DE102019210497A1

DE102019210497A1 - RAILING DEVICE AND RAIL SYSTEM

Info

Publication number: DE102019210497A1
Application number: DE102019210497.5A
Authority: DE
Inventors: Arvid Maczeyzik; Fabian Gentner; Alexander Jundin
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2019-07-16
Filing date: 2019-07-16
Publication date: 2019-09-05
Also published as: DE102020205985A1

Abstract

Eine Schienenvorrichtung (206, 208) zum Bewegen von Komponenten (102, 104) einer Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend eine Führungsschiene (212, 284), und ein Rollenpaket (210) mit drehbar gelagerten Rollen (240, 242, 244, 246), wobei die Führungsschiene (212, 284) ein Laufflächenelement (214), auf dem im Betrieb der Schienenvorrichtung (206, 208) die Rollen (240, 242, 244, 246) abrollen, und ein Tragelement (216), das das Laufflächenelement (214) trägt, umfasst, und wobei das Laufflächenelement (214) und das Tragelement (216) formschlüssig miteinander verbunden sind.

A rail device (206, 208) for moving components (102, 104) of a lithography system (100A, 100B), comprising a guide rail (212, 284), and a roller package (210) with rotatably mounted rollers (240, 242, 244, 246), wherein the guide rail (212, 284) a tread element (214) on which roll in the operation of the rail device (206, 208), the rollers (240, 242, 244, 246), and a support member (216), the Tread element (214) carries, and wherein the tread element (214) and the support member (216) are positively connected to each other.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Schienenvorrichtung zum Bewegen von Komponenten einer Lithographieanlage und ein Schienensystem mit einer derartigen Schienenvorrichtung.The present invention relates to a rail device for moving components of a lithography system and a rail system with such a rail device.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to fabricate microstructured devices such as integrated circuits. The microlithography process is performed with a lithography system having an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by means of the illumination system is projected onto a photosensitive layer (photoresist) coated in the image plane of the projection system substrate, for example a silicon wafer, by the projection system to the mask structure on the photosensitive coating of the substrate transferred to.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden.Driven by the quest for ever smaller structures in the manufacture of integrated circuits, EUV lithography systems (EUVs) are currently being developed which emit light having a wavelength in the range of 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm , use. In such EUV lithography equipment, because of the high absorption of most materials of light of that wavelength, reflective optics, that is, mirrors, must be substituted for refractive optics, that is, lenses, as heretofore.

Bei der Herstellung einer wie zuvor erläuterten Lithographieanlage kann es erforderlich sein, einzelne Module oder Komponenten der Lithographieanlage, wie beispielsweise das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem oder das Projektionssystem, einer Reinigung zu unterziehen. Hierzu können Reinigungsanlagen mit Restgasanalyse eingesetzt werden. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem beziehungsweise das Projektionssystem kann eine Masse von etwa 8 t beziehungsweise von etwa 15 t aufweisen. Um eine derartige Reinigungsanlage beladen oder entladen zu können, kann ein Schienensystem eingesetzt werden, auf dem die zu reinigende Komponente der Lithographieanlage platziert werden kann.In the production of a lithography system as explained above, it may be necessary to subject individual modules or components of the lithography system, such as the beam-forming and illumination system or the projection system, to a cleaning. For this purpose, cleaning systems with residual gas analysis can be used. The beam shaping and illumination system or the projection system may have a mass of about 8 t or about 15 t. In order to load or unload such a cleaning system, a rail system can be used, on which the component of the lithography system to be cleaned can be placed.

Bei der Herstellung der vorgenannten Module und Komponenten ist es auch erforderlich, deren optische Performance zu überprüfen. Hierzu werden entsprechende Messanlagen eingesetzt. Auch in diese Messanlagen müssen die Komponenten eingebracht werden. Vorzugsweise wird dies ebenfalls mit Hilfe von Schienensystemen verwirklicht.In the production of the aforementioned modules and components, it is also necessary to check their optical performance. For this purpose, appropriate measuring systems are used. Also in these measuring systems, the components must be introduced. Preferably, this is also realized by means of rail systems.

Da derartige Reinigungsanlagen oder Messanlagen im Ultrahochvakuum (UHV) arbeiten, sind die nutzbaren Werkstoffe sehr eingeschränkt. Um die Masse der zu reinigenden Komponente bewegen zu können und eine Partikelerzeugung auf ein Minimum zu reduzieren, muss der Rollwiderstand des Schienensystems gering sein und eine plastische Verformung der Schienenoberfläche durch die Hertzsche Pressung ist zu verhindern. Die Flächenpressung kann durch eine angepasste Geometrieauswahl minimiert werden. Die verbleibende Hertzsche Pressung muss dann von den Bauteilen des Schienensystems abgefangen werden, was eine hohe Härte erfordert.Since such cleaning systems or measuring systems work in ultrahigh vacuum (UHV), the usable materials are very limited. In order to be able to move the mass of the component to be cleaned and to minimize particle generation, the rolling resistance of the rail system must be low and plastic deformation of the rail surface by the Hertzian pressure must be prevented. The surface pressure can be minimized by an adapted geometry selection. The remaining Hertzian pressure must then be absorbed by the components of the rail system, which requires a high hardness.

Darüber hinaus muss verhindert werden, dass beim Wechsel von einem Schienensystem, beispielsweise einem Beladewagen, auf ein anderes Schienensystem, beispielsweise einer Reinigungsanlage, Schocks, Stöße oder andere Kraftspitzen auftreten, die zu einer Dejustage der Komponente führen können.In addition, it must be prevented that when changing from one rail system, such as a loading car, on another rail system, such as a cleaning system, shocks, shocks or other force peaks occur that can lead to a misalignment of the component.

Die auftretenden Belastungen, nämlich die Spannungsspitzen im Material, treten in einer Tiefe von einigen Zehntel Millimetern auf. Aufgrund dessen ist eine Mindesteinhärtetiefe von mehr als 1 mm nötig. Eine Randschichthärtung von Edelstahl mit geringem Verzug ist mit der unsymmetrischen Geometrie bekannter Schienen nicht realisierbar. Ein Verfahren, bei dem Stahl durch das eindiffundieren von anderen Stoffen eine höhere Randschichthärte erhält und kein Verzug entsteht, wie beispielsweise Nitrieren, reicht aufgrund der geringen Schichtdicke nicht aus.The occurring loads, namely the voltage peaks in the material, occur at a depth of a few tenths of a millimeter. Due to this, a minimum hardening depth of more than 1 mm is necessary. A surface hardening of stainless steel with little distortion is not feasible with the asymmetrical geometry of known rails. A process in which steel receives a higher surface hardness due to the diffusion of other substances and no distortion occurs, such as nitriding, is insufficient due to the small layer thickness.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes Schienensystem bereitzustellen.Against this background, an object of the present invention is to provide an improved rail system.

Demgemäß wird eine Schienenvorrichtung zum Bewegen von Komponenten einer Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Schienenvorrichtung umfasst eine Führungsschiene, und ein Rollenpaket mit drehbar gelagerten Rollen, wobei die Führungsschiene ein Laufflächenelement, auf dem im Betrieb der Schienenvorrichtung die Rollen abrollen, und ein Tragelement, das das Laufflächenelement trägt, umfasst, und wobei das Laufflächenelement und das Tragelement formschlüssig miteinander verbunden sind.Accordingly, a rail device for moving components of a lithography system is proposed. The rail device comprises a guide rail, and a roller assembly with rotatably mounted rollers, wherein the guide rail comprises a tread element on which roll in the operation of the rail device, and a support member which carries the tread element, and wherein the tread element and the support member with each other form fit are connected.

Dadurch, dass die Funktionen Tragstruktur und Lauffläche der Führungsschiene auf zwei voneinander getrennte Bauteile, nämlich das Laufflächenelement und das Tragelement, aufgetrennt sind, ist es möglich, für das Laufflächenelement beispielsweise ein gehärtetes und damit abriebfestes Material einzusetzen. Gleichzeitig kann für das Tragelement ein im Vergleich zu dem Laufflächenelement zäheres Material eingesetzt werden. Hier kann beispielsweise ein ungehärtetes Material eingesetzt werden, so dass ein Design einer Geometrie des Tragelements nicht durch einen zu erwartenden Verzug beim Härten eingeschränkt ist.Characterized in that the functions supporting structure and running surface of the guide rail on two separate components, namely the tread element and the support member, are separated, it is possible to use for the tread element, for example, a hardened and thus abrasion resistant material. At the same time, a material which is tougher than the tread element can be used for the support element. Here, for example, an uncured material can be used, so that a design of a geometry of the support element is not limited by an expected delay in curing.

Die Komponenten können beispielsweise ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem ein Projektionssystem oder beliebige andere Bauteile der Lithographieanlage umfassen. Die Komponenten können auch als Bauteile oder Module bezeichnet werden. Insbesondere kann die Lithographieanlage modular aufgebaut sein. Das Rollenpaket ist insbesondere geeignet, mit Hilfe der Rollen entlang der Führungsschiene eine lineare Bewegung zu vollziehen. Die Rollen können auch als Laufrollen bezeichnet werden. Insbesondere sind die Rollen in oder an dem Rollenpaket drehbar gelagert. Hierzu kann eine geeignete Lagerung, beispielsweise eine Wälzlagerung, vorgesehen sein.The components may include, for example, a beam forming and illumination system, a projection system or any other components of the lithography system. The components can also be referred to as components or modules. In particular, the lithography system can be modular. The roller package is particularly suitable to perform a linear movement with the help of the rollers along the guide rail. The rollers can also be referred to as rollers. In particular, the rollers are rotatably mounted in or on the roller package. For this purpose, a suitable storage, for example, a roller bearing can be provided.

Insbesondere sind das Laufflächenelement und das Tragelement zwei voneinander getrennte Bauteile, die formschlüssig miteinander verbunden sind. Eine formschlüssige Verbindung entsteht durch das Ineinander- oder Hintergreifen von mindestens zwei Verbindungspartnern. Beispielsweise ist das Laufflächenelement mit dem Tragelement verschraubt, vernietet, verklemmt oder auf sonstige Art und Weise fest miteinander verbunden. Bevorzugt ist das Laufflächenelement von dem Tragelement trennbar. Die Trennbarkeit kann beispielsweise mit Hilfe einer Schraubverbindung gewährleistet werden. Bevorzugt ist das Tragelement ein Doppel-T-Träger.In particular, the tread element and the support element are two separate components which are positively connected with each other. A positive connection is created by the meshing or grasping of at least two connection partners. For example, the tread element is bolted to the support member, riveted, jammed or otherwise firmly connected together. Preferably, the tread element is separable from the support element. The separability can be ensured for example by means of a screw connection. Preferably, the support element is a double-T-beam.

Gemäß einer Ausführungsform ist das Tragelement aus einer ungehärteten Stahllegierung, insbesondere aus ungehärtetem Edelstahl, gefertigt, wobei das Laufflächenelement aus einer gehärteten Stahllegierung, insbesondere aus gehärtetem Edelstahl, gefertigt ist.According to one embodiment, the support element is made of an unhardened steel alloy, in particular of unhardened stainless steel, wherein the running surface element is made of a hardened steel alloy, in particular of hardened stainless steel.

Das Tragelement und das Laufflächenelement können aus derselben Stahllegierung oder aus unterschiedlichen Stahllegierungen gefertigt sein. Das Laufflächenelement ist insbesondere oberflächengehärtet oder randschichtgehärtet. Die Mindesteinhärtetiefe beträgt bevorzugt mehr als 0,5 mm.The support element and the tread element may be made of the same steel alloy or different steel alloys. The tread element is in particular surface-hardened or surface-hardened. The minimum hardening depth is preferably more than 0.5 mm.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Laufflächenelement zwei V-förmig angeordnete Laufflächen oder eine plane Lauffläche auf.According to a further embodiment, the tread element has two V-shaped treads or a flat tread.

„V-förmig“ bedeutet dabei, dass die beiden Laufflächen zueinander geneigt sind. Für den Fall, dass die Lauffläche plan oder eben ist, ist insbesondere genau eine Lauffläche vorgesehen. Vorzugsweise sind zwei Führungsschienen vorgesehen, wobei die eine Führungsschiene das Laufflächenelement mit den V-förmig angeordneten Laufflächen und die andere Führungsschiene das Laufflächenelement mit der planen Lauffläche aufweist. Die beiden V-förmig angeordneten Laufflächen sind vorzugsweise nicht plan, sondern weisen eine Krümmung mit einem Radius von beispielsweise größer als 200 mm auf. Hierdurch kann die Hertzsche Pressung klein gehalten werden. Außerdem sorgen diese Radien in Kombination mit einer balligen Rolle auf der planen Lauffläche dafür, dass sich auch bei einer Durchbiegung der zu tragenden Komponente zwischen den Schienen, beispielsweise ein Durchhängen auf Grund des Eigengewichts, die Auflagepunkte auf den Führungsschienen anpassen können und so keine Zwangskräfte auf die Komponente übergehen. Alternativ können die Laufflächen des Laufflächenelements auch V-förmig und ohne Radien ausgeführt werden. Hierbei sind dann die Rollen zusätzlich mit einer Balligkeit mit einem Radius von größer als 200 mm zu versehen. Analog dazu kann die plane Lauffläche des Laufflächenelements ballig ausgeführt werden und darauf zylindrische Rollen genutzt werden."V-shaped" means that the two treads are inclined to each other. In the event that the tread is flat or flat, in particular exactly one tread is provided. Preferably, two guide rails are provided, wherein the one guide rail, the tread element with the V-shaped arranged treads and the other guide rail has the tread element with the flat running surface. The two V-shaped arranged running surfaces are preferably not plan, but have a curvature with a radius of, for example, greater than 200 mm. As a result, the Hertzian pressure can be kept small. In addition, these radii in combination with a spherical roller on the flat tread ensure that even with a deflection of the component to be supported between the rails, for example sagging due to its own weight, the support points on the guide rails can adjust and thus no constraining forces skip the component. Alternatively, the running surfaces of the tread element can also be performed V-shaped and without radii. In this case, the rollers are then additionally provided with a crown with a radius of greater than 200 mm. Similarly, the plane running surface of the tread element can be performed crowned and cylindrical rollers are used.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Laufflächenelement den V-förmig angeordneten Laufflächen abgewandt zwei V-förmig angeordnete Fasen auf.According to a further embodiment, the tread element facing away from the V-shaped running surfaces on two V-shaped arranged chamfers.

Mit Hilfe der V-förmig angeordneten Laufflächen und der V-förmig angeordneten Fasen kann ein annähernd rotationssymmetrischer Aufbau des Laufflächenelements erreicht werden. Hierdurch kann ein Verzug des Laufflächenelements beim Härten desselben verhindert oder zumindest reduziert werden.With the help of the V-shaped arranged running surfaces and the V-shaped chamfers, an approximately rotationally symmetrical structure of the tread element can be achieved. In this way, a distortion of the tread element during curing of the same can be prevented or at least reduced.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Tragelement zwei V-förmig angeordnete Auflageflächen auf, auf denen die Fasen aufliegen.According to a further embodiment, the support element has two V-shaped bearing surfaces on which the chamfers rest.

Wie zuvor erwähnt, ist das Tragelement bevorzugt ein Doppel-T-Träger mit zwei Randabschnitten, die mit Hilfe eines Stegabschnitts miteinander verbunden sind. An einem der Randabschnitte sind die Auflageflächen vorgesehen. Zwischen den Auflageflächen und dem Laufflächenelement können Abstandshalter oder Spacer vorgesehen sein, so dass das Laufflächenelement in seiner Lage justiert werden kann.As mentioned above, the support element is preferably a double-T-carrier with two edge sections, which are connected to each other by means of a web portion. At one of the edge portions of the bearing surfaces are provided. Spacers or spacers may be provided between the bearing surfaces and the tread element, so that the tread element can be adjusted in its position.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Laufflächenelement eine achteckige oder eine rechteckige Querschnittsgeometrie auf.According to a further embodiment, the tread element has an octagonal or a rectangular cross-sectional geometry.

Hierdurch kann ein annähernd symmetrischer, insbesondere rotationssymmetrischer, Aufbau des Laufflächenelements erreicht werden. Die reduziert den Verzug beim Härten des Laufflächenelements. Für den Fall, dass das Laufflächenelement eine achteckige Querschnittsgeometrie aufweist, umfasst dieses die zuvor erwähnten V-förmig angeordneten Laufflächen sowie die V-förmig angeordneten Fasen. Für den Fall, dass das Laufflächenelement eine viereckige Querschnittsgeometrie aufweist, umfasst dieses die zuvor erwähnte plane Lauffläche.As a result, an approximately symmetrical, in particular rotationally symmetrical, construction of the tread element can be achieved. This reduces the distortion when curing the tread element. In the event that the tread element has an octagonal cross-sectional geometry, this includes the aforementioned V-shaped treads and the V-shaped chamfers arranged. In the event that the tread element has a quadrangular cross-sectional geometry, this includes the aforementioned flat tread.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die Rollen in dem Rollenpaket einzeln federnd gelagert. According to a further embodiment, the rollers are individually spring-mounted in the roller package.

Das heißt insbesondere, dass jeder Rolle zumindest ein Federelement zugeordnet ist. Hierdurch können beispielsweise Spalte zwischen zwei benachbarten Laufflächenelementen einfach überwunden werden. Mit Hilfe der federnden Lagerung können Schocks, Stöße oder andere Kraftspitzen verhindert oder zumindest reduziert werden, die zu einer Dejustage der Komponente führen können.This means in particular that each roller is assigned at least one spring element. As a result, for example, gaps between two adjacent tread elements can be easily overcome. With the help of the resilient mounting shocks, shocks or other force peaks can be prevented or at least reduced, which can lead to a misalignment of the component.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist jeder Rolle ein Aufnahmeelement zugeordnet, in oder an dem die jeweilige Rolle drehbar gelagert ist, wobei jedes Aufnahmeelement in einem Gehäuse des Rollenpakets einzeln federnd gelagert ist.According to a further embodiment, each roller is associated with a receiving element in or on which the respective roller is rotatably mounted, each receiving element is mounted individually resiliently in a housing of the roll package.

Bevorzugt ist jeder Rolle eine Achse zugeordnet, die in dem entsprechenden Aufnahmeelement gelagert ist. Die Rollen sind auf den ihnen zugeordneten Achsen drehbar gelagert. Hierfür ist bevorzugt eine Wälzlagerung vorgesehen. Um die hohen Hertzschen Pressungen übertragen zu können, kommen bevorzugt Vollkeramiklager zur Anwendung. Durch deren hohe Härte ist auch ein Trockenlauf ohne viel Abrieb möglich. Alternativ können Stahl-Wälzlager mit einer speziellen UHVtauglichen und trockenlaufgeeigneten Beschichtung eingesetzt werden.Preferably, each roller is associated with an axle which is mounted in the corresponding receiving element. The rollers are rotatably mounted on their associated axes. For this purpose, a rolling bearing is preferably provided. In order to transfer the high Hertzian pressure, all-ceramic bearings are preferred. Due to their high hardness, dry running without much abrasion is possible. Alternatively, steel rolling bearings can be used with a special UHV-compatible and dry-running coating.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist jedem Aufnahmeelement zumindest ein Federelement zugeordnet, welches zwischen dem jeweiligen Aufnahmeelement und dem Gehäuse angeordnet ist.According to a further embodiment, each receiving element is associated with at least one spring element which is arranged between the respective receiving element and the housing.

Das Gehäuse ist bevorzugt mit Hilfe zumindest eines Spanndeckels verschlossen. Mit Hilfe des Spanndeckels können die Federelemente vorgespannt werden. Die Federelemente sind bevorzugt sogenannte Schraubentellerfedern. Alternativ können auch gestapelte Tellerfedern eingesetzt werden. In diesem Fall wird eine Maßnahme erforderlich, beispielsweise ein zentraler Führungsstift, die verhindert, dass das gestapelte Tellerfederpaket verrutscht oder verkippt.The housing is preferably closed by means of at least one clamping lid. With the help of the clamping cover, the spring elements can be biased. The spring elements are preferably so-called Schraubentellerfedern. Alternatively, stacked disc springs can be used. In this case, a measure is required, for example, a central guide pin, which prevents the stacked disc spring packet from slipping or tilting.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist jedem Aufnahmeelement zumindest ein Führungsstift zugeordnet, welcher das jeweiligen Aufnahmeelement linear in oder an dem Gehäuse führt.According to a further embodiment, each receiving element is associated with at least one guide pin which guides the respective receiving element linearly in or on the housing.

Die Führungsstifte sind bevorzugt sogenannte Schwertstifte. Bevorzugt sind jedem Aufnahmeelement zwei Führungsstifte zugeordnet. Die Führungsstifte verhindern ein Verkippen der Aufnahmeelemente in dem Gehäuse. Die Führungsstifte sind bevorzugt durch die Federelemente hindurchgeführt. Die Schwertstifte erlauben darüber hinaus einem kleinen Winkelausgleich der gelagerten Rolle zur Führungsschiene. Dies ist notwendig, wenn sich die Komponente stark durchbiegt, die Rollenpakete einen kleinen Winkelfehler zur Längsrichtung haben oder zwei Laufflächenelemente nicht perfekt zueinander justiert sind.The guide pins are preferably so-called sword pins. Preferably, each receiving element associated with two guide pins. The guide pins prevent tilting of the receiving elements in the housing. The guide pins are preferably passed through the spring elements. The sword pins also allow a small angle compensation of the stored role to the guide rail. This is necessary when the component bends strongly, the roller packages have a small angular error to the longitudinal direction, or two tread elements are not perfectly aligned with each other.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weisen die Rollen jeweils zwei V-förmig angeordnete Laufflächen oder eine ballige Lauffläche auf.According to a further embodiment, the rollers each have two V-shaped treads or a spherical tread.

Die Laufflächen der Rollen können jedoch auch zylinderförmig sein. „Ballig“ heißt dabei, dass die Lauffläche gekrümmt ist.However, the running surfaces of the rollers can also be cylindrical. "Ballig" means that the tread is curved.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Schienenvorrichtung ferner mehrere Laufflächenelemente, welche in einer Längsrichtung der Schienenvorrichtung hintereinander angeordnet sind, wobei das Tragelement die mehreren Laufflächenelemente trägt.According to a further embodiment, the rail device further comprises a plurality of tread elements, which are arranged one behind the other in a longitudinal direction of the rail device, wherein the support element carries the plurality of tread elements.

Das heißt, dass ein Tragelement mehrere Laufflächenelemente trägt. Jedes Laufflächenelement weist bevorzugt eine Länge von etwa 0,5 bis 1,5 m auf. Hierdurch kann der Verzug beim Härten minimiert werden. Die Führungsschiene selbst kann eine Länge von etwa 5 m aufweisen. „Hintereinander“ meint dabei, dass die Laufflächenelemente in der Längsrichtung betrachtet so angeordnet sind, dass die Laufflächenelemente aufeinander folgen.That is, a support member carries a plurality of tread elements. Each tread element preferably has a length of about 0.5 to 1.5 m. As a result, the delay during curing can be minimized. The guide rail itself may have a length of about 5 m. "In a row" means that the tread elements viewed in the longitudinal direction are arranged so that the tread elements follow one another.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Schienenvorrichtung ferner einen Abstandshalter, insbesondere einen Spacer, der an einem dem Laufflächenelement abgewandten Randabschnitt des Tragelements angeordnet ist.According to a further embodiment, the rail device further comprises a spacer, in particular a spacer, which is arranged on an edge portion of the support element facing away from the tread element.

Der Abstandshalter ist ein Spacer oder kann als Spacer bezeichnet werden. Der Abstandshalter ist bevorzugt plattenförmig. Der zuvor erwähnte Randabschnitt des Tragelements kann mit Hilfe von Stützen an einer Tragstruktur, beispielsweise an einem Hallenboden, befestigt sein. Unterhalb des Randabschnitts kann der Spacer oder Abstandshalter vorgesehen sein. Zum Ausrichten der Führungsschiene können auf jeder Stütze derartige Abstandshalter genutzt werden. Diese können nach Bedarf eingeschliffen werden. Somit können eine Verkippung und/oder ein Höhenversatz ausgeglichen werden.The spacer is a spacer or can be referred to as a spacer. The spacer is preferably plate-shaped. The aforementioned edge portion of the support element can be fastened by means of supports to a support structure, for example on a hall floor. Below the edge portion of the spacer or spacer may be provided. For aligning the guide rail such spacers can be used on each support. These can be ground in as needed. Thus, a tilt and / or a height offset can be compensated.

Ferner wird ein Schienensystem mit zumindest einer derartigen Schienenvorrichtung vorgeschlagen.Furthermore, a rail system with at least one such rail device is proposed.

Bevorzugt umfasst das Schienensystem zwei Schienenvorrichtungen. Das Schienensystem kann jedoch auch nur eine Schienenvorrichtung oder mehr als zwei Schienenvorrichtungen aufweisen. Das Schienensystem ist bevorzugt Teil einer wie zuvor erläuterten Reinigungsanlage, einer optischen Messanlage, eines Beladewagens für diese Anlagen, eines Transportwagens, mit welchem die Komponenten im Reinraum bewegt werden können, eines Montagestands, auf welchem die genannten Komponenten montiert oder vervollständigt werden können, oder eines Ablagegestells, auf welchem die genannten Komponenten zwischengelagert werden können. Insbesondere ist allen vorgenannten Einsatzfällen gemeinsam, dass eine Schienenhöhe über einem Boden sowie eine Spurweite der Führungsschienen für alle Anwendungsfälle einer Komponente identisch ist, so dass die Komponente ohne Zuhilfenahme eines Krans von einem Schienensystem auf ein anderes Schienensystem geschoben werden kann.The rail system preferably comprises two rail devices. However, the rail system may also have only one rail device or more than two rail devices. The rail system is preferably part of a previously explained cleaning equipment, an optical measuring system, a loading car for these systems, a trolley with which the components can be moved in the clean room, a mounting stand on which said components can be mounted or completed, or a storage rack on which said components can be stored. In particular, all above-mentioned applications in common that a rail height above a floor and a track width of the guide rails for all applications of a component is identical, so that the component without the aid of a crane can be pushed from one rail system to another rail system.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst das Schienensystem ferner eine erste Schienenvorrichtung und eine zweite Schienenvorrichtung, wobei die erste Schienenvorrichtung als Festlager des Schienensystems fungiert, und wobei die zweite Schienenvorrichtung als Loslager des Schienensystems fungiert.According to one embodiment, the rail system further comprises a first rail device and a second rail device, wherein the first rail device functions as a fixed bearing of the rail system, and wherein the second rail device functions as a movable bearing of the rail system.

Darunter, dass die erste Schienenvorrichtung als „Festlager fungiert“ ist insbesondere zu verstehen, dass die erste Schienenvorrichtung keine Bewegung senkrecht zu der Längsrichtung ermöglicht. Die erste Schienenvorrichtung ermöglicht somit eine Seitenführung. Dies kann dadurch erreicht werden, dass die Rollen und das Laufflächenelement jeweils V-förmig angeordnete Laufflächen aufweisen. Darunter, dass die zweite Schienenvorrichtung als „Loslager fungiert“ ist insbesondere zu verstehen, dass die zweite Schienenvorrichtung im Gegensatz zu der ersten Schienenvorrichtung eine Bewegung senkrecht zu der Längsrichtung ermöglicht. Die zweite Schienenvorrichtung ermöglicht somit keine Seitenführung. Dies kann dadurch erreicht werden, dass die Rollen eine ballige oder zylinderförmige Lauffläche aufweisen und das Laufflächenelement eine plane oder ebene Lauffläche aufweist.By the fact that the first rail device acts as a "fixed bearing" is to be understood in particular that the first rail device does not allow movement perpendicular to the longitudinal direction. The first rail device thus allows a side guide. This can be achieved in that the rollers and the tread element each have V-shaped arranged running surfaces. By the fact that the second rail device acts as a "floating bearing" is to be understood in particular that the second rail device, in contrast to the first rail device allows a movement perpendicular to the longitudinal direction. The second rail device thus allows no side guidance. This can be achieved in that the rollers have a crowned or cylindrical running surface and the tread element has a plane or even running surface.

„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.In the present case, "a" is not necessarily to be understood as restricting to exactly one element. Rather, several elements, such as two, three or more, may be provided. Also, any other count word used herein is not to be understood as being limited to just the stated number of elements. Rather, numerical deviations up and down are possible, unless stated otherwise.

Die für die Schienenvorrichtung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Schienensystem entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the rail device apply to the proposed rail system and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include not explicitly mentioned combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments. The skilled person will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV-Lithographieanlage;
1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV-Lithographieanlage;
2 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Reinigungsanlage zum Reinigen von Komponenten einer Lithographieanlage gemäß 1A oder 1B;
3 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform einer Schienenvorrichtung für die Reinigungsanlage gemäß 2;
4 zeigt die Detailansicht IV gemäß 3;
5 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht einer Ausführungsform eines Rollenpakets für die Schienenvorrichtung gemäß 3;
6 zeigt eine schematische Schnittansicht des Rollenpakets gemäß 5;
7 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform einer Schienenvorrichtung für die Reinigungsanlage gemäß 2; und
8 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht einer Ausführungsform eines Rollenpakets für die Schienenvorrichtung gemäß 7.

Further advantageous embodiments and aspects of the invention are the subject of the dependent claims and the embodiments of the invention described below. Furthermore, the invention will be explained in more detail by means of preferred embodiments with reference to the attached figures.

1A shows a schematic view of an embodiment of an EUV lithography system;
1B shows a schematic view of an embodiment of a DUV lithography system;
2 shows a schematic plan view of an embodiment of a cleaning system for cleaning components of a lithographic system according to 1A or 1B ;
3 shows a schematic sectional view of an embodiment of a rail device for the cleaning system according to 2 ;
4 shows the detail view IV according to 3 ;
5 shows a schematic perspective view of an embodiment of a roll package for the rail device according to 3 ;
6 shows a schematic sectional view of the roll package according to 5 ;
7 shows a schematic sectional view of another embodiment of a rail device for the cleaning system according to 2 ; and
8th shows a schematic perspective view of an embodiment of a roll package for the rail device according to 7 ,

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.In the figures, the same or functionally identical elements have been given the same reference numerals, unless stated otherwise. It should also be noted that the illustrations in the figures are not necessarily to scale.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. 1A shows a schematic view of an EUV lithography system 100A which is a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes. EUV stands for "extreme ultraviolet" (English: extreme ultraviolet, EUV) and denotes a wavelength of working light between 0.1 nm and 30 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 are each provided in a vacuum housing, not shown, wherein each vacuum housing is evacuated by means of an evacuation device, not shown. The vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which drive devices are provided for the mechanical method or adjustment of optical elements. Furthermore, electrical controls and the like may be provided in this engine room.

Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt, und die gewünschte Betriebswellenlänge wird aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.The EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A on. As an EUV light source 106A For example, a plasma source (or a synchrotron) can be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), so for example in the wavelength range of 5 nm to 20 nm emits. In the beam-forming and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A bundled, and the desired operating wavelength is from the EUV radiation 108A filtered out. The from the EUV light source 106A generated EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam guiding spaces in the beam-forming and lighting system 102 and in the projection system 104 are evacuated.

Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1A illustrated beam shaping and illumination system 102 has five mirrors 110 . 112 . 114 . 116 . 118 on. After passing through the beam shaping and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A on a photomask (English: reticle) 120 directed. The photomask 120 is also designed as a reflective optical element and can be outside the systems 102 . 104 be arranged. Next, the EUV radiation 108A by means of a mirror 122 on the photomask 120 be steered. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 reduced to a wafer 124 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1 bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1 bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel M1 bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel M1 bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel M1 bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 (also called projection lens) has six mirrors M1 to M6 for imaging the photomask 120 on the wafer 124 on. It can single mirror M1 to M6 of the projection system 104 symmetrical to an optical axis 126 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of mirrors M1 to M6 the EUV lithography system 100A is not limited to the number shown. There may also be more or less mirrors M1 to M6 be provided. Furthermore, the mirrors M1 to M6 usually curved at its front for beam shaping.

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben - von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein. 1B shows a schematic view of a DUV lithography system 100B which is a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes. DUV stands for "deep ultraviolet" (English: deep ultraviolet, DUV) and refers to a wavelength of working light between 30 nm and 250 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 can - as already related to 1A be described - surrounded by a machine room with corresponding drive devices.

Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.The DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B on. As a DUV light source 106B For example, an ArF excimer laser can be provided, which radiation 108B in the DUV range at, for example, 193 nm emitted.

Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1B illustrated beam shaping and illumination system 102 directs the DUV radiation 108B on a photomask 120 , The photomask 120 is designed as a transmissive optical element and can be outside the systems 102 . 104 be arranged. The photomask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 reduced to a wafer 124 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 has several lenses 128 and / or mirrors 130 for imaging the photomask 120 on the wafer 124 on. This can be individual lenses 128 and / or mirrors 130 of the projection system 104 symmetrical to an optical axis 126 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of lenses 128 and mirrors 130 the DUV lithography system 100B is not limited to the number shown. There may also be more or fewer lenses 128 and / or mirrors 130 be provided. Furthermore, the mirrors 130 usually curved at its front for beam shaping.

Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.An air gap between the last lens 128 and the wafer 124 can be through a liquid medium 132 be replaced, which has a refractive index> 1. The liquid medium 132 can be, for example, high purity water. Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution. The medium 132 can also be referred to as immersion liquid.

Bei der Herstellung einer wie zuvor erläuterten Lithographieanlage 100A, 100B kann es erforderlich sein, das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und/oder das Projektionssystem 104 als Module einer Reinigung zu unterziehen. Hierzu können Reinigungsanlagen mit Restgasanalyse eingesetzt werden. Beispielsweise können Frontloader-UHV-Vakuumanlagen eingesetzt werden. „UHV“ steht dabei für Ultrahochvakuum.In the production of a lithography system as explained above 100A . 100B It may be necessary to use the beamforming and lighting system 102 and / or the projection system 104 as a module to undergo a cleaning. For this purpose, cleaning systems with residual gas analysis can be used. For example, you can Frontloader UHV vacuum systems are used. "UHV" stands for ultra-high vacuum.

Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 beziehungsweise das Projektionssystem 104 können eine Masse von 8 t beziehungsweise von 15 t aufweisen. Um das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 beziehungsweise das Projektionssystem 104 in eine wie zuvor erwähnte Reinigungsanlage hineinzuschieben beziehungsweise aus dieser herauszuziehen, kann ein Schienensystem eingesetzt werden, auf dem das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 beziehungsweise das Projektionssystem 104 platziert werden kann.The beam shaping and lighting system 102 or the projection system 104 may have a mass of 8 t or 15 t. To the beam shaping and lighting system 102 or the projection system 104 into a cleaning system as mentioned above or pull out of this, a rail system can be used, on which the Strahlformungs- and lighting system 102 or the projection system 104 can be placed.

Auf Grund der Anwendung im UHV sind die nutzbaren Werkstoffe sehr eingeschränkt. Um die Massen des Strahlformungs- und Beleuchtungssystems 102 beziehungsweise des Projektionssystems 104 bewegen zu können und eine Partikelerzeugung auf ein Minimum zu reduzieren, muss der Rollwiderstand des Schienensystems gering sein und eine plastische Verformung der Schienenoberfläche durch die Hertzsche Pressung ist zu verhindern. Die Flächenpressung kann durch eine angepasste Geometrieauswahl minimiert werden. Die verbleibende Hertzsche Pressung muss dann von den Bauteilen des Schienensystems abgefangen werden, was eine hohe Härte erfordert.Due to the application in UHV, the usable materials are very limited. To the masses of the beam-forming and lighting system 102 or the projection system 104 To be able to move and minimize particle generation, the rolling resistance of the rail system must be low and plastic deformation of the rail surface by the Hertzian pressure is to be prevented. The surface pressure can be minimized by an adapted geometry selection. The remaining Hertzian pressure must then be absorbed by the components of the rail system, which requires a high hardness.

Die auftretenden Belastungen, nämlich die Spannungsspitzen im Material treten in einer Tiefe von einigen Zehntel Millimetern auf. Aufgrund dessen ist eine Mindesteinhärtetiefe von mehr als 0,5 mm nötig. Eine Randschichthärtung von Edelstahl mit geringem Verzug ist mit der unsymmetrischen Geometrie bekannter Schienen nicht realisierbar. Ein Verfahren bei dem Stahl durch das eindiffundieren von anderen Stoffen eine höhere Randschichthärte erhält und kein Verzug entsteht wie beispielsweise Nitrieren reicht aufgrund der geringen Schichtdicke nicht aus. The occurring loads, namely the voltage peaks in the material occur at a depth of a few tenths of a millimeter. Due to this, a minimum hardening depth of more than 0.5 mm is necessary. A surface hardening of stainless steel with little distortion is not feasible with the asymmetrical geometry of known rails. A process in which steel receives a higher surface hardness due to the diffusion of other substances and no distortion occurs, such as nitriding, for example, is insufficient due to the small layer thickness.

2 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer wie zuvor erwähnten Reinigungsanlage 200 mit Restgasanalyse, die geeignet ist, das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 beziehungsweise das Projektionssystem 104 aufzunehmen und zu reinigen. Anstelle der Reinigungsanlage 200 kann - wie zuvor erwähnt - beispielsweise auch eine Messanlage vorgesehen sein. In der 2 ist lediglich beispielhaft das Projektionssystem 104 gezeigt. Die Reinigungsanlage 200 umfasst einen Aufnahmebereich 202, der geeignet ist, das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 beziehungsweise das Projektionssystem 104 aufzunehmen. 2 shows a schematic plan view of an embodiment of a cleaning system as mentioned above 200 with residual gas analysis, which is suitable, the beam forming and lighting system 102 or the projection system 104 to pick up and clean. Instead of the cleaning system 200 can - as previously mentioned - for example, a measuring system can be provided. In the 2 is merely an example of the projection system 104 shown. The cleaning system 200 includes a receiving area 202 which is suitable, the beam-forming and lighting system 102 or the projection system 104 take.

Die Reinigungsanlage 200 umfasst ein Schienensystem 204, das die obigen Anforderungen erfüllt und die zuvor genannten Nachteile nicht aufweist. Mit Hilfe des Schienensystems 204 ist das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 beziehungsweise das Projektionssystem 104 in einer Einschubrichtung E in den Aufnahmebereich 202 hineinfahrbar und entgegen der Einschubrichtung E in einer Auszugsrichtung A aus diesem herausziehbar. Das Schienensystem 204 umfasst eine erste Schienenvorrichtung 206 und eine zweite Schienenvorrichtung 208. Die Schienenvorrichtungen 206, 208 verlaufen parallel zu und beabstandet voneinander. Es sind zumindest zwei Schienenvorrichtungen 206, 208 vorgesehen. Die Schienenvorrichtungen 206, 208 erstrecken sich jeweils entlang einer Längsrichtung L. Die Längsrichtung L kann mit der Einschubrichtung E oder der Auszugsrichtung A übereinstimmen.The cleaning system 200 includes a rail system 204 which meets the above requirements and does not have the aforementioned disadvantages. With the help of the rail system 204 is the beamforming and lighting system 102 or the projection system 104 in a direction of insertion e in the recording area 202 can be moved in and opposite to the insertion direction e in a single direction A pulled out of this. The rail system 204 includes a first rail device 206 and a second rail device 208 , The rail devices 206 . 208 are parallel to and spaced from each other. There are at least two rail devices 206 . 208 intended. The rail devices 206 . 208 each extend along a longitudinal direction L , The longitudinal direction L can with the insertion direction e or the extension direction A to match.

3 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform der ersten Schienenvorrichtung 206. 4 zeigt die Detailansicht IV gemäß der 3. 5 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht einer Ausführungsform eines Rollenpakets 210 für die erste Schienenvorrichtung 206. 6 zeigt eine schematische Schnittansicht des Rollenpakets 210. Nachfolgend wird auf die 3 bis 6 gleichzeitig Bezug genommen. 3 shows a schematic sectional view of an embodiment of the first rail device 206 , 4 shows the detail view IV according to the 3 , 5 shows a schematic perspective view of an embodiment of a roll package 210 for the first rail device 206 , 6 shows a schematic sectional view of the roll package 210 , Below is on the 3 to 6 simultaneously referred to.

Die erste Schienenvorrichtung 206 umfasst neben dem Rollenpaket 210 eine erste Führungsschiene 212, auf der das Rollenpaket 210 abrollen kann. Die Führungsschiene 212 erstreckt sich in der Längsrichtung L. Die Führungsschiene 212 umfasst ein Laufflächenelement 214 und ein Tragelement 216, welches das Laufflächenelement 214 trägt. Das Tragelement 216 kann ein Doppel-T-Träger sein. Somit sind die Funktionen Tragstruktur und Lauffläche der Führungsschiene 212 auf zwei voneinander getrennte Bauteile, nämlich das Laufflächenelement 214 und das Tragelement 216, aufgetrennt.The first rail device 206 includes next to the roll package 210 a first guide rail 212 on which the roll package 210 can roll. The guide rail 212 extends in the longitudinal direction L , The guide rail 212 includes a tread element 214 and a support element 216 which is the tread element 214 wearing. The support element 216 may be a double T-carrier. Thus, the functions support structure and tread of the guide rail 212 to two separate components, namely the tread element 214 and the support element 216 , separated.

Das Tragelement 216 ist ungehärtet und behält dadurch seine Zähigkeit. Beispielsweise ist das Tragelement 216 aus Edelstahl gefertigt. Das Tragelement 216 umfasst einen Stegabschnitt 218, der zwischen zwei Randabschnitten 220, 222 angeordnet ist, wodurch sich die Doppel-T-Form ergibt. Der Stegabschnitt 218 kann in einer nicht gezeigten Ausführungsform Kühlkanäle, sogenannte Tieflochbohrungen, umfassen. Mit Hilfe dieser Kühlkanäle kann eine bessere Temperierung oder schnellere Abkühlung der zu reinigenden Komponente, beispielsweise des Projektionssystems 104, im Vakuum erreicht werden. Der Randabschnitt 222 kann eine V-förmige Geometrie aufweisen und das Laufflächenelement 214 zumindest teilweise aufnehmen. Insbesondere kann der Randabschnitt 222 zwei V-förmig angeordnete Auflageflächen 224, 226 aufweisen, auf denen das Laufflächenelement 214 aufliegt. Mit Hilfe von Befestigungselementen 228, insbesondere Schrauben, ist das Laufflächenelement 214 mit dem Tragelement 216 fest verbunden.The support element 216 is uncured and thus maintains its toughness. For example, the support element 216 made of stainless steel. The support element 216 includes a web section 218 that between two border sections 220 . 222 is arranged, resulting in the double-T shape. The bridge section 218 may include cooling channels, so-called deep hole drilling in an embodiment, not shown. With the help of these cooling channels can better tempering or faster cooling of the component to be cleaned, for example, the projection system 104 to be achieved in a vacuum. The edge section 222 may have a V-shaped geometry and the tread element 214 at least partially record. In particular, the edge portion 222 two V-shaped contact surfaces 224 . 226 have on which the tread element 214 rests. With the help of fasteners 228 , in particular screws, is the tread element 214 with the support element 216 firmly connected.

In der Längsrichtung L betrachtet kann das Laufflächenelement 214 eine Länge von etwa 0,5 bis 1,5 m aufweisen. Grundsätzlich ist die Länge jedoch beliebig und kann auch mehr als 1,5 m betragen. In der Längsrichtung L kann eine beliebige Anzahl an Laufflächenelementen 214 hintereinander angeordnet sein. Eine Gesamtlänge der Führungsschiene 212 kann 5 m betragen. Dies wird durch die Hintereinanderreihung mehrerer Laufflächenelemente 214 erreicht. Das Laufflächenelement 214 kann aus gehärtetem Edelstahl gefertigt sein. Das Laufflächenelement 214 umfasst zwei V-förmig angeordnete Laufflächen 230, 232 (4), auf denen im Betrieb des Schienensystems 204 das Rollenpaket 210 abrollt. Die Geometrie der Laufflächen 230, 232 ist so gewählt, dass die Hertzsche Pressung minimiert wird.In the longitudinal direction L considered can be the tread element 214 have a length of about 0.5 to 1.5 m. In principle, however, the length is arbitrary and can also be more than 1.5 m. In the longitudinal direction L can be any number of tread elements 214 be arranged one behind the other. An overall length of the guide rail 212 can be 5 m. This is achieved by the succession of several tread elements 214 reached. The tread element 214 can be made of hardened stainless steel. The tread element 214 includes two V-shaped treads 230 . 232 ( 4 ) on which in the operation of the rail system 204 the roll package 210 rolls. The geometry of the treads 230 . 232 is chosen so that the Hertzian pressure is minimized.

Um eine annähernd rotationssymmetrische Geometrie zu erhalten, umfasst das Laufflächenelement 214 zwei den Laufflächen 230, 232 abgewandt angeordnete Fasen 234, 236. Mit den Fasen 234, 236 liegt das Laufflächenelement 214 auf den Auflageflächen 224, 226 auf. Aufgrund dieser annähernd rotationssymmetrischen Geometrie des Laufflächenelements 214 kann ein Verzug desselben beim Härten minimiert werden. Aufgrund der geringen Länge des Laufflächenelements 214 von beispielsweise 0,5 bis 1,5 m kann ein geringer Verzug beim Härten erreicht werden. Ferner ermöglichen die Fasen 234, 236 die Justage der Laufflächenelemente 214 zueinander in dem Tragelement 216. Durch das Unterlegen von Abstandshaltern oder Spacern (nicht gezeigt) ist - falls erforderlich - eine weitere Justage möglich.To obtain an approximately rotationally symmetric geometry, the tread element comprises 214 two of the treads 230 . 232 facing away chamfers 234 . 236 , With the chamfers 234 . 236 lies the tread element 214 on the bearing surfaces 224 . 226 on. Because of this approximately rotationally symmetrical geometry of the tread element 214 can be minimized distortion of the same during curing. Due to the small length of the tread element 214 For example, 0.5 to 1.5 m, a slight distortion during curing can be achieved. Furthermore, the chamfers allow 234 . 236 the adjustment of the tread elements 214 to each other in the support element 216 , By placing spacers or spacers (not shown), a further adjustment is possible if required.

Der Randabschnitt 220 des Tragelements 216 kann über nicht gezeigte Stützen an einer Tragstruktur, beispielsweise an einem Hallenboden, befestigt sein. Unterhalb des Randabschnitts 220 kann ein Spacer oder Abstandshalter 238 vorgesehen sein. Zum Ausrichten der Führungsschiene 212 können auf jeder Stütze derartige Abstandshalter 238 genutzt werden. Diese können nach Bedarf eingeschliffen werden. Somit können eine Verkippung und ein Höhenversatz ausgeglichen werden.The edge section 220 of the support element 216 can be fastened via supports, not shown, to a supporting structure, for example on a hall floor. Below the edge section 220 can be a spacer or spacer 238 be provided. For aligning the guide rail 212 can on any support such spacers 238 be used. These can be ground in as needed. Thus, a tilt and a height offset can be compensated.

Das in den 5 und 6 gezeigte Rollenpaket 210 umfasst mehrere, beispielsweise vier, individuell aufgehängte und gefederte Rollen 240, 242, 244, 246, die die Last gleichmäßig auf die Führungsschiene 212 verteilen und das Überfahren von Schienenunterbrechungen erlauben. Jede Rolle 240, 242, 244, 246 weist zwei V-förmig angeordnete Laufflächen 248, 250 (3) auf, die auf den Laufflächen 230, 232 des Laufflächenelements 214 abrollen. Die Rollen 240, 242, 244, 246 können aus gehärtetem Edelstahl gefertigt sein. Aufgrund der V-förmig angeordneten Laufflächen 230, 232, 248, 250 ist eine seitliche Führung der Rollen 240, 242, 244, 246 an dem Laufflächenelement 214 gewährleistet. Die Rollen 240, 242, 244, 246 sind somit senkrecht zu der Längsrichtung L an dem Laufflächenelement 214 geführt.That in the 5 and 6 shown roll package 210 includes several, for example, four, individually suspended and sprung roles 240 . 242 . 244 . 246 that puts the load evenly on the guide rail 212 distribute and allow the crossing of track interruptions. Every role 240 . 242 . 244 . 246 has two V-shaped treads 248 . 250 ( 3 ) on the treads 230 . 232 of the tread element 214 roll. The roles 240 . 242 . 244 . 246 can be made of hardened stainless steel. Due to the V-shaped treads 230 . 232 . 248 . 250 is a side guide of the rollers 240 . 242 . 244 . 246 on the tread element 214 guaranteed. The roles 240 . 242 . 244 . 246 are thus perpendicular to the longitudinal direction L on the tread element 214 guided.

Jede Rolle 240, 242, 244, 246 ist mit Hilfe einer Achse 252 in einem U-förmigen Aufnahmeelement 254 drehbar gelagert. Die Rollen 240, 242, 244, 246 sind auf ihrer jeweiligen Achse 252 wälzgelagert. Um die hohen Hertzschen Pressungen übertragen zu können, kommen bevorzugt Vollkeramiklager (nicht gezeigt) zur Anwendung. Durch deren hohe Härte ist auch ein Trockenlauf ohne viel Abrieb möglich.Every role 240 . 242 . 244 . 246 is with the help of an axis 252 in a U-shaped receiving element 254 rotatably mounted. The roles 240 . 242 . 244 . 246 are on their respective axis 252 roller bearings. In order to be able to transfer the high Hertzian stresses, full ceramic bearings (not shown) are preferably used. Due to their high hardness, dry running without much abrasion is possible.

Die Aufnahmeelemente 254 der Rollen 240, 242, 244, 246 sind in einem gemeinsamen Gehäuse 256 des Rollenpakets 210 aufgenommen. Zwischen den Aufnahmeelementen 254 und dem Gehäuse 256 sind Federelemente 258, 260 (3) vorgesehen, die einen Federweg der Aufnahmeelemente 254 gegenüber dem Gehäuse 256 von mindestens 3 bis 4 mm ermöglichen. Die Federelemente 258, 260 können sogenannte Schraubentellerfedern sein. Die Federelemente 258, 260 sind in den Aufnahmeelementen 254 aufgenommen. Hierzu weisen diese entsprechende Ausnehmungen 262, 264 auf.The recording elements 254 the roles 240 . 242 . 244 . 246 are in a common housing 256 of the roll package 210 added. Between the recording elements 254 and the housing 256 are spring elements 258 . 260 ( 3 ) is provided, the one spring travel of the receiving elements 254 opposite the housing 256 of at least 3 to 4 mm. The spring elements 258 . 260 can be so-called screw-plate springs. The spring elements 258 . 260 are in the receptacles 254 added. For this purpose, they have corresponding recesses 262 . 264 on.

Mit Hilfe von Führungsstiften 266, 268, insbesondere sogenannten Schwertstiften, sind die Aufnahmeelemente 254 der Rollen 240, 242, 244, 246 in dem Gehäuse 256 senkrecht zu der Längsrichtung L linear verschieblich gelagert. Die Führungsstifte 266, 268 sind durch die Federelemente 258, 260 hindurchgeführt und fest mit dem jeweiligen Aufnahmeelement 254 verbunden. Die Führungsstifte 266, 268 verhindern ein Verkippen der Aufnahmeelemente 254 in dem Gehäuse 256. Für die Führungsstifte 266, 268 sind in dem Gehäuse 256 korrespondierende Ausnehmungen 270, 272 vorgesehen.With the help of guide pins 266 . 268 , in particular so-called sword pins, are the receiving elements 254 the roles 240 . 242 . 244 . 246 in the case 256 perpendicular to the longitudinal direction L linearly displaceable. The guide pins 266 . 268 are by the spring elements 258 . 260 guided and firmly with the respective receiving element 254 connected. The guide pins 266 . 268 prevent tilting of the receiving elements 254 in the case 256 , For the guide pins 266 . 268 are in the case 256 corresponding recesses 270 . 272 intended.

Mit Hilfe zweier Spanndeckel 274, 276 wird das Gehäuse 256 verschlossen und die Federelemente 258, 260 werden unter Vorspannung gebracht. Die Spanndeckel 274, 276 sind mit Hilfe von Befestigungselementen 278 (5), insbesondere mit Hilfe von Schrauben, mit dem Gehäuse 256 fest verbunden. Front- und rückseitig umfasst das Gehäuse 256 zwei abschließende Deckel 280, 282.With the help of two clamping covers 274 . 276 becomes the case 256 closed and the spring elements 258 . 260 are brought under bias. The clamping lid 274 . 276 are with the help of fasteners 278 ( 5 ), in particular by means of screws, with the housing 256 firmly connected. Front and back covers the case 256 two final lids 280 . 282 ,

7 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform der zweiten Schienenvorrichtung 208. 8 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht einer Ausführungsform eines Rollenpakets 210 für die zweite Schienenvorrichtung 208. Nachfolgend wird auf die 7 und 8 gleichzeitig Bezug genommen. 7 shows a schematic sectional view of an embodiment of the second rail device 208 , 8th shows a schematic perspective view of an embodiment of a roll package 210 for the second rail device 208 , Below is on the 7 and 8th simultaneously referred to.

Der grundsätzliche Aufbau der zweiten Schienenvorrichtung 208 entspricht dem der ersten Schienenvorrichtung 206. Daher wird nachfolgend nur auf Unterschiede der Schienenvorrichtungen 206, 208 eingegangen. Die zweite Schienenvorrichtung 208 unterscheidet sich von der ersten Schienenvorrichtung 206 im Wesentlichen durch eine andere Geometrie des Laufflächenelements 214 und der Rollen 240, 242, 244, 246. Identische Bauteile sind in den 7 und 8 mit denselben Bezugszeichen bezeichnet.The basic structure of the second rail device 208 corresponds to the first rail device 206 , Therefore, hereinafter, only differences between the rail devices 206 . 208 received. The second rail device 208 is different from the first rail device 206 essentially by another geometry of the tread element 214 and the roles 240 . 242 . 244 . 246 , Identical components are in the 7 and 8th denoted by the same reference numerals.

Die zweite Schienenvorrichtung 208 umfasst eine zweite Führungsschiene 284 mit einem Laufflächenelement 214 und einem Tragelement 216. Das Laufflächenelement 214 weist jedoch keine zwei V-förmig angeordneten Laufflächen 230, 232, sondern nur eine ebene Lauffläche 286 auf. Dementsprechend umfassen auch die Rollen 240, 242, 244, 246 keine zwei V-förmig angeordneten Laufflächen 248, 250, sondern eine ballige Lauffläche 288. Das Gehäuse 256 ist mit Hilfe eines einteiligen Spanndeckels 290 verschlossen.The second rail device 208 includes a second guide rail 284 with a tread element 214 and a support element 216 , The tread element 214 However, there are no two V-shaped treads 230 . 232 but only a flat tread 286 on. Accordingly, the roles include 240 . 242 . 244 . 246 no two V-shaped treads 248 . 250 but a convex tread 288 , The housing 256 is with the help of a one-piece clamping lid 290 locked.

Aufgrund dieser andersartigen Geometrie des Laufflächenelements 214 und der Rollen 240, 242, 244, 246 sind die Rollen 240, 242, 244, 246 senkrecht zu der Längsrichtung L nicht an dem Laufflächenelement 214 geführt. Das heißt, die Rollen 240, 242, 244, 246 können senkrecht zu der Längsrichtung L auf dem Laufflächenelement 214 gleiten. Somit kann die zweite Schienenvorrichtung 208 als Loslager und die erste Schienenvorrichtung 206 als Festlager des Schienensystems 204 fungieren.Because of this different geometry of the tread element 214 and the roles 240 . 242 . 244 . 246 are the roles 240 . 242 . 244 . 246 perpendicular to the longitudinal direction L not on the tread element 214 guided. That is, the roles 240 . 242 . 244 . 246 can be perpendicular to the longitudinal direction L on the tread element 214 slide. Thus, the second rail device 208 as a floating bearing and the first rail device 206 as a fixed bearing of the rail system 204 act.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.Although the present invention has been described with reference to embodiments, it is variously modifiable.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100A100A: EUV-LithographieanlageEUV lithography system
100B100B: DUV-LithographieanlageDUV lithography system
102102: Strahlformungs- und BeleuchtungssystemBeam shaping and lighting system
104104: Projektionssystemprojection system
106A106A: EUV-LichtquelleEUV-light source
106B106B: DUV-LichtquelleDUV light source
108A108A: EUV-StrahlungEUV radiation
108B108B: DUV-StrahlungDUV radiation
110110: Spiegelmirror
112112: Spiegelmirror
114114: Spiegelmirror
116116: Spiegelmirror
118118: Spiegelmirror
120120: Photomaskephotomask
122122: Spiegelmirror
124124: Waferwafer
126126: optische Achseoptical axis
128128: Linselens
130130: Spiegelmirror
132132: Mediummedium
200200: Reinigungsanlagepurifier
202202: Aufnahmebereichreception area
204204: Schienensystemrail system
206206: Schienenvorrichtungrail construction
208208: Schienenvorrichtungrail construction
210210: Rollenpaketrole package
212212: Führungsschieneguide rail
214214: LaufflächenelementTread member
216216: Tragelementsupporting member
218218: Stegabschnittweb section
220220: Randabschnittedge section
222222: Randabschnittedge section
224224: Auflageflächebearing surface
226226: Auflageflächebearing surface
228228: Befestigungselementfastener
230230: Laufflächetread
232232: Laufflächetread
234234: Fasechamfer
236236: Fasechamfer
238238: Abstandshalterspacer
240240: Rollerole
242242: Rollerole
244244: Rollerole
246246: Rollerole
248248: Laufflächetread
250250: Laufflächetread
252252: Achseaxis
254254: Aufnahmeelementreceiving element
256256: Gehäusecasing
258258: Federelementspring element
260260: Federelementspring element
262262: Ausnehmungrecess
264264: Ausnehmungrecess
266266: Führungsstiftguide pin
268268: Führungsstiftguide pin
270270: Ausnehmungrecess
272272: Ausnehmungrecess
274274: Spanndeckelclamping cover
276276: Spanndeckelclamping cover
278278: Befestigungselementfastener
280280: Deckelcover
282282: Deckelcover
284284: Führungsschieneguide rail
286286: Laufflächetread
288288: Laufflächetread
290290: Spanndeckelclamping cover
AA: Auszugsrichtungextraction direction
Ee: Einschubrichtunginsertion direction
LL: Längsrichtunglongitudinal direction
M1M1: Spiegelmirror
M2M2: Spiegelmirror
M3M3: Spiegelmirror
M4M4: Spiegelmirror
M5M5: Spiegelmirror
M6M6: Spiegelmirror

Claims

Rail apparatus (206, 208) for moving components (102, 104) of a lithography system (100A, 100B) a guide rail (212, 284), and a roller package (210) with rotatably mounted rollers (240, 242, 244, 246), wherein the guide rail (212, 284) comprises a tread element (214) on which the rollers (240, 242) in operation of the rail device (206, 208) , 244, 246), and a support member (216) carrying the tread member (214), and wherein the tread member (214) and the support member (216) are positively connected with each other.

Rail device after Claim 1 wherein the support element (216) is made of an uncured steel alloy, in particular of uncured stainless steel, and wherein the tread element (214) is made of a hardened steel alloy, in particular of hardened stainless steel.

Rail device after Claim 1 or 2 wherein the tread element (214) has two V-shaped treads (230, 232) or a planar tread (286).

Rail device after Claim 3 , wherein the tread element (214) facing away from the V-shaped running surfaces (230, 232) has two V-shaped chamfers (234, 236).

Rail device after Claim 4 , wherein the support element (216) has two V-shaped arranged bearing surfaces (224, 226) on which the chamfers (234, 236) rest.

Rail device according to one of Claims 1 - 5 wherein the tread element (214) has an octagonal or a rectangular cross-sectional geometry.

Rail device according to one of Claims 1 - 6 wherein the rollers (240, 242, 244, 246) in the roller package (210) are mounted individually resiliently.

Rail device after Claim 7 wherein each roller (240, 242, 244, 246) is associated with a receiving element (254) in or on which the respective roller (240, 242, 244, 246) is rotatably mounted, and wherein each receiving element (254) in one Housing (256) of the roll package (210) is mounted individually resiliently.

Rail device after Claim 8 wherein each receiving element (254) is assigned at least one spring element (258, 260) which is arranged between the respective receiving element (254) and the housing (256).

Rail device after Claim 8 or 9 wherein each receiving element (254) is associated with at least one guide pin (266, 268) which guides the respective receiving element (254) linearly in or on the housing (256).

Rail device according to one of Claims 1 - 10 wherein the rollers (240, 242, 244, 246) each have two V-shaped treads (248, 250) or a crowned tread (288).

Rail device according to one of Claims 1 - 11 , further comprising a plurality of tread elements (214) arranged one behind the other in a longitudinal direction (L) of the rail device (206, 208), the support element (216) supporting the plurality of tread elements (214).

Rail device according to one of Claims 1 - 12 , further comprising a spacer (238), in particular a spacer, which is arranged on an edge portion (220) of the support element (216) facing away from the tread element (214).

Rail system (204) with at least one rail device (206, 208) according to one of Claims 1 - 13 ,

Rail system after Claim 14 , further comprising a first rail device (206) and a second rail device (208), wherein the first rail device (206) acts as a fixed bearing of the rail system (204), and wherein the second rail device (208) functions as a floating bearing of the rail system (204).