DE102019205184A1

DE102019205184A1 - Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter

Info

Publication number: DE102019205184A1
Application number: DE102019205184.7A
Authority: DE
Inventors: Christoph Daniel Kraemmer; Reinhold Roedel
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 2019-04-11
Filing date: 2019-04-11
Publication date: 2020-10-15
Also published as: WO2020207897A1

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter mit einer ersten Elektrodenstruktur, welche auf/über zumindest einer Substratoberfläche (52a) angeordnet ist, einem die erste Elektrodenstruktur kontaktierenden Leitungsabschnitt (54), welcher auf/über zumindest der Substratoberfläche (52a) verläuft, und einer zweiten Elektrodenstruktur (58), welche zumindest eine leitfähige Elektrodenmaterialschicht umfasst, wobei ein Leitungsüberspannbereich (60a) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) definierbar ist, welcher den Leitungsabschnitt (54) zumindest teilweise überspannt, und wobei die leitfähige Elektrodenmaterialschicht derart geformt ist, dass der Leitungsüberspannbereich (60a) mittels eines ersten Stützbereichs (60b) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht, welcher die Substratoberfläche (52a) und/oder mindestens eine die Substratoberfläche (52a) zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht auf einer ersten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, und mittels eines zweiten Stützbereichs (60c) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht, welcher die Substratoberfläche (52a) und/oder die mindestens eine Zwischenschicht auf einer zweiten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, abgestützt ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter und einen optischen Filter. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Herstellungsverfahren für eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter.
Stand der Technik
Aus dem Stand der Technik, wie beispielsweise der US 2012/0050751 A1 und der WO 2015/002028 A1 , sind optische Filtervorrichtungen bekannt, welche einen Kondensator aus einer ersten Elektrodenstruktur und einer zweiten Elektrodenstruktur aufweisen, wobei mittels einer zwischen der ersten Elektrodenstruktur und der zweiten Elektrodenstruktur anliegenden elektrischen Spannung ein Spektrum, wie beispielsweise ein Reflexions- und/oder ein Transmissionsspektrum, der optischen Filtervorrichtung variierbar sein soll.
1a bis 1e zeigen schematische Draufsichten und Querschnitte zum Erläutern eines Verfahrens zum Herstellen eines herkömmlichen Kondensators, welches der Anmelderin als interner Stand der Technik bekannt ist.
Der in 1a schematisch wiedergegebene herkömmliche Kondensator umfasst ein Substrat 10 mit einer Substratoberfläche 10a, eine erste Elektrodenstruktur 12 und eine die erste Elektrodenstruktur 12 auf einer von dem Substrat 10 weg gerichteten Seite der ersten Elektrodenstruktur 12 überspannende zweite Elektrodenstruktur 14. Über eine die erste Elektrodenstruktur 12 kontaktierende erste Leitung 16 mit einem elektrisch angebundenen ersten Kontakt 18 und eine die zweite Elektrodenstruktur 14 elektrisch kontaktierende zweite Leitung 20 mit einem elektrisch angebundenen zweiten Kontakt 22 ist eine elektrische Spannung (ungleich Null) zwischen der ersten Elektrodenstruktur 12 und der zweiten Elektrodenstruktur 14 anlegbar.
1b zeigt einen vergrößerten Teilausschnitt der 1a an einer Stelle, an welcher die zweite Elektrodenstruktur 14 die erste Leitung 16 überspannt. Zu erkennen ist in 1b, dass in der zweiten Elektrodenstruktur 14 mindestens eine durchgehende Ätzöffnung 24 ausgebildet ist, über welche ein Ätzverfahren bei der Herstellung des mittels der 1a bis 1e schematisch wiedergegebenen herkömmlichen Kondensators ausführbar ist.
1c und 1d zeigen Querschnitte entlang einer Linie AA' der 1b zum Erläutern des Verfahrens zum Herstellen des herkömmlichen Kondensators der 1a bis 1e. Bei dem hier beschriebenen Verfahren gemäß dem Stand der Technik wird zum Bilden der ersten Elektrodenstruktur 12 und der ersten Leitung 16 eine Materialschicht 26 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material auf der Substratoberfläche 10a und/oder einer (nicht skizzierten) zumindest Teilabdeckung der Substratoberfläche 10a abgeschieden. Die erste Elektrodenstruktur 12 und die erste Leitung 16 werden aus der Materialschicht 26 herausstrukturiert, wobei weitere Restbereiche 28 der ersten Materialschicht 26 zurückbleiben können (siehe 1e). Danach wird eine Opferschicht 30 abgeschieden. Die Opferschicht 30 wird zumindest mit einer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 32 der zweiten Elektrodenstruktur 14 abgedeckt, wobei bei einer Strukturierung der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 32 die mindestens eine durchgehende Ätzöffnung 24 ausgebildet wird. 1c zeigt ein Zwischenergebnis nach dem Strukturieren der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 32.
Anschließend wird der Ätzschritt durch die mindestens eine durchgehende Ätzöffnung 24 ausgeführt, um die Opfermaterialschicht 30 zumindest teilweise zu entfernen. Die Entfernung der Opfermaterialschicht 30 kann vor allen in anderen (nicht gezeigten) Bereichen gewünscht sein, insbesondere zur Freistellung verstellbarer Teilkomponenten des herkömmlichen Kondensators.
1d zeigt einen Querschnitt entlang einer Linie AA' der 1b nach dem Ausführen des Ätzschritts. Ein weiterer Querschnitt entlang einer Linie BB' der 1b durch den Kondensator nach dem Ausführen des Ätzschritts ist in 1e wiedergegeben. Nach dem Ausführen des Ätzschritts verbleibt die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 32 der zweiten Elektrodenstruktur 14 als eine freistehende Struktur, welche aufgrund eines vorhandenen Schichtstresses und/oder aufgrund einer elektrostatischen Anziehung an die erste Leitung 16 häufig in Richtung zu der ersten Leitung 16 verbogen ist. In manchen Fällen kann dies auch zu einem unerwünschten Kurzschluss zwischen der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 32 der zweiten Elektrodenstruktur 14 und der ersten Leitung 16 führen.
Offenbarung der Erfindung
Die Erfindung schafft eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter mit den Merkmalen des Anspruchs 1, einen optischen Filter mit den Merkmalen des Anspruchs 8 und ein Herstellungsverfahren für eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter mit den Merkmalen des Anspruchs 10.
Vorteile der Erfindung
Die vorliegende Erfindung schafft Kondensatorvorrichtungen, bzw. damit ausgestattete optische Filter, bei welchen eine eine erste Elektrodenstruktur und einen die erste Elektrodenstruktur kontaktierenden Leitungsabschnitt überspannende zweite Elektrodenstruktur aufgrund ihrer vorteilhaft geformten leitfähigen Elektrodenmaterialschicht eine gegenüber dem Stand der Technik erhöhte Stabilität aufweist. Da die erhöhte Stabilität der zweiten Elektrodenstruktur aus der (dreidimensionalen) Form ihrer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht resultiert, weist die zweite Elektrodenstruktur selbst bei einer Ausbildung ihrer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht mit einer vergleichsweise kleinen Schichtdicke, einem relativ großen Stressgradienten in ihrer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht und/oder einem Verzicht auf weitere (Stütz-) Komponenten der zweiten Elektrodenstruktur zusätzlich zu ihrer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht eine hohe Stabilität auf. Ein unerwünschtes Verbiegen der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht in Richtung zu dem damit überspannten Leitungsabschnitt muss somit nicht/kaum befürchtet werden. Vor allem ist auch ein Risiko eines Auftretens eines unerwünschten Kurzschlusses zwischen der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht und dem Leitungsabschnitt vernachlässigbar.
Wie unten genauer erläutert wird, können die Kondensatorvorrichtungen gemäß der vorliegenden Erfindung relativ einfach und kostengünstig hergestellt werden. Insbesondere ist eine einfache und effektive Realisierung von lateral begrenzten Elektrodenflächen der ersten Elektrodenstruktur und der zweiten Elektrodenstruktur einer erfindungsgemäßen Kondensatorvorrichtung möglich. Ein Risiko eines Auftretens von Parasitärkapazitäten ist bei jeder erfindungsgemäßen Kondensatorvorrichtung im Vergleich mit dem Stand der Technik deutlich reduziert. Es wird hier auch darauf hingewiesen, dass eine Kontaktierung der von der zweiten Elektrodenstruktur der jeweiligen Kondensatorvorrichtung zumindest teilweise überspannten ersten Elektrodenstruktur über den die erste Elektrodenstruktur kontaktierenden Leitungsabschnitt vergleichsweise einfach realisierbar ist.
In einer vorteilhaften Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung ist eine erste Stufe in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht zwischen ihrem ersten Stützbereich und ihrem Leitungsüberspannbereich ausgebildet. Entsprechend kann auch eine zweite Stufe in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht zwischen ihrem zweiten Stützbereich und ihrem Leitungsüberspannbereich ausgebildet sein. Die Form der mit der ersten Stufe und/oder der zweiten Stufe ausgebildeten leitfähigen Elektrodenmaterialschicht erhöht deren Biegesteifigkeit, so dass selbst bei einer vergleichsweise hohen elektrischen Spannung zwischen der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht und dem Leitungsabschnitt keine signifikante Verbiegung innerhalb der eine „brückenförmige“ Struktur aufweisenden leitfähigen Elektrodenmaterialschicht auftritt.
Insbesondere kann eine erste Kantenfläche der ersten Stufe in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht um einen ersten Winkel zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche ausgerichtet sein. Entsprechend eine zweite Kantenfläche der zweiten Stufe in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht um einen zweiten Winkel zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche ausgerichtet sein. Eine derartige Ausrichtung der ersten Kantenfläche und/oder der zweiten Kantenfläche führt zu einer Vergrößerung der jeweiligen Fläche, und trägt damit zur Steigerung einer Biegesteifigkeit der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht bei. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass die erste Kantenfläche der ersten Stufe in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht und/oder die zweite Kantenfläche der zweiten Stufe in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht auch um einen ersten/zweiten Winkel von 90° geneigt zu der Substratoberfläche ausgerichtet sein können.
Vorzugsweise weist der den Leitungsabschnitt überspannende Leitungsüberspannbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht mindestens eine durchgehende Öffnung auf. Wahlweise kann in diesem Fall, sofern dies gewünscht wird, die mindestens eine durchgehende Öffnung zum Ausführen eines Bearbeitungsschritts, wie beispielsweise als Ätzzugang zum Ausführen eines Ätzschritts, genutzt werden. Aufgrund der bewirkten Steigerung der Biegesteifigkeit des den Leitungsabschnitt überspannende Leitungsüberspannbereichs bleibt selbst bei einer Ausbildung der mindestens einen durchgehenden Öffnung eine vorteilhafte mechanische Stabilität der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht gewährleistet.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung umfasst die mindestens eine die Substratoberfläche zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht eine Materialschicht aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material, aus welcher der Leitungsabschnitt herausstrukturiert ist, wobei der Leitungsabschnitt mittels zumindest eines sich entlang seiner ersten Randseite erstreckenden ersten Trenngrabens von einem ersten Restbereich der Materialschicht und mittels zumindest des sich auch entlang seiner zweiten Randseite erstreckenden ersten Trenngrabens oder eines sich entlang seiner zweiten Randseite erstreckenden zweiten Trenngrabens von einem zweiten Restbereich der Materialschicht elektrisch isoliert ist, und wobei der erste Stützbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht den ersten Restbereich der Materialschicht auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts kontaktiert und der zweite Stützbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht den zweiten Restbereich der Materialschicht auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts kontaktiert. Eine elektrische Isolierung der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht von dem Leitungsabschnitt, welche für einen verlässlichen Betrieb der Kondensatorvorrichtung notwendig ist, ist somit verlässlich gewährleistet, da die leitfähige Elektrodenmaterialschicht den Leitungsabschnitt selbst nicht berührt. Gleichzeitig ist dennoch eine hohe mechanische Stabilität der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht aufgrund ihrer vorteilhaften Abstützung an den Restbereichen der Materialschicht gewährleistet.
Alternativ kann die mindestens eine die Substratoberfläche zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht eine Schicht aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material umfassen, welche der erste Stützbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts kontaktiert und welche der zweite Stützbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts kontaktiert, wobei die mindestens eine die Substratoberfläche zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht zusätzlich einen Zwischenpuffer aus mindestens einem elektrisch-isolierenden Material umfasst, welcher auf der von dem ersten Stützbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht und dem zweiten Stützbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht kontaktierten Schicht aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material angeordnet ist und auf welchem der Leitungsabschnitt verläuft. Eine verlässliche elektrische Isolierung des Leitungsabschnitts von der Substratoberfläche des Substrats ist damit auch bei der hier beschriebenen Ausführungsform gewährleistet.
Beispielsweise kann die erste Elektrodenstruktur unverstellbar in Bezug zu dem Substrat angeordnet sein und die zweite Elektrodenstruktur kann in Bezug zu dem Substrat verstellbar und an einem Spiegelelement befestigt sein, wobei ein Abstand des Spiegelelements zu einem weiteren Spiegelelement mittels einer zwischen der ersten Elektrodenstruktur und der zweiten Elektrodenstruktur anliegenden elektrischen Spannung variierbar ist. Die hier beschriebene Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung ist somit vielseitig verwendbar.
Die vorausgehend beschriebenen Vorteile sind auch bei einem optischen Filter mit einer derartigen Kondensatorvorrichtung gewährleistet. Der optische Filter kann beispielsweise ein Fabry-Perot-Interferometer sein. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass der optische Filter anstelle eines Fabry-Perot-Interferometers auch ein anderer spektral-durchstimmbarer optischer Filtertyp sein kann.
Des Weiteren schafft auch ein Ausführen eines korrespondierenden Herstellungsverfahrens für eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter die oben erläuterten Vorteile. Es wird ausdrücklich darauf hingewiesen, dass das Herstellungsverfahren gemäß den oben beschriebenen Ausführungsformen der Kondensatorvorrichtung weiterbildbar ist.
Figurenliste
Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend anhand der Figuren erläutert. Es zeigen:

1a bis 1e schematische Draufsichten und Querschnitte zum Erläutern eines Verfahrens zum Herstellen eines herkömmlichen Kondensators;
2a bis 2e schematische Draufsichten und Querschnitte zum Erläutern einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens für eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter;
3 einen schematischen Querschnitt einer ersten Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung; und
4a und 4b schematische Teildarstellungen einer zweiten Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung.

Ausführungsformen der Erfindung
2a bis 2e zeigen schematische Draufsichten und Querschnitte zum Erläutern einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens für eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter.
Bei einem Ausführen des Herstellungsverfahrens wird eine erste Elektrodenstruktur 50 auf/über zumindest einer Substratoberfläche 52a eines Substrats 52 gebildet. Bei der Herstellung der Kondensatorvorrichtung wird auch (zumindest) ein die erste Elektrodenstruktur 50 kontaktierender erster Leitungsabschnitt 54, welcher auf/über zumindest der Substratoberfläche 52a verläuft, gebildet. Optionaler Weise kann auch ein an dem ersten Leitungsabschnitt 54 elektrisch angebundener erster Kontaktbereich 56 gebildet werden, sodass über den ersten Kontaktbereich 56 und den ersten Leitungsabschnitt 54 ein erstes Potential U1 an die erste Elektrodenstruktur 50 anlegbar ist.
Zusätzlich wird eine zweite Elektrodenstruktur 58 mit zumindest einer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 derart gebildet, dass die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 die erste Elektrodenstruktur 50 auf einer von dem Substrat 52 weg gerichteten Seite der ersten Elektrodenstruktur 50 zumindest teilweise überspannt. Bei der Ausführungsform der 2a bis 2e umfasst die zweite Elektrodenstruktur 58 lediglich die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60. Ergänzend zu der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 kann die zweite Elektrodenstruktur 58 jedoch auch noch mindestens eine weitere Schicht umfassen. Wie in 2a schematisch wiedergegeben ist, können auch mindestens ein die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 kontaktierender zweiter Leitungsabschnitt 62 und evtl. jeweils ein an dem mindestens einen zweiten Leitungsabschnitt 62 elektrisch angebundener zweiter Kontaktbereich 64 ausgebildet werden. Somit ist, während das erste Potential U1 an der ersten Elektrodenstruktur 50 anliegt, mindestens ein von dem ersten Potential U1 abweichendes Potential U2 und U3 an die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 der zweiten Elektrodenstruktur 58 anlegbar.
Wie in 2a erkennbar, ist ein Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 so definierbar, dass der Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 den ersten Leitungsabschnitt 54 auf einer von dem Substrat 52 weg gerichteten Seite des ersten Leitungsabschnitts 54 zumindest teilweise überspannt. 2b zeigt einen vergrößerten Teilausschnitt der 2a mit dem den ersten Leitungsabschnitt 54 zumindest teilweise überspannenden Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60. Skizziert ist in 2b auch eine durch die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 durchgehende Öffnung 66, welche als Ätzzugang für das im Weiteren beschriebene Herstellungsverfahren verwendbar ist. Die durchgehende Öffnung 66 ist beispielhaft als ein „kreisförmiger Spalt“ in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ausgebildet. Die durchgehende Öffnung 66 dient beispielsweise zur lateralen elektrischen Abtrennung von Materialflächen um speziell Parasitärkapazitäten zu reduzieren. Die durchgehende Öffnung 66 kann die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 insbesondere derart in zwei elektrisch-isolierte Teilbereiche unterteilen, dass gleichzeitig ein von dem ersten Potential U1 abweichendes zweites Potential U2 an einem der zwei elektrisch-isolierte Teilbereiche und ein von dem ersten Potential U1 abweichendes drittes Potential U3 an einem anderen der zwei elektrisch-isolierte Teilbereiche anlegbar sind.
Wie anhand des Querschnitts der 2c entlang der Linie CC' der 2b erkennbar ist, wird bei der hier beschriebenen Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der erste Leitungsabschnitt 54 aus einer Materialschicht 68 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material herausstrukturiert. Die Materialschicht 68 kann auch als eine zwischen der Substratoberfläche 52a und der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 angeordnete Zwischenschicht bezeichnet werden. Die Materialschicht 68 kann beispielsweise (dotiertes) Silizium und/oder mindestens ein Metall umfassen. Das Herausstrukturieren des ersten Leitungsabschnitts 54 aus der Materialschicht 68 kann derart erfolgen, dass der erste Leitungsabschnitt 54 mittels zumindest eines sich entlang seiner ersten Randseite erstreckenden ersten Trenngrabens 70a von einem ersten Restbereich 72a der Materialschicht 68 und mittels zumindest eines sich entlang seiner zweiten Randseite erstreckenden zweiten Trenngrabens 70b von einem zweiten Restbereich 72b der Materialschicht 68 elektrisch isoliert wird. Weitere Beispiele für die Ausbildbarkeit des ersten Leitungsabschnitts 54 werden unten noch beschrieben.
Vorzugsweise werden auch die erste Elektrodenstruktur 50 und/oder der erste Kontaktbereich 56 aus der Materialschicht 68 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material herausstrukturiert. Wie in 2a erkennbar ist, kann die erste Elektrodenstruktur 50 beispielsweise mit einem kreisförmigen Innenrand und einem kreisförmigen Außenrand derart ausgebildet werden, dass die erste Elektrodenstruktur 50 in einer parallel zu der Substratoberfläche 52a ausgerichteten Querschnittsfläche eine „Ringform“ aufweist.
Es wird ausdrücklich darauf hingewiesen, dass die in den 2a bis 2e bildlich wiedergegebene Ausbildung des ersten Leitungsabschnitts 54 und der ersten Elektrodenstruktur 50 (direkt) auf der Substratoberfläche 52a nur beispielhaft zu interpretieren ist. Alternativ kann vor einem Abscheiden der Materialschicht 68 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material noch mindestens eine weitere (nicht dargestellte) Zwischenschicht, welche die Substratoberfläche 52a zumindest teilweise abdeckt, auf der Substratoberfläche 52a abgeschieden werden.
Nach dem Bilden zumindest des ersten Leitungsabschnitts 54, und vorzugsweise auch der daran elektrisch angebundenen ersten Elektrodenstruktur 50 und/oder des ersten Kontaktbereichs 56, wird eine Opferschicht 74 abgeschieden, welche zumindest den ersten Leitungsabschnitt 54 teilweise abdeckt. Insbesondere können auch die erste Elektrodenstruktur 50 und der erste Kontaktbereich 56 zumindest teilweise mit der Opferschicht 74 abgedeckt werden. Die Opferschicht 74 kann beispielsweise aus Siliziumdioxid sein.
Im Unterschied zu dem zuvor beschriebenen Stand der Technik wird die Opferschicht 74 bei ihrer Abscheidung und/oder mittels einer anschließend ausgeführten Opferschichtstrukturierung derart strukturiert, dass zumindest eine erste Außenfläche A1 der Substratoberfläche 52a und/oder der mindestens einen Zwischenschicht auf der ersten Randseite des ersten Leitungsabschnitts 54 und eine zweite Außenfläche A2 der Substratoberfläche 52a und/oder der mindestens einen Zwischenschicht auf der zweiten Randseite des ersten Leitungsabschnitts 54 frei von der Opferschicht 74 vorliegen. Lediglich beispielhaft werden bei dem hier beschriebenen Herstellungsverfahren als erste Außenfläche A1 eine Teilaußenfläche des ersten Restbereichs 72a der Materialschicht 68 und als zweite Außenfläche A2 eine Teilaußenfläche des zweiten Restbereich 72b der Materialschicht 68 von der Opferschicht 74 freigehalten/freigelegt. Die evtl. ausgeführte Opferschichtstrukturierung, mittels welcher zumindest die erste Außenfläche A1 und die zweite Außenfläche A2 von der Opferschicht 74 freigelegt werden, kann beispielsweise ein Ätzverfahren sein.
Nach der Ausbildung der Opferschicht 74 mit der in dem vorausgehenden Absatz beschriebenen Opferschichtform, bei welcher zumindest die erste Außenfläche A1 und die zweite Außenfläche A2 frei von der Opferschicht 74 vorliegen, wird die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 der zweiten Elektrodenstruktur 58 abgeschieden. Als die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 kann beispielsweise (dotiertes) Silizium und/oder mindestens ein Metall abgeschieden werden. Aufgrund der Opferschichtform der Opferschicht 74 wird die anschließend abgeschiedene leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 teilweise auch auf der ersten Außenfläche A1 und der zweiten Außenfläche A2 abgeschieden. Auf diese Weise wird die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 (ohne einen zusätzlichen Arbeitsaufwand) derart geformt, dass der Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 mittels eines ersten Stützbereichs 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60, welcher die Substratoberfläche 52a und/oder die mindestens eine Zwischenschicht auf der ersten Randseite des ersten Leitungsabschnitts 54 kontaktiert, und mittels eines zweiten Stützbereichs 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60, welcher die Substratoberfläche 52a und/oder die mindestens eine Zwischenschicht auf der zweiten Randseite des ersten Leitungsabschnitts 54 kontaktiert, abgestützt wird. Es wird hier ausdrücklich darauf hingewiesen, dass unter dem ersten Stützbereich 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ein erster Teilbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 und unter dem zweiten Stützbereichs 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ein zweiter Teilbereich der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 zu verstehen sind.
Die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 kann somit an ihrem Leitungsüberspannbereich 60a, an welchem sie den ersten Leitungsabschnitt 54 überspannt, mit einer „brückenförmigen“ Struktur in einer senkrecht zu dem ersten Leitungsabschnitt 54 verlaufenden Querschnittsebene ausgebildet werden. Eine derartige Ausbildung der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 verbessert ihre Biegesteifigkeit, ohne dass dazu die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 mit einer vergleichsweise großen Schichtdicke auszubilden ist. Ebenso gewährleistet eine Vielzahl von Materialien, welche gegenüber eines (später) zum Ätzen der Opferschicht 74 verwendeten Ätzmaterials eine vergleichsweise hohe Ätzresistenz aufweisen, selbst bei einer vergleichsweise kleinen Schichtdicke der mit der „brückenförmigen“ Struktur ausgebildeten leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 deren gewünschte Stabilität. Durch die vergleichsweise freie Wählbarkeit des mindestens einen Materials der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 wird eine Ausführbarkeit des hier beschriebenen Herstellungsverfahrens deutlich vereinfacht.
Wie in 2c erkennbar, können mittels der oben beschriebenen Opferschichtform der Opferschicht 74 insbesondere eine erste Stufe 60d in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 zwischen ihrem ersten Stützbereich 60b und ihrem Leitungsüberspannbereich 60a und/oder eine zweite Stufe 60e in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 zwischen ihrem zweiten Stützbereich 60c und ihrem Leitungsüberspannbereich 60a ausgebildet werden. Die Ausbildung der Stufen 60d und 60e in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 trägt vorteilhaft zur Steigerung von deren Biegesteifigkeit bei.
Bei dem hier beschriebenen Herstellungsverfahren werden der erste Stützbereich 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 direkt auf der ersten Außenfläche A1 des ersten Restbereichs 72a der Materialschicht 68 und der zweite Stützbereich 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 direkt auf der zweiten Außenfläche A2 des zweiten Restbereichs 72b der Materialschicht 68 abgeschieden. Der erste Stützbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht kontaktiert somit den ersten Restbereich 72a der Materialschicht 68 auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts 54, während der zweite Stützbereich 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 den zweiten Restbereich 72b der Materialschicht 68 auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts 54 kontaktiert. Die Restbereiche 72a und 72b der Materialschicht 68 können somit wahlweise auch zum Anlegen des mindestens einen von dem ersten Potential U1 abweichenden Potentials U2 und U3 mitgenutzt werden.
Nach dem Abscheiden der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 kann eine zusätzliche Strukturierung der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 erfolgen. Beispielsweise kann ein kreisförmiger Außenrand der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 derart strukturiert werden, dass die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 in einer Draufsicht auf die Substratoberfläche 52a eine „Kreisform“ aufweist. Beim Abscheiden/Strukturieren der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 wird vorzugsweise auch die durchgehende Öffnung 66 in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ausgebildet. Zusätzlich zu der in den 2b und 2e bildlich dargestellten durchgehenden Öffnung 66 können noch weitere durchgehende Öffnungen, insbesondere als regelmäßiges Muster/Gitter von durchgehenden Öffnungen, speziell als hexagonales Muster/Gitter von durchgehenden Öffnungen, in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ausgebildet werden. Außerdem kann ein Mindestabstand zwischen den durchgehenden Öffnungen des regelmäßigen Muster/Gitter von durchgehenden Öffnungen vergleichsweise klein gewählt werden, wobei trotzdem die gewünschte Stabilität der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 gewährleistet ist. Da die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 selbst an ihrem den ersten Leitungsabschnitt 54 überspannenden Leitungsüberspannbereich 60a eine vergleichsweise hohe Biegesteifigkeit aufweist, kann selbst durch den Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 zumindest die durchgehende Öffnung 66 und evtl. noch mindestens eine weitere durchgehende Öffnung problemlos strukturiert werden.
In einem weiteren Verfahrensschritt des Herstellungsverfahrens wird ein Ätzprozess ausgeführt, bei welchem zumindest die durchgehende Öffnung 66 als Ätzzugang für ein zum Ätzen der Opferschicht 74 eingesetztes Ätzmedium verwendet wird. 2d zeigt einen Querschnitt durch die Kondensatorvorrichtung nach dem Ausführen des Ätzprozesses entlang der Linie CC' der 2b. Ein weiterer Querschnitt durch die nach dem Ausführen des Ätzprozesses vorliegende Kondensatorvorrichtung entlang einer Linie DD' der 2b ist in 2e dargestellt. Obwohl in den 2d und 2e nicht bildlich wiedergegeben, kann mittels des Ätzprozesses auch eine Freistellung der ersten Elektrodenstruktur 50 und/oder des ersten Leitungsabschnitts 54 bewirkt werden, beispielsweise indem mindestens eine die Substratoberfläche 10a zumindest teilweise abdeckende (nicht dargestellte) Zwischenschicht zumindest teilweise geätzt wird. Die erste Elektrodenstruktur 50 und/oder der erste Leitungsabschnitt 54 können nach dem Ausführen des Ätzprozesses somit als „freitragende/aufgehängte Struktur“ verbleiben.
Wie anhand der 2d und 2e deutlich wird, weist die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 aufgrund ihrer vorteilhaften „brückenförmigen“ Struktur eine gegenüber dem Stand der Technik deutlich gesteigerte mechanische Stabilität auf. Somit ist selbst für den Fall, dass das mindestens eine an der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 anliegende Potential U2 und U3 deutlich von dem an dem ersten Leitungsabschnitt 54 anliegenden ersten Potential U1 abweicht, kein Verbiegen des Leitungsüberspannbereichs 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 hin zu dem ersten Leitungsabschnitt 54 zu befürchten. Selbst an den Rändern der durch die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 strukturierten durchgehenden Öffnung 66 treten keine unerwünschten Verbiegungen auf. Eine beim Stand der Technik häufig auftretende unerwünschte „Biegeschlaffheit“ des Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ist aufgrund von deren vorteilhafter „brückenförmiger“ Struktur verhindert. Entsprechend ist auch das Risiko eines Auftretens eines Kurzschlusses zwischen der elektrischen Elektrodenmaterialschicht 60 und dem ersten Leitungsabschnitt 54 vernachlässigbar.
3 zeigt einen schematischen Querschnitt einer ersten Ausführungsform der Kond ensatorvorrichtu ng.
Obwohl in 3 nicht dargestellt, weist auch die mittels der 3 schematisch wiedergegebene Kondensatorvorrichtung eine erste Elektrodenstruktur 50, welche auf/über zumindest einer Substratoberfläche 52a eines Substrats 52 angeordnet ist, und eine zweite Elektrodenstruktur 58, welche zumindest eine leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 umfasst, wobei die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 die erste Elektrodenstruktur 50 auf einer von dem Substrat 52 weg gerichteten Seite der ersten Elektrodenstruktur 50 zumindest teilweise überspannt, auf. Dargestellt ist in 3 ein die erste Elektrodenstruktur 50 kontaktierender Leitungsabschnitt 54, welcher auf/über zumindest der Substratoberfläche 52a verläuft, wobei ein Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 definierbar ist, welcher den Leitungsabschnitt 54 auf einer von dem Substrat 52 weg gerichteten Seite des Leitungsabschnitts 54 zumindest teilweise überspannt. Außerdem ist die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 derart geformt, dass der Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 mittels eines ersten Stützbereichs 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60, welcher die Substratoberfläche 52a und/oder mindestens eine die Substratoberfläche 52a zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht auf einer ersten Randseite des Leitungsabschnitts 54 kontaktiert, und mittels eines zweiten Stützbereichs 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60, welcher die Substratoberfläche 52a und/oder die mindestens eine Zwischenschicht auf einer zweiten Randseite des Leitungsabschnitts 54 kontaktiert, abgestützt ist. Damit gewährleistet auch die mittels des Querschnitts der 3 wiedergegebene Kondensatorvorrichtung die oben schon aufgezählten Vorteile.
Bei der Kondensatorvorrichtung der 3 umfasst die mindestens eine die Substratoberfläche 52a zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht eine Schicht 76 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material, welche der erste Stützbereich 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts 54 kontaktiert und welche der zweite Stützbereich 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts 54 kontaktiert. Außerdem weist die mindestens eine die Substratoberfläche 52a zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht zusätzlich einen Zwischenpuffer 78 aus mindestens einem elektrisch-isolierenden Material auf. Der Zwischenpuffer 78 kann z.B. aus siliziumreichen Nitrid oder Siliziumoxid sein. Der Zwischenpuffer 78 ist auf der von dem ersten Stützbereich 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 und dem zweiten Stützbereich 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 kontaktierten Schicht 76 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material angeordnet. Insbesondere liegt der Zwischenpuffer 78 auf einer von dem Substrat 52 weg gerichteten Seite der Schicht 76 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material. Der Leitungsabschnitt 54 verläuft direkt auf dem Zwischenpuffer 78. Der Leitungsabschnitt 54 ist somit innerhalb eines von der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 und der Schicht 76 aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material umschlossenen Innenvolumens 80 angeordnet, und trotzdem mittels des Zwischenpuffers 78 von der der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 und der Schicht 76 elektrisch isoliert. Das Anlegen eines Potentials an den Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 bewirkt somit eine gleichmäßige Verteilung des Potentials an den Grenzflächen des Innenvolumens 80. Eine Verbiegung der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 in Richtung zu dem Leitungsabschnitt 54 ist somit selbst bei einer signifikant hohen elektrischen Spannung zwischen dem Leitungsabschnitt 54 und der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 nicht zu befürchten.
Bezüglich weiterer Merkmale der Kondensatorvorrichtung der 3 wird auf die Beschreibung der 2a bis 2e verwiesen.
In einer alternativen Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung ist die Substratoberfläche 52a von dem ersten Stützbereich 60b der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts 54 und von dem zweiten Stützbereich 60c der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts 54 kontaktiert. In diesem Fall kann es vorteilhaft sein, wenn der Zwischenpuffer 78 die Substratoberfläche 52a teilweise abdeckt und der Leitungsabschnitt 54 über den Zwischenpuffer 78 verläuft.
4a und 4b zeigen schematische Teildarstellungen einer zweiten Ausführungsform der Kondensatorvorrichtung.
Von der mittels der 4a und 4b schematisch wiedergegebenen Kondensatorvorrichtung ist lediglich eine Hälfte ihrer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 dargestellt. Mittels eines Pfeils 82 ist jeweils eine Lage einer Spiegelsymmetrieebene angegeben. Die nicht bildlich wiedergegebene Hälfe der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ist somit spiegelsymmetrisch zu der dargestellten Hälfe der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60.
Auch bei der Kondensatorvorrichtung der 4 sind eine erste Stufe 60d zwischen ihrem ersten Stützbereich 60b und ihrem Leitungsüberspannbereich 60a und eine zweite Stufe 60e zwischen ihrem zweiten Stützbereich 60c und ihrem Leitungsüberspannbereich 60a in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 ausgebildet. Allerdings ist eine erste Kantenfläche der erste Stufe 60b in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 um einen ersten Winkel zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche 52a ausgerichtet. Entsprechend ist auch eine zweite Kantenfläche 84 der zweiten Stufe 60c in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 um einen zweiten Winkel η zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche 52a ausgerichtet. Eine Ausrichtung der ersten Kantenfläche der erste Stufe 60b und/oder der zweiten Kantenfläche 84 der erste Stufe 60c senkrecht zu der Substratoberfläche 52a ist somit möglich, jedoch nicht notwendig. Insbesondere kann mittels der Ausrichtung der ersten Kantenfläche der erste Stufe 60b um einen ersten Winkel zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche 52a und/oder der zweiten Kantenfläche 84 der zweiten Stufe 60c um einen zweiten Winkel η zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche 52a eine „trapezoid-brückenförmigen“ Struktur in einer senkrecht zu dem ersten Leitungsabschnitt 54 verlaufenden Querschnittsebene erreicht werden, was eine zusätzliche Steigerung der Biegesteifigkeit der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 bewirkt. Wie in 4b mittels einer elektrostatischen Simulation gezeigt ist, weist die leitfähige Elektrodenmaterialschicht 60 selbst bei einem Anliegen einer vergleichsweise hohen elektrischen Spannung zwischen der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 und dem überspannten Leitungsabschnitt 54 eine gute Stabilität auf.
Alternativ können die erste Kantenfläche der ersten Stufe 60b in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 und/oder die zweite Kantenfläche 84 der zweiten Stufe 60c in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 auch um einen ersten/zweiten Winkel von 90° geneigt zu der Substratoberfläche 52a ausgerichtet sein. Die erste Stufe 60b und die zweite Stufe 60c können somit mit einer großen Designfreiheit ausgebildet werden.
Bezüglich weiterer Merkmale der Kondensatorvorrichtung der 4a und 4b wird auf die Beschreibung der 2a bis 2e und der 3 verwiesen.
Bei jeder der Kondensatorvorrichtungen der 3 und 4 kann der den Leitungsabschnitt 54 überspannende Leitungsüberspannbereich 60a der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht 60 mindestens eine durchgehende Öffnung 66 aufweisen, obwohl dies in den Figuren nicht dargestellt ist.
Die vorausgehend erläuterten 2 bis 4 sind nur als stark vereinfachte bildliche Darstellung der jeweiligen Kondensatorvorrichtung zu interpretieren. Alle oben beschriebenen Kondensatorvorrichtungen können beispielsweise Teil eines optischen Filters, wie insbesondere eines Fabry-Perot-Interferometers, sein, bzw. als Teil eines optischen Filters/Fabry-Perot-Interferometers hergestellt werden. Die jeweilige Kondensatorvorrichtung kann in dem jeweiligen optischen Filter zum Variieren/Durchstimmen eines Spektralbereichs, für welchen der optische Filter durchlässig ist, eingesetzt werden.
Beispielsweise kann die jeweilige erste Elektrodenstruktur 50 unverstellbar in Bezug zu dem Substrat 52 angeordnet sein, während die zweite Elektrodenstruktur 58 in Bezug zu dem Substrat 52 verstellbar ist und an einem Spiegelelement befestigt ist. Ein Abstand des Spiegelelements zu einem weiteren Spiegelelement kann in diesem Fall mittels einer zwischen der ersten Elektrodenstruktur 50 und der zweiten Elektrodenstruktur 58 anliegenden elektrischen Spannung variiert werden. Jede der oben beschriebenen Kondensatorvorrichtungen kann somit für eine optische Vorrichtung mit zwei Spiegelelementen, deren Abstand zueinander variierbar ist, wie beispielsweise einem optischen Filter, verwendet werden.
Das Spiegelelement kann beispielsweise ein erster Bragg-Reflektor sein. Ebenso kann das weitere Spiegelelement ein zweiter Bragg-Reflektor sein. Zwischen dem ersten Bragg-Reflektor und dem zweiten Bragg-Reflektor kann eine Kavität ausgebildet sein, so dass ein Abstand des ersten Bragg-Reflektors zu dem zweiten Bragg-Reflektor auch als Kavitätslänge bezeichenbar ist. Der als Kavitätslänge bezeichenbare Abstand zwischen den zwei Bragg-Reflektoren ist mittels der zwischen der ersten Elektrodenstruktur 52 und der zweiten Elektrodenstruktur 58 anliegenden elektrischen Spannung variierbar. Da die zwischen dem ersten Bragg-Reflektor und dem zweiten Bragg-Reflektor vorliegende Kavität eine starke Transmission nur für Wellenlängen von elektromagnetischer Strahlung, deren halbe Wellenlänge einem ganzzahligen Vielfachen des Abstands zwischen den zwei Bragg-Reflektoren entspricht, aufweist, kann mittels des Anlegens der elektrischen Spannung zwischen den Elektrodenstrukturen 50 und 58 somit auch der Spektralbereich, für welchen der mit der Kondensatorvorrichtung ausgebildete optische Filter durchlässig ist, verändert werden.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

US 2012/0050751 A1 [0002]
WO 2015/002028 A1 [0002]

Claims

Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter mit: einem Substrat (52) mit einer Substratoberfläche (52a); einer ersten Elektrodenstruktur (50), welche auf/über zumindest der Substratoberfläche (52a) angeordnet ist; einem die erste Elektrodenstruktur (50) kontaktierenden Leitungsabschnitt (54), welcher auf/über zumindest der Substratoberfläche (52a) verläuft; und einer zweiten Elektrodenstruktur (58), welche zumindest eine leitfähige Elektrodenmaterialschicht (60) umfasst, wobei die leitfähige Elektrodenmaterialschicht (60) die erste Elektrodenstruktur (50) auf einer von dem Substrat (52) weg gerichteten Seite der ersten Elektrodenstruktur (50) zumindest teilweise überspannt, und wobei ein Leitungsüberspannbereich (60a) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) definierbar ist, welcher den Leitungsabschnitt (54) auf einer von dem Substrat (52) weg gerichteten Seite des Leitungsabschnitts (54) zumindest teilweise überspannt; dadurch gekennzeichnet, dass die leitfähige Elektrodenmaterialschicht (60) derart geformt ist, dass der Leitungsüberspannbereich (60a) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) mittels eines ersten Stützbereichs (60b) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60), welcher die Substratoberfläche (52a) und/oder mindestens eine die Substratoberfläche (52a) zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht auf einer ersten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, und mittels eines zweiten Stützbereichs (60c) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60), welcher die Substratoberfläche (52a) und/oder die mindestens eine Zwischenschicht auf einer zweiten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, abgestützt ist.
Kondensatorvorrichtung nach Anspruch 1, wobei eine erste Stufe (60d) in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) zwischen ihrem ersten Stützbereich (60b) und ihrem Leitungsüberspannbereich (60a) ausgebildet ist und/oder eine zweite Stufe (60e) in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) zwischen ihrem zweiten Stützbereich (60c) und ihrem Leitungsüberspannbereich (60a) ausgebildet ist.
Kondensatorvorrichtung nach Anspruch 2, wobei eine erste Kantenfläche der erste Stufe (60d) in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) um einen ersten Winkel zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche (52a) ausgerichtet ist und/oder eine zweite Kantenfläche (84) der zweiten Stufe (60e) in der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) um einen zweiten Winkel (η) zwischen 45° und 85° geneigt zu der Substratoberfläche (52a) ausgerichtet ist.
Kondensatorvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der den Leitungsabschnitt (54) überspannende Leitungsüberspannbereich (60a) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) mindestens eine durchgehende Öffnung (66) aufweist.
Kondensatorvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die mindestens eine die Substratoberfläche (52a) zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht eine Materialschicht (68) aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material, aus welcher der Leitungsabschnitt (54) herausstrukturiert ist, umfasst, wobei der Leitungsabschnitt (54) mittels zumindest eines sich entlang seiner ersten Randseite erstreckenden ersten Trenngrabens (70a) von einem ersten Restbereich (72a) der Materialschicht (68) und mittels zumindest des sich auch entlang seiner zweiten Randseite erstreckenden ersten Trenngrabens (70a) oder eines sich entlang seiner zweiten Randseite erstreckenden zweiten Trenngrabens (70b) von einem zweiten Restbereich (72b) der Materialschicht (68) elektrisch isoliert ist, und wobei der erste Stützbereich (60b) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) den ersten Restbereich (72a) der Materialschicht (68) auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert und der zweite Stützbereich (60c) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) den zweiten Restbereich (72b) der Materialschicht (68) auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert.
Kondensatorvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die mindestens eine die Substratoberfläche (52a) zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht eine Schicht (76) aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material umfasst, welche der erste Stützbereich (60b) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) auf der ersten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert und welche der zweite Stützbereich (60c) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) auf der zweiten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, und wobei die mindestens eine die Substratoberfläche (52a) zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht zusätzlich einen Zwischenpuffer (78) aus mindestens einem elektrisch-isolierenden Material umfasst, welcher auf der von dem ersten Stützbereich (60b) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) und dem zweiten Stützbereich (60c) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) kontaktierten Schicht (76) aus mindestens einem elektrisch leitfähigen Material angeordnet ist und auf welchem der Leitungsabschnitt (54) verläuft.
Kondensatorvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die erste Elektrodenstruktur (50) unverstellbar in Bezug zu dem Substrat (52) angeordnet ist und die zweite Elektrodenstruktur (58) in Bezug zu dem Substrat (52) verstellbar ist und an einem Spiegelelement befestigt ist, und wobei ein Abstand des Spiegelelements zu einem weiteren Spiegelelement mittels einer zwischen der ersten Elektrodenstruktur (50) und der zweiten Elektrodenstruktur (58) anliegenden elektrischen Spannung variierbar ist.
Optischer Filter mit einer Kondensatorvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche.
Optischer Filter nach Anspruch 8, wobei der optische Filter ein Fabry-Perot-Interferometer ist.
Herstellungsverfahren für eine Kondensatorvorrichtung für einen optischen Filter mit den Schritten: Bilden einer ersten Elektrodenstruktur (50) auf/über zumindest einer Substratoberfläche (52a) eines Substrats (52); Bilden eines die erste Elektrodenstruktur (50) kontaktierenden Leitungsabschnitts (54), welcher auf/über zumindest der Substratoberfläche (52a) verläuft; und Bilden einer zweiten Elektrodenstruktur (58) mit zumindest einer leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) derart, dass die leitfähige Elektrodenmaterialschicht (60) die erste Elektrodenstruktur (50) auf einer von dem Substrat (52) weg gerichteten Seite der ersten Elektrodenstruktur (50) zumindest teilweise überspannt, und ein Leitungsüberspannbereich (60a) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) definierbar ist, welcher den Leitungsabschnitt (54) auf einer von dem Substrat (52) weg gerichteten Seite des Leitungsabschnitts (54) zumindest teilweise überspannt; dadurch gekennzeichnet, dass die leitfähige Elektrodenmaterialschicht (60) derart geformt wird, dass der Leitungsüberspannbereich (60a) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60) mittels eines ersten Stützbereichs (60b) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60), welcher die Substratoberfläche (52a) und/oder mindestens eine die Substratoberfläche (52a) zumindest teilweise abdeckende Zwischenschicht auf einer ersten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, und mittels eines zweiten Stützbereichs (60c) der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht (60), welcher die Substratoberfläche (52a) und/oder die mindestens eine Zwischenschicht auf einer zweiten Randseite des Leitungsabschnitts (54) kontaktiert, abgestützt wird.