DE102021127767A1 - Apparatus and method for aligning the position of an optical grating in a short pulse laser system, and short pulse laser system - Google Patents
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters (2) in einem Kurzpulslasersystem, bevorzugt einem Ultrakurzpulslasersystem, umfassend eine Abstützeinheit (3) zum Abstützen gegen die Umgebung und eine um eine vertikale Drehachse (4) relativ zur Abstützeinheit (3) drehbar gelagerte, bevorzugt gleitgelagerte, Aufnahmeeinheit (5) zum Aufnehmen eines optischen Gitters (2), wobei die Vorrichtung (1) vorzugsweise eine abnehmbare Justiervorrichtung (16) zum Einstellen einer Winkelposition der Aufnahmeeinheit (5) relativ zur Abstützeinheit (3) um die vertikale Achse (4) umfasst; ferner betrifft die Erfindung ein Kurzpulslasersystem und ein Verfahren zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters (2) in einem Kurzpulslasersystem.The present invention relates to a device (1) for aligning the position of an optical grating (2) in a short-pulse laser system, preferably an ultra-short-pulse laser system, comprising a support unit (3) for support against the environment and an axis of rotation (4) about a vertical axis relative to the support unit (3) rotatably mounted, preferably slide-mounted, receiving unit (5) for receiving an optical grating (2), the device (1) preferably having a removable adjusting device (16) for adjusting an angular position of the receiving unit (5) relative to the support unit (3) about the vertical axis (4); the invention also relates to a short-pulse laser system and a method for aligning the position of an optical grating (2) in a short-pulse laser system.
Description
Technisches Gebiettechnical field
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem, beispielsweise einem Ultrakurzpulslasersystem, sowie ein Kurzpulslasersystem, beispielsweise ein Ultrakurzpulslasersystem.The present invention relates to a device and a method for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system, for example an ultra-short-pulse laser system, and a short-pulse laser system, for example an ultra-short-pulse laser system.
Stand der TechnikState of the art
Es ist bekannt, Kurzpulslasersysteme und Ultrakurzpulslasersysteme in verschiedenen Industriebereichen und in der Forschung einzusetzen, so etwa in der Mikrobearbeitung. Kurzpulslaser und Ultrakurzpulslaser eignen sich beispielsweise für eine Vielzahl von Arten der Materialbearbeitung, so etwa zum Bohren, Abtragen, Schneiden oder dem Einbringen von Strukturen.It is known to use short-pulse laser systems and ultra-short-pulse laser systems in various industrial areas and in research, such as in micromachining. Short-pulse lasers and ultra-short-pulse lasers are suitable, for example, for a large number of types of material processing, such as drilling, ablation, cutting or the introduction of structures.
Kurzpulslaser und Ultrakurzpulslaser finden ferner Einsatz in der Medizintechnik, beispielsweise in der Ophthalmologie, unter anderem in der refraktiven Chirurgie, etwa bei in-situ Operationen zur Korrektur von Fehlsichtigkeit.Short-pulse lasers and ultra-short-pulse lasers are also used in medical technology, for example in ophthalmology, including in refractive surgery, for example in in-situ operations to correct ametropia.
Aufgrund der hohen möglichen Leistung der Laserpulse können Kurzpulslaser und Ultrakurzpulslaser weiterhin im Bereich der Multiphotonen-Spektroskopie Anwendung finden.Due to the high possible power of the laser pulses, short-pulse lasers and ultra-short-pulse lasers can continue to be used in the field of multiphoton spectroscopy.
Auch kann Terahertz-Strahlung, mithin Licht mit Wellenlängen zwischen dem infraroten Bereich und im Bereich von Millimetern, mittels des Einsatzes von Ultrakurzpulslasern erzeugt werden, basierend auf einer Absorption von Pulsen mit einer Pulslänge im Femtosekundenbereich in speziellen Halbleitern.Terahertz radiation, i.e. light with wavelengths between the infrared range and in the millimeter range, can also be generated using ultrashort pulse lasers, based on the absorption of pulses with a pulse length in the femtosecond range in special semiconductors.
Unter Kurzpulslasern versteht man gepulste Laser mit einer Pulsdauer im Nanosekundenbereich. Ultrakurzpulslaser als Unterbereich der Kurzpulslaser werden als Laserstrahlquellen verstanden, die gepulstes Laserlicht mit einer Pulsdauer im Bereich von Pikosekunden und Femtosekunden aussenden, sogenannte Pikosekundenlaser und Femtosekundenlaser.Short-pulse lasers are pulsed lasers with a pulse duration in the nanosecond range. Ultra-short-pulse lasers as a sub-area of short-pulse lasers are understood to be laser beam sources that emit pulsed laser light with a pulse duration in the picosecond and femtosecond range, so-called picosecond lasers and femtosecond lasers.
Die extrem kurzen Laserpulse ermöglichen eine Bearbeitung beziehungsweise Beeinflussung von Materialen, ohne dass unbeabsichtigte beziehungsweise ungewollte thermische Einflüsse störend auf den Prozess einwirken beziehungsweise diese thermischen Einflüsse können zumindest gegenüber Dauerstrichlasern oder mit längeren Pulsen operierenden Lasern reduziert werden.The extremely short laser pulses enable materials to be processed or influenced without unintentional or undesired thermal influences having a disruptive effect on the process or these thermal influences can at least be reduced compared to continuous wave lasers or lasers operating with longer pulses.
Insbesondere hinsichtlich der Ultrakurzpulslaser, mithin der Pikosekundenlaser und Femtosekundenlaser, ist bereits bei vergleichsweise moderaten mittleren Leistungen eine quasi kalte Bearbeitung von Werkstücken möglich, im Wesentlichen ohne dabei einen störenden Wärmeeintrag in das Material des Werkstücks zu erhalten. Dies basiert auf dem Umstand, dass Wärmeeinleitung und Wärmeleitung einer gewissen Trägheit unterliegen, welche im Wesentlichen das Zeitfenster der kurzen Laserpulse übersteigt. Entsprechend treffen die Laserpulse nicht lange genug auf das zu bearbeitende Werkstück, um eine signifikante Wärmeleitung zu ermöglichen. Das bearbeitete Material kann somit im Vergleich zu alternativen Bearbeitungsverfahren besonders schonend bearbeitet werden. So können insbesondere sich durch Wärmeeintrag negativ verändernde Materialeigenschaften vermieden werden, beispielsweise einer Reduzierung der Korrosionsbeständigkeit bei Edelstählen, da die passivierenden Chromschichten nicht durch einen zu großen Wärmeeintrag zerstört werden.In particular with regard to the ultra-short pulse lasers, i.e. the picosecond lasers and femtosecond lasers, a quasi-cold processing of workpieces is already possible at comparatively moderate average power levels, essentially without receiving a disruptive heat input into the material of the workpiece. This is based on the fact that heat input and heat conduction are subject to a certain inertia, which essentially exceeds the time window of the short laser pulses. Accordingly, the laser pulses do not hit the workpiece to be processed long enough to enable significant heat conduction. The processed material can therefore be processed particularly gently in comparison to alternative processing methods. In particular, material properties that change negatively as a result of heat input can be avoided, for example a reduction in the corrosion resistance of stainless steels, since the passivating chromium layers are not destroyed by excessive heat input.
Ein besonderer Vorteil der Ultrakurzpulslaser sind deren vergleichsweise sehr hohen Pulsspitzenleistungen. Durch diese ist beim bearbeiteten Material ein plötzlicher, direkter Phasenübergang von fest in gasförmig ermöglicht, sodass die flüssige Phase im Wesentlichen „übersprungen“ werden kann. Die Vermeidung des Schmelzens des bearbeiteten Materials erlaubt ein qualitativ hochwertiges Bearbeitungsergebnis.A particular advantage of ultrashort pulse lasers is their comparatively very high pulse peak power. This enables a sudden, direct phase transition from solid to gaseous in the processed material, so that the liquid phase can essentially be “skipped”. Avoiding the melting of the processed material allows for a high-quality processing result.
Systeme zur Bereitstellung von Ultrakurzpulslasern mit hoher Leistung können eine gechirpte Pulsverstärkung aufweisen. Hierbei wird ein Femtosekundenpuls in einen Nanosekundenpuls transformiert und danach optisch verstärkt. Der gestreckte, verstärkte Puls wird anschließend mittels einer Kompressoreinheit in einen Femtosekundenpuls oder Pikosekundenpuls komprimiert. Als Kompressoreinheit kommt in der Regel ein optisches Gitter zum Einsatz.Systems for providing high power ultrafast lasers may exhibit chirped pulse gain. Here, a femtosecond pulse is transformed into a nanosecond pulse and then optically amplified. The stretched, amplified pulse is then compressed into a femtosecond pulse or picosecond pulse using a compressor unit. An optical grating is usually used as the compressor unit.
Hierbei ist der Abstand des optischen Gitters zu benachbarten optischen Komponenten des Lasersystems, beispielsweise reflektierenden Spiegeln, und insbesondere die Winkelausrichtung des optischen Gitters in Bezug auf die Richtung des auf das optische Gitter einfallende Licht und des vom optischen Gitter abgehende, durch das Gitter gebeugte beziehungsweise reflektierte Licht sehr exakt einzustellen, um die gewünschte Pulsdauer zu erhalten.Here, the distance between the optical grating and adjacent optical components of the laser system, for example reflecting mirrors, and in particular the angular orientation of the optical grating in relation to the direction of the light incident on the optical grating and the light emitted by the optical grating, which is diffracted or reflected by the grating Adjust the light very precisely in order to obtain the desired pulse duration.
Außerdem muss das Gitter lagestabil und winkelstabil im Lasersystem gehalten werden. Für die Ausrichtung des optischen Gitters muss dieses mithin in drei geometrischen Achsen verstellbar sein. In der Regel muss ein optisches Gitter in einem Lasersystem um eine vertikale Achse drehbar beziehungsweise schwenkbar ausgebildet sein, um einen für die Komprimierung erforderlichen Arbeitswinkel zwischen der einfallenden Strahlung und der der eintreffenden Strahlung zugewandten Oberfläche des Gitters einzustellen. Das optische Gitter ist ferner um eine erste horizontale Achse schwenkbar, durch welche eine Neigung des optischen Gitters, mithin ein Winkel zwischen der dem eintreffenden Licht zugewandten Oberfläche des Gitters und der Vertikalen, einstellbar ist und fernerhin um eine zweite horizontale Achse schwenkbar, durch welche ein Kippen des optischen Gitters ermöglicht ist. Der erforderliche Betrag der Verstellbarkeit um die horizontalen Achsen ist dabei um ein Vielfaches kleiner als der erforderliche Mindestschwenkbereich um die vertikale Achse. So kann es ausreichend sein, ein Neigen und Kippen um die beiden horizontalen Achsen von jeweils einigen Grad bereitzustellen. Für ein korrektes Einstellen des Lasersystems muss das optische Gitter jedoch zuerst in Richtung der einfallenden Strahlung orientiert werden, wobei als „Richtung“ der Orientierung Bezug genommen wird auf eine orthogonal zum optischen Gitter beziehungsweise zu dessen dem einfallenden Licht zugewandten Oberfläche orientierte geometrische Gitterachse. Anschließend ist das optische Gitter auf den Arbeitswinkel relativ zum einfallenden Licht einzustellen. Dieser kann je nach Lasersystem und Gitter beispielsweise im Bereich zwischen 50° bis 70° liegen.In addition, the grating must be held in a stable position and at a stable angle in the laser system. In order to align the optical grating, it must therefore be adjustable in three geometric axes. As a rule, an optical grating must be in be designed to be rotatable or pivotable about a vertical axis in a laser system in order to set a working angle required for the compression between the incident radiation and the surface of the grating facing the incident radiation. The optical grating can also be pivoted about a first horizontal axis, through which an inclination of the optical grating, thus an angle between the surface of the grating facing the incident light and the vertical, can be adjusted and furthermore pivoted about a second horizontal axis, through which a Tilting of the optical grating is enabled. The required amount of adjustability about the horizontal axis is many times smaller than the required minimum pivoting range about the vertical axis. Thus, it may be sufficient to provide tilt and tilt about the two horizontal axes of a few degrees each. In order to set the laser system correctly, however, the optical grating must first be oriented in the direction of the incident radiation, whereby the "direction" of the orientation refers to a geometric grating axis oriented orthogonally to the optical grating or to its surface facing the incident light. The optical grating is then adjusted to the working angle relative to the incident light. Depending on the laser system and grating, this can be in the range between 50° and 70°, for example.
Aus der
Insbesondere bei Lasersystemen für kurze Pulse und hohe Leistungen können die Gitterkomponenten des optischen Gitters groß ausfallen, so dass das optische Gitter entsprechend große Abmaße aufweist. So kann das optische Gitter eine Breite und/oder eine Höhe bis in den Meterbereich erreichen.The grating components of the optical grating can turn out to be large, particularly in the case of laser systems for short pulses and high powers, so that the optical grating has correspondingly large dimensions. In this way, the optical lattice can reach a width and/or a height in the meter range.
Die vorgenannte Ausrichtung des optischen Gitters muss stabil und mit einer hohen Steifigkeit ausgeführt sein, damit es nach dem Ausrichten, beispielsweise während eines Transports oder während des Betriebs, nicht zu einer ungewollten Verstellung der Orientierung des optischen Gitters kommt.The aforesaid alignment of the optical grating must be stable and executed with a high level of rigidity, so that after the alignment, for example during transport or during operation, there is no unwanted shift in the orientation of the optical grating.
Um eine stabile einstellbare Positionierung des optischen Gitters bereitzustellen, ist es bekannt, die horizontalen Schwenkachsen durch übereinander angeordnete, aneinander befestigte Bauteile mit jeweils einem Gelenk zur Bereitstellung einer horizontalen Drehachse bereitzustellen. Alternativ kann auch ein Bauteil zur Bereitstellung beider horizontalen Achsen vorgesehen sein. Ein einteiliges Bauteil zur Bereitstellung zweier geometrischer Achsen mit jeweils einer maximalen Verstellbarkeit von einigen Grad ist beispielsweise der
Diese die beiden horizontalen Achsen bereitstellende Baugruppe wird in der Regel auf einen großen, externen Rotationstisch gesetzt, welcher gesondert die Rotation um die vertikale Achse bereitstellt.This assembly, which provides the two horizontal axes, is usually placed on a large, external rotation table, which separately provides the rotation around the vertical axis.
Derartige externe Rotationstische sind vergleichsweise groß, sie vergrößern mithin die Abmaße des Lasersystems. Ferner sind derartige externe Rotationstische teuer, so dass auch die Bereitstellungskosten für das Lasersystem dadurch in die Höhe getrieben wird.External rotary tables of this type are comparatively large, which means that they increase the dimensions of the laser system. Furthermore, external rotary tables of this type are expensive, so that the cost of providing the laser system is also pushed up as a result.
Darstellung der ErfindungPresentation of the invention
Ausgehend von dem bekannten Stand der Technik ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine verbesserte Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem, bevorzugt einem Ultrakurzpulslasersystem, sowie ein entsprechendes Verfahren bereitzustellen.Proceeding from the known prior art, it is an object of the present invention to provide an improved device for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system, preferably an ultra-short-pulse laser system, and a corresponding method.
Die Aufgabe wird durch eine Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem, bevorzugt einem Ultrakurzpulslasersystem, mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus den Unteransprüchen, der Beschreibung und den Figuren.The object is achieved by a device for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system, preferably an ultra-short-pulse laser system, having the features of
Entsprechend wird eine Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem, bevorzugt einem Ultrakurzpulslasersystem, vorgeschlagen, umfassend eine Abstützeinheit zum Abstützen gegen die Umgebung und eine um eine vertikale Drehachse relativ zur Abstützeinheit drehbar gelagerte, bevorzugt gleitgelagerte, Aufnahmeeinheit zum Aufnehmen eines optischen Gitters.Accordingly, a device for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system, preferably an ultra-short-pulse laser system, is proposed, comprising a support unit for supporting against the environment and a receiving unit for receiving an optical grating that is rotatably mounted about a vertical axis of rotation relative to the support unit .
Eine gegenüber herkömmlichen Ausführungen verbesserte Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem lässt sich dadurch erzielen, dass die Vorrichtung ferner eine abnehmbare Justiervorrichtung zum Einstellen einer Winkelposition der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit um die vertikale Achse aufweist.A device for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system that is improved over conventional designs can be achieved in that the device also has a removable adjustment device for adjusting an angular position of the recording unit relative to the support unit about the vertical axis.
Der Begriff „vertikal“ bezieht sich vorliegend auf eine Orientierung senkrecht zu einer Ebene des Kurzpulslasersystems in welcher sich die Laserstrahlen beziehungsweise Laserpulse im Lasersystem bewegen, bevor sie das Lasersystem in Form von Kurzpulsen verlassen. Bevorzugt ist ein Boden beziehungsweise eine zentrale Bodenplatte eines Gehäuses des Lasersystems parallel zur vorgenannten Ebene, welche auch als Erstreckungsebene des Lichtes bezeichnet werden kann, orientiert. Entsprechend ist die vertikale Richtung dann senkrecht zum Boden beziehungsweise der Bodenplatte.In the present case, the term “vertical” refers to an orientation perpendicular to a plane of the short-pulse laser system in which the laser beams or laser pulses move in the laser system before they leave the laser system in the form of short pulses. A base or a central base plate is preferably one Housing of the laser system parallel to the aforementioned plane, which can also be referred to as the plane of extension of the light, oriented. Accordingly, the vertical direction is then perpendicular to the floor or the floor plate.
Demgemäß wird der Begriff „horizontal“ als im Wesentlichen parallel zur Erstreckungsebene orientiert verstanden.Accordingly, the term “horizontal” is understood as being oriented essentially parallel to the extension plane.
Die Begriffe „vertikale Drehachse“ und „vertikale Achse“ werden in diesem Dokument synonym verwendet.The terms "vertical axis of rotation" and "vertical axis" are used synonymously in this document.
Dadurch, dass die Vorrichtung eine abnehmbare Justiervorrichtung zum Einstellen einer Winkelposition der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit um die vertikale Achse aufweist, kann neben der groben Ausrichtbarkeit über die Lagerung der Aufnahmeeinheit gegenüber der Abstützeinheit um die vertikale Achse zusätzlich eine Feineinstellung beziehungsweise Feinjustierung der Ausrichtung der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit um die vertikale Achse bereitgestellt werden.Because the device has a removable adjustment device for setting an angular position of the receiving unit relative to the support unit about the vertical axis, in addition to the rough adjustability via the mounting of the receiving unit relative to the support unit about the vertical axis, fine adjustment or fine adjustment of the alignment of the receiving unit relative be provided to the support unit around the vertical axis.
Demgemäß kann die Vorrichtung eine integrale Rotationsmöglichkeit bereitstellen. Mit anderen Worten kann die drehbare Lagerung der Vorrichtung basierend auf der Abstützeinheit und der relativ zu dieser um die vertikale Achse schwenkbare Aufnahmeeinheit, insbesondere in Verbindung mit der abnehmbaren Justiervorrichtung, als integrierter Rotationstisch verstanden werden.Accordingly, the device can provide an integral rotation capability. In other words, the rotatable mounting of the device based on the support unit and the receiving unit that can be pivoted about the vertical axis relative to it, in particular in connection with the removable adjustment device, can be understood as an integrated rotary table.
Die Vorrichtung kann entsprechend im Vergleich zu herkömmlichen Vorrichtungen einen besonders stabilen und insbesondere kompakten Aufbau aufweisen.In comparison to conventional devices, the device can accordingly have a particularly stable and, in particular, compact structure.
Durch die Kombination mit der abnehmbaren Justiervorrichtung kann eine kompakte und steife Struktur bereitgestellt werden, die eine präzise Ausrichtung der Position des optischen Gitters ermöglicht.In combination with the detachable adjustment device, a compact and rigid structure can be provided, which enables precise adjustment of the position of the optical grating.
Eine gegenüber herkömmlichen Ausführungen verbesserte Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem lässt sich zudem erzielen, wenn die Vorrichtung zusätzlich oder alternativ zu der abnehmbaren Justiervorrichtung einen Aufbau umfasst, derart, dass die Aufnahmeeinheit an der Abstützeinheit gleitgelagert ist.A device for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system that is improved over conventional designs can also be achieved if the device additionally or alternatively to the removable adjustment device includes a structure such that the receiving unit is slide-mounted on the support unit.
Durch das Bereitstellen der Gleitlagerung der Aufnahmeeinheit an beziehungsweise gegenüber der Abstützeinheit kann die Vorrichtung eine integrale, stabile Rotationsmöglichkeit mit vergleichsweise hoher Steifigkeit bereitstellen. Mit anderen Worten kann die drehbare Lagerung der Vorrichtung basierend auf der Abstützeinheit und der relativ zu dieser um die vertikale Achse schwenkbare Aufnahmeeinheit als integrierter Rotationstisch verstanden werden.By providing the sliding bearing of the receiving unit on or opposite the support unit, the device can provide an integral, stable possibility of rotation with a comparatively high degree of rigidity. In other words, the rotatable mounting of the device based on the support unit and the receiving unit that can be pivoted about the vertical axis relative to it can be understood as an integrated rotary table.
Die Vorrichtung kann entsprechend in Vergleich zu herkömmlichen Vorrichtungen einen besonders stabilen und insbesondere kompakten Aufbau aufweisen.In comparison to conventional devices, the device can accordingly have a particularly stable and, in particular, compact structure.
Durch die Kombination mit der abnehmbaren Justiervorrichtung kann eine kompakte und steife Struktur bereitgestellt werden, die eine präzise Ausrichtung der Position des optischen Gitters ermöglicht.In combination with the detachable adjustment device, a compact and rigid structure can be provided, which enables precise adjustment of the position of the optical grating.
Die Gleitlagerung kann optional geschmiert ausgebildet sein.The plain bearing can optionally be lubricated.
Vorzugsweise ist die Justiervorrichtung ausgebildet zum Fixieren der Position der Winkelposition der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit bezogen auf die vertikale Achse. Besonders bevorzugt ist die Justiervorrichtung ausgebildet zum Fixieren der Position der Winkelposition der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit bezogen auf die vertikale Achse und zum Einstellen der Winkelposition der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit um die vertikale Achse.The adjustment device is preferably designed to fix the position of the angular position of the receiving unit relative to the support unit with reference to the vertical axis. The adjustment device is particularly preferably designed to fix the position of the angular position of the receiving unit relative to the support unit in relation to the vertical axis and to adjust the angular position of the receiving unit relative to the support unit about the vertical axis.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfasst die Justiervorrichtung eine an die Aufnahmeeinheit anbringbare aufnahmeseitige Einheit und eine an die Abstützeinheit anbringbare abstützseitige Einheit, wobei bevorzugt die Winkelposition der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit durch Interaktion der aufnahmeseitigen Einheit mit der abstützseitigen Einheit einstellbar ist.According to a further preferred embodiment, the adjusting device comprises a receiving-side unit that can be attached to the receiving unit and a supporting-side unit that can be attached to the support unit, the angular position of the receiving unit relative to the supporting unit preferably being adjustable by interaction of the receiving-side unit with the supporting-side unit.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfasst die aufnahmeseitige Einheit einen sich bezogen auf die vertikale Achse nach radial außen erstreckenden Fortsatz, wobei der Fortsatz zumindest eine in Umfangsrichtung weisende, gegen die Vertikale geneigte Seitenfläche umfasst, und wobei die aufnahmeseitige Einheit einen in Richtung der vertikalen Achse verstellbaren Einstellkörper mit einer korrespondierend zur Seitenfläche orientierten, die Seitenfläche kontaktierenden Keilfläche aufweist. Durch Verstellen der Position des Einstellkörpers relativ zum Fortsatz in Richtung der vertikalen Achse kann entsprechend eine Orientierung des Fortsatzes und mithin der Aufnahmeeinheit in Umfangsrichtung bezogen auf die vertikale Achse verändert werden.According to a further preferred embodiment, the unit on the receiving side comprises an extension that extends radially outwards in relation to the vertical axis, the extension comprising at least one side surface pointing in the circumferential direction and inclined relative to the vertical, and wherein the unit on the receiving side has a side surface that can be adjusted in the direction of the vertical axis Adjusting body with a corresponding to the side surface oriented, the side surface contacting wedge surface. By adjusting the position of the adjustment body relative to the extension in the direction of the vertical axis, an orientation of the extension and therefore of the receiving unit can be changed in the circumferential direction in relation to the vertical axis.
Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, wenn der Fortsatz bezogen auf die Umfangsrichtung beidseitig jeweils eine gegen die Vertikale geneigte Seitenfläche umfasst, und wobei die aufnahmeseitige Einheit bezogen auf die Umfangsrichtung beidseitig des Fortsatzes jeweils einen in Richtung der vertikalen Achse verstellbaren Einstellkörper mit einer korrespondierend zur Seitenfläche der jeweiligen Seite orientierten, die jeweilige Seitenfläche kontaktierenden Keilfläche aufweist.It has been found to be advantageous if the extension comprises a side face inclined to the vertical on both sides in relation to the circumferential direction, and the receiving term unit based on the circumferential direction on both sides of the extension in each case an adjustable in the direction of the vertical axis adjusting element with a corresponding to the side surface of the respective side oriented, the respective side surface contacting wedge surface.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist die aufnahmeseitige Einheit abnehmbar an der Aufnahmeeinheit angeordnet, bevorzugt befestigt.According to a further preferred embodiment, the receiving-side unit is arranged detachably on the receiving unit, preferably fastened.
Alternativ oder zusätzlich kann die abstützseitige Einheit abnehmbar an der Abstützeinheit angeordnet, bevorzugt befestigt, sein.Alternatively or additionally, the unit on the support side can be detachably arranged, preferably fastened, on the support unit.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der Einstellkörper in Richtung der vertikalen Achse verschiebbar an der Abstützeinheit geführt.According to a further preferred embodiment, the adjustment body is guided on the support unit so that it can be displaced in the direction of the vertical axis.
Vorzugsweise ist der Einstellkörper in Richtung der vertikalen Achse und senkrecht zur vertikalen Achse, bevorzugt tangential zur Umfangsrichtung bezogen auf die vertikale Achse, verschiebbar an der Abstützeinheit angeordnet, wobei bevorzugt der Einstellkörper ein im Wesentlichen tangential zur Umfangrichtung orientiertes, den Einstellkörper in Richtung der vertikalen Achse durchdringendes Langloch aufweist, wobei der Einstellkörper bevorzugt via des Langlochs an einem sich in vertikaler Richtung durch das Langloch erstreckenden, fest an der Abstützeinheit angeordneten Führungsachsenelement geführt ist. So kann ein Klemmen der Komponenten der Justiervorrichtung entgegengewirkt werden. Zudem kann sich die Ausrichtung des Einstellkörpers bei einer Änderung der Winkelposition der Aufnahmeeinheit um die vertikale Achse der neuen Orientierung der aufnahmeseitigen Einheit anpassen.The adjustment body is preferably arranged on the support unit so that it can be displaced in the direction of the vertical axis and perpendicularly to the vertical axis, preferably tangentially to the circumferential direction in relation to the vertical axis, with the adjustment body preferably being oriented essentially tangentially to the circumferential direction, the adjustment body in the direction of the vertical axis has a penetrating slot, the adjustment body preferably being guided via the slot on a guide axis element which extends in the vertical direction through the slot and is fixedly arranged on the support unit. In this way, jamming of the components of the adjustment device can be counteracted. In addition, when the angular position of the receiving unit changes about the vertical axis, the alignment of the adjustment body can adapt to the new orientation of the unit on the receiving side.
Um eine gleichmäßige Kraftverteilung und einen besonders steifen Aufbau der Justiervorrichtung zu erziehen, weist der Einstellkörper gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform auf seiner der Keilfläche gegenüberliegend gelegenen Seite eine gegen die Vertikale geneigte Keilführungsfläche auf, wobei die Keilführungsfläche mit einer an einem Führungsblock vorgesehenen, korrespondierend zur Führungskeilfläche orientierten Führungsfläche in Kontakt ist, wobei bevorzugt die Keilfläche und die Keilführungsfläche in Bezug auf die Vertikale in entgegengesetzte Richtungen geneigt sind.In order to achieve an even distribution of force and a particularly rigid construction of the adjusting device, according to a further preferred embodiment, the adjustment body has a wedge guide surface inclined to the vertical on its side opposite the wedge surface, the wedge guide surface having a wedge guide surface provided on a guide block, corresponding to the guide wedge surface oriented guide surface is in contact, preferably wherein the wedge surface and the wedge guide surface are inclined in opposite directions with respect to the vertical.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der Führungsblock gegenüber der Abstützeinheit um eine Achse parallel zur vertikalen Achse schwenkbar gelagert. Dadurch kann sich der Führungsblock an eine aufgrund einer Bewegung des Fortsatzes geänderte Orientierung des Einstellkörpers anpassen. Entsprechend kann erzielt werden, dass der Führungsblock mit dem Einstellkörper stets einen Flächenkontakt zueinander ausbilden.According to a further preferred embodiment, the guide block is mounted so that it can pivot relative to the support unit about an axis parallel to the vertical axis. As a result, the guide block can adapt to a changed orientation of the adjustment body due to a movement of the extension. Accordingly, it can be achieved that the guide block and the setting body always form surface contact with one another.
Wie bereits oben erwähnt, ist die Aufnahmeeinheit vorzugsweise an der Abstützeinheit gleitgelagert.As already mentioned above, the receiving unit is preferably slide-mounted on the support unit.
Es hat sich hierbei als vorteilhaft herausgestellt, wenn die Abstützeinheit eine bevorzugt kreisförmige Aufnahme zum axialen und radialen Lagern der Aufnahmeeinheit aufweist. Vorzugsweise ist ein Gleitring zum Bereitstellen der Gleitlagerung an der zur Abstützeinheit weisenden Seite der Aufnahmeeinheit angeordnet und bevorzugt in der kreisförmigen Aufnahme aufgenommen, wobei bevorzugt der Gleitring über eine radiale Außenfläche mit einer radialen Innenfläche der kreisförmigen Aufnahme zusammenwirkt, um den Gleitring radial zu positionieren beziehungsweise zu lagern, und/oder der Gleitring über eine axialen Gleitfläche mit einer axialen Führungsfläche der kreisförmigen Aufnahme zusammenwirkt, um den Gleitring axial zu positionieren beziehungsweise zu lagern.In this context, it has proven to be advantageous if the support unit has a preferably circular receptacle for axially and radially supporting the receptacle unit. A slide ring for providing the slide bearing is preferably arranged on the side of the receiving unit facing the support unit and is preferably received in the circular seat, with the slide ring preferably interacting via a radial outer surface with a radial inner surface of the circular seat in order to radially position or close the slide ring store, and / or the sliding ring cooperates via an axial sliding surface with an axial guide surface of the circular receptacle in order to position or store the sliding ring axially.
Der Gleitring weist bevorzugt ein von der Abstützeinheit und/oder der Aufnahmeeinheit verschiedenes Material auf. Aus Versuchen konnte ermittelt werden, dass eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung des Gleitrings eine Messinglegierung aufweist. Der Gleitring kann ferner an zumindest einer zur Lagerung vorgesehenen Fläche, bevorzugt einer Richtung Abstützeinheit weisenden axialen Gleitfläche und/oder einer radialen Fläche, bevorzugt einer radialen Außenfläche, eine geschliffene Oberfläche umfassen und/oder mit einem Schmiermittel versehen sein.The slide ring preferably has a different material from the support unit and/or the receiving unit. It was possible to determine from tests that a particularly advantageous embodiment of the slide ring has a brass alloy. The sliding ring can also comprise a ground surface and/or be provided with a lubricant on at least one surface provided for storage, preferably an axial sliding surface pointing in the direction of the support unit and/or a radial surface, preferably a radial outer surface.
Die Abstützeinheit und/oder die Aufnahmeeinheit sind einer weiteren bevorzugten Ausführungsform gemäß im Wesentlichen aus einer hochfesten Aluminiumlegierung ausgebildet.According to a further preferred embodiment, the support unit and/or the receiving unit are essentially made of a high-strength aluminum alloy.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist die Führungsfläche segmentiert ausgebildet.According to a further preferred embodiment, the guide surface is segmented.
Alternativ oder zusätzlich kann die Führungsfläche durch zumindest eine an der Abstützeinheit angeordnete Gleitplatte ausgebildet sein, wobei die Führungsfläche bevorzugt durch eine Mehrzahl von in Umfangsrichtung verteilten, bevorzugt gleichmäßig verteilten, Gleitplatten bereitgestellt ist. Wenn die Gleitplatten in Umfangsrichtung betrachtet voneinander beabstandet sind, bilden die in Richtung Aufnahmeeinheit weisenden Oberflächen der Gleitplatten gemeinsam entsprechend eine segmentierte Führungsfläche aus.Alternatively or additionally, the guide surface can be formed by at least one sliding plate arranged on the support unit, the guide surface preferably being provided by a plurality of sliding plates distributed, preferably evenly distributed, in the circumferential direction. If the sliding plates are spaced apart from one another, viewed in the circumferential direction, the surfaces of the sliding plates pointing in the direction of the receiving unit together correspondingly form a segmented guide surface.
Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, wenn die zumindest eine Gleitplatte eine Stahllegierung umfasst, bevorzugt eine Edelstahllegierung. Alternativ oder zusätzlich kann die zumindest eine Gleitplatte eine geschliffene Oberfläche und/oder eine mit einem Schmiermittel versehene Oberfläche aufweisen.It has proven to be advantageous if the at least one sliding plate comprises a steel alloy, preferably a high-grade steel alloy. Alternatively or additionally, the at least one sliding plate can have a ground surface and/or a surface provided with a lubricant.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist zumindest ein Niederhalter an der Abstützeinheit vorgesehen, wobei der zumindest eine Niederhalter ausgebildet ist, die Aufnahmeeinheit, bevorzugt den Gleitring der Aufnahmeeinheit, in einer vorgegebenen Lagerungsposition zu halten, wobei bevorzugt der zumindest eine Niederhalter einen mittels eines Federelements auf den Gleitring vorgespannten Niederhalterkörper aufweist. Der Niederhalterkörper ist dabei vorzugsweise derart angeordnet, dass er eine via des Federelements bereitgestellte Vorspannkraft in Richtung der Abstützeinheit auf die Aufnahmeeinheit, bevorzugt den Gleitring, aufbringt. Vorzugsweise ist eine Mehrzahl von Niederhaltern vorgesehen.According to a further preferred embodiment, at least one hold-down device is provided on the support unit, with the at least one hold-down device being designed to hold the receiving unit, preferably the slide ring of the receiving unit, in a predetermined storage position, with the at least one hold-down device preferably applying pressure to the Glide ring has prestressed hold-down body. The hold-down body is preferably arranged in such a way that it applies a prestressing force provided via the spring element in the direction of the support unit to the receiving unit, preferably the slide ring. A plurality of hold-down devices is preferably provided.
Der zumindest eine Niederhalter und die Justiervorrichtung sind vorzugweise in Umfangsrichtung gesehen gleichmäßig verteilt angeordnet.The at least one hold-down device and the adjusting device are preferably arranged in a uniformly distributed manner, viewed in the circumferential direction.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfasst die Aufnahmeeinheit ein erstes Gelenk zum Neigen der Gitteraufnahme um eine erste horizontale Achse und/oder ein zweites Gelenk zum Kippen der Gitteraufnahme um eine zweite horizontale Achse, wobei das erste Gelenk und/oder das zweite Gelenk bevorzugt ein Festkörpergelenk sind. Vorzugsweise sind die erste horizontale Achse und die zweite horizontale Achse im Wesentlichen orthogonal zueinander orientiert. Mit anderen Worten können gemäß einer bevorzugten Ausführungsform die Projektionen der ersten und zweiten horizontalen Achse auf eine Ebene senkrecht zur vertikalen Achse senkrecht zueinander orientiert sein beziehungsweise einen Winkel von in Wesentlichen 90° einschließen.According to a further preferred embodiment, the receiving unit comprises a first joint for tilting the grating holder about a first horizontal axis and/or a second joint for tilting the grating holder about a second horizontal axis, the first joint and/or the second joint preferably being a flexure joint . Preferably, the first horizontal axis and the second horizontal axis are oriented substantially orthogonal to each other. In other words, according to a preferred embodiment, the projections of the first and second horizontal axes can be oriented perpendicular to one another on a plane perpendicular to the vertical axis or enclose an angle of essentially 90°.
Die oben gestellte Aufgabe wird weiterhin durch ein Kurspulslasersystem, bevorzugt ein Ultrakurzpunktlasersystem, mit den Merkmalen des Anspruchs 12 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus der vorliegenden Beschreibung und den Figuren.The object set above is also achieved by a course pulse laser system, preferably an ultra-short point laser system, having the features of
Entsprechend wird ein Kurspulslasersystem, bevorzugt ein Ultrakurzpulslasersystem, vorgeschlagen, umfassend eine Laserlichtquelle und ein optisches Gitter zum Komprimieren eines Laserlichtpulses der Laserlichtquelle.Accordingly, a course pulse laser system, preferably an ultra-short pulse laser system, is proposed, comprising a laser light source and an optical grating for compressing a laser light pulse of the laser light source.
Das Kurzpulslasersystem umfasst ferner eine Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters gemäß einer der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen.The short-pulse laser system further comprises a device for aligning the position of an optical grating according to one of the embodiments described above.
Dadurch, dass das Kurzpulslasersystem eine Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters gemäß einer der vorstehenden Ausführungsformen umfasst, können die hinsichtlich der Vorrichtung beschriebenen Vorteile und Wirkungen analog auch durch das Kurzpulslasersystem erzielt werden.Because the short-pulse laser system includes a device for aligning the position of an optical grating according to one of the above embodiments, the advantages and effects described with regard to the device can also be achieved analogously by the short-pulse laser system.
Die oben gestellte Aufgabe wird weiterhin durch ein Verfahren zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem mit den Merkmalen des Anspruchs 13 gelöst. The object set above is also achieved by a method for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system having the features of
Vorteilhafte Weiterbildungen des Verfahrens ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie der vorliegenden Beschreibung und den Figuren.Advantageous developments of the method result from the dependent claims and the present description and the figures.
Entsprechend wird ein Verfahren zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem, vorgeschlagen, umfassend die Schritte des Bereitstellens einer Vorrichtung gemäß einem der oben beschriebenen Ausführungsformen, des Ausrichtens des optischen Gitters in einem Winkel von 0° relativ zur Richtung des auf das Gitter auftreffenden Laserstrahls, des zumindest teilweisen Abnehmens der Justiervorrichtung von der Abstützeinheit und/oder der Aufnahmeeinheit, des Voreinstellens der Winkelposition des optischen Gitters auf einen vorgegebenen Winkel relativ zur Richtung des auf das Gitter auftreffenden Laserstrahls durch Drehen der Aufnahmeeinheit relativ zur Abstützeinheit um die vertikale Drehachse, des Anbringens der Justiervorrichtung, und des Justierens, bevorzugt Feinjustierens beziehungsweise Feineinstellens, der Winkelposition des optischen Gitters auf einen im System erforderlichen Arbeitswinkel mittels der Justiervorrichtung.Accordingly, a method for aligning the position of an optical grating in a short-pulse laser system is proposed, comprising the steps of providing a device according to one of the embodiments described above, aligning the optical grating at an angle of 0° relative to the direction of impinging on the grating laser beam, the at least partial removal of the adjusting device from the support unit and/or the receiving unit, the presetting of the angular position of the optical grating to a predetermined angle relative to the direction of the laser beam impinging on the grating by rotating the receiving unit relative to the supporting unit about the vertical axis of rotation, des Attaching the adjusting device and adjusting, preferably finely adjusting or fine tuning, the angular position of the optical grating to a working angle required in the system by means of the adjusting device.
Durch das Verfahren können die oben beschriebenen Vorteile und Wirkungen in analoger Weise erzielt werden.The advantages and effects described above can be achieved in an analogous manner by the method.
Vorzugsweise wird im Schritt des zumindest teilweisen Abnehmens der Justiervorrichtung eine aufnahmeseitige Einheit der Justiervorrichtung und/oder zumindest ein an einer abstützseitigen Einheit der Justiervorrichtung angeordneter Einstellkörper abgenommen.Preferably, in the step of at least partially removing the adjusting device, a receiving-side unit of the adjusting device and/or at least one adjustment body arranged on a support-side unit of the adjusting device is removed.
Figurenlistecharacter list
Bevorzugte weitere Ausführungsformen der Erfindung werden durch die nachfolgende Beschreibung der Figuren näher erläutert. Dabei zeigen:
-
1 schematisch eine perspektivische Seitenansicht einer Vorrichtung zum Ausrichten der Position eines optischen Gitters in einem Kurzpulslasersystem; -
2 schematisch eine Seitenansicht der Vorrichtung aus1 ; -
3 schematisch eine weitere Schnittansicht durch dieVorrichtung aus 1 ; -
4 schematisch eine perspektivische Seitenansicht einer Abstützeinheit der Vorrichtung aus1 ; -
5 schematisch eine Draufsicht auf dieAbstützeinheit aus 4 ; -
6 schematisch eine weitere Draufsicht der Abstützeinheit der Vorrichtung aus4 ; -
7 schematisch eine weitere Schnittansicht durch dieVorrichtung aus 1 ; -
8 schematisch eine perspektivische Seitenansicht einer Justiervorrichtung der Vorrichtung aus1 ; -
9 schematisch eine Seitenansicht der Justiervorrichtung der Vorrichtung aus1 ; -
10 schematisch eine perspektivische Detailansicht eines Einstellkörpers der Justiervorrichtung gemäß der8 und 9 ; und -
11A bis11C jeweils schematisch eine Draufsicht auf dieVorrichtung aus 1 .
-
1 schematically shows a perspective side view of a device for aligning the Position of an optical grating in a short pulse laser system; -
2 schematically shows a side view of thedevice 1 ; -
3 schematically shows another sectional view through thedevice 1 ; -
4 schematically shows a perspective side view of a support unit of thedevice 1 ; -
5 schematically shows a plan view of thesupport unit 4 ; -
6 1 schematically shows another top view of the support unit of thedevice 4 ; -
7 schematically shows another sectional view through thedevice 1 ; -
8th schematically shows a perspective side view of an adjusting device of thedevice 1 ; -
9 schematically shows a side view of the adjustment device of thedevice 1 ; -
10 schematically shows a perspective detailed view of an adjustment body of the adjustment device according to FIG8th and9 ; and -
11A until11C each schematically shows a plan view of thedevice 1 .
Detaillierte Beschreibung bevorzugter AusführungsbeispieleDetailed description of preferred embodiments
Im Folgenden werden bevorzugte Ausführungsbeispiele anhand der Figuren beschrieben. Dabei werden gleiche, ähnliche oder gleichwirkende Elemente in den unterschiedlichen Figuren mit identischen Bezugszeichen versehen, und auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente wird teilweise verzichtet, um Redundanzen zu vermeiden.Preferred exemplary embodiments are described below with reference to the figures. Elements that are the same, similar or have the same effect are provided with identical reference symbols in the different figures, and a repeated description of these elements is sometimes dispensed with in order to avoid redundancies.
In
Die Vorrichtung 1 umfasst eine Abstützeinheit 3 zum Abstützen gegen die Umgebung, vorliegend zur Befestigung auf einer Bodenplatte des Lasersystems (nicht gezeigt). Ferner umfasst sie eine um eine vertikale Drehachse 4 relativ zur Abstützeinheit 3 drehbar gelagerte Aufnahmeeinheit 5, in welcher das optische Gitter 2 in einer Gitteraufnahme der Aufnahmeeinheit 5 aufgenommen ist.The
Im Folgenden wird die Ausrichtung des optischen Gitters 2 in Bezug auf eine geometrische Gitterachse 10 des optischen Gitters 2 beschrieben, welche orthogonal orientiert ist zur Oberfläche 11 des optischen Gitters 2 beziehungsweise zu einer parallel zur Oberfläche 11 beziehungsweise zu einer in
Die Aufnahmeeinheit 5 ist vorliegend ausgebildet aus einem ersten Aufnahmeteil 8, welches ein erstes Gelenk (hier nicht gezeigt) umfasst, und einem zweiten Aufnahmeteil 6, welches ein zweites Gelenk 7 umfasst. Das zweite Gelenk 7 ist als Festkörpergelenk ausgebildet und stellt ein Schwenken des optischen Gitters 2 um eine zweite horizontale Achse 9 innerhalb eines vorgegebenen Winkelbereich von einigen Grad, beispielsweise 5 oder 10 Grad, bereit. Das Schwenken des optischen Gitters 2 um die zweite horizontale Achse 9 entspricht einem Kippen des optischen Gitters 2.In the present case, the receiving
Wie unter anderem aus
Bei der Ausführungsform gemäß
Die Vorrichtung 1 weist ferner eine abnehmbare Justiervorrichtung 16 zum Einstellen einer Winkelposition der Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 um die vertikale Achse 4 im Sinne einer Feinjustierung auf. Auf die Justiervorrichtung 16 wird weiter unten im Detail eingegangen.The
Das zweite Aufnahmeteil 6 ist einstückig ausgebildet und weist einen oberen Abschnitt 18 und einen unteren Abschnitt 19 auf, welche durch einen Spalt 20 im Wesentlichen voneinander getrennt vorliegen. Die Abschnitte 18, 19 sind mittig über das zweite Festkörpergelenk 7 verbunden, und zusätzlich über seitlich angeordnete, gabelartige Biegestrukturen 21, welche aufgrund ihrer gabelartigen, mithin biegeweichen Ausbildung ein Schwenken des oberen Abschnitts 18 relativ zum unteren Abschnitt 19 um die via des zweiten Gelenks 7 bereitgestellte zweite horizontale Achse 9 nur unwesentlich beeinflussen.The
Die gabelartigen Biegestrukturen 21 tragen jedoch zur Erhöhung der Steifigkeit des zweiten Aufnahmeteils 6 bezüglich eines Schwingens beziehungsweise dadurch bezüglich eines Reduzierens oder gar Verhinderns von Schwingungen um eine Achse parallel zur ersten horizontalen Achse 13 während des Betriebs des Lasersystems bei.However, the fork-
Auf der in
Wie oben bereits erwähnt, ist aus
Das erste Aufnahmeteil 8 ist einstückig ausgebildet und weist einen oberen Abschnitt 27 und einen unteren Abschnitt 28 auf, welche durch einen Spalt 29 im Wesentlichen voneinander getrennt vorliegen. Die Abschnitte 27, 28 sind nur über das erste Festkörpergelenk 12 miteinander verbunden.The
Auf der in
Das erste und zweite Aufnahmeteil 8, 6 sind entsprechend jeweils in Bezug auf die durch sie jeweils bereitgestellte Achse 13, 9 im Wesentlichen analog aufgebaut beziehungsweise weisen die gleiche Struktur auf.The first and second receiving
Folgend wird die Ausbildung der Gleitlagerung zum Bereitstellen der Schwenkbarkeit beziehungsweise Drehbarkeit der Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 um die vertikale Achse 4 näher erläutert.The design of the slide bearing for providing the ability to pivot or rotate the receiving
Der Gleitring 15 wirkt über dessen radialer Außenfläche 33 mit einer radialen Innenfläche 34 der kreisförmigen Aufnahme 14 der Abstützeinheit 3 zusammen, um den Gleitring 15 in Bezug auf die vertikale Achse 4 im Sinne eine Welle-Nabe-Passung radial zu positionieren beziehungsweise zu lagern. Zudem wirkt der Gleitring 15 über eine axialen Gleitfläche 35 des Gleitrings 15 mit einer axialen Führungsfläche 36 der kreisförmigen Aufnahme 14 zusammen, um den Gleitring 15 axial zu positionieren beziehungsweise zu lagern.The sliding
Vorliegend ist die Führungsfläche 36 segmentiert ausgebildet, und zwar durch eine Mehrzahl von bezogen auf die vertikale Achse 4 in Umfangsrichtung 37 gleichmäßig verteilten Gleitplatten 38. Die segmentierte Führungsfläche 36 setzt sich dabei aus den Oberflächen der Gleitplatten 38 zusammen.In the present case, the
Aus
Die Gleitplatten 38 sind jeweils in einer in der Aufnahme 14 eingelassenen Plattenaufnahme 39 aufgenommen.The
Eine der Gleitplatten 38 (in
Wie bereits oben erwähnt, dient die abnehmbare Justiervorrichtung 16 zum Feineinstellen der Winkelposition des Gleitrings 15 und somit der mit dem Gleitring 15 drehfest verbundenen Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 um die vertikale Achse 4.As already mentioned above, the
Die Justiervorrichtung 16 umfasst wie bereits erwähnt die an die Abstützeinheit 3 anbringbare abstützseitige Einheit 41 und eine an die Aufnahmeeinheit 5, vorliegend an den an der Aufnahmeeinheit 5 angeordneten Gleitring 15 anbringbare aufnahmeseitige Einheit 42. Die Winkelposition des Gleitrings 16 und mithin der Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 ist durch eine Interaktion der aufnahmeseitigen Einheit 42 und der abstützseitigen Einheit 41 einstellbar, wie in Detail weiter unten erläutert.As already mentioned, the adjusting
Die aufnahmeseitige Einheit 42 umfasst einen sich bezogen auf die vertikale Achse 4 nach radial außen erstreckenden Fortsatz 43, der sich von einem an dem Gleitring 15 lösbar befestigten Befestigungsteil 44 nach radial außen erstreckt.The
Der Fortsatz 43 umfasst bezogen auf die Umfangsrichtung 37 beidseitig jeweils eine gegen die Vertikale 4 geneigte Seitenfläche 45, auf welche zwei Einstellkörper 46 der abstützseitigen Einheit 41 in Richtung der vertikalen Achse 4 in Richtung auf die Abstützeinheit 3 einwirken, so dass der Fortsatz 43 durch die Einstellkörper 46 gegen ein Anheben in Richtung der vertikalen Achse 4 von der Abstützeinheit 3 weg gehindert ist.In relation to the
Da die eine der Gleitplatten 38 (in
Im Umfangsrichtung 37 betrachtet auf Höhe jeder der anderen Gleitplatten 38 (in
Der Gleitring 15 weist eine Mehrzahl von im Umfangsrichtung 37 voneinander beabstandeten Anbindungsbereichen 48 auf, an welchen jeweils die aufnahmeseitige Einheit 42 der Justiervorrichtung 16 angebracht werden kann, vorliegend durch eine Mehrzahl von Schraubverbindungen.The sliding
Die Anbindungsbereiche 48 sind in etwa um einen vorgegebenen theoretischen Arbeitswinkel 49 des optischen Gitters 2 in Umfangsrichtung 37 gesehen voneinander beabstandet. Der Arbeitswinkel 49 ist dabei jener Winkel, der zwischen der Gitterachse 10 (siehe
Die aufnahmeseitige Einheit 42 kann mithin vom Gleitring 15 durch Lösen der Schraubverbindungen abgenommen und - nach einem Drehen der Aufnahmeeinheit 5 um die Abstützeinheit 3 um die vertikale Achse 4 um etwa den theoretischen Arbeitswinkel 49 - wieder an einem anderen der Anbindungsbereiche 48 an den Gleitring 15 befestigt werden, so dass durch eine (erneute) Interaktion von aufnahmeseitiger Einheit 42 und abstützseitiger Einheit 41 eine Feineinstellung des Arbeitswinkels 49 erfolgen kann.The receiving-
Um eine hohe Ablesegenauigkeit für den zwischen Abstützeinheit 3 und Aufnahmeeinheit 5 vorliegenden Winkel relativ zur vertikalen Achse 4 bereitstellen zu können, kann die Vorrichtung 1 ferner eine Noniusskalaanorndung 50 umfassen, wobei ein Skalaelement 51 auf der Aufnahmeeinheit 5 und ein korrespondierend ausgebildetes Noniuselement 52 an der Abstützeinheit 3, hier auf dem Gleitring 15 angeordnet ist. Alternativ kann die Anordung von Skalaelement 51 und Noniuselement 52 auch umgekehrt ausgebildet sein.In order to be able to provide a high level of reading accuracy for the angle between the
Zu entnehmen ist aus
Die Aufnahmeeinheit 5 ist entsprechend via des Gleitrings 15 über eine axiale Passung 57 und eine radiale Passung 58 positioniert und zentriert.The receiving
Der genaue Aufbau und die Funktionalität der Justiervorrichtung 16 wird im Folgenden mit Bezug auf die
Die abstützseitige Einheit 41 umfasst bezogen auf die Umfangsrichtung 37 beidseitig des Fortsatzes 43 jeweils einen in Richtung der vertikalen Achse 4 verstellbaren Einstellkörper 46 mit einer korrespondierend zur Seitenfläche 45 der jeweiligen Seite orientierten, die jeweilige Seitenfläche 45 kontaktierenden Keilfläche 62.The support-
Jeder der Einstellkörper 46 ist in Richtung der vertikalen Achse 4 verschiebbar gegenüber der Abstützeinheit 3 geführt, vorliegend entlang einer in die Abstützeinheit 3 eingeschraubten Bolzenschraube 60. Der Einstellkörper 46 ist ferner senkrecht zur vertikalen Achse 4 verschiebbar an der Abstützeinheit 3 angeordnet. Hierfür weist der Einstellkörper 46 ein im Wesentlichen tangential zur Umfangrichtung 37 orientiertes, den Einstellkörper 46 in Richtung der vertikalen Achse 4 durchdringendes Langloch 68 auf. Der Einstellkörper 46 ist via des Langlochs 68 an der sich in der vertikalen Richtung durch das Langloch 68 erstreckenden, an der Abstützeinheit 3 angeordneten Schraube 60, welche mithin ein Führungsachsenelement ausbildet, geführt. Mit anderen Worten ist das Langloch 68 mit seiner Längserstreckung im Wesentlichen senkrecht zur radialen Richtung bezogen auf die Drehachse 4 bzw. genauer gesagt senkrecht zu einer Längserstreckung 69 des Fortsatzes 43 parallel zur radialen Richtung, in welcher sich der Fortsatz 43 in radialer Richtung bezogen auf die Drehachse 4 erstreckt, orientiert.Each of the adjusting
Wie in Zusammenschau mit den
Wie aus
Weiterhin umfasst der Einstellkörper 46 auf seiner der Keilfläche 64 gegenüberliegend gelegenen Seite eine gegen die Vertikale geneigte Keilführungsfläche 63, welche mit einer an einem Führungsblock 61 vorgesehenen, korrespondierend zur Führungskeilfläche 63 orientierten Führungsfläche 64 in Kontakt ist. Wie aus den
Optional kann der Führungsblock 63 gegenüber der Abstützeinheit 3 um eine Achse parallel zur vertikalen Achse 4 schwenkbar gelagert sein.Optionally, the
Der Einstellkörper 46 kann ferner, wie in
In Bezug auf die
Zunächst ist die Aufnahmeeinheit 5 durch Drehen um die vertikale Achse 4 in eine Orientierung zu bringen, so dass die Gitterachse 10 in etwa parallel zur Richtung der eintreffenden Strahlung ausgerichtet ist. Mit anderen Worten ist die Aufnahmeeinheit 5 gegen die Abstützeinheit 3 derart zu bewegen, dass die Gitterachse 10 in einem Winkel von 0° relativ zur Richtung des auf das Gitter 2 auftreffenden Laserstrahls ausgerichtet ist.First of all, the
Eine Feinjustierung der Ausrichtung des optischen Gitters 2 um die vertikale Achse 4, wie mittels des Bezugszeichens 67 angedeutet, kann durch Betätigen der Justiervorrichtung 16 erzielt werden.A fine adjustment of the orientation of the
Im Anschluss ist die aufnahmeseitige Einheit 42 der Justiervorrichtung 16 abzunehmen, so dass sich die Aufnahmeeinheit 5 im Wesentlichen ohne Einschränkung über die Gleitlagerung um die vertikale Achse 4 drehen lässt.The
Daraufhin kann die Winkelposition der Aufnahmeeinheit 5 und damit entsprechend des optischen Gitters 2 auf einen vorgegebenen Winkel, auch als Arbeitswinkel 49 bezeichnet, relativ zur Richtung 66 des auf das optische Gitter 2 auftreffenden Laserstrahls durch Drehen der Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 um die vertikale Drehachse 4 grob eingestellt werden.The angular position of the
Im Anschluss wird die Justiervorrichtung 16 wieder komplett angebracht.The
Nun kann die Winkelposition des optischen Gitters 2 präzise auf den erforderlichen Arbeitswinkel 49 mittels der Justiervorrichtung 16 feinjustiert beziehungsweise exakt ausgerichtet werden.The angular position of the
Die Feineinstellung 67 geschieht über die Einstellkörper 46, die jeweils nach oben beziehungsweise nach unten, mithin von der Abstützeinheit 3 weg oder auf diese zu geschraubt werden.The
Entspricht die Ausrichtung der Position des optischen Gitters 2 der im System erforderlichen Ausrichtung, so kann die Position relativ zur vertikalen Achse 4 durch die Justiervorrichtung fixiert werden. Vorliegend erfolgt dies, indem die Bolzenschrauben 60 jeweils mit einem vorgegebenen Fixieranzugsmoment angezogen werden, so dass die aufnahmeseitige Einheit 42 in einem verspannten Zustand vorliegt.If the alignment of the position of the
Die Justiervorrichtung 16 stellt somit sowohl eine Feinjustierung als auch eine Fixierung des optischen Gitters 2 gegen ein Drehen relativ zur vertikalen Achse 4 bereit. Mit anderen Worten ist die Justiervorrichtung 16 ausgebildet zum Einstellen der Winkelposition der Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 um die vertikale Achse 4 und zum Fixieren der Position der Winkelposition der Aufnahmeeinheit 5 relativ zur Abstützeinheit 3 bezogen auf die vertikale Achse 4.The
Optional kann hinsichtlich der Ausrichtung der Position des optischen Gitters 2 für die initiale Ausrichtung parallel zur Richtung 66 der einfallenden Strahlung (siehe
Soweit anwendbar, können alle einzelnen Merkmale, die in den Ausführungsbeispielen dargestellt sind, miteinander kombiniert und/oder ausgetauscht werden, ohne den Bereich der Erfindung zu verlassen.As far as applicable, all individual features that are presented in the exemplary embodiments can be combined with one another and/or exchanged without departing from the scope of the invention.
BezugszeichenlisteReference List
- 11
- Vorrichtungcontraption
- 22
- Optisches GitterOptical lattice
- 33
- Abstützeinheitsupport unit
- 44
- Vertikale Achsevertical axis
- 55
- Aufnahmeeinheitrecording unit
- 66
- Zweites AufnahmeteilSecond recording part
- 77
- Zweites Gelenksecond joint
- 88th
- Erstes AufnahmeteilFirst recording part
- 99
- Zweite horizontale AchseSecond horizontal axis
- 1010
- Gitterachselattice axis
- 1111
- Oberflächesurface
- 1212
- Erstes GelenkFirst joint
- 1313
- Erste horizontale AchseFirst horizontal axis
- 1414
- AufnahmeRecording
- 1515
- Gleitringsliding ring
- 1616
- Justiervorrichtungadjustment device
- 1717
- Kippwinkeltilt angle
- 1818
- Oberer AbschnittUpper section
- 1919
- Unterer Abschnittlower section
- 2020
- Spaltgap
- 2121
- Biegestrukturbending structure
- 2222
- FederFeather
- 2323
- Feineinstellschraubefine adjustment screw
- 2424
- Bügelhanger
- 2525
- Konterschraubelock screw
- 2626
- Neigungswinkeltilt angle
- 2727
- Oberer AbschnittUpper section
- 2828
- Unterer Abschnittlower section
- 2929
- Spaltgap
- 3030
- FederFeather
- 3131
- Feineinstellschraubefine adjustment screw
- 3232
- Konterschraubelock screw
- 3333
- Radiale AußenflächeRadial outer surface
- 3434
- Radiale InnenflächeInner radial surface
- 3535
- Axiale GleitflächeAxial sliding surface
- 3636
- Führungsflächeguide surface
- 3737
- Umfangsrichtungcircumferential direction
- 3838
- Gleitplattesliding plate
- 3939
- Plattenaufnahmerecord recording
- 4040
- Winkelangle
- 4141
- Abstützseitige EinheitOutrigger side unit
- 4242
- Aufnahmeseitige EinheitRecording side unit
- 4343
- Fortsatzextension
- 4444
- Befestigungsteilfastening part
- 4545
- Seitenflächeside face
- 4646
- Einstellkörperadjustment body
- 4747
- Niederhalterhold-down
- 4848
- Anbindungsbereichconnection area
- 4949
- Arbeitswinkelworking angle
- 5050
- Nonousskalaanordnungnonous scale arrangement
- 5151
- Skalaelementscale element
- 5252
- Noniuselementvernier element
- 5353
- Niederhalterkörperhold-down body
- 5454
- Federelementspring element
- 5555
- Tellerfederdisc spring
- 5656
- Schraubescrew
- 5757
- Axiale Passungaxial fit
- 5858
- Radiale PassungRadial fit
- 5959
- Gleitplattesliding plate
- 6060
- Schraubescrew
- 6161
- Führungsblockguide block
- 6262
- Keilflächewedge surface
- 6363
- Führungskeilflächeguide wedge surface
- 6464
- Führungsflächeguide surface
- 6565
- AbsatzUnit volume
- 6666
- RichtungDirection
- 6767
- Feineinstellungfine tuning
- 6868
- LanglochLong hole
- 6969
- Längserstreckunglongitudinal extent
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturPatent Literature Cited
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- US 5703683 A [0016]US5703683A [0016]
Claims (13)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE102021127767.1A DE102021127767A1 (en) | 2021-10-26 | 2021-10-26 | Apparatus and method for aligning the position of an optical grating in a short pulse laser system, and short pulse laser system |
PCT/EP2022/079708 WO2023072899A2 (en) | 2021-10-26 | 2022-10-25 | Device and method for orienting the position of an optical element, and short pulse laser system |
Applications Claiming Priority (1)
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DE102021127767.1A DE102021127767A1 (en) | 2021-10-26 | 2021-10-26 | Apparatus and method for aligning the position of an optical grating in a short pulse laser system, and short pulse laser system |
Publications (1)
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DE102021127767A1 true DE102021127767A1 (en) | 2023-04-27 |
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---|---|---|---|
DE102021127767.1A Pending DE102021127767A1 (en) | 2021-10-26 | 2021-10-26 | Apparatus and method for aligning the position of an optical grating in a short pulse laser system, and short pulse laser system |
Country Status (2)
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