnet.
  • Um das durch die Belichtung des Substrats 9 bei beiden Ausführungsvarianten des Lithographiesystems entstehende latente Bild in eine physikalische Struktur überführen zu können, ist auf das Substrat 9 eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht. In diese lichtempfindliche Schicht wird das Bild der Maske 6 einbelichtet und mit Hilfe sich anschließender chemischer Prozesse kann daraus eine permanente Struktur auf dem Substrat 9 erzeugt werden.
  • In der Regel wird die Maske 6 nicht nur einmal, sondern mehrfach nebeneinander auf das Substrat 9 abgebildet. Hierzu wird die Substratstage 8 nach jeder Abbildung der Maske 6 auf das Substrat 9 entsprechend der Größe des Bildes der Maske 6 auf dem Substrat 9 lateral versetzt. Dabei kann die Abbildung der Maske 6 jeweils als Ganzes oder sequentiell durch Scannen erfolgen. Die chemische Behandlung des Substrats 9 wird erst dann gestartet, wenn die gewünschte Anzahl von Abbildungen der Maske 6 auf das Substrat 9 durchgeführt wurde.
  • 2 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäß ausgebildeten Lithographiesystems in einer schematischen Darstellung. Das Lithographiesystem gemäß 2 ist für einen Betrieb mit Licht im EUV-Bereich ausgelegt. EUV steht für „Extreme Ultraviolett“. Insbesondere kann das Lithographiesystem für einen Betrieb mit Licht der Wellenlänge 13,5 nm ausgelegt sein.
  • Analog zum Lithographiesystem der 1 weist das in 2 dargestellte Lithographiesystem ein Beleuchtungssystem 1, ein Projektionsobjektiv 2, eine Lichtquelle 4, eine Reticlestage 5 inklusive Antrieb 7 und eine Substratstage 8 inklusive Antrieb 10 auf. Die Lichtquelle 4 kann insbesondere als eine Plasma-Lichtquelle ausgebildet sein. Auf der Reticlestage 5 ist eine Maske 6 angeordnet. Auf der Substratstage 8 ist ein Substrat 9 angeordnet. Das Beleuchtungssystem 1 weist Spiegel M1, M2, M3, M4, M5 und M6 auf, die in dieser Reihenfolge im Strahlengang von der Lichtquelle 4 zur Maske 6 angeordnet sind. Das Projektionsobjektiv 2 weist im Strahlengang von der Maske 6 zum Substrat 9 der Reihe nach Spiegel M7, M8, M9, M10, M11 und M12 auf. Beispielsweise der Spiegel M8 kann mit Hilfe eines von einer Kühleinrichtung 3 bereitgestellten Kühlmediums gekühlt werden. Bei dem Kühlmedium handelt es sich wiederum um ein Fluid wie beispielsweise Wasser. Zusätzlich oder alternativ zum Spiegel M8 kann auch ein anderer Spiegel des Projektionsobjektivs 2 und/oder des Beleuchtungssystems 1 gekühlt werden oder es können mehrere Spiegel des Projektionsobjektivs 2 und/oder des Beleuchtungssystems 1 gekühlt werden.
  • Beim Ausführungsbeispiel der 2 weist weder das Beleuchtungssystem 1 noch das Projektionsobjektiv 2 Linsen auf, da keine Materialien verfügbar sind, die bei einer Wellenlänge von 13,5 nm über eine für ein Lithographiesystem geeignete Transmission und sonstige optische Eigenschaften verfügen. Auch die Maske 6 wird nicht in Transmission, sondern in Reflexion betrieben.
  • Obwohl dies in 2 nicht dargestellt ist kann beim Ausführungsbeispiel der 2 ähnlich wie beim Ausführungsbeispiel der 1 eine Steuereinrichtung 11 vorgesehen sein.
  • Der Belichtungsbetrieb erfolgt beim Ausführungsbeispiel der 2 in ähnlicher Weise wie für das Ausführungsbeispiel der 1 beschrieben, wobei in der Regel ein Scanbetrieb durchgeführt wird.
  • 3 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Spiegels 12, das mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurde, in einer schematischen Schnittdarstellung. 4 zeigt dasselbe Ausführungsbeispiel des Spiegels 12 in einer weiteren schematischen Schnittdarstellung, bei welcher der Schnitt entlang einer in 3 eingezeichneten Schnittlinie A-A erfolgt. Um möglichst viele Einzelheiten des Spiegels 12 darstellen zu können, weist die Schnittlinie A-A beim Durchgang durch den Spiegel 12 einen lateralen Versatz auf. Die Darstellung des Spiegels 12 und seiner Bestandteile erfolgt in den 3 und 4 nicht maßstäblich und ist stark abstrahiert, um die Erfindung möglichst anschaulich zu präsentieren. Dies gilt auch für alle weitere Figuren.
  • Der Spiegel 12 kann bei einem der in den 1 und 2 dargestellten Lithographiesysteme zum Einsatz kommen und weist ein Unterteil 13 und ein Oberteil 14 auf, die jeweils aus Quarzglas, Ti-dotiertem Quarzglas oder einer Glaskeramik gefertigt sind. Die Bezeichnungen „Unterteil“ und „Oberteil“ wurden gewählt, weil das Unterteil 13 in der Regel wesentlich dicker als das Oberteil 14 ausgebildet ist und somit das Oberteil 14 sozusagen trägt. Die Bezeichnungen hängen aber nicht mit der Orientierung des Spiegels 12 relativ zur Schwerkraftrichtung im eingebauten Zustand des Spiegels 12 zusammen. Während des Betriebs des Lithographiesystems kann das Oberteil 14 bezogen auf die Schwerkraftrichtung über oder unter oder neben dem Unterteil 13 angeordnet sein oder eine sonstige relative Lage dazu einnehmen. Das Unterteil 13 wird auch als erstes Spiegelteil 13 bezeichnet und das Oberteil 14 wird auch als zweites Spiegelteil 14 bezeichnet.
  • Das Unterteil 13 und das Oberteil 14 sind im Bereich einer Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und einer Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 mittels des im Folgenden noch näher beschriebenen erfindungsgemäßen Verfahrens starr miteinander verbunden. Die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 ist beim dargestellten Ausführungsbeispiel konkav gekrümmt ausgebildet. Die Krümmung kann sphärisch, asphärisch oder gemäß einer Freiformfläche ausgebildet sein. Die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 ist komplementär zur Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 gekrümmt und weist demgemäß eine konvexe Krümmung auf, die sphärisch, asphärisch oder gemäß einer Freiformfläche ausgebildet sein kann. Somit können sich die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 eng aneinanderschmiegen. Alternativ zu einer gekrümmten Ausbildung können die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 auch plan ausgebildet sein.
  • Auf der Seite, die von seiner Verbindungsfläche 15 abgewandt ist und in 3 unten dargestellt ist, ist das Unterteil 13 plan ausgebildet. Das Oberteil 14 ist auf der Seite, die von seiner Verbindungsfläche 16 abgewandt ist und in 3 oben dargestellt ist, konkav gekrümmt ausgebildet und weist eine reflektierende optische Fläche 17 mit einer identischen Krümmung auf. Die Krümmung kann sphärisch, asphärisch oder gemäß einer Freiformfläche ausgebildet sein und insbesondere der Krümmung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 entsprechen.
  • Alternativ dazu ist es auch möglich, dass die optische Fläche 17 plan ausgebildet ist. Dies ist insbesondere dann der Fall, wenn die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 plan ausgebildet sind.
  • Die optische Fläche 17 ist als eine auf das Oberteil 14 aufgebrachte Beschichtung ausgeführt. Die Ausbildung der Beschichtung hängt davon ab, bei welcher Wellenlänge die optische Fläche 17 ihre reflektierende Wirkung entfalten soll. Bei einer gewünschten Reflexion im DUV-Bereich, d. h. im Falle des Spiegels M der 1, kann die Beschichtung als eine Aluminiumschicht ausgebildet sein. Ist dagegen eine Reflexion im EUV-Bereich vorgesehen, wie im Falle beispielsweise des Spiegels M8 der 2, kann die Beschichtung insbesondere aus alternierend aufeinander folgenden Schichten aus Silizium und Molybdän und ggf. einer oder mehrerer weiterer Schichten, die eine andere Zusammensetzung ausweisen und z. B. als Schutzschichten dienen, ausgebildet sein.
  • Das Oberteil 14 weist weiterhin mehrere langgestreckte Kühlkanäle 18 auf, die parallel zueinander und zur optischen Fläche 17 verlaufen und sich lateral im Bereich der optischen Fläche 17 und evtl. etwas darüber hinaus erstrecken. Demgemäß sind die Kühlkanäle 18 beim dargestellten Ausführungsbeispiel gekrümmt ausgebildet. Die Kühlkanäle 18 reichen bis auf einen Abstand von ca. 1 bis 6 mm an die optische Fläche 17 heran und sind zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 hin offen ausgebildet. Demgemäß weisen die Kühlkanäle 18 im Bereich der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen 19 auf. Die Querabmessungen der Kühlkanäle 18 können ca. 0,2 bis 10 mm betragen, wobei die Tiefe der Kühlkanäle 18, d. h. die Abmessung ungefähr senkrecht zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14, in der Regel erheblich größer ist als die Breite, d. h. die Abmessung ungefähr parallel zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14. Beispielsweise kann die Tiefe der Kühlkanäle 18 mehr als doppelt so groß sein wie die Breite der Kühlkanäle 18.
  • Bei einer nicht rotationssymmetrischen Ausbildung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 kann diese für verschiedene Azimutwinkel oder anders ausgedrückt, bezogen auf verschiedene Richtungen, unterschiedliche mittlere Krümmungsradien aufweisen. In diesem Fall kann die Richtung, in der der Absolutbetrag des mittleren Krümmungsradius den kleinsten Wert aufweist, parallel zu den Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen 19 verlaufen. Prinzipiell ist es auch möglich, dass die genannte Richtung quer zu den Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen 19 verläuft. Einander benachbarte Bereiche der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 können im unverbundenen Zustand geringfügig unterschiedliche mittlere Krümmungsradien aufweisen, wobei der mittlere Krümmungsradius des Bereichs der konvex ausgebildeten Fläche in der Regel einen kleineren Absolutbetrag aufweist als der mittlere Krümmungsradius des korrespondierenden Bereichs der konkav ausgebildeten Fläche. Im Fall unterschiedlicher mittlerer Krümmungsradien in verschiedenen Richtungen soll dies für jede Richtung separat gelten.
  • Das Unterteil 13 weist mehrere Verteilerkanäle 20 und Sammlerkanäle 21 auf, die sich ausgehend von der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 in Richtung der von der Verbindungsfläche 15 abgewandten Seite des Unterteils 13 in das Unterteil 13 hinein erstrecken. Im Inneren des Unterteils 13 münden die Verteilerkanäle 20 in einen Fluidverteiler 22 und die Sammlerkanäle 21 in einen Fluidsammler 23. Zur Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 hin erweitern sich die Verteilerkanäle 20 und die Sammlerkanäle 21 jeweils stufenförmig und überlappen dort jeweils mit den entgegengesetzten Enden zweier Kühlkanal-Öffnungen 19. Mit anderen Worten, je ein Verteilerkanal 20 überlappt mit je einem Ende zweier Kühlkanal-Öffnungen 19 und je ein Sammlerkanal 21 überlappt mit jeweils den beiden anderen Enden derselben beiden Kühlkanal-Öffnungen 19. Demgemäß ist je ein Verteilerkanal 20 an seinem einen Ende mit dem Fluidverteiler 22 und an seinem anderen Ende mit zwei Kühlkanälen 18 fluidisch verbunden. In analoger Weise ist je ein Sammlerkanal 21 an seinem einen Ende mit dem Fluidsammler 23 und an seinem anderen Ende mit zwei Kühlkanälen 18 fluidisch verbunden.
  • Somit ist es möglich, den Kühlkanälen 18 durch den Fluidverteiler 22 und den Verteilerkanälen 20 ein Fluid, beispielsweise Wasser, zuzuführen, wobei jeder Verteilerkanal 20 jeweils zwei Kühlkanäle 18 und der Fluidverteiler 22 alle Verteilerkanäle 20 mit Fluid versorgt. Das Fluid durchströmt die Kühlkanäle 18 und strömt dann über die Sammlerkanäle 21 weiter in den Fluidsammler 23, über den es abgeführt werden kann. Dabei strömt das Fluid je zweier Kühlkanäle 18 in jeweils einen Sammlerkanal 21 und das Fluid aller Sammlerkanäle 21 in den Fluidsammler 23. Die Zufuhr des Fluids zu dem Fluidverteiler 22 und die Abfuhr des Fluids vom Fluidsammler 23 kann mit Hilfe der Kühleinrichtung 3 erfolgen, die zu diesem Zweck an den Fluidverteiler 22 und den Fluidsammler 23 angeschlossen werden kann.
  • Durch Temperieren des zugeführten Fluids auf eine Temperatur unterhalb der Temperatur des Oberteils 14 kann erreicht werden, dass das Fluid beim Durchströmen der Kühlkanäle 18 dem Oberteil 14 Wärme entzieht. Dieser Wärmeentzug soll insbesondere den Wärmeeintrag durch das im Betrieb des Lithographiesystems auf die optische Fläche 17 auftreffende Licht kompensieren. Da die optische Fläche 17 das auftreffende Licht nicht vollständig reflektiert, wird ein Teil des Lichts von der optische Fläche 17 und je nach Ausbildung der optische Fläche 17 auch vom Oberteil 14 absorbiert und in Wärme umgewandelt. Da die optische Fläche 17 und das Oberteil 14 eine gewisse Wärmeleitfähigkeit aufweisen, wird ein Teil dieser Wärme zu den Kühlkanälen 18 geleitet und kann dort vom Fluid aufgenommen und abtransportiert werden. Auf diese Weise kann der durch das Licht verursachte Temperaturanstieg des Spiegels 12 begrenzt und die durch Wärmeausdehnungseffekte hervorgerufene Verformung der optischen Fläche 17 verglichen mit einem ungekühlten Spiegel 12 reduziert werden. In der Folge werden auch die durch die Verformung hervorgerufenen Abbildungsfehler reduziert.
  • Die Ausbildung und Anordnung der Kühlkanäle 18, der Verteilerkanäle 20, der Sammlerkanäle 21, des Fluidverteilers 22 und des Fluidsammlers 23 kann auf vielfältige Weise abgewandelt werden. Beispielsweise können die Kühlkanäle 18 im Unterteil 13 angeordnet und zur Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 offen ausgebildet werden, so dass die Kühlkanäle 18 im Bereich der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen 19 aufweisen. Weiterhin können die Verteilerkanäle 20 und die Sammlerkanäle 21 entfallen und der Fluidverteiler 22 und der Fluidsammler 23 direkt mit den Kühlkanälen 18 verbunden sein usw.
  • Zur Herstellung des Spiegels 12 werden das Unterteil 13 und das Oberteil 14 als separate Teile gefertigt und dann miteinander verbunden. Die optische Fläche 17 wird in der Regel erst nach dem Verbinden des Unterteils 13 und des Oberteils 14 ausgebildet, um eine möglichst hohe Präzision insbesondere bzgl. ihrer Form zu erreichen und eine Beschädigung der optischen Fläche 17 während des Verbindungsprozesses zu vermeiden. Für die Fertigung des Unterteils 13 und des Oberteils 14 wird ein Material mit einem sehr niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten verwendet. Geeignete Materialien sind beispielsweise Quarzglas, mit Titanoxid dotiertes Quarzglas oder spezielle Glaskeramiken. Das Unterteil 13 und das Oberteil 14 können aus einem gemeinsamen Materialrohling herausgetrennt werden. Es besteht aber auch die Möglichkeit für das Unterteil 13 und das Oberteil 14 verschiedene Materialrohlinge zu verwenden, wenn sich diese bzgl. ihrer Materialparameter nicht zu stark voneinander unterscheiden.
  • Für die Herstellung des Unterteils 13 kann beispielsweise ein mit Titanoxid versetztes Quarzglas verwendet werden, das eine über das Volumen des Unterteils 13 gemittelte Nulldurchgangstemperatur (zero crossing temperature) zwischen 22 und 25 °C aufweist. Dabei ist die Nulldurchgangstemperatur auf die unter Berücksichtigung der Kühlung des Spiegels 12 erwartete Temperatur des Unterteils 13 während des Betriebs des Lithographiesystems abgestimmt. Die Steigung des thermischen Expansionskoeffizienten ist bei 22 °C je nach Herstellverfahren des für das Unterteil 13 verwendeten Materials vorzugsweise kleiner als ca. 1,35 bis 1,8 ppb/K2.
  • Das Unterteil 13 wird aus dem Materialrohling herausgetrennt und dann durch Schleifen und Polieren bearbeitet. Dabei kann die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 insbesondere in eine Form gebracht werden, die der vorgesehenen Form der optischen Fläche 17, die zu einem späteren Zeitpunkt auf dem Oberteil 13 ausgebildet wird, näherungsweise entspricht. Die Formabweichung zwischen der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und der optischen Fläche 17 beträgt maximal 3 mm, vorzugsweise nicht mehr als 200 µm. Falls die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 eine kreisförmige Berandung aufweist, beträgt deren Durchmesser in der Regel zwischen 20 und 100 cm bei einer Pfeilhöhe von bis zu 3% des Durchmessers. Einer sphärischen Grundform der Verbindungsfläche 13 des Unterteils 13 kann eine beliebige Funktion überlagert sein, so dass sich eine Freiformfläche ergeben kann.
  • Bezogen auf eine für die Messung verwendete Wellenlänge λ von 633 nm kann die Politur der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 mit einer Abweichung von einer vorgegebenen Form (Passe) von weniger als λ/2, bevorzugt weniger als λ/10, erfolgen. Weiterhin kann dabei eine Rauheit von weniger als 5 nm, bevorzugt weniger als 1 nm, erzielt werden. Unter dem Begriff „Rauheit“ werden dabei die statistisch verteilten Abweichungen von einer glatten Oberfläche subsumiert. Als Form- oder Passeabweichungen werden sowohl langwellige Abweichungen von der vorgegebenen Form als auch kurzwellige und eher punktuelle, nicht statistisch verteilte Abweichungen angesehen. Die langwellige Formabweichung kann auch etwas größer ausfallen als die vorstehend genannten Werte von λ/2 bzw. λ/10. Bzgl. der kurzwelligen Abweichung werden die genannten Werte aber nach Möglichkeit eingehalten. Beispielsweise wirken sich Abweichungen mit Raumfrequenzen von einigen cm nicht ganz so störend aus. Abweichungen mit Raumfrequenzen unterhalb 100 µm sind in der Regel deutlich störender. Falls die endgültige Verbindung des Unterteils 13 und des Oberteils 14 im Rahmen eines Bondprozesses bei sehr hohen Temperaturen, insbesondere bei Temperaturen oberhalb 1000 °C, erfolgt, können die Anforderungen bzgl. Rauheit und Formabweichungen etwas relaxiert werden und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 alternativ durch Läppen bearbeitet werden. Abhängig vom Material des Unterteils 13 können die erforderlichen Temperaturen auch 1200 °C oder mehr betragen.
  • Um ein Eintrocknen von Schleif- und Poliermittelresten zu vermeiden, wird das Unterteil 13 unmittelbar nach dem Schleifen und nach dem Polieren abgespült. Außerdem kann eine mechanische Nassreinigung durchgeführt werden. Die Oberfläche des Unterteils 13 kann zusätzlich mit Lösemitteln, organischen und anorganischen Reinigungsmitteln oder mittels einer Plasmabehandlung usw. gereinigt werden.
  • Bei der Bearbeitung des Unterteils 13 ist darauf zu achten, dass eine Tiefenschädigung vermieden wird, da sich in Mikrorissen kleine Mengen von Wasser, sonstige Prozessmittel wie z. B. Poliermittel oder Kontaminationen halten können, die beim Aufheizen des Unterteils 13 abdampfen und zu lokaler Blasenbildung führen können. Zur Vermeidung oder Beseitigung einer etwaigen Tiefenschädigung können Trocken- und/oder Nassätzschritte oder sonstige geeignete Optik-Bearbeitungsschritte eingesetzt werden. Außerdem können abgestufte Schleifschritte verwendet werden oder es kann beispielsweise durch Ätzen mit Sauerstoffplasma ein berührungsloser Abtrag erfolgen, an den sich ein Polierschritt anschließen kann. Der Nachweis der Tiefenschädigungsfreiheit erfolgt beispielsweise dadurch, dass kurz mit Fluorsäure geätzt wird und dies nicht zu lokalen Ätzgruben führt. Ein Fluorsäure-Bad eignet sich gleichzeitig als Reinigungsschritt zum Entfernen von Kohlenwasserstoffen.
  • Nach dem Schleifen und Polieren bzw. dem Läppen werden im Unterteil 13 ggf. die Verteilerkanäle 20 und die Sammlerkanäle 21 sowie der Fluidverteiler 22 und der Fluidsammler 23 ausgebildet. Abhängig von der Ausbildung des Unterteils 13 können die Kühlkanäle 18 im Unterteil 13 ausgebildet werden. Die Verteilerkanäle 20 und die Sammlerkanäle 21 sowie der Fluidverteiler 22 und der Fluidsammler 23 weisen in der Regel Querabmessungen, d. h. Abmessungen quer zur Flussrichtung des Fluids auf, die deutlich größer sind als die korrespondierenden Abmessungen der Kühlkanäle 18.
  • Die jeweiligen Kanäle können durch Fräsen, Schleifen, Bohren, Laserablation, Ultraschallablation oder Ätzen oder eine Kombination dieser Verfahren ausgebildet werden. Als ein letzter Verfahrensschritt kann jeweils ein Ätzen mit Fluorsäure vorgesehen sein, um späteres Risswachstum zu vermeiden und um eine strömungsgünstig nur leicht aufgeraute Oberfläche in den Kanälen auszubilden.
  • Um die bereits bearbeitete, insbesondere polierte, Oberfläche des Unterteils 13 vor Kantenausbrüchen beispielsweise an den Rändern der Kühlkanal-Öffnungen 19 und vor ähnlichen Beschädigungen zu schützen, kann vor Ausbildung der Kanäle ein Schutzlack auf die Oberfläche des Unterteils 13 aufgebracht werden. Etwaige Kantenausbrüche, die trotz dieser Vorsichtsmaßnahme auftreten, können lokal ausmattiert oder durch eine beispielsweise um die Kühlkanal-Öffnungen 19 umlaufende Fase beseitigt werden. Allerdings ist diese Fase strömungstechnisch und aufgrund der Kerbwirkung festigkeitstechnisch ungünstig und sollte nach Möglichkeit vermieden werden.
  • Alternativ zur vorstehend beschriebenen Vorgehensweise besteht die Möglichkeit, zuerst die Kanäle im Unterteil 13 auszubilden und erst danach die Oberfläche des Unterteils 13 durch Schleifen, Läppen und/oder Polieren zu bearbeiten. Dabei ergibt sich allerdings eine gewisse Kantenverrundung an den Rändern der Kühlkanal-Öffnungen 19 oder sonstiger Öffnungen, da beispielsweise die Polierteller eine endliche Steifheit aufweisen und sich in die Kühlkanal-Öffnungen 19 oder sonstigen Öffnungen hineinwölben. Dieser Kantenverrundung kann durch Einlegen oder Einkitten von Platzhaltern aus dem gleichen Material wie das Unterteil 13 in die Kühlkanal-Öffnungen 19 oder sonstigen Öffnungen entgegengewirkt werden. Die Platzhalter werden zusammen mit der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 abgeschliffen und poliert und reduzieren die Breiten der durch die Kühlkanal-Öffnungen 19 oder sonstigen Öffnungen hervorgerufenen Spalte. Die zwischen den Platzhaltern und dem umgebenden Material des Unterteils 13 verbleibenden Spalte können zudem mit einem glas- oder keramikpulvergefüllten Kitt verfugt werden, so dass sich beim Polieren allenfalls ein geringfügiges Hineinwölben und demgemäß eine sehr geringe Kantenverrundung ergibt. Alternativ kann eine lokale Nachbearbeitung mittels Roboterpolierens oder Ionenstrahlpolierens stattfinden, um die Kantenverrundung zu minimieren. Nach dem Bearbeiten der Oberfläche des Unterteils 13 werden die Platzhalter und ggf. das Verfugungsmaterial wieder entfernt.
  • Um eine Kantenverrundung zu vermeiden oder zumindest zu reduzieren können alternativ zur mechanischen Oberflächenbearbeitung Ablations- oder Ätzverfahren eingesetzt werden. Wenn im Rahmen dieser Verfahren eine Lackmaske auf die nicht zu bearbeitenden Bereiche aufgebracht wird, kann in den Randbereichen der Lackmaske eine Unterätzung auftreten. Den negativen Auswirkungen dieser Unterätzung kann durch geeignetes mechanisches, laserablatives oder ätzendes Nachbearbeiten entgegengewirkt werden.
  • Für die Herstellung des Oberteils 14 kann ein Material mit identischen oder ähnlichen Eigenschaften verwendet werden, wie für das Unterteil 13 beschrieben. Die Materialeigenschaften des Oberteils 14 dürfen lediglich innerhalb vorgegebener Grenzen von den Materialeigenschaften des Unterteils 13 abweichen. Nach dem Heraustrennen des Oberteils 14 aus dem Materialrohling kann die Oberfläche des Oberteils 14, insbesondere die Verbindungsfläche 16, in analoger Weise bearbeitet werden wie für das Unterteil 13 beschrieben und es sind analoge Anforderungen bzgl. Formabweichung und Rauheit zu erfüllen. Wie bereits für das Unterteil 13 beschrieben, können die Anforderungen bzgl. Rauheit und Formabweichungen etwas relaxiert werden und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 durch Läppen bearbeitet werden, falls die endgültige Verbindung des Unterteils 13 und des Oberteils 14 im Rahmen eines Bondprozesses bei sehr hohen Temperaturen, insbesondere bei Temperaturen oberhalb 1000 °C bzw. oberhalb 1200 °C, erfolgt. Ein Relaxieren der Anforderungen ist auch dann möglich, wenn das Oberteil 14 vergleichsweise dünn ist sowie für langwellige Formabweichungen.
  • Je nach Ausführungsvariante kann das Oberteil 14 Kühlkanäle 18 und/oder sonstige Kanäle wie beispielsweise Verteilerkanäle 20 und Sammlerkanäle 21 aufweisen. All diese Kanäle können in analoger Weise hergestellt werden wie für das Unterteil 13 beschrieben und es können analoge Maßnahmen zur Reduzierung der Kantenverrundung usw. eingesetzt werden.
  • Das Oberteil 14 weist in der Regel eine Dicke zwischen 10 und 40 mm auf, kann unter bestimmten Voraussetzungen aber auch eine geringere Dicke aufweisen. Je nach Dicke kann es erforderlich sein, das Oberteil 14 zur Bearbeitung auf ein Glassubstrat als Trägermaterial aufzukitten oder anzusprengen, um eine für eine präzise Bearbeitung ausreichende Steifigkeit zu erreichen.
  • Für die Bearbeitung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 durch Schleifen, Läppen und/oder Polieren können Werkzeuge eingesetzt werden, welche die gleiche oder eine sehr ähnliche Nominalkrümmung wie die Werkzeuge zur Bearbeitung der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 aufweisen. Optional kann danach ein weiterer Schritt vorgesehen sein, bei dem die tatsächlichen Formen der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 vermessen werden und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 lokal durch Roboterpolieren, Plasmaätzen, Ionenstrahlabtrag oder kompaktierende hochenergetische Bestrahlung an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angepasst wird.
  • Bei Ausführungsformen des Spiegels 12, bei denen die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 im Wesentlichen plan ist oder eine sehr geringe Krümmung aufweist, so dass der Absolutbetrag des mittleren Krümmungsradius für wenigstens einen Azimutwinkel größer als 10m ist, besteht die Möglichkeit, ein vergleichsweise dünnes Oberteil 14 zu verwenden, das eine Dicke von 0,5 bis 10 mm aufweist und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 plan auszubilden. In diesem Fall kann das Oberteil 14 beim Verbinden mit dem Unterteil 13 verformt werden und dadurch die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 an die Form der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angepasst werden. Für die vor der Verbindung erforderliche Bearbeitung kann das Oberteil 14 auf ein ausreichend steifes Trägermaterial aufgekittet oder an das Trägermaterial angesprengt werden,
  • Alternativ zur Verwendung eines aus einem Materialrohling herausgetrennten Oberteils 14 kann ein dünnes Oberteil 14 aus titandotiertem Quarzglas auch durch Ausfließen z.B. auf geschmolzenem Metall (Floatglass), Gießen über eine lange Abrisskante, Pressen und Sintern von Glas-Soot oder auf dem Umweg über einen Graukörper hergestellt werden. Diese Verfahren haben den Vorteil, dass das Oberteil 14 aus einer wenige Millimeter dicken Platte hergestellt wird, in der eine gute Homogenität bzgl. der Materialparameter erzielt werden kann und dass evtl. auf eine mechanische Bearbeitung verzichtet werden kann. Um mit einem Oberteil 14 aus einer derartigen Platte ein ähnliches thermisches Ausdehnungsverhalten wie beim Unterteil 13 erreichen zu können, sollte der OH-Gehalt der Platte um maximal 5 % und der Titangehalt der Platte um maximal 0,05 % vom jeweiligen Gehalt des Unterteils 13 abweichen. Bei sehr dünnen Platten, aus denen Oberteile 14 mit Dicken von weniger als 2 mm hergestellt werden, können diese Anforderungen noch etwas relaxiert werden.
  • Wenn das Unterteil 13 und das Oberteil 14 fertig bearbeitet sind, können Sie im Bereich ihrer Verbindungsflächen 15, 16 miteinander verbunden werden. Die Verbindung erfolgt in zwei Schritten: In einem ersten Schritt wird das Oberteil 14 an das Unterteil 13 angesprengt, d.h. dem Unterteil 13 so stark angenähert, dass es in Folge der Van-der-Waals-Kräfte zwischen den Atomen des Unterteils 13 und den Atomen des Oberteils 14 am Unterteil 13 haftet. In einem zweiten Schritt wird die Verbindung zwischen dem Oberteil und dem Unterteil mittels eines Bondprozesses verstärkt, durch den zwischen den Atomen des Unterteils 13 und den Atomen des Oberteils 14 kovalente Bindungen ausgebildet werden, so dass das Oberteil 14 und das Unterteil 13 dauerhaft sehr stark miteinander verbunden werden.
  • Vor dem Ansprengen werden das Unterteil 13 und das Oberteil 14 insbesondere im Bereich ihrer Verbindungsflächen 15, 16 gereinigt, aktiviert und getrocknet. Beispielsweise können die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 durch Ätzen z.B. mit Fluorsäure, durch Sputtern oder durch Plasmabehandlung, insbesondere mit Wasserstoff- oder Sauerstoffplasma, gleichzeitig gereinigt, abgetragen und aktiviert werden.
  • Zum Ansprengen an das Unterteil 13 wird die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 so stark angenähert, dass es infolge der Van-der-Waals-Kräfte zwischen den oberflächennahen Atomen des Oberteils 14 und den oberflächennahen Atomen des Unterteils 13 zu einer starken Anziehung kommt, welche letztendlich das Oberteil 14 und das Unterteil 13 miteinander verbindet. Da die Van-der-Waals-Kräfte nur über sehr kure Entfernungen wirken, ist es erforderlich, die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 einander sehr stark anzunähern. Dies ist innerhalb eines größeren Flächenbereichs nur dann möglich, wenn die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 sehr glatt sind, nahezu exakt die gleiche Form aufweisen und weitgehend frei von Verunreinigungen sind. Aus diesem Grund werden vor dem Ansprengen die vorstehend beschriebenen Vorbereitungen getroffen, um möglichst optimale Voraussetzungen für das Ansprengen zu schaffen.
  • Luft- oder andere Gaseinschlüsse zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 können die Annäherung der Verbindungsflächen 16, 15 behindern und sich auch bei der späteren Verwendung des Spiegels 12 negativ auswirken. Aus diesem Grund werden im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens Vorkehrungen getroffen, die beim Ansprengen des Oberteils 14 an das Unterteil 13 das Entweichen von Luft oder eines anderen Gases aus dem Zwischenraum zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 erleichtern und Gaseinschlüsse weitgehend verhindern.
  • Eine dieser Vorkehrungen besteht in der Art und Weise der Annäherung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13. Dies wird anhand von 5 näher erläutert.
  • 5 zeigt eine Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils 14 an das Unterteil 13 in einer schematischen Schnittdarstellung analog zu 4. Beim dargestellten Ausführungsbeispiel weisen die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 zumindest näherungsweise komplementäre Krümmungen auf. Wie aus 5 ersichtlich ist, wird die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 nicht in paralleler Ausrichtung vollflächig angenähert, sondern die Verbindungsflächen 15, 16 schließen bei der Annäherung einen Winkel miteinander ein und treffen zunächst lediglich im Bereich ihrer in 5 links dargestellter Randflächen aufeinander. Der Winkel ist in 5 unmaßstäblich groß dargestellt, um den Effekt sichtbar zu machen. Im Rahmen der Annäherung kommt es zunächst lediglich in einem kleinen Bereich der Verbindungsflächen 15, 16 zu einer Berührung zwischen dem Oberteil 14 und dem Unterteil 13, so dass zunächst lediglich eine vergleichsweise kleine Berührungsfläche 24 zwischen dem Oberteil 14 und dem Unterteil 13 ausgebildet wird. Innerhalb der Berührungsfläche 24 entfalten Van-der-Waals-Kräfte ihre anziehende Wirkung, so dass es im Bereich der Berührungsfläche 24 zu einem Ansprengen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 kommt.
  • Das Oberteil 14 wird dann sukzessive immer weiter zum Unterteil 13 hin geschwenkt und diesem dadurch angenähert, so dass sich die Berührungsfläche 24 vergrößert. Demgemäß vergrößert sich auch die Fläche, innerhalb der das Oberteil 14 an das Unterteil 13 angesprengt ist. Der linienförmig ausgebildete Übergang zwischen dem angesprengten Bereich der Verbindungsflächen 15, 16 und dem nicht angesprengten Bereich der Verbindungsflächen 15, 16 wird im Folgenden als Ansprengfront bezeichnet. In der Darstellung der 5 verläuft die Ansprengfront senkrecht zur Zeichenebene. Die gilt zumindest im Bereich der Durchdringung der Zeichenebene durch die Ansprengfront. Die Ansprengfront kann geradlinig oder leicht gekrümmt ausgebildet sein und bewegt sich mit zunehmender Annäherung des Oberteils 14 an das Unterteil 13 von links nach rechts, d. h. die Annäherung des Oberteils 14 an das Unterteil 13 schreitet sukzessive von links nach rechts fort. Die fortschreitende Annäherung wird im Folgenden auch als „Anrollen“ bezeichnet, so dass das Oberteil 14 in der Darstellung der 5 von links nach rechts an das Unterteil 13 angerollt wird. Die Richtung der Anrollbewegung ist in 5 durch einen Pfeil veranschaulicht und wird im Folgenden als Anrollrichtung 25 bezeichnet.
  • Durch das sukzessive Ansprengen mit einer stetig wandernden, linienartigen Ansprengfront wird das Gas sukzessive aus dem Zwischenraum zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 verdrängt und dadurch das Risiko von Gaseinschlüssen erheblich reduziert. Der Ansprengvorgang ist beendet, wenn die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 vollflächig an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angesprengt ist.
  • Bei Ausführungsbeispielen, bei denen die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 nicht rotationssymmetrisch ausgebildet sind, wird die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 vorzugsweise parallel zu einer Richtung an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angerollt, in der die Verbindungsflächen 15, 16 den größten Absolutbetrag des mittleren Krümmungsradius aufweisen.
  • Das Entweichen des Gases aus dem Zwischenraum zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 kann dadurch noch etwas erleichtert werden, dass die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 nicht exakt die gleiche Krümmung aufweisen. Dies wird anhand von 6 erläutert.
  • Wie aus 5 ersichtlich ist, verläuft die Anrollrichtung 25 parallel zur Längserstreckung der Kühlkanal-Öffnungen 19. Dies hat zur Folge, dass während des gesamten Ansprengvorgangs fortwährend eine Entlüftung über die Kühlkanäle 18 erfolgt und das Risiko von Gaseinschlüssen dadurch erheblich reduziert wird. Dies wird anhand von 7 noch näher erläutert. Ein weiterer positiver Effekt des Anrollens parallel zur Längserstreckung der Kühlkanal-Öffnungen 19 besteht darin, dass sich das Oberteil 14 während des Anrollens fortwährend auf das Unterteil 13 abstützen kann und die Ansprengfront sich kontinuierlich und ohne Sprünge, die durch querverlaufende Kühlkanal-Öffnungen 19 verursacht werden könnten, weiterbewegen kann. Dadurch können ein unkontrolliertes Ansprengen und etwaige davon verursachte Materialspannungen verhindert werden.
  • 6 zeigt ein Oberteil 14 und ein Unterteil 13 in einer schematischen Schnittdarstellung analog zu 4. Das Oberteil 14 ist in geringer Entfernung und in paralleler Orientierung zum Unterteil 13 dargestellt. Dies stellt allerdings keine Momentaufnahme während des Ansprengens dar, sondern dient der Veranschaulichung der Geometrie der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13. Gleichwohl sind das Oberteil 14 und das Unterteil 13 in der relativen azimutalen Drehorientierung zueinander dargestellt, die sie beim Ansprengen aufweisen und die Schnittebene der Darstellung verläuft parallel zur Anrollrichtung 25 während des Ansprengens.
  • Aus 6 ist ersichtlich, dass die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 gekrümmt, insbesondere konkav gekrümmt, ausgebildet ist. Die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 ist entgegengesetzt zur Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und somit konvex gekrümmt ausgebildet. Aus 6 geht weiter hervor, dass die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 in der Schnittebene der 6 und somit in einer Richtung parallel zur Anrollrichtung 25 eine stärkere Krümmung aufweist als die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13. Mit anderen Worten, die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 weist bzgl. der genannten Richtung einen mittleren Krümmungsradius mit einem kleineren Absolutbetrag auf als die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13. Der Unterschied der Krümmungen ist in 6 stark unmaßstäblich dargestellt, da er andernfalls nicht erkennbar wäre.
  • Die unterschiedliche Krümmung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 hat zur Folge, dass beim Anrollen des Oberteils 14 an das Unterteil 13 zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 jenseits der Ansprengfront fortwährend ein keilförmiger Spalt verbleibt, über den das Gas zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 entweichen kann. Eine derartige Konstellation liegt immer dann vor, wenn diejenige der Verbindungsflächen 15, 16, die konvex gekrümmt ist, einen mittleren Krümmungsradius mit einem kleineren Absolutbetrag aufweist als diejenige der Verbindungsflächen 15. 16, die konkav gekrümmt ist.
  • 7 zeigt eine Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils 14 an das Unterteil 13 in einer schematischen Aufsicht. Anders als bei 5 ist in 7 die Lage der optischen Fläche 17 eingezeichnet, obwohl die optische Fläche 17 in der Regel erst nach dem Ansprengen ausgebildet wird. Die in der Aufsicht rechteckige Ausbildung des Unterteils 13, des Oberteils 14 und der optischen Fläche 17 wurde beispielhaft gewählt, da sich damit eine großflächige Abdeckung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 mit Kühlkanälen 18, d. h. eine Verteilung der Kühlkanäle 18 über nahezu den gesamten lateralen Bereich der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14, sehr anschaulich darstellen lässt. Die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14, ist zwar in 7 nicht direkt sichtbar. Allerdings ist in 7 das Oberteil 14 gezeigt, das die Verbindungsfläche 16 trägt und dessen Außenkontur beim dargestellten Ausführungsbeispiel mit der Berandung der Verbindungsfläche 16 übereinstimmt. Die tatsächlichen Formen des Unterteils 13, des Oberteils 14 und der optischen Fläche 17 können jeweils von der Darstellung der 7 abweichen und sich beispielsweise nach den optischen und mechanischen Gegebenheiten, dem verfügbaren Bauraum usw. richten.
  • Die Anrollrichtung 25 verläuft in der Darstellung der 7 von links nach rechts. In 7 wird der linke Rand der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 zunächst dem in 7 links dargestellten Rand der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angenähert, bis sich die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 berühren. Dann wird die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 von links nach rechts an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angerollt und dadurch sukzessive angesprengt, d. h. die Ansprengfront verläuft in der Darstellung der 7 von links nach rechts. Wie aus 7 weiter ersichtlich ist, verlaufen die Kühlkanäle 18, die im Oberteil 14 angeordnet und zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 offen ausgebildet sind und insbesondere die Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen 19 parallel zur Anrollrichtung 25.
  • Das Ansprengen des Oberteils 14 an das Unterteil 13 mit einer Anrollrichtung 25 parallel zur Längserstreckung der Kühlkanal- Öffnungen 19 erleichtert das Entweichen des Gases aus dem Zwischenraum zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 erheblich, da durch die Kühlkanal-Öffnungen 19 eine zusätzliche Entlüftungsmöglichkeit besteht, die das Risiko von Gaseinschlüssen reduziert. Dieser Effekt ist besonders stark ausgeprägt, wenn sich die Kühlkanäle 18, wie beim Ausführungsbeispiel der 7, über nahezu den gesamten lateralen Bereich der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 erstrecken. Selbst wenn es durch eine nicht perfekt sequentielle Ansprengung temporär zu einem Gaseinschluss kommen sollte, bestehen gute Chancen, dass wenigstens eine der Kühlkanal-Öffnungen 19 wenigstens partiell im Bereich des Gaseinschlusses angeordnet ist, so dass das eingeschlossene Gas über die Kühlkanal-Öffnung 19 entweichen kann. Um diese Entlüftung möglichst effizient zu gestalten, beträgt der lichte Abstand der Kühlkanal-Öffnungen 19 nicht mehr als 15 mm, vorzugsweise nicht mehr als 5 mm.
  • 8 zeigt eine weitere Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils 14 an das Unterteil 13 in einer 7 entsprechenden Darstellung. Die Momentaufnahme gemäß 8 unterscheidet sich von der Momentaufnahme gemäß 7 durch eine andersartige Ausbildung des Oberteils 14 und des Unterteils 13. Das in 7 dargestellte Oberteil 14 besitzt eine in der Aufsicht rechteckige Form und weist parallel zueinander verlaufende Kühlkanäle 18 und Kühlkanal-Öffnungen 19 auf. Die Kühl-Infrastruktur des Unterteils 13 ist an diese Geometrie angepasst. Demgegenüber besitzt das in 8 dargestellte Oberteil 14 in der Aufsicht eine kreisförmige Außenkontur und weist von der lateralen Position des Zentrums des für die optische Fläche 17 vorgesehenen Bereichs radial nach außen verlaufende Kühlkanäle 18 und Kühlkanal-Öffnungen 19 auf. Die Kühl-Infrastruktur des Unterteils 13 ist wiederum an diese Geometrie angepasst. Zur leichteren Orientierung sind die Umrisse der optischen Fläche 17 eingezeichnet, obwohl die optische Fläche 17 erst zu einem späteren Zeitpunkt ausgebildet wird.
  • Gemäß 8 wird im Rahmen des Ansprengvorgangs die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 zunächst im lateralen Bereich des Zentrums der optischen Fläche 17 angenähert bis es dort zu einer Berührung kommt und die Berührungsfläche 24 ausgebildet wird. Um ein unkontrolliertes Ansprengen zu verhindern, kann die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 eine stärkere Krümmung als die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 aufweisen. Demgemäß ist die Berührungsfläche 24 zunächst auf das Zentrum und dessen unmittelbare Umgebung begrenzt. Wegen der unterschiedlichen Krümmungen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 nimmt der Abstand zwischen den Verbindungsflächen 15, 16 mit zunehmender Entfernung vom Zentrum zu, so das es dort noch nicht zu einem Ansprengen kommt.
  • Anschließend wird die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 in vom Zentrum sukzessive radial nach außen fortschreitenden Bereichen gegen die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 gepresst, so dass die Berührungsfläche 24 radial nach außen wächst und dadurch die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 in einem konzentrisch zunehmenden Gebiet an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angesprengt wird, bis letztendlich eine vollflächige Ansprengung erreicht ist. Dabei kommt es zu einer vom Zentrum radial nach außen wandernden Ansprengfront. Dies ist durch die Pfeile für die Anrollrichtung 25 angedeutet. Da sich die Ansprengfront parallel zu den Kühlkanälen 18 und insbesondere zu den Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen 19 bewegt, kann das Gas leicht aus dem Bereich zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 entweichen, so dass Gaseinschlüsse vermieden werden können.
  • In der Regel sind die Kühlkanäle 18 und die Kühlkanal-Öffnungen 19 nur innerhalb eines Bereichs im Oberteil 14 oder Unterteil 13 angeordnet, der im fertigen Spiegel 12 lateral innerhalb der optischen Fläche 17 angeordnet ist, wobei ein geringfügiger Überlauf, d. h. eine geringfügige Erstreckung auch außerhalb dieses Bereichs, möglich ist. Somit können lateral außerhalb des Bereichs der optischen Fläche 17 Gebiete auf der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 verbleiben, aus denen das Gas weniger gut entweichen kann und die demgemäß ein höheres Risiko für Gaseinschlüsse darstellen. Ein solches Gebiet ist in 8 der Ringraum radial zwischen der Außenkontur der optischen Fläche 17 und der Außenkontur des Oberteils 14. Das Risiko des Gaseinschlusses innerhalb dieses Ringraums oder in sonstigen Gebieten ohne Kühlkanal-Öffnungen 19 kann durch eine weitere Vorkehrung reduziert werden, die anhand von 9 beschrieben wird.
  • 9 zeigt eine weitere Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils 14 an das Unterteil 13 in einer 7 entsprechenden Darstellung. Zur leichteren Orientierung sind die Umrisse der optischen Fläche 17 eingezeichnet, obwohl die optische Fläche 17 erst zu einem späteren Zeitpunkt ausgebildet wird. Die Momentaufnahme gemäß 9 zeigt ein Oberteil 14 mit einer rechteckigen Außenkontur und unterscheidet sich von der Momentaufnahme gemäß 7 dadurch, dass die optische Fläche 17 deutlich kleinere laterale Abmessungen als das Oberteil 14 und dass das Oberteil 14 zusätzlich zu den Kühlkanälen 18 Hilfskanäle 26 aufweist.
  • Da sich die Kühlkanäle 18 lediglich innerhalb des lateralen Bereichs der optischen Fläche 17 erstrecken, verbleibt im Zwischenraum zwischen der optischen Fläche 17 und der Außenkontur des Oberteils 14 ein Bereich ohne Kühlkanäle18 und ohne Kühlkanal-Öffnungen 19. In diesem Bereich sind die Hilfskanäle 26 angeordnet. Die Hilfskanäle 26 sind vollständig oder überwiegend lateral außerhalb des für die optische Fläche 17 vorgesehenen Bereichs im Oberteil 14 angeordnet und zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 hin offen, so dass in der Verbindungsfläche 16 langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen 27 ausgebildet sind. Die Richtung der Längserstreckung der Hilfskanal-Öffnungen 27 entspricht der Richtung der Längserstreckung der Kühlkanal-Öffnungen 19 und verläuft parallel zur Anrollrichtung 25. Die lichten Abstände zwischen den Hilfskanal-Öffnungen 27 sind maximal so groß wie die lichten Abstände zwischen den Kühlkanal-Öffnungen 19. Die Hilfskanäle 26 erfüllen beim Ansprengen die gleiche Funktion wie die Kühlkanäle 18, nämlich den Abtransport des Gases zwischen der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 und der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 zu erleichtern und einen Gaseinschluss zu verhindern. Demgemäß werden möglichst alle Bereiche der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14, die keine Kühlkanäle 18 aufweisen, mit Hilfskanälen 26 belegt.
  • Die Hilfskanäle 26 können auf ähnliche Weise hergestellt werden wie die Kühlkanäle 18 und sind getrennt von den Kühlkanälen 18 ausgebildet und mit den Kühlkanälen 18 nicht fluidisch verbunden. Die Hilfskanäle 26 sind fluidisch mit der Umgebung verbunden. Dies kann beispielsweise dadurch erreicht werden, dass die Hilfskanäle 26 zu den Seitenflächen des Oberteils 14 hin offen ausgebildet sind oder über Bohrungen im Unterteil 13, die in die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 münden und sich vollständig durch das Unterteil 13 hindurch erstrecken, entlüftet werden. Vor dem Einbau des Spiegels 12 in ein Lithographiesystem werden die Hilfskanäle 26 sorgfältig gereinigt, beispielsweise durch Ätzen und mehrfaches Spülen.
  • Alternativ zur Ausbildung einer fluidischen Verbindung mit der Umgebung besteht auch die Möglichkeit, die Hilfskanäle 26 zu verschließen. Bei einer Variante werden die Hilfskanäle 26 durch eine flexible Membran verschlossen, die einen gewissen Druckausgleich mit der Umgebung erlaubt. Bei einer weiteren Variante werden die Hilfskanäle 26 mit einem Fluid gefüllt und derart verschlossen, dass die Möglichkeit besteht, in den Hilfskanälen 26 einen gewünschten Fluiddruck zu erzeugen und auf diese Weise einen druckgesteuerten Manipulator zu realisieren. Ebenso kann das Fluid zur zusätzlichen Kühlung oder zur Heizung des Spiegels 12 verwendet werden. Zudem ist es möglich, in die Hilfskanäle 26 einen Heizdraht zum Heizen des Spiegels 12 einzubringen.
  • Der Ansprengvorgang wird durch eine Annäherung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 in der Nähe ihrer in 9 links dargestellten Randflächen gestartet und durch eine von links nach rechts verlaufende Anrollbewegung fortgesetzt bis die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 vollständig an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angesprengt ist. Dabei wird die Entlüftung des Bereichs zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 zunächst durch die Hilfskanal-Öffnungen 27, dann durch die Kühlkanal-Öffnungen 19 und die Hilfskanal-Öffnungen 27 und schließlich wieder durch die Hilfskanal-Öffnungen 27 gefördert. Im Übrigen gilt das zu den 7 und 8 Ausgeführte in analoger Weise.
  • 10 zeigt eine weitere Momentaufnahme während des Ansprengens des Oberteils 14 an das Unterteil 13 in einer 7 entsprechenden Darstellung. Zur leichteren Orientierung sind die Umrisse der optischen Fläche 17 eingezeichnet, obwohl die optische Fläche 17 erst zu einem späteren Zeitpunkt ausgebildet wird. Die Momentaufnahme gemäß 10 zeigt ein Oberteil 14 mit einer kreisförmigen Außenkontur und unterscheidet sich von der Momentaufnahme gemäß 8 dadurch, dass das Oberteil 14 zusätzlich zu den Kühlkanälen 18 die Hilfskanäle 26 aufweist. Die Hilfskanäle 26 sind lateral außerhalb des für die optische Fläche 17 vorgesehenen Bereichs im Oberteil 14 angeordnet und zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 hin offen, so dass in der Verbindungsfläche 16 langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen 27 ausgebildet sind. Die Richtung der Längserstreckung der Hilfskanal-Öffnungen 27 verläuft analog zur Richtung der Längserstreckung der Kühlkanal-Öffnungen 19 radial nach außen und somit parallel zur Anrollrichtung 25.
  • Der Ansprengvorgang wird durch eine Annäherung der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 lateral im Zentrum des Bereichs der optischen Fläche 17 gestartet und durch eine radial nach außen gerichtete Anrollbewegung fortgesetzt bis die Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 vollständig an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 angesprengt ist. Dabei wird die Entlüftung des Bereichs zwischen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 zunächst durch die Kühlkanal-Öffnungen 19 und danach durch die Hilfskanal-Öffnungen 27 gefördert. Im Übrigen gilt das zu den 7, 8 und 9 Ausgeführte in analoger Weise.
  • Die vorstehenden Erläuterungen beziehen sich jeweils auf Ausführungsbeispiele, bei denen die Kühlkanäle 18 und ggf. die Hilfskanäle 26 im Oberteil 14 angeordnet und zur Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 offen ausgebildet sind. Bei Ausführungsbeispielen, bei denen die Kühlkanäle 18 und ggf. die Hilfskanäle 26 im Unterteil 13 angeordnet und zur Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 offen ausgebildet sind, kann unter Berücksichtigung dieses Unterschieds sinngemäß in analoger Weise vorgegangen werden.
  • Die vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele können jeweils dahingehend abgewandelt werden, dass im Oberteil 14 zumindest temporär Kanäle vorgesehen werden, die quer zur Abrollrichtung 25 verlaufen. Durch diese Kanäle wird die Flexibilität des Oberteils 14 erhöht und das Anschmiegen der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 an die Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 erleichtert. Falls diese Kanäle zu der von der Verbindungsfläche 16 abgewandten Seite des Oberteils 14 hin offen ausgebildet sind, können die Kanäle vor Ausbildung der optischen Fläche 17 durch einen Materialabtrag eingeebnet werden.
  • Bei allen Ausführungsvarianten kann nach dem Ansprengen des Oberteils 14 an das Unterteil 13 das erzeugte Zwischenprodukt einem Bondprozess zugeführt werden. Im Rahmen des Bondprozesses wird das Zwischenprodukt einer Wärmebehandlung unterzogen, wobei das Oberteil 14 und das Unterteil 13 optional gegeneinander gepresst werden können. Dadurch werden zwischen Atomen im Bereich der Verbindungsfläche 16 des Oberteils 14 und der Verbindungsfläche 15 des Unterteils 13 kovalente Bindungen ausgebildet, ggf. zusätzlich zu bereits vorhandenen kovalenten Bindungen. Dies hat eine erhöhte Haltbarkeit der Verbindung zwischen dem Oberteil 14 und dem Unterteil 13 zur Folge.
  • Im Anschluss an den Bondprozess kann das Oberteil 14 auf eine Dicke oberhalb der Kühlkanäle 18 von 1 bis 10 mm abgearbeitet werden.
  • Nach dem Bearbeitungsschritt der Dickenreduzierung des Oberteils 14 oder anstelle dieses Bearbeitungsschritts wird das Oberteil 14 so nachbearbeitet, dass es auf seiner von der Verbindungsfläche 16 abgewandten Seite, auf der die optische Fläche 17 ausgebildet werden soll, mit hoher Präzision eine vorgegebene Form aufweist und vorgegebene Rauheitskriterien erfüllt. Dann wird dort die optische Fläche 17 ausgebildet. Dies kann beispielsweise durch Aufbringen einer Aluminiumschicht oder alternierendes Aufbringen von Schichten aus Molybdän und Silizium geschehen.
  • Bezugszeichenliste
    • 1
    Beleuchtungssystem
    2
    Projektionsobjektiv
    3
    Kühleinrichtung
    4
    Lichtquelle
    5
    Reticlestage
    6
    Maske
    7
    Antrieb
    8
    Substratstage
    9
    Substrat
    10
    Antrieb
    11
    Steuereinrichtung
    12
    Spiegel
    13
    Unterteil
    14
    Oberteil
    15
    Verbindungsfläche
    16
    Verbindungsfläche
    17
    Optische Fläche
    18
    Kühlkanal
    19
    Kühlkanal-Öffnung
    20
    Verteilerkanäle
    21
    Sammlerkanäle
    22
    Fluidverteiler
    23
    Fluidsammler
    24
    Berührungsfläche
    25
    Anrollrichtung
    26
    Hilfskanal
    27
    Hilfskanal-Öffnung
    M
    Spiegel
    M1
    Spiegel
    M2
    Spiegel
    M3
    Spiegel
    M4
    Spiegel
    M5
    Spiegel
    M6
    Spiegel
    M7
    Spiegel
    M8
    Spiegel
    M9
    Spiegel
    M10
    Spiegel
    M11
    Spiegel
    M12
    Spiegel
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102020208648 [0006]

Claims (15)

  1. Verfahren zum Herstellen eines Spiegels (12) eines Lithographiesystems, wobei - ein erstes Spiegelteil (13) und ein zweites Spiegelteil (14) bereitgestellt werden, wobei im ersten Spiegelteil (13) Kühlkanäle (18) ausgebildet sind, die im Bereich einer ersten Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen (19) aufweisen und/oder im zweiten Spiegelteil (14) Kühlkanäle (18) ausgebildet sind, die im Bereich einer zweiten Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) langgestreckte Kühlkanal-Öffnungen (19) aufweisen und - das erste Spiegelteil (13) und das zweite Spiegelteil (14) einander derart angenähert werden, dass sich zunächst ein Teilbereich der ersten Verbindungsfläche (15) und ein Teilbereich der zweiten Verbindungsfläche (16) berühren und eine gemeinsame Berührungsfläche (24) ausbilden und durch ein Fortsetzen der Annäherung des ersten Spiegelteils (13) und des zweiten Spiegelteils (14) in einer Richtung (25) entlang der Längserstreckungen der Kühlkanal-Öffnungen (19) die gemeinsame Berührungsfläche (24) vergrößert wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Kühlkanal-Öffnungen (19) parallel zueinander verlaufen.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Kühlkanal-Öffnungen (19) jeweils in einer Richtung von einem zentralen Ort der ersten Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) und/oder der zweiten Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) radial nach außen verlaufen.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der lichte Abstand zwischen benachbarten Kühlkanal-Öffnungen (19) nicht mehr als 15 mm beträgt.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei im ersten Spiegelteil (13) Hilfskanäle (26) ausgebildet sind, die im Bereich der ersten Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen (27) aufweisen und/oder im zweiten Spiegelteil (14) Hilfskanäle (26) ausgebildet sind, die im Bereich der zweiten Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) langgestreckte Hilfskanal-Öffnungen (27) aufweisen.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die erste Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) und/oder die zweite Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) eine Krümmung aufweist.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei die Krümmung der ersten Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) so ausgebildet ist, dass sie unterschiedliche mittlere Krümmungsradien aufweist und nicht rotationssymmetrisch ist und/oder die Krümmung der zweiten Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14)) so ausgebildet ist, dass sie unterschiedliche mittlere Krümmungsradien aufweist und nicht rotationssymmetrisch ist.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei die Annäherung des ersten Spiegelteils (13) und des zweiten Spiegelteils (14) entlang einer Richtung (25) fortgesetzt wird, in der die erste Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) und/oder die zweite Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) den kleinsten Absolutbetrag des mittleren Krümmungsradius aufweist.
  9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei auf einer zur zweiten Verbindungsfläche (16) entgegengesetzten Fläche des zweiten Spiegelteils (14) ein Bereich für eine Ausbildung einer optischen Fläche (17) vorgesehen ist.
  10. Spiegel eines Lithographiesystems, mit - einem ersten Spiegelteil (13), - einem zweiten Spiegelteil (14), - einer optischen Fläche (17) zur Reflexion von Licht, - mehreren Kühlkanälen (18) und - mehreren Hilfskanälen (26), wobei - das erste Spiegelteil (13) und das zweite Spiegelteil (14) im Bereich einer ersten Verbindungsfläche (15) des ersten Spiegelteils (13) und einer zweiten Verbindungsfläche (16) des zweiten Spiegelteils (14) starr miteinander verbunden sind, - die Kühlkanäle (18) im Bereich der ersten Verbindungsfläche (15) oder der zweiten Verbindungsfläche (16) langestreckte Kühlkanal-Öffnungen (19) aufweisen, - die Hilfskanäle (26) im Bereich der ersten Verbindungsfläche (15) oder der zweiten Verbindungsfläche (16) langestreckte Hilfskanal-Öffnungen (27) aufweisen.
  11. Spiegel nach Anspruch 10, wobei wenigstens einige der Kühlkanal-Öffnungen (19) jeweils mit dem größten Teil ihrer Längserstreckung innerhalb des lateralen Bereichs der optischen Fläche (17) liegen und wenigstens einige der Hilfskanal-Öffnungen (27) jeweils mit dem größten Teil ihrer Längserstreckung außerhalb des lateralen Bereichs der optischen Fläche (17) liegen.
  12. Spiegel nach einem der Ansprüche 10 oder 11, wobei die Kühlkanäle (18) und die Hilfskanäle (26) voneinander fluidische getrennt sind.
  13. Beleuchtungssystem mit einem Spiegel (12) nach einem der Ansprüche 10 bis 12.
  14. Projektionsobjektiv mit einem Spiegel (12) nach einem der Ansprüche 10 bis 12.
  15. Lithographiesystem mit einem Beleuchtungssystem (1) gemäß Anspruch 13 und/oder einem Projektionsobjektiv (2) gemäß Anspruch 14.
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